JPH03217459A - イミド化合物の製造方法 - Google Patents
イミド化合物の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B25/00—Quinophthalones
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、顔料、染料、カラー液晶用および偏光板用材
料として用いられるイミド型の黄色系の二色性色素の新
規な製造法に関するものである。
料として用いられるイミド型の黄色系の二色性色素の新
規な製造法に関するものである。
従来、一般式(I)のような黄色系のキノフタロン系色
素が知られているが、これは、例えばその原料として、
弐(V) で示されるキノフタロンージカルボン酸、あるいはその
酸無水物である弐(’vT) で示される化合物と、 弐(I[I) R−NH2 (III)
(式(III)中、Rは置換または無置換アルキル基、
アリール基、複素環基を表わす。) で示される化合物を加熱反応することにより得ることが
できる(特開昭52−10341、特開昭52− 10
342、特開昭62−270664 >。
素が知られているが、これは、例えばその原料として、
弐(V) で示されるキノフタロンージカルボン酸、あるいはその
酸無水物である弐(’vT) で示される化合物と、 弐(I[I) R−NH2 (III)
(式(III)中、Rは置換または無置換アルキル基、
アリール基、複素環基を表わす。) で示される化合物を加熱反応することにより得ることが
できる(特開昭52−10341、特開昭52− 10
342、特開昭62−270664 >。
この場合、酸無水物(■)は、大気中の水分で容易に分
解して、ジカルボン酸(V)式との混合物となっている
。
解して、ジカルボン酸(V)式との混合物となっている
。
しかるに、従来の方法では、式(V)で示されるジカル
ボン酸と式(III)で示されるアミンよりイミドを選
択的に合成することは出来ず、前記特開昭に記載される
方法では、純度よく、目的のイミド化合吻を得ることは
できなかった。
ボン酸と式(III)で示されるアミンよりイミドを選
択的に合成することは出来ず、前記特開昭に記載される
方法では、純度よく、目的のイミド化合吻を得ることは
できなかった。
そのため、弐(V)又は式(■)を中間体として製造し
た式(1)の化合物を樹脂に混合した時は透明の樹脂成
型物が得られない。又、液晶用色性色素あるいは偏光板
用二色性色素とした時は、不純物により二色比が著しく
低下するという欠点があり、工業的には採用出来る方法
ではなかった。
た式(1)の化合物を樹脂に混合した時は透明の樹脂成
型物が得られない。又、液晶用色性色素あるいは偏光板
用二色性色素とした時は、不純物により二色比が著しく
低下するという欠点があり、工業的には採用出来る方法
ではなかった。
本発明の目的は、キノフタロンージカルボン酸系の中間
体を原料として、純度よく、目的の二色性色素イミド化
合物を得る製造方法を提供するところにある。
体を原料として、純度よく、目的の二色性色素イミド化
合物を得る製造方法を提供するところにある。
本発明は、一般式(1)
(弐四)中、Xはハロゲン原子、メチル基、トキシ基を
表わし、nは0または1を表わし、は置換または無置換
アルキル基、アリール基、素環基を表わす。) で示される化合物を製造するに際して、一般式(II) メ R 複 (式(II)中、X,nは式(1)のX,nと同一の意
味を表わす。) で示されるジカルボン酸と 一限式(I[[) R−NH2 (I[[)(式(II
I)中、Rは式(1)中のRと同一の意味を表わす。) で示されるアミンを一般式(IV) Y’ Y2 (式(IV)中、Y1、Y2、Y3、Y4、YSは水素
原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置
換のアルコキシ基、置換または無置換のアルコキンカル
ボニル基、ハロゲン原子を表わす。) で示されるフェノール誘導体を溶媒として加熱反応させ
ることを特徴とする式(1)で表わされる化合物を製造
方法である。
表わし、nは0または1を表わし、は置換または無置換
アルキル基、アリール基、素環基を表わす。) で示される化合物を製造するに際して、一般式(II) メ R 複 (式(II)中、X,nは式(1)のX,nと同一の意
味を表わす。) で示されるジカルボン酸と 一限式(I[[) R−NH2 (I[[)(式(II
I)中、Rは式(1)中のRと同一の意味を表わす。) で示されるアミンを一般式(IV) Y’ Y2 (式(IV)中、Y1、Y2、Y3、Y4、YSは水素
原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置
換のアルコキシ基、置換または無置換のアルコキンカル
ボニル基、ハロゲン原子を表わす。) で示されるフェノール誘導体を溶媒として加熱反応させ
ることを特徴とする式(1)で表わされる化合物を製造
方法である。
式(II)中、Xで表わされるキノリン環に置喚しても
よいハロゲン原子はフ/素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げ
られる。
よいハロゲン原子はフ/素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げ
られる。
式(I[l)中、Rで示される置換または無置換のアル
キル基の例としては、炭素数1〜20の直鎖又は分岐の
炭化水素基:メトキシメチル基、エトキシメチル基、メ
トキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル
基、メトキシブチル基、フエノキシエチル基なとの直鎖
又は分岐の総炭素数1〜30のアルコキシアルキル基:
クロルメチル基、クロルエチル基、クロルブチル基、フ
ロ口メチル基、フロロエチル基、プロムメチル基、プロ
ムエチル基、プロムブチル基、ヨウ化メチル基、ヨウ化
エチル基、ヨウ化ブチル基などの炭素数1〜20のハロ
ゲノアルキル基:トリフロ口メチル基、トリク0コメチ
ル基、ジブロムメチル基、ペンタフロロエチル基、ヘプ
タフ口口プロビル基なトノバーハロゲノアルキル基:ヘ
ンジル基、フェニルエチル基などのアラルキル基などが
挙げられる。
キル基の例としては、炭素数1〜20の直鎖又は分岐の
炭化水素基:メトキシメチル基、エトキシメチル基、メ
トキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル
基、メトキシブチル基、フエノキシエチル基なとの直鎖
又は分岐の総炭素数1〜30のアルコキシアルキル基:
クロルメチル基、クロルエチル基、クロルブチル基、フ
ロ口メチル基、フロロエチル基、プロムメチル基、プロ
ムエチル基、プロムブチル基、ヨウ化メチル基、ヨウ化
エチル基、ヨウ化ブチル基などの炭素数1〜20のハロ
ゲノアルキル基:トリフロ口メチル基、トリク0コメチ
ル基、ジブロムメチル基、ペンタフロロエチル基、ヘプ
タフ口口プロビル基なトノバーハロゲノアルキル基:ヘ
ンジル基、フェニルエチル基などのアラルキル基などが
挙げられる。
置換または無置換のアリール基の例としては、下記一般
式(■)、(■)、(IX)、(X)および(XI) で示される基が挙げられる。
式(■)、(■)、(IX)、(X)および(XI) で示される基が挙げられる。
式(■)〜(XI)において、各芳香族環α、β、γ、
δ、ε、ζ、η、θ、乙およびκは、ハロゲン原子;メ
チル基、エチル基、イソプロビル基などの直鎖又は分岐
又は環状の総炭素数1〜4の炭化水素基,メトキソ基、
エトキン基、プロポキン基などの直鎮又は分岐の総炭素
数1〜6のアルコキソ基などで置換されてもよい。又、
Aは水素原子:ハロゲン原子;メチル基、エチル基、シ
クロヘキシル基などの直鎖又は分岐又は環状の総炭素数
1〜20の炭化水素基;メトキシ基、エトキン基、フェ
ニルメトキシ基なとの直鎖または分岐の総炭素数1〜3
0のアルコキシ基;フェノキシ基などの総炭素数1〜2
2のアリールオキシ基あるいは、下記一般弐(XI)、
(XIII)、(XIV)、(XV)および(X■)で
表わされる置換基を示す。
δ、ε、ζ、η、θ、乙およびκは、ハロゲン原子;メ
チル基、エチル基、イソプロビル基などの直鎖又は分岐
又は環状の総炭素数1〜4の炭化水素基,メトキソ基、
エトキン基、プロポキン基などの直鎮又は分岐の総炭素
数1〜6のアルコキソ基などで置換されてもよい。又、
Aは水素原子:ハロゲン原子;メチル基、エチル基、シ
クロヘキシル基などの直鎖又は分岐又は環状の総炭素数
1〜20の炭化水素基;メトキシ基、エトキン基、フェ
ニルメトキシ基なとの直鎖または分岐の総炭素数1〜3
0のアルコキシ基;フェノキシ基などの総炭素数1〜2
2のアリールオキシ基あるいは、下記一般弐(XI)、
(XIII)、(XIV)、(XV)および(X■)で
表わされる置換基を示す。
O
(式(Xll)〜(XVI)のZは水素原子;ハロゲン
原子;メチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基など
の分岐又は直鎖の総炭素数1〜20の炭化水素基;メト
キシ基、エトキシ基、プロボキシ基、ブトキシ基など分
岐又は直鎖の総炭素数1〜10のアルコキシ基;フェニ
ル基、ナフチル基などの了りール基;フェノキシ基など
の総炭素数1〜14のアリールオキシ基;アセトキシ基
などのカルボキシ基;クロロメチル基、クロロエチル基
などの炭素数1〜2のハロゲノアルキル基;トリフロロ
メチル基などのバーハロゲノアルキル基;ヘンジル基、
フエニルエチル基などの総炭素数1〜20のアラルキル
基を示す。
原子;メチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基など
の分岐又は直鎖の総炭素数1〜20の炭化水素基;メト
キシ基、エトキシ基、プロボキシ基、ブトキシ基など分
岐又は直鎖の総炭素数1〜10のアルコキシ基;フェニ
ル基、ナフチル基などの了りール基;フェノキシ基など
の総炭素数1〜14のアリールオキシ基;アセトキシ基
などのカルボキシ基;クロロメチル基、クロロエチル基
などの炭素数1〜2のハロゲノアルキル基;トリフロロ
メチル基などのバーハロゲノアルキル基;ヘンジル基、
フエニルエチル基などの総炭素数1〜20のアラルキル
基を示す。
置換または無置換の複素環基の例としては、チオフエン
、オキサゾール、ヘンゾオキサヅール、チアゾール、ヘ
ンゾチアゾール、フラン、ピロル、キノリン、ピリジン
、メチルピリジンなどの置換又は無置換の複素環基が挙
げられる。
、オキサゾール、ヘンゾオキサヅール、チアゾール、ヘ
ンゾチアゾール、フラン、ピロル、キノリン、ピリジン
、メチルピリジンなどの置換又は無置換の複素環基が挙
げられる。
弐(1)で示されるイミド化合物を製造するに際して、
使用する溶媒は、式(■) (弐(TV)中、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5は水素
原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置
換のアルコキシ基、置換または無置換のアルコキシカル
ボニル基、ハロゲン原子を表わす。) で示されるフェノール誘導体である。
使用する溶媒は、式(■) (弐(TV)中、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5は水素
原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置
換のアルコキシ基、置換または無置換のアルコキシカル
ボニル基、ハロゲン原子を表わす。) で示されるフェノール誘導体である。
式(TV)中、置換または無置換のアルキル基の例とし
ては、メチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基など
の直鎖又は分岐の総炭素数1〜4の炭化水素基;クロル
メチル基、クロルエチル基、フロルメチル基、フロルエ
チル基、プロムメチル基、プロムエチル基、ヨウ化メチ
ル基、ヨウ化エチル基などの炭素数1〜2のハロゲノア
ルキル基;トリフロロメチル基、トリクロロメチル基、
ジブロムメチル基、ペンタクロ口エチル基などのパーハ
ロゲノアルキル基;ヘンジル基などのアラルキル基など
が挙げられる。
ては、メチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基など
の直鎖又は分岐の総炭素数1〜4の炭化水素基;クロル
メチル基、クロルエチル基、フロルメチル基、フロルエ
チル基、プロムメチル基、プロムエチル基、ヨウ化メチ
ル基、ヨウ化エチル基などの炭素数1〜2のハロゲノア
ルキル基;トリフロロメチル基、トリクロロメチル基、
ジブロムメチル基、ペンタクロ口エチル基などのパーハ
ロゲノアルキル基;ヘンジル基などのアラルキル基など
が挙げられる。
置換または無置換のアルコキシ基の例としては、メトキ
シ基、エトキシ基、ブロボキシ基のような炭素数1〜3
の分岐又は直鎖の炭化水素オキシ基;クロロメトキシ基
のようなハロゲノアルコキシ基などが挙げられる。
シ基、エトキシ基、ブロボキシ基のような炭素数1〜3
の分岐又は直鎖の炭化水素オキシ基;クロロメトキシ基
のようなハロゲノアルコキシ基などが挙げられる。
置換又は無置換のアルコキシ力ルポニル基の例としては
、メトキシカルボニル基、エトキシカルポニル基、プロ
ボキシカルポニル基、ブトキシ力ルボニル基のような炭
素数1〜4の分岐又は直鎖の炭化水素オキシカルボニル
基;クロロメトキシカルボニル基のようなハロゲノアル
コキシカルポニル基などが挙げられる。
、メトキシカルボニル基、エトキシカルポニル基、プロ
ボキシカルポニル基、ブトキシ力ルボニル基のような炭
素数1〜4の分岐又は直鎖の炭化水素オキシカルボニル
基;クロロメトキシカルボニル基のようなハロゲノアル
コキシカルポニル基などが挙げられる。
ハロゲン原子の例としては、フノ素、塩素、臭素、ヨウ
素が挙げられる。
素が挙げられる。
使用する溶媒の量は、前述の弐(II)で示されるジカ
ルボン酸1重量部に対して1〜100重量部であり、工
業的には5〜20重量部が好ましい。
ルボン酸1重量部に対して1〜100重量部であり、工
業的には5〜20重量部が好ましい。
式(1)で示されるイミド化合物を製造するに際して、
溶媒を加熱する温度は50〜200゜Cであり、工業的
には100〜170゜Cが好ましい。又、式(II)で
表わされるジカルポン酸と弐(I[l)で表わされるア
ミンはほぼ当モル使用する。さらに、必要に応じてキノ
リン、イソキノリン、ビリジンなどの触媒を添加しても
よい。
溶媒を加熱する温度は50〜200゜Cであり、工業的
には100〜170゜Cが好ましい。又、式(II)で
表わされるジカルポン酸と弐(I[l)で表わされるア
ミンはほぼ当モル使用する。さらに、必要に応じてキノ
リン、イソキノリン、ビリジンなどの触媒を添加しても
よい。
以下、本発明を実施例により詳しく説明するが、本発明
の範囲はこれらの実施例に限定されるものでないことは
いうまでもない。
の範囲はこれらの実施例に限定されるものでないことは
いうまでもない。
(実施例〕
実施例1
3゜−ヒドロキシキノフタロン−5,6−ジカルボン酸
377重量部と4−アミノー4゜−(5−メチルヘンゾ
オキサゾリル)ビフェニル301重量部をイソキノリン
130重量部、メタクレゾール3600重量部中で15
0゜Cに加熱して反応させ、析出した結晶を濾過温度1
00゜Cにて濾別し、メタクレゾール720重量部、メ
タノール6000重量部で洗浄、乾燥した。
377重量部と4−アミノー4゜−(5−メチルヘンゾ
オキサゾリル)ビフェニル301重量部をイソキノリン
130重量部、メタクレゾール3600重量部中で15
0゜Cに加熱して反応させ、析出した結晶を濾過温度1
00゜Cにて濾別し、メタクレゾール720重量部、メ
タノール6000重量部で洗浄、乾燥した。
こうして得られた化合物を(甲)とする。
また、3゜−ヒドロキシキノフタロン−5.6一ジカル
ポン酸無水物を原料として特開昭62−270664に
記載された製造法、すなわちN−メチルピロリドンを溶
媒として加熱還流する方法を用いて得られるイミド化合
物(下式(X■)) と前記化合物(甲)の赤外線吸収スペクトルの比較を行
った結果、双方のスペクトルピーク値が一致することを
確認した(表1)。
ポン酸無水物を原料として特開昭62−270664に
記載された製造法、すなわちN−メチルピロリドンを溶
媒として加熱還流する方法を用いて得られるイミド化合
物(下式(X■)) と前記化合物(甲)の赤外線吸収スペクトルの比較を行
った結果、双方のスペクトルピーク値が一致することを
確認した(表1)。
赤外線吸収スペクトルピーク1780cm−’はイミド
基の吸収を示している。
基の吸収を示している。
また、表2に示すように化合物(甲)の元素分析値は化
合物 (X〜1) の計算値とよく一致してい る。
合物 (X〜1) の計算値とよく一致してい る。
表2 元素分析値
表1および表2の結果より、化合物(甲)は、弐(X■
)のイミド化合物であることを確認した。
)のイミド化合物であることを確認した。
なお、化合物(甲)の収率は95%、液体クロマトグラ
フによる純度は98%であった。
フによる純度は98%であった。
実施例2
3゛−ヒドロキシ−6゛−ブロモキノフタロン5,6−
ジカルボン酸456重量部と4−アミノ(4゛−ヘンヅ
チアヅリル)ビフェニル301重量部をイソキノリン1
30重量部、0−クロルフェノール9000重量部中で
160゜Cに加熱して反応させ、析出した結晶をiI!
過温度130゜Cにて濾別し、0−クロロフェノール9
00重量部、メタノール7000重量部で洗浄、乾燥し
、弐(X■)の化合物を得た。
ジカルボン酸456重量部と4−アミノ(4゛−ヘンヅ
チアヅリル)ビフェニル301重量部をイソキノリン1
30重量部、0−クロルフェノール9000重量部中で
160゜Cに加熱して反応させ、析出した結晶をiI!
過温度130゜Cにて濾別し、0−クロロフェノール9
00重量部、メタノール7000重量部で洗浄、乾燥し
、弐(X■)の化合物を得た。
得られた化合物の元素分析値を表3に示す。
表3 元素分析値
また、式(X■)の化合物の収率は94%、純度は98
%であった。
%であった。
実施例3〜9
表4に示すモノ置換アミンと下記一般式(VIX)のジ
カルボン酸誘導体を用いて、各種溶剤中で反応を行い、
相当する弐(1)のイミド化合物を得た。
カルボン酸誘導体を用いて、各種溶剤中で反応を行い、
相当する弐(1)のイミド化合物を得た。
イミト化反応物の確認は、元素分析で行った。
その結果を表5に示す。
表5
元素分析値
(発明の効果〕
本発明の方法は、キノフタロン系ジカルボン酸を原料と
してイミド化合物を合成し、かつ、従来の方法で製造し
た二色性色素以上の高純度色素を得ることが出来る点に
おいて優れた製造方法である。
してイミド化合物を合成し、かつ、従来の方法で製造し
た二色性色素以上の高純度色素を得ることが出来る点に
おいて優れた製造方法である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式( I )中、Xはハロゲン原子、メチル基、メトキ
シ基を表わし、nは0または1を表わし、Rは置換また
は無置換アルキル基、アリール基、複素環基を表わす。 ) で示される化合物を製造するに際して、 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式(II)中、X、nは式( I )のX、nと同一の意
味を表わす。) で示されるジカルボン酸と 一般式(III) R−NH_2(III) (式(III)中、Rは式( I )中のRと同一の意味を表
わす。) で示されるアミンを一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式(IV)中、Y^1、Y^2、Y^3、Y^4、Y^
5は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換ま
たは無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルコ
キシカルボニル基、ハロゲン原子を表わす。) で示されるフェノール誘導体を溶媒として加熱反応させ
ることを特徴とする式( I )で表わされる化合物の製
造方法 2)加熱温度が50〜200℃である請求項1記載の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011804A JP2854908B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | イミド化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011804A JP2854908B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | イミド化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03217459A true JPH03217459A (ja) | 1991-09-25 |
JP2854908B2 JP2854908B2 (ja) | 1999-02-10 |
Family
ID=11788038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011804A Expired - Fee Related JP2854908B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | イミド化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2854908B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0669379A1 (en) * | 1994-02-25 | 1995-08-30 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Quinophtalone compounds and polarizing films using same |
WO2003086377A1 (fr) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Institute Of Medicinal Molecular Design. Inc. | Derives amide |
CN106256827A (zh) * | 2015-06-17 | 2016-12-28 | 上海和辉光电有限公司 | 一种化合物及其合成方法和应用 |
JP2021523231A (ja) * | 2018-05-09 | 2021-09-02 | アプリノイア セラピューティクス インコーポレーテッド | ヘテロアリール化合物及びその使用 |
-
1990
- 1990-01-23 JP JP2011804A patent/JP2854908B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0669379A1 (en) * | 1994-02-25 | 1995-08-30 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Quinophtalone compounds and polarizing films using same |
WO2003086377A1 (fr) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Institute Of Medicinal Molecular Design. Inc. | Derives amide |
GB2403474A (en) * | 2002-04-18 | 2005-01-05 | Inst Med Molecular Design Inc | Amide derivatives |
JPWO2003086377A1 (ja) * | 2002-04-18 | 2005-08-18 | 株式会社医薬分子設計研究所 | アミド誘導体 |
GB2403474B (en) * | 2002-04-18 | 2006-10-11 | Inst Med Molecular Design Inc | Amide derivatives |
US7598418B2 (en) | 2002-04-18 | 2009-10-06 | Institute Of Medicinal Molecular Design, Inc. | Amide derivatives |
JP4595059B2 (ja) * | 2002-04-18 | 2010-12-08 | 株式会社医薬分子設計研究所 | アミド誘導体 |
CN106256827A (zh) * | 2015-06-17 | 2016-12-28 | 上海和辉光电有限公司 | 一种化合物及其合成方法和应用 |
JP2021523231A (ja) * | 2018-05-09 | 2021-09-02 | アプリノイア セラピューティクス インコーポレーテッド | ヘテロアリール化合物及びその使用 |
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JP2854908B2 (ja) | 1999-02-10 |
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