JPH0687607A - シリコンの回収方法 - Google Patents
シリコンの回収方法Info
- Publication number
- JPH0687607A JPH0687607A JP25482891A JP25482891A JPH0687607A JP H0687607 A JPH0687607 A JP H0687607A JP 25482891 A JP25482891 A JP 25482891A JP 25482891 A JP25482891 A JP 25482891A JP H0687607 A JPH0687607 A JP H0687607A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon
- particles
- suspension
- silicon particles
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 シリコン粒子懸濁液からシリコンを回収す
る。 【構成】 シリコン粒子懸濁液に無機酸，水溶性無機
塩、及びこれらの混合物を添加してシリコンを沈降分離
させる。また必要に応じて、分離したシリコンを水洗し
て高純度化する。さらに無機酸で沈降分離させたものは
加熱することでも高純度化させられる。 【効果】 シリコン粒子懸濁液からシリコンを効率的に
回収でき、またこれを必要に応じて高純度化することも
でき、その結果、有効に再資源化することができる。
る。 【構成】 シリコン粒子懸濁液に無機酸，水溶性無機
塩、及びこれらの混合物を添加してシリコンを沈降分離
させる。また必要に応じて、分離したシリコンを水洗し
て高純度化する。さらに無機酸で沈降分離させたものは
加熱することでも高純度化させられる。 【効果】 シリコン粒子懸濁液からシリコンを効率的に
回収でき、またこれを必要に応じて高純度化することも
でき、その結果、有効に再資源化することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、微細なシリコン粒子が
懸濁した水溶液からシリコンを回収する方法に関する。
懸濁した水溶液からシリコンを回収する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体のシリコンチップは、シリコンイ
ンゴットから切断及び研磨されたシリコンウエハーを切
断加工することによって製造される。このインゴットの
切断や、切断されたウエハーの研磨工程で発生する削り
屑は、切断，研磨工程に使用される水にシリコンの微細
な粒子が懸濁した状態となり、半導体産業の発展に伴っ
て、この量は膨大なものになっている。
ンゴットから切断及び研磨されたシリコンウエハーを切
断加工することによって製造される。このインゴットの
切断や、切断されたウエハーの研磨工程で発生する削り
屑は、切断，研磨工程に使用される水にシリコンの微細
な粒子が懸濁した状態となり、半導体産業の発展に伴っ
て、この量は膨大なものになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記工程で発生したシ
リコン粒子は、非常に微細なため水中で懸濁し、容易に
沈降しない。このため、シリコンを水中から分離するこ
とは困難であり、これまでは再利用されずに懸濁液のま
ま、他の廃液とともに処理され廃棄されていた。しか
し、高価な純度の高いシリコンを再利用しないことは、
資源の有効利用の点で大きな問題である。
リコン粒子は、非常に微細なため水中で懸濁し、容易に
沈降しない。このため、シリコンを水中から分離するこ
とは困難であり、これまでは再利用されずに懸濁液のま
ま、他の廃液とともに処理され廃棄されていた。しか
し、高価な純度の高いシリコンを再利用しないことは、
資源の有効利用の点で大きな問題である。
【０００４】一般には粒子の回収方法として、濾過，分
離する方法が知られているが、上記シリコン粒子は、粒
径が細かすぎるため濾紙に目詰まりしやすく、実用的で
ない。また、遠心分離方法もあるが、水分に対してシリ
コン粒子の濃度が薄すぎて遠心分離の効率が悪く、さら
に設備や運転にコストがかかり、この方法も実用性に乏
しい。
離する方法が知られているが、上記シリコン粒子は、粒
径が細かすぎるため濾紙に目詰まりしやすく、実用的で
ない。また、遠心分離方法もあるが、水分に対してシリ
コン粒子の濃度が薄すぎて遠心分離の効率が悪く、さら
に設備や運転にコストがかかり、この方法も実用性に乏
しい。
【０００５】本発明はかかる事情に対してなされたもの
であり、水中に懸濁しているシリコン粒子を化学的に処
理して、沈降分離することで効率的に回収し、しかも必
要に応じて回収したシリコンを高純度化することを目的
としている。
であり、水中に懸濁しているシリコン粒子を化学的に処
理して、沈降分離することで効率的に回収し、しかも必
要に応じて回収したシリコンを高純度化することを目的
としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によるシリコン粒子懸濁液からのシリコン回
収方法においては、シリコン粒子が懸濁した水溶液から
シリコン粒子を回収するシリコンの回収方法であって、
シリコン粒子懸濁液に無機酸を添加し、液中に沈降した
シリコン粒子を分離するものである。
め、本発明によるシリコン粒子懸濁液からのシリコン回
収方法においては、シリコン粒子が懸濁した水溶液から
シリコン粒子を回収するシリコンの回収方法であって、
シリコン粒子懸濁液に無機酸を添加し、液中に沈降した
シリコン粒子を分離するものである。
【０００７】また、シリコン粒子が懸濁した水溶液から
シリコン粒子を回収するシリコンの回収方法であって、
シリコン粒子懸濁液に水溶性の無機塩を添加し、液中に
沈降したシリコン粒子を分離するものである。
シリコン粒子を回収するシリコンの回収方法であって、
シリコン粒子懸濁液に水溶性の無機塩を添加し、液中に
沈降したシリコン粒子を分離するものである。
【０００８】また、シリコン粒子が懸濁した水溶液から
シリコン粒子を回収するシリコンの回収方法であって、
シリコン粒子懸濁液に無機酸と無機塩との混合物を添加
し、液中に沈降したシリコン粒子を分離するものであ
る。
シリコン粒子を回収するシリコンの回収方法であって、
シリコン粒子懸濁液に無機酸と無機塩との混合物を添加
し、液中に沈降したシリコン粒子を分離するものであ
る。
【０００９】また、前記水溶液より分離したシリコン粒
子に水洗処理を施して回収されたシリコンを高純度化す
るものである。
子に水洗処理を施して回収されたシリコンを高純度化す
るものである。
【００１０】また、前記水溶液より分離したシリコン粒
子を加熱して回収されたシリコンを高純度化するもので
ある。
子を加熱して回収されたシリコンを高純度化するもので
ある。
【００１１】
【作用】本発明は、シリコン粒子懸濁液に無機酸，水溶
性無機塩又は無機酸と水溶性無機塩の混合物を添加する
ことにより、シリコン粒子を沈降分離して、シリコンを
回収し、また、回収したシリコンを高純度化するもので
ある。
性無機塩又は無機酸と水溶性無機塩の混合物を添加する
ことにより、シリコン粒子を沈降分離して、シリコンを
回収し、また、回収したシリコンを高純度化するもので
ある。
【００１２】本発明のシリコン粒子懸濁液とは、水溶液
中にシリコン粒子が懸濁しているものを指し、例えば、
シリコンインゴットの切削工程やシリコンウエハーの研
磨工程などで発生する微細なシリコン粒子を含む水溶液
が挙げられる。
中にシリコン粒子が懸濁しているものを指し、例えば、
シリコンインゴットの切削工程やシリコンウエハーの研
磨工程などで発生する微細なシリコン粒子を含む水溶液
が挙げられる。
【００１３】これら実際のシリコン粒子の平均粒子径
は、一般的に１０μ程度から０．１μ程度である。この
他、懸濁して沈降しにくいシリコン粒子が、全体的又は
部分的に存在する水溶液の全てに本発明は適用可能であ
る。
は、一般的に１０μ程度から０．１μ程度である。この
他、懸濁して沈降しにくいシリコン粒子が、全体的又は
部分的に存在する水溶液の全てに本発明は適用可能であ
る。
【００１４】次に、この懸濁液に添加する無機酸として
は、水中でよく解離する無機質の酸を指し、例えば硫
酸，塩酸，フッ酸，硝酸又はこれらの混合物などが挙げ
られる。これらの添加量については、０．０１ｍｏｌ／
ｌ以上が好ましい。０．０１ｍｏｌ／ｌ未満では、シリ
コン粒子の沈降速度を向上させる効果が小さくなる。
は、水中でよく解離する無機質の酸を指し、例えば硫
酸，塩酸，フッ酸，硝酸又はこれらの混合物などが挙げ
られる。これらの添加量については、０．０１ｍｏｌ／
ｌ以上が好ましい。０．０１ｍｏｌ／ｌ未満では、シリ
コン粒子の沈降速度を向上させる効果が小さくなる。
【００１５】またこれらの添加量の上限については、フ
ッ酸及びこれと他の酸との混合物以外特に制限がない
が、回収したシリコンの純度が低下するので、なるべく
少ない方が好ましい。フッ酸やこれを他の酸と混合する
場合は、フッ酸の懸濁液に対する添加量は１ｍｏｌ／ｌ
未満が好ましい。これ以上ではシリコンの溶解する傾向
が強くなり、シリコンの回収率が低下する。
ッ酸及びこれと他の酸との混合物以外特に制限がない
が、回収したシリコンの純度が低下するので、なるべく
少ない方が好ましい。フッ酸やこれを他の酸と混合する
場合は、フッ酸の懸濁液に対する添加量は１ｍｏｌ／ｌ
未満が好ましい。これ以上ではシリコンの溶解する傾向
が強くなり、シリコンの回収率が低下する。
【００１６】また、この懸濁液に添加する水溶性の無機
塩としては、塩化カルシウム，塩化ナトリウム，塩化第
二鉄，硫酸アルミニウム，硫酸第一鉄，硫酸第二鉄など
が挙げられる。これらの添加量は０．００５ｍｏｌ／ｌ
以上が好ましい。これ未満では、沈降速度を向上させる
効果が小さくなる。
塩としては、塩化カルシウム，塩化ナトリウム，塩化第
二鉄，硫酸アルミニウム，硫酸第一鉄，硫酸第二鉄など
が挙げられる。これらの添加量は０．００５ｍｏｌ／ｌ
以上が好ましい。これ未満では、沈降速度を向上させる
効果が小さくなる。
【００１７】これらの添加量の上限は、これらが懸濁液
に溶解する限り、特に制限はないが、回収したシリコン
の純度が低下するので、添加量はなるべく少ない方が好
ましい。
に溶解する限り、特に制限はないが、回収したシリコン
の純度が低下するので、添加量はなるべく少ない方が好
ましい。
【００１８】これらの無機酸と水溶性の無機塩との混合
物を添加する場合は、これらの合計量が０．００５ｍｏ
ｌ／ｌ以上が好ましい。これ以下では、沈降速度を向上
させる効果が小さくなる。これらの上限は、フッ酸を他
と混合して添加する以外については、懸濁液によく溶解
する限り特に制限はない。
物を添加する場合は、これらの合計量が０．００５ｍｏ
ｌ／ｌ以上が好ましい。これ以下では、沈降速度を向上
させる効果が小さくなる。これらの上限は、フッ酸を他
と混合して添加する以外については、懸濁液によく溶解
する限り特に制限はない。
【００１９】但し、回収したシリコンの純度が低下する
ので、なるべく少ない方が好ましい。フッ酸を無機塩と
混合して添加する場合は、フッ酸の添加量が懸濁液に対
して１ｍｏｌ／ｌ未満が好ましい。これ以上では、シリ
コンが溶解する傾向が強くなり、シリコンの回収率が低
下する。
ので、なるべく少ない方が好ましい。フッ酸を無機塩と
混合して添加する場合は、フッ酸の添加量が懸濁液に対
して１ｍｏｌ／ｌ未満が好ましい。これ以上では、シリ
コンが溶解する傾向が強くなり、シリコンの回収率が低
下する。
【００２０】このようにして懸濁液から沈降させたシリ
コンは、上澄みをデカンテーションや濾過した後、水分
を乾燥などで除去することで分離できる。
コンは、上澄みをデカンテーションや濾過した後、水分
を乾燥などで除去することで分離できる。
【００２１】また、上記の方法で分離したシリコンに付
着した無機酸や無機塩を除去して純度を向上させること
は、これらを水洗することによって行うことができる。
具体的にはデカンテーションを繰り返すか、濾過の際に
シリコンの残渣を水で洗浄することで行うことができ
る。このとき、本発明では沈降したシリコン粒子が強固
に凝集しているので、洗浄しても再懸濁し、沈降分離し
にくくなったりすることはない。
着した無機酸や無機塩を除去して純度を向上させること
は、これらを水洗することによって行うことができる。
具体的にはデカンテーションを繰り返すか、濾過の際に
シリコンの残渣を水で洗浄することで行うことができ
る。このとき、本発明では沈降したシリコン粒子が強固
に凝集しているので、洗浄しても再懸濁し、沈降分離し
にくくなったりすることはない。
【００２２】また、無機酸を単独で添加してシリコンを
沈降分離させた場合は、分離したシリコンを加熱するこ
とで、回収したシリコンを高純度化することができる。
沈降分離させた場合は、分離したシリコンを加熱するこ
とで、回収したシリコンを高純度化することができる。
【００２３】懸濁していたシリコンの微粒子は、無機酸
や水溶性無機塩及びこれらの混合物の添加によって、容
易に沈降分離でき、しかもその後、高純度化が可能であ
る。この理由としては、懸濁液中のシリコン粒子の表面
は荷電されており、この反発力で浮遊していたが、無機
酸や無機塩などを添加することで、表面の電荷をなく
し、さらに表面が改質されて強固な凝集が生じたことが
考えられる。このため、水洗する際に、再懸濁すること
なく、回収したシリコンの高純度化が可能であったと思
われる。
や水溶性無機塩及びこれらの混合物の添加によって、容
易に沈降分離でき、しかもその後、高純度化が可能であ
る。この理由としては、懸濁液中のシリコン粒子の表面
は荷電されており、この反発力で浮遊していたが、無機
酸や無機塩などを添加することで、表面の電荷をなく
し、さらに表面が改質されて強固な凝集が生じたことが
考えられる。このため、水洗する際に、再懸濁すること
なく、回収したシリコンの高純度化が可能であったと思
われる。
【００２４】また無機酸を添加してシリコンを沈降分離
した場合は、付着した酸を加熱することで酸を蒸発させ
ることができ、高純度化できたと考えられる。
した場合は、付着した酸を加熱することで酸を蒸発させ
ることができ、高純度化できたと考えられる。
【００２５】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。
【００２６】シリコン粒子懸濁液に無機酸，水溶性の無
機塩を添加して実施例１〜１１に示す混合物を作成し
た。例えば、実施例１については、平均粒径０．６μの
シリコン粒子が０．５重量％懸濁している水溶液９０ｍ
ｌに、１０規定の硫酸１０ｍｌを添加し、１ｍｏｌ／ｌ
の濃度になるようにしたものである。実施例２〜１１に
ついてもその要領は同じである。
機塩を添加して実施例１〜１１に示す混合物を作成し
た。例えば、実施例１については、平均粒径０．６μの
シリコン粒子が０．５重量％懸濁している水溶液９０ｍ
ｌに、１０規定の硫酸１０ｍｌを添加し、１ｍｏｌ／ｌ
の濃度になるようにしたものである。実施例２〜１１に
ついてもその要領は同じである。
【００２７】各実施例についてのシリコン粒子の平均粒
径，シリコン濃度，添加した無機酸，無機塩の種類及び
その添加量を表１に示す。
径，シリコン濃度，添加した無機酸，無機塩の種類及び
その添加量を表１に示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】次に、各実施例の試料を３分間撹拌した後
放置して、シリコンの沈降速度を測定した。沈降速度
は、上澄み液を定時間で分取し、これの濁度を測定する
ことで求めた。濁度の測定法は、ＪＩＳ ＫＯ１０１
９．２に準じ、また、カオリン標準液を用いて検量線を
作成した。この測定結果を表２に示す。
放置して、シリコンの沈降速度を測定した。沈降速度
は、上澄み液を定時間で分取し、これの濁度を測定する
ことで求めた。濁度の測定法は、ＪＩＳ ＫＯ１０１
９．２に準じ、また、カオリン標準液を用いて検量線を
作成した。この測定結果を表２に示す。
【００３０】
【表２】
【００３１】さらに実施例３，４，１０の試料について
沈降分離したシリコンをそれぞれ濾過した後、濾紙上の
シリコン残渣に純水を１０ｍｌ添加して吸引する操作を
３回繰返して洗浄した。
沈降分離したシリコンをそれぞれ濾過した後、濾紙上の
シリコン残渣に純水を１０ｍｌ添加して吸引する操作を
３回繰返して洗浄した。
【００３２】この洗浄したシリコンをビーカーに移して
純水を１００ｍｌ加え、３分間撹拌した後の再沈降性を
測定した。沈降速度の測定は、前記と同じ方法で測定し
た。測定結果をそれぞれ実施例１２，１３，１４として
表２に示す。
純水を１００ｍｌ加え、３分間撹拌した後の再沈降性を
測定した。沈降速度の測定は、前記と同じ方法で測定し
た。測定結果をそれぞれ実施例１２，１３，１４として
表２に示す。
【００３３】また、実施例７，１１の試料について、沈
降分離したシリコンの上澄みをそれぞれデカンテーショ
ンし、さらに純水１００ｍｌを添加した後、撹拌して放
置し、デカンテーションする操作を３回繰返した。そし
て、純水を１００ｍｌ添加して撹拌した後、前実施例と
同様に沈降速度を測定した。測定結果を実施例１５，１
６として表２に示す。
降分離したシリコンの上澄みをそれぞれデカンテーショ
ンし、さらに純水１００ｍｌを添加した後、撹拌して放
置し、デカンテーションする操作を３回繰返した。そし
て、純水を１００ｍｌ添加して撹拌した後、前実施例と
同様に沈降速度を測定した。測定結果を実施例１５，１
６として表２に示す。
【００３４】さらに、実施例１２〜１６について、沈降
性を見たときの上澄み液の電気伝導度を測定してシリコ
ンの洗浄度を調べた。その測定結果を表３に示す。
性を見たときの上澄み液の電気伝導度を測定してシリコ
ンの洗浄度を調べた。その測定結果を表３に示す。
【００３５】
【表３】
【００３６】表３中、実施例１７，１８は、実施例３，
４の試料について、沈降分離したシリコンをそれぞれ濾
過した後、風乾し、さらに３００℃で５時間加熱し、こ
れに純水１００ｍｌを添加して撹拌してから溶液の電気
伝導度を測定したものである。測定結果は、酸の除去性
を表わしている。
４の試料について、沈降分離したシリコンをそれぞれ濾
過した後、風乾し、さらに３００℃で５時間加熱し、こ
れに純水１００ｍｌを添加して撹拌してから溶液の電気
伝導度を測定したものである。測定結果は、酸の除去性
を表わしている。
【００３７】比較のため、無機酸，無機塩を添加しない
表１に示す比較例１，２の試料について、その懸濁液を
３分間撹拌した後のシリコンの沈降速度を測定した。そ
の測定結果を表２に示す。さらに、比較例１，２のシリ
コン懸濁液の電気伝導度を測定した。その測定結果をそ
れぞれ比較例３，４として表３に示す。
表１に示す比較例１，２の試料について、その懸濁液を
３分間撹拌した後のシリコンの沈降速度を測定した。そ
の測定結果を表２に示す。さらに、比較例１，２のシリ
コン懸濁液の電気伝導度を測定した。その測定結果をそ
れぞれ比較例３，４として表３に示す。
【００３８】以上実施例と比較例とを比較して明らかな
とおり、無機酸，水溶性無機塩、及びこれらの混合物を
シリコン粒子懸濁液に添加すると容易にシリコンを沈降
分離できることが分かった。
とおり、無機酸，水溶性無機塩、及びこれらの混合物を
シリコン粒子懸濁液に添加すると容易にシリコンを沈降
分離できることが分かった。
【００３９】また、回収したシリコンを水洗して高純度
化することが可能となり、さらに水洗後の沈降分離性も
良好で、再懸濁しにくいことが判明した。そして、無機
酸で沈降分離したものは加熱することでも高純度化でき
ることもわかった。
化することが可能となり、さらに水洗後の沈降分離性も
良好で、再懸濁しにくいことが判明した。そして、無機
酸で沈降分離したものは加熱することでも高純度化でき
ることもわかった。
【００４０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、シリコン
粒子懸濁液からシリコンを効率的に分離回収することが
でき、また必要に応じて回収したシリコンを高純度化す
ることができ、その結果、これらを有効に再資源化する
ことができる効果を有する。
粒子懸濁液からシリコンを効率的に分離回収することが
でき、また必要に応じて回収したシリコンを高純度化す
ることができ、その結果、これらを有効に再資源化する
ことができる効果を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横山 貞彦 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 鶴見 實 神奈川県横浜市緑区榎が丘30−２−１− 103
Claims (5)
- 【請求項１】 シリコン粒子が懸濁した水溶液からシリ
コン粒子を回収するシリコンの回収方法であって、 シリコン粒子懸濁液に無機酸を添加し、液中に沈降した
シリコン粒子を分離するものであることを特徴とするシ
リコンの回収方法。 - 【請求項２】 シリコン粒子が懸濁した水溶液からシリ
コン粒子を回収するシリコンの回収方法であって、 シリコン粒子懸濁液に水溶性の無機塩を添加し、液中に
沈降したシリコン粒子を分離するものであることを特徴
とするシリコンの回収方法。 - 【請求項３】 シリコン粒子が懸濁した水溶液からシリ
コン粒子を回収するシリコンの回収方法であって、 シリコン粒子懸濁液に無機酸と無機塩との混合物を添加
し、液中に沈降したシリコン粒子を分離するものである
ことを特徴とするシリコンの回収方法。 - 【請求項４】 前記水溶液より分離したシリコン粒子に
水洗処理を施して回収されたシリコンを高純度化するこ
とを特徴とする請求項１〜３に記載のシリコンの回収方
法。 - 【請求項５】 前記水溶液より分離したシリコン粒子を
加熱して回収されたシリコンを高純度化することを特徴
とする請求項１に記載のシリコンの回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25482891A JPH0687607A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | シリコンの回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25482891A JPH0687607A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | シリコンの回収方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0687607A true JPH0687607A (ja) | 1994-03-29 |
Family
ID=17270428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25482891A Pending JPH0687607A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | シリコンの回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0687607A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002040407A1 (en) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | Metallkraft As | Method for utilising a waste slurry from silicon wafer production |
| JP2008094937A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Ｓｕｍｃｏ Ｔｅｃｈｘｉｖ株式会社 | 成形品の製造方法 |
| WO2009081725A1 (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | シリコン再生方法 |
| JP2010082568A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Daido Chem Ind Co Ltd | 廃液の処理方法 |
| WO2010078274A3 (en) * | 2008-12-31 | 2010-12-16 | Memc Electronic Materials, Inc. | Methods to recover and purify silicon particles from saw kerf |
| JP2012115758A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Sanwa Biotech Kk | シリコン切削廃液の処理方法 |
| US8354088B2 (en) | 2008-04-11 | 2013-01-15 | Iosil Energy Corporation | Methods and apparatus for recovery of silicon and silicon carbide from spent wafer-sawing slurry |
| KR101323765B1 (ko) * | 2006-02-24 | 2013-10-31 | 가부시키가이샤 아이에이치아이 카이덴기카이 | 실리콘입자의 처리방법 및 장치 |
| US8580205B2 (en) | 2006-08-18 | 2013-11-12 | Iosil Energy Corporation | Method and apparatus for improving the efficiency of purification and deposition of polycrystalline silicon |
-
1991
- 1991-09-05 JP JP25482891A patent/JPH0687607A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002040407A1 (en) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | Metallkraft As | Method for utilising a waste slurry from silicon wafer production |
| KR101323765B1 (ko) * | 2006-02-24 | 2013-10-31 | 가부시키가이샤 아이에이치아이 카이덴기카이 | 실리콘입자의 처리방법 및 장치 |
| US8580205B2 (en) | 2006-08-18 | 2013-11-12 | Iosil Energy Corporation | Method and apparatus for improving the efficiency of purification and deposition of polycrystalline silicon |
| JP2008094937A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Ｓｕｍｃｏ Ｔｅｃｈｘｉｖ株式会社 | 成形品の製造方法 |
| WO2009081725A1 (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | シリコン再生方法 |
| US8354088B2 (en) | 2008-04-11 | 2013-01-15 | Iosil Energy Corporation | Methods and apparatus for recovery of silicon and silicon carbide from spent wafer-sawing slurry |
| JP2010082568A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Daido Chem Ind Co Ltd | 廃液の処理方法 |
| WO2010078274A3 (en) * | 2008-12-31 | 2010-12-16 | Memc Electronic Materials, Inc. | Methods to recover and purify silicon particles from saw kerf |
| US8231006B2 (en) | 2008-12-31 | 2012-07-31 | Memc Singapore Pte. Ltd. | Methods to recover and purify silicon particles from saw kerf |
| EP2743335A1 (en) * | 2008-12-31 | 2014-06-18 | MEMC Singapore Pte. Ltd. | Methods to recover and purify silicon particles from Saw Kerf |
| JP2012115758A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Sanwa Biotech Kk | シリコン切削廃液の処理方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6421887B2 (ja) | セリウム塩の製造方法、酸化セリウム及びセリウム系研磨剤 | |
| US8425639B2 (en) | Wire saw slurry recycling process | |
| JP2012514349A5 (ja) | ||
| EP2607445B1 (en) | Method for recovery of cerium oxide | |
| JPH0687607A (ja) | シリコンの回収方法 | |
| JP2011509187A (ja) | シリコンの機械加工により排出されたスラリー中に含まれる懸濁流体を分離及び回収する方法 | |
| JP2928020B2 (ja) | シリコンの回収方法 | |
| JP5945634B2 (ja) | セリア含有廃研磨材の再生方法 | |
| JP3413394B2 (ja) | 光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液からの酸化セリウム回収方法及び光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処理方法 | |
| JP6260617B2 (ja) | ダイヤモンド砥粒の回収方法 | |
| JP2003147455A (ja) | ワイヤーソースラリーからのタンタル化合物の回収方法 | |
| JP4234806B2 (ja) | スラリーの分離方法及び装置 | |
| US3630351A (en) | Methods of upgrading alumina-bearing materials | |
| JP4657172B2 (ja) | 金属シリコンの精製方法 | |
| JP5370598B2 (ja) | 使用済み研磨材スラリーから酸化セリウムを含有する研磨材成分を回収する方法 | |
| JPH1112562A (ja) | ダイアモンド砥粒の回収方法 | |
| JP6230613B2 (ja) | バイヤー法で生じるスラリーの濾過を強化する方法 | |
| JP2683343B2 (ja) | ウイスカーの精製方法 | |
| JP3436304B2 (ja) | ガリウム化合物、砥粒および切削油を含む澱物からのガリウム化合物の濃縮方法 | |
| JP2005007541A (ja) | 硬脆材料スライス加工用スラリー廃液の再利用システム | |
| JP5967246B2 (ja) | 酸化セリウムの回収方法 | |
| WO2014042494A1 (ko) | 세리아 함유 폐연마재의 재생 방법 | |
| TW538112B (en) | Method for treating an exhausted glycol-based slurry | |
| JPH0319168B2 (ja) | ||
| RU2021104545A (ru) | Комплексное соединение гидроксамовой кислоты и гидроксида металла, его приготовление и применение |