JPH0496257A - ピングリッドアレイ形半導体集積回路装置 - Google Patents
ピングリッドアレイ形半導体集積回路装置Info
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- Power Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路装置に関し、特にピングリッ
ドアレイ(pin grid array)形の半導体
集積回路装置(以下、単にピングリッドアレイともいう
)に適用して有効な技術に関するものである。
ドアレイ(pin grid array)形の半導体
集積回路装置(以下、単にピングリッドアレイともいう
)に適用して有効な技術に関するものである。
多ピン化に好適なパッケージ形態の一種であるピングリ
ッドアレイは、多数のリードビンを挿入したセラミック
または合成樹脂からなる絶縁基板の中央に半導体チップ
を配置し、この半導体チップの周縁部に設けたポンディ
ングパッドと絶縁基板上に設けた配線との間をワイヤで
接続したパッケージ構造を有している。なお、ピングリ
ッドアレイについては、例えば日経BP社、昭和62年
8月1日発行の「日経マイクロデバイス・1987年8
月号」P57〜P69に記載されている。
ッドアレイは、多数のリードビンを挿入したセラミック
または合成樹脂からなる絶縁基板の中央に半導体チップ
を配置し、この半導体チップの周縁部に設けたポンディ
ングパッドと絶縁基板上に設けた配線との間をワイヤで
接続したパッケージ構造を有している。なお、ピングリ
ッドアレイについては、例えば日経BP社、昭和62年
8月1日発行の「日経マイクロデバイス・1987年8
月号」P57〜P69に記載されている。
集積回路の高速化に伴ってチップの動作周波数も次第に
G&帯に近づきつつあるが、その一方では回路の高集積
化によってチップサイズが増大し、チップ内部の配線長
が長くなっている。ところが、従来のピングリッドアレ
イは、チップ周縁部のポンディングパッドと絶縁基板上
の配線との間をワイヤで接続するワイヤボンディング方
式を採用しているため、高速チップを搭載しようとする
と、チップ内配線の抵抗(R)成分やインダクタンス(
L)成分の増大に起因する信号伝搬遅延や電源変動など
が無視できなくなる。
G&帯に近づきつつあるが、その一方では回路の高集積
化によってチップサイズが増大し、チップ内部の配線長
が長くなっている。ところが、従来のピングリッドアレ
イは、チップ周縁部のポンディングパッドと絶縁基板上
の配線との間をワイヤで接続するワイヤボンディング方
式を採用しているため、高速チップを搭載しようとする
と、チップ内配線の抵抗(R)成分やインダクタンス(
L)成分の増大に起因する信号伝搬遅延や電源変動など
が無視できなくなる。
また、集積回路の高速化、高集積化に伴ってチップの入
出力ピン数も増大しつつあるが、ワイヤボンディング方
式を用いている従来のピングリッドアレイは、ポンディ
ングパッドのピッチの狭小化に限界があるため、多ビン
のチップを搭載することは困難である。
出力ピン数も増大しつつあるが、ワイヤボンディング方
式を用いている従来のピングリッドアレイは、ポンディ
ングパッドのピッチの狭小化に限界があるため、多ビン
のチップを搭載することは困難である。
本発明の目的は、ピングリッドアレイの高速化を促進す
る技術を提供することにある。
る技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、ピングリッドアレイの多ビン化を
促進する技術を提供することにある。
促進する技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
(1)、絶縁基板上に形成した配線の一端をチップ上に
延在し、上記チップの集積回路形成面の中央部に設けた
電極パッドと上記配線とを電気的に接続したピングリッ
ドアレイ。
延在し、上記チップの集積回路形成面の中央部に設けた
電極パッドと上記配線とを電気的に接続したピングリッ
ドアレイ。
(2)、上8己ピングリッドアレイにおいて、電極パッ
ドと配線とをバンブ電極を介して接続する。
ドと配線とをバンブ電極を介して接続する。
(3)、上言己ビングリッドアレイにおいて、配線を多
層化する。
層化する。
上記した手段(1)によれば、チップ内配線をチップ周
縁部まで引き回す必要がなくなり、配線長を短縮するこ
とができるので、チップ内配線の抵抗(R)成分やイン
ダクタンス(L)成分の増大に起因する信号伝搬遅延や
電源変動を低減することができる。また、周縁部のみな
らず中央部にも電極パッドを設けたチップを搭載するこ
とができるので、ピングリッドアレイの多ビン化を促進
することができる。
縁部まで引き回す必要がなくなり、配線長を短縮するこ
とができるので、チップ内配線の抵抗(R)成分やイン
ダクタンス(L)成分の増大に起因する信号伝搬遅延や
電源変動を低減することができる。また、周縁部のみな
らず中央部にも電極パッドを設けたチップを搭載するこ
とができるので、ピングリッドアレイの多ビン化を促進
することができる。
上記した手段(2)によれば、電極パッドと配線とをワ
イヤで接続する場合に比べて電極パッド−配線間の接続
長を短縮することができるので、ピングリッドアレイの
高速化を促進することができる。
イヤで接続する場合に比べて電極パッド−配線間の接続
長を短縮することができるので、ピングリッドアレイの
高速化を促進することができる。
上記した手段(3)によれば、配線を多層化することに
より、絶縁基板上の配線数を増加することができるので
、ピングリッドアレイの多ビン化を促進することができ
る。また、チップにGND電位を供給する配線の上層ま
たは下層にGND配線を配置することにより、インピー
ダンス整合やクロストークの低減を図ることができるの
で、ピングリッドアレイの高速化を促進することができ
る。
より、絶縁基板上の配線数を増加することができるので
、ピングリッドアレイの多ビン化を促進することができ
る。また、チップにGND電位を供給する配線の上層ま
たは下層にGND配線を配置することにより、インピー
ダンス整合やクロストークの低減を図ることができるの
で、ピングリッドアレイの高速化を促進することができ
る。
以下、実施例により本発明を説明する。
〔実施例1〕
第1図は、本実施例1によるピングリッドアレイ1の断
面図である。
面図である。
ピングリッドアレイ1の絶縁基板2は、例えばガラス布
基材エポキシ樹脂(ガラエポ)などの合成樹脂で構成さ
れており、その主面には多数の配線3が形成されている
。上記配線3はCuで構成されており、その表面にはN
i、Auの順でメツキが施されている。上言己絶縁基板
2には、多数のスルーホール4が開孔されており、それ
ぞれのスルーホール4の内部には、ピングリッドアレイ
1の外部端子を構成するリードピン5が挿入されている
。上記リードピン5は、42アロイやコバールなどのF
e系合金で構成されており、その表面にはSnあるいは
半田などのメツキが施されている。
基材エポキシ樹脂(ガラエポ)などの合成樹脂で構成さ
れており、その主面には多数の配線3が形成されている
。上記配線3はCuで構成されており、その表面にはN
i、Auの順でメツキが施されている。上言己絶縁基板
2には、多数のスルーホール4が開孔されており、それ
ぞれのスルーホール4の内部には、ピングリッドアレイ
1の外部端子を構成するリードピン5が挿入されている
。上記リードピン5は、42アロイやコバールなどのF
e系合金で構成されており、その表面にはSnあるいは
半田などのメツキが施されている。
上言己絶縁基板2の主面の中央部に設けられたキャビテ
ィ6内には、論理LSIなどの集積回路を形成した半導
体チップ7が搭載されている。本実施例1のピングリッ
ドアレイ1は、絶縁基板2上に形成した前記配線3の一
端をこのチップ7上に延在し、チップ7の集積回路形成
面の中央部および周縁部に設けた第1図では図示しない
電極パッドと上記配線3とをワイヤ8を介して接続した
構成になっている。
ィ6内には、論理LSIなどの集積回路を形成した半導
体チップ7が搭載されている。本実施例1のピングリッ
ドアレイ1は、絶縁基板2上に形成した前記配線3の一
端をこのチップ7上に延在し、チップ7の集積回路形成
面の中央部および周縁部に設けた第1図では図示しない
電極パッドと上記配線3とをワイヤ8を介して接続した
構成になっている。
配線3の一端をチップ7上に延在するには、例えば−面
に配線3を形成した絶縁フィルム9を絶縁基板2上およ
びチップ7上にそれぞれ接着する。
に配線3を形成した絶縁フィルム9を絶縁基板2上およ
びチップ7上にそれぞれ接着する。
上記絶縁フィルム9には、あらかじめチップ7の電極バ
ッドに相当する箇所に開孔10を設けておき、ワイヤボ
ンディング装置を用いて上記開孔10の底部に露出した
電極パッドと配線3との間をAuなどのワイヤ8で接続
する。
ッドに相当する箇所に開孔10を設けておき、ワイヤボ
ンディング装置を用いて上記開孔10の底部に露出した
電極パッドと配線3との間をAuなどのワイヤ8で接続
する。
上記キャピテイ6内のチップ7は、絶縁基板2の上面お
よび下面のそれぞれに設けられたキャップ11a、11
bによって気密封止されている。
よび下面のそれぞれに設けられたキャップ11a、11
bによって気密封止されている。
上記キャップlla、llbは合成樹脂からなり、シリ
コーンゴムなどの接着剤12を介して絶縁基板2に接合
されている。
コーンゴムなどの接着剤12を介して絶縁基板2に接合
されている。
以上のように構成された本実施例1のピングリッドアレ
イ1によれば、周縁部のみならず中央部にも電極パッド
を設けた多ビンのチップ7を搭載することができるので
、ピングリッドアレイ1の多ビン化を促進することがで
きる。
イ1によれば、周縁部のみならず中央部にも電極パッド
を設けた多ビンのチップ7を搭載することができるので
、ピングリッドアレイ1の多ビン化を促進することがで
きる。
また上記チップ7は、中央部にも電極パッドを設けたこ
とにより、チップ内配線を周縁部まで弓き回す必要がな
くなり、配線長を短縮することができる。これにより、
チップ内配線の抵抗(R)成分やインダクタンス(L)
を分の増大に起因する信号伝搬遅延や電源変動を低減す
ることができるので、ピングリッドアレイ1の高速化を
促進することができる。
とにより、チップ内配線を周縁部まで弓き回す必要がな
くなり、配線長を短縮することができる。これにより、
チップ内配線の抵抗(R)成分やインダクタンス(L)
を分の増大に起因する信号伝搬遅延や電源変動を低減す
ることができるので、ピングリッドアレイ1の高速化を
促進することができる。
〔実施例2〕
第2図は、本実施例2によるピングリッドアレイ1の絶
縁基板2の中央部を示す断面図である。
縁基板2の中央部を示す断面図である。
本実施例2のピングリッドアレイlは、絶縁基板2上に
二層の配線3を形成し、それぞれの配線3の一端をチッ
プ7上に延在するとともに、チップ7の集積回路形成面
の中央部および周縁部に設けた電極パッド13と上記配
線3とをバンブ電極14を介して接続した構成になって
いる。
二層の配線3を形成し、それぞれの配線3の一端をチッ
プ7上に延在するとともに、チップ7の集積回路形成面
の中央部および周縁部に設けた電極パッド13と上記配
線3とをバンブ電極14を介して接続した構成になって
いる。
絶縁基板2上に二層の配線3を形成するには、例えば両
面に配線3を形成した絶縁フィルム9を絶縁基板2上に
接着する。上記絶縁フィルム9には、あらかじめ所定の
電極パッド13に相当する箇所に開孔10を設けておき
、フィルム9の上面に形成した配線3の先端を上記開孔
10を通じて下面に露出させる。配線3とチップ7の電
極パッド13とをバンブ電極14を介して接続するには
、あらかじめチップ7の電極バッド13上にAuなどで
構成したバンブ電極14を形成しておき、TA B(T
ape Automated Bonding)のイン
ナーリードボンダーなどを用いて配置13とバンブ電極
14とを接続する。
面に配線3を形成した絶縁フィルム9を絶縁基板2上に
接着する。上記絶縁フィルム9には、あらかじめ所定の
電極パッド13に相当する箇所に開孔10を設けておき
、フィルム9の上面に形成した配線3の先端を上記開孔
10を通じて下面に露出させる。配線3とチップ7の電
極パッド13とをバンブ電極14を介して接続するには
、あらかじめチップ7の電極バッド13上にAuなどで
構成したバンブ電極14を形成しておき、TA B(T
ape Automated Bonding)のイン
ナーリードボンダーなどを用いて配置13とバンブ電極
14とを接続する。
第3図に示すように、本実施例2のピングリッドアレイ
1は、チップ7にGND電位を供給する配線3aの上層
に、配線3aと並行してGND配線3bを配置すること
により、インピーダンス整合やクロストークの低減を図
っている。上記配線3aとGND配線3bとは、例えば
スルーホール4を通じて電気的に接続される。
1は、チップ7にGND電位を供給する配線3aの上層
に、配線3aと並行してGND配線3bを配置すること
により、インピーダンス整合やクロストークの低減を図
っている。上記配線3aとGND配線3bとは、例えば
スルーホール4を通じて電気的に接続される。
以上のように構成された本実施例2のピングリッドアレ
イ1によれば、配線3と電極パッド13とをバンブ電極
14を介して接続することにより、両者をワイヤ8で接
続する場合に比べて電極パッド13のピッチを狭小化す
ることができ、かつ絶縁基板2の配線3を多層化したこ
とにより、絶縁基板2上の配線3の数を増加することが
できるので、ピングリッドアレイ1の多ピン化をさらに
促進することができる。
イ1によれば、配線3と電極パッド13とをバンブ電極
14を介して接続することにより、両者をワイヤ8で接
続する場合に比べて電極パッド13のピッチを狭小化す
ることができ、かつ絶縁基板2の配線3を多層化したこ
とにより、絶縁基板2上の配線3の数を増加することが
できるので、ピングリッドアレイ1の多ピン化をさらに
促進することができる。
また、配線3と電極パッド13とをバンブ電極14を介
して接続することにより、両者をワイヤ8で接続する場
合に比べて両者間の接続長を短縮することができるので
、ピングリッドアレイ1の高速化をさらに促進すること
ができる。
して接続することにより、両者をワイヤ8で接続する場
合に比べて両者間の接続長を短縮することができるので
、ピングリッドアレイ1の高速化をさらに促進すること
ができる。
また、チップ7にGND電位を供給する配線3aの上層
にGND配線3bを配置し、インピーダンス整合やクロ
ストークの低減を図ることにより、チップ7の電気特性
がさらに改善されるので、ピングリッドアレイ1の高速
化をさらに促進することができる。
にGND配線3bを配置し、インピーダンス整合やクロ
ストークの低減を図ることにより、チップ7の電気特性
がさらに改善されるので、ピングリッドアレイ1の高速
化をさらに促進することができる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、本発胡は前記実施例1.2に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。
具体的に説明したが、本発胡は前記実施例1.2に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。
例えば絶縁基板上の配線とチップの電極パッドとを接続
する際、第4図に示すように、ワイヤ8を介して接続す
る方式とバンブ電極14を介して接続する方式とを併用
することもできる。
する際、第4図に示すように、ワイヤ8を介して接続す
る方式とバンブ電極14を介して接続する方式とを併用
することもできる。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。
(1)、ビングリッドアレイの絶縁基板上に形成した配
線の一端をチップ上に延在し、上記チップの集積回路形
成面の中央部に設けた電極パッドと上記配線とを電気的
に接続することにより、高速化および多ピン化に対応し
たビングリッドアレイを得ることができる。
線の一端をチップ上に延在し、上記チップの集積回路形
成面の中央部に設けた電極パッドと上記配線とを電気的
に接続することにより、高速化および多ピン化に対応し
たビングリッドアレイを得ることができる。
(2)、上記ビングリッドアレイにおいて、電極パッド
と配線とをバンブ電極を介して接続することにより、ビ
ングリッドアレイの高速化および多ビン化をさらに促進
することができる。
と配線とをバンブ電極を介して接続することにより、ビ
ングリッドアレイの高速化および多ビン化をさらに促進
することができる。
(3)、上記ビングリッドアレイにおいて、配線を多層
化することにより、ビングリッドアレイの高速化および
多ピン化をさらに促進することができる。
化することにより、ビングリッドアレイの高速化および
多ピン化をさらに促進することができる。
その際、チップにGND電位を供給する配線の上層また
は下層にGND配線を配置することにより、ビングリッ
ドアレイの高速化をさらに促進することができる。
は下層にGND配線を配置することにより、ビングリッ
ドアレイの高速化をさらに促進することができる。
第1図は、本発明の一実施例であるビングリッドアレイ
形半導体集積回路装置の断面図、第2図は、本発明の他
の実施例であるビングリッドアレイ形半導体集積回路装
置の要部断面図、第3図は、配線の上層にGND配線を
配置した状態を示す要部断面図、 第4図は、本発明のさらに他の実施例であるビングリッ
ドアレイ形半導体集積回路装置の要部断面図である。 1・・・ビングリッドアレイ、2・・・絶縁基板、3.
3a、3b・・・配線、4・・・スルーホール、5・・
・リードビン、6・・・キャビティ、7・・・半導体チ
ップ、8・・・・ワイヤ、9・・・絶縁フィルム、10
・・・開孔、11a。 ]、 1 b・・・キャップ、12・・・接着剤、13
・・・電極パッド、14・・・バンブ電極。 代理人 弁理士 筒 井 大 和 へ 1b
形半導体集積回路装置の断面図、第2図は、本発明の他
の実施例であるビングリッドアレイ形半導体集積回路装
置の要部断面図、第3図は、配線の上層にGND配線を
配置した状態を示す要部断面図、 第4図は、本発明のさらに他の実施例であるビングリッ
ドアレイ形半導体集積回路装置の要部断面図である。 1・・・ビングリッドアレイ、2・・・絶縁基板、3.
3a、3b・・・配線、4・・・スルーホール、5・・
・リードビン、6・・・キャビティ、7・・・半導体チ
ップ、8・・・・ワイヤ、9・・・絶縁フィルム、10
・・・開孔、11a。 ]、 1 b・・・キャップ、12・・・接着剤、13
・・・電極パッド、14・・・バンブ電極。 代理人 弁理士 筒 井 大 和 へ 1b
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、絶縁基板上に形成した配線の一端を半導体チップ上
に延在し、前記半導体チップの集積回路形成面の中央部
に設けた電極パッドと前記配線とを電気的に接続したこ
とを特徴とするピングリッドアレイ形半導体集積回路装
置。 2、前記電極パッドと前記配線とをバンプ電極を介して
電気的に接続したことを特徴とする請求項1記載のピン
グリッドアレイ形半導体集積回路装置。 3、前記配線を多層化したことを特徴とする請求項1記
載のピングリッドアレイ形半導体集積回路装置。 4、半導体チップにGND電位を供給する配線の上層ま
たは下層にGND配線を設けたことを特徴とする請求項
3記載のピングリッドアレイ形半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2205989A JPH0496257A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | ピングリッドアレイ形半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2205989A JPH0496257A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | ピングリッドアレイ形半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0496257A true JPH0496257A (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=16516061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2205989A Pending JPH0496257A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | ピングリッドアレイ形半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0496257A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5404273A (en) * | 1993-03-23 | 1995-04-04 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Semiconductor-device package and semiconductor device |
KR100414535B1 (ko) * | 2001-05-21 | 2004-01-07 | 최순석 | 온풍/냉풍 장치가 구비된 침대 |
US11779125B2 (en) | 2020-04-07 | 2023-10-10 | Lg Electronics Inc. | Bed |
-
1990
- 1990-08-03 JP JP2205989A patent/JPH0496257A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5404273A (en) * | 1993-03-23 | 1995-04-04 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Semiconductor-device package and semiconductor device |
KR100414535B1 (ko) * | 2001-05-21 | 2004-01-07 | 최순석 | 온풍/냉풍 장치가 구비된 침대 |
US11779125B2 (en) | 2020-04-07 | 2023-10-10 | Lg Electronics Inc. | Bed |
US11786046B2 (en) | 2020-04-07 | 2023-10-17 | Lg Electronics Inc. | Bed |
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