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JP6893924B2 - 触媒活性を向上させる方法 - Google Patents

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Description

本発明は、触媒金属複合体コーティングを有する基材を含む酸素発生反応(OER)触媒の触媒活性を向上させる方法に関する。また本発明は、向上させたOER触媒を含むOER電極に関する。
エネルギーの需要および化石燃料からの汚染物質排出量の増加により、持続可能な代替エネルギー源からのエネルギーの変換および貯蔵に対して研究関心が高まっている。電気化学的な太陽光による水の分解は、陽極上で酸素発生反応(OER)が起こっている間に、陰極上で水素燃料を大規模に生成するための重要な代案のうちの1つと考えられている。しかしながら、多くの場合、OERの反応速度は遅く、その結果陰極上の水素発生反応(HER)に影響を与える。
OERの反応速度を高めるために、効率的な触媒を合成するための膨大な研究が行われてきた。二酸化イリジウム(IrO)および二酸化ルテニウム(RuO)は、現在知られている最も活性なOER触媒であるが、これらの使用は、これらが高コストであり、供給源が持続可能でないために、商業的に実現可能でないことが多い。第1列遷移金属およびこれらの錯体に基づく代替OER触媒の使用が研究されてきた。例えば、ニッケル系化合物などの非貴金属触媒は、近年OER触媒として記載されている。
最近、ペロブスカイト型光電池によって高い水の光分解効率(例えば、12.3%)を生じることができるOER触媒としてNi/Fe系材料が報告されている。しかしながら、電極触媒活性は、許容可能な高電流密度、例えば100mA/cm−2をもたらすための過電圧の面で、不十分である。
電気化学的水分解によって、水素燃料(H)の形で再生可能エネルギー資源を拡張可能な形で貯蔵するためには、触媒材料は、Hを許容可能な速度で生成するために一般に大量の過電圧(η)を必要とする酸素発生反応(OER)の遅い反応速度を克服する必要がある。
少なくとも本発明の好ましい実施形態が、OER電極の触媒活性を向上させる容易で一般的な方法を提供することになれば、それは有益なことであろう。また、少なくとも本発明の好ましい実施形態が、例えば高電流密度で過電圧を低下させることで、水分解における投入エネルギーコストを低減させることによって、Ni/Fe系のOER電極の効率を高めることになれば、それは有益なことであろう。
本発明者らは、多くの研究を行い、基材上に担持された触媒金属複合体コーティングを含むOER触媒を還元剤で処理することによって、金属複合体コーティングの触媒活性が大幅に向上し、したがってOER触媒の触媒活性が大幅に向上するということを初めて実証した。本発明の方法は、高価な貴金属の使用を必要とせずにOER触媒の触媒活性を向上させ、容易に入手可能な装置を用いて安価な処理技術によって達成される。向上させたOER触媒は、また、同様に向上させた品質を有するOER電極として使用されてもよい。
いかなる特定の理論にも束縛されることを望むものではないが、触媒の高い電子伝導性およびHOの低い吸着エネルギーなどの特性は、合成される材料中に酸素欠陥を閉じ込めることによって観察される優れた触媒活性において、重要な役割を果たすと考えられる。
本発明の第1の態様によれば、触媒金属複合体コーティングを有する基材を含むOER触媒の触媒活性を向上させる方法であって、
(i)金属複合体コーティングを還元剤に曝すことで、金属複合体コーティング中の酸素空孔密度を増加させることを含む方法が提供される。
これは、以下で概説する実験の詳細によって記載され、裏付けられている。
金属複合体コーティングは、金属複合体の薄膜コーティングであってもよい。
金属複合体コーティングは、二元金属(バイメタリック)複合体を含んでもよい。この実施形態では、二元金属複合体は、典型的には、二元金属酸化物複合体、二元金属水酸化物複合体、またはこれらの混合物である。
典型的には、二元金属複合体は、ニッケル−鉄複合体、ニッケル−コバルト複合体、マンガン−鉄複合体、マンガン−コバルト複合体、またはマンガン−亜鉛複合体からなる群から選択される。好ましくは、二元金属複合体は、ニッケル−鉄酸化物、ニッケル−鉄水酸化物、またはこれらの混合物(例えば、ニッケル−鉄オキシ水酸化物)を含むニッケル−鉄複合体などのニッケル−鉄複合体である。
一実施形態では、ニッケル−鉄複合体は、Ni2xFe3y(OH)2x+3yの式を有し、式中、xは約0.1〜約2の数であり、yは約0.1〜約2の数である。例えば、xおよびyは、互いに独立して、0.1〜1.8、0.1〜1.5、0.1〜1.0、0.1〜0.5、0.2〜1.8、0.2〜1.5、0.2〜1.0、0.2〜0.5、0.3〜1.8、0.3〜1.5、0.3〜1.0、0.3〜0.5、0.5〜1.8、0.5〜1.5、0.5〜1.0、0.5〜0.8、1.0〜1.8、または1.0〜1.5の数であってもよい(0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1.0、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、1.6、1.7、1.8、1.9または2.0など)。
金属複合体は多孔質であってもよい。
一実施形態では、金属複合体は非晶質である。この実施形態では、非晶質の金属複合体コーティングは、ナノシート、ナノフレーク、またはこれらの組み合わせを含んでもよい。
さらなる実施形態では、金属複合体は結晶質である。
一実施形態では、還元剤は、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH)、ヒドラジン、または水素ガスからなる群から選択される。
一実施形態では、還元剤はNaBHである。この実施形態では、還元剤は、溶液として金属複合体コーティングに曝されることが好ましく(すなわち、還元剤は、適切な溶媒に溶解され、溶液中で金属複合体コーティングと接触する)、30秒〜100分間、例えば10分〜30分間、例えば15分〜25分間曝されてもよい。さらに、この実施形態では、溶液の温度は、10℃〜50℃、例えば15℃〜30℃であってもよい。当業者には、時間および/または温度が、様々なパラメータ(例えば、還元剤の濃度、溶媒の全容量、被覆された物体の大きさ、コーティングの表面積、コーティング内の金属負荷、コーティングの組成、コーティングの厚さ、および還元剤の活性など)に応じて変動してもよいことが理解されるであろうし、コーティングの触媒活性を向上させるために金属複合体コーティングを還元剤に曝すための適切な時間および/または温度および/または濃度などを決定することができるであろう。
一実施形態では、還元剤は、ガスとして金属複合体コーティングに曝され(すなわち、還元剤は、コーティングと接触するときにガス状である)、30秒〜100分間、例えば、10分〜30分間曝されてもよい。さらに、この実施形態では、ガスの温度は、200℃〜800℃、例えば300℃〜500℃であってもよい。いくつかの実施形態では、還元剤は、実質的に純粋なガスである。他の実施形態では、ガス状還元剤は、約1容量%〜約99容量%(例えば、10%〜99%、50%〜95%、75%〜95%)の量で他のガス(例えば、窒素、アルゴンまたは他の不活性ガス)と混合される。当業者には、時間および/または温度が、様々なパラメータ(例えば、ガス状還元剤の濃度(容量%)、反応容器の全容量、被覆された物体の大きさ、コーティングの表面積、コーティング内の金属負荷、コーティングの組成、コーティングの厚さ、および還元剤の活性など)に応じて変動してもよいことが理解されるであろうし、コーティングの触媒活性を向上させるために金属複合体コーティングを還元剤に曝すための適切な時間および/または温度および/または濃度などを決定することができるであろう。
典型的には、基材は導電性基材であり、好ましくは多孔質、例えばニッケル発泡体(NF)である。
本発明の第2の態様によれば、ニッケル−鉄複合体コーティングを有する基材を含むOER電極が提供され、ニッケル−鉄複合体は、先に還元剤に曝され、それによりニッケル−鉄複合体コーティング中の酸素空孔密度が増加している。
第2の態様による一実施形態では、還元剤は、典型的には、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH)、ヒドラジン、および水素ガスからなる群から選択される。一実施形態では、還元剤は、NaBHである。
第2の態様による一実施形態では、基材は導電性基材であり、好ましくは多孔質である。より好ましくは、多孔質導電性基材は、ニッケル発泡体である。
本発明の第3の態様によれば、触媒ニッケル−鉄(NiFe)複合体コーティングを有する基材を含むOER電極の触媒活性を向上させる方法であって、
(i)ニッケル−鉄複合体コーティングをNaBHに曝すことで、金属複合体コーティング中の酸素空孔密度を増加させることを含む方法が提供される。
本発明の好ましい実施形態を、添付の図面を参照して例示のみを目的として以下に記載する。
図1の(a)および(b)は、様々な倍率での、NaBH処理前のNiFe/NFのSEM画像を示す。 図2は、SEM(a、b)およびTEM(c、d)を使用した、NaBH処理後の合成された還元NiFe/NF(R−NiFe/NFと表示する)電極を示す。 図3は、初期状態の(NiFe/NF)電極および還元された(R−NiFe/NF)電極のXRDパターンを示す。 図4は、NaBH処理前および処理後のNiFe複合体のXPSスペクトルを示す。a)は、XPS調査、b)は、Ni 2pの高分解能XPSスペクトル、c)は、Ni 3pおよびFe 3pの高分解能XPSスペクトル、d)は、Fe 2pの高分解能XPSスペクトル、e)はNaBH処理前のNiFe複合体のO 1sの高分解能XPSスペクトルである。 図5は、NaBH処理前および処理後のNiFe複合体のXPSスペクトルを示す。a)は、Fe 2pの高分解能XPSスペクトル、b)は、NaBH処理前のNiFe複合体のO 1sの高分解能XPSスペクトルである。 図6のa)は、還元処理後のNiFe−OOHのO 1sの高分解能XPSスペクトルを示し、b)〜f)はNaBH処理前および処理後のNiFe−OOHのさらなる特性評価を示し、b)は、ラマンスペクトル、c)は、PLスペクトル、d)は、EPRスペクトル、e)は、UV−VIS分光法によるバンドギャップエネルギーの決定、f)は、EIS応答である。 図7は、Ni−Fe水酸化物膜の、高波数でのラマンスペクトルを示す。 図8は、初期状態のNiFe−OOH薄膜および還元されたNiFe−OOH薄膜のUV−VIS拡散反射スペクトルを示す。 図9のa)、b)は、1M KOHにおいて、走査速度5mV s−1、95%のiR補償での、NaBH処理前および処理後の酸素電極のOER分極曲線を示し、a)は、NiFe/NF電極、b)は、NiFe/GC電極であり、図9のc)は、1M KOHにおいて、R−NiFe/NF電極で得られる多段階電流プロセスを示す。電流密度は、100mA/cm−2で開始し、550mA/cm−2で終了し、図9のd)は、0.1M KOHおよび1M KOHにおける、還元されたNiFe/NF電極のクロノポテンショメトリーを示す。 図10は、0.1M KOHにおける、走査速度5mV s−1、95%のiR補償での、NiFe/NF電極のリニアスイープボルタモグラムを示す。 図11は、a)1M KOHおよびb)0.1M KOHにおける、NiFe/NF電極のターフェル勾配を示す。 図12は、1M KOHにおける、還元されたNiFe/NF電極のECSAを測定するための二重層容量の測定値を示す図であり、a)は、走査速度0.005、0.01、0.02、0.025、0.05、0.1、0.2、0.4および0.8 V/Sでのボルタモグラムの非ファラデー領域におけるサイクリックボルタンメトリーであり、b)は、−0.15V(対Ag/AgCl)で測定される陰極および陽極電流を、走査速度に対してプロットして示す図である。 図13は、Ar飽和1M KOHにおける1600rpmでのRRDE上の、初期状態の電極およびR−NiFe/GC電極の実験リングおよびディスク電流を示す。 図14は、1M KOHにおける、走査速度5mV s−1、95%のiR補償での、a)Ni/NFおよびb)Fe/NFのリニアスイープボルタモグラムを示す。 図15は、1M KOHにおける、走査速度5mV s−1での、a)初期状態のNiFe/NFおよびb)還元されたNiFe/NFのリニアスイープボルタモグラムを示す。 図16は、1M KOHにおいて、走査速度5mV s−1、95%のiR補償で、R−NiFe/NF電極を用いて得られたサイクリックボルタンメトリー曲線を示す。 図17は、OER条件で長時間使用した後のR−NiFe/NF電極のSEM画像を示す。 図18は、1M KOHにおける、走査速度5mV s−1、95%のiR補償でのOER分極曲線を示し、a)は、水熱法により合成された、NaBH処理前および処理後のNi−Fe層状二重水酸化物/CNT、b)は、水熱法により合成された、NaBH処理前および処理後のNiFe/NFである。
定義
本明細書で使用される場合、以下の用語は、以下の意味を有すると考えられる。
「金属複合体」は、金属と少なくとも1種の他の元素とを含む複合体材料であって、少なくとも1種の他の元素が金属であってもなくてもよい。
「金属酸化物複合体」は、少なくとも1種の金属酸化物を含む金属複合体材料である。
「金属水酸化物複合体」は、少なくとも1種の金属水酸化物を含む金属複合体材料である。
「オキシ水酸化物」は、酸化物と水酸化物との混合物(すなわち、少なくとも1種の金属酸化物と少なくとも1種の金属水酸化物とを含む材料)である。
「ナノシート」は、1次元において約100nm未満(例えば、約80、50、40、30、20、10、5nm未満)の実質的に一定の幅を有する実質的に平坦なタイプの3次元構造を有するシート状の構造体であり、他の各次元において数ナノメートルから数百ナノメートルに及ぶ。
「ナノフレーク」は、各次元において数ナノメートル(例えば、2、5、10、20nm)から数百ナノメートル(例えば、200、300、400、500、600、700nm)に及ぶ、鱗片状の3次元構造体である。
本発明者らは、OER触媒の触媒活性を向上させるために使用できる方法を見出した。本発明の方法によって調製される、向上させたOER触媒は、OERに対する効率が向上したOER電極として使用されてもよい。
第1の態様において、本発明は、OER触媒の触媒活性を向上させる方法を提供する。OER触媒は、触媒金属複合体コーティングを有する基材を含む。この方法は、金属複合体コーティングを還元剤に曝す工程を含む。このようにして、金属複合体コーティング中の酸素空孔密度は、還元剤に曝されていない金属複合体コーティングと比較して増加する。
触媒金属複合体は、OERにおいて触媒活性を有し、金属および少なくとも1種の他の元素を含む複合体材料であり、この少なくとも1種の他の元素は金属であってもなくてもよい。また、還元剤に曝した結果、複合体はより大きい酸素空孔密度を有することができる。酸素空孔密度とは、単位体積当たりの酸素空孔の数である。酸素空孔密度の増加は、還元剤に曝される前の材料における、ゼロまたは非ゼロの酸素空孔密度からのものであってもよい。言い換えれば、還元剤に曝される前の材料は、酸素空孔密度を有していなくてもよく、または何らかの酸素空孔密度を有していてもよい。以下により詳細に説明するように、酸素空孔は、材料から除去される酸素原子によって生成される。このようにして、酸素空孔は、金属酸化物複合体材料、金属水酸化物複合体材料、金属オキシ水酸化物複合体材料(すなわち、金属酸化物複合体材料と金属水酸化物複合体材料との混合物を含む材料)およびこれらの混合物などの金属複合体材料から生成または形成されてもよい。当業者には理解されるであろうが、金属複合体材料は、少なくとも還元剤に曝される前には、酸素原子を含むいかなる金属複合体材料であってもよい。酸素原子は、いかなる形態で(例えば、金属水酸化物または金属酸化物として)材料中に存在してもよい。また、当業者には理解されるであろうが、酸素原子は、酸素空孔の形成または導入の際に完全にまたは部分的に除去されてもよい(例えば、金属複合体材料を還元剤に曝すことにより、曝す前に金属複合体材料中に存在していた酸素原子のすべてが除去されてもよく、または金属複合体材料から酸素原子の一部のみが除去されていくつかの酸素原子がそのまま残ってもよい)。いくつかの実施形態では、金属複合体材料は、酸素空孔をすでに含有していてもよい。そのような実施形態では、金属複合体材料(酸素空孔および酸素原子を含有する)を還元剤に曝すことによって、酸素空孔の数が増加し、それによって材料の全体的な酸素空孔密度が増加する。他の実施形態では、金属複合体材料(酸素原子を含有し、酸素空孔を含有しない)を還元剤に曝すことによって、酸素空孔が形成され、それによって材料の酸素空孔の数および酸素空孔密度が増加する。
本発明の方法は、OER触媒の触媒活性を向上させる方法に関する。本明細書で使用される場合、「OER」は、酸素発生反応を意味する。酸素発生反応は、水性電解質中での、金属電解採取および水電解による水素生成などの陰極プロセスを伴う陽極反応である。前に述べたように、後者のプロセスでは、陽極の過電圧が、動作効率を制限する主な要因として認識される。
向上させたOER触媒は、特にアルカリ性電解質の条件下での使用に適している。ある種の酸性条件下では、印加電位下での、触媒金属複合体コーティングおよび基材のエッチングが起こり得る。
水の酸化は水分解の半反応のうちの1つである。アルカリ性電解質条件下で、例えば、ニッケル−鉄触媒を使用する場合、以下の反応が関連している。
4OH→2HO+4e+O 酸化(アルカリ性電解質中) (1)
4e+4HO→4OH+2H 還元 (2)
2HO→2H+O 全反応 (3)
2つの半反応のうち、酸化の工程は、4つの電子のカップリングと、プロトン移動と、酸素−酸素結合の形成とを必要とするので、典型的には最も条件が厳しい。水素は代替のクリーン燃焼燃料として使用することができるので、効率的に水を分解する必要がある。還元工程を効率的に媒介することができる既知の材料があり、したがって現在の研究の多くは、酸化半反応を対象としており、酸化半反応はまた、酸素発生反応(OER;すなわち、上記の式1)として知られている。OER触媒は、OERを触媒するもの、すなわち、式1のプロセスに対して触媒活性を示すものである。
本明細書で使用される用語「OER電極」は、OERに対して高い活性を示す電極を意味する。
OER触媒は、触媒金属複合体コーティングを有する基材からなる。
理論的には、触媒金属複合体コーティングを担持することができるいかなる基材を使用してもよい。本明細書で提供される実施例では、触媒金属複合体コーティングは、担持する基材に対してある程度の親和性を有し、それによって化学的な結合剤の使用を回避する。しかしながら、本発明の方法はまた、化学的な結合剤(一般に本質的にポリマーである)を使用して、触媒金属複合体コーティングを基材上に維持する触媒の触媒性能を向上させるために適用されてもよい。
触媒金属複合体は、コーティングの形態である。触媒金属複合体は、基材を「被覆する」。これは、基材の表面が触媒金属複合体の表面と接触していることを意味する。本明細書に記載されているように、複合体は、基材と直接接触していてもよく、または例えば結合剤によって間接的に基材と接触していてもよい。コーティングは、典型的には、基材の表面上の層であり、本発明の方法において実施することができるいかなる厚さの層であってもよい。コーティングは、完全なコーティングまたは部分的なコーティングであってもよい。言い換えれば、コーティングは、基材を完全に被覆していてもよく(すなわち、基材を完全に被覆するか、もしくは覆う)、または部分的に被覆していてもよい(すなわち、基材の一部を被覆するか、もしくは覆う)。典型的には、コーティングは、触媒を使用するときに、電解質/溶液に曝されるか、または曝されることになる基材の少なくとも一部分、好ましくはかなりの部分(または全部分)を覆う。
本発明者らは、最近、国際特許出願PCT/AU2015/000478において、3次元相互貫入多孔質基材の表面上に担持された非晶質多孔質金属複合体(基材の平均孔径は、金属複合体の平均孔径よりも十分に大きい)は、OER、HERに対して、また他の触媒用途において、効率的な触媒として使用することができるということを実証した。
本発明の方法は、基材として金属発泡体を有するOER触媒の触媒活性を向上させるのに適している。金属発泡体(例えばニッケル発泡体)は、体積の一部を占めるガス充填孔(空隙)を持つ固体金属からなる気泡構造を有する。孔は、密閉されていてもよく(独立気泡発泡体)、または相互接続されていてもよい(連続気泡発泡体)。好ましくは、ニッケル発泡体は連続気泡発泡体である。金属発泡体の明確な特徴は、高い気孔率である。典型的には、ベースの金属は体積のわずか5〜25%であり、したがって、これらの材料は高表面積で超軽量である。ニッケル発泡体を含む金属発泡体は、商業的供給業者から購入することができ、様々な特性(例えば、様々な気孔率、孔容積、厚さ、合金組成または密度)を有している。
本発明の方法は、国際特許出願PCT/AU2015/000478に記載されている基材、すなわち金属発泡体を有するOER触媒の触媒活性を向上させるのに特に適している。金属発泡体(例えば、PCT/AU2015/000478に記載されているニッケル発泡体など)を使用する利点は、そのような発泡体が、水溶液中で比較的不活性で著しく劣化しない導電性多孔質材料であり得ることである。さらに、様々な金属発泡体が、市販されており、比較的安価であり得る。金属発泡体のさらなる利点は、これらが丈夫であり、重量の検討が触媒アセンブリの最終的使用のための要素である場合、これらが優れた重量効率を提供することである。
本明細書に記載の基材の例としては、ニッケル発泡体(NF)およびカーボンナノチューブ(CNT)が挙げられる。
金属複合体コーティングは、OERに対してある程度の触媒活性を有しており、その効率は、本発明の方法を使用して向上する。本明細書で提供される実施例では、触媒金属複合体コーティングは、国際特許出願PCT/AU2015/000478に記載されている電着法か、またはCNT上に金属複合体を堆積または成長させる既知の方法か、または水熱成長技術のいずれかを使用して堆積させられる。しかしながら、本発明の方法はまた、アニーリング、化学蒸着またはゾル−ゲル堆積などの他の技術を使用して堆積させた触媒金属複合体コーティングのOERに対する触媒性能を向上させるために適用されてもよい。
この方法は、金属複合体コーティングを還元剤に曝す工程を含む。還元剤は、酸化還元化学反応において別の化学種に電子を供与する元素または化合物である。実施例に記載の還元剤は、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH)である。NaBHは、一般的で容易に入手できる還元剤である。しかしながら、他の還元剤(例えば、NaCNBH、NaBH(OAc)、LiAlH、LiBH、LiEtBH、水素化ジイソブチルアルミニウム、ボランおよびBH・THFなどのボラン付加物)もまた、本発明の方法において使用してもよい。金属複合体コーティングは、還元剤に曝される。すなわち、還元剤は、還元剤が金属複合体コーティングと接触することを可能にするような形で金属複合体コーティングに導入される(例えば、還元剤を含む溶液に金属複合体を沈めるか、または少なくとも部分的に浸漬するか、あるいは還元剤を含む溶液を金属複合体上に注ぐか、または噴霧する)。いくつかの実施形態では、金属複合体は、還元剤に曝されるときに基材上のコーティングの形態である。他の実施形態では、金属複合体は、還元剤に曝され、その後に基材上の金属コーティングに形成される。還元剤に接触すると(すなわち、曝されると)、その後、金属複合体コーティングは、還元剤によって還元される。
本発明の方法の本質的な特徴は、金属複合体コーティング中の酸素空孔密度が、還元剤に曝されると増加するということである。言い換えれば、還元剤による金属複合体コーティングの還元によって、金属複合体コーティング中の酸素空孔密度が増加する。
酸素空孔とは、酸素原子が格子から除去され、2つの電子を有する空孔が残った欠陥を意味する。酸素空孔(支配的欠陥としての)は、還元剤によって還元される材料(例えば、酸化物/水酸化物)においてのみ生じるということに注意すべきである。金属複合体コーティングの酸素空孔密度を増加させることは、金属複合体コーティング中の単位面積当たりの酸素空孔の数(または割合)を増加させることを意味する。いかなる特定の理論にも束縛されることを望むものではないが、本発明者らは、還元剤を使用して複合体コーティング中の金属カチオンを還元することによって、金属複合体コーティングの表面または内部に閉じ込められてもよい酸素空孔が導入されると考えている。酸素空孔密度の増加(金属複合体コーティングを還元することによって引き起こされる)は、金属複合体コーティングの電気伝導性および電荷輸送を向上させる。このようにして、OER触媒の触媒活性は向上し、好ましい実施形態では、著しく向上する。
金属複合体コーティングは、金属複合体の薄膜コーティングであってもよい。本明細書で使用される「薄膜」という用語は、約1ミクロン未満(例えば、<0.9μm、<0.75μm、<0.5μm、<0.25μm、<0.2μm、または<0.1μm)の平均厚さを有する膜(すなわち、平面/シート状の形態の材料)を意味すると捉えられる。
金属複合体コーティングは、例えば、二元金属酸化物複合体、二元金属水酸化物複合体、またはこれらの混合物(オキシ水酸化物)などの二元金属複合体を含んでもよい。
金属複合体は、基材上のコーティングとして提供され、これらの間には結合剤が存在するか、または存在しない。複合体は、二元金属複合体であってもよい。二元金属複合体は、ニッケル−鉄複合体、ニッケル−コバルト複合体、マンガン−鉄複合体、マンガン−コバルト複合体、またはマンガン−亜鉛複合体からなる群から選択されてもよい。本発明の方法は、様々な触媒金属酸化物系に使用されてよく、このような系では、金属イオンを適切な還元剤に曝すとより低い酸化状態に還元することができ、それにより酸素空孔を生成することができる。
驚くべきことに、本発明者らは、二元金属複合体コーティングを使用し、二元金属複合体コーティングを還元剤に曝す場合には、二元金属複合体コーティング中の酸素空孔密度が、全く同じ条件下で個々の金属コーティングをそれぞれ還元剤に曝す場合よりも著しく大きいということを見出した。理論に束縛されることを望むものではないが、本発明者らは、(二元金属複合体中の)各金属には触媒構造に対する相乗効果があり、これにより、還元処理後(すなわち、金属複合体を還元剤に曝した後)にOER触媒において特に良好な性能が提供されると考えている。
本発明者らの実験によれば、還元後のNi/NFおよびFe/NFはOER性能の向上を示すが、還元されたNiFe/NFは、還元された個々の金属水酸化物よりも効率的である。
一例では、二元金属複合体は、国際特許出願PCT/AU2015/000478に記載の方法に従って、NF基材上に電着させられるNiFeオキシ水酸化物複合体である。NiFeは、OERに対して触媒活性を示すことが知られている。NiFeオキシ水酸化物複合体は、典型的には、ナノシートからなる非晶質多孔質コーティングとして提供される。すなわち、一実施形態では、金属複合体は非晶質であり、これは、金属複合体が結晶材料の秩序構造などの秩序構造を有しない固体であるということを意味する。NiFe/NFは、国際特許出願PCT/AU2015/000478に記載された理由のために、OER触媒としての使用に有利な階層的な多孔質構造を有する。
提供される実施例では、還元剤は溶液(すなわち、還元剤および適切な溶媒を含む溶液)として提供される。しかしながら、還元剤はまた、ガスの形態で提供されてもよい。これは、例えば、還元剤が容易に溶解しない場合、または多孔質金属複合体コーティングおよび/もしくは基材の孔の大きさが特に小さい場合などの特定の用途に特に有利であり得る。このような場合であれば、還元剤をガスとして暴露することにより、金属複合体コーティングへの還元剤の拡散性をより高くすることが可能になると想定される。
当業者には理解されるであろうが、金属複合体コーティングは、酸素空孔密度の最適な増加をもたらすために最適な時間の間、還元剤に曝されることが好ましい。例えば、還元剤が触媒二元金属複合体にNaBHの溶液として提供される場合、最適な時間は、例えば、30秒〜100分、例えば10分〜30分、例えば15分〜25分であってもよい。同様に、同じ例を使用する場合、溶液の温度を最適化する必要があり得る。本明細書に記載の実施例では、溶液の最適な温度は、10℃〜50℃、例えば15℃〜30℃であってもよい。還元剤がガスとして提供される場合、最適な時間は、例えば、30秒〜100分、例えば10分〜30分であってもよい。同様に、同じ例を使用する場合、ガスの温度を最適化する必要があり得る。例えば、ガスの最適な温度は、200℃〜800℃、好ましくは300℃〜500℃であってもよい。また、ガスは、さらなる適切なガスを含むことによって「希釈」されていてもよい(例えば、ガス状の還元剤と、窒素またはアルゴンなどの適切な、好ましくは不活性なガスとの混合物)。当業者であれば、溶液またはガスの温度および複合体コーティングを還元剤に曝す時間の長さを効果的であるように選択し、また、金属複合体コーティング中の酸素空孔の密度を効果的に、かつ最適に増加させることができるであろう。還元剤溶液/混合物の濃度、撹拌、添加の速度、圧力などの他の要素もまた、最適化する必要があり得る。
基材は、導電性基材であってもよい。導電性基材は、例えば、NFなどの多孔質であってもよい。
本発明の方法は、国際特許出願PCT/AU2015/000478に記載されている二元金属OER触媒アセンブリなどの二元金属OER触媒アセンブリの触媒活性を向上させるのに特に適しており、したがってこの二元金属OER触媒アセンブリの有効性を向上させるのに特に適している。本発明の方法は、国際特許出願PCT/AU2015/000478に記載された、多孔質金属複合体が、NF基材上に電着されたNiFe複合体である、触媒アセンブリの触媒活性を向上させるのに特に適している。
別の態様では、本発明は、ニッケル−鉄複合体コーティングを有する基材を含むOER電極を提供し、ニッケル−鉄複合体は、先に還元剤に曝されて、それによりニッケル−鉄複合体コーティング中の酸素空孔密度が増加している。
さらに別の態様では、本発明は、触媒ニッケル−鉄複合体コーティングを有する基材を含むOER電極の触媒活性を向上させる方法を提供し、この方法は、
(i)ニッケル−鉄複合体コーティングをNaBHに曝すことで、金属複合体コーティング中の酸素空孔密度を増加させることを含む。
本発明の様々な実施形態を、以下の実施例を参照して記載する。
材料および方法
R−NiFe/NF電極の調製および特性評価
豊富な酸素欠陥を有する還元されたNiFe/NF(R−NiFe/NFと表示される)ナノシートを、二段階プロセスによって調製した。我々の先の国際特許出願PCT/AU2015/000478に最近記載した電着法により、ニッケル発泡体を覆う黄色の薄いNiFe水酸化物シートを、ニッケル発泡体(NF)上に最初に電着させた。PCT/AU2015/000478の内容は、参照により本明細書に組み込まれる。国際特許出願PCT/AU2015/000478に記載された方法を使用することにより、NiFe水酸化物は、NF基材上に垂直に堆積させられて、ナノシート様の構造体の間に空隙を有していた(図1参照)。続いて、NiFe/NF電極を1MのNaBH溶液に室温で20分間浸漬することによって、容易で経済的な化学処理を行い、次いで、脱イオン水で洗浄した。さらなる詳細を以下に示す。
NiFe/NF電極の合成および特性評価
ニッケル発泡体(純度95%および気孔率95%であり、Goodfellow、UKから購入した)を5MのHCl中で30分間超音波処理して酸化ニッケル層を除去し、次いで水およびエタノールで数回すすぎ、空気中で乾燥させた。Ni−Fe電着は、10℃での電着により行った。NiおよびFeの共蒸着を、両方の金属源を含有する1つの電解液で行った。Niの硝酸塩およびFeの硝酸塩を使用して電着電解液を作製した。Ni−Fe合金を得るために、3mMのNi(NOおよび3mMのFe(NOを添加物なしで水に溶解した。Ni/NFおよびFe/NFは、個々の金属源の6mM溶液から各金属の電着によって製造した。電位を印加することによって、式4に従って、硝酸イオンは水と反応して水酸化物イオンを生成する。次いで、生成された水酸化物イオンは、電解液中でNiイオンおよびFeイオンと反応し(式5)、電極の表面上に二元金属水酸化物が形成される。
NO +7HO+8e→NH +10OH (4)
xNi2++yFe3++(2x+3y)OH→Ni2xFe3yOH(2x+3y) (5)
Ni−Fe電着の後、電極を洗浄し、1MのNaBH溶液に室温で20分間浸漬する。次いで、電極を水ですすぐ。
NaBH還元機構は、式6:
BH +8OH→B(OH) +4HO+8e (6)
に従って、塩基性媒体および中性媒体中で自由電子を与えることによって説明することができる。
各電極触媒の電気化学的表面積(ECSA)は、式7:
ECSA=CDL/C (7)
に従って二重層容量(CDL)によって決定される。
式中、Cは材料の原子的に滑らかな平面のサンプルの単位面積当たりの比容量である。比容量は、酸性およびアルカリ性の溶液中で様々な金属電極について測定されており、報告されている典型的な値は、NaOHおよびKOH溶液中では、C=0.022〜0.130mF/cm−2の範囲である。この研究では、1M KOH中のC=0.04をECSAの推定に使用した。CDLは、電流対走査速度のプロットにおける線の傾きの絶対平均から計算される。電流(I)を測定するために、溶液中で開回路電位(OCP)を測定し、次いで異なる走査速度でOCP±0.05Vの窓電位におけるCVを記録した。図12aのアノード電流およびカソード電流を、図12bをプロットするために使用した。
電気化学的評価
電気化学的実験は、3電極セル構成を使用して、CH760 Electrochemical Workstation(CH Instrument、Texas、USA)を用いて通常のベンチトップ実験室条件下で行った。1M KCl溶液中のAg/AgCl電極およびPtワイヤを、参照電極および対極として用いた。CVおよびLSV測定は、5mV s−1の走査速度で行った。ターフェル勾配測定は、0.1mV s−1の走査速度で測定した。電気化学インピーダンス分光法(EIS)試験は、B.A.S.ポテンショスタットによって、100kHz〜0.01Hzの周波数範囲で行った。本明細書中のすべての電流密度は、作用電極の幾何学的表面積を使用することで計算した。
過電圧400mVでのターンオーバー周波数(TOF)を、EQCM測定によって、また式8:
TOF=J/4Fn (8)
に従って決定した。
式中、Jは、η=400mVでの電流密度(A/cm−2)であり、Fは、ファラデー定数(96485mol−1)であり、nは、EQCMによって得られたGC表面ディスク上に電着された触媒のモル数である。ファラデー効率を評価するために、リング回転ディスク電極(RRDE)からの分極曲線をプロットし、式9:
ε=I/I.N (9)
に基づいてファラデー効率(ε)を計算した。
式中、Nはリングの収集効率であり、IおよびIはそれぞれPtリングおよびガラス状炭素ディスク上で得られる電流である。ディスク表面上の発生した酸素を低減するために0.5V(対RHE)の電位をリングに印加した。
材料の特性評価
材料の特性評価では、形態観察のために、FEI Nova FESEM JEOL 7001FでSEMを使用した。XPSは、Thermo ESCALAB250i X線光電子分光計で行った。XRDは、PANalyticalX’Pert装置で行い、TEMは、Philips CM200顕微鏡を使用して行った。ラマンは、Renishaw in Via Raman Microscope(510nm)によって実施した。EPRは、ニッケルが強磁性特性を有し、基材として使用することができないので、NiFe/Cuサンプルに対してBruker EMX X−Band EPRSpectrometerで行った。
(i)CNT担持Ni−Fe水酸化物および(ii)水熱合成NiFe/NF電極の合成
カーボンナノチューブ(CNT)に担持されたNi−Fe層状二元水酸化物(NiFe−LDH)を、穏やかに酸化した多層CNTおよびDMFを超音波処理し、Ni(NOおよびFe(NOと85℃で4時間混合することによって合成した。次いで、より多くの水およびDMFを溶液に加え、得られた溶液を120℃で12時間オートクレーブ処理し、続いて160℃でさらに2時間オートクレーブ処理した。その後、生成物をフィルターで回収した。
水熱合成NiFe/NFもまた、オートクレーブを120℃で12時間使用し、次いで80℃で6時間の乾燥工程を使用して作製した。水熱合成のために、ニッケル発泡体を、Ni(NO、Fe(NOおよび尿素を含有する溶液とともにオートクレーブのテフロンチューブに挿入した。
結果と考察
PCT/AU2015/000478に従って調製されたR−NiFe/NF電極の色および外観は、化学還元後に目視確認によって検出可能な変化を示さなかったことが認められた。より多くの触媒活性のある部位を曝し、電気分解中の活性種の速い拡散と電荷輸送経路を促進することによって電極触媒性能を高めることができるサンプルの階層構造(図2a)も完全なままであり、このことは、サンプルの構造が強固であることを示している。さらに、図2bに示すように、メソ多孔性のNi−Fe複合膜を形成する波形のナノシートは、表面積がより大きく、したがってNaBH処理中に温存される。
NiFe/NFおよびR−NiFe/NF電極のX線回折(XRD)パターンは、金属ニッケル以外の他のピークを示さず、このことは、堆積させた材料およびNaBH還元後の材料の両方ともが非晶質であることを示している(図3)。このことは、高分解能透過電子顕微鏡法(HRTEM)によってさらに確認され、図2cおよび図2dではNi、FeまたはNiFeの複合体に対応する典型的な格子縞は検出されなかった。
酸素空孔(OV)は、光触媒および電極触媒の両方において水を酸化させるうえで重要な役割を果たすことが報告されている。X線光電子分光法(XPS)測定を行って、初期状態のサンプルおよび還元サンプル(図4a)におけるNiおよびFeの化学状態の洞察を得たところ、R−NiFe/NFナノシート中により多くの酸素空孔が存在していることが証明された。初期状態のNiFe/NFのNi 2p(図4b)およびNi 3p(図4c)スペクトルにおいて、Ni 2p1/2は855.8eVでNi(OH)に帰属し、68.2eVおよび71.3eVのピークはそれぞれNi2+3p1/2およびNi3+3p3/2に帰属し、このことは、Ni2+/Ni3+状態の共存がNiOOH相を示唆していることを示す。Fe 2pスペクトル(図5a)は、724.78eVおよび711.58eVに2つの主要なピークを示し、約719.0eVに明らかなFe 2p3/2に関連するサテライトピークを示し、このことは、初期状態のサンプル中の鉄原子がFeOOHの相中にFe3+カチオンとして存在することを示す。初期状態のサンプルと比較して、R−NiFe/NF試料中では、金属NiおよびFeにそれぞれ対応するNi 2p(853.3eV)およびFe 2p(707.6eV)スペクトルの新しいピーク、およびFe2+に帰属するFe 3pスペクトルの新しい広い肩部(図4c)が観察された。
さらに、NiおよびFeの両方についてNaBH処理後により低い結合エネルギーへの小さなシフトがあり(図4a〜cおよび図5a参照)、このことは、遷移金属の正電荷の減少を示唆している。これらの結果はすべて、NaBH処理によって、触媒の本体構造に影響を与えずにニッケルと鉄の両方が部分的に低酸化状態に還元され、したがって新しい酸素空孔を形成したことを示唆している。
還元前後のNiFe(オキシ)水酸化物の酸素状態をO1sコアレベルスペクトルで調べた。図6aに示すように、結合エネルギーが低い(530.1eV)、格子中の酸素−金属結合、中程度の結合エネルギー(531.7eV)の、材料中での低酸素配位での酸素欠損、ならびに結合エネルギーが高い(533.2eV)、表目上および表面内の吸着された酸素を含む3つのスピン−軌道ピークが存在する。形成されるOV密度は、格子酸素に対する酸素損失のピーク比の面積を得ることによって推定することができる。図6aおよび図5bから、R−NiFe/NF電極中のOV密度は7.0であり、これは初期状態の電極の3.2と比較してほぼ倍増している。さらに、欠陥密度の増加は、ラマン散乱スペクトルからも確認され、このスペクトルでは、還元後に弱まり広がったピークが観察された。初期状態の電極およびR−NiFe/NF電極のラマンスペクトルを図6bに示す。これは310cm−1および710cm−1でのFeOOH、550cm−1でのNiOOH、および約480cm−1での水酸化ニッケルの存在と一致している。また、約3640cm−1における肩部(図7)は、無秩序な水酸化ニッケルによるものであり、この肩部は、初期状態のサンプルよりも還元されたサンプルにおいて視認しやすい。
この結果は、図6cに示すフォトルミネッセンス(PL)分光法によりさらに検証することができた。これは、R−NiFe/NFサンプルが約410nmで強いPL発光ピークを示し、これは、2個の電子をトラップしたOVの再結合に相当するためである。さらに、電子常磁性共鳴(EPR)分光法(図6d)によって、還元されたR−NiFeオキシ水酸化物が構造中により多くの欠陥を有し、g=1.99におけるシグナルは構造欠陥が酸素空孔から生じることを示すことが再確認される。
NiFe−OOHの電気的性質に対する水素化ホウ素ナトリウム処理の効果を調べるために、UV−VIS分光法を使用した。図8に基づいて、初期状態のNiFeオキシ水酸化物は約380nmの反射カットオフ縁を示すが、還元されたNiFeオキシ水酸化物についての反射カットオフ縁は約360nmで生じる。初期状態のNiFe複合層および還元NiFe複合層のUVに対する全般的な挙動は、カットオフ縁が近く類似しているように見えるが、反射強度、ひいてはバンドギャップエネルギー(E)は、両者の間に多少の差異を示した。Tauc法で計算されたE値は、n=2について異なる値を与える、すなわちNiFe複合体は間接遷移する。得られたE値は初期状態のNiFe複合堆積物の場合は2.9eVであり、還元されたNiFe複合堆積物の場合は2.2eVである(図6e参照)。処理されたNi−Feオキシ水酸化物のバンドギャップエネルギーの減少は、狭い電子バンドが多いためにより高い導電率をもたらす。換言すれば、NaBHによる電極の還元処理により電気抵抗値が小さくなり、このことは、電気インピーダンス分光法(EIS)によっても確認される。図6fは、電荷移動プロセスを評価するための初期状態のOER電極および還元されたOER電極のナイキストプロットを示す。得られたデータの半円曲線は、電荷移動抵抗(Rct)が、還元処理後に79から36オームに減少したことを示し、このことは、還元された電極の電荷輸送がより速いことを示す。
初期状態の電極および還元された電極を直接OER作用電極として使用し、5mV s−1の走査速度で標準的な3つの電極の電気化学セル構成を用いてアルカリ性媒体中で試験した。還元されたNiFe/NF電極および初期状態のNiFe/NF電極の、1M KOHおよび0.1M KOHでのOER性能を、それぞれ図9aおよび図10に示す。1.3V(対RHE)後に見られる酸化ピークは、Ni(OH)とNiOOHとの間の変換に帰属する。より高い陽極電位まで走査すると、酸素発生は堅調に増加し、R−NiFe/NF電極への酸化電流の著しい増加を伴っていた。
両方の電極のOERの開始電位は類似しているが、Ni2+/Ni3+波の陽極シフトが還元後に観察され、このことが電子構造の変化を示していることは注目に値する。この変化の詳細は不明であるが、より高い印加電位でR−NiFe/NF電極のOER電流の急激な上昇が見られるので、電子構造変化が触媒活性に及ぼす影響は明らかである。比較すると、η=270mVの過電圧で、初期状態の電極および還元された電極の走査は、それぞれ1 M KOH中で100mA/cm−2および240mA/cm−2の電流密度を生じる。このことは、NaBH処理によって電極のOER電流密度が2倍を超えて増加することを示している。0.1M KOH溶液でも、同様の挙動が検出され、還元された電極および初期状態の電極について、それぞれη=290および300mVでOER電流密度50mA/cm−2が得られた。開始電位の著しい変化なしにこのようにOER電流が増加したことは、NiFe/NF電気伝導性が向上したことを示し、OVの高い濃度によって生じる狭いバンドギャップが得られた。
電極のターフェル勾配も評価した。図11に示すように、初期状態の電極および還元された電極のターフェル勾配は、それぞれ、1M KOH中で47および40mV dec−1、0.1M KOH中で60および51mV dec−1であり、これらの値はIrO、RuOの値よりも小さい。還元された電極についてのこのような小さなターフェル勾配は、さらに、水酸化の分極損失の少ない、より効率的な反応速度を実証するものである。さらに、R−NiFe/NFの電気化学的表面積(ECSA)を計算し、初期状態の電極と比較した。各電極のECSAは、1M KOH溶液中の二重層容量によって決定される(図12)。初期状態のOER電極および還元されたOER電極の両方について、粗さ係数50が決定される。このことは、還元された電極のECSAがNaBH処理後に変化しておらず、OER活性の増加が表面積の増加に起因していないことを示している。さらに、400mVの過電圧におけるNiFe触媒の遷移周波数(TOF)は、R−NiFeの場合、初期状態の触媒では0.075S−1から0.146S−1に増加した。ファラデー効率は比較的一定である(97.0%と97.7%)ことにも注目すべきであり、このことは、電流密度が他の副反応よりもむしろ触媒表面の酸素の発生によるものであることを示している(図13)。
Ni/NFおよびFe/NF電極に対するNaBH処理の影響もまた他の条件を変更せずに比較のために調べた。図14は、電極をNaBH溶液に浸漬することにより、Ni/NFおよびFe/NF電極の導電率、したがってそれらのOER性能が改善したことを示している。しかし、この増加はNiFe/NFにおける増加ほど大きくはない。この結果は、二元金属複合材料(例えば、NiFe/NF)の処理が、単金属材料(例えば、Ni/NFおよびFe/NF)よりも効率的であることを示す。いかなる特定の理論にも束縛されることを望まないが、本発明者らは、二元金属複合材料に相乗効果があり、(還元剤への暴露後に)優れたOER性能を達成することができる触媒構造を生じると考えている。
電極触媒でコーティングしたニッケル発泡体(NF)は、電解質に曝されることとなる活性部位を豊富に有するため、NaBH処理は基材ではなく活物質に対するものであることが確認され、Ni−Feをまずガラス状炭素(GC)に電着し、次いでNaBHで処理した。1M KOH溶液中の平坦なGC電極上に電着された初期状態のNiFeおよび還元されたNiFeについて調べた3つの生じたOER分極曲線を図15に示す。両電極の第2の分極曲線は、1回目の走査で発生した気泡によって大きな影響を受け、その結果、電流の著しい減少が生じることがわかる。しかし、NiFe/GC電極に付着した気泡を除去すると、NiFe/GC電極の触媒活性が回復する(3回目の走査)。図9bは、NiFe/GC電極に対するNaBH処理の同様の有効性を示す。
図9cは、1M KOH中のR−NiFe/NFの多段階クロノポテンショメトリック曲線を示す。この実験では、電流を100mA/cm−2から550mA/cm−2まで500秒当たり50mA/cm−2の増加割合で増加させ、それに対応する電位の変化を記録している。実験の開始時に、電位が徐々に1.5Vに到達する。次の工程で150mA/cm−2まで電流密度を増加させることによって、電位は1.55Vで大きくなり、残りの500秒間は一定のままである。試験中に同様の挙動が550mA/cm−2までのすべての電流密度で見られる。このような電流密度の変化による電位の線形応答は、還元されたNiFe/NF電極の優れた物質輸送特性(酸素気泡の外側への拡散および水酸化物イオンの内側への拡散)、導電率および機械的堅牢性を反映する。電極の電気化学的安定性を調べるために、NaBH処理した3D電極について、0.1Mおよび1MのKOH中での長期間のクロノポテンショメトリーおよびサイクリックボルタンメトリー(CV)を実施した。10時間後でさえ観察された電位変化は非常に小さく(図9d)、このことは図16の500サイクルのCVで触媒形態に変化がない(図17)ことから、電極の電位変化は、無視できるものである。このような観察は、NiFe−OOH構造中の酸素欠陥の良好な耐久性およびOER条件下での還元されたNiFe−OOHナノシートと基材との間の強力な結合を示す。
注目すべきことに、NaBH還元プロセスは、様々な材料および方法から製造された他のOER触媒についても有用であることが判明した。例えば、カーボンナノチューブ(CNT)支持体を有するNiFe−LDHおよび水熱法によって合成されたNiFe/NFに対する還元処理の効果を調べたところ、OER活性の有意な増加が観察された(図18)。
これらの実施例は、還元剤に金属複合体コーティングを曝すこと(例えば、NaBH処理)が、触媒表面上の種の還元によって金属水酸化物系触媒のOER電極触媒活性を増加させる迅速かつ簡単な方法であり得ることを実証する。処理は、金属水酸化物触媒構造中にいくつかの欠陥、特に酸素欠陥を生じさせ、それによってバンドギャップエネルギーを狭め、結果として材料の電気伝導性が高まる。
本発明者らは、R−NiFe/NFナノシートに酸素空孔(OV)を導入することによって、そのドナー密度、活性部位が向上し、HOの吸着に必要なエネルギーまでも減少し、したがってR−NiFe/NFナノシートのOER性能が高まるということを見出した。さらに、3D基材としてのニッケル発泡体上のNi−Fe膜の直接的な化学処理は、膜に大きな表面積、速い電荷輸送経路および改善された接触抵抗を提供するだけでなく、水の分解のための結合剤を含まない電極または高度な金属空気電池装置を作り出す。還元された電極を使用して、本発明に従って、陽極として、これまでに報告されたアルカリ性のすべてのNi−Fe系材料を凌駕する驚くほど高いOER活性(R−NiFe/NFに対する)が観察された。
何らかの先行技術文献が本明細書で参照される場合、そのような参照は、その文献が、オーストラリアまたは他の国において、当該技術分野における一般常識の一部をなすという認識を生じるものではないということを理解されたい。
以下の特許請求の範囲および本発明の前述の説明において、明示的な文言または暗示の必要性のために文脈上別途の意味が必要になる場合を除き、用語「含む(comprise)」またはその変形である「含む(comprises)」や「含む(comprising)」は、包括的な意味で用いられる。すなわち、本発明の様々な実施形態において、記載された構成の存在を示すが、他の構成の存在や追加を排除するものではない。

Claims (23)

  1. 触媒金属複合体コーティングを有する基材を含む電気化学的酸素発生反応(OER)触媒の触媒活性を向上させる方法であって、
    (i)約50℃未満の温度の溶液中で前記触媒金属複合体コーティングを還元剤に曝すことで、前記触媒金属複合体コーティング中の酸素空孔密度を増加させることを含む、方法。
  2. 前記触媒金属複合体コーティングが、二元金属複合体を含む、請求項1に記載の方法。
  3. 前記二元金属複合体が、二元金属酸化物複合体、二元金属水酸化物複合体、またはこれらの混合物である、請求項2に記載の方法。
  4. 前記二元金属複合体が、ニッケル−鉄複合体、ニッケル−コバルト複合体、マンガン−鉄複合体、マンガン−コバルト複合体、またはマンガン−亜鉛複合体からなる群から選択される、請求項2または3に記載の方法。
  5. 前記二元金属複合体が、ニッケル−鉄複合体である、請求項4に記載の方法。
  6. 前記ニッケル−鉄複合体が、ニッケル−鉄酸化物、ニッケル−鉄水酸化物、またはこれらの混合物を含む、請求項5に記載の方法。
  7. 前記ニッケル−鉄複合体が、Ni2xFe3y(OH)2x+3yの式を有し、式中、xが、約0.1〜約2の数であり、yが、約0.1〜約2の数である、請求項5に記載の方法。
  8. 前記触媒金属複合体コーティングが、多孔質である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記触媒金属複合体コーティングが、非晶質である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記非晶質の触媒金属複合体コーティングが、ナノシート、ナノフレーク、またはこれらの組み合わせを含む、請求項9に記載の方法。
  11. 前記触媒金属複合体コーティングが、結晶質である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
  12. 前記還元剤が、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH)、ヒドラジン、および水素ガスからなる群から選択される、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
  13. 前記還元剤が、NaBHである、請求項12に記載の方法。
  14. 前記基材が、導電性基材である、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
  15. 前記導電性基材が、多孔質である、請求項14に記載の方法。
  16. 前記多孔質導電性基材が、ニッケル発泡体である、請求項15に記載の方法。
  17. ニッケル−鉄複合体コーティングを有する基材を含む電気化学的OER電極であって、前記ニッケル−鉄複合体コーティングが、約50℃未満の温度の溶液中で還元剤に曝されることにより前記ニッケル−鉄複合体コーティング中の酸素空孔密度が増加している、OER電極。
  18. 前記還元剤が、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH)、ヒドラジン、および水素ガスからなる群から選択される、請求項17に記載のOER電極。
  19. 前記還元剤が、NaBHである、請求項18に記載のOER電極。
  20. 前記基材が、導電性基材である、請求項17〜19のいずれか一項に記載のOER電極。
  21. 前記導電性基材が、多孔質である、請求項20に記載のOER電極。
  22. 前記多孔質導電性基材が、ニッケル発泡体である、請求項21に記載のOER電極。
  23. 触媒ニッケル−鉄複合体コーティングを有する基材を含む電気化学的OER電極の触媒活性を向上させる方法であって、
    (i)前記ニッケル−鉄複合体コーティングを約50℃未満の温度の溶液中でNaBHに曝すことで、前記金属複合体コーティング中の酸素空孔密度を増加させることを含む、方法。
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