JP6728931B2 - 光源装置およびプロジェクター - Google Patents
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Description
この構成によれば、フレームの線膨張係数は、基材の線膨張係数と透光性部材の線膨張係数との中間の値を採る。そのため、フレームは、透光性部材内部の応力をより効果的に緩和することができる。
フレームがセラミック材料で構成されている場合、一般的に、フレームの線膨張係数は、基材の線膨張係数よりも透光性部材の線膨張係数と比較的近い値を採る。そのため、フレームが透光性部材に生じる応力を十分に緩和し、透光性部材の破損や脱落を十分に低減することができる。
この構成によれば、フレームによって基材と透光性部材との間に発光素子を収容する空間が形成され、透光性部材に生じる応力が透光性部材の最大許容応力を下回るような断面係数の値を実現することができる。詳細な数値の根拠については、後で説明する。
本発明の一つの態様のプロジェクターは本発明の一つの態様の光源装置を備えているため、信頼性が高いプロジェクターを実現することができる。
この構成によれば、プロジェクターの用途に応じて所望の波長の蛍光光を射出する波長変換素子を選択することができる。そのため、本発明の一つの態様のプロジェクターは、所望の色の画像を表示することができる。
なお、以下の説明で用いる図面においては各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
図1は、本実施形態の光源装置の斜視図である。図2は、光源装置を分解した状態として示す斜視図である。ただし、図2では、図1で示した後述する電極の図示を省略している。
図1および図2に示すように、光源装置1は、ベース2(基材)と、複数の発光素子5と、フレーム3と、透光性部材4と、複数の電極6と、を備えている。光源装置1において、フレーム3と透光性部材4とベース2とによって囲まれ、外部空間と遮断された収容空間S(図4参照)が、ベース2の第1面2a側に設けられる。複数の発光素子5は、密閉された収容空間Sの内部に収容されている。すなわち、本実施形態の光源装置1は、複数の発光素子5が一つの共通のパッケージに収容された形態を有する。
以下、単に「平面視」と記載した場合、ベース2の第1面2aの法線方向から見たときの平面視を意味する。
なお、本明細書において、フレーム3の断面形状3dは、フレーム3を平面視した際に、環状の平面形状の内郭の内辺と外郭の外辺とが互いに平行となる部分において、当該内辺と当該外辺に対して垂直に交差する方向に切断した断面形状を意味する。すなわち、フレーム3の断面形状3dは、A−A断面に沿ったフレーム3の断面形状である。
最初に、ロウ付け、低融点ガラス溶着等の手法を用いて、フレーム3をベース2の第1面2aに接合する。この工程での加熱温度は、例えば300℃である。なお、300℃の加熱温度は、各部材の接合において用いる後述する接合材の融点に基づく温度である。光源装置1全体を加熱する加熱環境における加熱環境温度は、300℃よりも大きく設定される。
次に、ボンディングワイヤーを用いて発光素子5と電極6とを電気的に接続する。具体的には、超音波接合、熱圧着接合等の手法を用いて、ボンディングワイヤーの一端を電極6に接合し、ボンディングワイヤーの他端を発光素子5の端子に接合する。
以上の工程により、光源装置1が完成する。
図5は、本発明者が行った第1実施例のシミュレーション結果を示すグラフである。図5は、フレーム3の断面係数Zと透光性部材4に発生する最大引張応力との相関関係を示す。図5において、横軸は断面係数Z[mm3]であり、縦軸は透光性部材4における最大引張応力[MPa]である。断面係数Zは、荷重を受けた際の部材の曲がりやすさを示す指標であり、例えば材料力学等の分野でよく用いられる。
ベース2の材料:銅
ベース2の平面寸法:x2=w2=40[mm]
ベース2の厚さ:t2=3[mm]
フレーム3の材料:アルミナ
フレーム3の平面寸法(外形):x3=w3=30[mm]
フレーム3の幅:b[mm]
フレーム3の高さ:h[mm]
透光性部材4の材料:BK7(ホウケイ酸ガラス)
透光性部材4の平面寸法:x4=w4=30[mm]
透光性部材4の厚さ:0.7[mm]
上述した光源装置1の製造方法において、フレーム3は、ベース2の第1面2aに接合された後、ベースが接合された第1面3aとは反対側の第2面3bに、透光性部材4が接合される際に、透光性部材4は、加熱状態でベース2およびフレーム3側に押圧されながら接合される。この押圧の際に、フレーム3の幅bが1.0mmよりも小さいと、フレーム3が押圧の圧力に耐えられず、フレーム3が破損してしまう虞がある。また、フレーム3自体の製造において、電極6を挿通するための貫通孔3cを形成する際に、フレーム3の幅bが小さすぎて同様にフレーム3が破損してしまう虞がある。したがって、フレーム3の幅bの下限値は、1.0mmであることが好ましい。
発光素子5としての半導体レーザーを、半導体レーザーの光射出端面がベース2の第1面2aと垂直になるように配置した場合、半導体レーザーから水平方向に射出された光を透光性部材4に向けて折り曲げるための光学部材、例えばプリズム(図示略)が必要になる。そのため、この配置では、半導体レーザーの第1面2aからの高さを低くできるが、収容空間Sにプリズムを収納するための高さを2mm以上確保する必要がある。また、半導体レーザーを、半導体レーザーの光射出端面がベースの第1面2aと平行になるように配置した場合、半導体レーザーからの光がベースの第1面2aに対して垂直な方向に射出されるため、上記のプリズム等の光学部材は不要である。ただし、この配置では、半導体レーザーの第1面2aからの高さが大きくなり、収容空間Sの高さが2mm以上必要となる。
以上の検討結果から、フレーム3の高さhは、2.0mm以上、3.5mm以下である(2.0≦h≦3.5)ことが好ましい。
図6は、本発明者が行った第2実施例のシミュレーション結果を示すグラフである。図6は、図5と同様に、フレーム3の断面係数Zと透光性部材4に発生する最大引張応力との相関関係を示す。図6において、横軸はフレーム3の断面係数[mm3]であり、縦軸は透光性部材4における最大引張応力[MPa]である。
以下に、本実施形態に係るプロジェクターの一例について説明するが、本実施形態はこれらに限定されない。
図7に示すように、プロジェクター1000は、照明装置100、色分離導光光学系200、光変調装置としての3つの液晶ライトバルブ400R、液晶ライトバルブ400G、液晶ライトバルブ400B、クロスダイクロイックプリズム500および投射光学系600を備える。
波長変換層92は、青色光Bを透過し、赤色光Rおよび緑色光Gを反射するダイクロイック膜94を介して円板96上に形成されている。ダイクロイック膜94は、例えば誘電体多層膜で構成される。
例えば上記実施形態では、断面形状3dが長方形(幅:b、高さh)のフレーム3を用いた例を示したが、フレームの断面形状は長方形以外の四角形であってもよい。例えばフレームの断面形状が、第1面から第2面に向けて先細りのテーパを有する場合、断面形状を、上底:a、下底:b、高さ:hの寸法を有する台形とみなし、Z=h2(a2+4ab+b2)/{12(a+2b)}で示される断面係数Zを用いてもよい。ただし、テーパの度合いが僅かであり、aの値とbの値とがほとんど変わらない場合、台形ではなく、幅がaもしくはbであり、高さがhの長方形で断面形状を近似してもよい。あるいは、幅がaの値とbの値との平均値であり、高さがhの長方形で断面形状を近似してもよい。
Claims (6)
- 金属材料で構成された基材と、
前記基材の第1面に設けられた複数の発光素子と、
前記基材の前記第1面に前記複数の発光素子を囲んで設けられたフレームと、
前記フレームの前記基材が設けられた面と反対側の面に設けられ、前記複数の発光素子から射出された光を透過させる透光性部材と、を備え、
前記フレームは、前記フレームの断面形状における断面係数が0.5mm3以上、7.0mm3以下となる寸法を有し、
前記断面形状における前記第1面に垂直な方向の長さは、2.0mm以上、3.0mm以下であり、
前記断面形状における前記第1面に平行な方向の長さは、1.0mm以上、3.0mm以下である、光源装置。 - 前記フレームの線膨張係数は、前記基材の線膨張係数よりも小さく、前記透光性部材の線膨張係数よりも大きい、請求項1に記載の光源装置。
- 前記フレームは、セラミック材料で構成されている、請求項1または請求項2に記載の光源装置。
- 前記断面形状における前記第1面に垂直な方向の長さをhとし、前記断面形状における前記第1面に平行な方向の長さをbとし、前記断面係数をZとしたとき、
前記断面係数は、下記の(1)式で表される、請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の光源装置。
Z=b×h 2 /6 …(1) - 請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の光源装置と、
前記光源装置から射出された光を変調する光変調装置と、
前記光変調装置により変調された光を投射する投射光学系と、を備えた、プロジェクター。 - 前記光源装置から射出された光によって励起され、蛍光光を射出する波長変換素子をさらに備えた、請求項5に記載のプロジェクター。
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