JP5518080B2 - ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 - Google Patents
ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5518080B2 JP5518080B2 JP2011530694A JP2011530694A JP5518080B2 JP 5518080 B2 JP5518080 B2 JP 5518080B2 JP 2011530694 A JP2011530694 A JP 2011530694A JP 2011530694 A JP2011530694 A JP 2011530694A JP 5518080 B2 JP5518080 B2 JP 5518080B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heater
- heating resistor
- heating
- longitudinal direction
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 175
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 63
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 39
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 21
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 7
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 23
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B1/00—Details of electric heating devices
- H05B1/02—Automatic switching arrangements specially adapted to apparatus ; Control of heating devices
- H05B1/0227—Applications
- H05B1/023—Industrial applications
- H05B1/0241—For photocopiers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
- G03G15/2039—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat with means for controlling the fixing temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
- G03G15/2053—Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/0095—Heating devices in the form of rollers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/02—Details
- H05B3/03—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/20—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater
- H05B3/22—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible
- H05B3/26—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible heating conductor mounted on insulating base
- H05B3/262—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible heating conductor mounted on insulating base the insulating base being an insulated metal plate
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G2215/00—Apparatus for electrophotographic processes
- G03G2215/20—Details of the fixing device or porcess
- G03G2215/2003—Structural features of the fixing device
- G03G2215/2016—Heating belt
- G03G2215/2035—Heating belt the fixing nip having a stationary belt support member opposing a pressure member
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/002—Heaters using a particular layout for the resistive material or resistive elements
- H05B2203/007—Heaters using a particular layout for the resistive material or resistive elements using multiple electrically connected resistive elements or resistive zones
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/019—Heaters using heating elements having a negative temperature coefficient
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/02—Heaters using heating elements having a positive temperature coefficient
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/20—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater
- H05B3/22—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible
- H05B3/26—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible heating conductor mounted on insulating base
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Fixing For Electrophotography (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
Description
本発明は、電子写真複写機、電子写真プリンタなどの画像形成装置に搭載される加熱定着装置に利用すれば好適なヒータ、及びこのヒータを搭載する像加熱装置に関する。
複写機やプリンタに搭載する定着装置として、エンドレスベルトと、エンドレスベルトの内面に接触するセラミックヒータと、エンドレスベルトを介してセラミックヒータと定着ニップ部を形成する加圧ローラと、を有する装置がある。この定着装置を搭載する画像形成装置で小サイズ紙を連続プリントすると、定着ニップ部長手方向において紙が通過しない領域の温度が徐々に上昇するという現象(非通紙部昇温)が発生する。非通紙部の温度が高くなり過ぎると、装置内の各パーツへダメージを与えたり、非通紙部昇温が生じている状態で大サイズ紙にプリントすると、小サイズ紙の非通紙部に相当する領域でトナーが高温オフセットすることもある。
この非通紙部昇温を抑制する手法の一つとして、セラミック基板上の発熱抵抗体を負の抵抗温度特性を有する材質で形成することが考えられている。非通紙部が昇温しても非通紙部の発熱抵抗体の抵抗値は下がるので、非通紙部の発熱抵抗体に電流が流れても非通紙部の発熱が抑えられるという発想である。負の抵抗温度特性は、温度が上がると抵抗が下がる特性であり、以後NTC(Negative Temperature Coefficient)と称する。逆に、発熱抵抗体を正の抵抗温度特性を有する材質で形成することも考えられている。非通紙部が昇温すると非通紙部の発熱抵抗体の抵抗値が昇温し、非通紙部の発熱抵抗体に流れる電流が抑制されることにより非通紙部の発熱を抑制するという発想である。正の抵抗温度特性は、温度が上がると抵抗が上がる特性であり、以後PTC(Positive Temperature Coefficient)と称する。
しかしながら、一般的にNTCの材質は体積抵抗が非常に高く、一本のヒータに形成する発熱抵抗体の総抵抗を、商用電源で使用できる範囲内に設定するのは非常に難しい。逆にPTCの材質は体積抵抗が非常に低く、NTCの場合と同様、一本のヒータの発熱抵抗体の総抵抗を、商用電源で使用できる範囲内に設定するのは非常に難しい。
そこで、セラミック基板上に形成する発熱抵抗体をヒータの長手方向で複数のブロックに分割し、各ブロックではヒータの短手方向(記録紙の搬送方向)に電流が流れるように二本の電極を基板の短手方向の両端に配置する。更に複数のブロックを電気的に直列に繋ぐ構成が特許文献1に開示されている。このような形状にすれば、発熱抵抗体の材質がNTCの場合、各ブロックの抵抗値が低くなり、ヒータの長手方向に電流を流す場合と比較してヒータ全体の総抵抗を低く抑えることができる。また、発熱抵抗体の材質がPTCの場合、複数のブロックに分割せずにヒータの短手方向に電流を流す場合と比較してヒータ全体の総抵抗を高くすることができる。
ただし、発熱抵抗体を複数の発熱ブロックに分割すると、隣り合う発熱ブロック間に隙間ができてしまい、発熱分布ムラができてしまう。そこで、特許文献1では、発熱ブロックの形状を平行四辺形にすることで、ヒータ長手方向で発熱しない領域が生じないようにしている。
しかしながら、特許文献1に開示されている発熱ブロックの形状では、発熱分布ムラを抑制する効果として不十分であることがその後の検討で判明した。図12はこのヒータの一部を示している。22aは細長い基板であり、この基板上に導電パターン29q(22q1、22q2・・・)と導電パターン29r(22r1、22r2・・・)を基板長手方向に沿って設けてある。導電パターン22qと22rは、共に基板長手方向の複数個所で分断されており、導電パターン22qと導電パターン22rの間には発熱抵抗体29b(29b1、29b2・・・)が接続されている。22e1は給電用コネクタを接続する電極である(他端側の電極の図示は省略してある)。
図12に示すように発熱ブロックの形状を平行四辺形にして、記録紙上の任意の点が必ず発熱抵抗体29bの存在する領域を通過するようにしても、ヒータ長手方向で発熱抵抗体がオーバーラップしている領域Bには電流があまり流れない。なぜなら、オーバーラップしている領域B以外の領域に図12に示すように最短電流経路が存在し、電流の多くはこの最短電流経路を流れてしまうからである。発熱量は電流の二乗に比例するので、流れる電流量が少ない領域の発熱量は低下してしまい、ヒータ長手方向における発熱分布ムラを抑制する効果は小さくなってしまう。このように発熱分布ムラが大きいと画像の加熱ムラが生じてしまう。また、一つの発熱ブロック内においても、電流が流れやすい領域と流れにくい領域が存在してしまうと、上述と同様に発熱分布ムラの課題が生じる。
上述の課題を解決するための本発明は、セラミック基板と、前記基板上に基板長手方向に沿って前記長手方向と平行に設けられている第1導電体と、前記基板上に前記第1導電体とは基板短手方向で異なる位置に前記長手方向に沿って前記長手方向と平行に設けられている第2導電体と、前記第1導電体と前記第2導電体間に電気的に並列に且つ前記長手方向及び前記長手方向と直交する方向に関して傾けて接続されている複数の発熱抵抗体と、を有するヒータにおいて、前記複数の発熱抵抗体の形状がいずれも長方形となるように前記第1導電体と前記第2導電体にはΔ形状領域が設けられ、各発熱抵抗体はその全面が電流経路となっており、各発熱抵抗体の電流経路が、隣り合う発熱抵抗体に対して前記長手方向においてオーバーラップしていることを特徴とする。
本発明によれば、ヒータ長手方向における発熱分布ムラを抑えることができる。
図1は像加熱装置としての定着装置6の断面図である。定着装置6は、筒状のフィルム(エンドレスベルト)23と、フィルム23の内面に接触するヒータ22と、フィルム23を介してヒータ22と共に定着ニップ部Nを形成する加圧ローラ(ニップ部形成部材)24と、を有する。フィルムのベース層の材質は、ポリイミド等の耐熱樹脂、またはステンレス等の金属である。加圧ローラ24は、鉄やアルミニウム等の材質の芯金24aと、シリコーンゴム等の材質の弾性層24b、PFA等の材質の離型層24cを有する。ヒータ22は耐熱樹脂製の保持部材21に保持されている。保持部材21はフィルム23の回転を案内するガイド機能も有している。加圧ローラ24はモータMから動力を受けて矢印b方向に回転する。加圧ローラ24が回転することによってフィルム23が従動して回転する。
ヒータ22は、セラミック製のヒータ基板22aと、基板22a上に形成された発熱抵抗体22bと、導電パターン(導電体)22c及び22dと、発熱抵抗体22b及び導電パターン22c及び22dを覆う絶縁性(本実施例ではガラス)の表面保護層22fを有する。ヒータ基板22aの裏面側にはサーミスタ等の温度検知素子22gが当接している。温度検知素子22gの検知温度に応じて商用交流電源から発熱抵抗体22bへ供給する電力が制御される。未定着トナー画像を担持する記録材は、定着ニップ部Nで挟持搬送されつつ加熱されて定着処理される。
(参考例1)
次に、本参考例1のヒータ22の形状及び特性について図2及び図3に基づき説明する。本参考例のヒータでは、基板22aとして幅12mm、長さ280mm、厚さ0.6mmの窒化アルミニウム基板を使用した。発熱抵抗体22b(22b1〜22b13)は、酸化ルテニウム(RuO2)、銀・パラジウム(Ag・Pd)を主たる導電成分とする、特性がNTCの発熱抵抗体である。また、ヒータ22は、基板22a上に基板長手方向に沿って設けられている第1導電パターン(第1導電体)22c(22c1〜22c6)と、基板22a上に第1導電パターン22cとは基板短手方向で異なる位置に基板長手方向に沿って設けられている第2導電パターン(第2導電体)22d(22d1〜22d6)を有する。発熱抵抗体22bは第1導電パターン22cと第2導電パターン22dの間に接続されている。22e1、22e2は電力を供給するためのコネクタが接続される電極である。Sは記録材の搬送方向を示している。
次に、本参考例1のヒータ22の形状及び特性について図2及び図3に基づき説明する。本参考例のヒータでは、基板22aとして幅12mm、長さ280mm、厚さ0.6mmの窒化アルミニウム基板を使用した。発熱抵抗体22b(22b1〜22b13)は、酸化ルテニウム(RuO2)、銀・パラジウム(Ag・Pd)を主たる導電成分とする、特性がNTCの発熱抵抗体である。また、ヒータ22は、基板22a上に基板長手方向に沿って設けられている第1導電パターン(第1導電体)22c(22c1〜22c6)と、基板22a上に第1導電パターン22cとは基板短手方向で異なる位置に基板長手方向に沿って設けられている第2導電パターン(第2導電体)22d(22d1〜22d6)を有する。発熱抵抗体22bは第1導電パターン22cと第2導電パターン22dの間に接続されている。22e1、22e2は電力を供給するためのコネクタが接続される電極である。Sは記録材の搬送方向を示している。
図3に示すように、第1導電パターン22cと第2導電パターン22dは、いずれも基板長手方向に複数本に分割されている。また、発熱抵抗体22bは第1導電パターン22cと第2導電パターン22dの間に並列に複数本接続されている。本参考例では第1導電パターン22cと第2導電パターン22dは、いずれも6本に分割されている。第1導電パターン22cの一部である第1導電パターン22c1と、第2導電パターン22dの一部である第2導電パターン22d1の間には13本の発熱抵抗体22b1〜22b13が電気的に並列に接続されており、第1の発熱ブロックH1を形成している。また、第2導電パターン22d1と第1導電パターン22c2の間にも13本の発熱抵抗体22b1〜22b13が電気的に並列に接続されており、第2の発熱ブロックH2を形成している。本参考例のヒータでは、同様にして発熱ブロックが合計11個(H1〜H11)形成されており、11個の発熱ブロック(H1〜H11)は電気的に直列に接続されている。このようにヒータ22は発熱ブロックを複数有する構成となっている。
次に、発熱抵抗体22bの形状について説明する。図3に示すように各発熱ブロック中の13本の発熱抵抗体22b1〜22b13の形状は、いずれも平行四辺形である。そして、図3(a)に示すように、各発熱抵抗体中の最短電流経路は記録材搬送方向Sに対して斜めに傾いており、且つ、各発熱抵抗体の最短電流経路は、隣り合う発熱抵抗体の最短電流経路に対して基板長手方向でオーバーラップしている。図3(a)のW1が発熱抵抗体22b2の最短電流経路の基板長手方向における領域を示しており、W2が発熱抵抗体22b2の隣の発熱抵抗体22b3の最短電流経路の基板長手方向における領域を示している。領域W1と領域W2が基板長手方向においてオーバーラップしていることが判る。発熱抵抗体22bの形状をこのように設計すると、記録材搬送方向Sに対して平行にヒータを見たときに、ヒータの長手方向に亘って最短電流経路が隙間無く存在する。よって、記録材が定着ニップ部Nを通過する時、記録材上の任意の点は、電流が流れて発熱する領域を必ず通過するので、記録材上のトナー像が部分的に加熱不足となる現象を抑えることができる。
次に、記録材搬送方向Sに対して平行にヒータを見たときに、ヒータの長手方向に亘って最短電流経路が隙間無く存在する場合の発熱抵抗体の形状に関して詳しく説明する。なお、ヒータ長手方向において最短電流経路が隙間無く存在する範囲は、像加熱装置或いは画像形成装置で使用可能な最大サイズとして設定されている定型の記録材の幅設けてあればよい。
図3(b)に示すヒータの部分的平面図において、平行四辺形の発熱抵抗体22bの長辺長さをg1、短辺長さをc1、一つの発熱ブロック中の隣り合う発熱抵抗体22bの間隔をe1、発熱抵抗体22bの傾斜角度をβ1とする。この場合、発熱抵抗体22bの形状及び隙間e1を(式1)で表される関係に設定すれば、各発熱抵抗体の最短電流経路が、隣り合う発熱抵抗体の最短電流経路に対して基板長手方向でオーバーラップする関係を形成できる。
g1×cos(β1)≧c1+e1 (式1)
また、隣り合う二つの発熱ブロックの境界を形成している2本の発熱抵抗体(例えば発熱ブロックH1の発熱抵抗体22b13と、発熱ブロックH2の発熱抵抗体22b1)の関係も(式2)を満たすように設定すればよい。
また、隣り合う二つの発熱ブロックの境界を形成している2本の発熱抵抗体(例えば発熱ブロックH1の発熱抵抗体22b13と、発熱ブロックH2の発熱抵抗体22b1)の関係も(式2)を満たすように設定すればよい。
g1×cos(β1)≧c1+d1 (式2)
本参考例のヒータは、e1=d1に設定してある。なお、本参考例のヒータにおける各部位の寸法は以下の通りである。ヒータ基板の短手方向の幅a1は12mm、発熱抵抗体22bの基板短手方向の幅b1は5mm、発熱抵抗体22bの長辺g1は6.28mm、短辺c1は1.4mmである。傾斜角度β1は約52.8°、隣り合う導電パターン22d間の距離d1(隣り合う導電パターン22c間の距離もd1である)は0.5mm、一つの発熱ブロック内の隣り合う発熱抵抗体間の距離e1は0.5mm、導電パターン22c及び22dの基板短手方向の幅f1は1.5mmである。なお、発熱抵抗体22bを設けた領域のヒータ長手方向の総幅は237mmである。これらの値を(式1)に当てはめると、g1×cos(β1)≒3.8、c1+e1=1.9となり、(式1)が成り立つ。また、c1+d1=1.9なので(式2)も成り立つ。
本参考例のヒータは、e1=d1に設定してある。なお、本参考例のヒータにおける各部位の寸法は以下の通りである。ヒータ基板の短手方向の幅a1は12mm、発熱抵抗体22bの基板短手方向の幅b1は5mm、発熱抵抗体22bの長辺g1は6.28mm、短辺c1は1.4mmである。傾斜角度β1は約52.8°、隣り合う導電パターン22d間の距離d1(隣り合う導電パターン22c間の距離もd1である)は0.5mm、一つの発熱ブロック内の隣り合う発熱抵抗体間の距離e1は0.5mm、導電パターン22c及び22dの基板短手方向の幅f1は1.5mmである。なお、発熱抵抗体22bを設けた領域のヒータ長手方向の総幅は237mmである。これらの値を(式1)に当てはめると、g1×cos(β1)≒3.8、c1+e1=1.9となり、(式1)が成り立つ。また、c1+d1=1.9なので(式2)も成り立つ。
本参考例では、発熱抵抗体22bの温度抵抗係数(TCR:Temperature Coefficient of Resistance)が−455ppm/℃、即ちNTCとなるペースト材料を用い、ヒータの総抵抗値が20Ωとなるように導電パターンや発熱抵抗体の形状を設定した。ここで述べるTCRは、一般的に高温側のTCR値として用いられる25℃〜125℃間の数値である。
以上のように、一つの発熱ブロック中の発熱抵抗体の形状を、基板長手方向において幅広くするのではなく基板短手方向に細長くして並列接続することによって、最短電流経路を短手方向Sに対して傾けることができる。この構成に加えて、各発熱抵抗体の最短電流経路が、隣り合う発熱抵抗体の最短電流経路に対して基板長手方向においてオーバーラップするように配置することで、基板長手方向におけるヒータの発熱分布ムラを小さく抑えることが出来る。
図4〜図6を用いて実施例1のヒータを説明する。図4に示すように実施例1のヒータ22は、発熱抵抗体25bの形状が参考例1で示した平行四辺形形状ではなく長方形であり、導電パターン25c及び25dの形状も参考例1と異なっている。発熱抵抗体25b、導電パターン25c及び25d以外の、基板22a、給電用電極22e1及び22e2は、それぞれ参考例1と同様の材料、形状にて形成した。なお、発熱抵抗体25bを設けた領域のヒータ長手方向の総幅は237mmである。また、総抵抗値が参考例1と同じ20Ωになるように材料や混合比を調整して発熱抵抗体25bを形成し、25℃〜125℃におけるTCRは−430ppm/℃であった。
実施例1のヒータも参考例1のヒータ同様、発熱抵抗体25bを11個の発熱ブロックに分けている。また、一つの発熱抵抗体の最短電流経路が記録材搬送方向に対して斜めに傾くようにするため、一つの発熱ブロック中で13個の発熱抵抗体に分割している点も参考例1と同じである。この13個の長方形に分割された発熱抵抗体25b(25b1〜25b13)は電気的に並列に接続されて一つの発熱ブロックを構成している。また、13個の発熱抵抗体25bの群、つまり発熱ブロックは11個あり、11個の発熱ブロック(H1〜H11)は電気的に直列に接続されている。
本実施例では、発熱抵抗体が長方形で形成されているため、個々の発熱抵抗体25bに存在する最短電流経路は単一線ではなく発熱抵抗体の全面になる。本実施例においても参考例1と同様に記録材搬送方向Sに対して最短電流経路が斜めに構成されている。図5(a)には最短電流経路の方向を示してある。参考例1のヒータよりも一つの発熱抵抗体中の最短電流経路が広いので個々の発熱抵抗体に対して2本の矢印を引いてある。また、図6に示すように、各発熱抵抗体の形状を長方形とするため、導電パターン25c及び25dはΔ(デルタ)形状領域を有している。導電パターンのΔ形状領域は、発熱抵抗体を長方形にするためであれば他の形状でもよく、形状をΔに特定するものではない。
本実施例のように、個々の発熱抵抗体25bに存在する最短電流経路を参考例1のような単一線でなく平面にすることで、参考例1の構成に比べて、フィルム23及び記録材への伝熱効率が向上するメリットがある。また、本実施例においても、各発熱抵抗体の最短電流経路が、隣り合う発熱抵抗体の最短電流経路に対して基板長手方向においてオーバーラップしているので、ヒータの発熱分布ムラを小さく抑えることができる。なお、図5(a)のW3が発熱抵抗体25b1の最短電流経路の基板長手方向における領域を示しており、W4が発熱抵抗体25b1の隣の発熱抵抗体25b2の最短電流経路の基板長手方向における領域を示している。領域W3と領域W4が基板長手方向においてオーバーラップしていることが判る。発熱抵抗体25bの形状をこのように設計すると、記録材搬送方向Sに対して平行にヒータを見たときに、ヒータの長手方向に亘って最短電流経路が隙間無く存在する。よって、記録材が定着ニップ部Nを通過する時、記録材上の任意の点は、電流が流れて発熱する領域を必ず通過するので、記録材上のトナー像が部分的に加熱不足となる現象を抑えることができる。
各発熱抵抗体の最短電流経路が、隣り合う発熱抵抗体の最短電流経路に対して基板長手方向においてオーバーラップ関係にするには、(式3)のように設定すればよい。
g2×cos(β2)−h2×cos(β2)/tan(β2)≧e2 (式3)
ここで、図5(b)に示すように、長方形の発熱抵抗体25bの長辺長さをg2、短辺長さをh2、隣り合う発熱抵抗体25b同士の間隔をe2、発熱抵抗体25bの傾斜角度β2とする。また、隣り合う二つの発熱ブロックの境界を形成している2本の発熱抵抗体(例えば発熱ブロックH1の発熱抵抗体25b13と、発熱ブロックH2の発熱抵抗体25b1)の関係も(式3)のe2をd2に置き換えた(式4)を満たすように設定すればよい。
ここで、図5(b)に示すように、長方形の発熱抵抗体25bの長辺長さをg2、短辺長さをh2、隣り合う発熱抵抗体25b同士の間隔をe2、発熱抵抗体25bの傾斜角度β2とする。また、隣り合う二つの発熱ブロックの境界を形成している2本の発熱抵抗体(例えば発熱ブロックH1の発熱抵抗体25b13と、発熱ブロックH2の発熱抵抗体25b1)の関係も(式3)のe2をd2に置き換えた(式4)を満たすように設定すればよい。
g2×cos(β2)−h2×cos(β2)/tan(β2)≧d2 (式4)
本実施例のヒータにおける各部位の寸法は以下の通りである。ヒータ基板の短手方向の幅a2は12mm、発熱抵抗体26bの長辺g2は7.0mm、短辺h2は1.0mm、傾斜角度β2は約52.8°、発熱抵抗体間の距離e2及びd2は0.5mmとした。この数値を当てはめると、g2×cos(β2)−h2×cos(β2)/tan(β2)≒3.8、e2=0.5となり(式2)が成り立つ。同様に(式4)も成り立つ。
本実施例のヒータにおける各部位の寸法は以下の通りである。ヒータ基板の短手方向の幅a2は12mm、発熱抵抗体26bの長辺g2は7.0mm、短辺h2は1.0mm、傾斜角度β2は約52.8°、発熱抵抗体間の距離e2及びd2は0.5mmとした。この数値を当てはめると、g2×cos(β2)−h2×cos(β2)/tan(β2)≒3.8、e2=0.5となり(式2)が成り立つ。同様に(式4)も成り立つ。
(参考例2)
図7及び図8を用いて参考例2のヒータを説明する。図7に示すように参考例2のヒータ22は発熱抵抗体26bを32個の発熱ブロック(H1〜H32)に分け、各発熱ブロック中では最短電流経路が記録材搬送方向に対して斜めになるように5本の発熱抵抗体(26b1〜26b5)に分割している。この5本の長方形に分割された発熱抵抗体26bは電気的に並列に接続されている。また、32個の発熱抵抗体26bの群、つまり発熱ブロックH1〜H32は電気的に直列に接続されている。図7に示すように、本参考例では、導電パターン26h1〜26h33が基板長手方向に対して平行ではなく傾いているが、基板長手方向に沿って設けられている。発熱ブロックH1においては、導電パターン26h1が第1の導電体に相当し、導電パターン26h2が第2の導電体に相当する。また、発熱ブロックH2においては、導電パターン26h2が第1の導電体に相当し、導電パターン26h3が第2の導電体に相当する。なお、発熱抵抗体26bを形成しているヒータ長手方向の総幅は224.2mmである。発熱抵抗体26bは総抵抗値が参考例1、2と同じ20Ωになるように、材料や混合比を調整して形成し、25℃〜125℃におけるTCRを−435ppm/℃とした。
図7及び図8を用いて参考例2のヒータを説明する。図7に示すように参考例2のヒータ22は発熱抵抗体26bを32個の発熱ブロック(H1〜H32)に分け、各発熱ブロック中では最短電流経路が記録材搬送方向に対して斜めになるように5本の発熱抵抗体(26b1〜26b5)に分割している。この5本の長方形に分割された発熱抵抗体26bは電気的に並列に接続されている。また、32個の発熱抵抗体26bの群、つまり発熱ブロックH1〜H32は電気的に直列に接続されている。図7に示すように、本参考例では、導電パターン26h1〜26h33が基板長手方向に対して平行ではなく傾いているが、基板長手方向に沿って設けられている。発熱ブロックH1においては、導電パターン26h1が第1の導電体に相当し、導電パターン26h2が第2の導電体に相当する。また、発熱ブロックH2においては、導電パターン26h2が第1の導電体に相当し、導電パターン26h3が第2の導電体に相当する。なお、発熱抵抗体26bを形成しているヒータ長手方向の総幅は224.2mmである。発熱抵抗体26bは総抵抗値が参考例1、2と同じ20Ωになるように、材料や混合比を調整して形成し、25℃〜125℃におけるTCRを−435ppm/℃とした。
本参考例においても発熱抵抗体が長方形で形成されているため個々の発熱抵抗体26bに存在する最短電流経路は単一線ではなく発熱抵抗体全面となる。各発熱ブロック中で複数本の発熱抵抗体を並列に接続しているので、本参考例においても参考例1と同様に記録材搬送方向Sに対して最短電流経路が斜めに構成されている(図8(a))。また、各発熱抵抗体の最短電流経路が、隣り合う発熱抵抗体の最短電流経路に対して基板長手方向においてオーバーラップするように発熱抵抗体が形成されており、ヒータ長手方向における発熱分布ムラが小さく抑えられるようになっている。図8(b)に示すように、本参考例のヒータにおける各部位の寸法は以下の通りである。ヒータ基板の短手方向の幅a3は12mm、発熱抵抗体26bの短辺g3は1.3mm、長辺h3は2.5mm、隣り合う発熱ブロック同士の間隔e3は2.6mm、隣り合う発熱抵抗体26b同士の間隔e31は0.5mm、傾斜角度β3は35°とした。
また、最短電流経路がオーバーラップしている点を視覚的に現したのが図8(a)である。W5は発熱抵抗体26b1の最短電流経路の基板長手方向における領域、同様にW6は発熱抵抗体26b1の隣の発熱抵抗体26b2の基板長手方向における領域を示している。図8(a)より明らかなように、隣り合う発熱抵抗体の最短電流経路が基板長手方向でオーバーラップしているので、記録材搬送方向Sに対して平行にヒータを見たときに、ヒータの長手方向に亘って最短電流経路が必ず存在する構成となっている。また、隣り合う二つの発熱ブロックの境界を形成している2本の発熱抵抗体(例えば発熱ブロックH1の発熱抵抗体26b5と、発熱ブロックH2の発熱抵抗体26b1)の関係も、互いの最短電流経路がオーバーラップする関係になっている。
(参考例3)
図9及び図10を用いて参考例3のヒータを説明する。図9に示すように参考例3のヒータ22は、発熱抵抗体27bの形状が実施例1で示した形状と同様に長方形であり、長辺の長さが実施例1の発熱抵抗体25bの半分である。また、給電用電極22e1から供給される電流が、ヒータ長手方向で電極22e1が設けられた端部とは反対側のヒータ端部まで達した後に、折り返して給電用電極22e2に達するよう構成されており、発熱抵抗体が複数列設けられている所謂往復発熱パターンとなっている。このため導電パターンが基板短手方向において4列(27i、27j、27m、27k)設けられている。参考例1のヒータは、二つの給電用電極がヒータ長手方向両端部に1つずつ配置されていた。これに対して本参考例の構成は、二つの給電用電極22e1及び22e2が両方ともヒータの長手方向において片側の端部にあるので、電極に接続するコネクタを1つにすることが出来るというメリットがある。
図9及び図10を用いて参考例3のヒータを説明する。図9に示すように参考例3のヒータ22は、発熱抵抗体27bの形状が実施例1で示した形状と同様に長方形であり、長辺の長さが実施例1の発熱抵抗体25bの半分である。また、給電用電極22e1から供給される電流が、ヒータ長手方向で電極22e1が設けられた端部とは反対側のヒータ端部まで達した後に、折り返して給電用電極22e2に達するよう構成されており、発熱抵抗体が複数列設けられている所謂往復発熱パターンとなっている。このため導電パターンが基板短手方向において4列(27i、27j、27m、27k)設けられている。参考例1のヒータは、二つの給電用電極がヒータ長手方向両端部に1つずつ配置されていた。これに対して本参考例の構成は、二つの給電用電極22e1及び22e2が両方ともヒータの長手方向において片側の端部にあるので、電極に接続するコネクタを1つにすることが出来るというメリットがある。
基板22aは参考例1と同様の材料、形状にて形成した。なお、複数に分割された発熱抵抗体27bが形成されている領域のヒータ長手方向の総幅は237mmである。また、総抵抗値が参考例1と同じ20Ωになるように、材料や混合比を調整して発熱抵抗体27bを形成し、25℃〜125℃におけるTCRを−230ppm/℃に設定した。
なお、発熱抵抗体27bをヒータ22の長手方向に22個の発熱ブロックに分け(11個の発熱ブロック×1往復)、最短電流経路が記録材搬送方向に対して斜めになるよう一つの発熱ブロック中で発熱抵抗体は7個に分割(27b1〜27b7)されている。この7個の長方形に分割された発熱抵抗体27bは電気的に並列に接続され、22個の発熱ブロックH1〜H22は電気的に直列に接続されている。本参考例においても、個々の発熱抵抗体が長方形で形成されているため、個々の発熱抵抗体27bに存在する最短電流経路は発熱抵抗体全面になる。
ところで、本参考例では、上述のように、発熱ブロックが基板の短手方向において異なる位置に複数列(本参考例では二列)設けられている。そして、短手方向における一方の列の発熱ブロック内の各発熱抵抗体の最短電流経路が、他方の列の発熱ブロック内の各発熱抵抗体の最短電流経路に対して、長手方向においてオーバーラップしている。具体的には、図10(a)に示すように、一つの発熱ブロック内の隣り合う二つの発熱抵抗体(例えば発熱ブロックH1内の発熱抵抗体27b1と発熱抵抗体27b2)の最短電流経路は基板長手方向でオーバーラップしていない。しかしながら、列が異なる発熱ブロック間で長手方向に隣り合う二つの発熱抵抗体(例えば発熱ブロックH1内の発熱抵抗体27b5(領域W7)と発熱ブロックH22内の発熱抵抗体27b5)の最短電流経路は、基板長手方向でオーバーラップしている。このような形状でも、ヒータの長手方向における発熱分布ムラを小さく抑えることができる。
なお、図10(b)に示すように、本参考例のヒータにおける各部位の寸法は以下の通りである。ヒータ基板22aの基板短手方向の幅a4は12mm、発熱抵抗体27bの長辺g4は3.5mm、短辺h4は1.0mm、傾斜角度β4は約52.8°、7個に分割された発熱抵抗体間の距離e41は2.3mmとした。発熱ブロック間の距離e4も2.3mmとした。
(参考例4)
図11を用いて参考例4のヒータを説明する。このヒータの形状は参考例1のヒータの変形例であり、図11に示すように、二本の導電パターン28n及び28pが基板長手方向において分割されていない。したがって発熱ブロックが1つしかない形態である。導電パターン28nと導電パターン28pの間に並列に接続される発熱抵抗体は143本(28b1〜28b143)である。隣り合う発熱抵抗体同士の最短電流経路が基板長手方向でオーバーラップしている点は参考例1と同様である。ただし、発熱抵抗体がNTCではなくPTCである。PTCの材質は体積抵抗が非常に低く、参考例1のように発熱ブロックを複数個に分割する構成が有効であるが、発熱抵抗体として体積抵抗が比較的高いPTCの材質を用いることができれば、本参考例の形状でも構わない。
図11を用いて参考例4のヒータを説明する。このヒータの形状は参考例1のヒータの変形例であり、図11に示すように、二本の導電パターン28n及び28pが基板長手方向において分割されていない。したがって発熱ブロックが1つしかない形態である。導電パターン28nと導電パターン28pの間に並列に接続される発熱抵抗体は143本(28b1〜28b143)である。隣り合う発熱抵抗体同士の最短電流経路が基板長手方向でオーバーラップしている点は参考例1と同様である。ただし、発熱抵抗体がNTCではなくPTCである。PTCの材質は体積抵抗が非常に低く、参考例1のように発熱ブロックを複数個に分割する構成が有効であるが、発熱抵抗体として体積抵抗が比較的高いPTCの材質を用いることができれば、本参考例の形状でも構わない。
なお、上述した例は、発熱抵抗体としてNTCのものを例に示した。しかしながら、PTCの発熱抵抗体の場合でも、その形状を上述の例のように、最短電流経路をオーバーラップさせる構成にすれば基板長手方向における発熱分布ムラを小さく抑えることが出来る。
本発明は、未定着トナー像を記録材に定着する定着装置だけでなく、記録材上に定着済みのトナー像を再度加熱することによって、画像の光沢度を向上させる光沢付与装置などの像加熱装置にも適用できる。
22 ヒータ
22a ヒータ基板
22b 発熱抵抗体
22c、22d 導電パターン
22e1、22e2 電極
23 フィルム
24 加圧ローラ
P 記録材
N 定着ニップ部
22a ヒータ基板
22b 発熱抵抗体
22c、22d 導電パターン
22e1、22e2 電極
23 フィルム
24 加圧ローラ
P 記録材
N 定着ニップ部
Claims (5)
- セラミック基板と、前記基板上に基板長手方向に沿って前記長手方向と平行に設けられている第1導電体と、前記基板上に前記第1導電体とは基板短手方向で異なる位置に前記長手方向に沿って前記長手方向と平行に設けられている第2導電体と、前記第1導電体と前記第2導電体間に電気的に並列に且つ前記長手方向及び前記長手方向と直交する方向に関して傾けて接続されている複数の発熱抵抗体と、を有するヒータにおいて、
前記複数の発熱抵抗体の形状がいずれも長方形となるように前記第1導電体と前記第2導電体にはΔ形状領域が設けられ、各発熱抵抗体はその全面が電流経路となっており、各発熱抵抗体の電流経路が、隣り合う発熱抵抗体に対して前記長手方向においてオーバーラップしていることを特徴とするヒータ。 - 前記ヒータは、並列接続された複数の前記発熱抵抗体を有する発熱ブロックを複数有し、各発熱ブロックは電気的に直列に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のヒータ。
- 前記発熱抵抗体は負の抵抗温度特性を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のヒータ。
- 前記発熱抵抗体は正の抵抗温度特性を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のヒータ。
- エンドレスベルトと、前記エンドレスベルトの内面に接触するヒータと、前記エンドレスベルトを介して前記ヒータと共にニップ部を形成するニップ部形成部材と、を有し、前記ニップ部で画像を担持する記録材を挟持搬送しつつ加熱する像加熱装置において、
前記ヒータが請求項1〜4いずれか一項に記載のヒータであることを特徴とする像加熱装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2009/065903 WO2011030440A1 (ja) | 2009-09-11 | 2009-09-11 | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014077317A Division JP5777764B2 (ja) | 2014-04-03 | 2014-04-03 | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011030440A1 JPWO2011030440A1 (ja) | 2013-02-04 |
JP5518080B2 true JP5518080B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=43729472
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011530694A Active JP5518080B2 (ja) | 2009-09-11 | 2009-09-11 | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US8552342B2 (ja) |
EP (1) | EP2477453B1 (ja) |
JP (1) | JP5518080B2 (ja) |
KR (1) | KR101382052B1 (ja) |
CN (1) | CN102484897B (ja) |
WO (1) | WO2011030440A1 (ja) |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009064759A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-03-26 | Rohm Co Ltd | ヒータ |
JP5253240B2 (ja) * | 2008-03-14 | 2013-07-31 | キヤノン株式会社 | 像加熱装置及びこの像加熱装置に用いられるヒータ |
KR101031226B1 (ko) * | 2009-08-21 | 2011-04-29 | 에이피시스템 주식회사 | 급속열처리 장치의 히터블록 |
KR101382052B1 (ko) * | 2009-09-11 | 2014-04-04 | 캐논 가부시끼가이샤 | 히터 및 이 히터를 탑재하는 상 가열 장치 |
JP5479075B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2014-04-23 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
JP2012252190A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Ist Corp | 定着装置 |
WO2013073276A1 (ja) * | 2011-11-15 | 2013-05-23 | 株式会社美鈴工業 | ヒータ並びにそれを備える定着装置及び乾燥装置 |
JP5875460B2 (ja) * | 2012-05-14 | 2016-03-02 | キヤノン株式会社 | 加熱体、及びその加熱体を備える画像加熱装置 |
JP6071366B2 (ja) * | 2012-09-19 | 2017-02-01 | キヤノン株式会社 | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 |
KR20140082483A (ko) * | 2012-12-24 | 2014-07-02 | 삼성전자주식회사 | 가열 유닛, 가열 유닛의 제조 방법, 정착 장치 및 이를 채용한 전자사진방식 화상형성장치 |
JP6161318B2 (ja) * | 2013-02-22 | 2017-07-12 | 積水化成品工業株式会社 | 長尺ptcヒーターおよびその使用方法 |
JP6121358B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-04-26 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | ヒーター及び画像形成装置 |
JP2016018181A (ja) * | 2014-07-11 | 2016-02-01 | 富士ゼロックス株式会社 | 加熱装置、定着装置及び画像形成装置 |
JP6387864B2 (ja) * | 2015-03-06 | 2018-09-12 | 東芝ライテック株式会社 | ヒータおよび画像形成装置 |
JP2017021118A (ja) * | 2015-07-08 | 2017-01-26 | 富士ゼロックス株式会社 | 加熱装置、定着装置、画像形成装置、加熱装置用の基材 |
JP2017044879A (ja) * | 2015-08-27 | 2017-03-02 | キヤノン株式会社 | 加熱体、定着装置および画像形成装置 |
JP6635731B2 (ja) | 2015-09-11 | 2020-01-29 | キヤノン株式会社 | 像加熱装置 |
US10444681B2 (en) | 2015-09-11 | 2019-10-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Image heating device and heater used for image heating device |
JP6779603B2 (ja) * | 2015-09-14 | 2020-11-04 | キヤノン株式会社 | ヒータ及びこのヒータを搭載した像加熱装置 |
JP6594131B2 (ja) * | 2015-09-14 | 2019-10-23 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
JP6779602B2 (ja) * | 2015-09-14 | 2020-11-04 | キヤノン株式会社 | ヒータ、像加熱装置 |
DE102015223493A1 (de) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | E.G.O. Elektro-Gerätebau GmbH | Heizeinrichtung |
DE102016209012A1 (de) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | E.G.O. Elektro-Gerätebau GmbH | Heizeinrichtung |
JP2017157322A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 東芝ライテック株式会社 | ヒータおよび定着装置 |
US20170347399A1 (en) * | 2016-05-24 | 2017-11-30 | E.G.O. Elektro-Geraetebau Gmbh | Heating device |
CN112198774B (zh) | 2016-06-20 | 2023-01-31 | 东芝泰格有限公司 | 加热器、加热装置及图像形成装置 |
CN109407490B (zh) * | 2017-08-18 | 2022-03-29 | 京瓷办公信息系统株式会社 | 加热器、定影装置和图像形成装置 |
WO2019112058A1 (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-13 | 株式会社美鈴工業 | ヒータ、定着装置、画像形成装置及び加熱装置 |
CN112638296B (zh) * | 2018-08-31 | 2024-10-18 | 奥林巴斯株式会社 | 医疗用加热器、处置器具以及处置器具的制造方法 |
JP6782374B2 (ja) * | 2020-01-09 | 2020-11-11 | 株式会社東芝 | 定着装置、画像形成装置および定着装置の定着温度制御プログラム |
US11971674B2 (en) * | 2021-03-10 | 2024-04-30 | Ricoh Company, Ltd. | Heating device, fixing device, and image forming apparatus |
JP7577578B2 (ja) * | 2021-03-16 | 2024-11-05 | キヤノン株式会社 | ヒータ及び像加熱装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57501308A (ja) * | 1980-08-28 | 1982-07-22 | ||
JPH06175525A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-06-24 | Olivetti Canon Ind Spa | 情報媒体に情報を定着させるための加熱装置 |
JPH11282302A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-15 | Brother Ind Ltd | 定着器 |
JP2005209493A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Canon Inc | 加熱装置および画像形成装置 |
JP2006120600A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-05-11 | Murakami Corp | ヒータミラーの製造方法及びヒータミラー |
JP2007025474A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Canon Inc | 加熱装置及び画像形成装置 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5821302A (ja) | 1981-07-29 | 1983-02-08 | 横河電機株式会社 | 薄膜抵抗分圧器 |
JP3298982B2 (ja) * | 1993-06-10 | 2002-07-08 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
JP3311111B2 (ja) | 1993-10-18 | 2002-08-05 | キヤノン株式会社 | 像加熱装置及び像加熱用回転体 |
DE69820813T2 (de) * | 1997-05-30 | 2004-11-04 | Kyocera Corp. | Heizrolle zum Fixieren von Toner |
JP3634679B2 (ja) * | 1999-07-30 | 2005-03-30 | キヤノン株式会社 | 加熱装置 |
JP2003287970A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Minolta Co Ltd | ベルト式定着装置 |
JP4636870B2 (ja) | 2003-12-26 | 2011-02-23 | キヤノン株式会社 | 像加熱装置 |
JP4208772B2 (ja) * | 2004-06-21 | 2009-01-14 | キヤノン株式会社 | 定着装置、及びその定着装置に用いられるヒータ |
JP2008166096A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Harison Toshiba Lighting Corp | 平板ヒータ、定着装置、画像処理装置 |
JP5010365B2 (ja) * | 2007-06-26 | 2012-08-29 | ハリソン東芝ライティング株式会社 | 板状ヒータ、加熱装置、画像形成装置 |
JP5253240B2 (ja) * | 2008-03-14 | 2013-07-31 | キヤノン株式会社 | 像加熱装置及びこの像加熱装置に用いられるヒータ |
JP4610629B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2011-01-12 | シャープ株式会社 | 定着装置、及びこれを備えた画像形成装置 |
JP2009259714A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Sharp Corp | 面状発熱体およびそれを備えた定着装置ならびに画像形成装置 |
JP5317550B2 (ja) * | 2008-06-23 | 2013-10-16 | キヤノン株式会社 | 定着装置 |
US7853165B2 (en) * | 2008-12-04 | 2010-12-14 | Xerox Corporation | Apparatus and method for a multi-tap series resistance heating element in a belt fuser |
KR101382052B1 (ko) * | 2009-09-11 | 2014-04-04 | 캐논 가부시끼가이샤 | 히터 및 이 히터를 탑재하는 상 가열 장치 |
CN104849987A (zh) * | 2009-09-11 | 2015-08-19 | 佳能株式会社 | 加热器、具有加热器的图像加热装置和其中的图像形成设备 |
JP5263131B2 (ja) * | 2009-11-30 | 2013-08-14 | ブラザー工業株式会社 | 定着装置 |
JP5495772B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2014-05-21 | キヤノン株式会社 | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 |
JP5791264B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2015-10-07 | キヤノン株式会社 | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 |
JP2012189722A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Ricoh Co Ltd | 定着装置、画像形成装置及び画像形成方法 |
JP5832149B2 (ja) * | 2011-06-02 | 2015-12-16 | キヤノン株式会社 | 画像加熱装置及びこの装置に用いられるヒータ |
-
2009
- 2009-09-11 KR KR1020127008613A patent/KR101382052B1/ko active IP Right Grant
- 2009-09-11 CN CN200980161277.XA patent/CN102484897B/zh active Active
- 2009-09-11 EP EP09849219.2A patent/EP2477453B1/en active Active
- 2009-09-11 JP JP2011530694A patent/JP5518080B2/ja active Active
- 2009-09-11 WO PCT/JP2009/065903 patent/WO2011030440A1/ja active Application Filing
-
2010
- 2010-09-07 US US12/876,551 patent/US8552342B2/en active Active
-
2013
- 2013-09-03 US US14/016,472 patent/US9095003B2/en active Active
-
2015
- 2015-06-19 US US14/745,200 patent/US9445457B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57501308A (ja) * | 1980-08-28 | 1982-07-22 | ||
JPH06175525A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-06-24 | Olivetti Canon Ind Spa | 情報媒体に情報を定着させるための加熱装置 |
JPH11282302A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-15 | Brother Ind Ltd | 定着器 |
JP2005209493A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Canon Inc | 加熱装置および画像形成装置 |
JP2006120600A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-05-11 | Murakami Corp | ヒータミラーの製造方法及びヒータミラー |
JP2007025474A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Canon Inc | 加熱装置及び画像形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101382052B1 (ko) | 2014-04-04 |
US20150289317A1 (en) | 2015-10-08 |
EP2477453A4 (en) | 2017-12-27 |
CN102484897B (zh) | 2014-04-02 |
US20110062140A1 (en) | 2011-03-17 |
US9095003B2 (en) | 2015-07-28 |
KR20120043147A (ko) | 2012-05-03 |
EP2477453A1 (en) | 2012-07-18 |
JPWO2011030440A1 (ja) | 2013-02-04 |
CN102484897A (zh) | 2012-05-30 |
US8552342B2 (en) | 2013-10-08 |
WO2011030440A1 (ja) | 2011-03-17 |
US9445457B2 (en) | 2016-09-13 |
US20140003848A1 (en) | 2014-01-02 |
EP2477453B1 (en) | 2020-07-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5518080B2 (ja) | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 | |
JP5777764B2 (ja) | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 | |
JP5762060B2 (ja) | ヒータ及びこのヒータを有する像加熱装置 | |
JP5495772B2 (ja) | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 | |
US8698046B2 (en) | Heater and image heating apparatus including same | |
JP5812632B2 (ja) | ヒータ及びこのヒータを有する像加熱装置 | |
JP5424786B2 (ja) | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 | |
JP6172360B1 (ja) | 加熱装置、定着装置および画像形成装置 | |
US10542588B2 (en) | Heater with elongated heating resistor layer | |
JP6129248B2 (ja) | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 | |
JP5479075B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JP2017017016A (ja) | ヒータ | |
JP6589434B2 (ja) | ヒータおよび画像形成装置 | |
JP6969256B2 (ja) | ヒータ及び画像形成装置 | |
JP6561609B2 (ja) | ヒータおよび画像形成装置 | |
JP5777758B2 (ja) | ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 | |
CN103826335A (zh) | 加热器和包括该加热器的图像加热装置 | |
JP2015230349A (ja) | ヒータ及びヒータを備える像加熱装置 | |
JP2022142622A (ja) | ヒータ及び像加熱装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130917 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140304 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140401 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5518080 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |