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JP5081578B2 - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

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Description

この発明は、樹脂封止型半導体装置に関し、特に、半導体チップが搭載される基板を備えた樹脂封止型半導体装置に関する。
近年、半導体装置の高消費電力化および高集積化に伴い、半導体装置の動作時の発熱量が大きくなってきている。このような動作時における半導体装置の発熱量の増大は、半導体素子の誤動作や寿命低下などの原因となるため、半導体装置においては、放熱特性の向上が強く求められている。
そのため、従来、発生した熱を効率よく放熱することが可能な樹脂封止型半導体装置が知られている(たとえば、特許文献1参照)。
上記特許文献1には、樹脂封止型半導体装置の一例であるBGA(Ball Grid Array)型半導体装置において、パッケージ(封止樹脂層)の上面に放熱用の凹凸形状が形成された半導体装置の構造が開示されている。この従来のBGA型半導体装置では、放熱用の凹凸形状をパッケージ(封止樹脂層)の上面に形成することによって、パッケージ(封止樹脂層)の表面積を大きくすることが可能となるので、その分、パッケージ(封止樹脂層)表面と空気との接触面積を大きくすることが可能となる。これにより、放熱用の凹凸形状が形成されていな場合に比べて、発生した熱を効率よく放熱することが可能となる。
特開平11−26658号公報
しかしながら、上記特許文献1に開示された従来のBGA型半導体装置では、パッケージ(封止樹脂層)表面に凹凸形状を形成することによって、一定の放熱特性向上の効果は得られるものの、発熱量がより大きな半導体チップが搭載された場合には、半導体チップで発生した熱を十分に放熱することが困難になるという不都合がある。これにより、半導体素子の誤操作や寿命低下などの発生を抑制することが困難となるので、半導体装置の信頼性が低下するという問題点がある。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の目的は、放熱特性をより向上させることにより、信頼性の低下を抑制することが可能な樹脂封止型半導体装置を提供することである。
上記目的を達成するために、この発明の一の局面による樹脂封止型半導体装置は、半導体チップが所定領域上に搭載された基板と、この基板の半導体チップが搭載された領域とは異なる領域に形成され、互いに所定の間隔を隔てて配列された複数の放熱部材と、半導体チップと放熱部材の少なくとも一部とを覆う封止樹脂層とを備えている。
この一の局面による樹脂封止型半導体装置では、上記のように、基板における半導体チップが搭載された領域とは異なる領域に、互いに所定の間隔を隔てて配列された複数の放熱部材を形成することによって、半導体チップで発生した熱を外部に放熱させ易くすることができる。このため、樹脂封止型半導体装置の放熱特性をより向上させることができるので、発熱量がより大きな半導体チップが搭載された場合でも、半導体チップで発生した熱を十分に放熱することができる。これにより、半導体装置の信頼性の低下を抑制することができる。
上記一の局面による樹脂封止型半導体装置において、好ましくは、複数の放熱部材の少なくとも一部は、封止樹脂層の上面から一部が露出するように形成されている。このように構成すれば、放熱部材の露出部分を介して、容易に、半導体チップで発生した熱を外部に放熱することができる。
上記一の局面による樹脂封止型半導体装置において、好ましくは、複数の放熱部材は、それぞれ、金属柱から構成されており、平面視において、半導体チップを囲むように配列されている。このように構成すれば、より容易に、半導体チップで発生した熱を外部に放熱することができる。
上記放熱部材の一部が封止樹脂層の上面から露出された構成において、好ましくは、樹脂封止層の上面上に搭載されるヒートシンクをさらに備え、このヒートシンクと放熱部材とは、互いに熱的に接続されている。このように構成すれば、ヒートシンクを介して、半導体チップで発生した熱を効果的に外部に放熱することができる。
上記放熱部材の一部が封止樹脂層の上面から露出された構成において、基板は、所定の配線パターンに形成された複数の配線層を含む配線基板であり、複数の放熱部材の各々は導電性材料から構成されているとともに、複数の放熱部材の少なくとも一部は、所定の配線層と電気的に接続されていてもよい。
上記一の局面による樹脂封止型半導体装置において、半導体チップが封止樹脂層で封止されることによって、樹脂封止型半導体装置をBGA型のパッケージ形態に構成することができる。
以上のように、本発明によれば、放熱特性をより向上させることにより、信頼性の低下を抑制することが可能な樹脂封止型半導体装置を容易に得ることができる。
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施形態では、樹脂封止型半導体装置の一例であるBGA型半導体装置に本発明を適用した場合について説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。図2は、本発明の第1実施形態によるBGA型半導体装置の平面図である。図3は、本発明の第1実施形態によるBGA型半導体装置の全体斜視図である。なお、図1は、図2の100−100線に沿った断面を示している。まず、図1〜図3を参照して、本発明の第1実施形態によるBGA型半導体装置の構造について説明する。
第1実施形態によるBGA型半導体装置は、図1に示すように、少なくとも、配線基板1と、この配線基板1上に搭載される半導体チップ10と、配線基板1の上面において半導体チップ10を覆う封止樹脂層20とを備えている。なお、配線基板1は、本発明の「基板」の一例である。
配線基板1は、基材層2の上面上および下面上に、それぞれ、複数の配線層3および4が形成された両面基板から構成されている。この配線基板1の基材層2は、たとえば、樹脂材料、有機高分子材料またはセラミクス材料などの絶縁性材料から構成されている。また、配線基板1の配線層3および4は、それぞれ、銅などの導電性材料から構成されている。さらに、基材層2の上面上に形成された複数の配線層3は、半導体チップ10が搭載される搭載部3aと接続電極層3bとを含んでおり、基材層2の下面上に形成された複数の配線層4は、接続電極層4aを含んでいる。なお、配線基板1の配線層3および4は、それぞれ、所定のパターン形状に形成されている。
また、配線基板1(基材層2)には、上面から下面まで厚み方向に貫通する複数のスルーホール5が形成されている。このスルーホール5には、たとえば、金属材料などからなるプラグ5aが埋め込まれている。そして、上記したスルーホール5(プラグ5a)を介して、配線基板1の上面側の接続電極層3bと配線基板1の下面側の接続電極層4aとが、互いに電気的に接続されている。なお、スルーホール5にプラグ5aを埋め込む代わりに、スルーホール5の側壁に導体層を形成してもよい。あるいは、スルーホール5の側壁に導体層を形成した後、スルーホール5の穴埋め処理を行ってもよい。
半導体チップ10は、たとえば、シリコン基板の一方主面(上面)に図示しない集積回路などが形成された構造を有している。この半導体チップ10は、一方主面(集積回路などが形成されている面)が上側(配線基板1と反対側)となるように配置された状態で、ハンダなどからなる接着層11を介して、配線基板1の搭載部3a上に固定されている。そして、半導体チップ10は、金細線などからなるボンディングワイヤ12を介して、配線基板1の上面側の接続電極層3bと電気的に接続されている。
また、図1および図3に示すように、配線基板1の下面上には、外部端子として機能する半田ボール6が複数設けられている。この半田ボール6は、図1に示すように、配線基板1の下面側の接続電極層4a上に形成されている。すなわち、半田ボール6は、スルーホール5などを介して半導体チップ10と電気的に接続されている。
封止樹脂層20は、たとえば、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂から構成されており、半導体チップ10やボンディングワイヤ12などを樹脂封止するように、配線基板1の上面上に形成されている。この封止樹脂層20は、半導体チップ10やボンディングワイヤ12などを樹脂封止することによって、ガスや水分などから半導体チップ10やボンディングワイヤ12などを保護する機能を有している。
ここで、第1実施形態では、配線基板1上の所定領域(半導体チップ10が搭載された領域とは異なる領域)に、銅からなる複数の金属バンプ30が形成されている。この複数の金属バンプ30は、図1および図2に示すように、半導体チップ10を囲むように、互いに所定の間隔を隔てて配列されている。なお、金属バンプ30は、本発明の「放熱部材」および「金属柱」の一例である。
また、第1実施形態では、図1〜図3に示すように、複数の金属バンプ30の各々は、上記した封止樹脂層20によって覆われている一方、その一部が封止樹脂層20の上面から露出している。このような構成は、たとえば、金属バンプ30を封止樹脂層20で封止した後、封止樹脂層20の上面を研磨等により所定量だけ除去することによって得られる。なお、この場合には、封止樹脂層20の上面と金属バンプ30の露出面とは同一面となる。
第1実施形態では、上記のように、配線基板1上の所定領域に、互いに所定の間隔を隔てて配列された複数の金属バンプ30を設けることによって、半導体チップ10で発生した熱を外部に放熱させ易くすることができる。このため、BGA型半導体装置の放熱特性をより向上させることができるので、半導体チップ10の発熱量が大きい場合でも、半導体チップ10で発生した熱を十分に放熱することができる。これにより、BGA型半導体装置の信頼性の低下を抑制することができる。
また、第1実施形態では、複数の金属バンプ30の各々を、封止樹脂層20の上面から一部が露出するように設けることによって、金属バンプ30の露出部分を介して、容易に、半導体チップ10で発生した熱を外部に放熱することができる。
図4は、第1実施形態の変形例によるBGA型半導体装置の平面図である。図1および図4を参照して、第1実施形態の変形例によるBGA型半導体装置では、基材層2(図1参照)の上面上に形成された複数の配線層3は、放熱用の導体層3cと、この放熱用の導体層3cと半導体チップ10が搭載される搭載部3aとを熱的に接続するための4つの接続部3dとをさらに含んでいる。
放熱用の導体層3cは、配線基板1の外周部近傍の領域に、平面視において半導体チップ10およびボンディングワイヤ12を囲むように枠状に形成されている。また、4つの接続部3dは、搭載部3aの4つの角部の各々に1つずつ配置されており、平面視において、放射状に広がるように形成されている。なお、放熱用の導体層3c、4つの接続部3dおよび搭載部3aは、一体的に連結されている。また、ボンディングワイヤ12を介して半導体チップ10と電気的に接続される接続電極層3b(図1参照)は、搭載部3a、導体層3cおよび接続部3dに囲まれた領域13にそれぞれ形成されている。また、放熱用の導体層3cの上面上には、上記した金属バンプ30が形成されている。
なお、第1実施形態の変形例のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
第1実施形態の変形例では、上記のように、放熱用の導体層3c上に複数の金属バンプ30を形成するとともに、この放熱用の導体層3cと半導体チップ10が搭載される搭載部3aとを接続部3dを介して熱的に接続することによって、半導体チップ10で発生した熱を容易に金属バンプ30に伝達させることができるので、容易に、複数の金属バンプ30を介して、半導体チップ10で発生した熱を外部に放熱することができる。
なお、第1実施形態の変形例のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。
(第2実施形態)
図5は、本発明の第2実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。次に、図5を参照して、この第2実施形態によるBGA型半導体装置では、上記した第1実施形態によるBGA型半導体装置において、さらに、ヒートシンク40を備えている。このヒートシンク40はアルミニウムなどの熱伝導性の優れた金属材料から構成されており、複数の放熱フィン41を有している。そして、ヒートシンク40は、複数の金属バンプ30の各々と熱的に接続された状態で、封止樹脂層20の上面上に固定されている。
なお、第2実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
第2実施形態では、上記のように、封止樹脂層20の上面上に、金属バンプ30と熱的に接続されたヒートシンク40を備えることによって、このヒートシンク40を介して、半導体チップ10で発生した熱を効果的に外部に放熱することができる。
なお、第2実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。
(第3実施形態)
図6は、本発明の第3実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。次に、図6を参照して、この第3実施形態によるBGA型半導体装置では、複数の金属バンプ30の少なくとも一部が、所定の接続電極層3bと電気的に接続するように形成されている。これにより、接続電極層3bと電気的に接続された金属バンプ30を電気配線として機能させることができる。
上記のように構成された第3実施形態によるBGA型半導体装置では、BGA型半導体装置上に他の半導体装置50を搭載することによってパッケージオンパッケージ(PoP)構造に構成した際に、上側の半導体装置50を下側のBGA型半導体装置に容易に電気的に接続することができる。そして、上側に配置された半導体装置50に放熱対策が施されている場合には、BGA型半導体装置からの熱を、半導体装置50から放熱することが可能となる。
なお、第3実施形態のその他の構成および効果は、上記第1実施形態と同様である。
(第4実施形態)
図7は、本発明の第4実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。続いて、図1および図7を参照して、この第4実施形態によるBGA型半導体装置では、上記第1〜第3実施形態と異なり、配線基板1には、金属バンプ30(図1参照)に代えて金属ピン130(図7参照)が設けられている。なお、金属ピン130は、本発明の「放熱部材」および「金属柱」の一例である。この金属ピン130は、熱伝導性の優れた銅から構成されており、半導体チップ10の厚み方向に伸びるように、配線基板1に固定されている。具体的には、配線基板1の所定領域に、上面から厚み方向に所定の深さを有する凹部2aが複数形成されており、この複数の凹部2aの各々に、上記した金属ピン130が挿入されている。
第4実施形態では、上記のように、配線基板1に複数の金属ピン130を設けることによって、上記した第1〜第3実施形態と同様、半導体チップ10で発生した熱を外部に放熱させ易くすることができる。
また、第4実施形態では、配線基板1に複数の金属ピン130を設けることによって、放熱特性向上の効果に加えて、半導体チップ10の反りを抑制する効果も得られる。
第4実施形態のその他の構成は、上記第1、第2または第3実施形態と同様である。また、第4実施形態の効果は、上記第1実施形態と同様である。
(第5実施形態)
図8は、本発明の第5実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。続いて、図8を参照して、本発明の第5実施形態によるBGA型半導体装置の構造について説明する。
この第5実施形態によるBGA型半導体装置では、上記第1〜第4実施形態と異なり、配線基板101が多層基板から構成されている。具体的には、配線基板101は、基材層102が複数積層された構造を有している。この基材層102の上面上および下面上には、それぞれ、配線層3または配線層4が形成されている。なお、基材層102は、たとえば、樹脂材料、有機高分子材料またはセラミクス材料などの絶縁性材料から構成されている。また、配線基板101(基材層102)の配線層3および4は、それぞれ、銅などの導電性材料から構成されている。さらに、配線基板101(基材層102)の配線層3は、配線基板101の上面に形成されるとともに半導体チップ10が搭載される搭載部3aと、同じく上面に形成された接続電極層3bと、内層側に形成された内層配線層3cとを含んでいる。一方、配線基板101(基材層102)の配線層4は、配線基板101の下面に形成された接続電極層4aを含んでいる。なお、配線基板101は、本発明の「基板」の一例である。
また、配線基板101(基材層102)の所定部分には、上層側の配線層と下層側の配線層とを電気的に接続するためのスルーホール(ヴィアホール)5が形成されている。このスルーホール(ヴィアホール)5には、たとえば、金属材料などからなるプラグ5aが埋め込まれている。なお、スルーホール(ヴィアホール)5にプラグ5aを埋め込む代わりに、スルーホール5の側壁に導体層を形成してもよい。あるいは、スルーホール(ヴィアホール)5の側壁に導体層を形成した後、スルーホール(ヴィアホール)5の穴埋め処理を行ってもよい。
また、第5実施形態では、上記第4実施形態と同様、配線基板101には、複数の金属ピン130が設けられている。この金属ピン130は、熱伝導性の優れた銅から構成されており、半導体チップ10の厚み方向に伸びるように、配線基板101に固定されている。具体的には、配線基板101の所定領域に、上面から厚み方向に所定の深さを有する凹部102aが複数形成されており、この複数の凹部102aの各々に、上記した金属ピン130が挿入されている。
ここで、第5実施形態では、複数の凹部102aの少なくとも一部が内層配線層3cに対応する領域に形成されている。また、これらの凹部102aは、内層配線層3cに達する深さに構成されている。これにより、内層配線層3cに対応する領域に形成された凹部102aに挿入された金属ピン130は、配線基板101の内層配線層3cと電気的に接続された状態となっている。すなわち、複数の凹部102aの各々に挿入された複数の金属ピン130の少なくとも一部は、配線基板101の内層配線層3cと電気的に接続された状態となっている。
上記のように構成された第5実施形態によるBGA型半導体装置では、複数の金属ピン130の少なくとも一部を、内層配線層3cと電気的に接続された状態にすることによって、内層配線層3cと電気的に接続された金属ピン130を電気配線として機能させることができる。
第5実施形態のその他の構成は、上記第4実施形態と同様である。また、第5実施形態のその他の効果は、上記第1〜第4実施形態と同様である。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
たとえば、上記第1〜第5実施形態では、樹脂封止型半導体装置の一例であるBGA型半導体装置に本発明を適用した例を示したが、本発明はこれに限らず、BGA型半導体装置以外の樹脂封止型半導体装置に本発明を適用してもよい。
また、上記第1〜第5実施形態では、放熱部材(金属バンプ、金属ピン)の一部が封止樹脂層の上面から露出するように構成した例を示したが、本発明はこれに限らず、放熱部材(金属バンプ、金属ピン)の一部が封止樹脂層から露出しない構成にしてもよい。また、封止樹脂層の上面から露出するように構成される放熱部材は、複数の放熱部材のうちの一部であってもよい。
また、上記第1〜第5実施形態では、平面視において、半導体チップを囲むように複数の放熱部材(金属バンプ、金属ピン)を配置(配列)した例について示したが、本発明はこれに限らず、複数の放熱部材(金属バンプ、金属ピン)は、上記(第1〜第5実施形態)とは異なる配置(配列)となるように構成してもよい。
なお、上記第1〜第5実施形態では、放熱部材の一例として金属バンプまたは金属ピンを用いた例を示したが、本発明はこれに限らず、金属バンプまたは金属ピン以外の放熱部材を用いてもよい。また、金属柱以外の形状を有する放熱部材を用いても良い。
また、上記第1〜第4実施形態では、両面基板からなる配線基板を用いてBGA型半導体装置(樹脂封止型半導体装置)を構成した例を示したが、本発明はこれに限らず、両面基板以外の例えば多層基板からなる配線基板を用いてBGA型半導体装置(樹脂封止型半導体装置)を構成してもよい。
また、上記第1〜第3実施形態では、金属バンプを銅(Cu)から構成した例を示したが、本発明はこれに限らず、金属バンプを銅(Cu)以外の金属材料から構成してもよい。たとえば、金属バンプをアルミニウム(Al)から構成してもよい。
また、上記第1実施形態の変形例では、放熱用の導体層を枠状に形成するとともに、搭載部から放射状に広がるように形成された4つの接続部を介して、放熱用の導体層と搭載部とを熱的に接続した構成例について説明したが、本発明はこれに限らず、放熱用の導体層および接続部の構成は、上記した構成(上記第1実施形態の変形例で示した構成)以外の構成であってもよい。
また、上記第4および第5実施形態では、金属ピンを銅(Cu)から構成した例を示したが、本発明はこれに限らず、金属ピンを銅(Cu)以外の金属材料から構成してもよい。たとえば、金属ピンをアルミニウム(Al)から構成してもよい。
本発明の第1実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。 本発明の第1実施形態によるBGA型半導体装置の平面図である。 本発明の第1実施形態によるBGA型半導体装置の全体斜視図である。 第1実施形態の変形例によるBGA型半導体装置の平面図である。 本発明の第2実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。 本発明の第3実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。 本発明の第4実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。 本発明の第5実施形態によるBGA型半導体装置の断面図である。
符号の説明
1、101 配線基板(基板)
2、102 基材層
3 配線層
3a 搭載部
3b 接続電極層
3c 放熱用の導体層
3d 接続部
4 配線層
4a 接続電極層
5 スルーホール
5a プラグ
6 半田ボール
10 半導体チップ
11 接着層
12 ボンディングワイヤ
20 封止樹脂層
30 金属バンプ(放熱部材、金属柱)
40 ヒートシンク
41 フィン
130 金属ピン(放熱部材、金属柱)

Claims (7)

  1. 半導体チップが搭載され、配線層を有する基板と、
    前記基板に形成された外部接続電極と、
    前記基板の前記半導体チップが搭載された領域とは異なる領域において、前記外部接続電極が形成された面とは反対の面に形成され、導電性材料からなる複数の放熱部材と、
    前記放熱部材の少なくとも一部が露出する露出部を備えるように前記半導体チップを覆う封止樹脂層と、
    を含み、
    前記基板はその基板上に、前記放熱部材が接続された導体層と、前記半導体チップが搭載される搭載部と、前記導体層と前記搭載部とを接続する放射状に広がるように形成された接続部とを含む配線層を有し、
    前記放熱部材の少なくとも一部は、所定の前記配線層と電気的に接続されており、前記複数の放熱部材はそれぞれが金属柱から形成されており、平面視において前記半導体チップを囲むように配列されていることを特徴とする、樹脂封止型半導体装置。
  2. 前記封止樹脂層は、前記放熱部材が同一平面で露出するように前記半導体チップを覆うことを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置。
  3. 前記封止樹脂層は、前記放熱部材が同一平面で露出するように前記半導体チップと前記放熱部材とを覆うことを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置。
  4. 前記樹脂封止層の上面上に搭載されるヒートシンクをさらに備え、
    前記ヒートシンクと前記放熱部材とは、互いに熱的に接続されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂封止型半導体装置。
  5. 前記半導体チップが前記封止樹脂層で封止されることによって、BGA型のパッケージ形態に構成されていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂封止型半導体装置。
  6. 前記基板は、樹脂材料、有機高分子材料およびセラミクス材料の少なくとも1つを含む構成材料から構成されていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂封止半導体装置。
  7. 前記接続部が、前記搭載部における4つの角部の各々に1つずつ形成されていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂封止半導体装置。
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