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JP4541237B2 - 半導体ウエハ処理テープ巻装体およびそれを用いた半導体ウエハ処理テープ貼着装置ならびに半導体ウエハ加工処理装置 - Google Patents

半導体ウエハ処理テープ巻装体およびそれを用いた半導体ウエハ処理テープ貼着装置ならびに半導体ウエハ加工処理装置 Download PDF

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Description

本発明は、半導体ウエハ処理テープ巻装体およびそれを用いた半導体ウエハ処理テープ貼着装置ならびに半導体ウエハ加工処理装置に関する。
従来より、半導体ウエハを加工処理して、半導体を製造する方法としては、図19に示した工程によって行っている。
すなわち、図19の(A)に示したように、先ず、半導体ウエハ収納カセット201に収容された、表面に回路が形成された半導体ウエハ200を取り出して、その表面に、図示しない保護テープ貼着装置を介して、保護テープ202を貼着し、半導体ウエハ200の形状に沿って保護テープ202を切断する。
そして、保護テープ202が貼着された半導体ウエハ200を、半導体ウエハ収納カセット206に収容している(保護テープ貼着工程)。
次に、図19の(B)に示したように、半導体ウエハ収納カセット206から半導体ウエハ200を取り出して、保護テープ202が貼着された半導体ウエハ200に対して、保護テープ202側を、図示しない吸着テーブルに吸着保持して、回路が形成されていない裏面を、裏面研削装置(グラインダー)208によって、所定の厚さまで研削している。
そして、所定の厚さまで裏面を研削した保護テープ202が貼着された半導体ウエハ200を、半導体ウエハ収納カセット210に収容している(裏面研削工程)。
その後、図19の(C)に示したように、半導体ウエハ収納カセット210から半導体ウエハ200を取り出して、保護テープ202側を、吸着テーブル212に吸着保持して、この半導体ウエハ200の外周に、リングフレーム214を載置する。
この状態で、上面からマウントテープ216を貼着して、リングフレーム214の外形状にマウントテープ216を切断することによって(または、リングフレーム214の形状に予めプリカットされたマウントテープ216を貼着することによって)、マウントテープ216を介して、半導体ウエハ200とリングフレーム214を一体化している。
そして、この半導体ウエハ200をリングフレームごと反転して、図示しない剥離テープを用いて、図19の(C)に示したように、半導体ウエハ200の回路面側の保護テープ202を剥離する。
そして、保護テープ202が剥離され、マウントテープ216を介して、リングフレーム214と一体化された半導体ウエハ200を、半導体ウエハ収納カセット218に収容している(ウエハマウント工程)。
次に、図19の(D)に示したように、半導体ウエハ収納カセット218から半導体ウエハ200をリングフレーム214ごと取り出して、ダイシング装置220によって、賽の目状に切断している。
そして、ダイシング装置220によって、賽の目状に切断された半導体ウエハ200を、リングフレーム214ごと、半導体ウエハ収納カセット222に収容している(ダイシング工程)。
その後、図19の(E)に示したように、半導体ウエハ収納カセット222から半導体ウエハ200をリングフレーム214ごと取り出して、ボンディング装置224によって、賽の目状に切断された半導体ウエハ(チップ)200aをピックアップして、電子部品226の電子部品実装部に装着している(ダイボンディング工程)。
ところで、このような半導体製造方法において、工程管理、品質管理を行う方法として、従来より、バーコード法が採用されている。
すなわち、バーコード法では、ウエハの表面に刻印されているシリアルナンバーに対応したバーコードラベルを、半導体ウエハ収納カセットやリングフレームなどに貼着している。
そして、そのウエハに関する種々の情報を、このシリアルナンバーに対応させて、ホストコンピュータに登録している。
そして、半導体ウエハ製造方法のそれぞれの工程において、工程の管理に必要な情報を、シリアルナンバーに基づいて、ホストコンピュータから引き出し必要な処理を行うようになっている。
しかしながら、このようなバーコード法では、情報を管理するホストコンピュータでウエハに関するすべての情報を管理する必要があり、ホストコンピュータの負担が大きくなってしまう。
また、通常は、ウエハの加工は一つの工場ですべての工程が行われるわけではなく、ある工場から他の工場へ移送されて加工が続けられる。ウエハに関する情報は、すべてホストコンピュータに登録されているため、ウエハが移送された工場において、新たにホストコンピュータにアクセスして必要な情報を引き出すか、または、ホストコンピュータに登録されている情報を、情報記録媒体に記憶させてウエハとともに移送し、移送先の工場のホストコンピュータに、再度ウエハに関する情報を登録する必要があり、工程管理が煩雑になってしまう。
このため、特許文献1(特開2000−331962号公報)では、電磁波を通信媒体として非接触で情報の入力、出力を行うことができるデータキャリアとして、例えば、ICチップと導電性コイルを接続して構成したいわゆるRFメモリーを、半導体ウエハを貼着支持する硬質板、リングフレームなどの半導体ウエハ支持部材上に固定することによって、必要な情報を読み書きして、データキャリアから読み取った情報によって、ウエハの加工を行う処理方法が提案されている。
特開2000−331962号公報
しかしながら、この特許文献1に記載されたウエハの加工処理方法では、データキャリアが、半導体ウエハを貼着支持する硬質板、リングフレームなどの半導体ウエハ支持部材上に固定されているだけである。
従って、例えば、図19の(A)の保護テープ貼着工程では、保護テープ202に関する情報については、保護テープ202の外装包装部材に貼着されたラベル、または、保護テープ202を巻装した軸芯部材に貼着されたラベルに記載された、例えば、バーコード、品名、品質保証期限、ロット番号などの情報を、別途、ホストコンピュータ228に登録する必要があり、工程管理が煩雑になってしまう。
しかも、保護テープ202を貼着する際には、例えば、個々の保護テープ202に応じた、貼着速度、貼着圧力などの最適条件などの、ホストコンピュータ228に登録された情報を引き出して、貼着工程を行わなければならず、工程管理が煩雑になってしまう。
さらに、いったん保護テープ202を半導体ウエハ200に貼着した後には、この保護テープ202に関する情報は、次工程での加工処理を行う度に、ホストコンピュータ228に登録された情報を引き出して、加工工程を行わなければならず、工程管理が煩雑になってしまう。
また、いったん保護テープ202を半導体ウエハ200に貼着した後には、外見上、保護テープ202の種類などを判断するのは困難な場合があり、誤ってホストコンピュータ228に登録された情報を引き出してしまい、加工処理を行うおそれがあり、一定の品質の半導体が得られないおそれがある。
また、最近では、多品種、小ロット生産が増加する傾向にあるが、この場合、一度使用した保護テープ202の残量、品質保証期限などの情報を得ることは困難であり、保護テープ202の残量不足、品質保証期限の超過などをきたすおそれがあり、工程中断や、品質の低下を招くおそれもある。
このような問題は、図19の(C)に示したウエハマウント工程におけるマウントテープ216に関しても同様である。
本発明は、このような現状に鑑み、例えば、保護テープ、マウントテープなどの半導体ウエハ処理テープについて、そのテープ情報などの処理データを読み書きすることが可能なデータキャリア部材を備えた半導体ウエハ処理テープ巻装体を提供することを目的とする。
また、本発明は、このような半導体ウエハ処理テープ巻装体を用いることによって、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、データキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハ処理テープを、最適条件で、半導体ウエハに貼着することが可能な半導体ウエハ処理テープ貼着装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、このような半導体ウエハ処理テープ貼着装置によって、半導体ウエハ処理テープが貼着された半導体ウエハに対して、最適条件で、所定のウエハ加工処理を行うことが可能な半導体ウエハ加工処理装置、特に、半導体ウエハ研削装置、ダイシング装置、およびダイボンディング装置を提供することを目的とする。
本発明は、前述したような従来技術における課題及び目的を達成するために発明されたものであって、本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体は、
半導体ウエハに貼着することよって、半導体ウエハの加工を行うための半導体ウエハ処理テープと、
前記半導体ウエハ処理テープを巻装した軸芯部材と、
前記軸芯部材に備えられ、所望の処理データを読み書き可能なデータキャリア部材と、を備えることを特徴とする。
このように構成することによって、例えば、品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度などの情報を、軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に書き込むことができる。
これにより、半導体ウエハにこの半導体ウエハ処理テープ巻装体に巻装された半導体ウエハ処理テープを貼着して半導体ウエハの加工を行う際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、データキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハ処理テープを、最適条件で、半導体ウエハに貼着することが可能である。
従って、別途、ホストコンピュータに、このような半導体ウエハ処理テープの情報を登録する必要がなく、また、加工の際にも、ホストコンピュータに登録された情報を引き出す必要もなく、各種のウエハ加工工程を行え、工程管理が簡単になる。
しかも、一度使用した半導体ウエハ処理テープの残量、品質保証期限などの情報を、軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に書き込み、ウエハ加工の際にこれらの情報を読み取ることによって、半導体ウエハ処理テープの残量不足、品質保証期限の超過などをきたすおそれがなく、工程中断や、品質の低下を招くおそれもない。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体は、前記データキャリア部材が、非接触型のデータキャリア部材であることを特徴とする。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体は、前記非接触型のデータキャリア部材が、ICチップと、このICチップに接続された導電性コイルとから構成されるRFメモリーであることを特徴とする。
このように、軸芯部材に備えられたデータキャリア部材が、非接触型のデータキャリア部材、特に、ICチップと、このICチップに接続された導電性コイルとから構成されるRFメモリーとすることによって、上記の半導体ウエハ処理テープの情報の書き込み、読み取りが瞬時にしかも確実に行え、工程を短縮化できるとともに、正確なウエハ加工処理を行え、半導体製品の品質が低下することがない。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体は、前記データキャリア部材が、軸芯部材の表面に設けられていることを特徴とする。
このようにデータキャリア部材が、軸芯部材の表面に設けられているので、上記の半導体ウエハ処理テープの情報の書き込み、読み取りが瞬時にしかも確実に行え、工程を短縮化できるとともに、正確なウエハ加工処理を行え、半導体製品の品質が低下することがない。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体は、前記データキャリア部材が、軸芯部材に埋設状態で設けられていることを特徴とする。
このようにデータキャリア部材が、軸芯部材に埋設状態で設けられているので、軸芯部材に半導体ウエハ処理テープを巻装する際に、データキャリア部材が邪魔にならず、半導体ウエハ処理テープの巻きむらが発生することがなく、データキャリア部材が破損損傷するおそれもない。
しかも、軸芯部材を巻き出し装置の巻き出し軸に脱着する際にも、脱着作業の邪魔にならず、データキャリア部材が破損損傷するおそれもない。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体は、前記データキャリア部材が、軸芯部材の内径側に設けられていることを特徴とする。
このようにデータキャリア部材が、軸芯部材の内径側に設けられているので、軸芯部材に半導体ウエハ処理テープを巻装する際に、データキャリア部材が邪魔にならず、半導体ウエハ処理テープの巻きむらが発生することがなく、データキャリア部材が破損損傷するおそれもない。
しかも、例えば、軸芯部材を巻き出し装置の巻き出し軸に脱着する際に、巻き出し軸側に読み書き装置を設けておけば、このデータキャリア部材の情報を読み書きすることができ、一度使用した半導体ウエハ処理テープの残量、品質保証期限などの情報を、軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に書き込み、ウエハ加工の際にこれらの情報を読み取ることによって、半導体ウエハ処理テープの残量不足、品質保証期限の超過などをきたすおそれがなく、工程中断や、品質の低下を招くおそれもない。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体は、前記データキャリア部材が、軸芯部材の外径側に設けられていることを特徴とする。
このようにデータキャリア部材が、軸芯部材の外径側に設けられているので、軸芯部材の材質によっても、電磁波が遮断されることがなく、上記の半導体ウエハ処理テープの情報の書き込み、読み取りが瞬時にしかも確実に行え、工程を短縮化できるとともに、正確なウエハ加工処理を行え、半導体製品の品質が低下することがない。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ貼着装置は、
上記のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ巻装体を、脱着自在に装着可能な巻き出し軸を備えた巻き出し装置と、
前記半導体ウエハ処理テープ巻装体のデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み書きするテープデータ読み書き装置と、
前記テープデータ読み書き装置によって読み取られた処理データに基づいて、巻き出し装置から巻き出された半導体ウエハ処理テープを、半導体ウエハに貼着するテープ貼着装置とを備えることを特徴とする。
このように構成することによって、半導体ウエハ処理テープ巻装体の軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に書き込まれた、例えば、品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度などの情報を、テープデータ読み書き装置によって読み取ることができる。
そして、このテープデータ読み書き装置によって読み取られた処理データに基づいて、テープ貼着装置によって、巻き出し装置から巻き出された半導体ウエハ処理テープを、半導体ウエハに貼着することができる。
従って、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、テープデータ読み書き装置によって、データキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハ処理テープを、最適条件で、半導体ウエハに貼着することが可能である。
従って、別途、ホストコンピュータに、このような半導体ウエハ処理テープの情報を登録する必要がなく、また、加工の際にも、ホストコンピュータに登録された情報を引き出す必要もなく、各種のウエハ加工工程を行え、工程管理が簡単になる。
しかも、一度使用した半導体ウエハ処理テープの残量、品質保証期限などの情報を、軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に、テープデータ読み書き装置によって、書き込み、ウエハ加工の際にこれらの情報を読み取ることによって、半導体ウエハ処理テープの残量不足、品質保証期限の超過などをきたすおそれがなく、工程中断や、品質の低下を招くおそれもない。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ貼着装置は、前記テープデータ読み書き装置が、巻き出し軸に設けられていることを特徴とする。
このように構成することによって、半導体ウエハ処理テープ巻装体を巻き出し装置の巻き出し軸に装着するだけで、半導体ウエハ処理テープ巻装体の軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に書き込まれた、例えば、品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度などの情報を、テープデータ読み書き装置によって、迅速にかつ確実に読み取ることができる。
しかも、一度使用した半導体ウエハ処理テープの残量、品質保証期限などの情報を、軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に、テープデータ読み書き装置によって、迅速にかつ確実に書き込み、半導体ウエハ処理テープ巻装体を巻き出し装置の巻き出し軸から取り外すことができる。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ貼着装置は、
前記テープ貼着装置によって半導体ウエハ処理テープが貼着された半導体ウエハを収納する半導体ウエハ収納カセットに対して、
前記半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に、所望の処理データを書き込むカセットデータ書き込み装置を備えることを特徴とする。
このように構成することによって、カセットデータ書き込み装置によって、テープ貼着装置によって半導体ウエハ処理テープを貼着した際の様々な情報、例えば、半導体ウエハ処理テープの品名、品質保証期限、ロット番号、貼着圧力、貼着速度、半導体ウエハの種類、厚さなどの情報を、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込むことができる。
従って、次工程で、半導体ウエハを加工処理する際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハを、最適条件で、加工処理することが可能である。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ貼着装置は、前記半導体ウエハ処理テープ貼着装置が、半導体ウエハの回路面を保護するための保護テープを貼着する保護テープ貼着装置であることを特徴とする。
このように構成することによって、半導体ウエハ処理テープ巻装体のデータキャリア部材に書き込まれた処理データを、テープデータ読み書き装置によって読み取り、この処理データに基づいて、保護テープ貼着装置によって、半導体ウエハの回路面を保護するための保護テープを、最適条件で半導体ウエハの回路面に貼着することができる。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ貼着装置は、前記半導体ウエハ処理テープ貼着装置が、半導体ウエハの外周にリングフレームを貼着するマウントテープを貼着するマウントテープ貼着装置であることを特徴とする。
このように構成することによって、半導体ウエハ処理テープ巻装体のデータキャリア部材に書き込まれた処理データを、テープデータ読み書き装置によって読み取り、この処理データに基づいて、半導体ウエハの外周にリングフレームを、マウントテープを介して、最適条件で半導体ウエハの外周に貼着することができる。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ貼着装置は、前記リングフレームに設けられたデータキャリア部材に、所望の処理データを書き込むリングフレームデータ書き込み装置を備えることを特徴とする。
このように構成することによって、リングフレームデータ書き込み装置によって、テープ貼着装置によって半導体ウエハ処理テープを貼着した際の様々な情報、例えば、半導体ウエハ処理テープの品名、品質保証期限、ロット番号、貼着圧力、貼着速度、半導体ウエハの種類、厚さなどの情報を、リングフレームに設けられたデータキャリア部材に書き込むことができる。
従って、次工程で、半導体ウエハを加工処理する際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、リングフレームに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハを、半導体ウエハ一枚ごとに、最適条件で、加工処理することが可能である。
また、本発明の半導体ウエハ処理テープ貼着装置は、
前記半導体ウエハ処理テープ貼着装置が、
前工程で所定の加工処理が行われた半導体ウエハを収納する、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取る、カセットデータ読み取り装置を備え、
前記カセットデータ読み取り装置で読み取られた処理データと、前記テープデータ読み書き装置によって読み取られた処理データに基づいて、テープ貼着装置によって、半導体ウエハ処理テープを、半導体ウエハに貼着するように構成されていることを特徴とする。
このように構成することによって、カセットデータ読み取り装置によって、前工程のウエハ加工工程における処理データ、例えば、半導体ウエハ処理テープの品名、品質保証期限、ロット番号、貼着圧力、貼着速度、半導体ウエハの種類、厚さ、前工程における加工条件などの処理データを、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材から読み取ることができる。
一方、半導体ウエハ処理テープ巻装体の軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に書き込まれた、例えば、品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度などの情報を、テープデータ読み書き装置によって読み取ることができる。
そして、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、これらの処理データに基づいて、半導体ウエハ処理テープを、最適条件で、半導体ウエハに貼着することができる。
また、本発明の半導体ウエハ加工処理装置は、
上記のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置によって、半導体ウエハ処理テープが貼着された半導体ウエハに対して、
前記テープ貼着装置によって半導体ウエハ処理テープが貼着された半導体ウエハを収納する、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データに基づいて、所定のウエハ加工処理を行うように構成したことを特徴とする。
このように構成することによって、テープ貼着装置によって半導体ウエハ処理テープを貼着した際の様々な情報、例えば、半導体ウエハ処理テープの品名、品質保証期限、ロット番号、貼着圧力、貼着速度、半導体ウエハの種類、厚さなどの情報を、次工程で、半導体ウエハを加工処理する際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハを、最適条件で、加工処理することが可能である。
また、本発明の半導体ウエハ加工処理装置は、
上記のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置によって、半導体ウエハ処理テープが貼着された半導体ウエハに対して、
前記リングフレームに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データに基づいて、所定のウエハ加工処理を行うように構成したことを特徴とする。
このように構成することによって、テープ貼着装置によって半導体ウエハ処理テープを貼着した際の様々な情報、例えば、半導体ウエハ処理テープの品名、品質保証期限、ロット番号、貼着圧力、貼着速度、半導体ウエハの種類、厚さなどの情報を、次工程で、半導体ウエハを加工処理する際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、リングフレームに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハを、半導体ウエハ一枚ごとに、最適条件で、加工処理することが可能である。
また、本発明の半導体ウエハ加工処理装置は、前記半導体ウエハ加工処理装置が、半導体ウエハの回路面と反対側の裏面を研削する半導体ウエハ研削装置であることを特徴とする。
このように構成することによって、例えば、半導体ウエハ処理テープである回路面を保護する保護テープの品名、品質保証期限、ロット番号、貼着圧力、貼着速度、半導体ウエハの種類、厚さなどの情報を、半導体ウエハの回路面と反対側の裏面を研削する際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハ研削装置によって、最適条件で、裏面研削処理することが可能である。
また、本発明の半導体ウエハ加工処理装置は、前記半導体ウエハ加工処理装置が、半導体ウエハを賽の目状に切断するダイシング装置であることを特徴とする。
このように構成することによって、例えば、半導体ウエハ処理テープである半導体ウエハの外周にリングフレームを貼着するマウントテープの品名、品質保証期限、ロット番号、貼着圧力、貼着速度、半導体ウエハの種類、厚さなどの情報を、半導体ウエハを賽の目状に切断する際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、ダイシング装置によって、最適条件で、半導体ウエハを賽の目状に切断することが可能である。
また、本発明の半導体ウエハ加工処理装置は、前記半導体ウエハ加工処理装置が、賽の目状に切断された半導体チップをピックアップして、電子部品の電子部品実装部に装着するダイボンディング装置であることを特徴とする。
このように構成することによって、例えば、半導体ウエハ処理テープである半導体ウエハの外周にリングフレームを貼着するマウントテープの品名、品質保証期限、ロット番号、貼着圧力、貼着速度、半導体ウエハの種類、厚さなどの情報を、賽の目状に切断された半導体チップをピックアップして、電子部品の電子部品実装部に装着する際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、ダイボンディング装置によって、最適条件で、賽の目状に切断された半導体チップをピックアップして、電子部品の電子部品実装部に装着することが可能である。
本発明によれば、例えば、品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度などの情報を、軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に書き込むことができる。
これにより、半導体ウエハにこの半導体ウエハ処理テープ巻装体に巻装された半導体ウエハ処理テープを貼着して半導体ウエハの加工を行う際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、データキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハ処理テープを、最適条件で、半導体ウエハに貼着することが可能である。
従って、別途、ホストコンピュータに、このような半導体ウエハ処理テープの情報を登録する必要がなく、また、加工の際にも、ホストコンピュータに登録された情報を引き出す必要もなく、各種のウエハ加工工程を行え、工程管理が簡単になる。
しかも、一度使用した半導体ウエハ処理テープの残量、品質保証期限などの情報を、軸芯部材に備えられたデータキャリア部材に書き込み、ウエハ加工の際にこれらの情報を読み取ることによって、半導体ウエハ処理テープの残量不足、品質保証期限の超過などをきたすおそれがなく、工程中断や、品質の低下を招くおそれもない。
以下、本発明の実施の形態(実施例)を図面に基づいてより詳細に説明する。
図1は、本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体の実施例の概略斜視図である。
図1において、10は、全体で本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体を示している。
図1に示したように、半導体ウエハ処理テープ巻装体10は、略円筒形状の軸芯部材12を備えており、この軸芯部材12の外径側の表面12aに、半導体ウエハ処理テープ14が巻装されている。
この半導体ウエハ処理テープ14は、半導体ウエハに貼着することによって、半導体ウエハの種々の加工を行うためのものであって、例えば、半導体ウエハの裏面を研削する際に、半導体ウエハの回路面を保護するための保護テープ、半導体ウエハの外周にリングフレームを貼着するマウントテープ、その他、種々の半導体ウエハ加工を行う際に使用されるものであって特に限定されるものではない。
このような半導体ウエハ処理テープ14としては、例えば、特開昭60−196956号公報、特開昭60−223139号公報、特開平5−32946号公報、特開平8−27239号公報等に記載されているように、基材の表面に、例えば、アクリル系エネルギー線硬化型粘着剤などのエネルギー線硬化型粘着剤を形成したものなどが使用可能である。
また、軸芯部材12としては、その材質は特に限定されるものではなく、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ABS樹脂などの合成樹脂などが使用可能である。
そして、この実施例の半導体ウエハ処理テープ巻装体10では、軸芯部材12の内径側の表面12bの一端に、データキャリア部材16が設けられている。
この場合、データキャリア部材16は、所望の処理データを読み書き可能な記憶部を有する担体である。
このようなデータキャリア部材16としては、好ましくは、電磁波を通信媒体として非接触で情報の書き込み、読み取りを行うことができる非接触型のデータキャリアを用いるのが望ましい。このような非接触型のデータキャリア部材16としては、例えば、ICチ
ップと、このICチップに接続された送受信用の導電性コイルとから構成される、いわゆるRFメモリーを用いることができる。
この場合、データキャリア部材16の構造としては、例えば、図2に示したような、貼着用ラベル型の構造のものが使用可能である。
すなわち、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどの回路用基材18の表面に、導電性インクにて回路20が印刷され、その上面にICチップ22が実装されている。そして、その上面に、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどの表面基材24が貼着され、その表面には、熱転写印字(印刷)が可能な印字コート層26が設けられている。さらに、回路用基材18の裏面側に、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどを芯材とした両面粘着テープ28が設けられている。
このように構成することによって、軸芯部材12の内径側の表面12bにデータキャリア部材16を貼着することができる。
この場合、データキャリア部材16に読み書きされる情報としては、特に限定されるものではないが、例えば、品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度などの情報を用いることができる。
なお、データキャリア部材16の印字コート層26に、従来のように、上記のようなデータを印字したり、バーコードを併記することも可能である。
また、軸芯部材12の内径側にデータキャリア部材16を設ける場合、図3に示したように、軸芯部材12の内径側の表面12bに、データキャリア部材16の装着用凹部30を形成しておき、この装着用凹部30内に、データキャリア部材16を貼着して、軸芯部材12内に埋設した状態とすることもできる。
この場合、装着用凹部30内にデータキャリア部材16を貼着した際に、図3に示したように、データキャリア部材16の表面16aが、軸芯部材12の内径側の表面12bと略同一平面にあるか、僅かに低い位置にあるのが、後述するように、軸芯部材12を巻き出し装置32の巻き出し軸34に脱着する際にも、脱着作業の邪魔にならず、データキャリア部材が破損損傷するおそれを考慮すれば望ましい。
また、軸芯部材12の内径側の表面12bにデータキャリア部材16を設ける方法としては、このような貼着用ラベル型の構造のものに限定されるものではない。
例えば、図4に示したように、軸芯部材12の内径側の表面12bに形成した装着用凹部30内にデータキャリア部材16を配置した後に、その上面から合成樹脂によって樹脂封止(11)して埋設状態とする方法、図示しないが、軸芯部材12とデータキャリア部材16とを一体的に成形する方法などを採用することができる。
さらに、このデータキャリア部材16を設ける位置としては、特に限定されるものではなく、この実施例では、軸芯部材12の内径側の表面12bの一端に設けたが、中央部分でもよい。また、図5に示したように、データキャリア部材16を設ける位置として、軸芯部材12の外径側の表面12aに設けるようにしてもよく、さらに、軸芯部材12の外径側の表面12aと内径側の表面12bの両方に、データキャリア部材16を設けることもできる。この場合にも、上記のように、貼着用ラベル型の構造のものに限定されるものではない。
さらに、図1に示したように、この実施例の半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12には、後述するように、軸芯部材12を巻き出し装置32の巻き出し軸34に装着する際に、テープデータ読み書き装置36と、軸芯部材12の内径側に配置したデータキャリア部材16との位置合わせを正確に行うための位置あわせ部12cが形成されてい
る。
この場合、位置あわせ部12cとしては、軸芯部材12の外径側の表面12aまたは一端部に僅かに突設した突設リブ、または、切欠部の形状とすることができるが、位置合わせを行えるものであれば、マーキングでもよく、特に、その配置、形状などは限定されるものではない。
このように構成される半導体ウエハ処理テープ巻装体10は、使用に際しては、以下の図6〜図7の巻き出し装置とともに、下記のように使用される。
すなわち、図6は、図1に示した半導体ウエハ処理テープ巻装体を用いた半導体ウエハ処理テープ貼着装置の巻き出し装置の部分を示す斜視図、図7は、図6の巻き出し装置の使用方法の概略を説明する斜視図である。
図6に示したように、半導体ウエハ処理テープ貼着装置には、巻き出し装置32が備えられており、この巻き出し装置32には、図示しない駆動モータに連結された巻き出し軸34を備えている。
また、巻き出し軸34には、その外側の一端に、テープデータ読み書き装置36が設けられている。
なお、このテープデータ読み書き装置36は、巻き出し軸34の外側の一端に形成された凹部36aに形成されており、これによって、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12を、巻き出し軸34に脱着する際に、軸芯部材12の内径側の表面12bに接触して、テープデータ読み書き装置36が破損損傷しないようになっている。
また、巻き出し軸34の中央部分には、出没自在な廻り止め部材38が、図示しない付勢部材によって、突出方向に付勢されるように設けられている。これによって、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12を、巻き出し軸34に装着した際に、巻き出し軸34の回転によって、軸芯部材12が確実に回転するように構成されている。
さらに、巻き出し軸34の内側の一端には、側板部材40が設けられており、これにより、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12の端部が側板部材40に当接して、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の位置決めが行われるように構成されている。
このように構成される巻き出し装置32に、半導体ウエハ処理テープ巻装体10を装着して使用する方法について、以下に説明する。
先ず、図7に示したように、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12の位置あわせ部12cを、巻き出し軸34のテープデータ読み書き装置36の位置に合致するようにする。これによって、巻き出し軸34のテープデータ読み書き装置36と、芯部材12の内径側に配置したデータキャリア部材16とが一致するようにして、データキャリア部材16に書き込まれた処理データを、巻き出し軸34のテープデータ読み書き装置36によって正確に読み取ることができる。
そして、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12を、巻き出し装置32の巻き出し軸34に装着(挿着)して、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12の端部が側板部材40に当接するようにして、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の位置決めを行う。
この際、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12を、巻き出し軸34に装着した際に、廻り止め部材38が突出して、巻き出し軸34の回転によって、軸芯部材12が確実に回転するようになっている。
また、このように半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12を、巻き出し軸34に装着した状態で、軸芯部材12の内径側に配置したデータキャリア部材16に予め書き込まれた情報、例えば、品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度などの情報を、巻き出し軸34の外側の一端に配置したテープデータ読み書き装置36によって読み取る。
そして、このテープデータ読み書き装置36によって読み取られた処理データに基づいて、図示しないテープ貼着装置によって、巻き出し装置32から巻き出された半導体ウエハ処理テープ14を、半導体ウエハに貼着することができる。
なお、この場合、テープ貼着装置としては、特に限定されるものではないが、例えば、半導体ウエハの裏面を研削するために、半導体ウエハの回路面を保護するための保護テープを半導体ウエハの回路面に貼着する保護テープ貼着装置、半導体ウエハの外周にリングフレームを一体化するために半導体ウエハの裏面とリングフレームに貼着するマウントテープ貼着装置を挙げることができる。
従って、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、テープデータ読み書き装置36によって、データキャリア部材16に書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハ処理テープ14を、最適条件で、半導体ウエハに貼着することが可能である。
従って、別途、ホストコンピュータに、このような半導体ウエハ処理テープの情報を登録する必要がなく、また、加工の際にも、ホストコンピュータに登録された情報を引き出す必要もなく、各種のウエハ加工工程を行え、工程管理が簡単になる。
しかも、一度使用した半導体ウエハ処理テープ14の残量、品質保証期限などの情報を、軸芯部材12に備えられたデータキャリア部材16に、テープデータ読み書き装置36によって、書き込み、ウエハ加工の際にこれらの情報を読み取ることによって、半導体ウエハ処理テープの残量不足、品質保証期限の超過などをきたすおそれがなく、工程中断や、品質の低下を招くおそれもない。
なお、この場合、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の様々な半導体ウエハ処理テープ14の幅に対応できるように、図8の矢印に示したように、軸芯部材12の端部に当接する側板部材40を、図示しない移動機構によって、巻き出し軸34の軸方向に移動自在に構成してもよい。
また、図5に示したように、データキャリア部材16を、軸芯部材12の外径側の表面12aに設けた場合には、図6に示したような巻き出し軸34の外側の一端に配置したテープデータ読み書き装置36で読み取る代わりに、図示しないが、別途、巻き出し軸34とは別に設けたテープデータ読み書き装置で読み取ったり、ハンディータイプのテープデータ読み書き装置で読み取るようにすることも可能である。
このように構成される本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体10を用いて、半導体を製造する半導体ウエハ加工処理装置および半導体ウエハ加工処理方法について、以下に、図9〜図18に基づいて説明する。
図9〜図13は、半導体ウエハ加工処理方法を説明する概略図、図14〜図18は、そのステップを説明するフローチャートである。
先ず、図9に示したように、半導体ウエハ収納カセット51に収容され、表面に回路が
形成された半導体ウエハ50を取り出して、その表面に、半導体ウエハ50の回路面を保護するための保護テープ52を、保護テープ貼着装置54を介して、半導体ウエハ50の形状に沿って保護テープ52を切断することにより、半導体ウエハ50の回路面に貼着するようになっている(保護テープ貼着工程)。
なお、保護テープ52としては、特に限定されるものではないが、例えば、「Adwill E-6152」(商品名)、「Adwill P-7180」(商品名)、リンテック株式会社製などが使用できる。
また、保護テープ貼着装置54としては、特に限定されるものではないが、例えば、「RAD-3500F/12」(商品名)、リンテック株式会社製のシステムを有する装置などが使用できる。
すなわち、この保護テープ貼着工程では、半導体ウエハ収納カセット51には、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12に配置したデータキャリア部材16と同様なデータキャリア部材51aが設けられており、このデータキャリア部材51aに書き込まれた、例えば、半導体ウエハ50のロット番号、種類、厚さなどの半導体ウエハ50に関する情報「A」を、カセットデータ読み取り装置51bよって読み取るようになっている(図14のステップ100参照)。
なお、この場合、データキャリア部材16としては、特に限定されるものではないが、例えば、「TS-L102KC」(商品名)、「TS-L301EC」(商品名)、いずれもISO 15693に準拠、
リンテック株式会社製などが使用できる。
また、データキャリア部材51aとしては(後述するデータキャリア部材56a、60a、66a、70a、74aも同様である)、特に限定されるものではないが、例えば、「TS-L102DC」(商品名)、「TS-L301FC」(商品名)、いずれもISO 15693に準拠、リンテッ
ク株式会社製などが使用できる。
また、カセットデータ読み取り装置51bとしては(後述するカセットデータ読み取り装置56c、60c、70c、74cも同様である)、特に限定されるものではないが、例えば、「LPA01」(商品名)、リンテック株式会社製などが使用できる。
この際、保護テープ52は、上記で説明したように、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の形態となっている。
従って、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12を、巻き出し軸34に装着することによって、軸芯部材12に配置したデータキャリア部材16に予め書き込まれた情報、例えば、品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度などの情報「B」を、巻き出し軸34の外側の一端に配置したテープデータ読み書き装置36によって読み取るようになっている(図14のステップ102参照)。
この場合、テープデータ読み書き装置36としては、特に限定されるものではないが、例えば、「LPA01」(商品名)、リンテック株式会社製などが使用できる。
そして、このカセットデータ読み取り装置で読み取られた半導体ウエハ50に関する処理データ「A」と、テープデータ読み書き装置36によって読み取られた保護テープ52に関する処理データ「B」とに基づいて、保護テープ貼着装置54によって、巻き出し装置32から巻き出された保護テープ52を、半導体ウエハ50に貼着するようになっている(図14のステップ104参照)。
従って、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、テープデータ読み書き装置36によって、データキャリア部材16に書き込まれた処理データを読み取り、
読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハ処理テープ14を、最適条件で、半導体ウエハに貼着することが可能である。
そして、このように保護テープ貼着装置54によって、巻き出し装置32から巻き出された保護テープ52を、半導体ウエハ50に貼着した後、半導体ウエハ50を、別の半導体ウエハ収納カセット56に収容するようになっている(図14のステップ106参照)。
この際、半導体ウエハ収納カセット56には、データキャリア部材16と同様なデータキャリア部材56aが設けられており、このデータキャリア部材56aに、上記の半導体ウエハ50に関する処理データ「A」と、保護テープ52に関する処理データ「B」と、保護テープ貼着装置54によって実際に貼着加工した際の、例えば、貼着速度、貼着圧などの貼着加工に関する処理データ「C」とからなる処理データ「A+B+C」を、カセットデータ書き込み装置56bによって書き込むようになっている(図14のステップ108参照)。
この場合、カセットデータ書き込み装置56bとしては(後述するカセットデータ書き込み装置60b、70bも同様である)、特に限定されるものではないが、例えば、「LPA01」(商品名)、リンテック株式会社製などが使用できる。
なお、図示しないが、必要であれば、一度使用した保護テープ52の残量、品質保証期限などの情報を、軸芯部材12に備えられたデータキャリア部材16に、テープデータ読み書き装置36によって、書き込み、再び、例えば、別の種類の半導体ウエハ50に、保護テープ52を貼着する際にこれらの情報を読み取ることによって、保護テープ52の残量不足、品質保証期限の超過などをきたすおそれがなく、工程中断や、品質の低下を招くおそれがないようになっている(図14のステップ108’参照)。
次に、図10に示したように、半導体ウエハ収納カセット56から半導体ウエハ50を取り出して、保護テープ52が貼着された半導体ウエハ50に対して、保護テープ52側を、図示しない吸着テーブルに吸着保持して、回路が形成していない裏面を、裏面研削装置(グラインダー)58によって、所定の厚さまで研削する(裏面研削工程)。
この場合、裏面研削装置(グラインダー)58としては、特に限定されるものではないが、例えば、株式会社ディスコ製の裏面研削装置(グラインダー)に、テープデータ読み書き装置として、「LPA01」(商品名)、リンテック株式会社製を取付けた装置などが使用
できる。
すなわち、この裏面研削工程では、カセットデータ読み取り装置56cによって、半導体ウエハ収納カセット56のデータキャリア部材56aに書き込まれた上記の処理データ「A+B+C」を読み取る(図15のステップ110参照)。
そして、半導体ウエハ収納カセット56から半導体ウエハ50を取り出して、カセットデータ読み取り装置56cによって、読み取られた処理データ「A+B+C」に基づいて、最適条件で、裏面研削装置(グラインダー)58によって、半導体ウエハ50の回路が形成していない裏面を所定の厚さまで研削する(図15のステップ112参照)。
そして、所定の厚さまで裏面を研削した保護テープ52が貼着された半導体ウエハ50を、別の半導体ウエハ収納カセット60に収容するようになっている(図15のステップ114参照)。
この際、半導体ウエハ収納カセット60にも、データキャリア部材60aが設けられており、このデータキャリア部材60aに、上記の処理データ「A+B+C」と、裏面研削装置(グラインダー)58によって、実際に裏面研削加工した際の、例えば、研削速度、グラインダーの目の番手情報などの裏面研削加工に関する処理データ「D」とからなる処理データ「A+B+C+D」を、カセットデータ書き込み装置60bによって書き込むようになっている(図15のステップ116参照)。
その後、図11に示したように、半導体ウエハ収納カセット60から半導体ウエハ50を取り出して、マウントテープ貼着装置62によって、保護テープ52側を、吸着テーブル64に吸着保持して、この半導体ウエハ50の外周に、リングフレーム66を載置する。
この場合、マウントテープ貼着装置62としては、特に限定されるものではないが、例えば、「RAD-2700F/Sa」(商品名)、リンテック株式会社製のシステムを有する装置などが使用できる。
この状態で、上面からマウントテープ68を貼着して、リングフレーム66の外形状にマウントテープ68を切断することによって、マウントテープ68を介して、半導体ウエハ50とリングフレーム66を一体化している(ウエハマウント工程)。
この場合、マウントテープ68としては、特に限定されるものではないが、例えば、「Adwill D-175」(商品名)、「Adwill G-36」(商品名)、リンテック株式会社製などが使用
できる。
なお、このウエハマウント工程においては、この半導体ウエハ50をリングフレームごと反転して、半導体ウエハ50の回路面に貼着された保護テープ52を、例えば、別途図示しない剥離テープを用いて剥離するようになっている。
すなわち、このウエハマウント工程では、カセットデータ読み取り装置60cによって、半導体ウエハ収納カセット60のデータキャリア部材60aに書き込まれた上記の処理データ「A+B+C+D」を読み取る(図16のステップ118参照)。
そして、半導体ウエハ収納カセット60から半導体ウエハ50を取り出して、カセットデータ読み取り装置60cによって、読み取られた処理データ「A+B+C+D」に基づいて、最適条件で、マウントテープ貼着装置62によって、半導体ウエハ50の外周に、リングフレーム66をマウントテープ68を介して貼着して、リングフレーム66の外形状にマウントテープ68を切断することによって(または、リングフレーム66の形状に予めプリカットされたマウントテープ68を貼着することによって)、マウントテープ68を介して、半導体ウエハ50とリングフレーム66を一体化している(図16のステップ120参照)。
半導体ウエハ50の回路面に貼着された保護テープ52を、例えば、別途図示しない剥離テープを用いて剥離する(図16のステップ122参照)。
また、リングフレーム66にも、データキャリア部材66aが設けられており、このデータキャリア部材66aに、上記の処理データ「A+B+C+D」と、マウントテープ貼着装置62によって、実際にマウントテープ貼着加工した際の、例えば、マウントテープ68の貼着速度、貼着圧力、リングフレーム66の種類、寸法、厚さなどのマウントテープ貼着加工に関する処理データ「E」とからなる処理データ「A+B+C+D+E」を、リングフレームデータ書き込み装置66bによって書き込むようになっている(図16のステップ124参照)。
そして、保護テープ52が剥離され、マウントテープ68を介して、リングフレーム6
6と一体化された半導体ウエハ50を、別の半導体ウエハ収納カセット70に収容するようになっている(図16のステップ126参照)。
この際、半導体ウエハ収納カセット70にも、データキャリア部材70aが設けられており、このデータキャリア部材70aに、上記の処理データ「A+B+C+D」と、マウントテープ貼着装置62によって、実際にマウントテープ貼着加工した際の、例えば、マウントテープ68の貼着速度、貼着圧力、リングフレーム66の種類、寸法、厚さなどのマウントテープ貼着加工に関する処理データ「E」とからなる処理データ「A+B+C+D+E」を、カセットデータ書き込み装置70bによって書き込むようになっている(図16のステップ128参照)。
なお、この場合、この実施例では、リングフレーム66のデータキャリア部材66aと、半導体ウエハ収納カセット70のデータキャリア部材70aの両方に、処理データ「A+B+C+D+E」を、書き込むようにしたが、いずれか一方に処理データ「A+B+C+D+E」を、書き込むようにしても構わない。
次に、図12に示したように、半導体ウエハ収納カセット70から半導体ウエハ50をリングフレーム66ごと取り出して、ダイシング装置72によって、賽の目状に切断する(ダイシング工程)。
この場合、ダイシング装置72としては、特に限定されるものではないが、例えば、株式会社ディスコ製のダイシング装置に、テープデータ読み書き装置として、「LPA01」(商品名)、リンテック株式会社製を取付けた装置などが使用できる。
すなわち、このダイシング工程では、カセットデータ読み取り装置70cによって、半導体ウエハ収納カセット70のデータキャリア部材70aに書き込まれた上記の処理データ「A+B+C+D+E」を読み取る(図17のステップ130参照)。
また、半導体ウエハ収納カセット70から半導体ウエハ50を取り出して、リングフレームデータ読み取り装置66cによって、リングフレーム66のデータキャリア部材66aに書き込まれた上記の処理データ「A+B+C+D+E」を読み取る(図17のステップ132参照)。
この場合、リングフレームデータ読み取り装置66cとしては(後述するリングフレームデータ読み取り装置66eも同様である)、特に限定されるものではないが、例えば、「LPA01」(商品名)、リンテック株式会社製などが使用できる。
そして、これらのカセットデータ読み取り装置70c、リングフレームデータ読み取り装置66cによって、読み取られた処理データ「A+B+C+D+E」に基づいて、最適条件で、ダイシング装置72によって、半導体ウエハ50を賽の目状に切断する(図17のステップ134参照)。
なお、この実施例では、これらのカセットデータ読み取り装置70c、リングフレームデータ読み取り装置66cによって、読み取られた処理データ「A+B+C+D+E」に基づいて、ダイシング装置72によって、半導体ウエハ50を賽の目状に切断したが、いずれか一方の処理データ「A+B+C+D+E」を、読み込むようにしても構わない。
また、リングフレーム66のデータキャリア部材66aに、上記の処理データ「A+B+C+D+E」と、ダイシング装置72によって、実際にダイシング加工した際の、例えば、ダイシング装置72のダイシング刃の回転速度、ダイシング寸法などのダイシング加
工に関する処理データ「F」とからなる処理データ「A+B+C+D+E+F」を、リングフレームデータ書き込み装置66dによって書き込むようになっている(図17のステップ136参照)。
この場合、リングフレームデータ書き込み装置66dとしては、特に限定されるものではないが、例えば、「LPA01」(商品名)、リンテック株式会社製などが使用できる。
そして、ダイシング装置72によって、賽の目状に切断された半導体ウエハ50を、リングフレーム66ごと、別の半導体ウエハ収納カセット74に収容するようになっている(図17のステップ138参照)。
この際、半導体ウエハ収納カセット74にも、データキャリア部材74aが設けられており、このデータキャリア部材74aに、上記の処理データ「A+B+C+D+E」と、ダイシング装置72によって、実際にダイシング加工した際の、例えば、ダイシング装置72のダイシング刃の回転速度、ダイシング寸法などのダイシング加工に関する処理データ「F」とからなる処理データ「A+B+C+D+E+F」を、カセットデータ書き込み装置74bによって書き込むようになっている(図17のステップ140参照)。
なお、この場合、この実施例では、リングフレーム66のデータキャリア部材66aと、半導体ウエハ収納カセット74のデータキャリア部材74aの両方に、処理データ「A+B+C+D+E+F」を、書き込むようにしたが、いずれか一方に処理データ「A+B+C+D+E+F」を、書き込むようにしても構わない。
その後、図13に示したように、半導体ウエハ収納カセット74から半導体ウエハ50をリングフレーム66ごと取り出して、ボンディング装置76によって、賽の目状に切断された半導体チップをピックアップして、電子部品78の電子部品実装部に装着している(ダイボンディング工程)。
この場合、ボンディング装置76としては、特に限定されるものではないが、例えば、株式会社新川製のボンディング装置に、テープデータ読み書き装置として、「LPA01」(商品名)、リンテック株式会社製を取付けた装置などが使用できる。
すなわち、このダイボンディング工程では、カセットデータ読み取り装置74cによって、半導体ウエハ収納カセット74のデータキャリア部材74aに書き込まれた上記の処理データ「A+B+C+D+E+F」を読み取る(図18のステップ142参照)。
また、半導体ウエハ収納カセット74から半導体ウエハ50を取り出して、リングフレームデータ読み取り装置66eによって、リングフレーム66のデータキャリア部材66aに書き込まれた上記の処理データ「A+B+C+D+E+F」を読み取る(図18のステップ144参照)。
そして、これらのカセットデータ読み取り装置74c、リングフレームデータ読み取り装置66eによって、読み取られた処理データ「A+B+C+D+E+F」に基づいて、最適条件で、ボンディング装置76によって、賽の目状に切断された半導体チップ50aをピックアップして、電子部品78の電子部品実装部に装着する(図18のステップ146参照)。
なお、この実施例では、カセットデータ読み取り装置74c、リングフレームデータ読み取り装置66eによって、読み取られた処理データ「A+B+C+D+E+F」に基づいて、ボンディング装置76によって、賽の目状に切断された半導体チップ50aをピックアップして、電子部品78の電子部品実装部に装着するようにしたが、いずれか一方の
処理データ「A+B+C+D+E+F」を、読み込むようにしても構わない。
また、上記の実施例では、半導体ウエハ収納カセットにデータキャリア部材を設ける方法、配置位置、リングフレーム66にデータキャリア部材66aを設ける方法、配置位置などは特に限定されるものではない。
すなわち、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12に備えられたデータキャリア部材16と同様に、貼着用ラベル型の構造のもの、装着用凹部内にデータキャリア部材を配置した後に、その上面から合成樹脂によって樹脂封止して埋設状態とする方法、これらの半導体ウエハ収納カセットまたはリングフレーム66と、データキャリア部材16とを一体的に成形する方法などを採用することができる。
また、半導体ウエハ収納カセットにデータキャリア部材を設ける位置としては、この実施例では、半導体ウエハ収納カセットの底部に設け、これに応じて、カセットデータ読み取り装置、カセットデータ書き込み装置を半導体ウエハ収納カセットの底部に対峙する位置に設けている。
しかしながら、半導体ウエハ収納カセットにデータキャリア部材を設ける位置としては、これに何ら限定されるものではなく、半導体ウエハ収納カセットの上部、側部、背面部など適宜変更可能であり、これに応じて、カセットデータ読み取り装置、カセットデータ書き込み装置を半導体ウエハ収納カセットの上部、側部、背面部などに対峙する位置に設ければよい。
さらに、この実施例では、リングフレームデータ読み取り装置を、リングフレーム66のデータキャリア部材66aと対峙する位置に固定するように設けている。しかしながら、リングフレームデータ読み取り装置を、半導体ウエハ収納カセットから半導体ウエハ50を取り出す吸着アームなどの取り出し操作装置の先端に設けて、半導体ウエハ50を取り出す際に、リングフレーム66のデータキャリア部材66aの処理データを読み取るようにしてもよい。
同様に、リングフレームデータ書き込み装置についても、半導体ウエハ収納カセットに半導体ウエハ50を収容する吸着アームなどの収容操作装置の先端に設けて、半導体ウエハ50を収容する際に、リングフレーム66のデータキャリア部材66aに処理データを書き込むようにしてもよい。
このような半導体ウエハ加工処理方法によれば、例えば、品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度などの情報を、軸芯部材12に備えられたデータキャリア部材16に書き込むことができる。
これにより、半導体ウエハ50にこの半導体ウエハ処理テープ巻装体10に巻装された半導体ウエハ処理テープ14(保護テープ52、マウントテープ68)を貼着して半導体ウエハ50の各種のウエハ加工を行う際に、従来のようにホストコンピュータにアクセスすることなく、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12に備えられたデータキャリア部材16、半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材、リングフレーム66のデータキャリア部材66aに書き込まれた処理データを読み取り、読み取られた処理データに基づいて、半導体ウエハ処理テープを用いて、最適条件でウェハ加工処理することが可能である。
従って、別途、ホストコンピュータに、このような半導体ウエハ処理テープの情報を登録する必要がなく、また、加工の際にも、ホストコンピュータに登録された情報を引き出す必要もなく、各種のウエハ加工工程を行え、工程管理が簡単になる。
しかも、一度使用した半導体ウエハ処理テープの残量、品質保証期限などの情報を、軸芯部材12に備えられたデータキャリア部材16に書き込み、ウエハ加工の際にこれらの情報を読み取ることによって、半導体ウエハ処理テープの残量不足、品質保証期限の超過などをきたすおそれがなく、工程中断や、品質の低下を招くおそれもない。
以上、本発明の好ましい実施の態様を説明してきたが、本発明はこれに限定されることはなく、例えば、誤った半導体ウエハ処理テープ巻装体10を、巻き出し装置32に装着した場合、半導体ウエハ処理テープの品質保証期限が切れた場合、裏面研削装置(グラインダー)58の砥石部材の使用回数、ダイシング装置72のダイシング刃の使用回数などが、使用限界を超えた場合に、警告を出すようにすることもでき、作業員のミスを防止することができる。
さらに、半導体ウエハ処理テープ巻装体10の軸芯部材12、半導体ウエハ収納カセット、リングフレーム66を回収して、これらのデータキャリア部材に書き込まれた処理データを初期化することによって、半導体ウエハ収納カセット、リングフレーム66を再使用することもできる。
さらに、この実施例では、各工程の装置を別々の装置、すなわち、いわゆるスタンドアローン型の装置としたが、これらを連続的に一つの装置内で処理するいわゆるインライン型の装置とすることも可能である。このようなインライン型の装置の場合には、上述したような半導体ウエハ収納カセットの数、カセットデータ読み取り装置の数を低減できることになる。この場合には、リングフレーム66のデータキャリア部材66aによって、上記したような処理データを書き込み、読み取るようにすればよい。
また、この実施例では、取り出し側の半導体ウエハ収納カセットと、所定のウエハ加工を終了した半導体ウエハを収容する半導体ウエハ収納カセットを別々のものにしたが、同一の半導体ウエハ収納カセットに、一枚ずつ半導体ウエハを取り出し、ウエハ加工終了後に収容することも可能である。
さらに、図示しないホストコンピュータから、不足のデータ、管理データなどを、各ウエハ処理工程のそれぞれの装置に入力、制御するようにしたり、それぞれのデータキャリア部材に、書き込む(入力)するようにすることも可能である。
また、上記実施例では、いわゆる「後ダイシング法」について説明したが、ウェハの回路が形成された表面よりウェハ厚さ方向に所定深さまでダイシングして、賽の目状に有底の溝を形成する工程、ウェハ表面に保護テープを貼着する工程、ウェハ裏面を有底の溝に至るまで研削して多数のチップに分割する工程、保護テープが貼着されたウェハをリングフレームに貼着する工程、保護テープを剥離する工程の順で行う「先ダイシング法」においても用いることも可能であるなど本発明の目的を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
図1は、本発明の半導体ウエハ処理テープ巻装体10の実施例の概略斜視図である。 図2は、データキャリア部材16の構造を示す断面図である。 図3は、軸芯部材12にデータキャリア部材16を設ける方法を説明する拡大図である。 図4は、軸芯部材12にデータキャリア部材16を設ける方法を説明する拡大図である。 図5は、軸芯部材12にデータキャリア部材16を設ける方法を説明する拡大図である。 図6は、図1に示した半導体ウエハ処理テープ巻装体を用いた半導体ウエハ処理テープ貼着装置の巻き出し装置の部分を示す斜視図である。 図7は、図6の巻き出し装置の使用方法の概略を説明する斜視図である。 図8は、巻き出し装置の別の実施例の概略を説明する斜視図である。 図9は、半導体ウエハ加工処理方法の保護テープ貼着工程を説明する概略図である。 図10は、半導体ウエハ加工処理方法の裏面研削工程を説明する概略図である。 図11は、半導体ウエハ加工処理方法のウエハマウント工程を説明する概略図である。 図12は、半導体ウエハ加工処理方法のダイシング工程を説明する概略図である。 図13は、半導体ウエハ加工処理方法のダイボンディング工程を説明する概略図である。 図14は、半導体ウエハ加工処理方法の保護テープ貼着工程を説明するフローチャートである。 図15は、半導体ウエハ加工処理方法の裏面研削工程を説明するフローチャートである。 図16は、半導体ウエハ加工処理方法のウエハマウント工程を説明するフローチャートである。 図17は、半導体ウエハ加工処理方法のダイシング工程を説明するフローチャートである。 図18は、半導体ウエハ加工処理方法のダイボンディング工程を説明するフローチャートである。 図19は、従来の半導体ウエハ加工処理方法を説明する概略図である。
符号の説明
10 半導体ウエハ処理テープ巻装体
12a 表面
12b 表面
12 軸芯部材
12c 位置あわせ部
14 半導体ウエハ処理テープ
16 データキャリア部材
16a 表面
18 回路用基材
20 回路
22 ICチップ
24 表面基材
26 印字コート層
28 両面粘着テープ
30 装着用凹部
32 巻き出し装置
34 巻き出し軸
36a 凹部
36 テープデータ読み書き装置
38 廻り止め部材
40 側板部材
50 半導体ウエハ
50a 半導体チップ
51 半導体ウエハ収納カセット
51a データキャリア部材
51b カセットデータ読み取り装置
52 保護テープ
54 保護テープ貼着装置
56 半導体ウエハ収納カセット
56a データキャリア部材
56b カセットデータ書き込み装置
56c カセットデータ読み取り装置
58 裏面研削装置
60 半導体ウエハ収納カセット
60a データキャリア部材
60b カセットデータ書き込み装置
60c カセットデータ読み取り装置
62 マウントテープ貼着装置
64 吸着テーブル
66 リングフレーム
66a データキャリア部材
66b リングフレームデータ書き込み装置
66c リングフレームデータ読み取り装置
66d リングフレームデータ書き込み装置
66e リングフレームデータ読み取り装置
68 マウントテープ
70 半導体ウエハ収納カセット
70a データキャリア部材
70b カセットデータ書き込み装置
70c カセットデータ読み取り装置
72 ダイシング装置
74 半導体ウエハ収納カセット
74a データキャリア部材
74c カセットデータ読み取り装置
76 ボンディング装置
78 電子部品
200 半導体ウエハ
201 半導体ウエハ収納カセット
202 保護テープ
204 保護テープ貼着装置
206 半導体ウエハ収納カセット
208 裏面研削装置
210 半導体ウエハ収納カセット
212 吸着テーブル
214 リングフレーム
216 マウントテープ
218 半導体ウエハ収納カセット
220 ダイシング装置
222 半導体ウエハ収納カセット
224 ボンディング装置
226 電子部品
228 ホストコンピュータ

Claims (40)

  1. 半導体ウエハに貼着することによって、半導体ウエハの加工を行うための半導体ウエハ処理テープと、
    前記半導体ウエハ処理テープを巻装した軸芯部材と、
    前記軸芯部材に備えられ、所定の処理データを読み書き可能なデータキャリア部材と、
    を備え
    前記データキャリア部材が、ICチップと、このICチップに接続された導電性コイルとから構成されるRFメモリーである非接触型のデータキャリア部材であり、
    前記軸芯部材に、前記データキャリア部材に対応した位置あわせ部が形成されており、
    前記所定の処理データが、半導体ウエハ処理テープの品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号を含む情報データであることを特徴とする半導体ウエハ処理テープ巻装体。
  2. 前記位置あわせ部が、突設リブ、切欠部、マーキングのいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の半導体ウエハ処理テープ巻装体。
  3. 前記軸芯部材の表面に、前記データキャリア部材を装着するためのデータキャリア装着用凹部を備え、
    該データキャリア装着用凹部に、前記データキャリア部材が装着されていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体ウエハ処理テープ巻装体。
  4. 前記データキャリア装着用凹部に装着したデータキャリア部材の表面が、前記軸芯部材の内径側の表面と同一平面か、僅かに低い位置にあることを特徴とする請求項3に記載の半導体ウエハ処理テープ巻装体。
  5. 前記所定の処理データが、半導体ウエハ処理テープの半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度を含む情報データであることを特徴とする請求項3または4に記載の半導体ウエハ処理テープ巻装体。
  6. 請求項1から5のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ巻装体を、脱着自在に装着可能な巻き出し軸を備えた巻き出し装置と、
    前記半導体ウエハ処理テープ巻装体のデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み書きするテープデータ読み書き装置と、
    前記テープデータ読み書き装置によって読み取られた処理データに基づいて、巻き出し装置から巻き出された半導体ウエハ処理テープを、半導体ウエハに貼着するテープ貼着装置とを備え
    前記テープデータ読み書き装置が、巻き出し軸に備えられ、
    前記半導体ウエハ処理テープ巻装体のデータキャリア部材に書き込まれた処理データが、半導体ウエハ処理テープの品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号を含む情報データであることを特徴とする半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  7. 前記テープデータ読み書き装置が、前記巻き出し軸に形成された凹部に備えられていることを特徴とする請求項6に記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  8. 前記巻き出し軸の内側の一端に、側板部材が設けられていることを特徴とする請求項6または7に記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  9. 前記側板部材が、巻き出し軸の軸方向に移動自在に構成されていることを特徴とする請求項8に記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  10. 前記所定の処理データが、半導体ウエハ処理テープの半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度を含む情報データであることを特徴とする請求項6から9のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  11. 前記テープ貼着装置によって半導体ウエハ処理テープが貼着された半導体ウエハを収納する半導体ウエハ収納カセットに対して、
    前記半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に、所定の処理データを書き込むカセットデータ書き込み装置を備えることを特徴とする請求項6から10のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  12. 前記半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込む所定の処理データが、
    半導体ウエハ処理テープの品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度のうちの少なくともいずれかからなる半導体ウエハ処理テープに関する情報データ、
    半導体ウエハの種類、厚さ、加工工程における加工条件のうちの少なくともいずれかからなる半導体ウエハに関する情報データ、
    のうちの少なくともいずれかからなる情報データであることを特徴とする請求項11に記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  13. 前記半導体ウエハ処理テープ貼着装置が、半導体ウエハの回路面を保護するための保護テープを貼着する保護テープ貼着装置であることを特徴とする請求項6から12のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  14. 前記半導体ウエハ処理テープ貼着装置が、半導体ウエハの外周にリングフレームを貼着するマウントテープを貼着するマウントテープ貼着装置であることを特徴とする請求項6から12のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  15. 前記リングフレームに設けられたデータキャリア部材に、所定の処理データを書き込むリングフレームデータ書き込み装置を備えることを特徴とする請求項14に記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  16. 前記リングフレームに設けられたデータキャリア部材に書き込む所定の処理データが、
    半導体ウエハ処理テープの品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度のうちの少なくともいずれかからなる半導体ウエハ処理テープに関する情報データ、
    半導体ウエハの種類、厚さ、加工工程における加工条件のうちの少なくともいずれかからなる半導体ウエハに関する情報データ、
    のうちの少なくともいずれかからなる情報データであることを特徴とする請求項14または15に記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  17. 前記半導体ウエハ処理テープ貼着装置が、
    前工程で所定の加工処理が行われた半導体ウエハを収納する、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取る、カセットデータ読み取り装置を備え、
    前記カセットデータ読み取り装置で読み取られた処理データと、前記テープデータ読み書き装置によって読み取られた処理データに基づいて、テープ貼着装置によって、半導体ウエハ処理テープを、半導体ウエハに貼着するように構成されていることを特徴とする請求項6から16のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置。
  18. 請求項6から17のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置によって、半導体ウエハ処理テープが貼着された半導体ウエハに対して、
    前記テープ貼着装置によって半導体ウエハ処理テープが貼着された半導体ウエハを収納する、半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データに基づいて、所定のウエハ加工処理を行うように構成したことを特徴とする半導体ウエハ加工処理装置。
  19. 請求項14から17のいずれかに記載の半導体ウエハ処理テープ貼着装置によって、半導体ウエハ処理テープが貼着された半導体ウエハに対して、
    前記リングフレームに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データに基づいて、所定のウエハ加工処理を行うように構成したことを特徴とする半導体ウエハ加工処理装置。
  20. 前記半導体ウエハ加工処理装置が、半導体ウエハの回路面と反対側の裏面を研削する半導体ウエハ研削装置であることを特徴とする請求項18または19に記載の半導体ウエハ加工処理装置。
  21. 前記半導体ウエハ加工処理装置が、半導体ウエハを賽の目状に切断するダイシング装置であることを特徴とする請求項18または19に記載の半導体ウエハ加工処理装置。
  22. 前記半導体ウエハ加工処理装置が、賽の目状に切断された半導体チップをピックアップして、電子部品の電子部品実装部に装着するダイボンディング装置であることを特徴とする請求項18または19に記載の半導体ウエハ加工処理装置。
  23. 半導体ウエハに貼着することによって半導体ウエハの回路面を保護するための保護テープを巻装した保護テープ巻装体と、
    前記保護テープ巻装体を、脱着自在に装着可能な巻き出し軸を備えた巻き出し装置と、
    前記巻き出し装置から巻き出された保護テープを、半導体ウエハに貼着する保護テープ貼着装置と、を備える保護テープ貼着システムであって、
    前記保護テープ巻装体に設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み書きするテープデータ読み書き装置をさらに備え、
    前記保護テープ巻装体に、前記データキャリア部材に対応した位置あわせ部が形成されており、
    前記保護テープ巻装体のデータキャリア部材に書き込まれた保護テープに関する情報を、前記テープデータ読み書き装置によって読み取り、
    前記保護テープに関する情報に基づいて、前記保護テープ貼着装置によって、前記保護テープを半導体ウエハに貼着することを特徴とする保護テープ貼着システム。
  24. 前記保護テープを貼着する前の半導体ウエハが収納される第1の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取るカセットデータ読み取り装置と、
    前記保護テープを貼着した後の半導体ウエハを収納する第2の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に、所定の処理データを書き込むカセットデータ書き込み装置と、をさらに備え、
    前記第1の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に書き込まれた半導体ウエハに関する情報を、前記カセットデータ読み取り装置によって読み取り、
    前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報とに基づいて、前記保護テープ貼着装置によって、前記保護テープを半導体ウエハに貼着し、
    該半導体ウエハを、前記第2の半導体ウエハ収納カセットに収容するとともに、第2の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に、前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、保護テープ貼着加工に関する情報とを、前記カセットデータ書き込み装置によって書き込むことを特徴とする請求項23に記載の保護テープ貼着システム。
  25. 半導体ウエハに貼着することによって半導体ウエハの回路面を保護するための保護テープを巻装した保護テープ巻装体と、
    前記保護テープ巻装体を、脱着自在に装着可能な巻き出し軸を備えた巻き出し装置と、
    前記巻き出し装置から巻き出された保護テープを、半導体ウエハに貼着する保護テープ貼着装置と、を備える保護テープ貼着システムであって、
    前記保護テープを貼着する前の半導体ウエハが収納される第1の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取るカセットデータ読み取り装置と、
    前記保護テープ巻装体に設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み書きするテープデータ読み書き装置と、
    前記保護テープを貼着した後の半導体ウエハを収納する第2の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に、所定の処理データを書き込むカセットデータ書き込み装置と、をさらに備え、
    前記第1の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に書き込まれた半導体ウエハに関する情報を、前記カセットデータ読み取り装置によって読み取り、
    前記保護テープ巻装体のデータキャリア部材に書き込まれた保護テープに関する情報を、前記テープデータ読み書き装置によって読み取り、
    前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報とに基づいて、前記保護テープ貼着装置によって、前記保護テープを半導体ウエハに貼着し、
    該半導体ウエハを、前記第2の半導体ウエハ収納カセットに収容するとともに、第2の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に、前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、保護テープ貼着加工に関する情報とを、前記カセットデータ書き込み装置によって書き込むことを特徴とする保護テープ貼着システム。
  26. 前記保護テープを半導体ウエハに貼着した後に、前記保護テープ巻装体のデータキャリア部材に、前記保護テープに関する情報を、前記テープデータ読み書き装置によって書き込むことを特徴とする請求項23から25のいずれかに記載の保護テープ貼着システム。
  27. 前記保護テープに関する情報が、保護テープの品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度のうちの少なくともいずれかからなる情報であることを特徴とする請求項23から26のいずれかに記載の保護テープ貼着システム。
  28. 保護テープが表面に貼着された半導体ウエハの、回路が形成していない裏面を研削するための裏面研削装置によって、該半導体ウエハを所定の厚さまで研削する半導体ウエハの裏面研削システムであって、
    裏面研削加工が行われる前の半導体ウエハが収容される第1の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取るカセットデータ読み取り装置と、
    裏面研削加工が行われた後の半導体ウエハを収容する第2の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に、所定の処理データを書き込むカセットデータ書き込み装置と、を備え、
    前記第1の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に書き込まれた半導体ウエハに関する情報と、保護テープに関する情報と、保護テープ貼着加工に関する情報とを読み取り、
    前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報とに基づいて、前記裏面研削装置によって前記半導体ウエハの裏面を所定の厚さまで研削し、
    該半導体ウエハを前記第2の半導体ウエハ収納カセットに収容するとともに、第2の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に、前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、裏面研削加工処理に関する情報とを、前記カセットデータ書き込み装置によって書き込むことを特徴とする半導体ウエハの裏面研削システム。
  29. 前記保護テープに関する情報が、保護テープの品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度のうちの少なくともいずれかからなる情報であり、
    前記半導体ウエハに関する情報が、半導体ウエハの種類、厚さのうちの少なくともいずれかであることを特徴とする請求項28に記載の半導体ウエハの裏面研削システム。
  30. マウントテープを巻装したマウントテープ巻装体と、
    前記マウントテープ巻装体を、脱着自在に装着可能な巻き出し軸を備えた巻き出し装置と、
    前記巻き出し装置から巻き出されたマウントテープを、半導体ウエハと該半導体ウエハの外周に載置したリングフレームが一体となるように貼着するマウントテープ貼着装置と、
    を備え、
    保護テープ貼着加工、及び、裏面研削加工が行われた半導体ウエハの外周に、マウントテープを介してリングフレームを貼着する半導体ウエハのウエハマウントシステムであって、
    前記マウントテープを貼着する前の半導体ウエハが収容される第1の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取るカセットデータ読み取り装置と、
    前記マウントテープを貼着した後の半導体ウエハを収容する第2の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に、所定の処理データを書き込むカセットデータ書き込み装置と、をさらに備え、
    前記第1の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に書き込まれた半導体ウエハに関する情報と、保護テープに関する情報と、保護テープ貼着加工に関する情報と、裏面研削加工に関する情報とを読み取り、
    前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、前記裏面研削加工に関する情報とに基づいて、前記マウントテープ貼着装置によって、前記マウントテープを、半導体ウエハと該半導体ウエハの外周に載置したリングフレームとが一体となるように貼着し、
    前記半導体ウエハの回路面に貼着された保護テープを剥離し、
    前記半導体ウエハを前記第2の半導体ウエハ収納カセットに収容するとともに、第2の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に、前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、前記裏面研削加工に関する情報と、前記マウントテープ貼着加工処理に関する情報とを、前記カセットデータ書き込み装置によって書き込むことを特徴とする半導体ウエハのウエハマウントシステム。
  31. 前記リングフレームに設けられたデータキャリア部材に、所定の処理データを書き込むリングフレームデータ書き込み装置を備え、
    前記リングフレームのデータキャリア部材に、前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、前記裏面研削加工に関する情報と、マウントテープ貼着加工処理に関する情報とを、前記リングフレームデータ書き込み装置によって書き込むことを特徴とする請求項30に記載の半導体ウエハのウエハマウントシステム。
  32. 前記保護テープに関する情報が、保護テープの品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度のうちの少なくともいずれかからなる情報であり、
    前記半導体ウエハに関する情報が、半導体ウエハの種類、厚さのうちの少なくともいずれかからなる情報であることを特徴とする請求項30または31に記載の半導体ウエハのウエハマウントシステム。
  33. 保護テープ貼着加工、裏面研削加工、ウエハマウント加工が行われた半導体ウエハを、ダイシング装置によって、賽の目状に切断する半導体ウエハのダイシングシステムであって、
    賽の目状に切断される前の半導体ウエハが収容される第1の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取るカセットデータ読み取り装置と、
    賽の目状に切断された後の半導体ウエハを収容する第2の半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に、所定の処理データを書き込むカセットデータ書き込み装置と、を備え、
    前記第1の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に書き込まれた半導体ウエハに関する情報と、保護テープに関する情報と、保護テープ貼着加工に関する情報と、裏面研削加工に関する情報と、マウントテープ貼着加工処理に関する情報とを読み取り、
    前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、前記裏面研削加工に関する情報と、前記マウントテープ貼着加工処理に関する情報とに基づいて、前記ダイシング装置によって、半導体ウエハを賽の目状に切断し、
    前記半導体ウエハを前記第2の半導体ウエハ収納カセットに収容するとともに、第2の半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に、前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、前記裏面研削加工に関する情報と、前記マウントテープ貼着加工処理に関する情報と、ダイシング加工処理に関する情報とを、前記カセットデータ書き込み装置によって書き込むことを特徴とする半導体ウエハのダイシングシステム。
  34. 前記半導体ウエハが備えるリングフレームに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取るリングフレームデータ読み取り装置を備え、
    前記リングフレームのデータキャリア部材に書き込まれた半導体ウエハに関する情報と、保護テープに関する情報と、保護テープ貼着加工に関する情報と、裏面研削加工に関する情報と、マウントテープ貼着加工処理に関する情報とを読み取り、
    前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、前記裏面研削加工に関する情報と、前記マウントテープ貼着加工処理に関する情報とに基づいて、前記ダイシング装置によって、半導体ウエハを賽の目状に切断することを特徴とする請求項33に記載の半導体ウエハのダイシングシステム。
  35. 前記リングフレームのデータキャリア部材に、所定の処理データを書き込むリングフレームデータ書き込み装置を備え、
    前記ダイシング装置によって、半導体ウエハを賽の目状に切断した後に、前記リングフレームのデータキャリア部材に、前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、前記裏面研削加工に関する情報と、前記マウントテープ貼着加工処理に関する情報と、ダイシング加工処理に関する情報とを、前記リングフレームデータ書き込み装置によって書き込むことを特徴とする請求項33または34に記載の半導体ウエハのダイシングシステム。
  36. 前記保護テープに関する情報が、保護テープの品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度のうちの少なくともいずれかからなる情報であり、
    前記半導体ウエハに関する情報が、半導体ウエハの種類、厚さのうちの少なくともいずれかからなる情報であることを特徴とする請求項33から35のいずれかに記載の半導体ウエハのダイシングシステム。
  37. 保護テープ貼着加工、裏面研削加工、ウエハマウント加工、ダイシング加工が行われた半導体ウエハを、ボンディング装置によって、賽の目状に切断された半導体チップごとにピックアップして、電子部品の電子部品実装部に装着する半導体のダイボンディングシステムであって、
    前記半導体ウエハが収容される半導体ウエハ収納カセットに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取るカセットデータ読み取り装置を備え、
    前記半導体ウエハ収納カセットのデータキャリア部材に書き込まれた半導体ウエハに関する情報と、保護テープに関する情報と、保護テープ貼着加工に関する情報と、裏面研削加工に関する情報と、マウントテープ貼着加工処理に関する情報と、ダイシング加工処理に関する情報とを読み取り、
    前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、前記裏面研削加工に関する情報と、前記マウントテープ貼着加工処理に関する情報と、前記ダイシング加工処理に関する情報とに基づいて、前記ボンディング装置によって、賽の目状に切断された半導体チップをピックアップして、前記電子部品の電子部品実装部に装着することを特徴とする半導体ウエハのダイボンディングシステム。
  38. 前記半導体ウエハが備えるリングフレームに設けられたデータキャリア部材に書き込まれた処理データを読み取るリングフレームデータ読み取り装置を備え、
    前記リングフレームのデータキャリア部材に書き込まれた半導体ウエハに関する情報と、保護テープに関する情報と、保護テープ貼着加工に関する情報と、裏面研削加工に関する情報と、マウントテープ貼着加工処理に関する情報と、ダイシング加工処理に関する情報とを読み取り、
    前記半導体ウエハに関する情報と、前記保護テープに関する情報と、前記保護テープ貼着加工に関する情報と、前記裏面研削加工に関する情報と、前記マウントテープ貼着加工処理に関する情報と、前記ダイシング加工処理に関する情報とに基づいて、前記ボンディング装置によって、賽の目状に切断された半導体チップをピックアップして、前記電子部品の電子部品実装部に装着することを特徴とする請求項37に記載の半導体ウエハのダイボンディングシステム。
  39. 前記保護テープに関する情報が、保護テープの品名、品質保証期限、テープ長さ、テープ幅、ロット番号、半導体ウエハに最適な貼着圧力、貼着速度のうちの少なくともいずれかからなる情報であり、
    前記半導体ウエハに関する情報が、半導体ウエハの種類、厚さのうちの少なくともいずれかからなる情報であることを特徴とする請求項37または38に記載の半導体ウエハのダイボンディングシステム。
  40. 請求項23から27のいずれかに記載の保護テープ貼着システムと、
    請求項28または29に記載の裏面研削システムと、
    請求項30から32のいずれかに記載のウエハマウントシステムと、
    請求項33から36のいずれかに記載のダイシングシステムと、
    請求項37から39のいずれかに記載のダイボンディングシステムと、
    を備える半導体ウエハ加工処理システム。
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US11/476,382 US8392011B2 (en) 2005-06-29 2006-06-28 Semiconductor wafer processing tape winding body, semiconductor wafer processing tape sticking apparatus and semiconductor wafer processing apparatus that use the semiconductor wafer processing tape winding body
TW095123279A TWI408738B (zh) 2005-06-29 2006-06-28 半導體晶圓處理膠帶捲裝體及使用該捲裝體之半導體晶圓處理膠帶貼著裝置,以及半導體晶圓加工處理裝置
KR1020060058380A KR101269290B1 (ko) 2005-06-29 2006-06-28 반도체 웨이퍼 처리 테이프 와인딩 바디 및 그것을 사용한반도체 웨이퍼 처리 테이프 첩착장치 및 반도체 웨이퍼가공처리장치
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GB0612953A GB2428136B (en) 2005-06-29 2006-06-29 Semiconductor wafer processing tape winding body, semiconductor wafer processing tape sticking apparatus and semiconductor wafer processing apparatus
DE102006029961.2A DE102006029961B4 (de) 2005-06-29 2006-06-29 Wicklungskörper mit einem Bearbeitungsband für einen Halbleiterwafer und Vorrichtung zum Ankleben eines Bearbeitungsbandes an einen Halbleiterwafer, welche den Wicklungskörper mit dem Bearbeitungsband für den Halbleiterwafer verwendet
CN2006101007304A CN1892982B (zh) 2005-06-29 2006-06-29 半导体晶片处理带卷装体、贴付装置及加工处理装置

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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4841262B2 (ja) * 2006-02-13 2011-12-21 株式会社東京精密 ウェーハ処理装置
JP4693696B2 (ja) * 2006-06-05 2011-06-01 株式会社東京精密 ワーク処理装置
US8688254B2 (en) * 2007-06-15 2014-04-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Multiple tools using a single data processing unit
JP5089531B2 (ja) * 2007-08-31 2012-12-05 大日本印刷株式会社 ウエハ固定用治具
TWI417967B (zh) * 2009-11-02 2013-12-01 Chroma Ate Inc A method for marking a grain bearing tray, a sorting machine and a characteristic mark
JP5690615B2 (ja) * 2011-03-03 2015-03-25 リンテック株式会社 リングフレーム、及び工程管理システム
JP5856397B2 (ja) * 2011-06-30 2016-02-09 リンテック株式会社 帯状シートの軸芯部材
JP6105312B2 (ja) 2013-02-13 2017-03-29 リンテック株式会社 支持装置及びデータ管理方法
JP6740444B2 (ja) * 2017-02-20 2020-08-12 株式会社Fuji スプライシングテープ管理システム
JP2020198408A (ja) * 2019-06-05 2020-12-10 株式会社ディスコ テープユニット及びテープ貼り機
JP7351703B2 (ja) * 2019-10-09 2023-09-27 株式会社ディスコ テープマウンタ
US11904538B2 (en) * 2020-11-27 2024-02-20 The Boeing Company Systems and methods for simultaneously manufacturing a plurality of objects

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000281268A (ja) * 1999-03-30 2000-10-10 Sato Corp ロ−ル状被印字媒体
JP2001203523A (ja) * 2000-01-19 2001-07-27 Dainippon Printing Co Ltd 巻取り用着脱可能なicタグ
JP2001354343A (ja) * 2000-06-14 2001-12-25 Sato Corp 帯状物のロール体及びプリンタ並びに印字方法
JP2003006481A (ja) * 2001-06-19 2003-01-10 Seiko Epson Corp メモリ付きロール紙の販売システム及び用紙販売システム
JP2005136305A (ja) * 2003-10-31 2005-05-26 Lintec Corp 貼合装置用テーブル
JP2005162335A (ja) * 2003-11-28 2005-06-23 Sato Corp ロール製品の巻芯

Family Cites Families (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3643849A (en) * 1970-02-25 1972-02-22 Midwestern Instr Inc Tape guide
DE3234345A1 (de) * 1982-09-16 1984-03-22 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Kodiersystem zur erfassung von informationen an werkstuecktraegern und dergleichen
JPH0616524B2 (ja) 1984-03-12 1994-03-02 日東電工株式会社 半導体ウエハ固定用接着薄板
JPS60223139A (ja) 1984-04-18 1985-11-07 Nitto Electric Ind Co Ltd 半導体ウエハ固定用接着薄板
JP2601956B2 (ja) 1991-07-31 1997-04-23 リンテック株式会社 再剥離型粘着性ポリマー
JP3216205B2 (ja) 1992-03-27 2001-10-09 神鋼電機株式会社 半導体製造システムにおけるid認識装置
JP2984549B2 (ja) 1994-07-12 1999-11-29 リンテック株式会社 エネルギー線硬化型感圧粘着剤組成物およびその利用方法
US5673195A (en) * 1995-06-12 1997-09-30 Schwartz; Vladimir Compact disc tracking system and method
DE59712742D1 (de) * 1996-08-09 2006-11-16 Ferag Ag System aus Wickelkernen mit Wickelbändern und einem Schreib-/Lesegerät, welches zum berührungslosen Auslesen und/oder Überschreiben von Daten dient
US5907492A (en) * 1997-06-06 1999-05-25 Micron Technology, Inc. Method for using data regarding manufacturing procedures integrated circuits (IC's) have undergone, such as repairs, to select procedures the IC's will undergo, such as additional repairs
WO2000002236A2 (en) * 1998-07-07 2000-01-13 Memc Electronic Materials, Inc. Radio frequency identification system and method for tracking silicon wafers
DE19842951C1 (de) * 1998-09-18 2000-06-21 Siemens Nixdorf Inf Syst Bestückungsautomat mit Identifikationseinrichtung für Bauteilegebinde
DE60036496T2 (de) * 1999-02-24 2008-06-19 Hitachi Maxell, Ltd., Ibaraki Verfahren zum Herstellen eines IC-Elements mit Spule
JP2000331962A (ja) * 1999-05-18 2000-11-30 Lintec Corp 半導体ウエハの加工方法および半導体ウエハ支持部材
JP2001019278A (ja) * 1999-07-07 2001-01-23 Asahi Chem Ind Co Ltd 巻き芯
US6405096B1 (en) * 1999-08-10 2002-06-11 Advanced Micro Devices, Inc. Method and apparatus for run-to-run controlling of overlay registration
US6427093B1 (en) * 1999-10-07 2002-07-30 Advanced Micro Devices, Inc. Method and apparatus for optimal wafer-by-wafer processing
US6640151B1 (en) * 1999-12-22 2003-10-28 Applied Materials, Inc. Multi-tool control system, method and medium
JP2001332521A (ja) * 2000-05-19 2001-11-30 Sony Corp チップ状半導体装置の移載方法及び移載装置
US6524881B1 (en) 2000-08-25 2003-02-25 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for marking a bare semiconductor die
US6351684B1 (en) * 2000-09-19 2002-02-26 Advanced Micro Devices, Inc. Mask identification database server
JP3446830B2 (ja) * 2000-10-16 2003-09-16 宮崎沖電気株式会社 半導体ウエハのテープ貼り付け装置およびその貼り付け方法
US6700729B1 (en) * 2000-10-17 2004-03-02 Hewlett-Packard Development Company Alignment marks for tape head positioning
WO2003012837A1 (en) * 2001-07-31 2003-02-13 Asahi Kasei Microsystems Co.,Ltd. Semiconductor manufacturing apparatus control system
US7016753B2 (en) * 2001-10-30 2006-03-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Management system for production line and management method for production line
US20030090829A1 (en) * 2001-11-14 2003-05-15 Johnson Kristianne E. Apparatus for and method of retrieving data cartridge-related information from a data cartridge memory
US20030123174A1 (en) * 2001-12-28 2003-07-03 Mark Hennecken Continuously variable storage device data transfer rate
US6582973B1 (en) * 2002-04-05 2003-06-24 Texas Instruments Incorporated Method for controlling a semiconductor manufacturing process
US6940678B2 (en) * 2002-04-10 2005-09-06 Seagate Technology Llc Magnetic alignment marking of hard disks
US6716651B2 (en) * 2002-04-25 2004-04-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Method and apparatus for identifying a wafer cassette
US20040004789A1 (en) * 2002-07-03 2004-01-08 Christopher Watanabe Replaceable memory element in a single reel tape cartridge
CN1711593A (zh) * 2002-11-04 2005-12-21 皇家飞利浦电子股份有限公司 使用超顺磁性颗粒的存储系统
US7273166B2 (en) * 2002-11-11 2007-09-25 Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. Component information applying method and apparatus
JP2004284601A (ja) 2003-03-19 2004-10-14 Renesas Technology Corp 半導体装置の搬送方法および実装方法ならびに包装方法およびそれに用いられる収容体の再利用方法
EP1498935B1 (en) * 2003-07-15 2006-04-26 Tokyo Seimitsu Co.,Ltd. Device for calculating the quantity of light and method thereof
JP4444619B2 (ja) * 2003-10-10 2010-03-31 リンテック株式会社 マウント装置及びマウント方法
JP4494753B2 (ja) * 2003-10-27 2010-06-30 リンテック株式会社 シート剥離装置及び剥離方法
JP4495960B2 (ja) * 2003-12-26 2010-07-07 キヤノンItソリューションズ株式会社 プロセスと品質との関係についてのモデル作成装置
JP2005209850A (ja) * 2004-01-22 2005-08-04 Toshiba Corp 半導体装置の設計システムと製造システム
US20050283266A1 (en) 2004-06-17 2005-12-22 Geraci Gwen R Method and system for providing unit level traceability of semiconductor die
TWI234234B (en) * 2004-08-09 2005-06-11 Touch Micro System Tech Method of segmenting a wafer
JP4916243B2 (ja) 2006-08-02 2012-04-11 大阪瓦斯株式会社 微細気泡発生装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000281268A (ja) * 1999-03-30 2000-10-10 Sato Corp ロ−ル状被印字媒体
JP2001203523A (ja) * 2000-01-19 2001-07-27 Dainippon Printing Co Ltd 巻取り用着脱可能なicタグ
JP2001354343A (ja) * 2000-06-14 2001-12-25 Sato Corp 帯状物のロール体及びプリンタ並びに印字方法
JP2003006481A (ja) * 2001-06-19 2003-01-10 Seiko Epson Corp メモリ付きロール紙の販売システム及び用紙販売システム
JP2005136305A (ja) * 2003-10-31 2005-05-26 Lintec Corp 貼合装置用テーブル
JP2005162335A (ja) * 2003-11-28 2005-06-23 Sato Corp ロール製品の巻芯

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