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JP4456811B2 - ケタール交換反応による、16,17−[(シクロヘキシルメチレン)ビス(オキシ)]−11,12−ジヒドロキシ−プレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオンまたはその21−イソブチレートの製造方法 - Google Patents

ケタール交換反応による、16,17−[(シクロヘキシルメチレン)ビス(オキシ)]−11,12−ジヒドロキシ−プレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオンまたはその21−イソブチレートの製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
技術分野
本発明は、公知のグリココルチコイドを製造するための新規方法に関し、この場合、これは医薬品を製造するための医薬品工業において使用される。
【0002】
背景技術
国際特許出願WO9422899では、新規プレドニゾロン誘導体およびこれを製造するための方法が記載されている。この方法においては、16−ヒドロキシプレドニゾロンを、シクロヘキサンアルデヒドと反応させる。ドイツ特許出願DE4129535では、新規グリココルチコイドおよびこれを製造するための方法が記載されている。方法は、プレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオン−16,17−ジヒドロキシ化合物を、その16,17−ジエステル誘導体の形で、アルデヒド(たとえばシクロヘキサンアルデヒド)と反応させ、好ましい最終生成物を得ることを含む。
【0003】
発明の開示
本発明は、式1
【0004】
【化3】
Figure 0004456811
【0005】
[式中、Rは水素(H)またはイソブチリル[CO−CH(CH]である]の化合物を、主にエピマー的に純粋な形で製造するための方法に関する。
【0006】
式1の化合物は、簡単な方法で良好な収率で、かつ驚くべきことに、出発材料として、16,17−ジヒドロキシ化合物または16,17−ジエステルよりもむしろ、相当する16.17−ケタール、特に16,17−アセトニド誘導体を使用した場合に、エピマー的に高い純度で得られることが見出された。
【0007】
したがって、本発明は、主にエピマー的に純粋な形で、式1の化合物を製造するための方法に関し、この場合、この方法は、式2
【0008】
【化4】
Figure 0004456811
【0009】
[式中、
Rは水素(H)またはイソブチル[CO−CH(CH]であり、
R1はC1〜C4−アルキルであり、かつ
R2はC1〜C4−アルキルである]の化合物を、シクロヘキサンアルデヒドと反応させることを含む。
【0010】
好ましくは、方法は、R1およびR2がそれぞれの場合においてメチル(CH)である、これらの式2の化合物を用いておこなう。
【0011】
反応は、適した溶剤、たとえば、エーテル、たとえばジオキサン、ジイソプロピルエーテル、エステル、たとえば酢酸エチル、ハロゲン化炭化水素、たとえば塩化メチレン、クロロホルム、硝酸化炭化水素、たとえばニトロメタン、2−ニトロプロパンまたは好ましくは1−ニトロプロパン中で実施するか、あるいは、溶剤を用いずに、触媒量かさもなければかなり多量の酸、たとえば鉱酸、たとえば四フッ化ホウ酸または特に過塩素酸、またはスルホン酸、特にメタンスルホン酸を添加して、有利には0℃〜60℃の温度で実施する。
【0012】
式2の16−ヒドロキシプレドニゾロンケタールと、シクロヘキサンアルデヒドとの反応によって、通常はエピマー混合物が得られる。しかしながら、驚くべきことに、反応は本発明によって、適した反応条件で、式1中で好ましくかつ示されたR−エピマーが生じる程度に調整される。したがって、本発明による“主にエピマー的に純粋な形”は、化合物1において、Rが水素(H)であるR−エピマー(C−22での絶対的な立体配置に基づく)が、全収量に対して、少なくとも90%、好ましくは少なくとも95%、特に少なくとも97%で生じることを意味する。
【0013】
R−エピマーの主な製造方法に関しては、たとえば以下の条件が好ましい:
溶剤としては、ハロゲン化炭化水素(たとえば、塩化メチレンまたはクロロホルムとして)または硝酸化炭化水素(たとえばニトロメタン、2−ニトロプロパンまたは好ましくは1−ニトロプロパン)であり、かつ触媒としては、メタンスルホン酸(10℃〜40℃の温度で)または35〜70%濃度、特に60〜70%濃度の過塩素酸(0℃〜40℃、好ましくは15℃〜30℃、特に20℃〜25℃の温度である)である。
【0014】
R−エピマーが、反応条件に関して達成可能なものよりもより純粋な形であることが好ましい場合には、適した分離工程および精製工程、たとえば、分取HPLC、または国際特許出願WO9809982に記載されたような分別晶出を、反応に引き続いて行ってもよい。
【0015】
以下の例は本発明を詳細に例証する:
実施例
16,17−[(シクロヘキシルメチレン)ビス(オキシ)−11.21−ジヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオン[11β,16α(R)]]
デソニド 20gを、1−ニトロプロパン 70ml中に懸濁し、かつ、ゆっくりと70%濃度の過塩素酸 12.6mlおよびシクロヘキサンアルデヒド 6.6gで氷冷して処理した。反応混合物を室温で一晩に亘って撹拌し、その後に濾過した。フィルターケークを、DMF90ml中に溶解し、かつ溶液を撹拌しながら、炭酸水素ナトリウム溶液に滴加した。沈殿物を吸引濾別し、水で洗浄し、かつ、乾燥させた。R−/S−エピマー比 97.8/2.2のを有する標題化合物 19gが得られた。

Claims (5)

  1. 式1
    Figure 0004456811
    [式中、Rは水素(H)である]の化合物を、95%以上のエピマー的に純粋な形で製造するための方法において、
    式2
    Figure 0004456811
    [式中、Rは水素(H)]であり、
    R1はメチル(CH)であり、かつ
    R2はメチル(CH)である]
    の化合物とシクロヘキサンアルデヒドとを、
    触媒として過塩素酸を使用し、
    溶媒として1−ニトロプロパンを使用して、
    0〜40℃の温度で、
    反応させることを特徴とする、式1の化合物を製造する方法。
  2. 過塩素酸が60%〜70%の濃度である、請求項1に記載の方法。
  3. 反応を15〜30℃の温度でおこなう、請求項1又は2に記載の方法。
  4. 反応を20〜25℃の温度でおこなう、請求項1〜のいずれかに記載の方法。
  5. 式1の化合物が、16,17−[(シクロヘキシルメチレン)ビス(オキシ)−11,21−ジヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオン[11β,16α(R)]]である請求項1〜のいずれかに記載の方法。
JP2002541116A 2000-11-10 2001-11-06 ケタール交換反応による、16,17−[(シクロヘキシルメチレン)ビス(オキシ)]−11,12−ジヒドロキシ−プレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオンまたはその21−イソブチレートの製造方法 Expired - Lifetime JP4456811B2 (ja)

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