JP4114018B2 - アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法 - Google Patents
アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4114018B2 JP4114018B2 JP31028497A JP31028497A JP4114018B2 JP 4114018 B2 JP4114018 B2 JP 4114018B2 JP 31028497 A JP31028497 A JP 31028497A JP 31028497 A JP31028497 A JP 31028497A JP 4114018 B2 JP4114018 B2 JP 4114018B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- aluminum
- alumina
- composition
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アルミニウムディスクの精密研磨に用いられる研磨用組成物とその研磨用組成物を用いる研磨方法に関する。特に、本願発明の研磨用組成物は、アルミニウムディスクの研磨において高精度に平滑な研磨表面を効率的に得ることができるため、最終仕上げ研磨用組成物として有用である。本願発明におけるアルミニウムディスクの研磨とは、アルミニウムあるいはその合金からなる磁気記録媒体ディスクの基材そのものの表面、又は基材の上に設けられたＮｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｂなどのメッキ層の表面、特にＮｉ９０〜９２％とＰ８〜１０％の組成の硬質Ｎｉ−Ｐメッキ層の表面、及びアルミナ層の表面を研磨することをいう。
【０００２】
そして、本願発明の研磨用組成物を用いる研磨方法により、高精度に平滑な研磨表面を有するアルミニウムディスクを得られて有用である。
【０００３】
【従来の技術】
アルミニウムディスクの研磨に使用されている研磨用組成物としては、水とアルミナ研磨材と研磨促進剤を、場合によっては更に表面改質剤を加えて、混合してスラリー化したものが用いられている。この研磨促進剤の例として、特公平２−２３５８９号公報には、硝酸アルミニウム、硝酸ニッケル、硫酸ニッケルなどが、また特開平２−１５８６８２号公報には、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、亜鉛、アルミニウムなどの亜硝酸塩が開示されている。更に、特開平１−２０５９７３号公報には、ベーマイトと水溶性の金属塩の混合物が、特開平２−１５８６８３号公報には、ベーマイトと無機酸又は有機酸のアンモニウム塩との混合物が開示されている。また、研磨促進剤と表面改質剤の例として特公平４−３８７８８号公報には、グルコン酸又は乳酸の研磨促進剤及びコロイダルアルミナの表面改質剤が開示されている。
【０００４】
アルミナ研磨材の平均粒子径及びα相含有率に関しては、特開平５−２７１６４７号公報には、α相含有率が１０〜８０％で、平均１次粒子径が２μｍ以下、好ましくは０．４〜１．０μｍの角状アルミナを砥粒成分として含有する研磨剤が開示されている。特開平３−２７７６８３号公報には、α相含有率が９５％以上で、平均１次粒子径が０．３５μｍ以下の角状アルミナを砥粒成分として含有する研磨剤が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
近年、磁気記録媒体ディスクの性能は、ますます高密度化、高速化していく傾向にある。そのため、アルミニウムディスクには、オレンジピール、スクラッチ、ピット、突起などの表面欠陥がないということや最大表面荒さが小さいことだけにとどまらず、平均表面粗さにおいても小さな研磨面が求められている。
【０００６】
本発明は、これらの要望に応えるものであって、高品質の研磨面を保ちながらしかも研磨速度を速くすることにより研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能な研磨用組成物とその研磨用組成物を用いる研磨方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含む研磨用組成物において、研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩が優れた研磨促進剤であることを見出した。更に本発明研磨促進剤とアルミナ研磨材として０．１〜０．４μｍの平均粒子径とα相含有率が８０〜９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナを採用した研磨用組成物でアルミニウムディスクを研磨した時に、従来のアルミニウムディスク用研磨剤と比較して表面粗さに対する研磨速度の比率が高い、即ち高速研磨性でしかも高品質の研磨面が得られることを見い出し、本発明に至ったものである。
【０００８】
本発明の研磨促進剤は、三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩であり、例えば三価の金属としては、アルミニウム、インジウム、鉄などが、また四価の金属としてはジルコニウム、セリウム、錫、チタンなどが挙げられる。無機酸としては、硝酸、硫酸などが、また有機酸としては酢酸、ギ酸、スルファミン酸、酒石酸、シュウ酸、グルコン酸などが挙げられる。三価及び四価の金属の中でアルミニウムが、また無機酸及び有機酸の中で硝酸が研磨特性が最も優れて、より好ましく、塩基性硝酸アルミニウムが挙げられる。一方、塩基性塩化アルミニウムなどの塩化物の塩基性塩は、ステンレス鋼の応力腐食などの問題を起こすため、研磨装置に使用する材質が限定されて好ましくない。
【０００９】
研磨用組成物における好ましい研磨促進剤の含有量は、三価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物Ｍ2Ｏ3（但し、Ｍは三価の金属原子を表す。）の換算濃度で、また四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物ＭＯ2（但し、Ｍは四価の金属原子を表す。）の換算濃度で表すと、０．１〜１０重量％、より好ましくは０．３〜６重量％である。
【００１０】
本発明のアルミナ研磨材は、市販されている研磨材を用いることができる。安価で大量に製造されているバイヤー法により製造された水酸化アルミニウムを１１００〜１３００℃で仮焼後、振動ミル、ボールミル、アトライターなどで乾式粉砕した平均粒子径が０．５〜５０μｍであり、α相を含有するアルミナが好ましい。更にこの乾式粉砕したアルミナをボールミル、アトライター、サンドグラインダーなどで湿式粉砕することにより得られる平均粒子径が０．１〜０．４μｍであり、α相含有率が８０〜９５％であるアルミナがより好ましい。
【００１１】
ここで、アルミナの平均粒子径は、メジアン粒子径（５０％体積粒子径）である。その測定には、市販の遠心粒度分布測定装置、例えば（株）島津製作所（株）のＳＡ−ＣＰ３などが用いられる。アルミナのα相含有率は、Ｘ線回折測定により、（１１３）面回折線の積分強度を求め、予めα相含有率の規定されたアルミナの積分強度により規格化することにより求められる。
【００１２】
研磨用組成物における好ましいアルミナ研磨材の含有量は、１〜２０重量％である。
本発明における研磨用組成物には、アルミナとともに酸化物であるジルコニア、珪酸ジルコニウム、シリカ、ムライト、酸化セリウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタンなどを加えることができる。そして水酸化アルミニウムなどの水酸化物、ベーマイトなどの水和酸化物及びダイヤモンド、窒化硼素、窒化珪素、炭化珪素、炭化硼素などの非酸化物も加えることができる。
【００１３】
また、本発明における研磨用組成物に一般的に加えられているエタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの水溶性アルコール、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、リン酸などの酸、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ホルマリン縮合物などの界面活性剤、ポリアクリル酸塩などの有機ポリアニオン系物質、セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどのセルロース類を加えることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の研磨促進剤は、三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩である。塩基性塩の中で好ましい研磨促進剤としては、Ａｌ（ＯＨ）X（ＮＯ3）3-X（ただし、Ｘは０．５〜２．７の実数）の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウムが挙げられる。これら塩基性硝酸アルミニウムの水溶液は一部ポリマーとなっているが、便宜上、上記の化学組成で表示した。また塩基性硝酸アルミニウムの塩基度とはアルミニウムイオンと結合した水酸基の割合で、Ａｌ（ＯＨ）X（ＮＯ3）3-Xにおいて，（Ｘ／３）×１００％を意味する。
【００１５】
よって、本発明の塩基性硝酸アルミニウム塩は塩基度としては、１６．７〜９０％と表すことができる。この中で、好ましい塩基度としては２６．７〜７６．０％となる。
また研磨用組成物における研磨促進剤の含有量は、三価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物Ｍ2Ｏ3（但し、Ｍは三価の金属原子を表す。）の換算濃度で、また四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物ＭＯ2（但し、Ｍは四価の金属原子を表す。）の換算濃度で表すと、０．１重量％より少ないと研磨促進剤としての効果が認められず、また１０重量％より多くしても研磨促進剤としての効果の更なる向上は認められないため、０．１〜１０重量％が好ましい。そして、研磨促進剤の含有量が０．３〜６重量％では、研磨促進剤としての効果が安定するとともに、表面粗さに対する研磨速度の比率も高く維持されてより好ましい。
【００１６】
本発明のアルミナ研磨材として０．１〜０．４μｍの平均粒子径のアルミナの代わりに、０．４μｍ以上の平均粒子径のアルミナを使用した場合、研磨面の表面粗さが大きくなる。一方、０．１μｍの平均粒子径のアルミナを使用すると研磨速度が遅くなる。更に、０．１〜０．４μｍの平均粒子径のアルミナに、陽（プラス）に帯電した平均粒子径が０．０１〜０．２μｍのシリカ粒子又はシリカゾルを添加することで粒子を最密充填することで、更に研磨面を平坦化することが可能である。
【００１７】
アルミナ研磨材としてα相含有率が８０〜９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナの代わりに、α相含有率が９５％を越えるアルミナ結晶構造を有するアルミナを使用した場合、研磨速度が速くなるが、研磨面の表面粗さが大きくなるため、表面粗さに対する研磨速度の比率が小さくなり、研磨特性としては劣る。一方、α相含有率が８０％を未満のアルミナ結晶構造を有するアルミナを使用した場合、研磨面の表面粗さは変わらないが研磨速度が遅くなるため、表面粗さに対する研磨速度の比率が小さくなり、研磨特性としては劣る。
【００１８】
研磨用組成物におけるアルミナ研磨材の含有量は、１重量％より少ないと研磨効果が小さく、２０重量％より多くしても研磨効果の更なる向上は認められないため、アルミナ研磨材の含有量は１〜２０重量％が好ましい。
【００１９】
【実施例】
下記の実施例により、本発明を更に説明する。
［研磨用組成物の調製］
実験例１
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径０．７８μｍ、α相含有率８５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３２μｍでα相含有率が８５％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ａ）を得た。
【００２０】
次に、硝酸アルミニウム・九水塩３８０ｇを純水１ｋｇに溶解した後、この水溶液を沸騰させ、１３２０ｇの３５％過酸化水素水溶液と１１０ｇのアルミニウム金属粉末を徐々に添加し溶解・反応させた。この反応液を濾過して塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）を得た。この塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度９．９重量％と、硝酸イオン濃度７．２重量％を含み、塩基度として８０．０％で、Ａｌ（ＯＨ）2.4（ＮＯ3）0.6 の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム水溶液であった。
【００２１】
更に、塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）に６０重量％硝酸を添加して、塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）を調製した。この塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度７．１重量％と、硝酸イオン濃度１７．３重量％を含み、塩基度として３３．３％で、Ａｌ（ＯＨ）（ＮＯ3）2の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム水溶液であった。
【００２２】
そして、水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）を加えて、研磨用組成物（１Ａｂ）を調製した。この研磨用組成物（１Ａｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度で１．２重量％と、硝酸濃度３．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２３】
実験例２
研磨促進剤として、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム濃度を増量した以外は、実験例１と同様にして、研磨用組成物（２Ａｂ）を調製した。この研磨用組成物（２Ａｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２４】
実験例３
実験例１で得た塩基度８０．０％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）に６０重量％硝酸を添加して、塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）を調製した。この塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度８．３重量％と、硝酸イオン濃度１０．０重量％を含み、塩基度として６６．７％で、Ａｌ（ＯＨ）2（ＮＯ3）の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム水溶液であった。
【００２５】
よって、実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）を加えて、研磨用組成物（３Ａｃ）を調製した。この研磨用組成物（３Ａｃ）は、塩基度６６．７％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度２．１重量％と、硝酸濃度２．６重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２６】
実験例４
実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈して、アルミナ固形分１０重量％を含む研磨用組成物（４Ａ）を調製した。
実験例５
実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として硝酸アルミニウム水溶液（ｄ）を加えて、研磨用組成物（５Ａｄ）を調製した。この研磨用組成物（５Ａｄ）は、硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．２重量％と、硝酸濃度４．５重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２７】
実験例６
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．０７μｍ、α相含有率５５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３０μｍでα相含有率が５５％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ｂ）を得た。
【００２８】
よって、この水性アルミナスラリー（Ｂ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として実施例１で得た塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）を加えて、研磨用組成物（６Ｂｂ）を調製した。この研磨用組成物（６Ｂｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２９】
実験例７
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．００μｍ、α相含有率９８％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで８時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３５μｍでα相含有率が９８％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ｃ）を得た。
【００３０】
よって、この水性アルミナスラリー（Ｃ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として実施例１で得た塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）を加えて、研磨用組成物（７Ｃｂ）を調製した。この研磨用組成物（７Ｃｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００３１】
実験例８
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．２０μｍ、α相含有率７５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３３μｍでα相含有率が７５％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ｄ）を得た。
【００３２】
よって、この水性アルミナスラリー（Ｄ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として硝酸アルミニウム水溶液（ｄ）を加えて、研磨用組成物（８Ｄｄ）を調製した。この研磨用組成物（８Ｄｄ）は、硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．２重量％と、硝酸濃度４．５重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００３３】
実験例９
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．００μｍ、α相含有率９８％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで４時間粉砕して、平均粒子径が０．５７μｍでα相含有率が９８％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ｅ）を得た。
【００３４】
よって、この水性アルミナスラリー（Ｅ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤としてグルコン酸ナトリウム水溶液（ｅ）を加えて、研磨用組成物（９Ｅｅ）を調製した。この研磨用組成物（９Ｅｅ）は、グルコン酸ナトリウム濃度１．２重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
実験例１０
実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として、長軸径２０〜３０ｎｍを有する板状ベーマイト粒子が分散する硝酸酸性水性ベーマイトゾル（ｆ）と６０重量％硝酸とを加えて、研磨用組成物（１０Ａｆ）を調製した。この研磨用組成物（１０Ａｆ）は、ベーマイトをＡｌ2Ｏ3換算濃度で１．２重量％と、硝酸濃度３．０％重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００３５】
［研磨試験］
研磨試験は、下記のように行った。
被加工物は、アルミニウム基板にＮｉ−Ｐを１０μｍの厚さに無電解メッキした２．５インチメモリーハードディスク基板を使用した。尚、この基板は１次研磨してあり平均表面粗さは、１．８ｎｍである。
【００３６】
オスカー型レンズ研磨機の定盤に人工皮革タイプのポリウレタン製研磨布（ＰＯＬＩＴＥＸ ＤＧ（商標）、２５０ｍｍφ、ロデール・ニッタ（株）製）を貼り付け、これに基板の研磨面を対向させ１４ｋＰａの荷重をかけて研磨した。
定盤回転数は、毎分３０回転であり、スラリー供給量は２ｍｌ／分である。
研磨の後、被加工物を取り出し超音波洗浄を繰り返して洗浄した。
【００３７】
洗浄後アルミディスクを乾燥し、重量減少から研磨速度を求めた。表面欠陥については、微分干渉顕微鏡により観察し、突起、ピット、スクラッチなどの度合を判定した。平均表面粗さは、市販品の装置、例えば米国のＺｙｇｏ社製の「New View 100」という名称の装置を使用することによる、ＦＤＡを用いる走査型白色干渉法あるいは位相測定法により測定した。
【００３８】
ここで１０重量％のアルミナ固形分を含む研磨用組成物の物性を第１表に示す。
【００３９】
【表１】
（注記）第１表の研磨促進剤含有量について：研磨促進剤として、塩基性硝酸アルミニウム、硝酸アルミニウム及び硝酸酸性ベーマイトゾルを用いた場合、含有量はＡｌ2Ｏ3換算濃度で表した。研磨促進剤がグルコン酸ナトリウムのみ、グルコン酸ナトリウム濃度で表した。
【００４０】
試験結果について、研磨用組成物（４Ａ）及び（１０Ａｆ）では、研磨面にピット及びスクラッチが発生したが、その他の研磨用組成物では研磨面にピット及びスクラッチの発生は認められなかった。また研磨試験における研磨速度、平均表面粗さ及び平均表面粗さに対する研磨速度の比率についての結果は第２表に示す。
【００４１】
【表２】
第２表から、研磨用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び（３Ａｃ）に示される、研磨促進剤が塩基性硝酸アルミニウムで、アルミナが平均粒子径が０．３２μｍでα相含有率が８５％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを含む研磨用組成物の群では、平均表面粗さに対する研磨速度の比率が３００以上と高い。一方、研磨促進剤の無添加である研磨用組成物（４Ａ）及び研磨促進剤が硝酸アルミニウムの研磨用組成物（５Ａｄ）では、平均表面粗さに対する研磨速度の比率が２３０以下であり、研磨用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び（３Ａｃ）からなる群の方が研磨特性が優れている。また、アルミナ研磨材のα相含有率が５５％と低い研磨用組成物（６Ｂｂ）及びα相含有率が９８％と高い研磨用組成物（７Ｃｂ）では、平均表面粗さに対する研磨速度の比率が２５０以下であり、研磨用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び（３Ａｃ）からなる群が研磨特性が優れている。
【００４２】
また従来技術例である研磨用組成物（８Ｄｄ）、（９Ｅｅ）及び（１０Ａｆ）は、平均表面粗さに対する研磨速度の比率が２００以下になっており、研磨用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び（３Ａｃ）からなる群と比較すると研磨特性が良くない。
【００４３】
【発明の効果】
本発明の研磨促進剤は、三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩である。塩基性硝酸アルミニウムなどの塩基性塩は、硝酸アルミニウムなどの正塩と同じようにアルミニウムディスクに対して化学的研磨効果を促進させる効果を示すとともに、正塩より研磨用組成物のｐＨを中性側に保つ緩衝効果があるため、研磨時の過剰なエッチングが抑制され表面粗さを小さく、表面欠陥が少なくし、高品質の研磨面が得られるものと考えられる。その結果、表面粗さに対する研磨速度比率が大きくなり、研磨特性として優れている。本発明の研磨用組成物は、高速研磨性を有し、しかも高品質の研磨面が得られる研磨用組成物であるため、研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能である。また、本発明の研磨用組成物は、工業製品として供給され得るアルミニウムディスクの上に設けられたＮｉ−Ｐなどのメッキ層の表面、特にＮｉ９０〜９２％とＰ８〜１０％の組成の硬質Ｎｉ−Ｐメッキ層の表面、アルミナ層の表面あるいはアルミニウム、その合金、アルマイトの表面を研磨するのに有用であることが明瞭である。
【００４４】
更に本願発明の精密研磨用組成物は、磁気ヘッド、半導体多層配線基板の配線金属、半導体多層配線基板の絶縁層などの精密研磨にも使用することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、アルミニウムディスクの精密研磨に用いられる研磨用組成物とその研磨用組成物を用いる研磨方法に関する。特に、本願発明の研磨用組成物は、アルミニウムディスクの研磨において高精度に平滑な研磨表面を効率的に得ることができるため、最終仕上げ研磨用組成物として有用である。本願発明におけるアルミニウムディスクの研磨とは、アルミニウムあるいはその合金からなる磁気記録媒体ディスクの基材そのものの表面、又は基材の上に設けられたＮｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｂなどのメッキ層の表面、特にＮｉ９０〜９２％とＰ８〜１０％の組成の硬質Ｎｉ−Ｐメッキ層の表面、及びアルミナ層の表面を研磨することをいう。
【０００２】
そして、本願発明の研磨用組成物を用いる研磨方法により、高精度に平滑な研磨表面を有するアルミニウムディスクを得られて有用である。
【０００３】
【従来の技術】
アルミニウムディスクの研磨に使用されている研磨用組成物としては、水とアルミナ研磨材と研磨促進剤を、場合によっては更に表面改質剤を加えて、混合してスラリー化したものが用いられている。この研磨促進剤の例として、特公平２−２３５８９号公報には、硝酸アルミニウム、硝酸ニッケル、硫酸ニッケルなどが、また特開平２−１５８６８２号公報には、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、亜鉛、アルミニウムなどの亜硝酸塩が開示されている。更に、特開平１−２０５９７３号公報には、ベーマイトと水溶性の金属塩の混合物が、特開平２−１５８６８３号公報には、ベーマイトと無機酸又は有機酸のアンモニウム塩との混合物が開示されている。また、研磨促進剤と表面改質剤の例として特公平４−３８７８８号公報には、グルコン酸又は乳酸の研磨促進剤及びコロイダルアルミナの表面改質剤が開示されている。
【０００４】
アルミナ研磨材の平均粒子径及びα相含有率に関しては、特開平５−２７１６４７号公報には、α相含有率が１０〜８０％で、平均１次粒子径が２μｍ以下、好ましくは０．４〜１．０μｍの角状アルミナを砥粒成分として含有する研磨剤が開示されている。特開平３−２７７６８３号公報には、α相含有率が９５％以上で、平均１次粒子径が０．３５μｍ以下の角状アルミナを砥粒成分として含有する研磨剤が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
近年、磁気記録媒体ディスクの性能は、ますます高密度化、高速化していく傾向にある。そのため、アルミニウムディスクには、オレンジピール、スクラッチ、ピット、突起などの表面欠陥がないということや最大表面荒さが小さいことだけにとどまらず、平均表面粗さにおいても小さな研磨面が求められている。
【０００６】
本発明は、これらの要望に応えるものであって、高品質の研磨面を保ちながらしかも研磨速度を速くすることにより研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能な研磨用組成物とその研磨用組成物を用いる研磨方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含む研磨用組成物において、研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩が優れた研磨促進剤であることを見出した。更に本発明研磨促進剤とアルミナ研磨材として０．１〜０．４μｍの平均粒子径とα相含有率が８０〜９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナを採用した研磨用組成物でアルミニウムディスクを研磨した時に、従来のアルミニウムディスク用研磨剤と比較して表面粗さに対する研磨速度の比率が高い、即ち高速研磨性でしかも高品質の研磨面が得られることを見い出し、本発明に至ったものである。
【０００８】
本発明の研磨促進剤は、三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩であり、例えば三価の金属としては、アルミニウム、インジウム、鉄などが、また四価の金属としてはジルコニウム、セリウム、錫、チタンなどが挙げられる。無機酸としては、硝酸、硫酸などが、また有機酸としては酢酸、ギ酸、スルファミン酸、酒石酸、シュウ酸、グルコン酸などが挙げられる。三価及び四価の金属の中でアルミニウムが、また無機酸及び有機酸の中で硝酸が研磨特性が最も優れて、より好ましく、塩基性硝酸アルミニウムが挙げられる。一方、塩基性塩化アルミニウムなどの塩化物の塩基性塩は、ステンレス鋼の応力腐食などの問題を起こすため、研磨装置に使用する材質が限定されて好ましくない。
【０００９】
研磨用組成物における好ましい研磨促進剤の含有量は、三価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物Ｍ2Ｏ3（但し、Ｍは三価の金属原子を表す。）の換算濃度で、また四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物ＭＯ2（但し、Ｍは四価の金属原子を表す。）の換算濃度で表すと、０．１〜１０重量％、より好ましくは０．３〜６重量％である。
【００１０】
本発明のアルミナ研磨材は、市販されている研磨材を用いることができる。安価で大量に製造されているバイヤー法により製造された水酸化アルミニウムを１１００〜１３００℃で仮焼後、振動ミル、ボールミル、アトライターなどで乾式粉砕した平均粒子径が０．５〜５０μｍであり、α相を含有するアルミナが好ましい。更にこの乾式粉砕したアルミナをボールミル、アトライター、サンドグラインダーなどで湿式粉砕することにより得られる平均粒子径が０．１〜０．４μｍであり、α相含有率が８０〜９５％であるアルミナがより好ましい。
【００１１】
ここで、アルミナの平均粒子径は、メジアン粒子径（５０％体積粒子径）である。その測定には、市販の遠心粒度分布測定装置、例えば（株）島津製作所（株）のＳＡ−ＣＰ３などが用いられる。アルミナのα相含有率は、Ｘ線回折測定により、（１１３）面回折線の積分強度を求め、予めα相含有率の規定されたアルミナの積分強度により規格化することにより求められる。
【００１２】
研磨用組成物における好ましいアルミナ研磨材の含有量は、１〜２０重量％である。
本発明における研磨用組成物には、アルミナとともに酸化物であるジルコニア、珪酸ジルコニウム、シリカ、ムライト、酸化セリウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタンなどを加えることができる。そして水酸化アルミニウムなどの水酸化物、ベーマイトなどの水和酸化物及びダイヤモンド、窒化硼素、窒化珪素、炭化珪素、炭化硼素などの非酸化物も加えることができる。
【００１３】
また、本発明における研磨用組成物に一般的に加えられているエタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの水溶性アルコール、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、リン酸などの酸、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ホルマリン縮合物などの界面活性剤、ポリアクリル酸塩などの有機ポリアニオン系物質、セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどのセルロース類を加えることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の研磨促進剤は、三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩である。塩基性塩の中で好ましい研磨促進剤としては、Ａｌ（ＯＨ）X（ＮＯ3）3-X（ただし、Ｘは０．５〜２．７の実数）の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウムが挙げられる。これら塩基性硝酸アルミニウムの水溶液は一部ポリマーとなっているが、便宜上、上記の化学組成で表示した。また塩基性硝酸アルミニウムの塩基度とはアルミニウムイオンと結合した水酸基の割合で、Ａｌ（ＯＨ）X（ＮＯ3）3-Xにおいて，（Ｘ／３）×１００％を意味する。
【００１５】
よって、本発明の塩基性硝酸アルミニウム塩は塩基度としては、１６．７〜９０％と表すことができる。この中で、好ましい塩基度としては２６．７〜７６．０％となる。
また研磨用組成物における研磨促進剤の含有量は、三価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物Ｍ2Ｏ3（但し、Ｍは三価の金属原子を表す。）の換算濃度で、また四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物ＭＯ2（但し、Ｍは四価の金属原子を表す。）の換算濃度で表すと、０．１重量％より少ないと研磨促進剤としての効果が認められず、また１０重量％より多くしても研磨促進剤としての効果の更なる向上は認められないため、０．１〜１０重量％が好ましい。そして、研磨促進剤の含有量が０．３〜６重量％では、研磨促進剤としての効果が安定するとともに、表面粗さに対する研磨速度の比率も高く維持されてより好ましい。
【００１６】
本発明のアルミナ研磨材として０．１〜０．４μｍの平均粒子径のアルミナの代わりに、０．４μｍ以上の平均粒子径のアルミナを使用した場合、研磨面の表面粗さが大きくなる。一方、０．１μｍの平均粒子径のアルミナを使用すると研磨速度が遅くなる。更に、０．１〜０．４μｍの平均粒子径のアルミナに、陽（プラス）に帯電した平均粒子径が０．０１〜０．２μｍのシリカ粒子又はシリカゾルを添加することで粒子を最密充填することで、更に研磨面を平坦化することが可能である。
【００１７】
アルミナ研磨材としてα相含有率が８０〜９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナの代わりに、α相含有率が９５％を越えるアルミナ結晶構造を有するアルミナを使用した場合、研磨速度が速くなるが、研磨面の表面粗さが大きくなるため、表面粗さに対する研磨速度の比率が小さくなり、研磨特性としては劣る。一方、α相含有率が８０％を未満のアルミナ結晶構造を有するアルミナを使用した場合、研磨面の表面粗さは変わらないが研磨速度が遅くなるため、表面粗さに対する研磨速度の比率が小さくなり、研磨特性としては劣る。
【００１８】
研磨用組成物におけるアルミナ研磨材の含有量は、１重量％より少ないと研磨効果が小さく、２０重量％より多くしても研磨効果の更なる向上は認められないため、アルミナ研磨材の含有量は１〜２０重量％が好ましい。
【００１９】
【実施例】
下記の実施例により、本発明を更に説明する。
［研磨用組成物の調製］
実験例１
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径０．７８μｍ、α相含有率８５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３２μｍでα相含有率が８５％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ａ）を得た。
【００２０】
次に、硝酸アルミニウム・九水塩３８０ｇを純水１ｋｇに溶解した後、この水溶液を沸騰させ、１３２０ｇの３５％過酸化水素水溶液と１１０ｇのアルミニウム金属粉末を徐々に添加し溶解・反応させた。この反応液を濾過して塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）を得た。この塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度９．９重量％と、硝酸イオン濃度７．２重量％を含み、塩基度として８０．０％で、Ａｌ（ＯＨ）2.4（ＮＯ3）0.6 の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム水溶液であった。
【００２１】
更に、塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）に６０重量％硝酸を添加して、塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）を調製した。この塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度７．１重量％と、硝酸イオン濃度１７．３重量％を含み、塩基度として３３．３％で、Ａｌ（ＯＨ）（ＮＯ3）2の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム水溶液であった。
【００２２】
そして、水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）を加えて、研磨用組成物（１Ａｂ）を調製した。この研磨用組成物（１Ａｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度で１．２重量％と、硝酸濃度３．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２３】
実験例２
研磨促進剤として、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム濃度を増量した以外は、実験例１と同様にして、研磨用組成物（２Ａｂ）を調製した。この研磨用組成物（２Ａｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２４】
実験例３
実験例１で得た塩基度８０．０％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）に６０重量％硝酸を添加して、塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）を調製した。この塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度８．３重量％と、硝酸イオン濃度１０．０重量％を含み、塩基度として６６．７％で、Ａｌ（ＯＨ）2（ＮＯ3）の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム水溶液であった。
【００２５】
よって、実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）を加えて、研磨用組成物（３Ａｃ）を調製した。この研磨用組成物（３Ａｃ）は、塩基度６６．７％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度２．１重量％と、硝酸濃度２．６重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２６】
実験例４
実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈して、アルミナ固形分１０重量％を含む研磨用組成物（４Ａ）を調製した。
実験例５
実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として硝酸アルミニウム水溶液（ｄ）を加えて、研磨用組成物（５Ａｄ）を調製した。この研磨用組成物（５Ａｄ）は、硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．２重量％と、硝酸濃度４．５重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２７】
実験例６
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．０７μｍ、α相含有率５５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３０μｍでα相含有率が５５％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ｂ）を得た。
【００２８】
よって、この水性アルミナスラリー（Ｂ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として実施例１で得た塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）を加えて、研磨用組成物（６Ｂｂ）を調製した。この研磨用組成物（６Ｂｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２９】
実験例７
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．００μｍ、α相含有率９８％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで８時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３５μｍでα相含有率が９８％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ｃ）を得た。
【００３０】
よって、この水性アルミナスラリー（Ｃ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として実施例１で得た塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｂ）を加えて、研磨用組成物（７Ｃｂ）を調製した。この研磨用組成物（７Ｃｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００３１】
実験例８
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．２０μｍ、α相含有率７５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３３μｍでα相含有率が７５％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ｄ）を得た。
【００３２】
よって、この水性アルミナスラリー（Ｄ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として硝酸アルミニウム水溶液（ｄ）を加えて、研磨用組成物（８Ｄｄ）を調製した。この研磨用組成物（８Ｄｄ）は、硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．２重量％と、硝酸濃度４．５重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００３３】
実験例９
市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．００μｍ、α相含有率９８％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのアトライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００ｒｐｍで４時間粉砕して、平均粒子径が０．５７μｍでα相含有率が９８％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリー（Ｅ）を得た。
【００３４】
よって、この水性アルミナスラリー（Ｅ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤としてグルコン酸ナトリウム水溶液（ｅ）を加えて、研磨用組成物（９Ｅｅ）を調製した。この研磨用組成物（９Ｅｅ）は、グルコン酸ナトリウム濃度１．２重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
実験例１０
実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進剤として、長軸径２０〜３０ｎｍを有する板状ベーマイト粒子が分散する硝酸酸性水性ベーマイトゾル（ｆ）と６０重量％硝酸とを加えて、研磨用組成物（１０Ａｆ）を調製した。この研磨用組成物（１０Ａｆ）は、ベーマイトをＡｌ2Ｏ3換算濃度で１．２重量％と、硝酸濃度３．０％重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００３５】
［研磨試験］
研磨試験は、下記のように行った。
被加工物は、アルミニウム基板にＮｉ−Ｐを１０μｍの厚さに無電解メッキした２．５インチメモリーハードディスク基板を使用した。尚、この基板は１次研磨してあり平均表面粗さは、１．８ｎｍである。
【００３６】
オスカー型レンズ研磨機の定盤に人工皮革タイプのポリウレタン製研磨布（ＰＯＬＩＴＥＸ ＤＧ（商標）、２５０ｍｍφ、ロデール・ニッタ（株）製）を貼り付け、これに基板の研磨面を対向させ１４ｋＰａの荷重をかけて研磨した。
定盤回転数は、毎分３０回転であり、スラリー供給量は２ｍｌ／分である。
研磨の後、被加工物を取り出し超音波洗浄を繰り返して洗浄した。
【００３７】
洗浄後アルミディスクを乾燥し、重量減少から研磨速度を求めた。表面欠陥については、微分干渉顕微鏡により観察し、突起、ピット、スクラッチなどの度合を判定した。平均表面粗さは、市販品の装置、例えば米国のＺｙｇｏ社製の「New View 100」という名称の装置を使用することによる、ＦＤＡを用いる走査型白色干渉法あるいは位相測定法により測定した。
【００３８】
ここで１０重量％のアルミナ固形分を含む研磨用組成物の物性を第１表に示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】
試験結果について、研磨用組成物（４Ａ）及び（１０Ａｆ）では、研磨面にピット及びスクラッチが発生したが、その他の研磨用組成物では研磨面にピット及びスクラッチの発生は認められなかった。また研磨試験における研磨速度、平均表面粗さ及び平均表面粗さに対する研磨速度の比率についての結果は第２表に示す。
【００４１】
【表２】
【００４２】
また従来技術例である研磨用組成物（８Ｄｄ）、（９Ｅｅ）及び（１０Ａｆ）は、平均表面粗さに対する研磨速度の比率が２００以下になっており、研磨用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び（３Ａｃ）からなる群と比較すると研磨特性が良くない。
【００４３】
【発明の効果】
本発明の研磨促進剤は、三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩である。塩基性硝酸アルミニウムなどの塩基性塩は、硝酸アルミニウムなどの正塩と同じようにアルミニウムディスクに対して化学的研磨効果を促進させる効果を示すとともに、正塩より研磨用組成物のｐＨを中性側に保つ緩衝効果があるため、研磨時の過剰なエッチングが抑制され表面粗さを小さく、表面欠陥が少なくし、高品質の研磨面が得られるものと考えられる。その結果、表面粗さに対する研磨速度比率が大きくなり、研磨特性として優れている。本発明の研磨用組成物は、高速研磨性を有し、しかも高品質の研磨面が得られる研磨用組成物であるため、研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能である。また、本発明の研磨用組成物は、工業製品として供給され得るアルミニウムディスクの上に設けられたＮｉ−Ｐなどのメッキ層の表面、特にＮｉ９０〜９２％とＰ８〜１０％の組成の硬質Ｎｉ−Ｐメッキ層の表面、アルミナ層の表面あるいはアルミニウム、その合金、アルマイトの表面を研磨するのに有用であることが明瞭である。
【００４４】
更に本願発明の精密研磨用組成物は、磁気ヘッド、半導体多層配線基板の配線金属、半導体多層配線基板の絶縁層などの精密研磨にも使用することができる。
Claims (6)
- 水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨促進剤がＡｌ（ＯＨ） X （ＮＯ 3 ） 3-X ［ただし、Ｘは０．５〜２．７の実数］の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウムであることを特徴とするアルミニウムディスクの研磨用組成物。
- 水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨促進剤が２６．７〜７６．０％の塩基度を有する塩基性硝酸アルミニウムであることを特徴とするアルミニウムディスクの研磨用組成物、
ただし、塩基性硝酸アルミニウムの塩基度とはアルミニウムイオンと結合した水酸基の割合で、Ａｌ（ＯＨ） X （ＮＯ 3 ） 3-X において，（Ｘ／３）×１００％を意味する。 - アルミナ研磨材が０．１〜０．４μｍの平均粒子径とα相含有率が８０〜９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナである請求項１又は請求項２に記載のアルミニウムディスクの研磨用組成物。
- アルミニウムディスクの表面と、該アルミニウムディスクの表面を滑り得る研磨布の表面との間に、供給されるアルミニウムディスクの研磨用組成物にてアルミニウムディスクを研磨する研磨方法において、
アルミニウムディスクの表面が、アルミニウム、アルミニウム合金、Ｎｉ−Ｐメッキ層、Ｎｉ−Ｂメッキ層又はアルミナであること、及び
アルミニウムディスクの研磨用組成物が、水、アルミナ研磨材、及びＡｌ（ＯＨ） X （ＮＯ 3 ） 3-X ［ただし、Ｘは０．５〜２．７の実数］の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウムを含むことを特徴とするアルミニウムディスクの研磨方法。 - アルミニウムディスクの表面と、該アルミニウムディスクの表面を滑り得る研磨布の表面との間に、供給されるアルミニウムディスクの研磨用組成物にてアルミニウムディスクを研磨する研磨方法において、
アルミニウムディスクの表面が、アルミニウム、アルミニウム合金、Ｎｉ−Ｐメッキ層、Ｎｉ−Ｂメッキ層又は酸化アルミニウム層であること、及び
アルミニウムディスクの研磨用組成物が、水、アルミナ研磨材、及び２６．７〜７６．０％の塩基度を有する塩基性硝酸アルミニウムを含むことを特徴とするアルミニウムディスクの研磨方法、
ただし、塩基性硝酸アルミニウムの塩基度とはアルミニウムイオンと結合した水酸基の割合で、Ａｌ（ＯＨ） X （ＮＯ 3 ） 3-X において，（Ｘ／３）×１００％を意味する。 - アルミナ研磨材が０．１〜０．４μｍの平均粒子径とα相含有率が８０〜９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナである請求項４又は請求項５に記載のアルミニウムディスクの研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31028497A JP4114018B2 (ja) | 1996-11-14 | 1997-11-12 | アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30271596 | 1996-11-14 | ||
| JP8-302715 | 1996-11-14 | ||
| JP31028497A JP4114018B2 (ja) | 1996-11-14 | 1997-11-12 | アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10195421A JPH10195421A (ja) | 1998-07-28 |
| JP4114018B2 true JP4114018B2 (ja) | 2008-07-09 |
Family
ID=26563244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31028497A Expired - Fee Related JP4114018B2 (ja) | 1996-11-14 | 1997-11-12 | アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4114018B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007257810A (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
| JP6177682B2 (ja) * | 2013-12-24 | 2017-08-09 | 花王株式会社 | 研磨液組成物 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6225187A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-03 | Fujimi Kenmazai Kogyo Kk | メモリ−ハ−ドデイスクの研磨用組成物 |
| JP2632898B2 (ja) * | 1988-02-09 | 1997-07-23 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物 |
| JPH0781132B2 (ja) * | 1990-08-29 | 1995-08-30 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨剤組成物 |
| JPH0559351A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-03-09 | Sumitomo Chem Co Ltd | 金属材料の研磨用組成物 |
| US5489204A (en) * | 1993-12-28 | 1996-02-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Apparatus for sintering abrasive grain |
| WO1995018193A1 (en) * | 1993-12-28 | 1995-07-06 | Minnesota Mining & Mfg | Alpha alumina-based abrasive grain |
| JP3825844B2 (ja) * | 1996-02-19 | 2006-09-27 | 昭和電工株式会社 | 精密研磨用組成物、Ａｌ合金基板上に成膜された無電解ＮｉＰメッキ膜の研磨方法、無電解ＮｉＰメッキ膜を有するＡｌ合金基板の製造方法 |
-
1997
- 1997-11-12 JP JP31028497A patent/JP4114018B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10195421A (ja) | 1998-07-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6007592A (en) | Polishing composition for aluminum disk and polishing process therewith | |
| JP5177445B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
| US6117220A (en) | Polishing composition and rinsing composition | |
| US5114437A (en) | Polishing composition for metallic material | |
| JP4273475B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
| TW555696B (en) | Alumina powder, process for producing the same and polishing composition | |
| JP3998813B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
| JP4090589B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
| GB2383797A (en) | Polishing composition for a substrate for a magnetic disk and polishing method employing it | |
| JP2002294225A (ja) | 研磨用組成物およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法 | |
| JPH07216345A (ja) | 研磨用組成物 | |
| JPH11268911A (ja) | アルミナ粉末及びその製造方法並びに研磨用組成物 | |
| JP4557105B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
| JP4114018B2 (ja) | アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法 | |
| JP3831982B2 (ja) | アルミニウムディスクの研磨用組成物 | |
| WO2001079377A1 (fr) | Composition destinee a etre utilisee pour polir des substrats de disques magnetiques et procede de preparation de ladite composition | |
| JP4099615B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
| JPH10121034A (ja) | 磁気ディスク基板の研磨用組成物 | |
| JPH03277683A (ja) | 精密研磨用組成物 | |
| JP3160820B2 (ja) | 研磨剤組成物 | |
| JP4224650B2 (ja) | アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨方法 | |
| JPH09286975A (ja) | 精密研磨用組成物 | |
| JP2850254B2 (ja) | 研磨剤組成物 | |
| JP2000273445A (ja) | 研磨用組成物 | |
| JP2000345143A (ja) | ガラス研磨用研磨材組成物およびそれを用いた研磨方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040831 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071115 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071120 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071127 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080319 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080401 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120425 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130425 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140425 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |