JP3732247B2 - 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 - Google Patents
光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3732247B2 JP3732247B2 JP33219594A JP33219594A JP3732247B2 JP 3732247 B2 JP3732247 B2 JP 3732247B2 JP 33219594 A JP33219594 A JP 33219594A JP 33219594 A JP33219594 A JP 33219594A JP 3732247 B2 JP3732247 B2 JP 3732247B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium oxide
- titanium
- composition
- silicon
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 74
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 39
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 38
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 36
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims description 23
- -1 alkyl silicate Chemical compound 0.000 claims description 17
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 17
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 14
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 12
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 5
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 claims 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 39
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 19
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 18
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 17
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 3
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 2
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 231100000167 toxic agent Toxicity 0.000 description 2
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000208125 Nicotiana Species 0.000 description 1
- 235000002637 Nicotiana tabacum Nutrition 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、光触媒として使用される酸化チタン含有塗膜を形成できる液状組成物及び該組成物の製法に関し、これをガラス、金属、セメント、壁紙、石膏ボード、石材、セラミックスもしくはプラスチック等の表面に適用した基材に関する。
【0002】
【従来の技術】
酸化チタンは、それ自体が光半導体であり、そのバンドギャップ以上のエネルギーを持つ光例えば紫外線で照射されると伝導帯には電子が集積し、価電子帯には正孔(ホール)が生じる。この集積電子及び正孔によって生じる電子移動に基づく酸化還元作用により大気中の有機物を分解し、殺菌効果を示すという光触媒活性が知られており、この活性作用を工業的に利用する試みが種々行われている。
【0003】
光触媒活性の高い二酸化チタン層を基材の表面に形成させる事はなかなか困難である。従来行われている方法は一つには純チタン板状体の表面を空気酸化または陽極酸化して酸化チタン膜を形成するものであるが、酸化方法が難しい割に良好な機能が得られにくい。別の方法として基材表面に酸化チタンをCVD法で蒸着させたり、プラズマ溶射を行う方法(特開平6−210170号公報)も知られているがいずれも高価であり、基材の種類によって適用する事が出来ない。また、二酸化チタン粉末をバインダーと呼ばれる接着剤を介して基材に付着させる試みもなされたが二酸化チタンの光触媒作用によりバインダーが酸化分解され、数カ月の後には基材から脱落してしまい工業用途の使用に耐える事が出来ない。
【0004】
近年になってチタンのアルコキシドからゾルゲル法によってガラス管表面に二酸化チタン薄膜を形成させる方法が発表されている。この方法はアルコキシドのアルコール溶液にある種の有機ポリマーを添加した溶液を基材に塗布し、加熱処理によって有機ポリマーを熱分解除去し、且つ酸化チタンの結晶化を行うというもので、出発原料が高価なものであることと、高温での加熱処理が必須となっていることが問題点として残る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
酸化チタンの光触媒作用を利用して大気汚染や廃水の浄化を行う試みが種々なされているがいずれも問題点を抱えており、いまだに決定的な方法は見いだされていないのが現状である。本発明は、経済的に、各種用途に広く適用可能な光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物を提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、0.001〜0.5μmの平均粒径を持つチタン酸化物、下記一般式(1)
【0007】
SinOn-1(OR)2n+2
(ただし、nは2〜6、RはC1〜4のアルキル基)
【0008】
で表わされる加水分解性珪素化合物の加水分解物及び溶媒からなり、チタン及び珪素の重量比が各々TiO2 およびSiO2 への換算値で30〜96:70〜4(合計100)であり、全組成物中の固形分濃度が30重量%以下であることを特徴とする光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法にある。更に本発明は、前記組成物を塗布、乾燥することによって個体基材表面に0.1〜3μmの厚さの酸化チタン及び酸化珪素からなる複合被膜を形成した光触媒活性を持つ基材もしくは部材にある。
【0009】
以下、本発明について詳しく説明する。
本発明に用いられる酸化チタンとは、特定エネルギーを持つ光の照射で有機物の酸化還元に対して触媒作用を示すものであり、純粋な酸化チタンの他、含水酸化チタン、水和酸化チタン、メタチタン酸、オルトチタン酸、水酸化チタンと呼ばれているものを含む。二酸化チタンまたはこれより低次酸化状態にあるものが特に好ましく用いられる。二酸化チタンの結晶型はアナターゼ型、ルチル型、フルッカイト型のいずれでもよくまたこれらの混合体でも良い。
【0010】
これらの二酸化チタンは微粉末状であり、その粒径は光触媒活性の強さから見て0.001〜0.05μm程度の微細なものが好ましいが、これより大きい0.5μm程度までの粒径のものが使用できる。この微粉末は乾燥状態の粉末として用いても良いが、後述の加水分解性珪素化合物から誘導されるシリカバインダーと均一分散させるために予め分散体としておく事が望ましい。本発明の組成物中において二酸化チタンが良好に分散されているか否かは塗膜を形成したときの光触媒機能に大きく影響してくる。
【0011】
酸化チタンは種々の公知の方法で製造される。例えば1.硫酸チタニル、塩化チタン、有機チタン化合物などのチタン化合物を必要に応じて核形成種の存在下に加水分解する方法、2.硫酸チタニル、塩化チタン、有機チタン化合物などのチタン化合物に、必要に応じて核成形種の存在下にアルカリを添加し、中和する方法、3.塩化チタン、有機チタン化合物などを気相酸化する方法、4.上記1,2の方法で得られた酸化チタンを焼成する方法などが挙げられる。特に、前記1,2の方法で得られた酸化チタンは光触媒機能が高いため好ましい。光触媒機能を更に向上させるために酸化チタン表面に白金、金、銀、銅、パラジウム、ロジウム、ルテニウムなどの金属、酸化ルテニウム、酸化ニッケル等の金属酸化物を被覆しても良い。
【0012】
これらの酸化チタンは水などの溶媒に高度に分散させて使用される。超微粒子となっている酸化チタンを二次凝集させずに水などの溶媒と均一分散させて置くためには、酸性またはアルカリ性として保存して置くことが好ましい。酸性下に置くときはpH0.5〜4、特に1〜3.5とするのが好ましい。分散媒体としては水の他、水とアルコールの混合物を用いても良い。
【0013】
本発明で用いられる前記一般式(1)で表わされる加水分解性珪素化合物としては、アルキルシリケート、ハロゲン化珪素及びこれらの部分加水分解物である。アルキルシリケートとしてはメチル、エチル、イソプロピルシリケートなどが用いられる。これらのシリケートはいずれも単量体もしくは部分加水分解によって生成するオリゴマーの形で用いられ、オリゴマーとしては一般式Sin On-1 (OR)2n+2(ただしnは2〜6,RはC1〜4のアルキル基)で表わされるアルキルシリケート縮合物が特に好ましい。これらオリゴマーは混合物でも用いられる。
【0014】
部分加水分解するときの触媒としては酸、アルカリのいずれもが使用できる。酸化チタン分散体が酸性のときは酸で加水分解したアルキルシリケートが好ましい。加水分解液の分散溶媒は水または炭素数が1〜4のアルコールが用いられる。酢酸エチルなどのエステル類は、組成物液を不安定にするので好ましくない。本発明において用いられる珪素化合物及びその部分加水分解物は、酸化チタンを結合させる目的で用いられるものであるので以下においてシリカバインダーと呼ぶ。
【0015】
酸化チタンとシリカバインダーとの混合は、適宜に出来るが、一例を示すと酸性下にある所定量の二酸化チタン水性分散液を10〜50℃の液温に保持し、これに秤量したアルキルシリケートもしくは部分加水分解物を一定時間かけて滴下添加する。滴下終了後、1〜5時間撹拌下に反応させて組成物液を調製する。アルキルシリケートもしくは部分加水分解物添加の際にこれの加水分解触媒を同時に加えても良いし、二酸化チタン分散液中に存在する酸分を利用して加水分解を進めても良い。分散媒体としてアルコール系の媒体を用いる場合は、二酸化チタンの水/アルコール混合媒体分散液と、アルコール媒体中でアルキルシリケートもしくは部分加水分解物を50〜1500%加水分解した液とを撹拌下に混合して本組成物を得ることもできる。
【0016】
本明細書において加水分解率とは、アルキルシリケート1モルに対し水2モルの割合で使用した場合を加水分解率100%として水の使用量によって算出したものである。一般式Sin On-1 (OR)2n+2の形の部分加水分解物を用いた場合は、この縮合体1モルに対し水n+1モルの割合で使用した場合を加水分解率100%として算出した。
【0017】
本発明の組成物中のチタンとシリカとの割合は、各々二酸化チタンと二酸化珪素に換算した重量比(TiO2 /SiO2 )で96/4〜30/70とすることが必要である。シリカの割合が70%を超えると酸化チタンの光触媒機能が小さくなってしまい、実用性が乏しくなる。これは酸化チタン粒子表面を覆うシリカの割合が大きくなり、酸化チタンと酸化分解されるべき物質との接触を妨害することになるからと思われる。一方、シリカの混合割合が4%以下であると基材及び酸化チタン同士の接着強度が充分でなく指触や振動で容易に脱落してしまい、塗膜として工業的に使用しにくいものになる。シリカの好ましい割合は10〜50%である。
【0018】
本発明の組成物中の固形分濃度は重量で30%以下である。ここで固形分とは全組成物中における酸化チタンとシリカの合計量を言い、酸化チタンは二酸化チタンに、シリカは組成物中のアルキルシリケートもしくはそのオリゴマー中の珪素(Si)分をSiO2 に換算した値を用いている。その他の成分は水分及び/または有機溶媒が主体であり、組成物を基材面上へ塗布後、乾燥により実質的に除去されるべきものである。好ましい固形分濃度は5〜20%であり、5%以下になると基材との接着性は強固になるが塗膜の厚さ、つまり二酸化チタン量が不十分で光触媒機能を充分発揮できる塗膜を形成できない。二層塗り、三層塗りで塗膜厚さを厚くする事は可能であるが、通常は固形分濃度をわざわざ低くして手間の掛かる二層塗りをするメリットは出てこない。しかし、光触媒機能を犠牲にしても強固な薄い塗膜を必要とする場合など特殊な用途には用いることができる。
【0019】
一方、固形分濃度が30%を超えると組成物中の固形物の分散性が悪くなり、組成物の保存安定性が著しく低下し、僅かな日数でゲル化が生じ易くなる。また、このような高濃度になると成膜性も悪く、形成された被膜の基材との接着性が大きく低下し、指で擦ると剥離してしまうようになるので好ましくない。
【0020】
本発明組成物には少量のチタンアルコキシド、四塩化チタンを加えても良い。又チタン、或いはシランカップリング剤などを加えても良い。更に、組成物の安定性確保及び濡れ特性を改善するために各種界面活性剤を加えても良い。また、アルコキシ基を2個以上含むアルキシランもしくはハイドロシランを少量添加しても良いがこれらチタン、シランの化合物は固形分算出の際のシリカ換算に加えるものとする。
【0021】
本発明組成物は、基材表面に塗布され、乾燥、場合によって低温焼成されて塗膜化される。塗布方法は塗布すべき基材の形状によってスピンコーティング、スプレーコーティング、バーコート、ディップ法などが適宜に使用される。塗膜の厚さは0.1〜3μm、特に0.3〜2μmが適当である。二酸化チタンの光触媒活性は、表面に露光し酸化分解されるべき化合物と接触可能な二酸化チタンの量に関係するので本来は塗膜の厚さは関係ないが、現実には塗膜厚さに不均一があり、又粒子の分散は必ずしも理想とする均一性が得られず、余り薄くすると塗膜表面上の二酸化チタン量が少なく光触媒活性が充分でないので前記程度の厚さにすることが好ましい。このような厚さであると塗膜を透明にすることも可能であり、基材の持つ種々の構成、デザインを損なうことなく、その表面に光活性を持つ被膜を形成することが出来る。
【0022】
本発明の塗膜形成性液状組成物を塗布する基材としては、ガラス、金属、セメントコンクリート、スレート、石膏ボード、石材、木材、セラミックス、プラスッチックスなどの管状、板状、格子状、球状、ハニカム状部材あるいはこれら部材からの成形品などがあるが、塗布後に溶剤、水分などを除去するために充分乾燥することが好ましい。
【0023】
本発明の組成物からの塗膜は、100℃の乾燥によって爪で擦っても容易に剥離しないかなり強固な被膜を形成できるが、シリカバインダーは100℃以上の温度で乾燥することによって、より強固な塗膜を形成することができるので必要に応じ100〜300℃で乾燥もしくは低温焼成しても良い。但し、超微粒子状二酸化チタンの触媒活性は150℃以上の乾燥で徐々に低下を始め、400℃を超えると急速に低下することがあるので、塗膜強度の必要性に応じて適宜に乾燥温度を選択する必要があるが、いずれにしても480℃以下の乾燥もしくは低温焼成が好ましい。
【0024】
本発明の塗膜が形成された基材もしくは部材は、極めて広い種々の用途に利用される。例えば高速道路の遮音部材として金属またはプラスチックス製の板状または格子状のものが使用されているが、これに付着する有機物、微生物を分解除去するのに使われる。或いはセラミックのハニカムに被覆したものは硫化水素など有害物質を含む気体、又は液体を接触させることにより有害物質の分解用触媒として利用される。また、塩ビなどからなっているプラスチック化粧板に塗布するとこれを壁材に使用したとき壁面を自動浄化する機能を発揮し、病院などでは殺菌効果を持つものとして使用できる。球状のガラス、軽石、セラミックスなどに付着させたものは廃水の浄化材として利用できる。会議室などにおいては本発明の組成物を塗布乾燥させた基材からなる部材例えば灰皿や衝立などを置いておくだけでタバコの煙の分解に使うこともできる。更に、水槽の内側に塗布して防藻に使用することができる。
【0025】
【実施例】
実施例において光触媒活性分解率は、本発明の組成物を以下の方法でガラス板に塗布し、被膜を形成した試験片を用い、これをアセトアルデヒドと気相接触させつつ光照射したときのアセトアルデヒドの分解割合によって測定したものである。
【0026】
1.試験片の調製(組成物液の塗布条件)
被塗布片:ガラス板100×50×2t(mm)
塗布方法:マイヤーバー#3、#5
乾燥条件:100℃、1時間
【0027】
2.光触媒活性分解率測定法
(1)気相分解反応装置
三ツ口のセパラブルフラスコを組んで横向きにセットし、内部に試験片が置けるようにする。
(2)光源
(株)東芝製のブラックライト4W2本を試験片の被膜面から約8cmのところに設置して、光量(光強度)が1mW/cm2 となるようにする。
(3)循環装置
エアーポンプを用いてフラスコ内部とサンプリング用三方コックとをタイゴンチューブで循環するように接続し、1リットル/minで循環する。
(4)アセトアルデヒドの導入と濃度測定用検知管
試験片が置かれ、通常の空気で満たされているフラスコの三ツ口の一つにシリコーンWキャップを付けてマイクロシリンジでアセトアルデヒドを導入する。導入量は40〜200ppmとなるようにする。サンプリング用の三方コックの1つにはアセトアルデヒド濃度測定用のガス検知管を設けて濃度測定が出来るようにしておく。
(5)試験片の前処理とアセトアルデヒド分解率の測定
試験片についての光触媒活性を測定する前にアセトアルデヒドによって前処理を行った。試験片の前処理は、試験片塗膜に残存有機物が存在したときアセトアルデヒドの分解が始まる前または一緒に該有機物が分解され、導入したアセトアルデヒドの正しい分解率を測定するのが困難となるのでこの影響を最少にするために行うものである。前処理は100ppm前後のアセトアルデヒドをフラスコ内に導入し、光を照射せずに循環装置を作動させ、10分間循環後、濃度をガス検知管で測定する。その後、光源スイッチを入れて光照射開始後30分毎に最大3時間迄のアセトアルデヒド濃度を測定する。減少したアセトアルヒデヒドが分解されたものとして分解率を求め、分解率が85%以上に達した時点または3時間光照射した時点で試験片の前処理を完了とした。
前処理を完了した試験片について前処理と同様の方法で光照射前後のアセトアルデヒド濃度の変化から下記の計算式で分解率を測定し、塗布膜の光触媒活性の評価に用いた。
【0028】
【数1】
【0029】
各実施例で得た塗膜形成性組成面の評価を夫々表に示したが、表中の硬度は、下記に基準に従って表示した塗膜の強度に関する測定値である。
▲1▼指触により塗膜が破壊される程度
▲2▼爪で擦ると塗膜が剥離する程度
▲3▼爪で擦ると傷がつく程度
▲4▼上記▲3▼と下記▲5▼の中間程度
▲5▼爪による傷はつかないが爪痕が残る程度
▲6▼上記▲5▼と下記▲7▼の中間程度
▲7▼爪痕も残らない程度
また、表中の反応速度定数は、アセトアルデヒドの分解が時間に1次比例していると仮定して算出したもので、単位はmin-1である。
なお実施例中「部」とあるのは重量部を意味する。
【0032】
[実施例2]
(1)珪素化合物の加水分解液の調製
撹拌機、温度計、還流冷却器を取り付けたセパラブルフラスコにメチルアルコール223.5部、エチルシリケート40(エチルシリケート5量体相当品、コルコート(株)製、商品名)30部を仕込み、均一に撹拌して30℃に維持する。これに加水分解率が約1000%となるようにイオン交換水45部と60%硝酸1.5部の混合液を一括添加し、30℃のままで5時間加水分解した。この様にして調製した加水分解液の固形分濃度はSiO2 として4%であった。
【0033】
(2)TiO2 分散体との混合法
撹拌機、温度計、還流冷却器を取り付けたセパラブルフラスコに上記の加水分解液12.5部、イソプロピルアルコール55.8部を仕込み、均一に撹拌して30℃に維持する。これに粒径0.006μmのTiO2 分散体を所定量加えて、30℃、1時間撹拌した。得られた液のTiO2 /SiO2 比は表2に記載した通りであり、固形分濃度は10%に調節した。
【0034】
(3)被膜形成と光活性測定
前記の混合で得られた組成物液をマイヤーバー#3を用いて試験片に塗布し、実施例1と同様に100℃で乾燥し、計算上の膜厚0.45μmの塗膜を形成した。得られた試験片について光触媒活性を測定した。結果を表2に示す。ここで使用した試験片上の膜厚は実際面からみると極めて薄い膜であり、この様な薄膜でありながら光触媒活性を示すことは実用の際にはもっと膜厚が厚くなるため実用に耐えられるものとなる。
【0035】
【表2】
【0036】
[実施例3]
実施例2で得られた総固形分濃度10%の組成物をマイヤーバー#5を用いて試験片に塗布し、塗膜の乾燥条件を150℃、30分として、計算上の膜厚0.75μmの塗膜を形成した。得られた試験片について光触媒活性を測定した。結果を表3に示す。塗膜の乾燥を高温にすると塗膜硬度が若干向上するが、アセトアルデヒド分解に対する触媒効果の低下はみられず、膜厚が厚くなった分だけ分解速度が向上している事が認められる。
【0037】
【表3】
【0038】
[実施例4]
実施例2に於いて用いた珪素化合物の加水分解液の代わりに下記の方法で作成したシリカバインダーを用いて本発明の組成物を調製した。
撹拌機、温度計、還流冷却器を取り付けたセパラブルフラスコにメチルアルコール230.4部、メチルシリケート51(メチルシリケート4量体相当品、コルコート(株)製、商品名)23.4部を仕込み、均一に撹拌して30℃に維持する。これに加水分解率が約1000%となるようにイオン交換水44.7部と60%硝酸1.5部の混合液を一括添加し、30℃のままで5時間加水分解した。この様にして調製した加水分解液の固形分濃度はSiO2 として4%であった。
【0039】
上記のシリカバインダーを用いて得られた各種組成物液をマイヤーバー#5を用いて試験片に塗布し、実施例3と同様に150℃で30分乾燥し(但し、サンプルNo.14は200℃30分乾燥)、計算上の膜厚0.75μmの塗膜を形成した。得られた試験片について光触媒活性を測定した。結果を表4に示す。メチルシリケート51を用いた塗膜は全体的に硬度が高い傾向が認められる。
【0040】
【表4】
【0041】
【発明の効果】
本発明の組成物は、光の照射によって有機物の酸化還元をする触媒機能を有する二酸化チタン微粉末を基材表面に強固に被覆接着する事が出来、有機物バインダーで接着させたときのように有機物の分解で経時的に接着力の低下する事の無い、光活性の大きい塗膜を形成する事が出来る。膜厚とシリカバインダーの比率を選ぶ事により透明の被膜を形成でき、広い用途に応用できる。
Claims (4)
- 0.001〜0.5μmの平均粒径を持つチタン酸化物、一般式SinOn-1(OR)2n+2(ただし、nは2〜6、RはC1〜4のアルキル基)で表わされる低級アルキルシリケート縮合物を更に加水分解率が50〜1500%になるように加水分解した加水分解物及び溶媒からなり、チタン及び珪素の重量比が各々TiO2 及びSiO2 への換算値で30〜96:70〜4(合計100)であり、全組成物中の固形分濃度が30重量%以下であることを特徴とする光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物。
- 0.001〜0.5μmの平均粒径を持つチタン酸化物を分散含有した水性分散液を10〜50℃に維持し、これに一般式SinOn-1(OR)2n+2(ただしnは2〜6、RはC1〜4のアルキル基)で表わされる低級アルキルシリケート縮合物を撹拌下に加えて1時間以上反応させ加水分解率が50〜1500%の分解物を得る、チタン及び珪素の重量比が各々TiO2 及びSiO2 への換算値で30〜96:70〜4(合計100)であり、全組成物中の固形分濃度が30重量%以下である光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物の製法。
- 0.001〜0.5μmの平均粒径を持つチタン酸化物を分散含有する水性分散液に、一般式SinOn-1(OR)2n+2(ただし、nは2〜6、RはC1〜4のアルキル基)で表わされる低級アルキルシリケート縮合物をアルコール中で加水分解率が50〜1500%になる量の水で加水分解させて得たアルコール性シリカゾルを加えて10〜50℃で混合し、チタン及び珪素の重量比が各々TiO2 及びSiO2 への換算値で30〜96:70〜4(合計100)であり、全組成物中の固形分濃度が30重量%以下である光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物の製法。
- 0.001〜0.5μmの平均粒径を持つチタン酸化物、一般式SinOn-1(OR)2n+2(ただし、nは2〜6、RはC1〜4のアルキル基)で表わされる加水分解性珪素化合物の加水分解率50〜1500%の加水分解物及び溶媒からなり、チタン及び珪素の重量比が各々TiO2 及びSiO2 への換算値で30〜96:70〜4(合計100)であり、全組成物中の固形分濃度が30重量%以下である液状組成物を塗布、乾燥して、厚さ0.1〜3μmの酸化チタン及び酸化珪素からなる塗膜を表面に形成した光触媒機能を有する基材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33219594A JP3732247B2 (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33219594A JP3732247B2 (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004368564A Division JP2005163050A (ja) | 2004-12-20 | 2004-12-20 | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08164334A JPH08164334A (ja) | 1996-06-25 |
JP3732247B2 true JP3732247B2 (ja) | 2006-01-05 |
Family
ID=18252239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33219594A Expired - Fee Related JP3732247B2 (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3732247B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104785232A (zh) * | 2015-03-17 | 2015-07-22 | 珠海全程科技有限公司 | 陶瓷负载高活性纳米二氧化钛薄膜的低温制备方法 |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2782329B2 (ja) * | 1995-03-08 | 1998-07-30 | 日本インシュレーション株式会社 | 光触媒材料及びその製造方法 |
DK0816466T3 (da) * | 1995-03-20 | 2006-06-12 | Toto Ltd | Anvendelse af materiale, der har en ultrahydrofil og en fotokatalytisk overflade |
US6830785B1 (en) | 1995-03-20 | 2004-12-14 | Toto Ltd. | Method for photocatalytically rendering a surface of a substrate superhydrophilic, a substrate with a superhydrophilic photocatalytic surface, and method of making thereof |
US5686372A (en) * | 1995-05-26 | 1997-11-11 | University Technologies International Inc. | Photocatalyst with modified alkyl silicate ester support and process for production thereof |
FR2738813B1 (fr) | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
JPH09100437A (ja) * | 1995-10-05 | 1997-04-15 | Yamagata Pref Gov Techno Porisu Zaidan | 塗料組成物 |
DE69613326T2 (de) | 1995-12-21 | 2001-11-22 | Asahi Glass Co. Ltd., Tokio/Tokyo | Photokatalysatorzusammenstellung und Verfahren für seine Herstellung, Photokatalysatorzusammenstellung verbunden auf einen Träger |
JPH09230105A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-09-05 | Toto Ltd | 防曇方法及びそれを施した設備 |
US6090489A (en) * | 1995-12-22 | 2000-07-18 | Toto, Ltd. | Method for photocatalytically hydrophilifying surface and composite material with photocatalytically hydrophilifiable surface |
JPH1081840A (ja) * | 1996-07-19 | 1998-03-31 | Toto Ltd | 光触媒性親水性塗料組成物 |
US6165256A (en) * | 1996-07-19 | 2000-12-26 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifiable coating composition |
KR100468029B1 (ko) * | 1996-07-19 | 2005-01-24 | 도토기키 가부시키가이샤 | 광촉매성 친수성 코팅 조성물 |
JP4187632B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2008-11-26 | 昭和電工株式会社 | 二酸化チタン薄膜の形成方法およびその二酸化チタン薄膜を有する触媒等 |
JP3291558B2 (ja) * | 1996-11-18 | 2002-06-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 光触媒塗料及びその製造方法並びにこれを塗布した塗膜 |
US6027766A (en) | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
JPH10259320A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Mitsubishi Materials Corp | 光触媒塗料およびその製造方法並びにそれを塗布した塗膜 |
JPH10259324A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Mitsubishi Materials Corp | 光触媒塗料およびその製造方法並びにそれを塗布した塗膜 |
US6337129B1 (en) | 1997-06-02 | 2002-01-08 | Toto Ltd. | Antifouling member and antifouling coating composition |
JP3951366B2 (ja) * | 1997-06-13 | 2007-08-01 | Jsr株式会社 | 水系分散体 |
JPH1133413A (ja) * | 1997-07-18 | 1999-02-09 | Mitsubishi Materials Corp | 大気浄化用構造物の製造方法 |
JPH11100695A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Nippon Alum Co Ltd | 光触媒活性を有するチタン材の製造方法 |
JPH11116805A (ja) * | 1997-10-15 | 1999-04-27 | Dainippon Ink & Chem Inc | 硬化性組成物 |
JPH11216367A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-10 | Osaka Prefecture | 光触媒材料の製造方法 |
JPH11323188A (ja) * | 1998-05-14 | 1999-11-26 | Mitsubishi Materials Corp | 光触媒膜およびその形成方法と光触媒塗料 |
JPH11323192A (ja) * | 1998-05-15 | 1999-11-26 | Mitsubishi Materials Corp | 帯電防止効果のある光触媒膜とその形成用の光触媒塗料 |
JP2008274306A (ja) * | 1998-05-26 | 2008-11-13 | Jsr Corp | 組成物 |
FR2797262B1 (fr) * | 1999-08-05 | 2001-12-07 | Mci Sa | Procede de traitement de materiau architectural |
WO2001023483A1 (en) * | 1999-09-30 | 2001-04-05 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Photocatalytic coating composition and product having thin photocatalytic film |
US6479141B1 (en) | 1999-09-30 | 2002-11-12 | Showa Denko K.K. | Photocatalytic coating composition and product having photocatalytic thin film |
JP2001179109A (ja) | 1999-12-27 | 2001-07-03 | Yamaha Corp | 光触媒顆粒体およびその製造方法 |
JP2001259435A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-09-25 | Seiwa Kogyo Kk | 光触媒担持体 |
JP2003126702A (ja) | 2001-10-25 | 2003-05-07 | Yamaha Corp | 光触媒顆粒体、その機能回復方法、およびこれらを用いた有害有機物の分解除去装置 |
JP4119963B2 (ja) * | 2002-09-04 | 2008-07-16 | 株式会社Yooコーポレーション | 消臭剤の製造方法 |
US7354624B2 (en) | 2004-05-28 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer coatings and related methods |
US7354650B2 (en) | 2004-05-28 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer coatings with an inorganic oxide network containing layer and methods for their application |
US7959980B2 (en) | 2004-05-28 | 2011-06-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Hydrophilic compositions, methods for their production, and substrates coated with such compositions |
KR101126932B1 (ko) | 2004-09-03 | 2012-03-20 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 코팅용 조성물 및 하도제, 및 상기 조성물을 포함하는도막을 갖는 적층체, 광촉매 코팅 필름 및 성형체 |
JP4540069B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2010-09-08 | 東邦チタニウム株式会社 | 酸化チタン光触媒塗膜形成用組成物、その製造方法、光触媒用塗膜および光触媒用塗布物 |
JP4841421B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2011-12-21 | 石原産業株式会社 | 球状ペルオキソチタン水和物及び球状酸化チタンの製造方法 |
JP5874267B2 (ja) * | 2010-10-26 | 2016-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 常温硬化性高活性光触媒塗工液及びそれから得られる光触媒薄膜 |
MX341100B (es) | 2011-06-17 | 2016-08-08 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corp | Metal con superficie tratada y metodo para producirlo. |
CN116987405B (zh) * | 2023-09-26 | 2023-12-12 | 成都先进金属材料产业技术研究院股份有限公司 | 油墨专用钛白及其处理剂的制备方法 |
-
1994
- 1994-12-13 JP JP33219594A patent/JP3732247B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104785232A (zh) * | 2015-03-17 | 2015-07-22 | 珠海全程科技有限公司 | 陶瓷负载高活性纳米二氧化钛薄膜的低温制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08164334A (ja) | 1996-06-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3732247B2 (ja) | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 | |
AU676299B2 (en) | Photocatalyst composite and process for producing the same | |
JP3356437B2 (ja) | 光触媒、その製造法及び多機能部材 | |
JP3559892B2 (ja) | 光触媒皮膜およびその形成方法 | |
JP4335446B2 (ja) | 酸化チタンゾル、薄膜およびそれらの製造法 | |
JP3796403B2 (ja) | 光触媒性酸化物含有組成物、薄膜および複合体 | |
TWI441678B (zh) | Photocatalyst coating and photocatalyst coating solution | |
JP2001179091A (ja) | 空気浄化用光触媒フィルター | |
CN1384152A (zh) | 用于有机物光催化分解的二氧化钛纳米涂料及其制备方法 | |
JP3961097B2 (ja) | ブラインドのスラット製造方法 | |
JP3791067B2 (ja) | 光触媒組成物およびガラス物品 | |
JP3027739B2 (ja) | 光触媒体およびその製造方法 | |
JPH10167727A (ja) | 変性酸化チタンゾル、光触媒組成物及びその形成剤 | |
JP2005163050A (ja) | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 | |
JP4343335B2 (ja) | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法 | |
JP2000017229A (ja) | 光触媒皮膜用下地膜、その形成方法および光触媒皮膜用下地膜を利用して形成した光触媒皮膜を有する基材を含んでなる物品 | |
JP2003138163A (ja) | 光触媒コーティング用組成物及びその製造方法並びにそれを使用した光触媒体 | |
JP3806998B2 (ja) | 光触媒組成物とその形成剤および光触媒組成物付き基体 | |
JP4110279B2 (ja) | 光触媒皮膜を塗布した基材および光触媒皮膜を基材上に形成する方法 | |
JP2000302422A (ja) | 光触媒膜形成用コーティング組成物 | |
JP2002079109A (ja) | 光半導体金属−有機物質混合体、光半導体金属含有組成物、光触媒性被膜の製造法及び光触媒性部材 | |
JPH1057817A (ja) | 光触媒活性を有する親水性構造体 | |
JP2001031483A (ja) | 光触媒機能を備えるセラミックス建材の製造方法 | |
JPH11188272A (ja) | 光触媒体およびその製造方法 | |
JP2003010696A (ja) | 光触媒体およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040921 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041019 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041220 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051004 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051012 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S201 | Request for registration of exclusive licence |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314201 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081021 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091021 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091021 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101021 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111021 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121021 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131021 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |