JP3751594B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体記憶装置において用いられる高速ページ読み出しに係り、特に分割読み出しを行なう半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のフラッシュメモリなどの半導体記憶装置では、一括して数ワード分のデ一タをセンスアンプで読み出しラッチし、出力側の制御のみで所望アドレスのデータを高速に出力するページ読み出しが使用されてきた。すなわち、最初のアクセスであるファーストアクセス中に例えば、複数のデータをまとめてラッチする。そして、ラッチしたデータを出力側の切り換えで高速に出力する。このように、従来の半導体記憶装置では数ワード分のデータ、例えば8ワード(1ワード161/O)分のデータを、8×16=128個のセンスアンプで同時に読み出していた。
【0003】
ページ読み出しなので、データ数が増加してもセルデコードで消費される電流はあまり増加しない。すなわち、複数のビット線を開くのに余計に電流が増えるが、ワード線、プリデコード分は増えないので、全体消費電流に大きく影響しない。それに比べ、センスアンプが消費する電流は、データ数に比例して増加していく。すなわち、1つのセンスアンプに1つのビット線が接続されるためである。それにより、一度に全てのセンスアンプの負荷がデータ線を充電すると、瞬間的に消費電流が増加し、電圧降下・電源ノイズを発生する。図8には、従来の半導体記憶装置の概略構成が示される。複数個設けられたメモリセル30は、それぞれ複数個の単位でグループ化されている。メモリセル30には、複数のデータ線31がそれぞれ接続されている。このデータ線31は、グループ化されて、グループ化された複数のセンスアンプ32に接続されている。このセンスアンプ32は、各グループに例えば16個備えられている。この16個の個数は、1ワード分としての16個のI/O分に相当している。この図8に示された構成では、センスアンプ32を8グループ、すなわち、16と8の積である128個設けている。センスアンプ32は、半導体記憶装置のメモリセル領域とは異なる周辺回路領域の中に設けられる。ここで、分割するセンスアンプは、1ワード、2ワード、など適切な単位で設定できる。ここでは、8ワードごとに設定している。
【0004】
各センスアンプ32には、同じタイミングのセンスアンプイネーブル信号が入力される。このセンスアンプイネーブル信号は、単一のセンスアンプイネーブル信号生成回路33から出力されている。
【0005】
次に、図8における各構成への入出力される信号のタイミングを示す図9を用いて、図8に示される従来の半導体記憶装置の動作を説明する。アクセスされるメモリセルを指定するアドレス信号が入力され、その後、各センスアンプ32へ入力されるセンスアンプイネーブル信号が一斉にLレベルからHレベルヘ立ち上がり、全てのセンスアンプ32が活性化される。このセンスアンプ32の活性化に伴い、各センスアンプ32において、初期電流が消費される。センスアンプ32が活性化されると、このセンスアンプ32に接続されるメモリセル30がアクセスされる。このように、センスアンプが活性化され、メモリセルから読み出されたデータが、I/O(図示せず)から出力される。
【0006】
図9中の最下欄に示されるように消費電流は、すべてのセンスアンプが活性直後、瞬間的に消費電流が急激に増大し、そして定常状態になり、読み出し終了後、初期値に復帰する。すなわち、最大瞬間消費電流は、活性化された各センスアンプにおける初期消費電流の和であり、各センスアンプが活性化開始する時間が同一であるために、瞬間消費電流が極めて大きくなる。
【0007】
また、今後さらなる高速アクセスの為に読み出すデータ量(ワード数)が増える方向である。このページ読み出しでは、一括して読み出すデータ量(ワード数)に応じた数のセンスアンプで読み出し動作を行なう為、データ量が多くなるほどその瞬間の消費電流は増大する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
以上のような従来の半導体記憶装置では、以下の課題が生じる。
【0009】
半導体記憶装置を使用するシステム側の電源供給能力が弱い場合、この瞬間に電源電圧降下が発生し、急激な電流消費による電源ノイズが発生するために、半導体記憶装置の読み出し能力低下や誤動作、その他システムに実装されている装置の誤動作を招く恐れがある。また、フラッシュメモリにおいては、もしシステムの電源降下が生じた場合、書き込み、消去動作が停止してしまう可能性がある。特に携帯用電子機器などでは、バッテリーを使用していることから、携帯用電子機器に組み込まれた半導体記憶装置に対する電源供給能力は低下する傾向があるため、この瞬間消費電流の増加は大きな影響を及ぼす。また、データ読み出しの高速化の技術動向に伴い、データ長が例えば16個から32個に増えるにつれて、消費電流が増加する。
【0010】
従来技術では、8ワードの場合、瞬間消費電流が例えば数100mA流れ、その配線抵抗が1オームであるとすると、その回路周囲の電圧降下は、一0.数Vとなり、特性の劣化が生じる。
【0011】
本発明の目的は以上のような従来技術の課題を解決することにある。
【0012】
特に本発明の目的は、ページ読み出し時の消費電流を抑制する半導体記憶装置を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係る半導体記憶装置は、ページ読み出しを行う単位であるグループごとに分割された、複数のセンスアンプと、前記グループ毎にセンスアンプをイネーブルにし、また、前記グループ毎にセンスアンプをディセーブルにする、センスアンプ制御信号を生成して出力する、センスアンプ制御信号生成回路であって、前記複数のセンスアンプのグループ毎に、異なるタイミングでセンスアンプをイネーブルにし、且つ、異なるタイミングでディセーブルにするように、前記センスアンプ制御信号を出力するとともに、入力されたアドレス信号に対応するグループのセンスアンプを最初にイネーブルにし、続いて、他のグループのセンスアンプを順次イネーブルにするように前記センスアンプ制御信号を出力する、センスアンプ制御信号生成回路と、前記複数のセンスアンプにデータ線を介して接続された、複数のメモリセルと、を備えることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
(第1の実施の形態)
本実施の形態の半導体記憶装置の構成を図1に示される構成ブロック図を用いて説明する。複数個設けられたメモリセル1は、それぞれ複数個の単位でグループ化されている。メモリセル1には、複数のデータ線2がそれぞれ接続されている。このデータ線2は、グループ化されて、グループ化された複数のセンスアンプ3に接続されている。このセンスアンプ3は、各グループに例えば16個備えられている。この16個の個数は、1ワード分としての16個のI/O分に相当している。この図1に示された構成では、センスアンプ3を8グループ、すなわち、16と8の積である128個設けている。センスアンプ3は、半導体記憶装置のメモリセル領域とは異なる周辺回路領域の中に設けられる。ここで、分割するセンスアンプは、1ワード、2ワード、など適切な単位で設定できる。ここでは、8ワードごとに設定している。
【0015】
各センスアンプ3には、センスアンプイネーブル(センスアンプ活性化)信号がセンスアンプのグループごとにそれぞれ入力される。同一グループ内の各センスアンプ3には、同じタイミングのセンスアンプイネーブル信号が入力される。また、異なるグループのセンスアンプには異なるタイミングのセンスアンプイネーブル信号が入力される。図1の例では、8個のセンスアンプイネーブル信号SAEN(1)〜SAEN(8)が、それぞれ、センスアンプ3のグループ(1)〜(8)に入力される。
【0016】
この複数種類のセンスアンプイネーブル信号は、それぞれ異なるセンスアンプイネーブル信号生成回路4から出力されている。すなわち、複数のセンスアンプイネーブル信号生成回路4は、それぞれが接続されたセンスアンプ3に出力する信号グループごとに異なるタイミング波形となるようにセンスアンプイネーブル信号SAEN(1)〜SAEN(8)を出力する。センスアンプイネーブル信号SAEN(1)〜SAEN(8)は、センスアンプを単位グループとして1ワード分ごとに読み出しを開始させる。
【0017】
次に、図1における各構成への入出力される信号のタイミングを示す図2を用いて、図1に示される半導体記憶装置の動作を説明する。アクセスされるメモリセルを指定するアドレス信号ADDRESSが入力され、所望のメモリセルが選択された後、センスアンプイネーブル信号SAEN(1)がLレベルからHレベルヘ立ち上がり、グループ(1)のセンスアンプ3が活性化される。このグループ(1)のセンスアンプ3の活性化に伴い、グループ(1)のセンスアンプ3において、初期電流が消費される。グループ(1)のセンスアンプ3が活性化されると、このグループ(1)のセンスアンプ3に接続されるメモリセル(1)のデータが読み出される。
【0018】
次に、センスアンプイネーブル信号SAEN(2)がLレベルからHレベルヘ立ち上がり、グループ(2)のセンスアンプ3が活性化される。このグループ(2)のセンスアンプ3の活性化に伴い、グループ(2)のセンスアンプ3において、電流が消費される。グループ(2)のセンスアンプ3が活性化されると、このグループ(2)のセンスアンプ3に接続されるメモリセル(2)のデータが読み出される。このように、順に各センスアンプイネーブル信号がLレベルからHレベルヘ立ち上がり、各センスアンプが順次活性化される。このように、順次、センスアンプが活性化される途中で、メモリセルから読み出されたデータが、I/O(図示せず)から出力される。
【0019】
図2中の最下欄に示されるように消費電流は、アドレスが入力後、ほぼ平均した値を維持し、すべてのセンスアンプの活性化が終了後、初期値に復帰する。このように、センスアンプ1ワード分ずつ、読み出し動作を制御するセンスアンプイネーブル信号を設け、データ線を充電し、データを読み出し、そのデータをラッチするまでの期間を一定に保ったまま、それぞれの信号にタイミングを設けることで、瞬間消費電流を平滑化させることが可能となる。すなわち、瞬間消費電流は、活性化された各センスアンプにおける消費電流の和であり、各センスアンプが活性化開始する時間がずれているために、瞬間消費電流が平滑化することになる。このように、読み出し動作は、まずデコード期間にアドレスを検知し、その後、充電をスタートさせる。この後、メモリセルを順次アクセスし、増幅動作を行いセンスアンプから出力が行われる。その後、ラッチ動作が行われる。
【0020】
センスアンプイネーブル信号SAENi(iは、入力されたアドレス信号で指定されるセンスアンプのグループを特定する番号である)の動作タイミングは内部クロックにより生成する。センスアンプイネーブル信号SAENiは、ピークは数ナノ秒程度であり、ファーストアクセス時に例えば5ナノ秒程度ずらす。そして、最初にアクセスされたメモリセルのデータ(ファーストアクセスデータ)が出力される前までの期間L内に全てのセンスアンプイネーブル信号SAENiが活性化され、全てのデータがラッチされる。このセンスアンプイネーブル信号SAENiのピークのずれるタイミングは、分割するセンスアンプの個数によって変更される。すなわち、分割数が多い場合、ずれるタイミングは小さくなり、分割数が少ない場合、ずれるタイミングは大きくなる。
【0021】
読み出し動作には、データ線充電、センス、ラッチの3動作タイミングがあるが、その3つのタイミングを独立させて、センスアンプ制御回路が実行させる。すなわち、センスアンプ負荷がデータ線を充電し、データを判定し、そのデータを最適化させた時間保持する動作をセンスアンプ制御回路が実行する。
【0022】
次に、図1に示されたセンスアンプ3及びメモリセル1の部分の回路図を図3Aに示す。センスアンプ3内には、メモリセル1内のメモリセルトランジスタ5にデータ線2を介して、データ線接続スイッチ6が接続されている。また、基準メモリセルトランジスタ7には、基準データ線8を介して、基準データ線接続スイッチ9が接続されている。このデータ線接続スイッチ6には、バイアストランジスタB1を介して、第1負荷10が接続され、基準データ線接続スイッチ9には、バイアストランジスタB2を介して、第2負荷11が接続されている。これらバイアストランジスタB1、B2のゲート端子には、セルドレイン電圧BIASがバイアス電圧として印加されている。また、バイアストランジスタB1と、バイアストランジスタB2との間には、カレントミラー部12が接続されている。これら、カレントミラー部12、第1負荷10、第2負荷11には同じセンスアンプイネーブル信号SAENが入力されている。さらに、カレントミラー部12には、データ判定部24と、データラッチ部13とが接続されている。このデータラッチ部13からI/O部を介して、半導体記憶装置内のデータが出力される。ここで、データラッチ部13は、例えば、2つのインバータから構成される。
【0023】
第1負荷10は、データ線2に電流を供給する回路であり、P型のMOSトランジスタ50、52とインバータ54とを備えて構成されている。このため、ハイレベルのセンスアンプイネーブル信号SAENがインバータ54に入力されると、電圧VDDからデータ線2に電流が供給される。一方、第2負荷11は、基準データ線8に電流を供給する回路であり、P型のMOSトランジスタ60、62とインバータ64とを備えて構成されている。このため、ハイレベルのセンスアンプイネーブル信号SAENがインバータ64に入力されると、電圧VDDから基準データ線8に電流が供給される。
【0024】
カレントミラー部12は、ノードN1とノードN2の電圧を比較することにより、メモリセルトランジスタ5のデータを読み出すための回路である。すなわち、メモリセルトランジスタ5には、0データ又は1データが格納されており、このため、0データのしきい値又は1データのしきい値に設定されている。基準メモリセルトランジスタ7は、0データと1データとの中間のしきい値に設定されている。
【0025】
カレントミラー部12は、インバータ70と、P型のMOSトランジスタ72、74、76と、N型のMOSフローチャート78、80とを備えて構成されている。このため、ハイレベルのセンスアンプイネーブル信号SAENがインバータ70に入力されると、カレントミラー部12が駆動し、ノードN3の電圧がデータ判定部24に入力される。このノードN3の電圧を、データ判定部24で判定して、データラッチ部13で判定したデータを保持する。
【0026】
図3Bは、本実施形態に係るセンスアンプイネーブル信号生成回路4の回路構成の一例を示す図であり、図3Cは、このセンスアンプイネーブル信号生成回路4で用いられているディレイ回路90、92、94の回路構成の一例を示す図であり、図3Dは、センスアンプイネーブル信号生成回路4における各所の動作波形を示す図である。
【0027】
図3B及び図3Dに示すように、本実施形態に係るセンスアンプイネーブル信号生成回路4は、3つのディレイ回路90、92、94と、NOR回路96と、インバータ98とを備えて構成されている。ディレイ回路90には、任意のタイミングでトリガーパルス信号TRIGGERiが入力される。すなわち、図2に示したように、各センスアンプイネーブル信号生成回路4毎に、ずれたタイミングで、トリガーパルス信号TRIGGERiが入力される。
【0028】
ディレイ回路90、92、94は、入力されたパルスを遅延させるとともにそのパルス幅を調整する回路である。このため、ディレイ回路90からは、トリガーパルス信号TRIGGERiの入力から所定時間だけ遅れて、データ線充電パルス信号PREiが出力される。具体的には、トリガーパルス信号TRIGGERiがローレベルになったときに、データ線充電パルス信号PREiがハイレベルになり、所定時間だけ遅れて、ローレベルになる。このデータ線充電パルス信号PREiが、ハイレベルの間、データ線2の充電が行われる。
【0029】
このデータ線充電パルス信号PREiは、ディレイ回路92に入力される。ディレイ回路92からは、データ線充電パルス信号PREiの入力から所定時間だけ遅れて、センスパルス信号SENiが出力される。具体的には、データ線充電パルス信号PREiがローレベルになったときに、センスパルス信号SENiがハイレベルになり、所定時間だけ遅れて、ローレベルになる。このセンスパルス信号SENiが、ハイレベルの間、データ線2を介してメモリセルからデータを読み出し、そのデータをデータ判定部24で判定する。
【0030】
このセンスパルス信号SENiは、ディレイ回路94に入力される。ディレイ回路94からは、センスパルス信号SENiの入力から所定時間だけ遅れて、データラッチパルス信号LATCHiが出力される。具体的には、センスパルス信号SENiがローレベルになったときに、データラッチパルス信号LATCHiがハイレベルになり、所定時間だけ遅れて、ローレベルになる。このデータラッチパルス信号LATCHiが、ハイレベルの間、データラッチ部13でデータのラッチ動作を行う。
【0031】
これらデータ線充電パルス信号PREiと、センスパルス信号SENiと、データラッチパルス信号LATCHiとは、NOR回路96に入力される。このため、NOR回路96及びインバータ98を介して、これら3つの信号のハイレベルの期間を合わせた期間だけ、ハイレベルのセンスアンプイネーブル信号SAENiが出力される。これにより、メモリセル3に接続されたデータ線2を充電し、このデータ線2を介して読み出したメモリセルのデータを判定し、そのデータをラッチするのに必要な時間だけ、センスアンプイネーブル信号SAENiをイネーブルにすることができる。
【0032】
図3Cに示すように、ディレイ回路90(ディレイ回路92、94も同様の構成である)は、NOR回路100、102と、偶数個のインバータ104とを備えて構成されている。そして、ディレイ回路90では、入力信号INとしてトリガーパルス信号TRIGGERiが入力され、出力信号OUTとしてデータ線充電パルス信号PREiが出力される。パルス幅の調整は、インバータ104の個数により行う。
【0033】
このように、それぞれ独立のセンスアンプイネーブル信号SAENiは、センスアンプ内の負荷がデータ線を充電し、データを判定し、そのデータをラッチするのに最適化された時間を保持したまま、それぞれ独立にタイミングをとって順次イネーブルとなる機能を有する半導体記憶装置とすることで、消費電流が少なくなる。このように、センスアンプの活性化された瞬間に一時的な最大消費電流が流れることを防止し、消費電流をセンスアンプの活性化期間で平均化させるとともに、最大消費電流を小さくすることができる。
【0034】
従来技術では、8ワードの場合、センスアンプ回路周囲の電圧降下は、−0.数Vとなり、特性の劣化が生じるが、本実施の形態の半導体記憶装置では、1ワード分のみで電圧降下が生じ、その電圧降下は従来技術の分割数分の1、例えば8分の1の−0.0数Vである。
【0035】
本実施の形態では、複数のセンスアンプが読み出し動作を開始し、データ線を充電する際に、例えば単位ワード毎に読み出し動作開始タイミング・読み出し動作期間を設け、瞬間消費電流を平滑化し、最大消費電流が大きい場合に生じる電圧降下・電源ノイズを低減する半導体記憶装置を提供できる。
【0036】
本実施の形態では、分割読み出しに関する動作を変更する半導体記憶装置を提供していて、他の動作については従来の半導体記憶装置に変更を加えてはいない。
【0037】
本実施の形態は、一括して数ワード分のデータを読み出すページ読み出しに関し、読み出すタイミングをワード毎に設けることで、ページ読み出し時のピーク消費電流を抑制し、電圧降下低減・電源ノイズ低減を可能とし、読み出し能力低下・読み出し誤動作を防止する半導体記憶装置を提供できる。
【0038】
(第2の実施の形態)
本実施の形態では、図1に示された第1の実施の形態の半導体記憶装置において、図4に示すようなトリガー信号生成回路TGGを備えており、他の構成は第1の実施の形態と同様である。また、図5は、図4のトリガー信号生成回路TGGの各所で生成される動作波形を示す図である。
【0039】
ここで、トリガー信号生成回路TGGは、アドレス信号ADDRESSが入力されるアドレスデコード回路15と、このアドレスデコード回路15からの出力されるクロックイネーブル信号CLKENが入力される内部クロック信号生成回路17と、アドレスデコード回路15から出力されるページ選択信号PAGEiと内部クロック信号生成回路17から出力される内部クロック信号CLK1とが入力されるインクリメント回路16とを有している。
【0040】
アドレスデコード回路15は、入力されたアドレス信号ADDRESSに対応するセンスアンプイネーブル信号SAENiが最初に活性状態になるように、アドレス信号ADDRESSをデコードして、ページ選択信号PAGEiを生成する(iは、入力されたアドレス信号で指定されるセンスアンプのグループを特定する番号である)。このようにアドレスデコード回路15を有することで、ファーストアクセスを最大限早くする。ファーストアクセスを遅らせないために、最初にイネーブルにするセンスアンプをデコードする。図5の例では、5番目のページPAGE5が選択された場合を示しており、ページ選択信号PAGE5がハイレベルになっている。
【0041】
また、アドレスデコード回路15は、内部クロック信号生成回路17からの内部クロック信号CLK1の出力をイネーブルにするクロックイネーブル信号CLKENを出力する。内部クロック信号生成回路17は、このクロックイネーブル信号CLKENに基づいて、内部クロック信号CLK1をインクリメント回路16に出力する。
【0042】
インクリメント回路16は、最初にイネーブルにすべきセンスアンプイネーブル信号をイネーブル状態に設定した後、残りのセンスアンプイネーブル信号を順次イネーブル状態に設定する。このために、図5の例では、インクリメント回路16は、最初にイネーブルにするセンスアンプのグループ5のトリガーパルス信号TRIGGER5のパルスを出力した後、順次、グループ3、4、6、7、8、1、2のトリガーパルス信号TRIGGER3、TRIGGER4、TRIGGER6、TRIGGER7、TRIGGER8、TRIGGER1、TRIGGER2のパルスを出力する。
【0043】
図6は、本実施形態に係るアドレスデコード回路15の回路構成の一例を示す図である。この図6に示すように、本実施形態に係るアドレスデコード回路15は、8個のNAND回路200と、8個のインバータ202と、NOR回路204と、インバータ206とを備えて構成されている。
【0044】
すなわち、本実施形態においては、センスアンプ3は8ページ(8グループ)に分かれているので、アドレス信号ADDRESSは、3ビットである。このため、NAND回路200とインバータ202から構成されるデコーダが8セット設けられている。これらのインバータ202からは、ページ選択信号PAGE1〜PAGE8が出力される。つまり、いずれか1つのページ選択信号PAGEiがハイレベルになる。これらページ選択信号PAGE1〜PAGE8は、NOR回路204に入力される。したがって、ページ選択信号PAGE1〜PAGE8のいずれかがハイレベルになると、インバータ206の出力もハイレベルになり、ハイレベルのクロックイネーブル信号CLKENが出力される。
【0045】
図7A及び図7Bは、本実施形態に係るインクリメント回路16の回路構成の一例を示す図である。図7Aに示すように、本実施形態に係るインクリメント回路16は、インバータ210、212、214と、バイナリーカウンタ216、218、220、222と、インバータ224と、NAND回路230と、インバータ232と、インバータ240と、NAND回路242と、インバータ244とを備えて構成されている。さらに、図7Bに示すように、インクリメント回路16は、NOR回路250、252と、インバータ254、256と、抵抗258と、P型のMOSトランジスタ260と、N型のMOSトランジスタ262、264と、インバータ270とを備えて構成されており、これらは8セット設けられている。つまり、図7Bの回路は、1つのページに対して1セット設けられている。
【0046】
図7Aに示すように、内部クロック信号生成回路17から出力された内部クロック信号CLK1は、バイナリーカウンタ216に入力されるとともに、インバータ210で反転されて、内部クロック信号CLK2として、バイナリーカウンタ220に入力される。つまり、内部クロック信号CLK1と内部クロック信号CLK2は、図5に示すように、互いに半周期分だけずれたクロック信号となる。
【0047】
バイナリーカウンタ216、218、220、222は、2周期で1つカウントアップする回路である。このため、バイナリーカウンタ216の出力である内部クロック信号CUT2は、内部クロック信号CLK1の2倍のクロック周期となり、バイナリーカウンタ218の出力である内部クロック信号CUT4は、内部クロック信号CUT2の2倍のクロック周期となる。同様に、バイナリーカウンタ220の出力である内部クロック信号CUT1は、内部クロック信号CLK2の2倍のクロック周期となり、バイナリーカウンタ222の出力である内部クロック信号CUT3は、内部クロック信号CUT1の2倍のクロック周期となる。
【0048】
内部クロック信号CUT2、CUT4は、NAND回路230に入力される。このNAND回路230には、ローレベルのクロックカバー信号CLK1COVERが、インバータ224で反転されて入力される。このため、ページ1、3、5、7のセンスアンプ3を順番にイネーブルにするためのページ選択信号CPAGEiが、インバータ232から出力される。
【0049】
同様に、内部クロック信号CUT1、CUT3は、NAND回路242に入力される。このNAND回路242には、ローレベルのクロックカバー信号CLK2COVERが、インバータ240で反転されて入力される。このため、ページ2、4、6、8のセンスアンプ3を順番にイネーブルにするためのページ選択信号CPAGEiが、インバータ244から出力される。
【0050】
ページ選択信号PAGEiとページ選択信号CPAGEiは、対応するページに設けられているNOR回路250に入力される。例えば、ページ選択信号PAGE1とページ選択信号CPAGE1は、ページ1のNOR回路250に入力される。
【0051】
ページ選択信号PAGEi又はページ選択信号CPAGEiがハイレベルになると、NOR回路250の出力がローベルになり、インバータ270からトリガーパルス信号TRIGGERiが1パルス出力される。例えば、図5に示すように、ページ選択信号PAGE5がハイレベルになると、トリガーパルス信号TRIGGER5が1パルス出力される。そして、これ以降、順番に、トリガーパルス信号TRIGGER3、TRIGGER4、TRIGGER6、TRIGGER7、TRIGGER8、TRIGGER1、TRIGGER2から、1パルス出力される。この図7Bの例では、インバータ254、256、270と、抵抗258と、MOSトランジスタ260、262、264でパルス生成回路を構成している。
【0052】
読み出し動作の前には、8個すべてのNOR回路252にリセット信号RSTが入力され、このインクリメント回路16がリセットされる。
【0053】
本実施の形態によれば、第1の実施の形態同様の効果を得ることができ、さらに、最初のアドレスはどのアドレスが指定されるか不明であるため、最初のアドレスは指定されたアドレスを読み出し、その後、順次アドレスをインクリメントして読み出すことができる。なお、上記各実施の形態は、それぞれ組み合わせて実施することができる。
【0054】
(第3の実施の形態)
第3実施形態においては、上述した各実施の形態において、ページ読み出しモードの場合と、バースト読み出しモードの場合のセンスアンプイネーブル信号SAENiのずれ時間ΔtSAENについて検討する。
【0055】
図10は、上述した各実施の形態におけるページ読み出しモードにおけるアドレス信号ADDRESSとトリガーパルス信号TRIGGERiとデータラッチパルス信号LATCHiとデータ読み出し信号DATAとの動作波形を示す図であり、図11は、バースト読み出しモードにおけるこれらの信号の動作波形を示す図である。これらページ読み出しモードとバースト読み出しモードとの選択は、外部からの設定により行われる。
【0056】
図10に示すように、ページ読み出しモードの場合、センスアンプイネーブル信号SAENiのずれ時間ΔtSAENは、ファーストページのラッチが完了してから、実際に出力として出力されるまでの時間tPを、ページ数nで割った値に設定される。つまり、センスアンプイネーブル信号SAENiのずれ時間ΔtSAEN=tP/nである。
【0057】
これは、ファーストアクセスのデータが出力された後、次にどのページがアクセスされるかは定まっていないため、ファーストアクセスが出力された時には、他のページのデータを読み込んでおく必要があるからである。
【0058】
これに対して、バースト読み出しモードの場合、図11に示すように、センスアンプイネーブル信号SAENiのずれ時間ΔtSAENは、ファーストアクセスのページのラッチが完了してから、実際に出力として出力されるまでの時間tBで良い。つまり、センスアンプイネーブル信号SAENiのずれ時間ΔtSAEN=tBである。
【0059】
これは、ファーストアクセスのデータが出力された後、次にどのページがアクセスするかは確定しているため、ファーストアクセスのデータが出力された時には、次のページのデータを読み込んでおけばよいからである。
【0060】
ここで、時間tPと時間tBとが異なる値としたのは、ページ読み出しモードの出力スピードと、バースト読み出しモードの出力スピードとが、必ずしも同じではなく、通常、バースト読み出しモードの時間tBの方が短いからである。
【0061】
そうすると、時間tB/n<時間tP/nとなり、バースト読み出しモード時のずれ時間ΔtSAENが短くなってしまう。これを回避するために、例えば、内部のクロック周波数を可変にして、バースト読み出しモード時には、ずれ時間ΔtSAENを時間tBに設定するようにすればよい。これにより、バースト読み出しモード時におけるさらなるノイズ・電圧降下等の抑制を図ることができる。
【0062】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々に変形可能である。例えば、上述した各実施の形態では、各グループ毎に異なるタイミングでセンスアンプイネーブル信号SAENiをイネーブルにし、各グループ毎に異なるタイミングでセンスアンプイネーブル信号SAENiをディセーブルにしたが、一部のグループに対しては、同時にセンスアンプイネーブル信号SAENiをイネーブルにし、且つ、ディセーブルにしてもよい。換言すれば、複数のグループのうちの一部のグループに対して、異なるタイミングでセンスアンプイネーブル信号SAENiをイネーブルにし、且つ、ディセーブルにするようにしてもよい。
【0063】
【発明の効果】
本発明により、ページ読み出し時における瞬間的な消費電流の増大を防ぐ半導体記憶装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態の半導体記憶装置の概略構成図。
【図2】第1の実施の形態の半導体記憶装置のページ読み出し動作を示すタイミングチャート。
【図3A】第1の実施の形態の半導体記憶装置のセンスアンプ及びメモリセルを表す回路図。
【図3B】第1の実施の形態におけるセンスアンプイネーブル信号生成回路の回路構成の一例を示す図。
【図3C】図3Bのセンスアンプイネーブル信号生成回路におけるディレイ回路の回路構成の一例を示す図。
【図3D】図3Bのセンスアンプイネーブル信号生成回路における各所の動作波形を示す図。
【図4】第2の実施の形態の半導体記憶装置のセンスアンプイネーブル信号生成回路とトリガー信号生成回路の構成の一例を示すブロック図。
【図5】第2の実施の形態の半導体記憶装置のページ読み出し動作を示すタイミングチャート。
【図6】第2の実施の形態のトリガー信号生成回路におけるアドレスデコード回路の回路構成の一例を示す図。
【図7A】第2の実施の形態のトリガー信号生成回路におけるインクリメント回路の回路構成の一例を示す図。
【図7B】第2の実施の形態のトリガー信号生成回路におけるインクリメント回路の回路構成の一例を示す図。
【図8】従来の半導体記憶装置の概略構成図。
【図9】従来の半導体記憶装置のページ読み出し動作を示すタイミングチャート。
【図10】第3の実施の形態に係る半導体記憶装置のページ読み出しモード時の動作波形を示す図。
【図11】第3の実施の形態に係る半導体記憶装置のバースト読み出しモード時の動作波形を示す図。
【符号の説明】
1 メモリセル
2 データ線
3 センスアンプ
4 センスアンプイネーブル信号生成回路
5 メモリセルトランジスタ
6 データ線接続スイッチ
7 基準メモリセルトランジスタ
8 基準データ線
9 基準データ線接続スイッチ
10 第1負荷
11 第2負荷
12 カレントミラー部
13 データラッチ部
15 アドレスデコード回路
16 インクリメント回路
20 第1インバータ
21a 第1PMOSトランジスタ
21b 第1NMOSトランジスタ
22 第2インバータ
23a 第2PMOSトランジスタ
23b 第2PMOSトランジスタ
24 データ判定部
Claims (8)
- ページ読み出しを行う単位であるグループごとに分割された、複数のセンスアンプと、
前記グループ毎にセンスアンプをイネーブルにし、また、前記グループ毎にセンスアンプをディセーブルにする、センスアンプ制御信号を生成して出力する、センスアンプ制御信号生成回路であって、前記複数のセンスアンプのグループ毎に、異なるタイミングでセンスアンプをイネーブルにし、且つ、異なるタイミングでディセーブルにするように、前記センスアンプ制御信号を出力するとともに、入力されたアドレス信号に対応するグループのセンスアンプを最初にイネーブルにし、続いて、他のグループのセンスアンプを順次イネーブルにするように前記センスアンプ制御信号を出力する、センスアンプ制御信号生成回路と、
前記複数のセンスアンプにデータ線を介して接続された、複数のメモリセルと、
を備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記センスアンプ制御信号に基づいて前記センスアンプがイネーブルになってからディセーブルになるまでの時間は、メモリセルに接続されたデータ線を充電し、このデータ線を介して読み出したメモリセルのデータを判定し、そのデータをラッチするのに必要な時間に設定されている、ことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
- 前記センスアンプ制御信号生成回路は、前記センスアンプ制御信号を出力するセンスアンプイネーブル信号生成回路を、前記グループ毎に、備えていることを特徴とする請求項2に記載の半導体記憶装置。
- 前記センスアンプイネーブル信号生成回路のそれぞれは、
入力されたトリガー信号に基づいて、データ線を充電するための信号であるデータ線充電信号を生成する、第1生成回路と、
前記データ線充電信号に基づいて、データ線を介してメモリセルからデータを読み出し、そのデータを判定するための信号であるセンス信号を生成する、第2生成回路と、
前記センス信号に基づいて、判定したデータをラッチするためのデータラッチ信号を生成する、第3生成回路と、
前記データ線充電信号と前記センス信号と前記データラッチ信号とが出力されている時間を合わせた時間だけ、前記センスアンプ制御信号をイネーブルにする、第4生成回路と、
を備えることを特徴とする請求項3に記載の半導体記憶装置。 - 前記センスアンプ制御信号生成回路は、
入力されたアドレス信号をデコードし、デコードされたアドレス信号に対応するグループのセンスアンプを最初にイネーブル状態に設定するための第1グループ選択信号を生成して出力する、アドレスデコード回路と、
前記第1グループ選択信号に基づいて、デコードされたアドレス信号に対応するグループの前記センスアンプイネーブル信号生成回路に、前記トリガー信号を出力するとともに、順次、他のグループの前記センスアンプイネーブル信号生成回路に前記トリガー信号を出力するインクリメント回路と、
をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の半導体記憶装置。 - 前記インクリメント回路は、内部で生成された第1クロック信号に同期してインクリメント動作をすることにより、前記トリガー信号を順次出力する、ことを特徴とする請求項5に記載の半導体記憶装置。
- 前記インクリメント回路は、前記第1クロック信号と、この第1クロック信号と半周期ずれた第2クロック信号とに同期してインクリメント動作をすることにより、前記第1クロック信号の半周期で、前記トリガー信号を順次出力する、ことを特徴とする請求項6に記載の半導体記憶装置。
- 外部からの入力で設定される読み出しモードに応じて、前記第1クロック信号のクロック周波数を変更することを特徴とする請求項7に記載の半導体記憶装置。
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