JP3390314B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレ
イパネル)用ガラス基板などの各種の被処理基板に対し
て処理を施すための基板処理装置に関する。
においては、半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」とい
う。)の洗浄処理工程やウエットエッチング処理工程が
重要な工程となっている。これらの工程では、たとえ
ば、スピンチャックに保持されたウエハの表面および/
または裏面に、フッ酸などの薬液を供給するようにした
基板処理装置が用いられる。
給に関連する構成は、図9に示されている。この基板処
理装置では、スピンチャック1に保持されたウエハWに
ノズル2から薬液を供給することによって、ウエハWが
処理される。ノズル2に供給すべき薬液は、薬液タンク
3から、薬液供給経路4を介して導かれる。薬液の圧送
のために、薬液供給経路4には、ベローズポンプ5が介
装されている。さらに、薬液供給経路4には、薬液の流
量を計測する流量計6、薬液中の異物を除去するための
フィルタ7、薬液の流量を調整するための流量調整弁
8、および薬液の供給を開始/停止するためのエア弁9
が介装されている。そして、エア弁9とノズル2との間
には、薬液供給経路4を通る薬液の圧力を検出するため
の圧力センサ10が設けられている。この圧力センサ1
0の出力を監視することにより、エア弁9による薬液供
給の開始/停止の状況をモニタすることができる。
量調整弁8との間の位置からは、エア弁9が閉成状態で
あるときに、薬液を薬液タンク3に帰還させるための循
環経路11が分岐している。この循環経路11の途中部
には、エア弁9が開成状態のときに閉成状態に制御さ
れ、エア弁9が閉成状態のときには開成状態に制御され
るエア弁12が介装されている。循環経路11にはま
た、薬液タンク3に帰還される薬液の流量を調整するた
めの流量調整弁13が介装されている。ベローズポンプ
5と流量計6との間の薬液供給経路4には、薬液の温度
を一定に保持するための温度調整手段としての熱交換器
15が付属している。薬液をノズル2から吐出しないと
きには、上記の循環経路11を介して薬液タンク3に薬
液が帰還されることにより、薬液を熱交換器15を通っ
て循環させることができ、薬液タンク3からエア弁9の
近傍に至るまでの薬液供給経路4内の薬液の温度を最適
値に保持することができる。
回さない状態で薬液の圧送を達成する目的で採用されて
いるものである。このベローズポンプ5は、通常、圧縮
空気によって駆動されるようになっている。ベローズポ
ンプのベローズは、たとえば、フッ素樹脂製であり、耐
用年数が1ないし3年である。したがって、ベローズ
は、使用期間長が耐用年数に達する以前に定期的に交換
されるのが通常である。しかし、場合によっては、耐用
年数以前にベローズが破損する場合もある。
と、駆動用の圧縮空気が薬液供給路4に入り込み、これ
により、薬液流量が不安定になるため、ウエハの処理に
不具合が生じるおそれがある。したがって、ベローズポ
ンプ5の破損を検知して、速やかにウエハの処理を停止
し、処理に不具合が生じたウエハをその後の工程に送ら
ないようにしなければならない。
おける圧力センサ10の出力を監視し、液圧の低下を検
知を通じて、ベローズの破損を検知するようにしてい
る。
みでは、必ずしもベローズの破損が生じたと断定できる
わけではない。たとえば、薬液吐出の開始直後には、ベ
ローズポンプ5の特性上、液圧の低下が生じる場合もあ
る。また、薬液中に溶存しているガスが発泡すれば、圧
力低下が生じる。発泡しやすい薬液には、たとえば硫酸
過水がある。また、フィルタ7にガスが溜まって圧力低
下を引き起こす場合もある。したがって、圧力の低下に
は、ベローズの破損以外にも種々の原因があるから、圧
力センサ10の出力に基づくベローズの破損の検知で
は、確実性に欠けるという欠点がある。
らず圧力低下がごくわずかである場合もあり、このよう
な場合には、ベローズの破損を検知できないから、薬液
の吐出状態が不安定なままウエハの処理が継続されてし
まう。そこで、本発明の目的は、上述の技術的課題を解
決し、処理液を圧送するための圧送手段の破損を確実に
検知することができる基板処理装置を提供することであ
る。
目的を達成するための請求項1記載の発明は、基板に処
理を施すための処理液を基板に供給するための処理液供
給路と、この処理液供給路を通して処理液を圧送するた
めの圧送手段と、上記処理液供給路に介装され、上記処
理液を所定量だけ蓄えることができる容器と、上記容器
に接続された気体排出路に設けられ、弁が開成されるこ
とによって上記容器内の気体の排出を許容し、弁が閉成
されることによって上記容器内の気体の排出を制限する
気体排出弁と、上記容器内の上記処理液の量を、多い順
から第1の液量範囲、第2の液量範囲、および第3の液
量範囲の3つの液量範囲のうちのいずれかに区別して検
出し、上記容器内の処理液の量が上記3つの液量範囲の
うちのいずれの範囲にあるかを表す処理液量検出信号を
出力する処理液量検出手段と、上記処理液量検出信号に
基づいて、上記容器内の上記処理液の量が、上記第1の
液量範囲にある場合には上記気体排出弁を閉成し、上記
第2の液量範囲にある場合には上記気体排出弁を開成
し、上記第3の液量範囲にある場合には上記圧送手段の
破損を検知したことを示す破損検知信号を出力する制御
部とを備えたことを特徴とする基板処理装置である。
じた気泡は、処理液供給路に介装された容器において捕
獲される。この気泡が容器内に蓄積されることによって
容器内の液量が少なくなると、容器内の液量は第1の液
量範囲から第2の液量範囲へと低下する。これに応答し
て、気体排出弁が開成され、容器内の液体気体排出路か
ら排出される。こうして、処理液供給路中で気泡が発生
しても、これを捕獲し、速やかに排除することができ
る。
進み、気体排出弁の開成による排気によってもなお容器
中の液量の低下を防ぐことができないときには、容器内
の液量は第3の範囲に至る。これに応答して、制御部
は、圧送手段に破損が生じたことを表す破損検知信号を
出力する。つまり、たとえば、圧送手段が圧縮空気で駆
動されるものの場合、処理液供給路中で大量の気泡が一
気に生じたとすれば、圧送手段の破損であると考えられ
る。そこで、この発明では、容器内の処理液量の急激な
減少に基づき、圧送手段の破損を検知するようにしてい
る。
によることなく圧送手段の破損を検知できるから、圧送
手段の破損を確実に、かつ、迅速に検知することができ
る。これにより、基板の処理に不良が生じることを防止
できる。請求項2記載の発明は、上記処理液量検出手段
は、上記容器内の上記処理液の液面の位置を検出するこ
とによって上記処理液の量を3つの液量範囲に区別して
検出する液面検出手段であることを特徴とする基板処理
装置である。
知により行っているから、容器内の液量を正確に検知す
ることができる。これにより、容器内の気体の排出およ
び圧送手段の破損の検知をより正確に行える。請求項3
記載の発明は、上記容器の水平断面の面積は下部よりも
上部の方が小さくなっていることを特徴とする請求項2
記載の基板処理装置である。
が比較的小さく形成されているので、気泡の蓄積開始に
伴う液面の変化を速やかに検知することができる。これ
により、容器中に蓄積された気体を速やかに排除でき
る。
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、この
発明の一実施形態にかかる基板処理装置の薬液供給に関
連する構成を示す系統図である。この基板処理装置は、
ウエハW(基板)を保持した状態で、ウエハWの中心を
通る鉛直軸まわりに高速回転することができるスピンチ
ャック21を備えている。スピンチャック21に関連し
て、このスピンチャック21に保持された状態のウエハ
Wの表面および/または裏面に薬液を供給するためのノ
ズル22が備えられている。ノズル22に供給すべき薬
液は、薬液タンク23に貯留されており、この薬液タン
ク23内の薬液が、薬液供給経路24を介してノズル2
2に供給されるようになっている。
に向けて圧送するための圧送手段としてのベローズポン
プ25、薬液を所定量だけ蓄えることができ、薬液供給
経路24内で生じた気体を回収するための容器としての
トラップタンク26、薬液供給経路24を通る薬液の流
量を計測するための流量計27、薬液中の異物を除去す
るためのフィルタ28、薬液の流量を調整するための流
量調整弁29、およびウエハWへの薬液供給を開始/停
止するためのエア弁30が介装されている。エア弁30
と、ノズル22との間の薬液供給路24には、さらに、
薬液供給経路24中における薬液の液圧を検出するため
の圧力センサ31が設けられている。この圧力センサ3
1の出力を監視することによって、エア弁30の開閉が
正常に行われているか否かを検知できる。
薬液供給路24からは、エア弁30が閉成状態のとき
に、圧送されてくる薬液を薬液タンク23に帰還するた
めの循環経路32が分岐して形成されている。この循環
経路32の途中部には、エア弁30が開成状態のときに
閉じられ、エア弁30が閉成状態のときに開成されるエ
ア弁33が介装されており、さらに、循環される薬液の
流量を調整するための流量調整弁34が介装されてい
る。薬液の温度をウエハWの処理のための最適温度に保
持するために、ベローズポンプ25とトラップタンク2
6との間の薬液供給経路24には、温度調整手段として
の熱交換器35が設けられており、循環経路32を介す
る薬液の循環によって、薬液タンク23から流量調整弁
29の近傍に至る薬液供給経路24中の薬液の温度を、
最適値に保持することができる。つまり、この実施形態
では、基板処理装置の動作中、ベローズポンプ25は終
始、駆動状態にある。
路を形成するエア抜き配管41が接続されており、この
エア抜き配管41は、トラップタンク26内に蓄積され
た気体を薬液タンク23に導く。エア抜き配管41の途
中部には、気体排出弁としてのエア弁42と、流量調整
弁43とが介装されている。一方、トラップタンク26
には、このトラップタンク26内の液体の液面を検知す
る2つの液面センサS1,S2が設けられている。
は、装置の各部を制御するための制御部50に与えられ
ている。この制御部50には、圧力センサ31の出力信
号も与えられている。そして、この制御部50は、これ
らのセンサ類の出力に基づいて、エア弁30,33,4
2の開閉を制御し、さらに、ベローズポンプ25の動作
を制御する。制御部50にはまた、液晶表示装置などか
らなる表示部51が接続されており、この表示部51に
は、制御部50の制御の下、異常メッセージなどが表示
される。
液面検知の態様を説明するための図である。液面センサ
S1およびS2は、たとえば、液の有無による静電容量
の変化を検出する静電容量型センサからなり、トラップ
タンク26の外側面に取り付けられている。液面センサ
S1は、トラップタンク26の上面26aよりもやや下
方においてトラップタンク26内の薬液を検知する。ま
た、液面センサS2は、液面センサS1よりもさらに下
方において、トラップタンク26内の薬液を検知する。
この2つの液面センサS1,S2により、トラップタン
ク26内の薬液の液面が、液面センサS1の検知高さよ
りも上方の第1範囲R1(第1の液量範囲に相当す
る。)、液面センサS1およびS2の各検知高さの間の
第2範囲R2(第2の液量範囲に相当する。)、ならび
に液面センサS2の検知高さよりも下方の第3範囲R3
(第3の液量範囲に相当する。)のうちのいずれの高さ
範囲に存在しているかを区別して検知することができ
る。すなわち、液量センサS1およびS2の出力信号
は、トラップタンク26内の薬液の量が、第1の液量範
囲、第2の液量範囲、および第3の液量範囲の3つの液
量範囲のうちのいずれの範囲にあるかを表す処理液量検
出信号となる。
している様々なガスが、圧力の変動により、気泡となっ
てトラップタンク26に溜まり、その結果、トラップタ
ンク26の内部における上方の空間には、空隙45が形
成される。また、トラップタンク26に気泡が溜まる他
の原因として、ベローズポンプ25のベローズの破損が
ある。この実施形態では、薬液中に溶存しているガスが
気泡となってトラップタンク26に溜まるときの速さ
と、ベローズポンプ25のベローズの破損によってトラ
ップタンク26内に気泡が溜まる速さとが異なる点に着
目し、後述するようにして、ベローズの破損の正確な検
知を達成している。
成を示す図解図である。このベローズポンプ25は、対
向して配置された一対のシリンダ61および62を有し
ており、各シリンダ61,62内には、ベローズ63,
64がそれぞれ配置されている。シリンダ61,62の
内部空間には、電磁弁機構65を介して圧縮空気が交互
に供給され、またシリンダ61,62の内部空間の空気
は、電磁弁機構65を介して交互に排気されるようにな
っている。すなわち、シリンダ61,62のうちの一方
に圧縮空気が供給されるときには、他方のシリンダ内の
空気が排気される。ベローズ63,64のフランジ63
aおよび64aは、連結部材66によって連結されてお
り、一方のベローズの伸長と他方のベローズの収縮とが
同期するようになっている。
になっており、この薬液室は薬液タンク23からの薬液
が導かれる薬液供給路67,68とそれぞれ連通してい
る。この薬液供給路67,68には、薬液タンク23へ
の逆流を防止する逆止弁69,70がそれぞれ介装され
ている。また、ベローズ63,62の内部空間により形
成された薬液室は、トラップタンク26へと薬液を導く
薬液流出路71,72とそれぞれ連通している。この薬
液流出路71,72には、トラップタンク26側への薬
液の流出のみを許容する逆止弁73,74がそれぞれ介
装されている。
ンダ62に圧縮空気を供給し、シリンダ61内の空気を
電磁弁機構65を介して排気すれば、ベローズ64が収
縮して、このベローズ64内の薬液は、薬液排出路72
および逆止弁74を通ってトラップタンク26へ向けて
圧送される。このとき、ベローズ63は伸長し、その内
部には、薬液タンク23からの薬液が、逆止弁69およ
び薬液供給路67を介して供給される。逆に、電磁弁機
構65からシリンダ61に圧縮空気を供給し、シリンダ
62内の空気を電磁弁機構65を介して排気すれば、ベ
ローズ63が収縮し、ベローズ64が伸長する。したが
って、この場合には、薬液タンク23からの薬液はベロ
ーズ64の内部の薬液室に導入され、ベローズ63の内
部の薬液室内の薬液がトラップタンク26側に圧送され
ることになる。こうして、ベローズ63,64が交互に
伸縮することにより、ほぼ連続的に薬液を供給できる。
いては、ベローズ63または64に破損が生じれば、電
磁弁機構65を介して供給される圧縮空気が薬液排出路
71,72を介して、トラップタンク26側に送られる
ことになる。この圧縮空気の気泡の混じった薬液がウエ
ハWにまで供給されると、ウエハWの処理に不良が生じ
ることになる。
のフローチャートであり、ベローズポンプ25における
不具合の検知に関連する処理が表されている。制御部5
0は、まず、液面センサS1の出力を調べる(ステップ
n1)。この液面センサS1が薬液を検知しており、し
たがって、トラップタンク26内の薬液の液面が第1範
囲R1に存在している場合には、エア弁42を閉成状態
とする(ステップn2)。
ないときには、さらに、液面センサS2の出力を調べる
(ステップn3)。液面センサS2が薬液を検知してお
り、したがって、トラップタンク26内の薬液の液面が
第2範囲R2に存在しているときには、エア弁42を開
成状態とする(ステップn4)。これにより、エア抜き
が行われ、トラップタンク26の内部に貯まった気体
が、流量調整弁43により調整された流量で排気され
る。これにより、液面が上昇して液面センサS1に達す
れば(ステップn1)、エア弁42が閉成されることに
なる(ステップn2)。
基づくエア弁42の開閉制御により、トラップタンク2
6内の液面は、通常、第2範囲R2よりも下回らない範
囲で、上下する。トラップタンク26内における気体の
貯留が急激に進み、エア弁42を開成しても、なお液面
の低下が継続する場合には、液面センサS2が薬液を検
知しない状態に至り、液面は第3範囲R3にまで下降す
る。このとき、制御部50は、装置の動作を停止させ
(ステップn5)、さらに、ベローズポンプ25の破損
を検知して、破損検知信号を出力する。これにより、表
示部51において、ベローズポンプ25の破損を知らせ
るメッセージが表示される(ステップn6)。
整弁43の開度は、ベローズポンプ25が正常な場合に
おけるトラップタンク26の内部の気泡の増加よりも速
くエア抜きができ、かつ、ベローズポンプ25の破損に
よるトラップタンク26の内部の気泡の増加よりもはる
かに遅くエア抜きがされるように調整されることが好ま
しい。これにより、ベローズポンプ25が正常な場合に
は、トラップタンク26内の液面が第2範囲R2を下回
ることがなく、また、ベローズポンプ25が破損した場
合には、トラップタンク26内の液面が速やかに第3範
囲R3まで下がることになる。
液供給路24に介装されたトラップタンク26において
気泡を蓄え、この気泡を排気するようにしているので、
薬液中の気泡を良好に除去することができる。また、ト
ラップタンク26内の気泡が急激に増加したことに基づ
いて、ベローズポンプ25の破損を検知しているから、
圧力センサの出力に頼っていた従来技術に比較して、迅
速に、かつ、確実にベローズポンプ25の破損を検知す
ることができる。そして、トラップタンク26内の液面
が第3範囲R3にまで下降したことに応答して装置の動
作が速やかに停止され、ベローズポンプ25に破損が生
じた旨のメッセージを出力するようにしているから、多
量の気泡が混入した薬液によってウエハWが処理するこ
とを防止でき、かつ、装置の使用者に速やかに故障の事
実を報知することができる。
を説明するための図であり、図2に示されたトラップタ
ンク26に代えて用いられるべきトラップタンク126
の構成が示されている。図2に示されたトラップタンク
26は、水平断面がいずれの高さでも等しく形成されて
いるのに対して、この図5に示されたトラップタンク1
26においては、上方の液面センサS1による検知範囲
付近における水平断面が、下方の液面センサS2による
検知範囲付近における水平断面よりも小さくなるように
形成されている。
内に気体が蓄積されると、液面が速やかに下降する。し
たがって、気体の蓄積が液面センサS1によって速やか
に検知されるから、エア抜きを迅速に行うことができ
る。この発明の2つの実施形態について説明したが、こ
の発明は上述の実施形態に限定されるものではない。た
とえば、上記の実施形態においては、トラップタンク2
6または126内の液面を検出する液面センサとして、
静電容量型センサが用いられているが、他の形態の液面
センサが用いられても良いことは言うまでもない。たと
えば、光ファイバ型センサ、フォトマイクロセンサ、超
音波式センサなどが適用可能である。
に、たとえはフッ素樹脂からなるファイバ部81の先端
部部81aにおける光の反射の有無を検知するようにし
たものである。先端部81aは、逆円錐面状をなすよう
に形成されている。この先端部81aが液中82にある
ときには、ファイバ部81と液82との屈折率の差が小
さいため、ファイバ部81により導かれてきた光のほと
んどは、液82中に放射される(図6(a) )。これに対
して、先端部81aが空気中にあるときには、ファイバ
部81と空気との大きな屈折率差のために、ファイバ部
81により先端部81aに導かれてきた光のほとんど
は、この先端部81aの逆円錐面において反射される
(図6(b) )。したがって、ファイバ部81の基端部に
おいて、先端部81aから戻ってくる光を受光素子によ
り検出すれば、この受光素子の出力に基づいて、先端部
81aの位置における液82の有無を検出できる。
と受光素子との対を含み、発光素子から出た光を受光素
子で受光することができるようにしたものである。発光
素子と受光素子との間の光路中に薬液が存在するかしな
いかで受光素子が受光する光量が変化するから、これに
基づき、薬液の有無を検知できる。このようなフォトマ
イクロセンサを用いる場合には、たとえば、図7に示す
ように、トラップタンク26の側面に、鉛直方向に沿っ
て配置された透明なバイパス管85が設けられることが
好ましい。このバイパス管85の外面に、上下方向に間
隔を開けて、フォトマイクロセンサ86,87を設けれ
ば、これらのフォトマイクロセンサ86,87を上述の
液面センサS1,S2として機能させることができる。
段と、いずれかの物体から反射されてくる超音波を受信
する超音波受信手段とからなる。このような超音波セン
サをトラップタンクの側壁に取り付け、トラップタンク
の内部空間に向けて超音波を放射すると、薬液が存在す
る場合には超音波の反射量が多いが、薬液が存在しなけ
れば超音波の反射量が少ない。したがって、この超音波
センサをトラップタンクの側壁に上下方向に間隔を開け
て配置すれば、上述の液面センサS1およびS2として
の機能を果たすことができる。
は、液面センサを用いる以外にも、たとえば、図8に示
すように、トラップタンク26の重量を検出する重量セ
ンサ90を用いることもできる。さらに、上記の実施形
態においては、トラップタンク26が、ベローズポンプ
25と流量計27との間に配置されているが、トラップ
タンク26は、ベローズポンプ25よりもノズル22寄
りであれば、薬液供給経路24のいずれの位置に配置さ
れてもよい。ただし、フィルタ28が気泡を通しにくい
性質を有するものの場合には、フィルタ28よりもベロ
ーズポンプ25側にトラップタンクが配置されることが
好ましい。
ズポンプ25を終始動作させ、ノズル22から薬液を吐
出しないときには、循環経路32を介して薬液タンク2
3に薬液を帰還させるようにしているが、薬液の温度制
御が重要でない場合には、循環経路32を設ける必要は
ない。ただし、この場合には、エア弁30を閉じて薬液
の供給を停止する際に、ベローズポンプ25も同時に停
止させる必要がある。
液を圧送する圧送手段としてベローズポンプが用いられ
ている例について説明したが、この発明は、破損により
圧縮空気が処理液中に混入するおそれのある任意の形態
の圧送手段を用いた基板処理装置に対して広く適用する
ことができるものである。また、上記の実施形態におい
ては、薬液の供給に関連する構成について説明したが、
薬液以外にも、たとえば純水のような他の処理液の供給
系に対しても同様な構成を採用してもよい。
ハを処理するための装置に本発明が適用された例につい
て説明したが、この発明は、液晶表示装置用ガラス基板
のような他の被処理基板に対しても広く適用することが
できる。その他、特許請求の範囲に記載された範囲で種
々の変更を施すことが可能である。
液供給に関連する構成を示す系統図である。
部分の構成を示す図解図である。
である。
の動作を説明するためのフローチャートである。
る。
の構成例を示す図解図である。
を示す系統図である。
Claims (3)
- 【請求項1】基板に処理を施すための処理液を基板に供
給するための処理液供給路と、 この処理液供給路を通して処理液を圧送するための圧送
手段と、 上記処理液供給路に介装され、上記処理液を所定量だけ
蓄えることができる容器と、 上記容器に接続された気体排出路に設けられ、弁が開成
されることによって上記容器内の気体の排出を許容し、
弁が閉成されることによって上記容器内の気体の排出を
制限する気体排出弁と、 上記容器内の上記処理液の量を、多い順から第1の液量
範囲、第2の液量範囲、および第3の液量範囲の3つの
液量範囲のうちのいずれかに区別して検出し、上記容器
内の処理液の量が上記3つの液量範囲のうちのいずれの
範囲にあるかを表す処理液量検出信号を出力する処理液
量検出手段と、 上記処理液量検出信号に基づいて、上記容器内の上記処
理液の量が、上記第1の液量範囲にある場合には上記気
体排出弁を閉成し、上記第2の液量範囲にある場合には
上記気体排出弁を開成し、上記第3の液量範囲にある場
合には上記圧送手段の破損を検知したことを示す破損検
知信号を出力する制御部とを備えたことを特徴とする基
板処理装置。 - 【請求項2】上記処理液量検出手段は、上記容器内の上
記処理液の液面の位置を検出することによって上記処理
液の量を3つの液量範囲に区別して検出する液面検出手
段であることを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項3】上記容器の水平断面の面積は下部よりも上
部の方が小さくなっていることを特徴とする請求項2記
載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32533296A JP3390314B2 (ja) | 1996-12-05 | 1996-12-05 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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