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JP3199208B2 - 有機防錆処理銅箔およびその製造方法 - Google Patents

有機防錆処理銅箔およびその製造方法

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JP3199208B2
JP3199208B2 JP07631094A JP7631094A JP3199208B2 JP 3199208 B2 JP3199208 B2 JP 3199208B2 JP 07631094 A JP07631094 A JP 07631094A JP 7631094 A JP7631094 A JP 7631094A JP 3199208 B2 JP3199208 B2 JP 3199208B2
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Japan
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copper foil
organic rust
resistance
triazole
amino
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裕二 手嶋
宗治 大原
俊子 横田
誠 土橋
進 高橋
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Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
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Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
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Publication date
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2222/00Aspects relating to chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive medium
    • C23C2222/20Use of solutions containing silanes

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は有機防錆処理銅箔および
その製造方法に関し、詳しくは有機防錆剤として3−ア
ミノ−1,2,4−トリアゾール、シランカップリング
剤、カルボン酸またはその誘導体からなる混合溶液を用
い、銅箔の両面に該混合溶液を塗布後、乾燥することに
よって、耐酸化性、引き剥し強さ、耐塩酸性、耐湿性お
よび半田濡れ性のいずれの特性も高い水準で具備する有
機防錆処理銅箔およびその製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来の銅箔に対する表面処理は、基材と
の引き剥し強さの確保および耐熱耐酸化性、回路基板材
料としての要求特性(耐塩酸性、耐湿性、半田濡れ性
等)を満足させるため、亜鉛またはその合金をめっきし
た後、クロメート処理、さらにシランカップリング剤処
理をする等の非常に多数の工程を必要とした。また、そ
の際に使用するめっき浴の管理等が必要となり極めて煩
雑である。一方、銅箔の平滑面ではこれらの処理が強く
かかりすぎた場合には半田濡れ性に問題が生じる等の課
題もある。
【0003】一方、銅および銅合金への有機防錆処理方
法として、従来よりベンゾトリアゾール(BTA)およ
びその誘導体が公知であり広く用いられている。また、
銅箔に対しての有機防錆剤の利用例としては保管用の一
時防錆処理として上記したBTA処理が用いられてきて
いる。
【0004】最近は耐熱性のある有機防錆剤としてカル
ボキシベンゾトリアゾール(“「防錆管理」、1993
年11月号、第417頁”)や3−アミノ−1,2,4
−トリアゾールを含む各種BTA誘導体(“「防錆管
理」、1993年11月号、第412頁)が検討されて
いる。
【0005】これらの有機防錆処理は、防錆剤を含有す
る水溶液を銅箔に塗布するという非常に簡便な方法で良
好な防錆効果が得られるため、防錆のための工程が短く
なると共に液管理も容易となり、工程管理上およびコス
ト低減の面からもその実用化が望まれている。
【0006】しかしながら、銅箔の主たる用途である回
路基板材料の分野においては、回路基材との接着に加熱
プレスを用いるため、180℃前後での耐熱耐酸化性が
必要とされる。従来のBTAにおいては100℃を超え
ると急激に耐酸化性が低下することが知られている。
【0007】また、前述のカルボキシベンゾトリアゾー
ル、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール等のBTA
誘導体は200℃前後までの耐熱耐酸化性は向上する
が、これらの化合物で処理した銅箔は回路基材との引き
剥し強さが低下し1.0kg/cm以下となるため、J
IS規格の1.43kg/cmに比較して著しく低く実
用性がない。
【0008】さらに、これらの化合物を単独で処理した
場合は、半田濡れ性は有機物であるためか非常に良好で
あるものの、回路基板材料として要求される耐塩酸性、
耐湿性等の特性の大部分を満足させることはできない。
例えば耐塩酸性(0.8mm幅回路を1:1塩酸溶液中
に30分浸漬後の引き剥し強さの劣化率で評価)は40
%にも達し、上記した通常の処理銅箔の耐塩酸性が10
%以下であるのに比較して著しく大きい。また、耐湿性
(0.8mm幅回路を沸騰純水中に2時間浸漬後の引き
剥し強さの劣化率で評価)も25%となり、通常の処理
銅箔の耐湿性が10%以下であるのに比較して著しく大
きい。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これら従来
技術の課題を解決し、200℃前後での耐熱耐酸化性を
維持すると共に、回路基板材料として必要な基材との引
き剥し強さを確保し、さらに回路基板材料として要求さ
れる耐塩酸性、耐湿性、半田濡れ性等の特性を満足する
有機防錆処理銅箔およびその簡便かつ安価な製造方法を
提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、次
に示す銅箔によって達成される。
【0011】すなわち、本発明の有機防錆処理銅箔は、
銅箔の両面に、3−アミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、シランカップリング剤カルボン酸またはその誘導体
からなる有機防錆剤が塗布されていることを特徴とす
る。
【0012】本発明で用いる有機防錆剤は、3−アミノ
−1,2,4−トリアゾールを主成分とし、これにシラ
ンカップリング剤およびカルボン酸を加えた混合溶液で
ある。3−アミノ−1,2,4−トリアゾールを主成分
とするのは、200℃の雰囲気下で1時間放置しても酸
化しないという特性を利用するためである。3−アミノ
−1,2,4−トリアゾールの濃度は10mmol/L
〜0.5mol/Lが好ましい。濃度が10mmol/
L未満では耐熱耐酸化性が発揮されず、0.5mol/
Lを超えると耐熱耐酸化性はそれ以上向上せず、かつコ
スト高となり経済的に不利である。
【0013】シランカップリング剤としてはγ−(メタ
クリロキシプロピル)トリメトキシシラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、N
−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルジメトキシシ
ラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン等が使用可能である。シランカップリング剤の濃度
は1g/L〜10g/Lが好ましい。濃度が1g/L未
満では耐熱性が低下するのみならず、引き剥し強さや回
路基板材料の要求特性も低下し、10g/Lを超えると
回路基板材料の要求特性の低下が見られる。
【0014】カルボン酸またはその誘導体としてはジカ
ルボン酸、トリカルボン酸またはこれらの誘導体が使用
できる。ジカルボン酸としてはマレイン酸、フマル酸、
コハク酸、リンゴ酸、酒石酸等が挙げられる。トリカル
ボン酸としてはクエン酸、アコニット酸等が使用でき
る。また、カルボン酸の誘導体としては無水マレイン酸
等の無水物や金属塩アミド、イミド、エステル等が例示
される。カルボン酸の濃度は0.1g/L〜10g/L
が好適である。濃度が0.1g/L未満では耐熱性が低
下するのみならず、引き剥し強さや回路基板材料の要求
特性も低下し、10g/Lを超えると酸としての作用が
強過ぎるため銅箔を溶解してしまうので好ましくない。
【0015】このような有機防錆剤を銅箔の表面に塗布
することによって本発明の有機防錆処理銅箔が得られ
る。ここにおいて用いられる銅箔は特に限定されず、例
えば電解銅箔でも圧延銅箔でもよい。
【0016】有機防錆剤の銅箔への塗布手段は、所定濃
度の有機防錆剤水溶液を用い、この水溶液中に銅箔を浸
漬するか、もしくはシャワー(スプレー)またはハケ塗
り等によって上記水溶液を銅箔表面に塗布する。塗布温
度は室温〜60℃が好適である。60℃を超えると機材
としてポリ塩化ビニルが使用できない等の設備上の制約
があり、かつ特性の向上が見られないので好ましくな
い。塗布時間は1秒以上であればよく、60秒以上にし
ても特性の向上は見られない。
【0017】この有機防錆剤が塗布された銅箔は、水洗
することなくそのまま絞りロールで余剰の水分を除去
し、乾燥する。乾燥条件は100〜250℃の乾燥炉で
3〜15秒といった通常の条件で行なわれる。
【0018】
【作用】上述したように、3−アミノ−1,2,4−ト
リアゾール単独では回路基材との引き剥し強さが低い上
に回路基板材料としての特性も全く実用に耐えない。他
方、シランカップリング剤は従来より銅箔と基板材料の
引き剥し強さを向上させる効果のあることは知られてい
たが、耐熱耐酸化性は殆ど期待できない。さらに、カル
ボン酸またはその誘導体は単独では有機酸として銅箔を
溶解する作用しか保有していない。
【0019】また、本発明者らの研究によれば、3−ア
ミノ−1,2,4−トリアゾールとシランカップリング
剤の混合では、耐熱耐酸化性は3−アミノ−1,2,4
−トリアゾール単独に比較してやや低下し、回路基板材
料としての要求特性も全く向上しない。
【0020】同様に3−アミノ−1,2,4−トリアゾ
ールとカルボン酸またはその誘導体の混合では、耐熱耐
酸化性の低下はそれほど生じないが、回路基板材料とし
ての要求特性はすべて向上しない。
【0021】これに対し、本発明のように3−アミノ−
1,2,4−トリアゾール、シランカップリング剤、カ
ルボン酸またはその誘導体を同時に混合した場合には、
詳しい機構については未だ不明であるが、初めて耐熱耐
酸化性、基材との引き剥し強さ、回路基板材料としての
要求特性の全てを満足することが可能となる。
【0022】この場合には、耐熱耐酸化性は200℃、
1時間の加熱によっても全く酸化変色することなく、回
路基材との引き剥し強度は1.8kg/cmと実用域に
まで達し、耐塩酸性は15%以下にまで改善され、耐湿
性は10%以下まで向上することが確認された。
【0023】
【実施例】以下、実施例等に基づき本発明を具体的に説
明する。
【0024】実施例1 厚さ35μmの電解銅箔を、3−アミノ−1,2,4−
トリアゾール0.1mol/L、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン5g/L、コハク酸1g/Lを
含有した有機防錆剤水溶液中に室温で15秒間浸漬した
後、ドライヤーを用いて水切り乾燥を行なった。
【0025】この有機防錆処理銅箔をガラス繊維で補強
したエポキシ樹脂板に温度170℃、加圧力20kg/
cm2で1時間保持して圧着し、銅張積層板を形成し
た。
【0026】次いで、0.8mm幅の銅箔を残すように
回路形成し、特性評価用サンプルを作成し、各種評価試
験(引き剥し強さ、耐塩酸性、耐湿性、平滑面半田濡れ
性、平滑面耐熱耐酸化性)を実施した。評価結果を表1
に示す。
【0027】この評価方法は下記に示す通りである。 引き剥し強さ:JIS C 6481に準拠して行
なった(但し、JISの規定は10mm幅にて測定)。 耐塩酸性:1:1塩酸水溶液中に30分間浸漬して
その後引き剥し強さを測定し、試験前の引き剥し強さか
らの劣化率を算出した。 耐湿性:沸騰蒸留水中にて2時間煮沸した後の引き
剥し強さを測定し、試験前の引き剥し強さからの劣化率
を算出した。 平滑面半田濡れ性:銅張り積層板に(株)タムラ製
作所社製プリフラックスL−35(商品名)を塗布後乾
燥し、260℃の半田融液中に3秒間浸漬して、半田の
付着面積率で評価した。評価基準は下記の通りである。 〇;100% △;≧95% ×;<95% 平滑面耐熱耐酸化性:防錆処理した銅箔を200℃
のオーブンに1時間保持した後の外観の色調変化の度合
いを比較した。評価基準は下記の通りである。 〇;変化なし △;やや変色 ×;赤茶色 ×;
濃紫色
【0028】実施例2 厚さ35μmの電解銅箔に、3−アミノ−1,2,4−
トリアゾール0.05mol/L、N−β(アミノエチ
ル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン2g/L、
マレイン酸0.5g/Lを含有した有機防錆剤水溶液を
50℃にて3秒間スプレーした後、150℃の乾燥炉に
6秒間通し乾燥した。以下は、実施例1と同様の工程に
よってに評価を行ない、結果を表1に示す。
【0029】実施例3 厚さ35μmの電解銅箔を、3−アミノ−1,2,4−
トリアゾール0.4mol/L、N−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン2g/L、クエン酸5
g/Lを含有した有機防錆剤水溶液中に室温にて30秒
間浸漬した後、ドライヤーにて乾燥した。以下は、実施
例1と同様の工程によって評価を行ない、結果を表1に
示す。
【0030】比較例1 厚さ35μmの電解銅箔に、3−アミノ−1,2,4−
トリアゾール0.1mol/Lを含有した有機防錆剤水
溶液を50℃にて10秒間スプレーした後、ドライヤー
乾燥した。以下、実施例1と同様の工程によって評価を
行ない、その結果を表1に示す。
【0031】比較例2 厚さ35μmの電解銅箔を、3−アミノ−1,2,4−
トリアゾール0.1mol/L、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン5g/Lを含有したを含有した
有機防錆剤水溶液中に室温で15秒間浸漬した後、ドラ
イヤー乾燥した。以下、実施例1と同様の工程によって
評価を行ない、その結果を表1に示す。
【0032】比較例3 厚さ35μmの電解銅箔を、3−アミノ−1,2,4−
トリアゾール0.1mol/L、コハク酸1g/Lを含
有した有機防錆剤水溶液中に室温で15秒間浸漬した
後、ドライヤー乾燥した。以下、実施例1と同様の工程
によって評価を行ない、その結果を表1に示す。
【0033】比較例4 厚さ35μmの電解銅箔を、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン5g/L、コハク酸1g/Lを含有
した有機防錆剤水溶液中に室温で15秒間浸漬した後、
ドライヤー乾燥した。以下、実施例1と同様の工程によ
って評価を行ない、その結果を表1に示す。
【0034】比較例5 厚さ35μmの電解銅箔に、ベンゾトリアゾール(BT
A)0.1mol/Lを含有した有機防錆剤水溶液を用
いて50℃にて10秒間スプレーした後、ドライヤー乾
燥した。以下、実施例1と同様の工程によって評価を行
ない、その結果を表1に示す。
【0035】
【表1】
【0036】表1の結果から明らかなように、実施例1
〜3は、比較例1〜5に比較して引き剥し強さ、耐塩酸
性、耐湿性、耐熱耐酸化性のいずれの特性にも優れてい
る。
【0037】
【発明の効果】本発明の有機防錆処理銅箔においては、
3−アミノ−1,2,4−トリアゾール、シランカップ
リング剤、カルボン酸またはその誘導体を含有した有機
防錆剤水溶液により銅箔を処理することにより、200
℃における耐熱耐酸化性と回路基材との引き剥し強さお
よび回路基板材料としての要求特性である耐塩酸性、耐
湿性、半田濡れ性の全てを満足することが可能となる。
【0038】また、本発明の製造方法により工程が短縮
されると共に液管理も容易となるため、工程管理が容易
となり、かつコスト低減が可能となる。
【0039】このように本発明の有機防錆処理銅箔は従
来の銅箔に比較して安価に製造可能であり、かつ従来の
銅箔とほぼ同等の性能を有していることから、本発明は
現在使用されている銅箔および銅箔の製造方法に好適に
代替し得るものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 進 埼玉県川越市谷中110−8 (56)参考文献 特開 平3−211298(JP,A) 特開 平3−79781(JP,A) 特開 昭58−224178(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23F 11/00 H05K 3/38

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 銅箔の両面に、3−アミノ−1,2,4
    −トリアゾール、シランカップリング剤、カルボン酸ま
    たはその誘導体からなる有機防錆剤が塗布されているこ
    とを特徴とする有機防錆処理銅箔。
  2. 【請求項2】 銅箔の両面に、3−アミノ−1,2,4
    −トリアゾール、シランカップリング剤、カルボン酸ま
    たはその誘導体からなる有機防錆剤水溶液を塗布した
    後、乾燥することを特徴とする有機防錆処理銅箔の製造
    方法。
JP07631094A 1994-03-24 1994-03-24 有機防錆処理銅箔およびその製造方法 Expired - Lifetime JP3199208B2 (ja)

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