JP2725191B2 - 研磨剤組成物 - Google Patents
研磨剤組成物Info
- Publication number
- JP2725191B2 JP2725191B2 JP63311664A JP31166488A JP2725191B2 JP 2725191 B2 JP2725191 B2 JP 2725191B2 JP 63311664 A JP63311664 A JP 63311664A JP 31166488 A JP31166488 A JP 31166488A JP 2725191 B2 JP2725191 B2 JP 2725191B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- alumina
- water
- present
- boehmite
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は研磨剤組成物に関するものである。詳しく
は、研磨能率がよく、すぐれた研磨表面を形成すること
ができる研磨剤組成物に関するものである。
は、研磨能率がよく、すぐれた研磨表面を形成すること
ができる研磨剤組成物に関するものである。
従来、水とアルミナからなる研磨剤組成物は知られて
いる（例えば、特開昭54−89389号参照）が、研磨速度
が十分でなく、研磨速度を上げる目的でアルミナの粒径
を大きくすると、研磨表面に荒れが生ずるようになり、
研磨速度と表面状態を両方を満足するものとは言えなか
った。
いる（例えば、特開昭54−89389号参照）が、研磨速度
が十分でなく、研磨速度を上げる目的でアルミナの粒径
を大きくすると、研磨表面に荒れが生ずるようになり、
研磨速度と表面状態を両方を満足するものとは言えなか
った。
過去10年間に於いて、工業的規模の生産が飛躍的に増
加したシリコン及び化合物半導体基板、各種の磁気メモ
リーハードディスク、レーザー部品等の材料の精密研磨
加工においては、特に加工面の平滑度、無欠陥性（スク
ラッチ、オレンジピール、ピット、ノジュール、クラッ
ク等の欠陥がない事）に対する要求水準が、過去の研磨
加工技術水準に比して遥かに高度化すると共に、他方、
生産、検査設備等に多額の投資が必要な為、生産スピー
ドの向上、不良欠陥ロスの低減に依るコストカットも重
要な課題となっている。
加したシリコン及び化合物半導体基板、各種の磁気メモ
リーハードディスク、レーザー部品等の材料の精密研磨
加工においては、特に加工面の平滑度、無欠陥性（スク
ラッチ、オレンジピール、ピット、ノジュール、クラッ
ク等の欠陥がない事）に対する要求水準が、過去の研磨
加工技術水準に比して遥かに高度化すると共に、他方、
生産、検査設備等に多額の投資が必要な為、生産スピー
ドの向上、不良欠陥ロスの低減に依るコストカットも重
要な課題となっている。
従って、これらの分野で使用される研磨剤に就いても
加工精度と共に研磨速度の向上に対する要望が極めて強
いものとなっている。
加工精度と共に研磨速度の向上に対する要望が極めて強
いものとなっている。
本発明者らは、かかる要望を満足するよりすぐれた研
磨剤組成物を得るべく、鋭意研究を重ねた結果、水とα
−アルミナからなる研磨剤組成物に金属の亜硝酸塩を存
在させるときは、加工物加工面の平滑度、或は表面欠陥
（スクラッチ、オレンジピール等）発生防止等の研磨仕
上がり効果を低下させることなく、しかも研磨速度を大
幅に向上させることが出来ることを知得して本発明を完
成した。
磨剤組成物を得るべく、鋭意研究を重ねた結果、水とα
−アルミナからなる研磨剤組成物に金属の亜硝酸塩を存
在させるときは、加工物加工面の平滑度、或は表面欠陥
（スクラッチ、オレンジピール等）発生防止等の研磨仕
上がり効果を低下させることなく、しかも研磨速度を大
幅に向上させることが出来ることを知得して本発明を完
成した。
本発明の要旨は、水、α−アルミナ及び金属の亜硝酸
塩を含有してなる研磨剤組成物に存する。
塩を含有してなる研磨剤組成物に存する。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明で使用するα−アルミナとしては、特に限定さ
れないがバイヤライト、ジプサイト、ハイドラージライ
ト、ベーマイト、γ−アルミナ、θ−アルミナのような
α−アルミナ以外のアルミナを、常法に従い1100℃以上
の温度で焼成して得たアルミナが挙げられる。此の焼成
温度は高い程研磨速度が大きくなる傾向があるので1200
℃以上、1200〜1500℃で焼成して得られたα−アルミナ
が好ましい。
れないがバイヤライト、ジプサイト、ハイドラージライ
ト、ベーマイト、γ−アルミナ、θ−アルミナのような
α−アルミナ以外のアルミナを、常法に従い1100℃以上
の温度で焼成して得たアルミナが挙げられる。此の焼成
温度は高い程研磨速度が大きくなる傾向があるので1200
℃以上、1200〜1500℃で焼成して得られたα−アルミナ
が好ましい。
加工精度及び研磨速度を考慮すると本発明で使用され
るα−アルミナは平均粒径で0.1〜10μ、好ましくは0.1
〜３μであり、又最大粒径で30μ以下、好ましくは20μ
以下の微粉体である。従って、焼成して得られたα−ア
ルミナは通常の微粉砕装置即ち湿式スラリ方式ではボー
ルミル、振動ミル等で粉砕した粗大粒子は重力沈降、遠
心沈降等の装置で分級するか、或は乾式方式即ちジェッ
ト気流に依る粉砕分級処理により所望の粒度に整粒す
る。
るα−アルミナは平均粒径で0.1〜10μ、好ましくは0.1
〜３μであり、又最大粒径で30μ以下、好ましくは20μ
以下の微粉体である。従って、焼成して得られたα−ア
ルミナは通常の微粉砕装置即ち湿式スラリ方式ではボー
ルミル、振動ミル等で粉砕した粗大粒子は重力沈降、遠
心沈降等の装置で分級するか、或は乾式方式即ちジェッ
ト気流に依る粉砕分級処理により所望の粒度に整粒す
る。
α−アルミナの含有量は、組成物全量に対して１〜30
重量％、好ましくは２〜15重量％である。あまりに少な
いと研磨速度が小さくなり、逆にあまりに多いと均一分
散が保てなくなり、かつ、スラリー粘度が過大となって
取扱いが困難となる。
重量％、好ましくは２〜15重量％である。あまりに少な
いと研磨速度が小さくなり、逆にあまりに多いと均一分
散が保てなくなり、かつ、スラリー粘度が過大となって
取扱いが困難となる。
金属の亜硝酸塩としては、種々の金属の塩が挙げられ
るが、周期律表第Ｉ〜III族の金属の塩が好ましい。具
体的には、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネ
シウム、バリウム、亜鉛、アルミニウムなどの亜硝酸塩
が挙げられる。
るが、周期律表第Ｉ〜III族の金属の塩が好ましい。具
体的には、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネ
シウム、バリウム、亜鉛、アルミニウムなどの亜硝酸塩
が挙げられる。
これらの中では、アルミナ−水スラリー系に対する分
散又は凝集作用が高い点で亜硝酸カルシウム、亜硝酸カ
リウム、亜硝酸ナトリウムなどが好ましい。
散又は凝集作用が高い点で亜硝酸カルシウム、亜硝酸カ
リウム、亜硝酸ナトリウムなどが好ましい。
金属の亜硝酸塩の含有量は、組成物全量に対して0.1
〜20重量％、好ましくは0.1〜10重量％である。この量
があまりに少ないと本発明の効果が期待出来なくなる。
逆にあまりに多くても、添加効果が向上する事もなく、
冬季低温時に塩の結晶が析出するとか、排水浄化処理の
負担を増す等の不都合を生じるようになる。
〜20重量％、好ましくは0.1〜10重量％である。この量
があまりに少ないと本発明の効果が期待出来なくなる。
逆にあまりに多くても、添加効果が向上する事もなく、
冬季低温時に塩の結晶が析出するとか、排水浄化処理の
負担を増す等の不都合を生じるようになる。
本発明の研磨剤組成物が優れた研磨効果を有すること
の詳細は不明であるが、金属の亜硝酸塩の存在が研磨剤
組成物中のα−アルミナの分散状態に何等からの影響を
及ぼし、かかる分散状態が研磨加工に有利に作用すると
思われる。
の詳細は不明であるが、金属の亜硝酸塩の存在が研磨剤
組成物中のα−アルミナの分散状態に何等からの影響を
及ぼし、かかる分散状態が研磨加工に有利に作用すると
思われる。
また、本発明の研磨剤組成物にベーマイトを存在させ
ると、更にすぐれた効果を得ることができる。
ると、更にすぐれた効果を得ることができる。
ベーマイトは、アルミナ水和物の一種であり、ジプサ
イト等を250℃程度で加圧水熱処理するか、或はチーグ
ラー法で合成されるアルミニウム有機化合物〔Al（OR）
３〕（但し、Ｒはアルキル基である）の加水分解に依っ
て製造する方法で一般的に生産されており、アルミナゾ
ル、セラミックバインダー、繊維製品カーペットの帯電
防止処理、水の浄化処理、化粧品、軟こうの増粘剤、ア
ルミナ系触媒又は触媒担体等の原料として広く利用され
ている工業材料である。
イト等を250℃程度で加圧水熱処理するか、或はチーグ
ラー法で合成されるアルミニウム有機化合物〔Al（OR）
３〕（但し、Ｒはアルキル基である）の加水分解に依っ
て製造する方法で一般的に生産されており、アルミナゾ
ル、セラミックバインダー、繊維製品カーペットの帯電
防止処理、水の浄化処理、化粧品、軟こうの増粘剤、ア
ルミナ系触媒又は触媒担体等の原料として広く利用され
ている工業材料である。
ベーマイトは、AlOOH又はAl2O3・H2Oの化学式で表示
される物質で、粉体製品としては、例えば、KAISER（米
国）、VISTA Chemical（米国）、Condea Chemie（ドイ
ツ）等から市販されている。例えば200μ以下95％、45
μ以下50％の粒子からなる粉体を水中又は酸性の水中で
撹拌、分散させると、一部繊維状、大部分は粒状で、且
つそのサイズが0.01μ以下の超微細粒子の形で分散し、
コロイド状のゾルを形成する性質を有する。ベーマイト
のゾルは等電点9.4であり、粒子自身が陽性に帯電して
いる事が電気泳動法により観測される。
される物質で、粉体製品としては、例えば、KAISER（米
国）、VISTA Chemical（米国）、Condea Chemie（ドイ
ツ）等から市販されている。例えば200μ以下95％、45
μ以下50％の粒子からなる粉体を水中又は酸性の水中で
撹拌、分散させると、一部繊維状、大部分は粒状で、且
つそのサイズが0.01μ以下の超微細粒子の形で分散し、
コロイド状のゾルを形成する性質を有する。ベーマイト
のゾルは等電点9.4であり、粒子自身が陽性に帯電して
いる事が電気泳動法により観測される。
本発明で水に分散されるベーマイトは粉体でもベーマ
イトゾルでも使用可能であるが、いずれの場合も、水に
分散させた場合に粒子径が0.01μ以下のゾルを形成する
ものを使用する。ベーマイトの含有量は組成物全量に対
し0.1〜20重量％、好ましくは0.5〜10重量％である。ベ
ーマイト含有量が余りに少ないと研磨速度向上の効果が
期待出来ず、逆に余りに多いと見掛粘度、チキソトロピ
ー性が増大し、α−アルミナの均一分散性を損なう事と
なると同時に研磨剤組成物の容器からの取出しが困難と
なる等ハンドリング上不適な物性となる。
イトゾルでも使用可能であるが、いずれの場合も、水に
分散させた場合に粒子径が0.01μ以下のゾルを形成する
ものを使用する。ベーマイトの含有量は組成物全量に対
し0.1〜20重量％、好ましくは0.5〜10重量％である。ベ
ーマイト含有量が余りに少ないと研磨速度向上の効果が
期待出来ず、逆に余りに多いと見掛粘度、チキソトロピ
ー性が増大し、α−アルミナの均一分散性を損なう事と
なると同時に研磨剤組成物の容器からの取出しが困難と
なる等ハンドリング上不適な物性となる。
水、α−アルミナ及び金属の亜硝酸塩を含有してなる本
発明研磨剤組成物に更にベーマイトを含有することによ
る作用の詳細は不明であるが、以下の如く推定される。
即ち、前述のα−アルミナ粒子は、これを水中又は酸性
の水中で撹拌し分散させると、個々の粒子は陽性を電荷
を保有し、水又は電解質の陰イオンを吸着し電気的二重
層を形成する。かかる微粒子の分散系にあってはファン
デルワールス引力に依る凝集と電気的斥力に依る反発作
用力とで或る種の平衡状態を形成させるのであるが、こ
ゝにベーマイトを共存させると、ベーマイトは該水中で
陽性に帯電するため、全体の分散系としては電気的斥力
に依る粒子相互間の分散効果が強まる事となる。かかる
スラリー状研磨剤による精密研磨加工に於ては遊離砥粒
であるα−アルミナ粒子が単分散又は凝集状態で研磨パ
ッドに保持され、或る加工圧で被加工物表面を摺動する
につれて、砥粒（α−アルミナ粒子）がころがりつゝ或
は滑りつゝ研削作用を及ぼしている事になり、砥粒が被
加工物表面を研削する作用点の数が多く且つ各作用点で
の研削作用力が均一である程、加工時の単位摺動量、単
位時間当りの研磨量が大きく且つ加工表面精度が高くな
る筈である。しかしながら、研磨パッドと被加工物表面
の接触面では砥粒（α−アルミナ）と被加工物が研削さ
れて発生した微細粒子（削りかす）が水に懸濁したスラ
リ状態で存在するため、個々の粒子の分散又は凝集状態
が研磨量、研磨仕上り性に強く影響を及ぼすであろう事
が推定されるが、本発明の如く水、α−アルミナ及び金
属の亜硝酸塩、場合によっては更にベーマイトを含有し
てなる研磨剤に於ては金属の亜硝酸塩及びベーマイトが
各粒子の分散又は凝集状態に影響し、研磨性能の向上を
もたらすと思われる。
発明研磨剤組成物に更にベーマイトを含有することによ
る作用の詳細は不明であるが、以下の如く推定される。
即ち、前述のα−アルミナ粒子は、これを水中又は酸性
の水中で撹拌し分散させると、個々の粒子は陽性を電荷
を保有し、水又は電解質の陰イオンを吸着し電気的二重
層を形成する。かかる微粒子の分散系にあってはファン
デルワールス引力に依る凝集と電気的斥力に依る反発作
用力とで或る種の平衡状態を形成させるのであるが、こ
ゝにベーマイトを共存させると、ベーマイトは該水中で
陽性に帯電するため、全体の分散系としては電気的斥力
に依る粒子相互間の分散効果が強まる事となる。かかる
スラリー状研磨剤による精密研磨加工に於ては遊離砥粒
であるα−アルミナ粒子が単分散又は凝集状態で研磨パ
ッドに保持され、或る加工圧で被加工物表面を摺動する
につれて、砥粒（α−アルミナ粒子）がころがりつゝ或
は滑りつゝ研削作用を及ぼしている事になり、砥粒が被
加工物表面を研削する作用点の数が多く且つ各作用点で
の研削作用力が均一である程、加工時の単位摺動量、単
位時間当りの研磨量が大きく且つ加工表面精度が高くな
る筈である。しかしながら、研磨パッドと被加工物表面
の接触面では砥粒（α−アルミナ）と被加工物が研削さ
れて発生した微細粒子（削りかす）が水に懸濁したスラ
リ状態で存在するため、個々の粒子の分散又は凝集状態
が研磨量、研磨仕上り性に強く影響を及ぼすであろう事
が推定されるが、本発明の如く水、α−アルミナ及び金
属の亜硝酸塩、場合によっては更にベーマイトを含有し
てなる研磨剤に於ては金属の亜硝酸塩及びベーマイトが
各粒子の分散又は凝集状態に影響し、研磨性能の向上を
もたらすと思われる。
本発明の研磨剤組成物の調製は、前記各成分を混合撹
拌すればよく、混合順序等も特に制限されるものではな
い。
拌すればよく、混合順序等も特に制限されるものではな
い。
又、この研磨剤組成物の調製に際しては、被加工物の
種類、加工条件等の研磨加工上の必要条件に応じて、下
記の如き各種の公知の添加剤を加えてもよい。
種類、加工条件等の研磨加工上の必要条件に応じて、下
記の如き各種の公知の添加剤を加えてもよい。
添加剤としては、例えば、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールの様な水溶性アルコール類、ア
ルキルベンゼンスルホン酸ソーダ、ナフタリンスルホン
酸のホルマリン縮合物の様な界面活性剤、硫酸、塩酸、
硝酸、酢酸の様な酸類、リグニンスルホン酸塩、カルボ
キシメチルセルロース塩、ポリアクリル酸塩の様な有機
ポリアニオン系物質、セルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロースの様なセルロー
ス類、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、酢酸アン
モニウムの様な無機塩類等があげられる。
ル、エチレングリコールの様な水溶性アルコール類、ア
ルキルベンゼンスルホン酸ソーダ、ナフタリンスルホン
酸のホルマリン縮合物の様な界面活性剤、硫酸、塩酸、
硝酸、酢酸の様な酸類、リグニンスルホン酸塩、カルボ
キシメチルセルロース塩、ポリアクリル酸塩の様な有機
ポリアニオン系物質、セルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロースの様なセルロー
ス類、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、酢酸アン
モニウムの様な無機塩類等があげられる。
尚、本発明の研磨剤組成物のpHとしては、３〜８、好
ましくは４〜７である。pHは、塩の糖類、添加量等に依
って変動するものであるが、一般に、水−アルミナ系研
磨剤でpHをアルカリサイドに偏倚させると、高粘度とな
り、多孔質網状組織からなる研磨パッドの目詰まり劣
化、被加工物表面へのスクラッチ発生トラブル等を起こ
し易くなるので、研磨剤組成物のpHを酸性サイドに調整
するのが通例であって、かかる目的で酸類を少量添加す
る場合がある。
ましくは４〜７である。pHは、塩の糖類、添加量等に依
って変動するものであるが、一般に、水−アルミナ系研
磨剤でpHをアルカリサイドに偏倚させると、高粘度とな
り、多孔質網状組織からなる研磨パッドの目詰まり劣
化、被加工物表面へのスクラッチ発生トラブル等を起こ
し易くなるので、研磨剤組成物のpHを酸性サイドに調整
するのが通例であって、かかる目的で酸類を少量添加す
る場合がある。
本発明の研磨剤組成物は、金属、ガラス、プラスチッ
ク等の研磨に使用されるが、欠陥のない研磨表面が得ら
れることから、メモリーハードディスク等の研磨に特に
好適である。
ク等の研磨に使用されるが、欠陥のない研磨表面が得ら
れることから、メモリーハードディスク等の研磨に特に
好適である。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、
本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。
本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。
実施例１〜８、及び比較例１ 〔研磨剤組成物の調整〕 水酸化アルミニウムを1300℃、５時間の条件で焼成
し、乾式方法で粉砕整粒したα−アルミナ（平均粒子径
0.54μ、最大粒子径８μ）を、高速ミキサーを用いて水
に分散させてα−アルミナ濃度８重量％のスラリーを調
製した。
し、乾式方法で粉砕整粒したα−アルミナ（平均粒子径
0.54μ、最大粒子径８μ）を、高速ミキサーを用いて水
に分散させてα−アルミナ濃度８重量％のスラリーを調
製した。
これに金属の亜硝酸塩を第１表に記載の割合で添加分
散させて研磨剤組成物を調製した。
散させて研磨剤組成物を調製した。
被加工物としてアルミニウム基板にニッケル・リンの
無電解メッキ（ニッケル90〜92％、リン10〜８％の合金
メッキ層）を施した3.5インチメモリハードディスク
（外径約95m/m）の基板を使用した。
無電解メッキ（ニッケル90〜92％、リン10〜８％の合金
メッキ層）を施した3.5インチメモリハードディスク
（外径約95m/m）の基板を使用した。
此のディスクを両面研磨機に装填して研磨する。研磨
機の上下定盤に、夫々、スエードタイプのポリウレタン
基質研磨パッドが装着してある両面研磨機に該ディスク
に装填し、ディスクと両研磨パッドを相対的に摺動させ
て５分間研磨を行なった。
機の上下定盤に、夫々、スエードタイプのポリウレタン
基質研磨パッドが装着してある両面研磨機に該ディスク
に装填し、ディスクと両研磨パッドを相対的に摺動させ
て５分間研磨を行なった。
研磨はディスクと両研磨パッドの間に上記研磨剤試料
を毎分当り300c.c.の割合で供給し、加工圧100g/cm2で
行なった。
を毎分当り300c.c.の割合で供給し、加工圧100g/cm2で
行なった。
研磨の後、ディスクを両面研磨機より取出し、超音波
洗浄をくり返し、ディスク加工面を清浄にして、目視検
査に依り、表面欠陥の有無程度を評価した。
洗浄をくり返し、ディスク加工面を清浄にして、目視検
査に依り、表面欠陥の有無程度を評価した。
次にディスクの厚さの計測を行ない厚さの減少量から
毎分当りの平均研磨速度を算出した。
毎分当りの平均研磨速度を算出した。
此の試験結果は第１表に示す通りである。
実施例９〜38、及び比較例２ 水酸化アルミニウムを1300℃、５時間の条件で焼成
し、乾式方法で粉砕整粒したα−アルミナ（平均粒子径
0.54μ、最大粒子径８μ）を、高速ミキサーを用いて水
に分散させてα−アルミナ濃度６重量％のスラリーを調
製した。
し、乾式方法で粉砕整粒したα−アルミナ（平均粒子径
0.54μ、最大粒子径８μ）を、高速ミキサーを用いて水
に分散させてα−アルミナ濃度６重量％のスラリーを調
製した。
これに第２表に示す金属の亜硝酸塩およびベーマイト
を添加分散させて研磨剤組成物を調製した。
を添加分散させて研磨剤組成物を調製した。
なお、ベーマイトとしてはCondea Chemie社製Pural
（商標名）SCF（平均粒子径約20μ）を使用した。
（商標名）SCF（平均粒子径約20μ）を使用した。
実施例１におけると同様にして研磨試験を行なった結
果は下記第２表に示す通りである。
果は下記第２表に示す通りである。
〔発明の効果〕 本発明に従いα−アルミナ−水分散系に金属の亜硝酸
塩を添加して研磨組成物は、研磨加工面に表面欠陥を発
生する事なく、より高い研磨速度を発現し、研磨加工能
率を高めることができる。しかも、本発明の研磨剤組成
物は研磨速度が高いため、研磨加工時間の短縮、研磨剤
消費量の低減、高価なる研磨パッドの損耗、劣化の減少
等による加工コストの低下をもたらし、極めて有用であ
る。
塩を添加して研磨組成物は、研磨加工面に表面欠陥を発
生する事なく、より高い研磨速度を発現し、研磨加工能
率を高めることができる。しかも、本発明の研磨剤組成
物は研磨速度が高いため、研磨加工時間の短縮、研磨剤
消費量の低減、高価なる研磨パッドの損耗、劣化の減少
等による加工コストの低下をもたらし、極めて有用であ
る。
Claims (1)
- 【請求項１】水、α−アルミナ及び金属の亜硝酸塩を含
有してなる研磨剤組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63311664A JP2725191B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 研磨剤組成物 |
| MYPI89000734A MY104445A (en) | 1988-12-09 | 1989-05-30 | Polishing composition. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63311664A JP2725191B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 研磨剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02158682A JPH02158682A (ja) | 1990-06-19 |
| JP2725191B2 true JP2725191B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=18019999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63311664A Expired - Lifetime JP2725191B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 研磨剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2725191B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106283059A (zh) * | 2016-08-10 | 2017-01-04 | 惠州市米特仑科技有限公司 | 一种金属表面用氧化铝抛光液及其制备方法 |
| CN107717636A (zh) * | 2017-09-12 | 2018-02-23 | 潘汉祥 | 一种新型金属高速抛光方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6007592A (en) * | 1996-11-14 | 1999-12-28 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polishing composition for aluminum disk and polishing process therewith |
| MY117813A (en) | 1998-01-08 | 2004-08-30 | Nissan Chemical Ind Ltd | Alumina powder, process for producing the same and polishing composition. |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP63311664A patent/JP2725191B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106283059A (zh) * | 2016-08-10 | 2017-01-04 | 惠州市米特仑科技有限公司 | 一种金属表面用氧化铝抛光液及其制备方法 |
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| JPH02158682A (ja) | 1990-06-19 |
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