JP2018205662A - トナー - Google Patents
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Abstract
Description
例えば、特許文献1では、ゾルゲル法により形成された異型状のシリカ粒子をトナー粒子に添加することで、トナーの流動性を維持させる提案がなされている。
特許文献2には、トナー粒子に比表面積が10.0m2/g以上50.0m2/g以下のシリカ粒子を添加し、熱により表面処理を施すことで、非画像部へのカブリを抑制したトナーが提案されている。
特許文献3には、非球形のシリカ粒子をトナー粒子に添加し、転写性の向上や画像欠陥を抑制したトナーの提案がなされている。
より具体的には、粒径の大きなシリカ粒子が添加されたトナーは特に低湿環境において帯電する速度にバラツキが生じやすく、トナーがベタ画像などで大量に消費されて現像器内でのトナーの入れ換わり速度が大きい場合、トナーの帯電量が安定しない。特に、すでに現像器で摺擦を受けたトナーと現像器に供給されたばかりのトナーが混合された場合、反転極性に帯電するトナーが発生しやすく、その結果、現像器から飛散して画像形成装置内部を汚染し、像坦持体のトナー像を乱す要因となる。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、様々な温度及び湿度環境下においても安定した画像が得られる環境安定性と耐久性とに優れたトナーを提供することを目的とする。
すなわち本発明は、結着樹脂を含有するトナー粒子及び無機粒子を含むトナーであって、
該無機粒子は、
個数平均粒子径(D1)が、50nm以上300nm以下である酸化ケイ素粒子と、
個数平均粒子径(D1)が、10nm以上60nm以下であるチタン酸ストロンチウム粒子を含み、
該酸化ケイ素粒子の含有量が、トナー粒子100質量部に対し0.5質量部以上15.0質量部以下であり、
該チタン酸ストロンチウム粒子の含有量が、該酸化ケイ素粒子の含有量の0.02倍以上5.00倍以下であり、
25℃、1MHzでの誘電率の測定において、
該酸化ケイ素粒子の誘電率が、1.0pF/m以上20.0pF/m以下であり、
該チタン酸ストロンチウムの誘電率が、25.0pF/m以上100.0pF/m以下であることを特徴とするトナーである。
以下、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。
本発明のトナーは、結着樹脂を含有するトナー粒子及び無機粒子を含むトナーであって、
該無機粒子は、
個数平均粒子径(D1)が、50nm以上300nm以下である酸化ケイ素粒子と、
個数平均粒子径(D1)が、10nm以上60nm以下であるチタン酸ストロンチウム粒子を含み、
該酸化ケイ素粒子の含有量が、トナー粒子100質量部に対し0.5質量部以上15.0質量部以下であり、
該チタン酸ストロンチウム粒子の含有量が、該酸化ケイ素粒子の含有量の0.02倍以上5.00倍以下であり、
25℃、1MHzでの誘電率の測定において、
該酸化ケイ素粒子の誘電率が、1.0pF/m以上20.0pF/m以下であり、
該チタン酸ストロンチウムの誘電率が、25.0pF/m以上100.0pF/m以下であることを特徴とする。
このようなトナーを用いることにより、様々な温度及び湿度環境下でも、安定した画像を得ることができる。
大粒径の酸化ケイ素(シリカ)粒子は耐久使用での埋めこみに有利であり、かつ帯電の維持性が高い。一方、伝導帯と価電子帯のエネルギーギャップであるバンドギャップが7.9eV程度であり、その大粒径による低表面積ゆえに、特に水分の影響が少ない低湿環境下において帯電速度が遅い。
このため、トナーホッパーから現像装置に送られてくるフレッシュなトナーは帯電するまでに時間を要する。この問題に対して、バッドギャップが小さく、かつ低誘電化により電荷を充放出しやすい小粒径のチタン酸ストロンチウム粒子を併用することで、酸化ケイ素粒子への帯電蓄積を高速化し、帯電量及び帯電量分布が安定すると考えている。
この作用効果により様々な温度及び湿度環境下においても安定した画像が得られる環境安定性と耐久性とを満足することができる。すなわち、耐久使用を通じてスペーサー効果を維持しつつ、帯電維持性、及び帯電立ち上がり性が向上したトナーを得ることができる
。その結果、耐久使用を通じて帯電が安定化し、高Duty画像を常温低湿環境下で連続出力した場合においても、画像濃度が安定し、かつ高温高湿環境におけるトナー飛散を抑え、無駄なトナー消費を低減できる。
[酸化ケイ素(シリカ)粒子]
本発明のトナーは、個数平均粒子径が50nm以上300nm以下の酸化ケイ素(シリカ)粒子を有することを特徴とする。酸化ケイ素粒子の粒径が上記範囲にあることで、現像装置内でトナーが機械的負荷を受けた際にもトナー粒子表面で酸化ケイ素による凸部を維持できる。そのため、トナー帯電量が低下しにくく、反射濃度のバラツキとカブリの低減に寄与する。酸化ケイ素粒子の個数平均粒子径は、80nm以上200nm以下が好ましい。また、それらの粒度分布において、個数頻度のピークトップが上記粒径範囲にあることが好ましい。
一般に酸化ケイ素粒子自体の誘電率は大きく変わらないが、表面処理の材料によって変更可能である。酸化ケイ素(シリカ)粒子の誘電率は、帯電量とその維持性のバランスから、1.0pF/m以上20.0pF/m以下であり、3.0pF/m以上5.0pF/m以下が好ましい。
さらに、酸化ケイ素粒子は、その表面を脂肪酸又はその金属塩、シリコーンオイル、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などにより疎水化処理されていることが好ましく、中でも、ヘキサメチルジシロキサン(HMDS)やオクチルトリエトキシシラン、ジクロロシラン等のシランカップリング剤がより好ましい。
さらに、酸化ケイ素粒子のトナー粒子表面から他部材への移行、あるいはトナー粒子表面での移動による偏在、などを抑制するために、酸化ケイ素粒子はトナー粒子表面に一部分が埋没していることが好ましい。埋没させる方法は、トナー粒子と酸化ケイ素粒子の混合中又は混合後に、熱風処理又は機械的衝撃処理を加えることなどが挙げられる。酸化ケイ素粒子のトナー粒子への埋没量は、酸化ケイ素粒子の粒子径の5%以上70%以下が好ましく、15%以上60%以下がより好ましい。
本発明のトナーは、個数平均粒子径が10nm以上60nm以下のチタン酸ストロンチウム微粒子を含有することを特徴としている。粒子径がこの範囲にあることで、酸化ケイ素粒子との接触・摩擦帯電の機会が適度に得られ、帯電補助性能が発現する。チタン酸ストロンチウム粒子の個数平均粒子径は、20nm以上45nm以下が好ましい。また、それらの粒度分布において、個数頻度のピークトップが上記粒径範囲にあることが好ましい。
本発明に用いるチタン酸ストロンチウム粒子は、一般的なチタン酸ストロンチウムよりも低誘電率である。その誘電率は25pF/m以上100pF/m以下であり、この範囲であると、電荷の充電、及び酸化ケイ素粒子への電荷受け渡しの能力が向上し、帯電補助性に優れ、酸化ケイ素粒子の帯電を高速化できる。誘電率は30pF/m以上70pF/
m以下が好ましく、50pF/m以下がより好ましい。
チタン酸ストロンチウム粒子の体積抵抗率は、2.0×109Ω・cm以上2.0×1012Ω・cm以下であると、転写バイアスにより電荷注入を抑えつつ帯電量分布がシャープ化でき、転写均一性が向上するので好ましい。より好ましくは、1.0×1010Ω・cm以上1.0×1012Ω・cm以下である。チタン酸ストロンチウム粒子の体積抵抗率は、表面の疎水化処理の程度により制御できる。
トナー中のチタン酸ストロンチウム粒子の含有量は、酸化ケイ素粒子の帯電補助の観点から、酸化ケイ素粒子の含有量の、0.02倍以上5.00倍以下である。5.00倍よりも多すぎると、酸化ケイ素粒子の帯電維持性が発現しにくくなる。好ましくは、0.05倍以上2.00倍以下である。
また、チタン酸ストロンチウム粒子の含有量は、トナー粒子100質量部に対して、0.1質量部以上2.0質量部以下であることが好ましい。
チタン酸ストロンチウム粒子は例えば、常圧加熱反応法により得ることができる。このとき、酸化チタン源としてチタン化合物の加水分解物の鉱酸解膠品を用い、また酸化ストロンチウム源としては水溶性酸性ストロンチウム化合物を用いることが好ましい。それらの混合液に60℃以上でアルカリ水溶液を添加しながら反応させ、次いで酸処理する方法で製造することができる。
酸化チタン源としてはチタン化合物の加水分解物の鉱酸解膠品を用いることができる。好ましくは、硫酸法で得られたSO3含有量が1.0質量%以下、好ましくは0.5質量%以下のメタチタン酸を、塩酸でpHを0.8〜1.5に調整して解膠したものを用いることができる。
酸化ストロンチウム源としては、金属の硝酸塩、塩酸塩などを使用することができ、例えば、硝酸ストロンチウム、塩化ストロンチウムを使用することができる。
アルカリ水溶液としては、苛性アルカリを使用することができるが、中でも水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。
得られるチタン酸ストロンチウム粒子の製造方法において、誘電率に影響を及ぼす因子としては、粒子結晶性を崩す条件/操作が挙げられる。特に低誘電率のチタン酸ストロンチウム粒子を得るためには、反応液の濃度を大きくした状態で結晶成長を乱すエネルギーを与える操作を行うのが好ましい。具体的な方法としては例えば結晶成長工程に窒素によるマイクロバブリングを加える事が挙げられる。また、立方体及び直方体形状の粒子の含有量もこの窒素のマイクロバブリングの流量により制御できる。
アルカリ水溶液を添加するときの温度は、60℃〜100℃が好ましい。また、アルカリ水溶液の添加速度は、添加速度が遅いほど大きな粒子径のチタン酸ストロンチウム粒子が得られ、添加速度が速いほど小さな粒子径のチタン酸ストロンチウム粒子が得られる。アルカリ水溶液の添加速度は、仕込み原料に対し、好ましくは0.001〜1.2当量/h、より好ましくは0.002〜1.1当量/hであり、得ようとする粒子径に応じて適宜調整することができる。
常圧加熱反応によって得たチタン酸ストロンチウム粒子をさらに酸処理することが好ましい。常圧加熱反応を行って、チタン酸ストロンチウム粒子を合成する際に、酸化チタン源と酸化ストロンチウム源の混合割合がSrO/TiO2のモル比で、1.0を超える場合、反応終了後に残存した未反応のチタン以外の金属源が空気中の炭酸ガスと反応して、金属炭酸塩などの不純物を生成してしまう場合がある。表面に金属炭酸塩などの不純物が残存すると、疎水性を付与するための有機表面処理をする際に、不純物の影響で有機表面処理剤を均一に被覆することができない。したがって、アルカリ水溶液を添加した後、未反応の金属源を取り除くため酸処理を行うことが好ましい。
酸処理では、塩酸を用いてpH2.5〜7.0、より好ましくはpH4.5〜6.0に調整することが好ましい。酸としては、塩酸の他に硝酸、酢酸等を酸処理に用いることができる。
トナーには、前述した酸化ケイ素粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子のほかに、帯電量や流動性を調整するために必要に応じて他の無機微粉末を含有させることもできる。無機微粉末は、トナー粒子に内添してもよいし外添してもよい。外添剤としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウムのような無機微粉末が好ましい。無機微粉末は、シラン化合物、シリコーンオイル又はそれらの混合物のような疎水化剤で疎水化されていることが好ましい。
必要に応じて加える外添剤は、トナー粒子100質量部に対して0.1質量部以上10.0質量部以下使用されることが好ましい。トナー粒子と外添剤との混合は、ヘンシェルミキサーのような公知の混合機を用いることができる。
トナー粒子は結着樹脂を含む。結着樹脂としては、特に限定されず、下記の重合体又は樹脂を用いることが可能である。
例えば、ポリスチレン、ポリ−p−クロルスチレン、ポリビニルトルエンなどのスチレン及びその置換体の単重合体;スチレン−p−クロルスチレン共重合体、スチレン−ビニルトルエン共重合体、スチレン−ビニルナフタリン共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルメタク
リル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ビニルメチルエーテル共重合体、スチレン−ビニルエチルエーテル共重合体、スチレン−ビニルメチルケトン共重合体、スチレン−アクリロニトリル−インデン共重合体などのスチレン系共重合体;ポリ塩化ビニル、フェノール樹脂、天然樹脂変性フェノール樹脂、天然樹脂変性マレイン酸樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、ポリビニルブチラール、テルペン樹脂、クマロン−インデン樹脂、石油系樹脂などが使用できる。
これらの中で、低温定着性、帯電性制御の観点で、ポリエステル樹脂を用いることが好ましい。
例えば、2価以上のアルコールモノマー成分として、以下のものが挙げられる。
ポリオキシプロピレン(2.2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ポリオキシプロピレン(3.3)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ポリオキシエチレン(2.0)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ポリオキシプロピレン(2.0)−ポリオキシエチレン(2.0)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ポリオキシプロピレン(6)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン等のビスフェノールAのアルキレンオキシド付加物、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−ブテンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ソルビット、1,2,3,6−ヘキサンテトロール、1,4−ソルビタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、1,2,4−ブタントリオール、1,2,5−ペンタントリオール、グリセリン、2−メチルプロパントリオール、2−メチル−1,2,4−ブタントリオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、1,3,5−トリヒドロキシメチルベンゼン等。
これらの中で好ましく用いられるアルコールモノマー成分としては、芳香族ジオールであり、ポリエステル樹脂を構成するアルコールモノマー成分において、芳香族ジオールは、80モル%以上の割合で含有することが好ましい。
フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸などの芳香族ジカルボン酸類又はその無水物;コハク酸、アジピン酸、セバシン酸及びアゼライン酸などのアルキルジカルボン酸類又はその無水物;炭素数6〜18のアルキル基又はアルケニル基で置換されたコハク酸又はその無水物;フマル酸、マレイン酸及びシトラコン酸などの不飽和ジカルボン酸類又はその無水物。
これらの中で好ましく用いられる酸モノマー成分としては、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、フマル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸やその無水物等の多価カルボン酸である。
なお、該酸価は、樹脂に用いるモノマーの種類や配合量を調整することにより、上記範
囲とすることができる。具体的には、樹脂製造時のアルコールモノマー成分比/酸モノマー成分比、分子量を調整することにより制御できる。また、エステル縮重合後、末端アルコールを多価酸モノマー(例えば、トリメリット酸)で反応させることに制御できる。
トナー粒子には着色剤を含有させてもよい。着色剤としては、以下のものが挙げられる。
黒色着色剤としては、カーボンブラック;イエロー着色剤、マゼンタ着色剤及びシアン着色剤を用いて黒色に調色したものが挙げられる。着色剤には、顔料を単独で使用してもかまわないが、染料と顔料とを併用してその鮮明度を向上させた方がフルカラー画像の画質の点からより好ましい。
マゼンタ着色顔料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、39、40、41、48:2、48:3,48:4、49、50、51、52、53、54、55、57:1、58、60、63、64、68、81:1、83、87、88、89、90、112、114、122、123、146、147、150、163、184、202、206、207、209、238、269、282;C.I.ピグメントバイオレット19;C.I.バットレッド1、2、10、13、15、23、29、35。
マゼンタ着色染料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ソルベントレッド1、3、8、23、24、25、27、30、49、81、82、83、84、100、109、121;C.I.ディスパースレッド9;C.I.ソルベントバイオレット8、13、14、21、27;C.I.ディスパーバイオレット1などの油溶染料、C.I.ベーシックレッド1、2、9、12、13、14、15、17、18、22、23、24、27、29、32、34、35、36、37、38、39、40;C.I.ベーシックバイオレット1、3、7、10、14、15、21、25、26、27、28などの塩基性染料。
シアン着色染料としては、C.I.ソルベントブルー70がある。
イエロー着色顔料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ピグメントイエロー1、2、3、4、5、6、7、10、11、12、13、14、15、16、17、23、62、65、73、74、83、93、94、95、97、109、110、111、120、127、128、129、147、151、154、155、168、174、175、176、180、181、185;C.I.バットイエロー1、3、20。
イエロー着色染料としては、C.I.ソルベントイエロー162がある。
着色剤の含有量は、結着樹脂100質量部に対して、0.1質量部以上30質量部以下であることが好ましい。
トナー粒子にはワックスを用いてもよい。ワックスとしては、例えば以下のものが挙げられる。
低分子量ポリエチレン、低分子量ポリプロピレン、アルキレン共重合体、マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、フィッシャートロプシュワックスなどの炭化水素系ワックス;酸化ポリエチレンワックスなどの炭化水素系ワックスの酸化物又はそれらのブロック共重合物;カルナバワックスなどの脂肪酸エステルを主成分とするワックス類;脱酸カルナバワックスなどの脂肪酸エステル類を一部又は全部を脱酸化したもの。
ワックスの含有量は、結着樹脂100質量部に対して、1.0質量部以上15質量部以下が好ましい。ワックスの含有量がこの範囲にあるとき、耐ホットオフセット性が良好になる。
また、トナーの保存性と耐ホットオフセット性の両立の観点から、ワックスの示差走査熱量分析装置(DSC)による測定において、昇温時の吸熱曲線を得たとき、温度30℃以上200℃以下の範囲に存在する最大吸熱ピークのピーク温度が、50℃以上110℃以下であることが好ましい。
ワックスの結着樹脂への分散性を向上させるために、ワックス成分に近い極性部位と樹脂極性に近い部位を併せ持つ樹脂をワックス分散剤として添加してもよい。具体的には、炭化水素化合物でグラフト変性されたスチレンアクリル系樹脂が好ましい。
ワックス分散剤はその樹脂部分に、環式炭化水素基又は芳香環を導入すると、トナーの帯電維持性が向上する。これによりトナー粒子による本発明のチタン酸ストロンチウム粒子の帯電補助特性を減じることが抑制されるので好ましい。
トナーには、必要に応じて荷電制御剤を含有させることもできる。トナーに含有される荷電制御剤としては、公知のものが利用できるが、特に、無色でトナーの帯電スピードが速くかつ一定の帯電量を安定して保持できる芳香族カルボン酸の金属化合物が好ましい。
ネガ系荷電制御剤としては、以下のものが挙げられる。サリチル酸金属化合物、ナフトエ酸金属化合物、ジカルボン酸金属化合物、スルホン酸又はカルボン酸を側鎖に持つ高分子型化合物、スルホン酸塩又はスルホン酸エステル化物を側鎖に持つ高分子型化合物、カルボン酸塩又はカルボン酸エステル化物を側鎖に持つ高分子型化合物、ホウ素化合物、尿素化合物、ケイ素化合物、カリックスアレーン。
ポジ系荷電制御剤としては、四級アンモニウム塩、前記四級アンモニウム塩を側鎖に有
する高分子型化合物、グアニジン化合物、イミダゾール化合物が挙げられる。
荷電制御剤はトナー粒子に対して内添してもよいし外添してもよい。荷電制御剤の添加量は、結着樹脂100質量部に対し0.2質量部以上10質量部以下が好ましい。
本発明のトナーは、一成分系現像剤としても使用できるが、ドット再現性をより向上させるために、磁性キャリアと混合して、二成分系現像剤として用いることが好ましい。また、長期にわたり安定した画像が得られるという点でも好ましい。
磁性キャリアとしては、下記のような公知のものを使用できる。表面を酸化した鉄粉、あるいは、未酸化の鉄粉や、鉄、リチウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、銅、亜鉛、コバルト、マンガン、クロム、希土類などの金属粒子、それらの合金粒子、酸化物粒子、フェライト等の磁性体や、磁性体と、この磁性体を分散した状態で保持する結着樹脂とを含有する磁性体分散樹脂キャリア(いわゆる樹脂キャリア)。
トナーを磁性キャリアと混合して二成分系現像剤として使用する場合、キャリア混合比率は、二成分系現像剤中のトナー濃度として、好ましくは2質量%以上15質量%以下であり、より好ましくは4質量%以上13質量%以下である。
トナー粒子の製造方法は、乳化凝集法、溶融混練法、溶解懸濁法など公知の方法であれば特に限定されないが、原材料の分散性を高めるという観点から溶融混練法が好ましい。
溶融混練法は、トナー粒子の原材料であるトナー組成物を溶融混練し、得られた混練物を粉砕することを特徴とする。製造方法の例を挙げて説明する。
その後、必要に応じて慣性分級方式のエルボージェット(日鉄鉱業(株)製)、遠心力分級方式のターボプレックス(ホソカワミクロン(株)製)、TSPセパレータ(ホソカワミクロン(株)製)、ファカルティ(ホソカワミクロン(株)製)などの分級機や篩分機を用いて分級し、トナー粒子を得る。
による加熱処理を行うことにより、トナー粒子の円形度を高めてもよい。トナー粒子同士の電荷授受機会と摩擦摺擦力を多くし、帯電立ち上がり速度を高めるために、平均円形度としては0.962以上0.972以下が好ましい。
トナー粒子に無機粒子及び必要に応じて他の外部添加剤を加えて混合(外添)する。混合装置の一例としては、ダブルコン・ミキサー、V型ミキサー、ドラム型ミキサー、スーパーミキサー、ヘンシェルミキサー、ナウタミキサ、メカノハイブリッド(日本コークス工業株式会社製)などが挙げられる。
[無機粒子の個数平均粒子径の算出]
本発明における個数平均粒子径とは、個数平均1次粒子径を意味する。酸化ケイ素粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の個数平均粒子径は、日立超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡S−4800((株)日立ハイテクノロジーズ)にて撮影された無機粒子の反射電子像から算出可能である。S−4800の画像撮影条件は以下のとおりである。
(1)試料作製
試料台(アルミニウム試料台15mm×6mm)に導電性ペーストを薄く塗り、その上に測定する無機粒子を吹きつける。さらにエアブローして、余分な無機粒子を試料台から除去し十分乾燥させる。試料台を試料ホルダにセットし、試料高さゲージにより試料台高さを36mmに調節する。
(2)S−4800観察条件設定
個数平均粒子径の算出は、S−4800の反射電子像観察により得られた画像を用いて行う。なお、S−4800の筺体に取り付けられているアンチコンタミネーショントラップに液体窒素を溢れるまで注入し、30分間置く。S−4800の「PC−SEM」を起動し、フラッシング(電子源であるFEチップの清浄化)を行う。画面上のコントロールパネルの加速電圧表示部分をクリックし、[フラッシング]ボタンを押し、フラッシング実行ダイアログを開く。フラッシング強度が2であることを確認し、実行する。フラッシングによるエミッション電流が20〜40μAであることを確認する。試料ホルダをS−4800筺体の試料室に挿入する。コントロールパネル上の[原点]を押し試料ホルダを観察位置に移動させる。
加速電圧表示部をクリックしてHV設定ダイアログを開き、加速電圧を[1.1kV]、エミッション電流を[20μA]に設定する。オペレーションパネルの[基本]のタブ内にて、信号選択を[SE]に設置し、SE検出器を[上(U)]及び[+BSE]を選択し、[+BSE]の右の選択ボックスで[L.A.100]を選択し、反射電子像で観察するモードにする。同じくオペレーションパネルの[基本]のタブ内にて、電子光学系条件ブロックのプローブ電流を[Normal]に、焦点モードを[UHR]に、WDを[4.5mm]に設定する。コントロールパネルの加速電圧表示部の[ON]ボタンを押し、加速電圧を印加する。
(3)焦点調整
操作パネルのフォーカスつまみ[COARSE]を回転させ、ある程度焦点が合ったところでアパーチャアライメントの調整を行う。コントロールパネルの[Align]をクリックし、アライメントダイアログを表示し、[ビーム]を選択する。操作パネルのSTIGMA/ALIGNMENTつまみ(X,Y)を回転し、表示されるビームを同心円の中心に移動させる。次に[アパーチャ]を選択し、STIGMA/ALIGNMENTつまみ(X,Y)を一つずつ回し、像の動きを止める又は最小の動きになるように合わせる。アパーチャダイアログを閉じ、オートフォーカスで、ピントを合わせる。その後、倍率を80,000(80k)倍に設定し、上記と同様にフォーカスつまみ、STIGMA/ALIGNMENTつまみを使用して焦点調整を行い、再度オートフォーカスでピントを合わせる。この操作を再度繰り返し、ピントを合わせる。ここで、観察面の傾斜角度が大きいと被覆率の測定精度が低くなりやすいので、ピント調整の際に観察面全体のピントが同時に合うものを選ぶことで、表面の傾斜が極力無いものを選択して解析する。
(4)画像保存
ABCモードで明るさ合わせを行い、サイズ640×480ピクセルで写真撮影して保存する。この画像ファイルを用いて下記の解析を行う。複数の写真を撮影し、少なくとも粒子500個以上が解析できる量の画像を得る。
(5)画像解析
少なくとも500個の酸化ケイ素粒子又はチタン酸ストロンチウム粒子について粒子径を測定して、個数平均粒子径を求める。粒子径は長径を測定するものとする。本発明では画像解析ソフトImage−Pro Plus ver.5.0を用いて、上述した手法で得た画像を2値化処理することで個数平均粒子径を算出する。
なお、トナー粒子表面における無機粒子の粒子径も上記と同様の手法で可能である。トナー粒子表面での無機粒子の粒子径を測定する際には、予めエネルギー分散型X線分析装置(EDAX)による元素分析等でトナー粒子表面における測定したい粒子を特定して測定を行う。
前述した電子顕微鏡画像より、粒子径が10nm以上60nm以下のチタン酸ストロンチウム粒子の内、直方体又は立方体形状をしている粒子個数の合計をカウントし、その個数%を算出する。なお、直方体又は立方体とは、明確に角を有するものとする。測定の際は100個のチタン酸ストロンチウム粒子を観察するものとする。
284AプレシジョンLCRメーター(ヒューレット・パッカード社製)を用いて、1kHz及び1MHzの周波数で校正後、周波数1MHzにおける複素誘電率を測定する。測定する酸化ケイ素粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子に39200kPa(400kg/cm2)の荷重を5分間かけて、直径25mm,厚さ1mm以下(好ましくは0.5〜0.9mm)の円盤状の測定試料に成型する。この測定試料を直径25mmの誘電率測定治具(電極)を装着したARES(レオメトリック・サイエンティフィック・エフ・イー社製)に装着し、温度25℃の雰囲気下、0.49N(50g)の荷重をかけた状態で、1MHzの周波数で誘電率を測定する。
チタン酸ストロンチウム粒子の体積抵抗率は、以下のようにして測定する。装置としてはケースレーインスツルメンツ社製6517型エレクトロメータ/高抵抗システムを用いる。直径25mmの電極を接続し、電極間にチタン酸ストロンチウム粒子を厚みが約0.5mmとなるように乗せて、約2.0Nの荷重をかけた状態で、電極間の距離を測定する。
チタン酸ストロンチウム粒子に1,000Vの電圧を1分間印加した時の抵抗値を測定し、以下の式を用いて体積抵抗率を算出する。
体積抵抗率(Ω・cm)=R×L
R:抵抗値(Ω)
L:電極間距離(cm)
トナー粒子の重量平均粒径(D4)は、100μmのアパーチャーチューブを備えた細孔電気抵抗法による精密粒度分布測定装置「コールター・カウンター Multisizer 3」(登録商標、ベックマン・コールター(株)製)と、測定条件設定及び測定データ解析をするための付属の専用ソフト「ベックマン・コールター Multisizer 3 Version3.51」(ベックマン・コールター(株)製)を用いて、実効測定チャンネル数2万5千チャンネルで測定し、測定データの解析を行い、算出する。
測定に使用する電解水溶液は、特級塩化ナトリウムをイオン交換水に溶解して濃度が約
1質量%となるようにしたもの、例えば、「ISOTON II」(ベックマン・コールター(株)製)が使用できる。
なお、測定、解析を行う前に、以下のように前記専用ソフトの設定を行う。
前記専用ソフトの「標準測定方法(SOM)を変更画面」において、コントロールモードの総カウント数を50,000粒子に設定し、測定回数を1回、Kd値は「標準粒子10.0μm」(ベックマン・コールター(株)製)を用いて得られた値を設定する。閾値/ノイズレベルの測定ボタンを押すことで、閾値とノイズレベルを自動設定する。また、カレントを1,600μAに、ゲインを2に、電解液をISOTON IIに設定し、測定後のアパーチャーチューブのフラッシュにチェックを入れる。
専用ソフトの「パルスから粒径への変換設定画面」において、ビン間隔を対数粒径に、粒径ビンを256粒径ビンに、粒径範囲を2μm以上60μm以下に設定する。
(1)Multisizer 3専用のガラス製250mL丸底ビーカーに前記電解水溶液約200mLを入れ、サンプルスタンドにセットし、スターラーロッドの撹拌を反時計回りで24回転/秒にて行う。そして、専用ソフトの「アパーチャーチューブのフラッシュ」機能により、アパーチャーチューブ内の汚れと気泡を除去しておく。
(2)ガラス製の100mL平底ビーカーに前記電解水溶液約30mLを入れ、この中に分散剤として下記の希釈液を約0.3mL加える。
・希釈液:「コンタミノンN」(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤の10質量%水溶液、和光純薬工業(株)製)をイオン交換水で3質量倍に希釈した希釈液
(3)発振周波数50kHzの発振器2個を、位相を180度ずらした状態で内蔵し、電気的出力が120Wである下記の超音波分散器の水槽内に所定量のイオン交換水を入れ、この水槽中に前記コンタミノンNを約2mL添加する。
・超音波分散器:「Ultrasonic Dispersion System Tetora150」(日科機バイオス(株)製)
(4)前記(2)のビーカーを前記超音波分散器のビーカー固定穴にセットし、超音波分散器を作動させる。そして、ビーカー内の電解水溶液の液面の共振状態が最大となるようにビーカーの高さ位置を調整する。
(5)前記(4)のビーカー内の電解水溶液に超音波を照射した状態で、トナー約10mgを少量ずつ前記電解水溶液に添加し、分散させる。そして、さらに60秒間超音波分散処理を継続する。なお、超音波分散にあたっては、水槽の水温が15℃以上40℃以下となる様に適宜調節する。
(6)サンプルスタンド内に設置した前記(1)の丸底ビーカーに、ピペットを用いてトナーを分散した前記(5)の電解水溶液を滴下し、測定濃度が約5%となるように調整する。そして、測定粒子数が50,000個になるまで測定を行う。
(7)測定データを装置付属の前記専用ソフトにて解析を行い、重量平均粒径(D4)を算出する。なお、専用ソフトでグラフ/体積%と設定したときの、分析/体積統計値(算術平均)画面の「平均径」が重量平均粒径(D4)である。
トナー粒子の平均円形度は、フロー式粒子像分析装置「FPIA−3000」(シスメックス(株)製)によって、校正作業時の測定及び解析条件で測定する。
具体的な測定方法は、以下のとおりである。まず、ガラス製の容器中に予め不純固形物などを除去したイオン交換水約20mLを入れる。この中に分散剤として「コンタミノンN」(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤の10質量%水溶液、和光純薬工業(株)製)をイオン交換水で約3質量倍に希釈した希釈液を約0.2mL加える。更に測定試料を約0.02g加え、超音波分散器を用いて2分間分散処理を行い、測定用の分散液とする。その際、分散液の温度
が10℃以上40℃以下となる様に適宜冷却する。超音波分散器としては、発振周波数50kHz、電気的出力150Wの卓上型の超音波洗浄器分散器(「VS−150」((株)ヴェルヴォクリーア製))を用い、水槽内には所定量のイオン交換水を入れ、この水槽中に前記コンタミノンNを約2mL添加する。
測定には、標準対物レンズ(10倍)を搭載した前記フロー式粒子像分析装置を用い、シース液にはパーティクルシース「PSE−900A」(シスメックス(株)製)を使用した。前記手順に従い調製した分散液を前記フロー式粒子像分析装置に導入し、HPF測定モードで、トータルカウントモードにて3,000個のトナー粒子を計測する。そして、粒子解析時の2値化閾値を85%とし、解析粒子径を円相当径1.985μm以上、39.69μm未満に限定し、トナー粒子の平均円形度を求める。
測定にあたっては、測定開始前に標準ラテックス粒子(Duke Scientific社製の「RESEARCH AND TEST PARTICLES Latex Microsphere Suspensions 5200A」をイオン交換水で希釈)を用いて自動焦点調整を行う。その後、測定開始から2時間毎に焦点調整を実施することが好ましい。
なお、本願実施例では、シスメックス(株)による校正作業が行われた、シスメックス(株)が発行する校正証明書の発行を受けたフロー式粒子像分析装置を使用する。解析粒子径を円相当径1.985μm以上、39.69μm未満に限定した以外は、校正証明を受けたときと同じ測定及び解析条件で測定を行う。
酸化ケイ素粒子のトナー粒子への埋没量は、トナー粒子断面の反射電子像から求めることができる。トナー粒子断面は、トナー粒子をエポキシ樹脂で固めた後、クロスセクションポリッシャ(CP)によるアルゴンイオンビーム照射で削りとることで作製可能である。トナー粒子の断面画像を前述したS−4800による反射電子画像撮影方法で取得し、トナー粒子外周に存在する酸化ケイ素粒子をEDAX元素マッピングにて特定する。
さらに、トナーの輪郭から埋め込まれている長さLと酸化ケイ素粒子径Dsを計測し、L/Ds×100(%)を埋没量として算出する。粒子径は長径を測定するものとする。酸化ケイ素粒子300個について埋没量を計測し、これらの相加平均値を埋没量とする。
硫酸法で得られたメタチタン酸を脱鉄漂白処理した後、水酸化ナトリウム水溶液を加えpH9.0とし、脱硫処理を行い、その後、塩酸によりpH5.8まで中和し、ろ過水洗を行った。洗浄済みケーキに水を加えTiO2として1.5モル/Lのスラリーとした後、塩酸を加えpH1.5とし解膠処理を行った。
脱硫・解膠を行ったメタチタン酸をTiO2として採取し、3Lの反応容器に投入した。該解膠メタチタン酸スラリーに、塩化ストロンチウム水溶液を、SrO/TiO2モル比で1.15となるよう添加した後、TiO2濃度0.8モル/Lに調整した。次に、撹拌混合しながら90℃に加温した後、窒素ガスのマイクロバブリングを600ml/minで行いながら10N水酸化ナトリウム水溶液444mLを50分間かけて添加し、その後、窒素ガスのマイクロバブリングを400ml/minで行いながら95℃で1時間撹拌を行った。
その後、当該反応スラリーを反応容器のジャケットに10℃の冷却水を流しながら撹拌して15℃まで急冷し、pH2.0となるまで塩酸を加え1時間撹拌を続けた。得られた沈殿をデカンテーション洗浄した後、6Nの塩酸を加えてpH2.0に調整し、固形分100部に対して7.0部のn−オクチルエトキシシランを加え18時間撹拌を行った。4
N水酸化ナトリウム水溶液で中和し、2時間撹拌した後にろ過・分離を行い、120℃の大気中で8時間乾燥して粉体1を得た。粉体1は粉末X線回折の測定で、チタン酸ストロンチウムの回折ピークを示した。
粒子1を、電子顕微鏡観察により個数基準で算出した平均一次粒子径は0.035μmであり、明確に角を有する立方体及び直方体形状の粒子の含有率は0.8個数%であった。物性を表1に示す。
粒子1と同様の製法で、水酸化ナトリウム添加時間、窒素マイクロバブリング流量を表1に示す条件に変えてチタン酸ストロンチウム粒子2〜15を製造した。
硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーをアルカリ水溶液で洗浄した。次に、該含水酸化チタンのスラリーに塩酸を添加して、pHを0.65に調整してチタニアゾル分散液を得た。該チタニアゾル分散液にNaOHを添加し、分散液のpHを4.5に調整し上澄み液の電気伝導度が70μS/cmになるまで洗浄をくり返しした。
該含水酸化チタンに対し、0.97倍モル量のSr(OH)2・8H2Oを加えてSUS製反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらにSrTiO3換算で0.1〜2.0mol/リットルになるように蒸留水を加えた。
該分散液と酸素ガス及びプロパンガスを微粒子噴霧ノズルから80Lの燃焼反応槽内に噴霧して燃焼させた後、フィルターを通して捕集し、微粒子を得た。得られた微粒子に純水を加えてスラリーとし、6Nの塩酸を加えてpH2.0に調整し、固形分に対して7.0質量%のn−オクチルエトキシシランを加え18時間撹拌を行った。4N水酸化ナトリウム水溶液で中和し、2時間撹拌した後にろ過・分離を行い、120℃の大気中で8時間乾燥してチタン酸ストロンチウム粒子16〜18を得た。これらは粉末X線回折の測定で、チタン酸ストロンチウムの回折ピークを示した。物性を表1に示す。チタン酸ストロンチウム粒子16〜18は、電子顕微鏡観察を行ったところ、角のない不定形状であった。
酸化ケイ素粒子1の製造には、燃焼炉は、内炎と外炎が形成できる二重管構造の炭化水素−酸素混合型バーナーを用いた。バーナー中心部にスラリー噴射用の二流体ノズルが設置され、原料の珪素化合物が導入される。二流体ノズルの周囲から炭化水素−酸素の可燃性ガスが噴射され、還元雰囲気である内炎及び外炎を形成する。可燃性ガスと酸素の量及び流量の制御により、雰囲気と温度、火炎の長さ等が調整される。火炎中において珪素化合物からシリカ微粒子が形成され、さらに所望の粒径になるまで融着させる。すなわち、流量と火炎の調整により珪素化合物が、高温雰囲気化で処理される時間が長くなるほどシリカ微粒子の粒径が大きくなる。その後、冷却後、バグフィルター等により捕集することによって得られる。
原料の珪素化合物として、ヘキサメチルシクロトリシロキサンを用いて、無機粒子を製造し、得られた無機粒子100部に、ヘキサメチルジシラザン4質量部で表面処理し、酸化ケイ素粒子1を得た。
さらに酸化ケイ素粒子1と同様にして、バーナーによる火炎の大きさと温度と流量を調整し、粒度の異なる粒子を得た。得られた無機粒子100部に、ヘキサメチルジシラザンをそれぞれ10部、2部、12部、及び1.5部用いて表面処理を行い、酸化ケイ素粒子2,3,4,及び5を得た。
得られた酸化ケイ素粒子1〜5の電子顕微鏡観察より測定された個数平均粒子径は、それぞれ、120nm,50nm,300nm,30nm、及び500nmであった。また、1MHzにおける誘電率はいずれも3.8pF/mであった。
さらに、酸化ケイ素粒子をゾルゲル法にて製造して、得られた酸化ケイ素粒子100部
に対してヘキサメチルシラザン10部で表面処理を行って、個数平均粒子径が120nmの酸化ケイ素粒子6を得た。
また、酸化ケイ素粒子6を製造する際の表面処理を、平均粒子径5nmの酸化チタン微粒子が10質量%分散されたシリコーンオイル処理剤に変更し、酸化ケイ素粒子7を得た。
酸化ケイ素粒子6、7の1MHzにおける誘電率はそれぞれ1.2pF/m、19.5pF/mであった。
(ポリエステル樹脂の製造例)
・ポリオキシプロピレン(2.2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン:多価アルコール総モル数に対して80.0mol%
・ポリオキシエチレン(2.2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン:多価アルコール総モル数に対して20.0mol%
・テレフタル酸:多価カルボン酸総モル数に対して80.0mol%
・無水トリメリット酸:多価カルボン酸総モル数に対して20.0mol%
冷却管、攪拌機、窒素導入管、及び、熱電対のついた反応槽に、上記材料を投入した。そして、モノマー総量100部に対して、触媒として2−エチルヘキサン酸錫(エステル化触媒)を1.5部添加した。次にフラスコ内を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら徐々に昇温し、200℃の温度で撹拌しつつ、2.5時間反応させた。
さらに、反応槽内の圧力を8.3kPaに下げ、1時間維持した後、180℃まで冷却し、そのまま反応させASTM D36−86に従って測定した軟化点が110℃に達したのを確認してから温度を下げて反応を止めた。得られたポリエステル樹脂の軟化点(Tm)は115℃であった。
温度計及び攪拌機の付いたオートクレーブ反応槽中に、キシレン300.0部、ポリプロピレン(融点75℃)10.0部を入れ充分溶解し、窒素置換した。その後、スチレン73.0部、メタクリル酸シクロヘキシル5.0部、ブチルアクリレート12.0部、及びキシレン250.0部の混合溶液を180℃で3時間滴下し重合する。さらにこの温度で30分間保持し、脱溶剤を行い、ワックス分散剤を得た。
・ポリエステル樹脂 100.0部
・3,5−ジ−t−ブチルサリチル酸アルミニウム化合物 0.1部
・フィッシャートロプシュワックス(最大吸熱ピーク温度90℃) 5.0部
・ワックス分散剤 6.5部
・C.I.ピグメントブルー15:3 5.0部
前記処方で示した原材料をヘンシェルミキサー(FM75J型、三井三池化工機(株)製)を用いて、回転数20s−1、回転時間5minで混合した後、温度130℃、バレル回転数200rpmに設定した二軸混練機(PCM−30型、株式会社池貝製)にて混練した。得られた混練物を冷却し、ハンマーミルにて1mm以下に粗粉砕し、粗砕物を得た。得られた粗砕物を、機械式粉砕機(T−250、ターボ工業(株)製)にて微粉砕した。さらに回転型分級機(200TSP、ホソカワミクロン社製)を用い、分級を行い、トナー粒子を得た。回転型分級機(200TSP、ホソカワミクロン社製)の運転条件は、分級ローター回転数を50.0s−1とした。得られたトナー粒子は、重量平均粒径(D4)が5.7μmであった。
得られたトナー粒子100.0部に対し、酸化ケイ素粒子1を5.0部、ヘキサメチルジシラザン10.0質量%で表面処理した一次平均粒子径10nmの疎水性シリカ微粒子0.2部を添加し、ヘンシェルミキサー(FM75J型、三井三池化工機(株)製)で回
転数15s−1、回転時間10min、ジャケット温度45℃で混合した。
その後、さらにチタン酸ストロンチウム粒子1を0.5部と、ヘキサメチルジシラザン10.0質量%で表面処理した一次平均粒子径10nmの疎水性シリカ微粒子0.8部を添加した後、回転数30s−1、回転時間4min、ジャケット温度20℃で混合した後、目開き54μmの超音波振動篩を通過させ、平均円形度0.966のトナー1を得た。トナー1の物性を表1に示す。
トナーの製造例1において、外添するチタン酸ストロンチウム粒子と酸化ケイ素粒子の種類と量を表2に記載したように変更した以外は同様にして製造し、トナー2〜33を得た。
(工程1:秤量・混合工程)
・Fe2O3 62.7部
・MnCO3 29.5部
・Mg(OH)2 6.8部
・SrCO3 1.0部
上記材料を上記組成比となるようにフェライト原材料を秤量した。その後、直径1/8インチのステンレスビーズを用いた乾式振動ミルで5時間粉砕・混合した。
・工程2(仮焼成工程):
得られた粉砕物をローラーコンパクターにて、約1mm角のペレットにした。このペレットを目開き3mmの振動篩にて粗粉を除去し、次いで目開き0.5mmの振動篩にて微粉を除去した。その後、バーナー式焼成炉を用いて、窒素雰囲気下(酸素濃度0.01体積%)で、温度1,000℃で4時間焼成し、仮焼フェライトを作製した。得られた仮焼フェライトの組成は、下記のとおりである。
(MnO)a(MgO)b(SrO)c(Fe2O3)d
上記式において、a=0.257、b=0.117、c=0.007、d=0.393
(工程3:粉砕工程)
クラッシャーで0.3mm程度に粉砕した後に、直径1/8インチのジルコニアビーズを用い、仮焼フェライト100部に対し、水を30部加え、湿式ボールミルで1時間粉砕した。そのスラリーを、直径1/16インチのアルミナビーズを用いた湿式ボールミルで4時間粉砕し、フェライトスラリー(仮焼フェライトの微粉砕品)を得た。
フェライトスラリーに、仮焼フェライト100部に対して分散剤としてポリカルボン酸アンモニウム1.0部、バインダーとしてポリビニルアルコール2.0部を添加した。そして、スプレードライヤー(製造元:大川原化工機(株))を用いて、球状粒子に造粒した。得られた粒子を粒度調整した後、ロータリーキルンを用いて、温度650℃で2時間加熱し、分散剤やバインダーの有機成分を除去した。
(工程5:焼成工程)
焼成雰囲気をコントロールするために、電気炉にて窒素雰囲気下(酸素濃度1.00体積%)で、室温から温度1,300℃まで2時間で昇温し、その後、温度1,150℃で4時間焼成した。その後、4時間をかけて、温度60℃まで降温し、窒素雰囲気から大気に戻し、温度40℃以下で取り出した。
(工程6:選別工程)
凝集した粒子を解砕した後に、磁力選鉱により低磁力品をカットし、目開き250μmの篩で篩分して粗大粒子を除去し、体積分布基準のメジアン径が37.0μmの磁性コア粒子1を得た。
・シクロヘキシルメタクリレートモノマー 26.8質量%
・メチルメタクリレートモノマー 0.2質量%
・メチルメタクリレートマクロモノマー 8.4質量%
(片末端にメタクリロイル基を有する重量平均分子量5,000のマクロモノマー)
・トルエン 31.3質量%
・メチルエチルケトン 31.3質量%
・アゾビスイソブチロニトリル 2.0質量%
上記材料のうち、シクロヘキシルメタクリレート、メチルメタクリレート、メチルメタクリレートマクロモノマー、トルエン、メチルエチルケトンを、還流冷却器、温度計、窒素導入管及び攪拌装置を取り付けた四つ口のセパラブルフラスコに入れ、窒素ガスを導入して窒素ガスで系内を置換した。その後、温度80℃まで加温し、アゾビスイソブチロニトリルを添加して5時間還流し重合させた。得られた反応物にヘキサンを注入して共重合体を沈殿析出させ、沈殿物を濾別後、真空乾燥して被覆樹脂1を得た。得られた被覆樹脂
1:30部を、トルエン40部、及びメチルエチルケトン30部に溶解させて、重合体溶液1(固形分30質量%)を得た。
・重合体溶液1(樹脂固形分濃度30%) 33.3質量%
・トルエン 66.4質量%
・カーボンブラック 0.3質量%
(一次粒径25nm、窒素吸着比表面積94m2/g、DBP吸油量75mL/100g)
上記材料を、直径0.5mmのジルコニアビーズを用いて、ペイントシェーカーで1時間分散を行った。得られた分散液を、5.0μmのメンブランフィルターで濾過を行い、被覆樹脂溶液1を得た。
(樹脂被覆工程)
常温で維持されている真空脱気型ニーダーに被覆樹脂溶液1を、磁性コア粒子1:100部に対して樹脂成分として2.5部になるように投入した。投入後、回転速度30rpmで15分間撹拌し、溶媒が一定以上(80質量%)揮発した後、減圧混合しながら温度80℃まで昇温し、2時間かけてトルエンを留去した後冷却した。得られた磁性キャリアを、磁力選鉱により低磁力品を分別し、開口70μmの篩を通した後、風力分級器で分級し、体積分布基準のメジアン径が38.2μmの磁性キャリアを得た。
トナー1と磁性キャリアで、トナー濃度が10質量%になるようにV型混合機(V−10型:(株)徳寿製作所)で0.5s−1、回転時間5分で混合し、二成分現像剤1を得た。また、同様にトナー2〜33と磁性キャリアを混合し、二成分現像剤2〜33を得た。
得られた二成分現像剤を用いて以下に示す評価を行った。評価結果を表3に示す。
(1)画像濃度変動
画像形成装置として、キヤノン(株)製フルカラー複写機imagePRESS C800を用いた。(ステーションはCyステーションを使用)
FFh画像のトナーの載り量を0.45mg/cm2となるように現像電圧を初期調整した。FFhとは、256階調を16進数で表示した値であり、00Hを1階調目(白地部)、FFhを256階調目(ベタ部)とする。
常温低湿環境下(温度23℃、相対湿度5%)で10,000枚の50%画像Dutyのベタ画像で耐久画像出力試験を行い、そのときの全ての画像の反射濃度反動率を計測した。評価紙は、コピー普通紙CS−680(A4、坪量68g/m2、キヤノンマーケティングジャパン(株)より販売)を用いた。X−Riteカラー反射濃度計(500シリーズ:X−Rite社製)を使用し、全ての出力画像の画像濃度を測定し、画像濃度の変動の標準偏差を算出した。この画像濃度の変動の標準偏差を以下に示す評価基準に基づいて評価した。1,0000枚連続通紙期間中は、1枚目と同じ現像条件、転写条件(キャリブレーション無し)で通紙を行うこととする。D以上を良好と判断した。
A:標準偏差:0.02未満
B:標準偏差:0.02以上0.05未満
C:標準偏差:0.05以上0.10未満
D:標準偏差:0.10以上0.20未満
E:標準偏差:0.20以上
前記(1)の耐久試験後に、常温低湿環境下(温度23℃、相対湿度5%)で平均反射濃度0.80のスクリーンハーフトーンをA3サイズ紙で画像出力し、濃度の均一性を評価した。
評価紙は、コピー普通紙CS−680(A3、坪量68g/m2、キヤノンマーケティングジャパン(株)より販売)を用いた。
1枚中45か所の画像濃度を分光濃度計500シリーズ(X−Rite社)によって測定し、そのバラツキを標準偏差にて以下の評価基準にて評価した。D以上を良好と判断した。
A:標準偏差:0.010未満
B:標準偏差:0.010以上0.030未満
C:標準偏差:0.030以上0.050未満
D:標準偏差:0.050以上0.080未満
E:標準偏差:0.080以上
前記(2)の耐久試験後に30℃80%Rhの高温高湿環境下に条件を変え、1日放置した後、ベタ白画像(画像濃度0、画像Duty0%)をA3サイズ紙で画像出力し、白地部カブリを評価した。
評価紙は、コピー普通紙CS−680(A3、坪量68g/m2、キヤノンマーケティングジャパン(株)より販売)を用いた。
1枚中9か所のカブリ濃度を反射濃度計(東京電色社製、TC−6DS型)によって測定し、9か所の平均値をカブリ濃度とした。結果を以下の評価基準にて評価した。D以上を良好と判断した。
A:カブリ濃度:0.2未満
B:カブリ濃度:0.2以上0.4未満
C:カブリ濃度:0.4以上0.6未満
D:カブリ濃度:0.6以上1.0未満
E:カブリ濃度:1.0以上
Claims (4)
- 結着樹脂を含有するトナー粒子及び無機粒子を含むトナーであって、
該無機粒子は、
個数平均粒子径(D1)が、50nm以上300nm以下である酸化ケイ素粒子と、
個数平均粒子径(D1)が、10nm以上60nm以下であるチタン酸ストロンチウム粒子を含み、
該酸化ケイ素粒子の含有量が、トナー粒子100質量部に対し0.5質量部以上15.0質量部以下であり、
該チタン酸ストロンチウム粒子の含有量が、該酸化ケイ素粒子の含有量の0.02倍以上5.00倍以下であり、
25℃、1MHzでの誘電率の測定において、
該酸化ケイ素粒子の誘電率が、1.0pF/m以上20.0pF/m以下であり、
該チタン酸ストロンチウムの誘電率が、25.0pF/m以上100.0pF/m以下であることを特徴とするトナー。 - 前記チタン酸ストロンチウム粒子の体積抵抗率が、2.0×109Ω・cm以上2.0×1012Ω・cm以下である請求項1に記載のトナー。
- 前記チタン酸ストロンチウム粒子における立方体及び直方体形状の粒子の含有率が40個数%以下である請求項1又は2に記載のトナー。
- 前記チタン酸ストロンチウム粒子における立方体及び直方体形状の粒子の含有率が4個数%以下である請求項1〜3のいずれか一項に記載のトナー。
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