JP2018205358A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】一対の基板の位置ずれをより確実に抑制できる表示装置を提供する。【解決手段】表示装置は、第１及び２基板の少なくとも一方が可撓性基板である。表示装置は、第１Ａ乃至第４Ａスペーサを備えている。第１Ａ及び第３Ａスペーサは、第１基板にある。第２Ａ及び第４Ａスペーサは、第１基板に対向する第２基板にある。第１Ａ及び第２Ａスペーサは、平面視において第１方向に配列し、その側面は、第１方向において対向している。第３Ａ及び第４Ａスペーサは、平面視において第１方向と交差する第２方向に配列し、その側面は、第２方向において対向している。【選択図】図１

Description

本発明の実施形態は、可撓性の液晶表示装置や高精細の液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、位置を合わせて重ねられた一対の基板を備えている。基板に外力が加えられると、一方の基板に対する他方の基板の位置がずれるおそれがある。フレキシブルディスプレイ等の表示装置の場合、基板が曲がったり伸びたりするため、弱い力でも位置ずれが生じやすい傾向がある。また、ヘッドマウントディスプレイ等の表示装置の場合、非常に高精細であるため、僅かな位置ずれであっても隣の画素の色が混ざって見える混色等が目立つ傾向がある。

一対の基板の位置ずれを抑制するため、対向基板の柱状スペーサの先端に凹部を形成し、該凹部に重畳するようにＴＦＴ基板に台座を形成して、対向基板の動きを拘束する液晶表示装置が提案されている。例えば、特許文献１の実施例３には、柱状スペーサの先端の一側に凹部を形成し、他側に凸部を形成して、凹部に重畳している台座が凸部に接触する方向、すなわち柱状スペーサが他側から一側へ向かう方向の位置ずれを抑制することが提案されている。一側及び他側の組み合わせを前側及び後側、左側及び右側、後側及び前側、右側及び左側と各々の柱状スペーサにおいて異なる方向に変えて、すべての方向の位置ずれを抑制できることも提案されている。

特開２０１３−１２７５６３号公報

しかるに、特許文献１に記載された階段状の柱状スペーサは、ハーフトーン露光によって凹部や凸部が形成されている。そのような複雑な形状の柱状スペーサは、製造工程における負担が大きい。露光精度の限界から高精細化も困難である。また、台座が凹部に重畳しているため、台座の高さに制限がある。位置ずれを防止する台座の側面と凸部の側面との接触面積を大きくできないため、過大な外力が加えられたとき位置ずれを抑制できないおそれがある。本開示の目的は、一対の基板の位置ずれをより確実に抑制できる表示装置を提供することにある。

一実施形態に係る表示装置は、第１及び２基板の少なくとも一方が可撓性基板である。表示装置は、第１Ａ乃至第４Ａスペーサを備えている。第１Ａ及び第３Ａスペーサは、第１基板にある。第２Ａ及び第４Ａスペーサは、第１基板に対向する第２基板にある。第１Ａ及び第２Ａスペーサは、平面視において第１方向に配列し、その側面は、第１方向において対向している。第３Ａ及び第４Ａスペーサは、平面視において第１方向と交差する第２方向に配列し、その側面は、第２方向において対向している。

図１は、第１実施形態の表示装置の概略的な構成を示す平面図である。 図２は、図１中のＦ２−Ｆ２線に沿う断面図である。 図３は、図１中のＦ３−Ｆ３線に沿う断面図である。 図４は、図１に示されたスペーサについて配列パターンの一例を模式的に示す平面図である。 図５は、図４に示された配列パターンの他の一例を模式的に示す平面図である。 図６は、図４及び図５に示された配列パターンの他の一例を模式的に示す平面図である。 図７は、図４、図５及び図６に示された配列パターンの他の一例を模式的に示す平面図である。 図８は、第２実施形態の表示装置の概略的な構成を示す平面図である。 図９は、第３実施形態の表示装置の概略的な構成を示す平面図である。 図１０は、第４実施形態の表示装置の概略的な構成を示す平面図である。 図１１は、図１０中のＦ１１−Ｆ１１線に沿う断面図である。 図１２は、第５実施形態の表示装置の概略的な構成を示す平面図である。 図１３は、図１２中のＦ１３−Ｆ１３線に沿う断面図である。 図１４は、第６実施形態の表示装置の概略的な構成を示す斜視図である。 図１５は、図１４に示された端部領域及び中央領域における第１及び第３セットの密度を模式的に示す平面図である。 図１６は、第７実施形態の表示装置の概略的な構成を示す平面図である。 図１７は、図１６中のＦ１７−Ｆ１７線に沿う断面図である。 図１８は、第８実施形態の表示装置の概略的な構成を示す平面図である。 図１９は、第９実施形態の表示装置の概略的な構成を示す断面図である。

いくつかの実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者が発明の主旨を保って適宜変更について容易に想到し得るものは、当然に本発明の範囲に含まれる。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各図において、連続して配置される同一又は類似の要素について符号を省略することがある。また、本明細書及び各図において、既に説明した図と同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。

また、本明細書において「αはＡ，Ｂ又はＣを含む」、「αはＡ，Ｂ及びＣのいずれかを含む」、「αはＡ，Ｂ及びＣからなる群から選択される一つを含む」といった表現は、特に明示がない限り、αがＡ〜Ｃの複数の組み合わせを含む場合を排除しない。さらに、これらの表現は、αが他の要素を含む場合も排除しない。

以下の説明において、表示装置の一例として液晶表示装置である表示装置ＤＳＰを開示する。表示装置ＤＳＰは、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器、ウェアラブル端末等の種々の装置に用いることができる。

以下の説明において、表示装置ＤＳＰの表示面から背面に向かって見ることを平面視と定義する。表示装置ＤＳＰの表示面は、平面であってもよいし、湾曲した曲面であってもよい。図１は、第１実施形態の表示装置ＤＳＰの概略的な構成を示す平面図である。

図１に示すように、表示装置ＤＳＰは、複数の走査信号線ＧＬと、複数の映像信号線ＳＬと、複数の副画素ＳＰＸと、複数の第１乃至第４スペーサ１，２，３，４と、を備えている。走査信号線ＧＬは、第１方向Ｘに延在し、第１方向Ｘに交差する第２方向Ｙに配列している。

映像信号線ＳＬは、第２方向Ｙに延在し、第１方向Ｘに配列している。図１に示す例では、映像信号線ＳＬは、ジグザグに屈曲しつつ第２方向Ｙに延在している。なお、映像信号線ＳＬは、第２方向Ｙに平行な一直線であってもよいし、第２方向Ｙを中心に蛇行する曲線であってもよい。

図１に示す例では、第１及び第２方向Ｘ，Ｙが互いに直交している。第１方向Ｘは、第１Ａ方向ＸＡと、第１Ｂ方向ＸＢと、を含んでいる。図１に示す例では、第１方向Ｘが左右方向であり、第１Ａ方向ＸＡが左方向であり、第１Ｂ方向が右方向である。同様に、第２方向Ｙは、第２Ａ方向ＹＡと、第２Ｂ方向ＹＢと、を含んでいる。図１に示す例では、第２方向Ｙが上下方向であり、第２Ａ方向ＹＡが上方向であり、第２Ｂ方向ＹＢが下方向である。

副画素ＳＰＸは、隣り合う二本の走査信号線ＧＬと隣り合う二本の映像信号線ＳＬとによって区画された領域に相当する。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）にそれぞれ対応する三つの副画素ＳＰＸを組み合わせてカラー表示が可能な画素ＰＸを構成できる。なお、画素ＰＸは、白色（Ｗ）等の他の色の副画素ＳＰＸを含んでもよいし、同じ色の副画素ＳＰＸを複数含んでもよい。

各々の副画素ＳＰＸには、画素電極ＰＥが形成されている。複数の副画素領域ＳＰＸに跨って共通電極ＣＥが延在している。画素電極ＰＥの延在方向ＹＰ１，ＹＰ２は、ジグザグに屈曲する映像信号線ＳＬの直線部分に平行であり、第２方向Ｙに対して僅かに傾いている。

延在方向ＹＰ１が第２方向Ｙに対して第１Ａ方向ＸＡに傾いていると、視野角が深いときに白色が青色を帯びて視認される。延在方向ＹＰ２が第２方向Ｙに対して第１Ａ方向ＸＡに傾いていると、視野角が深いときに白色が黄色を帯びて視認される。隣接する副画素ＳＰＸにおいて延在方向ＹＰ１，ＹＰ２が交互に傾いていると、色差を互いに補償して視野角特性を改善できる。

図１中に二点鎖線で示す領域は、光を遮る遮光層２１に相当する。遮光層２１は、平面視において、走査信号線ＧＬ、映像信号線ＳＬ、第１乃至第４スペーサ１，２，３，４に重畳してこれらを覆い隠している。第１スペーサ１には、第１Ａ及び第１Ｂスペーサ１Ａ，１Ｂが含まれる。

同様に、第２スペーサ２には、第２Ａ及び第２Ｂスペーサ２Ａ，２Ｂが含まれ、第３スペーサ３には、第３Ａ及び第３Ｂスペーサ３Ａ，３Ｂが含まれ、第４スペーサ４には、第４Ａ及び第４Ｂスペーサ４Ａ，４Ｂが含まれる。第１乃至第４スペーサ１，２，３，４については図３乃至図７を参照して後で詳しく説明する。

図２は、図１中のＦ２−Ｆ２線に沿う断面図である。表示装置ＤＳＰの厚み方向である第３方向Ｚは、図１に示された第１及び第２方向Ｘ，Ｙと直交している。図２に示す例では、表示装置ＤＳＰが、主として表示面にほぼ平行な横電界を利用する表示モードに対応した構成を有している。なお、表示装置ＤＳＰは、表示面に対して垂直な縦電界や、表示面に対して斜め方向の電界、或いはそれらを組み合わせて利用する表示モードに対応した構成を有していてもよい。

図２に示すように、表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬと、表示パネルＰＮＬの背面に光を照射する照明装置ＢＬと、を備えている。表示パネルＰＮＬは、背面に入射した光を選択的に透過することで表示面に画像を表示する。なお、表示パネルＰＮＬは、表示面に入射した光を選択的に反射させることで表示面に画像を表示する反射型であってもよい。

表示パネルＰＮＬは、第１基板（アレイ基板）ＳＵＢ１と、第１基板ＳＵＢ１に対向する第２基板（対向基板）ＳＵＢ２と、第１及び第２基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２の間に配置された液晶層ＬＣと、を備えている。第１基板ＳＵＢ１は、図１に示された走査信号線ＧＬと、映像信号線ＳＬと、画素電極ＰＥと、共通電極ＣＥと、を備えている。それらに加え、第１基板ＳＵＢ１は、図２に示すように、第１可撓性基材１０と、第１乃至第５絶縁層１１，１２，１３，１４，１５と、半導体層ＳＣと、中継電極ＳＬｒと、第１配向膜ＡＬ１と、をさらに備えている。

第１可撓性基材１０は、例えばポリイミド樹脂等で形成され、可撓性、透光性及び絶縁性を有している。第１可撓性基材１０を基材とする第１基板ＳＵＢ１は、可撓性基板の一例である。第１可撓性基材１０は、第２基板ＳＵＢ２と対向する第１面１０Ａと、第１面１０Ａとは反対側の第２面１０Ｂと、を有している。

第１絶縁層１１は、第１可撓性基材１０の第１面１０Ａを覆っている。半導体層ＳＣは、第１絶縁層１１の上に形成されている。第２絶縁層１２は、第１絶縁層１１及び半導体層ＳＣを覆っている。走査信号線ＧＬは、第２絶縁層１２の上に形成されている。第３絶縁層１３は、第２絶縁層１２及び走査信号線ＧＬを覆っている。

映像信号線ＳＬ及び中継電極ＳＬｒは、第３絶縁層１３の上に形成されている。映像信号線ＳＬ及び中継電極ＳＬｒは、同一工程で形成できる。第４絶縁層１４は、第３絶縁層１３、映像信号線ＳＬ及び中継電極ＳＬｒを覆っている。共通電極ＣＥは、第４絶縁層１４の上に形成されている。なお、映像信号線ＳＬや走査信号線ＧＬに重畳するように金属層ＭＬを形成してもよい。金属層ＭＬは、共通電極ＣＥに電気的に接続されている。第５絶縁層１５は、第４絶縁層１４、共通電極ＣＥ及び金属層ＭＬを覆っている。

画素電極ＰＥは、第５絶縁層１５の上に形成されている。なお、第５絶縁層１５の下に画素電極ＰＥを形成し、第５絶縁層１５の上に共通電極ＣＥを形成してもよい。第５絶縁層１５は、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとを絶縁する層間絶縁膜の一例である。第１配向膜ＡＬ１は、第５絶縁層１５及び画素電極ＰＥを覆っている。

第１及び第２コンタクトホールＣＨ１，ＣＨ２は、第２及び第３絶縁層１２，１３を貫通している。第３コンタクトホールＣＨ３は、第４及び第５絶縁層１４，１５を貫通している。映像信号線ＳＬは、第１コンタクトホールＣＨ１を通じて半導体層ＳＣに接している。

中継電極ＳＬｒは、第２コンタクトホールＣＨ２を通じて半導体層ＳＣに接している。映像信号線ＳＬ及び中継電極ＳＬｒのいずれか一方がソース電極であり、いずれか他方がドレイン電極である。半導体層ＳＣ、ソース電極及びドレイン電極は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を構成している。

画素電極ＰＥは、第３コンタクトホールＣＨ３を通じて中継電極ＳＬｒに接しており、半導体層ＳＣに電気的に接続されている。画素電極ＰＥにソース電極を介して電圧が供給されると、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成され、液晶層ＬＣの液晶分子の配向を変化させる。これにより、液晶層ＬＣを透過する光の量が制御される。

走査信号線ＧＬ、映像信号線ＳＬ、金属層ＭＬは、例えば単層構造や積層構造の金属材料で形成されている。映像信号線ＳＬは、走査信号線ＧＬと比べて細線でもよい。中継電極ＳＬｒは、例えば映像信号線ＳＬと同一の金属材料で形成されている。画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥは、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）等で形成された透明導電膜である。

半導体層ＳＣは、例えば低温又は高温ポリシリコン（ＬＴＰＳ ｏｒ ＨＴＰＳ：Ｌｏｗ ｏｒ Ｈｉｇｈ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｐｏｌｙ Ｓｉｌｉｃｏｎ）で形成されている。第１乃至第３及び第５絶縁層１１，１２，１３，１５は、シリコン酸化物、シリコン窒化物又はアルミナ等の無機絶縁層である。

第４絶縁層１４は、例えばアクリル樹脂等の感光性樹脂で形成された有機絶縁層である。第４絶縁層１４は、薄膜トランジスタの凹凸を平坦化する機能を有し、第１乃至第３及び第５絶縁層１１，１２，１３，１５や第１配向膜ＡＬ１よりも厚く形成されている。第４絶縁層１４は、平坦化膜の一例である。

第２基板ＳＵＢ２は、図１に示された遮光層２１に加え、第２可撓性基材２０と、カラーフィルタ層２２と、オーバーコート層２３と、第２配向膜ＡＬ２と、を備えている。第２可撓性基材２０は、第１可撓性基材１０と同様の樹脂材料で形成されている。第２可撓性基材２０を基材とする第２基板ＳＵＢ２は、可撓性基板の一例である。

第２可撓性基材２０は、第１可撓性基材１０の第１面１０Ａに対向する第３面２０Ａと、第３面２０Ａとは反対側の第４面２０Ｂと、を有している。遮光層２１は、第２可撓性基材２０の第３面２０Ａに形成されている。カラーフィルタ層２２は、第３面２０Ａ及び遮光層２１を覆っている。カラーフィルタ層２２は、各々の副画素ＳＰＸに対応する色に着色されている。オーバーコート層２３は、カラーフィルタ層２２を覆っている。第２配向膜ＡＬ２は、オーバーコート層２３を覆っている。

液晶層ＬＣは、第１及び第２配向膜ＡＬ１，ＡＬ２の間に配置されている。第１及び第２配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は、画素電極ＰＥに電圧が印加されていない状態において、液晶層ＬＣの液晶分子を配向させる。第１及び第２配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は、例えばインクジェット印刷やフレキソ印刷等によって塗布されたポリイミド樹脂等である。

第１可撓性基材１０の第２面１０Ｂには、第１偏光板ＰＬ１が貼り付けられている。第２可撓性基材２０の第４面２０Ｂには、第２偏光板ＰＬ２が貼り付けられている。なお、偏光した光を照射する照明装置ＢＬを用いる場合、第１偏光板ＰＬ１を省略してもよい。

第１基板ＳＵＢ１には、図１に示された第１及び第３スペーサ１，３、すなわち第１Ａ、第１Ｂ、第３Ａ及び第３Ｂスペーサ１Ａ，１Ｂ，３Ａ，３Ｂが形成されている。第２基板ＳＵＢ２には、図１に示された第２及び第４スペーサ２，４、すなわち第２Ａ、第２Ｂ、第４Ａ及び第４Ｂスペーサ２Ａ，２Ｂ，４Ａ，４Ｂが形成されている。

第１Ｂ、第３Ａ及び第３Ｂスペーサ１Ｂ，３Ａ，３Ｂは、第１Ａスペーサ１Ａと略同一の形状及び機能を有している。そのため、代表して第１Ａスペーサ１Ａを詳しく説明し、第１Ｂ、第３Ａ及び第３Ｂスペーサ１Ｂ，３Ａ，３Ｂについては重複する説明を省略する。同様に、第２Ｂ、第４Ａ及び第４Ｂスペーサ２Ｂ，４Ａ，４Ｂは、第２Ａスペーサ２Ａと略同一の形状及び機能を有している。そのため、代表して第２Ａスペーサ２Ａを詳しく説明し、第２Ｂ、第４Ａ及び第４Ｂスペーサ２Ｂ，４Ａ，４Ｂについては重複する説明を省略する。

図３は、図１中のＦ３−Ｆ３線に沿う断面図である。図３に示すように、第１Ａスペーサ１Ａは、第５絶縁層１５の上に形成され、第１配向膜ＡＬ１に覆われている。第２Ａスペーサ２Ａは、オーバーコート層２３の上に形成され、第２配向膜ＡＬ２に覆われている。第１Ａ及び第２Ａスペーサ１Ａ，２Ａは、例えば感光性のアクリル樹脂等から形成されている。

第１実施形態及び後述する各実施形態の表示装置ＤＳＰは、第１Ａ及び第２Ａスペーサ１Ａ，２Ａが平面視において重畳しないことが特徴の一つである。互いに重畳しないように配置された第１Ａスペーサ１Ａの高さＺ１は、第２Ａスペーサ２Ａの高さＺ２によって制限されない。第１Ａ及び第２Ａスペーサ１Ａ，２Ａの高さＺ１，Ｚ２を、第１及び第２基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２の間隔であるセルギャップＺ０の範囲で自由に選択できる。

図３に示す例では、第１Ａスペーサ１Ａの高さＺ１は、セルギャップＺ０よりも低く且つセルギャップＺ０の１／２よりも高く形成されている。第２Ａスペーサ２Ａの高さＺ２は、セルギャップＺ０と略同一に形成されている。そのため、第１Ａスペーサ１Ａは、第２基板ＳＵＢ２に接していないのに対し、第２Ａスペーサ２Ａは、第１及び第２配向膜ＡＬ１，ＡＬ２を介して第１基板ＳＵＢ１に接している。なお、第１Ａスペーサ１Ａの高さＺ１をセルギャップＺ０と略同一に形成し、第２Ａスペーサ２Ａの高さＺ２をセルギャップＺ０よりも低く形成してもよい。

隣り合う第１Ａ及び第２Ａスペーサ１Ａ，２Ａの側面１Ａｓ，２Ａｓは、第１方向Ｘにおいて互いに対向している。第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して第１Ａ方向ＸＡに動いたとき、第１Ａスペーサ１Ａの側面１Ａｓが第２Ａスペーサ２Ａの側面２Ａｓに当接して第２基板ＳＵＢ２の移動を阻止する。

第２基板ＳＵＢ２のスペーサの先端に凹部を形成し、該凹部に重畳するように第１基板ＳＵＢ１にスペーサ（台座）を形成して、第２基板ＳＵＢ２のスペーサの側面を第１基板ＳＵＢ１のスペーサの側面に当接させて第２基板ＳＵＢ２の移動を阻止するような構成と比べて、第１実施形態の構成では、上下のスペーサの側面の接触面積を大きくできる。図３に示す例では、第１Ａスペーサ１Ａの側面１Ａｓが第２Ａスペーサ２Ａの側面２Ａｓに接触する接触面Ｚ１２は、セルギャップＺ０の１／２よりも幅広である。

図４は、図１に示された第１Ａ乃至第４Ｂスペーサ１Ａ，１Ｂ，２Ａ，２Ｂ，３Ａ，３Ｂ，４Ａ，４Ｂを模式的に示す平面図である。図４に示すように、複数の第１Ａ及び第１Ｂスペーサ１Ａ，１Ｂは、第１方向Ｘにそれぞれ配列され、複数の第３Ａ及び第３Ｂスペーサ３Ａ，３Ｂは、第２方向Ｙにそれぞれ配列されている。図４に示す例では、第１Ａ、第１Ｂ、第３Ａ及び第３Ｂスペーサ１Ａ，１Ｂ，３Ａ，３Ｂは、走査信号線ＧＬと映像信号線ＳＬとが交差する交差領域ＧＳに形成されている。なお、これらスペーサを交差領域ＧＳから離れた位置に形成してもよい。

第２Ａスペーサ２Ａは、各々の第１Ａスペーサ１Ａに隣接して一つずつ配置され、第２Ｂスペーサ２Ｂは、各々の第１Ｂスペーサ１Ｂに隣接して一つずつ配置されている。第４Ａスペーサ４Ａは、各々の第４Ａスペーサ４Ａに隣接して一つずつ配置され、第４Ｂスペーサ４Ｂは、各々の第４Ｂスペーサ４Ｂに隣接して一つずつ配置されている。

第１Ａスペーサ１Ａは、隣り合う第２Ａスペーサ２Ａに対して第１Ａ方向（左方向）ＸＡに位置している。同様に、第１Ｂスペーサ１Ｂは、隣り合う第２Ｂスペーサ２Ｂに対して第１Ｂ方向（右方向）ＸＢに位置し、第３Ａスペーサ３Ａは、隣り合う第４Ａスペーサ４Ａに対して第２Ａ方向（上方向）に位置し、第３Ｂスペーサ３Ｂは、隣り合う第４Ｂスペーサ４Ｂに対して第２Ｂ方向（下方向）に位置している。

以下の説明において、隣り合う一対の第１Ａ及び第２Ａスペーサ１Ａ，２Ａを第１セットＳ１と呼び、隣り合う一対の第３Ａ及び第４Ａスペーサ３Ａ，４Ａを第２セットＳ２と呼び、隣り合う一対の第１Ｂ，２Ｂスペーサを第３セットＳ３と呼び、隣り合う一対の第３Ｂ及び第４Ｂスペーサ３Ｂ，４Ｂを第４セットＳ４と呼ぶ。

第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４は、第１基板ＳＵＢ１に対する第２基板ＳＵＢ２の位置ずれを抑制するストッパの一例である。図３を参照して説明したように、第１セットＳ１を構成する第１Ａ及び第２Ａスペーサ１Ａ，２Ａの側面１Ａｓ，２Ａｓは、第１方向Ｘに互いに対向している。

同様に、第２セットＳ２を構成する第３Ａ及び第３Ａスペーサ３Ａ，４Ａの側面は、第２方向Ｙに互いに対向している。第３セットＳ３を構成する第１Ｂ及び第２Ｂスペーサ１Ｂ，２Ｂの側面は、第１方向Ｘに互いに対向している。第４セットＳ４を構成する第３Ｂ及び第３Ｂスペーサ３Ｂ，４Ｂの側面は、第２方向Ｙに互いに対向している。

図５乃至図７は、図４に示されたスペーサの配列パターンの他の一例を模式的に示す平面図である。図４に示す例では、左から３，６，９…３Ｎ番目の映像信号線ＳＬと走査信号線ＧＬとが交差する交差領域ＧＳに第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４が配列されていた。しかしながら、配列パターンはこれに限られない。

例えば、図５に示すように、第２方向ＹＢに進むに従って右隣り又は左隣りの映像信号線ＳＬにずらして第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を配列してもよい。例えば、図６に示すように、偶数番目及び奇数番目の映像信号線ＳＬに交互にずらして第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を配列してもよい。

例えば、図７に示すように、二本以下の映像信号線ＳＬ毎に第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を配列してもよいし、四本以上の映像信号線ＳＬ毎に第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を配列してもよい。種々の配列パターンを組み合わせることにより、表示装置ＤＳＰの用途や部位に応じて第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４の密度を調整できる。

第１実施形態では、図４乃至図７に示すように、第１方向Ｘの位置ずれを抑制する第１及び第３セットＳ１，Ｓ３の密度が、第２方向Ｙの位置ずれを抑制する第２及び第４セットＳ２，Ｓ４の密度よりも高くなるように第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４が配列されている。

以上のように構成された第１実施形態の表示装置ＤＳＰは、第１及び第２基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２にそれぞれスペーサが形成されている。第１基板ＳＵＢ１に形成されたスペーサ（１Ａ，１Ｂ，３Ａ，３Ｂ）と、第２基板ＳＵＢ２に形成されたスペーサ（２Ａ，２Ｂ，４Ａ，４Ｂ）とは、平面視において重畳しないように隣接して配置され、第１基板ＳＵＢ１に対する第２基板ＳＵＢ２の位置ずれを抑制するストッパすなわち第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を構成している。

第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して第１Ａ方向ＸＡに動いたとき、図１に示すように、第１セットＳ１を構成する第１Ａスペーサ１Ａの側面１Ａｓが第２Ａスペーサ２Ａの側面２Ａｓに当接して第２基板ＳＵＢ２の移動が阻止される。第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して逆方向の第１Ｂ方向ＸＢに動いたとき、第３セットＳ３を構成する第１Ｂスペーサ１Ｂの側面が第２Ｂスペーサ２Ｂの側面に当接して第２基板ＳＵＢ２の移動が阻止される。

第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して第２Ａ方向ＹＡに動いたとき、第２セットＳ２を構成する第３Ａスペーサ３Ａの側面が第４Ａスペーサ４Ａの側面に当接して第２基板ＳＵＢ２の移動が阻止される。第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して逆方向の第２Ｂ方向ＹＢに動いたとき、第４セットＳ４を構成する第２Ｂスペーサ３Ｂの側面が第４Ｂスペーサ４Ｂの側面に当接して第２基板ＳＵＢ２の移動が阻止される。

第１実施形態によれば、第１Ａ、第１Ｂ、第２Ａ及び第２Ｂのいずれの方向に第２基板ＳＵＢ２が動いても、第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を構成するスペーサによって第２基板ＳＵＢ２の移動を阻止できる。第１基板ＳＵＢ１に対する第２基板ＳＵＢ２の位置ずれをより効果的に抑制して混色等の発生を抑制できる。

ストッパを構成する一対のスペーサは、平面視において重畳しないように配置されている。一方のスペーサの高さは、他方のスペーサの高さによって制限されていない。第１及び第２基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２のスペーサの高さをそれぞれ自由に設計できるため、位置ずれを抑制するために十分な高さにスペーサを形成できる。

位置ずれに合わせて遮光層２１を大きく形成すると、照明装置ＢＬから照射された光が遮光層２１に遮られて表示面が暗くなる。第１実施形態は、位置ずれを効果的に抑制できるため、遮光層２１のサイズを小さくできる。照明装置ＢＬから照射される光をより有効に利用して消費電力を節約できる。

図１に示すように、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）に対応する副画素ＳＰＸが第２方向Ｙに延在し、第１方向Ｘに配列された表示装置ＤＳＰでは、第２方向Ｙよりも第１方向Ｘの位置ずれが混色等の発生に大きく影響する。第１実施形態では、図４に示すように、第１方向Ｘの位置ずれを抑制する第１及び第３セットＳ１，Ｓ３の密度が、第２方向Ｙの位置ずれを抑制する第２及び第４セットＳ２，Ｓ４の密度よりも高くなるように第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４が配列されている。このような配列パターンによれば、第１方向Ｘの位置ずれを効果的に抑制できる。その他、第１実施形態からは、種々の好適な効果を得ることができる。

次に図８乃至図１９を参照して、第２乃至第９実施形態の表示装置ＤＳＰについて説明する。なお、第１実施形態の構成と同一又は類似の機能を有する構成は、同一の符号を付して対応する第１実施形態の記載を参酌することとし、ここでの説明を省略する。また、その他の構成は、第１実施形態と同一である。

［第２実施形態］
図８は、第２実施形態の表示装置ＤＳＰの概略的な構成を示す平面図である。第２実施形態は、第１Ａ乃至第４Ｂスペーサ１Ａ，１Ｂ，２Ａ，２Ｂ，３Ａ，３Ｂ，４Ａ，４Ｂに代えて、第１Ｃ及び第４Ｄスペーサ１Ｃ，１Ｄ，２Ｃ，２Ｄ，３Ｃ，３Ｄ，４Ｃ，４Ｄが形成されている点が第１実施形態と異なる。

第３Ｃ及び第４Ｄスペーサ３Ｃ，３Ｄ，４Ｃ，４Ｄの側面は、第１及び第２方向Ｘ，Ｙと同一平面上にあって、該第１及び第２方向Ｘ，Ｙに交差する第４方向Ｖに延在している。第１Ｃ及び第２Ｄスペーサ１Ｃ，１Ｄ，２Ｃ，２Ｄの側面は、第１，第２及び第４方向Ｘ，Ｙ，Ｖと同一平面上にあって、該第１，第２及び第４方向Ｘ，Ｙ，Ｖに交差する第５方向Ｗに延在している。

第４及び第５方向Ｖ，Ｗは、図３に示された第３方向（厚み方向）Ｚに直交している。図８に示す例では、第４方向Ｖが第１方向Ｘに対して反時計回りに４５°傾いており、第５方向Ｗが第２方向Ｙに対して反時計回りに４５°傾いている。なお、第１方向Ｘに対する第４方向Ｖの傾きや、第２方向Ｙに対する第５方向Ｗの傾きは任意であってこれに限られない。

第４方向Ｖは、第４Ａ方向ＶＡと、第４Ｂ方向ＶＢと、を含んでいる。図８に示す例では、第４Ａ方向ＹＡが左下方向であり、第４Ｂ方向が右上方向である。同様に、第５方向Ｗは、第５Ａ方向ＷＡと、第５Ｂ方向ＷＢと、を含んでいる。図８に示す例では、第５Ａ方向ＷＡが左上方向であり、第５Ｂ方向ＷＢが右下方向である。

交差領域ＧＳにおいて、第５方向Ｗに延在する第１Ｃスペーサ１Ｃは、隣り合う第２Ｃスペーサ２Ｃに対して第４Ａ方向（左下方向）ＶＡに位置している。つまり、第１Ｃ及び第２Ｃスペーサ１Ｃの側面１Ｃｓ，１Ｃｓは、第１方向Ｘにおいて重畳するとともに、第２方向Ｙにおいて重畳している。

同様に、交差領域ＧＳにおいて、第１Ｄスペーサ１Ｄは、隣り合う第２Ｄスペーサ２Ｄに対して第４Ｂ方向（右上方向）ＶＢに位置し、第３Ｃスペーサ２Ａは、隣り合う第４Ｃスペーサ４Ａに対して第５Ａ方向（左上方向）に位置し、第３Ｄスペーサ３Ｄは、隣り合う第４Ｄスペーサ４Ｄに対して第５Ｂ方向（右下方向）に位置している。隣り合うスペーサの側面は、第１方向Ｘにおいて重畳するとともに、第２方向Ｙにおいて重畳している。

以下の説明において、隣り合う一対の第１Ｃ及び第２Ｃスペーサ１Ｃ，２Ｃを第５セットＳ５と呼び、隣り合う一対の第３Ｃ及び第４Ｃスペーサ３Ｃ，４Ｃを第６セットＳ６と呼び、隣り合う一対の第１Ｄ，２Ｄスペーサを第７セットＳ７と呼び、隣り合う一対の第３Ｄ及び第４Ｄスペーサ３Ｄ，４Ｄを第８セットＳ８と呼ぶ。

第５乃至第８セットＳ５，Ｓ６，Ｓ７，Ｓ８は、平面視において略矩形に形成されており、第１乃至第４コーナー（四隅）Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４をそれぞれ有している。第５セットＳ５において、一方の対角である第１及び第３コーナーＣ１，Ｃ３は、第１方向Ｘに並んで配置され、走査信号線ＧＬに沿って延在する遮光層２１に平面視において重畳している。

他方の対角である第２及び第４コーナーＣ２，Ｃ４は、第２方向Ｙに並んで配置され、映像信号線ＳＬに沿って延在する遮光層２１に平面視において重畳している。図８に示す例では、第２及び第４コーナーＣ２，Ｃ４が、映像信号線ＳＬに平面視において重畳している。

同様に、第６乃至８セットＳ６，Ｓ７，Ｓ８において、一方の対角は、第１方向Ｘに並んで配置され、走査信号線ＧＬに沿って延在する遮光層２１に平面視において重畳している。他方の対角は、第２方向Ｙに並んで配置され、映像信号線ＳＬに沿って延在する遮光層２１に平面視において重畳している。

図８に示すように、第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して第１Ａ方向ＸＡに動いたとき、第１Ｃスペーサ１Ｃの側面１Ｃｓが第２Ｃスペーサ２Ｃの側面２Ｃｓに当接するとともに、第３Ｃスペーサ３Ｃの側面が第４Ｃスペーサ４Ｃの側面に当接して第２基板ＳＵＢ２の移動が阻止される。第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して逆方向の第１Ｂ方向ＸＢに動いたとき、第１Ｄスペーサ１Ｄの側面が第２Ｄスペーサ２Ｄの側面に当接するとともに、第３Ｄスペーサ３Ｄの側面が第４Ｄスペーサ４Ｄの側面に当接して第２基板ＳＵＢ２の移動が阻止される。

第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して第２Ａ方向ＹＡに動いたとき、第１Ｄスペーサ１Ｄの側面が第２Ｄスペーサ２Ｄの側面に当接するとともに、第３Ｃスペーサ３Ｃの側面が第４Ｃスペーサ４Ｃの側面に当接して第２基板ＳＵＢ２の移動が阻止される。第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して逆方向の第２Ｂ方向ＹＢに動いたとき、第１Ｃスペーサ１Ｃの側面が第２Ｃスペーサ２Ｃの側面に当接するとともに、第３Ｄスペーサ３Ｄの側面が第４Ｄスペーサ４Ｄの側面に当接して第２基板ＳＵＢ２の移動が阻止される。

第２実施形態によれば、第１実施形態と同様に、第１Ａ、第１Ｂ、第２Ａ及び第２Ｂのいずれの方向に第２基板ＳＵＢ２が動いても、第１Ｃ乃至第４Ｄスペーサ１Ｃ，１Ｄ，２Ｃ，２Ｄ，３Ｃ，３Ｄを構成するスペーサによって第２基板ＳＵＢ２の移動を阻止し、第１基板ＳＵＢ１に対する第２基板ＳＵＢ２の位置ずれを効果的に抑制できる。

第２実施形態は、第５乃至第８セットＳ５，Ｓ６，Ｓ７，Ｓ８の四隅Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４が映像信号線ＳＬ又は走査信号線ＧＬに沿って延在する遮光層２１に平面視において重畳するように配置されている。スペーサを覆うために形成する遮光層２１の大部分に映像信号線ＳＬ及び走査信号線ＧＬに沿って延在する遮光層２１を利用できるため、表示装置ＤＳＰ全体として遮光層２１のサイズを小さくできる。照明装置ＢＬから照射される光をより有効に利用して消費電力を節約できる。

［第３実施形態］
図９は、第３実施形態の表示装置ＤＳＰの概略的な構成を示す平面図である。第３実施形態は、画素ＰＸが白色（Ｗ）の副画素ＳＰＸをさらに含み、第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４が赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸを避けて、白色（Ｗ）の副画素ＳＰＸの端部に重畳するように配置されている点が第１実施形態と異なる。

図９に示す例では、画素ＰＸは、二つの赤色（Ｒ）の副画素ＳＰＸと、二つの緑色（Ｇ）の副画素ＳＰＸと、一つの青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸと、一つの白色（Ｗ）の副画素ＳＰＸと、を含んでいる。なお、画素ＰＸに含まれる副画素ＳＰＸの組み合わせはこれに限られない。

赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）及び白色（Ｗ）すべての色の副画素ＳＰＸが一つずつでもよいし、青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸが二つ以上であってもよいし、赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ）の副画素ＳＰＸが三つ以上であってもよい。青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸは、緑色（Ｇ）や赤色（Ｒ）の副画素ＳＰＸと比べて視覚認度が低い。好ましくは、図９に示すように、緑色（Ｇ）や赤色（Ｒ）の副画素ＳＰＸは、青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸと同数か、それ以上がよい。

第３実施形態によれば、第１実施形態と同様に、第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を構成するスペーサによって第２基板ＳＵＢ２の移動を阻止し、第１基板ＳＵＢ１に対する第２基板ＳＵＢ２の位置ずれを効果的に抑制できる。さらに、第３実施形態は、白色（Ｗ）の副画素ＳＰＸを含んでいるため、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸで生成していた白色成分を白色（Ｗ）の副画素ＳＰＸに置き換えて表示できる。

白色（Ｗ）の副画素ＳＰＸは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸよりも光の透過率が高いため、照明装置ＢＬから表示パネルＰＮＬに照射される光を効率的に利用できる。第３実施形態によれば、同じ画面輝度であれば、照明装置ＢＬの消費電力を低減でき、同じ消費電力であれば、画面輝度を高めて視認性を向上できる。

しかるに、白色成分だけでなくすべての色を表現する赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸが遮光層２１に隠れて小さくなりすぎると、色合わせのバランスが崩れるおそれがある。第３実施形態では、平面視において、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸに重畳せず、白色（Ｗ）の副画素ＳＰＸに重畳するように、第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を覆う遮光層２１を形成している。

第３実施形態によれば、第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を形成しても、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の副画素ＳＰＸが遮光層２１に隠れて小さくならない。色合わせのバランスや画面輝度を維持しつつ、さらに基板間の位置ずれを抑制できる。

［第４実施形態］
図１０は、第４実施形態の表示装置ＤＳＰの概略的な構成を示す平面図である。第４実施形態は、第１及び第２スペーサ１，２の一部又はすべてが第５及び第６スペーサ５，６に置き換わっており、第３及び第４スペーサ３，４の一部又はすべてが第７及び第８スペーサ７，８に置き換わっている点が第１実施形態と異なる。

第５及び第７スペーサ５，７は、第１基板ＳＵＢ１に形成されている。第６及び第８スペーサ６，８は、第２基板ＳＵＢ２に形成されている。第５及び第６スペーサ５，６は、第１及び第２スペーサ１，２と同様に、平面視において重畳しないことが特徴の一つである。第７及び第８スペーサ７，８は、第３及び第４スペーサ３，４と同様に、平面視において重畳しないことが特徴の一つである。

第５スペーサ５は、第５Ａ及び第５Ｂスペーサ５Ａ，５Ｂを含み、第６スペーサ６は、第６Ａ及び第６Ｂスペーサ６Ａ，６Ｂを含み、第７スペーサ７は、第７Ａ及び第７Ｂスペーサ７Ａ，７Ｂを含み、第８スペーサ８は、第８Ａ及び第８Ｂスペーサ８Ａ，８Ｂを含んでいる。

図１１は、図１０中のＦ８−Ｆ８線に沿う断面図である。第５Ａスペーサ５Ａは、図３に示された第１Ａスペーサ１Ａと略同一の形状及び機能を有し、該第１Ａスペーサ１Ａと同様に配列されている。第６Ａスペーサ６Ａは、高さＺ６を除いて図３に示された第２Ａスペーサ２Ａと略同一の形状及び機能を有し、該第２Ａスペーサ２Ａと同様に配列されている。

図１０に示された第５Ｂ、第７Ａ及び第７Ｂスペーサ５Ｂ，７Ａ，７Ｂは、図１１に示された第５Ａスペーサ５Ａと略同一の形状及び機能をそれぞれ有し、第６Ｂ、第８Ａ及び第８Ｂスペーサ６Ｂ，８Ａ，８Ｂは、第６Ａスペーサ６Ａと略同一の形状及び機能をそれぞれ有している。第５Ｂスペーサ５Ｂは、図１に示された第１Ｂスペーサ１Ｂと同様に配列され、第６Ｂスペーサ６Ｂは、第２Ｂスペーサ１Ｂと同様に配列され、第７Ａスペーサ７Ａは、第３Ａスペーサ３Ａと同様に配列され、第７Ｂスペーサ７Ｂは、第３Ｂスペーサ３Ｂと同様に配列され、第８Ａスペーサ８Ａは、第８Ａスペーサ８Ａと同様に配列され、第８Ｂスペーサ８Ｂは、第８Ｂスペーサ８Ｂと同様に配列されている。

そのため、代表して第５Ａ及び６Ａスペーサ５Ａ，６Ａを詳しく説明し、第５Ｂ、第６Ｂ、第７Ａ、第７Ｂ、第８Ａ及び第８Ｂスペーサ５Ｂ，６Ｂ，７Ａ，７Ｂ，８Ａ，８Ｂについては重複する説明を省略する。図１１に示すように、第５Ａスペーサ５Ａは、第２基板ＳＵＢ２に接しておらず、第６Ａスペーサ６Ａは、第１基板ＳＵＢ１に接していない。

第５Ａスペーサ５Ａ及び第６Ａスペーサ６Ａのうちの少なくとも一方は、第１及び第２基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２のセルギャップＺ０の１／２よりも高く形成されており、第５Ａ及び第６Ａスペーサ５Ａ，６Ａの側面５Ａｓ，６Ａｓは、第１方向Ｘにおいて互いに対向している。第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して第１Ａ方向ＸＡに動いたとき、第５Ａスペーサ５Ａの側面５Ａｓが第６Ａスペーサ６Ａの側面６Ａｓに当接して第２基板ＳＵＢ２の移動を阻止する。

第２基板ＳＵＢ２は、薄膜トランジスタが形成される第１基板ＳＵＢ１よりも平坦であるため、スペーサの高さを調整しやすい。図１１に示す例では、第５Ａスペーサ５Ａが、セルギャップＺ０の１／２よりも高く形成されており、第２基板ＳＵＢ２に形成された第６Ａスペーサ６Ａが、第１基板ＳＵＢ１に形成された第５Ａスペーサ５Ａよりもさらに高く形成されている。

互いに重畳しないように配置された第５Ａスペーサ５Ａの高さＺ５は、第６Ａスペーサ６Ａの高さＺ６によって制限されない。第４実施形態によれば、第２基板ＳＵＢ２のスペーサの先端に凹部を形成し、該凹部に重畳するように第１基板ＳＵＢ１にスペーサ（台座）を形成するような構成と比べて、上下のスペーサの側面の接触面積を大きくできる。図１１に示す例では、第５Ａスペーサ５Ａの側面５Ａｓが第６Ａスペーサ６Ａの側面６Ａｓに接触する接触面Ｚ５６は、セルギャップＺ０の１／４よりも幅広である。

第４実施形態は、第５、第６、第７及び第８スペーサ５，６，７，８によって基板間の位置ずれを抑制できる。位置ずれを抑制していても過大な外力を加えられた場合には第２基板ＳＵＢ２に形成されたスペーサが第１基板ＳＵＢ１に形成されたスペーサに乗り上げるおそれがある。セルギャップＺ０と略同一の高さＺ２を有した第２スペーサ２が第１スペーサ１に乗り上げると、局所的にセルギャップＺ０が大きく変化して表示品位が低下してしまう。

第４実施形態では、第２及び第４スペーサ２，４の少なくとも一部を第２及び第４スペーサ２，４よりも低い第６及び第８スペーサ６，８に置き換えている。万が一、第２基板ＳＵＢ２に形成されたスペーサが第１基板ＳＵＢ１に形成されたスペーサに乗り上げたとしても、セルギャップＺ０の変化を小さくして表示品位の低下を目立たせなくすることができる。

［第５実施形態］
図１２は、第５実施形態の表示装置ＤＳＰの概略的な構成を示す平面図である。第５実施形態は、第３及び第４スペーサ３，４の一部が第９スペーサ９に置き換わっており、第３及び第４スペーサ３，４の残余が第７及び第８スペーサ７，８に置き換わっており、第１及び第２スペーサ１，２のすべてが第５及び第６スペーサ５，６に置き換わっている点が第１実施形態と異なる。つまり、第５実施形態には、第１乃至第４スペーサ１，２，３，４が一切形成されていない。

図１３は、図１２中のＦ１３−Ｆ１３線に沿う断面図である。図１３に示すように、第９スペーサ９の高さＺ９は、セルギャップＺ０と略同一に形成されている。図１３に示す例では、第９スペーサ９が第２基板ＳＵＢ２に形成され、第１及び第２配向膜ＡＬ１，ＡＬ２を介して第１基板ＳＵＢ１に接している。なお、第９スペーサ９と対向する第１基板ＳＵＢ１の表面は、映像信号線ＳＬ、他の金属配線又は第５絶縁層１５等により、他の表面に比べて隆起している。

なお、第９スペーサ９は、第１基板ＳＵＢ１に形成してもよいし、平面視において重畳するように第１及び第２基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２にそれぞれ形成してもよい。第９スペーサ９を二分割で形成する場合、第１基板ＳＵＢ１に形成された一方の第９スペーサ９と第２基板ＳＵＢ２に形成された他方の第９スペーサ９とを合算した高さＺ９がセルギャップＺ０と略同一であればよい。第９スペーサ９は、セルギャップＺ０を一定に保持する従来のスペーサの一例である。

第５実施形態は、第４実施形態と同様に、第５乃至第６スペーサ４，５，６，７によって第１基板ＳＵＢ１に対する第２基板ＳＵＢ２の位置ずれを抑制できる。第５実施形態には、第１乃至第４スペーサ１，２，３，４が存在しないため、第１スペーサ１に第２スペーサ２が乗り上げたり、第３スペーサ３に第４スペーサ４が乗り上げたりしてセルギャップＺ０が変化するおそれがない。なお、セルギャップＺ０は、第２又は第４スペーサ２，４ではなく、第９スペーサ９によって一定に保持されている。

［第６実施形態］
図１４は、第６実施形態の表示装置ＤＳＰの概略的な構成を示す斜視図である。第６実施形態は、第１Ａ方向ＸＡの端部領域（左端領域）Ａ１と、第１Ｂ方向ＸＢの端部領域（右端領域）Ａ２と、端部領域Ａ１，Ａ２の間の中央領域Ａ３において、第１及び第３セットＳ１，Ｓ３の密度をそれぞれ変化させてスペーサを配列している点が第１実施形態と異なる。

図１４に示すように、表示面が凸になるように端部領域Ａ１，Ａ２を湾曲させると、第２基板ＳＵＢ２が引っ張られ、第１基板ＳＵＢ１が圧縮される。第１Ａ方向ＸＡの端部領域Ａ１では、可撓性基板である第２基板ＳＵＢ２の復元力によって、第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して第１Ｂ方向ＸＢに移動しようとするせん断応力が生じる。同様に、第１Ｂ方向ＸＢの端部領域Ａ２では、第２基板ＳＵＢ２が第１基板ＳＵＢ１に対して第１Ａ方向ＸＡに移動しようとするせん断応力が生じる。つまり、端部領域Ａ１，Ａ２では、せん断応力が生じる向きが逆方向になる。

図１５は、端部領域Ａ１，Ａ２及び中央領域Ａ３における第１及び第３セットＳ１，Ｓ３の密度を模式的に示す平面図である。図１５に示すように、第６実施形態では、第２基板ＳＵＢ２が第１Ｂ方向ＸＢに移動しようとする端部領域Ａ１において、第２基板ＳＵＢ２の第１Ｂ方向ＸＢへの動きを抑制する第３セットＳ３の密度が、逆方向の動きを抑制する第１セットＳ１の密度よりも高くなるように第１及び第３セットＳ１，Ｓ３が配列されている。

これに対し、第２基板ＳＵＢ２が第１Ａ方向ＸＡに移動しようとする端部領域Ａ２では、第２基板ＳＵＢ２の第１Ａ方向ＸＡへの動きを抑制する第１セットＳ１の密度が、逆方向の動きを抑制する第３セットＳ３の密度よりも高くなるように第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４が配列されている。

なお、端部領域Ａ１，Ａ２の間の中央領域Ａ３では、第１及び第３セットＳ１，Ｓ３の密度が略同一になるように第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４が配列されている。そのため、第１セットＳ１の密度は、中央領域Ａ３よりも第１Ｂ方向の端部領域Ａ３の方が高くなり、第３セットＳ３の密度は、中央領域Ａ３よりも第１Ａ方向の端部領域Ａ１の方が高くなる。

第６実施形態によれば、第２基板ＳＵＢ２が移動しようとする方向に合わせて、その動きを抑制するストッパが多くなるように配置パターンを偏らせているため、第１及び第３セットＳ１，Ｓ３が半々になるように配置した場合と比べて、より大きな力に耐えることができる。端部領域Ａ１，Ａ３の湾曲が大きくなっても第２基板ＳＵＢ２の位置ずれを効果的に抑制できる。

［第７実施形態］
図１６は、第７実施形態の表示装置ＤＳＰの概略的な構成を示す平面図である。第７実施形態は、例えばヘッドマウントディスプレイ等に用いられる高精細の表示装置である。図１６に示す例では、第４実施形態と同様に、第１乃至第４スペーサ１，２，３，４と第５乃至第８スペーサ５，６，７，８とが混在している。

図１６に示す例では、映像信号線ＳＬが、屈曲しておらず第２方向Ｙに平行な一直線に延在している。映像信号線ＳＬが一直線であれば、映像信号線ＳＬを覆う遮光層２１を幅狭に形成できる。なお、画素電極ＰＥの延在方向ＹＰ１，ＹＰ２は、第２方向Ｙに対して僅かに傾いてもよいし、第２方向Ｙに平行でもよい。

共通電極ＣＥは、副画素ＳＰＸにおいてスリットＯＰを有している。画素電極ＰＥは、スリットＯＰに延出している。走査信号線ＧＬは、映像信号線ＳＬよりも幅広に形成されている。そのため、走査信号線ＧＬに沿って延在する遮光層２１は、映像信号線ＳＬに沿って延在する遮光層２１よりも幅広である。

高精細になるに従って副画素ＳＰＸは小さくなる。副画素ＳＰＸに合わせてスペーサも小さく形成したいが、露光精度には限界がある。例えば画素数が１０００ｐｐｉ以上において、スペーサを幅方向にそれ以上に狭くできなくなったとき、延在方向の長さしか調整できなくなる。

図１６に示す例では、第１方向Ｘに延在する第３、第４、第７及び第８スペーサ３，４，７，８は、走査信号線ＧＬに沿って延在する遮光層２１に重畳するように配置されている。これに対し、第２方向Ｙに延在する第５及び第６スペーサ５，６は、映像信号線ＳＬに沿って延在する遮光層２１から大きくはみ出してしまうため、第１方向Ｘにおいて副画素ＳＰＸの略中央に移動され、該副画素ＳＰＸの端部に平面視において重畳している。

走査信号線ＧＬに沿って延在する第３、第４、第７及び第８スペーサ３，４，７，８であれば、延在方向にスペーサが長くなっても、長くなったスペーサを覆うために形成する遮光層２１の大部分に走査信号線ＧＬに沿って延在する遮光層２１を利用できる。これらスペーサを覆う遮光層２１によって副画素ＳＰＸが隠れてしまう面積が小さい。

これに対し、副画素ＳＰＸの端部に平面視において重畳するように配置された第５及び第６スペーサ５，６では、延在方向にスペーサが長くなると、第５及び第６スペーサ５，６を覆う遮光層２１に副画素ＳＰＸの端部が隠れてしまう面積が大きい。第５及び第６スペーサ５，６の長さＹ，Ｙ６は、副画素ＳＰＸの形状に大きく影響するため、図１７に示す例では、第２方向Ｙに延在する第５スペーサ５や第６スペーサ６の長さＹ５，Ｙ６を、第１方向Ｘに延在する第７スペーサ７や第８スペーサ８の長さＸ７，Ｘ８よりも短く形成している。

図１７は、図１６中のＦ１３−Ｆ１３線に沿う断面図である。図１７に示す例では、第５絶縁層１５の下に画素電極ＰＥが形成され、第５絶縁層１５の上に共通電極ＣＥが形成されている。スペーサを形成する材料は、例えば感光性のアクリル樹脂等であり、層間絶縁膜である第５絶縁層１５との密着性が低い。第７実施形態では、第５絶縁層１５よりもスペーサの材料との密着性に優れた透明導電膜である共通電極ＣＥに接するようにスペーサを形成している。

第７実施形態によれば、第１実施形態と同様に、各種スペーサによって第１基板ＳＵＢ１に対する第２基板ＳＵＢ２の位置ずれを抑制できる。高精細になるに従ってこれらのスペーサも小さくなる。スペーサのサイズが小さくなって下地との接触面積が小さくなると過大な外力が加えられたときにスペーサが剥離するおそれがある。第７実施形態では、スペーサが小さくなっても、密着性に優れた透明導電膜の上にスペーサを形成しており強固に密着させることができる。

露光精度の限界からスペーサの幅をそれ以上小さくできなくなったとき、第７実施形態では、第１方向Ｘに延在する第７及び第８スペーサ７，８の長さＸ７，Ｘ８を第２方向Ｙに延在する第５及び第６スペーサ５，６の長さＹ５，Ｙ６よりも短く形成している。第７実施形態によれば、スペーサの遮光層２１によって隠れてしまう副画素ＳＰＸの面積を最小限に抑えて、画面輝度を犠牲にせずに位置ずれを抑制できる。

［第８実施形態］
図１８は、第８実施形態の表示装置ＤＳＰの概略的な構成を示す平面図である。第８実施形態は、第５実施形態と同様に、第１乃至第４スペーサ１，２，３，４が一切形成されていない。その他の構成は、第７実施形態と同様である。第８実施形態は、第７実施形態と同様に、第５乃至第６スペーサ４，５，６，７によって第１基板ＳＵＢ１に対する第２基板ＳＵＢ２の位置ずれを抑制できる。

過大な外力を加えられた場合には第２基板ＳＵＢ２に形成されたスペーサが第１基板ＳＵＢ１に形成されたスペーサに乗り上げるおそれがある。セルギャップＺ０と略同一の高さＺ２を有した第２スペーサ２が第１スペーサ１に乗り上げると、局所的にセルギャップＺ０が大きく変化して表示品位が低下してしまう。

第８実施形態には、第１乃至第４スペーサ１，２，３，４が存在しないため、第２スペーサ２が第１スペーサ１に乗り上げてしまうおそれがない。同様に、第４スペーサ４が第３スペーサ３に乗り上げてしまうおそれもない。第８実施形態では、万が一、第２基板ＳＵＢ２に形成されたスペーサが第１基板ＳＵＢ１に形成されたスペーサに乗り上げたとしても、セルギャップＺ０の変化を小さくして表示品位の低下を目立たせなくすることができる。

副画素ＳＰＸが小さくなると、第４絶縁層１４等の平坦化膜の厚みも薄くなる。平坦化膜が薄くなると、映像信号線ＳＬの隆起を完全には平坦にできなくなる。第９スペーサ９が映像信号線ＳＬに当接してセルギャップＺ０を保持する構成では、隆起した映像信号線ＳＬから第９スペーサ９が滑り落ちると、セルギャップＺ０が変化するおそれがある。

第８実施形態では、第９スペーサ９が、映像信号線ＳＬに交差する第１方向Ｘに延在している。第９スペーサ９が第１方向Ｘに長ければ、第２基板ＳＵＢ２が第１方向Ｘに僅かに位置ずれしても第９スペーサ９が映像信号線ＳＬから滑り落ちるおそれを小さくできる。

［第９実施形態］
図１９は、第９実施形態の表示装置ＤＳＰの概略的な構成を示す断面図である。第９実施形態の表示装置ＤＳＰは、第４絶縁層１４等の平坦化膜に凹凸を形成して第１基板ＳＵＢ１のスペーサ（第１、第３、第５及び第７スペーサ１，３，５，７等）として構成する点が第１実施形態と異なる。

第４絶縁層１４に凹凸を形成するには、例えば、ハーフトーン処理等のマルチトーン処理によって第４絶縁層１４の厚みを部位毎に調整すればよい。マルチトーン処理されていない部位１４Ｈにおける第４絶縁層１４の厚みは、例えば３μｍである。ハーフトーン処理された部位１４Ｌにおける第４絶縁層１４の厚みは、例えば１．５μｍである。第９実施形態によれば、第１実施形態と同様に、各種スペーサによって第１基板ＳＵＢ１に対する第２基板ＳＵＢ２の位置ずれを抑制できる。さらに、第９実施形態では、第１基板ＳＵＢ１にスペーサを積層する工程を省略できる。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。各実施形態にて開示した構成は、適宜に組み合わせることができる。

例えば、図１や図１６において、半導体層ＳＣが走査信号線ＧＬと二回交差するダブルゲート型のスイッチング素子の一例を示しているが、スイッチング素子はシングルゲート型であってもよい。例えば、図２や図１７において、共通電極ＣＥを第１基板ＳＵＢ１に設ける一例を示しているが、共通電極ＣＥを第２基板ＳＵＢ２に設けてもよい。

例えば、第６実施形態において、第１Ａ及び第１Ｂ方向の端部領域ではなく、第２Ａ及び第２Ｂ方向の端部領域を湾曲させてもよい。その場合、第２Ａ方向の端部領域において第４セットＳ４の密度が第２セットＳ２の密度よりも高くなるように第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を配列し、第２Ｂ方向の端部領域において第２セットＳ２の密度が第４セットＳ４の密度よりも高くなるように第１乃至第４セットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を配列すればよい。

１Ａ…第１Ａスペーサ、１Ａｓ…第１Ａスペーサの側面、１Ｂ…第１Ｂスペーサ、２Ａ…第２Ａスペーサ、２Ａｓ…第２Ａスペーサの側面、２Ｂ…第２Ｂスペーサ、３Ａ…第３Ａスペーサ、３Ｂ…第３Ｂスペーサ、４Ａ…第４Ａスペーサ、４Ｂ…第４Ｂスペーサ、５，５Ａ，５Ｂ…第５スペーサ、６，６Ａ，６Ｂ…第６スペーサ、ＣＥ…共通電極（透明導電膜の一例）、ＤＡ…表示領域、ＤＳＰ…表示装置、ＧＬ…走査信号線、ＰＥ…画素電極、Ｓ１…第１セット、Ｓ２…第２セット、Ｓ３…第３セット、ＳＬ…映像信号線、ＳＵＢ１…第１基板、ＳＵＢ１Ａ…第１基板の第１Ａ方向の端部領域、ＳＵＢ１Ｃ…第１基板の中央領域、ＳＵＢ１Ｂ…第１基板の第１Ｂ方向の端部領域、ＳＵＢ２…第２基板、Ｘ…第１方向、ＸＡ…第１Ａ方向、ＸＢ…第１Ｂ方向、Ｙ…第２方向、ＹＡ…第２Ａ方向、ＹＢ…第２Ｂ方向。

Claims (13)

1. 第１基板にある第１Ａスペーサ及び第３Ａスペーサと、
   前記第１基板に対向する第２基板にある第２Ａスペーサ及び第４Ａスペーサと、を備え、
   前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方は、可撓性基板であり、
   前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサは、平面視において第１方向に配列し、
   前記第３Ａスペーサ及び前記第４Ａスペーサは、平面視において前記第１方向と交差する第２方向に配列し、
   前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサの側面は、前記第１方向において対向し、
   前記第３Ａスペーサ及び前記第４Ａスペーサの側面は、前記第２方向において対向している表示装置。
2. 前記第１基板にある第１Ｂスペーサと、
   前記第２基板にある第２Ｂスペーサと、をさらに備え、
   前記第１Ｂスペーサ及び前記第２Ｂスペーサは、平面視において前記第１方向に配列し、
   前記第１方向は、第１Ａ方向と、該第１Ａ方向とは逆方向の第１Ｂ方向と、を含んでおり、
   前記第１Ａスペーサは、前記第２Ａスペーサに対して前記第１Ａ方向にあり、
   前記第１Ｂスペーサは、前記第２Ｂスペーサに対して前記第１Ｂ方向にある、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第１基板にある第３Ｂスペーサと、
   前記第２基板にある第４Ｂスペーサと、をさらに備え、
   前記第３Ｂスペーサ及び前記第４Ｂスペーサは、平面視において前記第２方向に配列し、
   前記第２方向は、第２Ａ方向と、該第２Ａ方向とは逆方向の第２Ｂ方向を含み、
   前記第３Ａスペーサは、前記第４Ａスペーサに対して前記第２Ａ方向にあり、
   前記第３Ｂスペーサは、前記第４Ｂスペーサに対して前記第２Ｂ方向にある、請求項１又は２に記載の表示装置。
4. 前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサは重畳しない、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の表示装置。
5. 第１基板にある第１Ａスペーサ及び第３Ａスペーサと、
   前記第１基板に対向する第２基板にある第２Ａスペーサ及び第４Ａスペーサと、を備え、
   前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサは重畳せず、
   前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサは、平面視において第１方向に配列し、
   前記第３Ａスペーサ及び前記第４Ａスペーサは、平面視において前記第１方向と交差する第２方向に配列し、
   前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサの側面は、前記第１方向において対向し、
   前記第３Ａスペーサ及び前記第４Ａスペーサの側面は、前記第２方向において対向している表示装置。
6. 第１基板にある第１Ａスペーサ及び第３Ａスペーサと、
   前記第１基板に対向する第２基板にある第２Ａスペーサ及び第４Ａスペーサと、
   前記第１基板にある透明導電膜と、を備え、
   前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサは、平面視において第１方向に配列し、
   前記第３Ａスペーサ及び前記第４Ａスペーサは、平面視において前記第１方向と交差する第２方向に配列し、
   前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサの側面は、前記第１方向において対向し、
   前記第３Ａスペーサ及び前記第４Ａスペーサの側面は、前記第２方向において対向し、
   前記第１Ａスペーサ及び前記第３Ａスペーサが前記透明導電膜に接している表示装置。
7. 前記第１基板は、前記第１Ａ方向の端部領域と、前記第１Ｂ方向の端部領域とが湾曲しており、
   互いに対向する一対の前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサを第１セットとし、
   互いに対向する一対の前記第１Ｂスペーサ及び前記第２Ｂスペーサを第３セットとすると、
   前記第１Ａ方向の端部領域において、前記第３セットの密度は、前記第１セットの密度よりも高く、
   前記第１Ｂ方向の端部領域において、前記第１セットの密度は、前記第３セットの密度よりも高い、請求項２乃至４のいずれか一項に記載の表示装置。
8. 前記第１基板は、前記第１Ｂ方向の端部領域が湾曲しており、
   互いに対向する一対の前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサを第１セットとすると、
   前記第１セットの密度は、中央領域よりも前記第１Ｂ方向の端部領域の方が高い、請求項２乃至４のいずれか一項に記載の表示装置。
9. 前記第１基板は、表示領域内に、走査信号線を有し、
   前記走査信号線は、前記第１方向に延在し、
   互いに対向する一対の前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサを第１セットとし、
   互いに対向する一対の前記第３Ａスペーサ及び前記第４Ａスペーサを第２セットとすると、
   前記第１セットの密度は、前記第２セットの密度よりも高い、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の表示装置。
10. 前記第１基板は、表示領域内に、走査信号線と、映像信号線と、画素電極と、を有し、
    前記第１方向は、前記走査信号線の延在方向であり、
    前記第２方向は、前記映像信号線の延在方向であり、
    前記画素電極の延在方向は、前記映像信号線の延在方向に傾いている、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の表示装置。
11. 前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサのうちのいずれか一方は、該第１Ａスペーサ及び該第２Ａスペーサのうちのいずれか他方がある基板に接しており、
    前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサのうちのいずれか他方は、該第１Ａスペーサ及び該第２Ａスペーサのうちのいずれか一方がある基板に接していない、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の表示装置。
12. 前記第１基板にある第５スペーサと
    前記第２基板にある第６スペーサと、を備え、
    前記第５スペーサ及び前記第６スペーサは、平面視において前記第１方向に配列し、
    前記第５スペーサは、前記第２基板に接しておらず、
    前記第６スペーサは、前記第１基板に接していない、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の表示装置。
13. 複数の走査信号線と、前記複数の走査信号線に交差する複数の映像信号線と、を備え、
    互いに対向する一対の前記第１Ａスペーサ及び前記第２Ａスペーサは、前記走査信号線及び前記映像信号線が交差する交差領域に対応する位置に配置されており、
    互いに対向する一対の前記第３Ａスペーサ及び前記第４Ａスペーサは、前記交差領域に対応する位置に配置されている、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の表示装置。

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