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JP2006135298A5 - - Google Patents

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  1. 出力されるレーザ光を短パルス化する手段と、エネルギーピーク値を示す発振スペクトルの発振を抑制する手段とを有する短パルス・マルチライン発振ＣＯ２レーザ発振器と、
    前記短パルス・マルチライン発振ＣＯ２レーザ発振器から出力された短パルス化されたレーザ光を入力し、該レーザ光を増幅して出力する少なくとも１つの増幅器と、
    を具備する極端紫外光源装置用ドライバーレーザ。
  2. 短パルスレーザ光を出力する固体レーザと、前記固体レーザから出力された短パルスレーザ光を光パラメトリック発振させることにより広帯域化させる光パラメトリック発振装置とを有する短パルス・マルチライン発振レーザ発振器と、
    前記短パルス・マルチライン発振レーザ発振器から出力されたレーザ光を入力し、該レーザ光を増幅して出力する少なくとも１つの増幅器と、
    を具備する極端紫外光源装置用ドライバーレーザ。
  3. 前記光パラメトリック装置によって広帯域化されたレーザ光を、前記少なくとも１つの増幅器の発振スペクトルに整合させるスペクトル整合器をさらに具備する請求項２記載の極端紫外光源装置用ドライバーレーザ。
  4. 請求項１〜３のいずれか１項記載の極端紫外光源装置用ドライバーレーザと、
    ターゲット物質供給手段と、
    前記極端紫外光源装置用ドライバーレーザから出力されたレーザ光が、前記ターゲット物質供給手段から供給されるターゲット物質を照射するように、前記レーザ光を導光する光学系と、
    を具備するＬＰＰ型極端紫外光源装置。
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Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7439530B2 (en) * 2005-06-29 2008-10-21 Cymer, Inc. LPP EUV light source drive laser system
US7928416B2 (en) * 2006-12-22 2011-04-19 Cymer, Inc. Laser produced plasma EUV light source
US7491954B2 (en) * 2006-10-13 2009-02-17 Cymer, Inc. Drive laser delivery systems for EUV light source
US7671349B2 (en) 2003-04-08 2010-03-02 Cymer, Inc. Laser produced plasma EUV light source
US7541121B2 (en) * 2004-10-13 2009-06-02 Infineon Technologies Ag Calibration of optical line shortening measurements
US7369216B2 (en) * 2004-10-15 2008-05-06 Asml Netherlands B.V. Lithographic system, method for adapting transmission characteristics of an optical pathway within a lithographic system, semiconductor device, method of manufacturing a reflective element for use in a lithographic system, and reflective element manufactured thereby
WO2007121142A2 (en) * 2006-04-12 2007-10-25 The Regents Of The University Of California Improved light source employing laser-produced plasma
JP4679440B2 (ja) * 2006-06-05 2011-04-27 川崎重工業株式会社 波長変換レーザ出力差周波分離装置
JP5551722B2 (ja) * 2006-08-29 2014-07-16 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ
JP5086677B2 (ja) * 2006-08-29 2012-11-28 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ
JP5086664B2 (ja) * 2007-03-02 2012-11-28 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置
DE102007017212A1 (de) * 2007-04-12 2008-10-16 Forschungszentrum Jülich GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Kühlung eines Gases
JP5179776B2 (ja) * 2007-04-20 2013-04-10 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源用ドライバレーザ
JP2009246345A (ja) * 2008-03-12 2009-10-22 Komatsu Ltd レーザシステム
US20110122387A1 (en) * 2008-05-13 2011-05-26 The Regents Of The University Of California System and method for light source employing laser-produced plasma
JP5758569B2 (ja) * 2008-06-12 2015-08-05 ギガフォトン株式会社 スラブ型レーザ装置
JP5833806B2 (ja) * 2008-09-19 2015-12-16 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置用レーザ光源装置及び極端紫外光源装置用レーザ光源の調整方法
JP5914742B2 (ja) * 2008-09-19 2016-05-11 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置用レーザ光源装置、及びレーザ光源装置
JP5587578B2 (ja) * 2008-09-26 2014-09-10 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置およびパルスレーザ装置
JP5536401B2 (ja) * 2008-10-16 2014-07-02 ギガフォトン株式会社 レーザ装置および極端紫外光光源装置
JP5607383B2 (ja) 2009-02-23 2014-10-15 ギガフォトン株式会社 ガスレーザ装置用温度調節装置
JP5675127B2 (ja) * 2009-02-27 2015-02-25 ギガフォトン株式会社 レーザ装置および極端紫外光源装置
JP5676204B2 (ja) * 2009-10-23 2015-02-25 浜松ホトニクス株式会社 プラズマシャッター形成装置および形成方法
JP5419739B2 (ja) * 2010-02-03 2014-02-19 三菱電機株式会社 ガスレーザ装置
EP2534672B1 (en) 2010-02-09 2016-06-01 Energetiq Technology Inc. Laser-driven light source
JP2011192961A (ja) * 2010-02-19 2011-09-29 Komatsu Ltd レーザ装置、極端紫外光生成装置、およびメンテナンス方法
JP5666285B2 (ja) 2010-03-15 2015-02-12 ギガフォトン株式会社 再生増幅器、レーザ装置および極端紫外光生成装置
JP5075951B2 (ja) * 2010-07-16 2012-11-21 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置及びドライバレーザシステム
JP6054028B2 (ja) 2011-02-09 2016-12-27 ギガフォトン株式会社 レーザ装置および極端紫外光生成システム
DE102012002470A1 (de) * 2012-02-03 2013-08-08 Iai Industrial Systems B.V. CO2-Laser mit schneller Leistungssteuerung
NL2011580A (en) 2012-11-07 2014-05-08 Asml Netherlands Bv Method and apparatus for generating radiation.
BR112017008760B1 (pt) 2014-11-10 2021-03-02 General Electric Company método de determinação de uma fração de uma ou mais fases em um fluido e sistema para determinar uma fração de uma ou mais fases de um fluido
US9711950B2 (en) * 2015-05-13 2017-07-18 Trumpf Laser Gmbh Dense wavelength beam combining with variable feedback control
CN112805886B (zh) * 2018-10-10 2023-12-22 三菱电机株式会社 激光器装置
WO2020148069A1 (en) * 2019-01-15 2020-07-23 Stichting Vu Euv radiation source and related methods
EP3968739A1 (en) * 2020-09-09 2022-03-16 Deutsches Elektronen-Synchrotron DESY Apparatus and method for generating x-rays by laser irradiation of superfluid helium droplets
US11587781B2 (en) 2021-05-24 2023-02-21 Hamamatsu Photonics K.K. Laser-driven light source with electrodeless ignition
CN113916855A (zh) * 2021-09-29 2022-01-11 深圳大学 一种显微成像装置
US12165856B2 (en) 2022-02-21 2024-12-10 Hamamatsu Photonics K.K. Inductively coupled plasma light source
US12144072B2 (en) 2022-03-29 2024-11-12 Hamamatsu Photonics K.K. All-optical laser-driven light source with electrodeless ignition
US12156322B2 (en) 2022-12-08 2024-11-26 Hamamatsu Photonics K.K. Inductively coupled plasma light source with switched power supply

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4061921A (en) * 1974-05-02 1977-12-06 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research & Development Administration Infrared laser system
FR2331898A1 (fr) * 1975-11-17 1977-06-10 Comp Generale Electricite Dispositif generateur laser emettant a une longueur d'onde voisine de 1,3 micron
US4330761A (en) * 1976-06-28 1982-05-18 Massachusetts Institute Of Technology High power gas laser
JPS566491A (en) * 1979-06-28 1981-01-23 Agency Of Ind Science & Technol Oscillating method of carbon dioxide gas laser in multi-line
US5327446A (en) * 1993-03-26 1994-07-05 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Department Of Health And Human Services Method of exciting laser action and delivering laser energy for medical and scientific applications
US5452313A (en) * 1994-03-21 1995-09-19 Hughes Aircraft Company Optical feedback eliminator
JPH0864896A (ja) * 1994-08-24 1996-03-08 Nippon Steel Corp 高平均出力パルスｃｏ▲２▼レーザ装置
US6016324A (en) * 1994-08-24 2000-01-18 Jmar Research, Inc. Short pulse laser system
DE4432029C2 (de) * 1994-09-08 1997-08-21 Ldt Gmbh & Co Lasergestützte Farbbildanzeige- und Projektionsvorrichtung
US5909306A (en) * 1996-02-23 1999-06-01 President And Fellows Of Harvard College Solid-state spectrally-pure linearly-polarized pulsed fiber amplifier laser system useful for ultraviolet radiation generation
US6463086B1 (en) * 1999-02-10 2002-10-08 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
JP3504592B2 (ja) * 2000-07-24 2004-03-08 住友重機械工業株式会社 パルスレーザ発生装置及びそれを利用したｘ線発生装置
US6529543B1 (en) * 2000-11-21 2003-03-04 The General Hospital Corporation Apparatus for controlling laser penetration depth
JP4394844B2 (ja) * 2001-03-27 2010-01-06 独立行政法人理化学研究所 赤外光発生装置
WO2002082600A2 (en) 2001-04-04 2002-10-17 Coherent Deos Q-switched cavity dumped co2 laser for material processing
JP4995379B2 (ja) * 2001-06-18 2012-08-08 ギガフォトン株式会社 光源装置及びそれを用いた露光装置
US6760356B2 (en) * 2002-04-08 2004-07-06 The Regents Of The University Of California Application of Yb:YAG short pulse laser system
JP4535732B2 (ja) * 2004-01-07 2010-09-01 株式会社小松製作所 光源装置及びそれを用いた露光装置
US7087914B2 (en) * 2004-03-17 2006-08-08 Cymer, Inc High repetition rate laser produced plasma EUV light source
US7078717B2 (en) * 2004-03-22 2006-07-18 Gigaphoton Inc. Light source device and exposure equipment using the same

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