JP2005134657A - Method for forming image - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて可視光レーザーを走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネガ型画像形成材料に有用な現像液、および前記現像液を使用する画像形成方法に関する。 The present invention relates to a developer useful for a negative type image forming material capable of direct plate making by scanning a visible light laser based on a digital signal from a computer or the like, and an image forming method using the developer. About.
従来、平版印刷版としては親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するPS版が広く用いられ、その製版方法として、通常はリスフィルムを介してマスク露光後、非画像部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。
近年、画像情報をコンピューターにより、電子的に処理、蓄積、出力するディジタル化技術が広く普及し、それに対応した新しい画像出力方式が種々実用化されるようになってきた。その結果レーザー光のような指向性の高い光をディジタル化された画像情報に従って走査し、リスフィルムを介す事無く、直接印刷版を製造するCTP技術が望まれ、これに適応した印刷版用原版を得ることが重要な技術課題となっている。
この光源としてArレーザー(488nm)やFD−YAGレーザー(532nm)、InGaN系半導体レーザー(バイオレットレーザー、350nm〜450nm)が採用され、この光源に感光性を有し、かなりの生産性が確保できる高感度な光重合性感光層を有する平版印刷版が開発され、実用に供されている。
Conventionally, as a lithographic printing plate, a PS plate having a configuration in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support is widely used. The desired printing plate was obtained by dissolving and removing the image area.
In recent years, digitization technology for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to it have come into practical use. As a result, CTP technology that scans highly directional light such as laser light in accordance with digitized image information and directly produces a printing plate without using a lith film is desired. Obtaining the original edition is an important technical issue.
As this light source, an Ar laser (488 nm), an FD-YAG laser (532 nm), or an InGaN-based semiconductor laser (violet laser, 350 nm to 450 nm) is employed, and this light source has photosensitivity and can ensure considerable productivity. A lithographic printing plate having a sensitive photopolymerizable photosensitive layer has been developed and put into practical use.
高感度技術としては殆んどが光重合開始系に関するものであり、例えばArレーザー、FD−YAGレーザーに対して高感度な光重合開始系としては、チタノセンとクマリン色素との組み合わせ(例えば、特許文献1〜3参照。)、スチリル系色素とチタノセンとの組み合わせ(例えば、特許文献4参照。)、五員ヘテロ環酸性核を有する色素とチタノセンの組み合わせ(例えば、特許文献5参照。)がそれぞれ開示されている。
またバイオレットレーザーに対して高感度な光重合開始系としては、ナフトフラノン系色素とチタノセンとの組み合わせ(例えば、特許文献6参照。)、カルバゾリルスチリル系色素とチタノセンとの組み合わせ(例えば、特許文献7参照。)等が知られている。
Most of the high-sensitivity technologies relate to photopolymerization initiation systems. For example, a combination of titanocene and coumarin dye (for example, patents) is used as a photopolymerization initiation system that is highly sensitive to Ar laser and FD-YAG laser.
Photopolymerization initiation systems with high sensitivity to violet laser include combinations of naphthofuranone dyes and titanocene (for example, see Patent Document 6), combinations of carbazolyl styryl dyes and titanocene (for example, Patent Documents). 7, etc.) are known.
一方、平版印刷版としての機能を安定して発現するためには、現像処理性として、露光部と未露光部と溶解度差(ディスクリミネーション)が大きいことが求められ、これらに関しては現像液に特定の界面活性剤を加えることである程度改良されることが開示されているが(例えば、特許文献8参照。)、さらに性能を付与する上で、重要になるのが、画像部ダメージの低減、及び現像液が常に安定な活性を保持することにある。
しかし、例えば、光重合性組成物を用いたネガ型の画像形成材料の現像にケイ酸カリウムなどを含む、pHが12.5を超える強アルカリ性水溶液が用いられることが報告されており(特許文献9参照)、このような高いpHの現像液は、画像部へのダメージが大きく耐刷性が不十分になる問題点があった。また、長期間の現像処理を続けると、環境例えば炭酸ガス濃度の変化によって、現像液の炭酸ガス吸収量が変化し現像液活性が変動するため、版材性能もその影響を受けて変動しやすいこと、また版材成分が現像層内に蓄積し、配管等の詰まりを生じる等の問題があった。
これに対して、この経時および繰り返しの使用による現像性能の低下を抑えるべく、ガラス基板表面に形成した感光性樹脂組成物層を、例えば、pH10前後の炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水溶液で現像することが提案されている(例えば特許文献10、特許文献11参照)。
On the other hand, in order to stably develop the function as a lithographic printing plate, the development processability is required to have a large solubility difference (discrimination) between the exposed and unexposed areas. Although it is disclosed that it is improved to some extent by adding a specific surfactant (see, for example, Patent Document 8), it is important to further reduce the damage to the image area in order to impart performance. And the developer always maintains stable activity.
However, for example, it has been reported that a strongly alkaline aqueous solution containing potassium silicate or the like and having a pH exceeding 12.5 is used for developing a negative type image forming material using a photopolymerizable composition (Patent Document). 9), such a high pH developer has a problem in that the image portion is greatly damaged and the printing durability is insufficient. In addition, if the development process is continued for a long period of time, the carbon dioxide gas absorption amount of the developer changes due to changes in the environment, for example, the concentration of carbon dioxide, and the developer activity fluctuates. In addition, the plate material component accumulates in the development layer, causing problems such as clogging of piping.
On the other hand, the photosensitive resin composition layer formed on the surface of the glass substrate is developed with, for example, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium bicarbonate having a pH of about 10 in order to suppress the deterioration of the development performance due to the repeated use over time. (For example, refer to Patent Document 10 and Patent Document 11).
しかしながら、本発明者は、これらの現像液を、アルミニウム支持体表面に光重合型感光性樹脂組成物の感光層を有する平版印刷版原版に適用したところ、非画像部での現像性が十分とは言えなかった。 また、顔料を分散させたフォトレジストの現像性の問題を解決するために、アルキルフェノール系界面活性剤を添加したアルカリ現像液が報告されているが(特許文献12参照)、依然として十分な現像性及び耐刷性が得られなかった。 However, when the present inventors applied these developers to a lithographic printing plate precursor having a photosensitive layer of a photopolymerizable photosensitive resin composition on the surface of an aluminum support, the developability in non-image areas was sufficient. I could not say. Moreover, in order to solve the problem of developability of a photoresist in which a pigment is dispersed, an alkali developer added with an alkylphenol surfactant has been reported (see Patent Document 12), but still sufficient developability and Printing durability was not obtained.
本発明の目的は、耐刷性に優れた画像を形成し、汚れ性にも優れ、現像液の特性に起因する経時的な現像性の低下を生じにくく、さらに現像処理において現像浴内に蓄積する現像カスを著しく低減可能にし、長期間安定に処理をすることができる、画像形成方法を提供することにある。 An object of the present invention is to form an image with excellent printing durability, excellent stain resistance, hardly cause deterioration in developability over time due to the characteristics of the developer, and accumulate in a developing bath during development processing. It is an object of the present invention to provide an image forming method capable of remarkably reducing development waste and performing stable processing for a long period of time.
本発明者は、可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物およびバインダーポリマーを含む画像記録層が形成された光重合型画像形成材料を画像露光した後、特定のノニオン界面活性剤を含有し、かつ導電率が一定範囲でありpH8.5〜11.5の炭酸塩系現像液により現像することにより、非画像部の現像性が向上し、十分な現像性、耐刷性及び汚れ性を確保できることを見出し、上記課題を達成し、本発明を完成させるに至った。 The present inventor has disclosed a photopolymerization type in which an image recording layer comprising a photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible light to ultraviolet wavelength region, a polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group, and a binder polymer is formed. After image exposure of the image forming material, the non-image area developability is developed by developing with a carbonate-based developer containing a specific nonionic surfactant and having a conductivity within a certain range and a pH of 8.5 to 11.5. As a result, the present inventors have found that sufficient developability, printing durability and stain resistance can be ensured, and have achieved the above-mentioned problems and completed the present invention.
従って本発明は、支持体上に、可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物およびバインダーポリマーを含む画像記録層が形成された光重合型画像形成材料を画像露光した後、少なくとも一種の炭酸塩及び少なくとも一種の炭酸水素塩を含有し、かつ下記式(1)のノニオン芳香族エーテル系界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤を1.0質量%〜10質量%含有し、pH8.5〜11.5であり、導電率xが30<x<100mS/cmである現像液を用いて現像することを特徴とする画像形成方法に関する。
X−Y−O−(A)n−(B)m−H (1)
(式中、Xは置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Yは単結合又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し、A及びBは互いに異なる基であって、−CH2CH2O−又は−CH2CH(CH3)O−のいずれかを表し、n、mはそれぞれ0又は1〜100の整数を表し、但しnとmは同時に0ではなく、またn若しくはmのいずれかが0である場合にはn及びmは1ではない。)
Therefore, the present invention forms on the support an image recording layer comprising a photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible to ultraviolet wavelength range, a polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group, and a binder polymer. After the image-exposed photopolymerizable image-forming material is image-exposed, it is selected from the group consisting of a nonionic aromatic ether surfactant of the following formula (1), which contains at least one carbonate and at least one bicarbonate. And developing at least one kind of a surfactant having a pH of 8.5 to 11.5 and a conductivity x of 30 <x <100 mS / cm. The present invention relates to an image forming method.
X-Y-O- (A) n- (B) m-H (1)
(In the formula, X represents an aromatic group which may have a substituent, Y represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, A and B are groups different from each other, and- Represents either CH 2 CH 2 O— or —CH 2 CH (CH 3 ) O—, n and m each represents 0 or an integer of 1 to 100, provided that n and m are not 0 at the same time, and n Or, when either m is 0, n and m are not 1.)
上記式で示される化合物を含む現像液を、露光した光重合型画像形成材料の現像に用いると、炭酸ガスの影響を受けにくい比較的に低いpH状態においても現像性に優れ、画像部へのダメージ低減による耐刷性向上、また解像力を著しく向上させる作用があることがわかった。また、画像記録層の不溶成分の分散向上剤としても作用するため、長期の処理においても現像層内に蓄積する現像カスを著しく低減できることがわかった。 When a developer containing the compound represented by the above formula is used for developing an exposed photopolymerization type image forming material, it is excellent in developability even in a relatively low pH state that is not easily affected by carbon dioxide gas, and can be applied to an image area. It has been found that there is an effect of improving printing durability by reducing damage and remarkably improving resolution. Further, since it also acts as a dispersion improver for the insoluble component of the image recording layer, it has been found that the development residue accumulated in the development layer can be significantly reduced even during long-term processing.
本発明の画像形成方法によれば、画像形成材料へのダメージが少ない低いpHで十分な現像性を確保できることより、耐刷性と現像性の両立が可能で、さらに現像液の現像活性が炭酸ガスによっても低下しにくく、現像カスによる問題が発しない。 According to the image forming method of the present invention, sufficient developability can be secured at a low pH with little damage to the image forming material, so that both printing durability and developability can be achieved. It is difficult to lower even with gas, and there is no problem with development residue.
以下に本発明の画像形成方法を詳細に説明する。先ず、本発明の画像形成方法において使用する現像液について説明する。
〔現像液〕
本発明において使用する現像液は、少なくとも一種の炭酸塩及び少なくとも一種の炭酸水素塩を含有し、かつ特定の構造のノニオン芳香族エーテル系界面活性剤を1.0質量%〜10質量%を含有し、pH8.5〜11.5であり、導電率xが30<x<100mS/cmである。
The image forming method of the present invention will be described in detail below. First, the developer used in the image forming method of the present invention will be described.
[Developer]
The developer used in the present invention contains at least one carbonate and at least one bicarbonate, and contains 1.0 mass% to 10 mass% of a nonionic aromatic ether surfactant having a specific structure, The pH is 8.5 to 11.5, and the conductivity x is 30 <x <100 mS / cm.
(ノニオン芳香族エーテル系界面活性剤)
本発明において使用し得る現像液中に含まれるノニオン芳香族エーテル系界面活性剤は下記一般式(1)で表される。
X−Y−O−(A)n−(B)m−H (1)
(式中、Xは置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Yは単結合又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し、A及びBは互いに異なる基であって、−CH2CH2O−又は−CH2CH(CH3)O−のいずれかを表し、n、mはそれぞれ0又は1〜100の整数を表し、但しnとmは同時に0ではなく、またn若しくはmのいずれかが0である場合にはn及びmは1ではない。)。
上記式にて示される化合物において、式中、Xの芳香族基としてフェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基としては、炭素原子数1〜100の有機基が挙げられる。有機基の例として下記一般式(I−A)(I−B)について記載する有機基が全て挙げられる。式中、A及びBがともに存在するとき、ランダムでもブロックの共重合体でもよい。
(Nonionic aromatic ether surfactant)
The nonionic aromatic ether surfactant contained in the developer that can be used in the present invention is represented by the following general formula (1).
X-Y-O- (A) n- (B) m-H (1)
(In the formula, X represents an aromatic group which may have a substituent, Y represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, A and B are groups different from each other, and- Represents either CH 2 CH 2 O— or —CH 2 CH (CH 3 ) O—, n and m each represents 0 or an integer of 1 to 100, provided that n and m are not 0 at the same time, and n Or, if either m is 0, n and m are not 1.)
In the compound represented by the above formula, examples of the aromatic group of X include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group. These aromatic groups may have a substituent. Examples of the substituent include an organic group having 1 to 100 carbon atoms. Examples of the organic group include all organic groups described for the following general formulas (IA) and (IB). In the formula, when both A and B are present, they may be random or block copolymers.
上記式(1)で表される化合物としてより具体的に、下記一般式(I−A)および(I−B)で示される化合物が挙げられる。
(上記式中、R1、R2はそれぞれ水素原子又は炭素原子数1〜100の有機基を表し;p、qはそれぞれ1又は2を表し;Y1、Y2はそれぞれ単結合又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し;r、sはそれぞれ0又は1〜100の整数を表し、但しrとsは同時に0ではなく、またr若しくはsのいずれかが0である場合にはr及びsは1ではなく、r'、s'はそれぞれ0又は1〜100の整数を表し、但しr'とs'は同時に0ではなく、またr'若しくはs'のいずれかが0である場合にはr'及びs'は1ではない。)
尚、pが2を表しR1が炭素原子数1〜100の有機基であるとき、R1は同一でも異なっていてもよくR1が一緒になって環を構成していてもよく、また、qが2を表しR2が炭素原子数1〜100の有機基であるとき、R2は同一でも異なっていてもよくR2が一緒になって環を構成していてもよい。
(In the above formula, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or an organic group having 1 to 100 carbon atoms; p and q each represent 1 or 2; Y 1 and Y 2 each represent a single bond or a carbon atom. Represents an alkylene group of 1 to 10; r and s each represent 0 or an integer of 1 to 100, provided that r and s are not 0 at the same time, and when either r or s is 0, r And s are not 1, and r ′ and s ′ each represent 0 or an integer of 1 to 100, provided that r ′ and s ′ are not 0 at the same time and either r ′ or s ′ is 0. R 'and s' are not 1.
When p is 2 and R 1 is an organic group having 1 to 100 carbon atoms, R 1 may be the same or different and R 1 may be combined to form a ring, , Q is 2 and R 2 is an organic group having 1 to 100 carbon atoms, R 2 may be the same or different and R 2 may be combined to form a ring.
上記炭素原子数1〜100の有機基の具体例には、飽和でも不飽和でよく直鎖でも分岐鎖でもよい脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基など、その他に、アルコキシ基、アリーロキシ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、ポリオキシアルキレン鎖、ポリオキシアルキレン鎖が結合している上記の有機基などがある。上記アルキル基は直鎖でも分岐鎖でもよい。 Specific examples of the organic group having 1 to 100 carbon atoms include aliphatic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups such as alkyl groups, alkenyl groups, and alkynyl groups, which may be saturated or unsaturated, and may be linear or branched. , Aryl group, aralkyl group, etc., alkoxy group, aryloxy group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N -Arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N- Arylcarbamoyloxy group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacyl Amino group, acyl group, alkoxycarbonylamino group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group , N-alkyl-N-arylcarbamoyl groups, polyoxyalkylene chains, and the above organic groups to which polyoxyalkylene chains are bonded. The alkyl group may be linear or branched.
好ましいR1、R2としては、水素原子又は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アルキルカルバモイル基、アシルオキシ基又はアシルアミノ基、繰り返し単位数5〜20程度のポリオキシアルキレン鎖、炭素原子数6〜20のアリール基、繰り返し単位数5〜20程度のポリオキシアルキレン鎖が結合しているアリール基などがある。 Preferred examples of R 1 and R 2 include a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group, an N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-alkylcarbamoyl group, acyloxy group or acylamino group, polyoxyalkylene chain having about 5 to 20 repeating units, aryl group having 6 to 20 carbon atoms, poly having about 5 to 20 repeating units There are aryl groups to which an oxyalkylene chain is bonded.
一般式(I−A)及び(I−B)の化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位数は好ましくは3〜50、より好ましくは5〜30である。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数は好ましくは0〜10、より好ましくは0〜5である。なお、ポリオキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダムでもブロックの共重合体でもよい。 In the compounds of the general formulas (IA) and (IB), the number of repeating units of the polyoxyethylene chain is preferably 3-50, more preferably 5-30. The number of repeating units of the polyoxypropylene chain is preferably 0 to 10, more preferably 0 to 5. The polyoxyethylene part and the polyoxypropylene part may be random or block copolymers.
一般式(I−A)で表される化合物としては、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
一般式(I−B)で表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ホリオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられる。
ノニオン芳香族エーテル系界面活性剤は現像液中に、1種単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
Examples of the compound represented by the general formula (IA) include polyoxyethylene phenyl ether, polyoxyethylene methyl phenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like.
Examples of the compound represented by the general formula (IB) include polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene methyl naphthyl ether, polyoxyethylene octyl naphthyl ether, and polyoxyethylene nonyl naphthyl ether.
Nonionic aromatic ether surfactants may be used alone or in combination of two or more in the developer.
現像液におけるノニオン芳香族エーテル系界面活性剤の含有量は、現像液中1〜10質量%が適当であり、より好ましくは2〜8質量%である。ここで添加量が少なすぎると、現像性低下および画像記録層成分の溶解性低下を招き、逆に多すぎると、印刷版の耐刷性を低下させる。
以下に一般式(I−A)又は(I−B)で示されるノニオン芳香族エーテル系界面活性剤の例を示す。
The content of the nonionic aromatic ether surfactant in the developer is suitably 1 to 10% by mass in the developer, and more preferably 2 to 8% by mass. Here, if the addition amount is too small, the developability and the solubility of the image recording layer components are lowered. On the other hand, if the addition amount is too large, the printing durability of the printing plate is lowered.
Examples of the nonionic aromatic ether surfactant represented by the general formula (IA) or (IB) are shown below.
また、本発明の製版方法に使用される現像液は、上記一般式(I−A)および(I−B)で示されるノニオン芳香族エーテル系界面活性剤以外に、さらに以下に記すその他の界面活性剤を加えてもよい。 In addition to the nonionic aromatic ether surfactants represented by the above general formulas (IA) and (IB), the developer used in the plate making method of the present invention may further include other interfaces described below. An active agent may be added.
その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤:ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンスルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤である。
これら界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することができる。また、これら界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で、0.1から20質量%が好ましい。
Other surfactants include, for example, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene alkyl esters such as polyoxyethylene stearate, Sorbitan alkyl esters such as sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, sorbitan trioleate, monoglyceride alkyl esters such as glycerol monostearate, glycerol monooleate, etc. Nonionic surfactants: alkylbenzene sulfonates such as sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium butylnaphthalenesulfonate Alkyl phthalene sulfonates such as sodium pentylnaphthalene sulfonate, sodium hexyl naphthalene sulfonate, sodium octyl naphthalene sulfonate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate, alkyl sulfonates such as sodium dodecyl sulfonate, dilauryl sulfosuccinate Anionic surfactants such as sulfosuccinic acid ester salts such as sodium acid salt: alkylbetaines such as lauryl betaine and stearyl betaine, and amphoteric surfactants such as amino acids can be used, but alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferable. An anionic surfactant.
These surfactants can be used alone or in combination. The content of these surfactants in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass in terms of active ingredients.
本発明の画像形成方法で用いる現像液は、上記に説明したノニオン芳香族エーテル系界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤を1.0質量%〜10質量%含有し、さらに少なくとも一種の炭酸塩及び少なくとも一種の炭酸水素塩を含有し、並びにpH8.5〜11.5であり、導電率xが30<x<100mS/cmである。なお、pH及び導電率は、常温(約25℃)で測定した値である。 The developer used in the image forming method of the present invention contains 1.0% by mass to 10% by mass of at least one surfactant selected from the group consisting of the nonionic aromatic ether surfactants described above, and further at least one type. And at least one bicarbonate, and has a pH of 8.5 to 11.5 and a conductivity x of 30 <x <100 mS / cm. In addition, pH and electrical conductivity are the values measured at normal temperature (about 25 degreeC).
少なくとも一種の炭酸塩及び少なくとも一種の炭酸水素塩は現像液中におけるアルカリ剤として作用する。炭酸塩としては、無機アルカリ及び有機アルカリの炭酸塩からなる群より選択される少なくとも一種の化合物、より好ましくは無機アルカリの炭酸塩からなる群より選択される少なくとも一種の化合物が挙げられる。また、炭酸塩の具体例としては、炭酸ナトリウム、同カリウム、及び同アンモニウム、が挙げられ、さらに好ましくは炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムが挙げられる。
炭酸水素塩としては、無機アルカリ及び有機アルカリの炭酸水素塩から選択される少なくとも一種の化合物、より好ましくは無機アルカリの炭酸水素塩からなる群より選択される少なくとも一種の化合物が挙げられる。また、炭酸水素塩の具体例としては、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、及び同アンモニウム、があげられ、さらに好ましくは炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムが挙げられる。
炭酸塩の現像液中の濃度を0.005〜1mol/L、炭酸水素塩の現像液中の濃度を0.001〜1mol/Lにすることにより、pH8.5〜11.0の領域でpH緩衝性が得られ、また炭酸ガス吸収量も低減ができ好ましい。
At least one carbonate and at least one bicarbonate act as an alkaline agent in the developer. Examples of the carbonate include at least one compound selected from the group consisting of inorganic alkali and organic alkali carbonates, more preferably at least one compound selected from the group consisting of inorganic alkali carbonates. Specific examples of the carbonate include sodium carbonate, potassium and ammonium, and more preferably sodium carbonate and potassium carbonate.
Examples of the hydrogen carbonate include at least one compound selected from an inorganic alkali and an organic alkali hydrogen carbonate, more preferably at least one compound selected from the group consisting of an inorganic alkali hydrogen carbonate. Specific examples of the bicarbonate include sodium bicarbonate, potassium and ammonium, and more preferably sodium bicarbonate and potassium bicarbonate.
By adjusting the concentration of carbonate in the developer to 0.005 to 1 mol / L and the concentration of bicarbonate in the developer to 0.001 to 1 mol / L, pH buffering properties can be obtained in the range of pH 8.5 to 11.0. In addition, carbon dioxide absorption is also preferable because it can be reduced.
また、pHは、8.5〜11.5であることが必須であり、9.0〜11.0であるのが好ましい。また、導電率xは30<x<100mS/cmであることが必須であり、31〜80mS/cmであるのが好ましく、35〜60mS/cmであることがさらに好ましい。 Moreover, it is essential that pH is 8.5-11.5, and it is preferable that it is 9.0-11.0. In addition, the conductivity x must be 30 <x <100 mS / cm, preferably 31 to 80 mS / cm, and more preferably 35 to 60 mS / cm.
また現像液に、導電率調整剤として、有機酸のアルカリ金属塩類、無機酸のアルカリ金属塩類を更に加えて、導電率を調整することができる。
現像液が炭酸塩と炭酸水素塩の混合物以外のアルカリ金属塩からなる場合は、前記範囲のpHおよび導電率であっても、経時および繰り返しの使用による現像性能の低下が生じる。また、炭酸塩と炭酸水素塩の混合物からなる場合であっても、pHが前記範囲を下回ると、画像形成ができなくなり、前記範囲を上回ると、空気中の炭酸ガスによる劣化等により現像性能の低下が生じる。また、導電率が前記範囲を下回ると、アルミニウム板支持体表面の画像記録層組成物の溶出が困難となって画像形成ができず、前記範囲を上回ると、非画像部に残膜を生じることとなり、いずれも現像性能が低下する。
Further, the conductivity can be adjusted by further adding an alkali metal salt of an organic acid or an alkali metal salt of an inorganic acid to the developer as a conductivity adjusting agent.
When the developer is made of an alkali metal salt other than a mixture of carbonate and hydrogen carbonate, the development performance deteriorates with time and repeated use even if the pH and conductivity are in the above ranges. Further, even in the case of a mixture of carbonate and bicarbonate, if the pH falls below the above range, image formation becomes impossible, and if it exceeds the above range, the development performance is deteriorated due to deterioration due to carbon dioxide gas in the air. A decrease occurs. Further, if the conductivity is lower than the above range, elution of the image recording layer composition on the surface of the aluminum plate support becomes difficult and image formation cannot be performed, and if it exceeds the above range, a remaining film is formed in the non-image area. In both cases, the development performance deteriorates.
前記現像液は、アルカリ金属の炭酸塩と炭酸水素塩の両者を同一水中に添加、溶解して作製したものであっても、両者のそれぞれの水溶液を混合して作製したものであってもよい。 The developer may be prepared by adding and dissolving both alkali metal carbonate and hydrogen carbonate in the same water, or may be prepared by mixing respective aqueous solutions of both. .
また、前記現像液にはアルカリ剤として更に、たとえば第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、および同リチウムなどの無機アルカリ剤および、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤を単独もしくは2種以上を組み合わせて混合して用いても良い。 Further, the developer includes an inorganic agent such as tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, potassium, ammonium, and lithium as an alkaline agent. Alkaline agents and monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropyl Use organic alkali agents such as panolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide alone or in combination. It may be mixed and used together look.
現像液にはキレート剤を含有させてもよい。キレート剤としては、例えば、Na2P2O7、Na5P3O3、Na3P3O9、Na2O4P(NaO3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2−ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2,2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類を挙げることができる。このようなキレート剤の最適量は使用される硬水の硬度およびその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させる。 The developer may contain a chelating agent. Examples of the chelating agent include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 , calgon (sodium polymetaphosphate), etc. Polyethylene salt of, for example, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its Potassium salt, sodium salt thereof; nitrilotriacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid, potassium salt thereof Aminopolycar, such as its sodium salt 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, its potassium salt, its sodium salt; 2-phosphonobutanone tricarboxylic acid-2,3,4, its potassium salt, its sodium salt; Phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, potassium salt, sodium salt thereof; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt thereof; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt thereof And organic phosphonic acids such as sodium salts thereof. The optimum amount of such a chelating agent varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.01 to 0.5% in the developer at the time of use. It is made to contain in the range of mass%.
本発明の現像液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下の様な成分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル酸、p−エチル安息香酸、p−n−プロピル安息香酸、p−イソプロピル安息香酸、p−n−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−2−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等の有機カルボン酸;イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の有機溶剤;この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。 In addition to the above components, the following components can be used in combination in the developer of the present invention as necessary. For example, benzoic acid, phthalic acid, p-ethylbenzoic acid, pn-propylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid, pn-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid Organic carboxylic acids such as p-2-hydroxyethylbenzoic acid, decanoic acid, salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid; isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol, etc. In addition, chelating agents, reducing agents, dyes, pigments, water softeners, preservatives and the like can be mentioned.
上記の現像液は、露光されたネガ型画像形成材料の現像液および現像補充液として用いることができ、自動現像機に適用することが好ましい。自動現像機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。本発明の画像形成方法においてもこの補充方式が好ましく適用される。上記現像液を後述する画像形成材料の現像に使用することにより、本発明の効果は特に顕著になる。 The developer described above can be used as a developer and a developer replenisher for the exposed negative type image forming material, and is preferably applied to an automatic developing machine. When developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing. Therefore, the processing capability may be restored using a replenishing solution or a fresh developing solution. This replenishment method is also preferably applied to the image forming method of the present invention. The effect of the present invention is particularly remarkable when the developer is used for developing an image forming material described later.
本発明における画像形成材料は、支持体上に、画像記録層と、任意に保護層とを順次積層してなるものであって、前記画像記録層には可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物、及びバインダーポリマーを含むことを特徴とする。
ここで、「順次積層する」とは、支持体上に、下塗り層、画像記録層、及び保護層がこの順に設けられることを指し、下塗り層、保護層は必要に応じて設けることができ、また目的に応じて設けられる他の層(例えば、中間層、バックコート層、等)の存在を否定するものではない。
The image forming material in the present invention is formed by sequentially laminating an image recording layer and optionally a protective layer on a support, and the image recording layer is sensitive to light in the visible light to ultraviolet wavelength region. And a photopolymerization initiating system, a polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group, and a binder polymer.
Here, “sequentially laminate” means that an undercoat layer, an image recording layer, and a protective layer are provided in this order on the support, and the undercoat layer and the protective layer can be provided as necessary. In addition, the existence of other layers (for example, an intermediate layer, a back coat layer, etc.) provided according to the purpose is not denied.
〔可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系〕
可視光線〜紫外線波長域の光に感応する光重合開始系とは、可視光線〜紫外線波長域の光を吸収して、光重合を開始し得る化合物を含む系を意味する。より具体的には、可視光線〜紫外線波長域、好ましくは330〜700nmに極大吸収波長を有する増感色素と、光重合開始剤との組み合わせが挙げられる。光重合開始剤は2種以上の光重合開始剤を用いてもよい(併用系)。このような光重合開始系として、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の、増感色素(染料)と、光開始剤あるいは2種以上の光開始剤の併用系を適宜選択して用いることができる。以下に具体例を列挙するがこれらに制限されるものではない。
[Photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible to ultraviolet wavelength range]
The photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible light to ultraviolet wavelength range means a system containing a compound that can absorb light in the visible light to ultraviolet wavelength range and initiate photopolymerization. More specifically, a combination of a sensitizing dye having a maximum absorption wavelength in the visible light to ultraviolet wavelength region, preferably 330 to 700 nm, and a photopolymerization initiator may be mentioned. Two or more photopolymerization initiators may be used as the photopolymerization initiator (combination system). As such a photopolymerization initiation system, various sensitizing dyes (dyes) known in patents, literatures, and the like depending on the wavelength of the light source used, and a combination system of a photoinitiator or two or more photoinitiators are used. It can be appropriately selected and used. Specific examples are listed below, but are not limited thereto.
400nm以上の可視光線、Arレーザー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレーザーを光源とする場合について、種々の光開始系が提案されており、例えば、米国特許第2,850,445号に記載のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤との組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−37377号)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−2528号、特開昭54−155292号)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−84183号)、環状トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024号)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−112681号、特開昭58−15503号)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系(特開昭59−140203号)、有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1504号、特開昭59−140203号、特開昭59−189340号、特開昭62−174203号、特公昭62−1641号、米国特許第4766055号)、染料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−258903号、特開平2−63054号など)染料とボレート化合物の系(特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開昭64−13140号、特開昭64−13141号、特開昭64−13142号、特開昭64−13143号、特開昭64−13144号、特開昭64−17048号、特開平1−229003号、特開平1−298348号、特開平1−138204号など)ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−179643号、特開平2−244050号)、チタノセンと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221110号)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4−221958号、特開平4−219756号)、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系(特開平6−295061号)、チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特開平8−334897号)等を挙げることができる。 Various photoinitiating systems have been proposed in the case of using visible light of 400 nm or more, Ar laser, second harmonic of a semiconductor laser, and SHG-YAG laser as a light source, for example, US Pat. No. 2,850,445. Certain photoreducible dyes as described in, for example, rose bengal, eosin, erythrosine, etc., or a combination of a dye and an initiator, for example, a combined initiator system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189), Combination system of hexaarylbiimidazole, radical generator and dye (Japanese Patent Publication No. 45-37377), System of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Patent Publication No. 47-2528, Japanese Patent Laid-Open No. 54-155292) No.), cyclic cis-α-dicarbonyl compound and dye system (Japanese Patent Laid-Open No. 48-84183), cyclic to Liazine and merocyanine dye systems (JP 54-151024), 3-ketocoumarin and activator systems (JP 52-112681, JP 58-15503), biimidazole, styrene derivatives, thiols System (JP 59-140203 A), organic peroxide and dye system (JP 59-1504, JP 59-140203, JP 59-189340, JP 62-174203). No. 6, JP-B 62-1641, US Pat. No. 4,766,055), dyes and active halogen compounds (JP-A 63-258903, JP-A 2-63054, etc.), dyes and borate compounds (JP A) JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-64-13140, JP-A-64-13141, JP-A-64-13142, JP-A-6464 13143, JP-A 64-13144, JP-A 64-17048, JP-A 1-222903, JP-A-1-298348, JP-A 1-138204, etc.) A dye having a rhodanine ring and a radical generator Systems (JP-A-2-17943, JP-A-2-244050), titanocene and 3-ketocoumarin dyes (JP-A 63-221110), titanocene and xanthene dyes, addition polymerization containing amino groups or urethane groups A combination of possible ethylenically unsaturated compounds (JP-A-4-221958, JP-A-4-219756), titanocene and a specific merocyanine dye system (JP-A-6-295061), having a titanocene and a benzopyran ring And dye systems (Japanese Patent Laid-Open No. 8-3344897).
また、最近400〜410nmの波長のレーザー(バイオレットレーザー)が開発され、それに感応する450nm以下の波長に高感度を示す光重合開始系が開発されており、これらの光開始系も使用される。例えば、カチオン色素/ボレート系(特開平11−84647号公報)、メロシアニン色素/チタノセン系(特開2000−147763号公報)、カルバゾール型色素/チタノセン系(特開2001−42524号公報)等を挙げることができる。本発明においては特に、光重合開始系がチタノセン化合物を含むことが、感度の点で優れており好ましい。 Recently, a laser having a wavelength of 400 to 410 nm (violet laser) has been developed, and a photopolymerization initiation system exhibiting high sensitivity at a wavelength of 450 nm or less that is sensitive to it has been developed, and these photoinitiation systems are also used. For example, cationic dye / borate system (JP-A-11-84647), merocyanine dye / titanocene system (JP-A 2000-147663), carbazole type dye / titanocene system (JP-A 2001-42524), and the like. be able to. In the present invention, it is particularly preferable that the photopolymerization initiating system contains a titanocene compound because of excellent sensitivity.
チタノセン化合物としては、種々のものを用いることができるが、例えば、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号各公報に記載されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル等を挙げることができる。 Various titanocene compounds can be used. For example, various titanocene compounds described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197 can be appropriately selected and used. . More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5 , 6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2 , 4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2, 4-di-fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti -Bis-2,6-difluoropheny 1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluoro-3- (pyr-1-yl) -phen-1-yl and the like can be mentioned.
また、光重合開始系が、上述したチタノセン化合物と更にトリアジン化合物を含むことが好ましい。チタノセン化合物と併用するトリアジン化合物の例としては、下記一般式(I)で表されるハロメチルトリアジン化合物が挙げられる。 The photopolymerization initiation system preferably contains the above-mentioned titanocene compound and further a triazine compound. Examples of the triazine compound used in combination with the titanocene compound include halomethyltriazine compounds represented by the following general formula (I).
式中Q1及びQ2は、それぞれ独立にハロメチル基を表し、XはCOOH基を除く、ハメット(Hammett)のσ値が0〜+0.8までの範囲にある電子吸引性置換基を表し、nは0〜5の整数を表す。
なお、本発明においては、ハメットのσ値の定義はレフラー(J. E. Leffler)著、都野雄南訳「有機反応速度論」(東京、廣川書店、1968年発行)に従うものである。
本発明に用いられる一般式(I)で表されるトリアジン化合物において、ハメットのσ値が0〜+0.8までの範囲にある置換基Xの具体例としては、フェニル基、電子吸引基で置換されたフェニル基、ナフチル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、アセチル基、エトキシカルボニル基、−PO3H基、アルキル置換ホスホニル基、チオシアノ基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ジメチルスルホニル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ヨージル基等を挙げることができる。
この中で好ましいものは、水素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、アセチル基、フェニル基、電子吸引基で置換されたフェニル基である。
一般式(I)で表される具体的な化合物の例としては以下のものを挙げることができるが、これに限定されるものではない。
In the formula, Q 1 and Q 2 each independently represent a halomethyl group, X represents an electron-withdrawing substituent having a Hammett's σ value ranging from 0 to +0.8, excluding the COOH group, n represents an integer of 0 to 5.
In the present invention, Hammett's σ value is defined by JE Leffler, translated by Yunan Tono, “Organic Reaction Kinetics” (Tokyo, Yodogawa Shoten, 1968).
In the triazine compound represented by the general formula (I) used in the present invention, specific examples of the substituent X having a Hammett's σ value ranging from 0 to +0.8 are substituted with a phenyl group or an electron withdrawing group. phenyl group, a naphthyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, an acetyl group, an ethoxycarbonyl group, -PO 3 H group, an alkyl-substituted phosphonyl group, thiocyano group, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, dimethyl sulfonyl group, fluorine An atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, an iodoyl group, etc. can be mentioned.
Among these, preferred are a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, a trifluoromethyl group, an acetyl group, a phenyl group, and a phenyl group substituted with an electron withdrawing group.
Specific examples of the compound represented by the general formula (I) include the following compounds, but are not limited thereto.
更に上記光開始系に必要に応じ、2−メルカプトベンズチアゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズオキサゾール等のチオール化合物、N−フェニルグリシン、N,N−ジアルキルアミノ芳香族アルキルエステル等のアミン化合物等の水素供与性化合物を加えることにより更に光開始能力が高められることが知られている。これらの光重合開始系の使用量は後述のエチレン性不飽和化合物100重量部に対し、0.05〜100重量部、好ましくは0.1〜70重量部、更に好ましくは0.2〜50重量部の範囲で用いられる。 Furthermore, if necessary for the photoinitiating system, thiol compounds such as 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercaptobenzimidazole and 2-mercaptobenzoxazole, and amines such as N-phenylglycine and N, N-dialkylamino aromatic alkyl esters It is known that the photoinitiating ability can be further enhanced by adding a hydrogen-donating compound such as a compound. The amount of these photopolymerization initiation systems used is 0.05 to 100 parts by weight, preferably 0.1 to 70 parts by weight, more preferably 0.2 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound described later. Used in the range of parts.
〔少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物〕
少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する重合可能な化合物(以下エチレン性不飽和結合含有化合物とも呼ぶ)とは、画像記録層形成組成物が活性光線の照射を受けた時、光重合開始剤の作用により付加重合し、架橋、硬化するようなエチレン性不飽和基を少なくとも一つ有する化合物である。このような付加重合可能なエチレン性不飽和基を少なくとも一つ含む化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物の中から任意に選択することができる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつものである。
[Polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group]
The polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group (hereinafter also referred to as an ethylenically unsaturated bond-containing compound) is a photopolymerization initiator when the image recording layer forming composition is irradiated with actinic rays. It is a compound having at least one ethylenically unsaturated group which undergoes addition polymerization by action, crosslinks and cures. The compound containing at least one ethylenically unsaturated group capable of addition polymerization can be arbitrarily selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. For example, it has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.
モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エ−テル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。 Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) with aliphatic polyhydric alcohol compounds, unsaturated Examples include amides of carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds. Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol Diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate There are oligomers and the like.
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス[p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]ジメチルメタン、ビス−[p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル]ジメチルメタン等がある。 Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p -(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethylmethane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane, and the like.
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,5−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。 Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,5-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレシビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。 Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate. Furthermore, the mixture of the above-mentioned ester monomer can also be mentioned. Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, and 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like.
その他の例としては、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。 As another example, a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-B-48-41708 contains a hydroxyl group represented by the following general formula (A). Examples thereof include a vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl monomer is added.
CH2=C(R)COOCH2CH(R')OH (A)
(ただし、RおよびR'はHあるいはCH3を示す。)
CH 2 = C (R) COOCH 2 CH (R ') OH (A)
(However, R and R ′ represent H or CH 3. )
また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接着協会誌Vo1.20, No.7, 300〜308ぺ−ジ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。なお、これらエチレン性不飽和結合含有化合物の使用量は、画像記録層全成分の5〜80質量%、好ましくは30〜70質量%の範囲で使用される。 Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193 and JP-B-2-32293, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490 And polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid, as described in each publication. Furthermore, those introduced as photo-curable monomers and oligomers in the Japan Adhesion Association magazine Vo 1.20, No. 7, pages 300 to 308 (1984) can also be used. In addition, the usage-amount of these ethylenically unsaturated bond containing compounds is 5-80 mass% of the image recording layer whole component, Preferably it is used in 30-70 mass%.
〔バインダーポリマー〕
本発明の方法において用いられる画像形成材料の画像記録層中のバインダーポリマー(高分子結合剤)としては、該画像記録層の皮膜形成剤としてだけでなく、アルカリ現像液に溶解する必要があるため、アルカリ水に可溶性または膨潤性である有機高分子重合体が使用される。
この様な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。
[Binder polymer]
The binder polymer (polymer binder) in the image recording layer of the image forming material used in the method of the present invention is not only used as a film forming agent for the image recording layer but also needs to be dissolved in an alkaline developer. An organic polymer that is soluble or swellable in alkaline water is used.
Examples of such an organic polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP 59-44615, JP-B 54-34327, JP-B 58-12577, JP-B 54-. No. 25957, JP 54-92723, JP 59-53836, JP 59-71048, ie, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer Examples include polymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, and partially esterified maleic acid copolymers.
また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
また特公平7−120040号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特開平11−352691号に記載のポリウレタン樹脂も本発明の用途には有用である。
Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, a product obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group is useful. Among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other addition-polymerizable vinyl monomers as required] copolymer and [allyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid / as required Other addition polymerizable vinyl monomers] copolymers are preferred. In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble polyamide, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.
JP-B-7-120040, JP-B-7-120041, JP-B-7-120042, JP-B-8-12424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287947, JP-A-1-271741 And JP-A-11-352691 are also useful for the use of the present invention.
これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させることができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照射によりラジカルになり得る官能基としてはメルカプト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイレン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能基も有用である。 These polymer polymers can improve the strength of the cured film by introducing a radical reactive group into the side chain. Functional groups that can undergo an addition polymerization reaction include ethylenically unsaturated bond groups, amino groups, and epoxy groups, and functional groups that can become radicals upon light irradiation include mercapto groups, thiol groups, halogen atoms, triazine structures, and onium salt structures. In addition, examples of the polar group include a carboxyl group and an imide group. The functional group capable of undergoing addition polymerization reaction is particularly preferably an ethylenically unsaturated bond group such as an acryl group, a methacryl group, an allyl group, or a styryl group, but also an amino group, a hydroxy group, a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, or a carbamoyl group. A functional group selected from an isocyanate group, a ureido group, a ureylene group, a sulfonic acid group, and an ammonio group is also useful.
画像記録層の現像性を維持するためには、バインダーポリマーは適当な分子量、酸価を有することが好ましく、重量平均分子量で5000〜30万、酸価20〜200の高分子重合体が有効に使用される。
これらのバインダーポリマーは画像記録層全組成中に任意な量を混和させることができる。好ましくは10〜90%、より好ましくは30〜80%である。90重量%以下の場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えるため好ましい。またエチレン性不飽和結合含有化合物とバインダーポリマーは、重量比で1/9〜9/1の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は2/8〜8/2てあり、更に好ましくは3/7〜7/3である。
In order to maintain the developability of the image recording layer, the binder polymer preferably has an appropriate molecular weight and acid value, and a high molecular weight polymer having a weight average molecular weight of 5000 to 300,000 and an acid value of 20 to 200 is effective. used.
These binder polymers can be mixed in an arbitrary amount in the entire composition of the image recording layer. Preferably it is 10 to 90%, More preferably, it is 30 to 80%. In the case of 90% by weight or less, it is preferable because a preferable result is given in terms of the strength of the formed image. The ethylenically unsaturated bond-containing compound and the binder polymer are preferably in the range of 1/9 to 9/1 by weight. A more preferable range is 2/8 to 8/2, still more preferably 3/7 to 7/3.
〔その他の成分〕
また、上記画像形成材料の画像記録層においては、以上の基本成分の他に画像記録層用組成物(以下、感光性組成物ともいう)の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、画像記録層の固形分に対して約0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の固形分に対して約0.5%〜約10%が好ましい。
[Other ingredients]
Further, in the image recording layer of the image forming material, in addition to the above basic components, ethylenic unsaturation that can be polymerized during the production or storage of the composition for image recording layer (hereinafter also referred to as photosensitive composition). It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to prevent unwanted thermal polymerization of the bond-containing compound. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxylamine primary cerium salt, N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% with respect to the solid content of the image recording layer. If necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and unevenly distributed on the surface of the image recording layer in the drying process after coating. Good. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% to about 10% with respect to the solid content of the image recording layer.
更に画像記録層の着色を目的として、着色剤を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料(C.I.Pigment Blue 15:3、15:4、15:6など)、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添加量は画像記録層用全組成物の約0.5%〜約20%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は画像記録層用全組成物の10%以下が好ましい。 Furthermore, a colorant may be added for the purpose of coloring the image recording layer. Examples of the colorant include phthalocyanine pigments (CI Pigment Blue 15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), azo pigments, pigments such as carbon black and titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, There are azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The addition amount of the dye and the pigment is preferably about 0.5% to about 20% of the total composition for the image recording layer. In addition, in order to improve the physical properties of the cured film, an additive such as an inorganic filler or a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate, or tricresyl phosphate may be added. These addition amounts are preferably 10% or less of the total composition for the image recording layer.
〔画像形成材料の形成方法〕
本発明において、画像形成材料の画像記録層組成物を後述のアルミニウム支持体上に塗布する際には、種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート−3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は1〜50重量%が適当である。
[Method of forming image forming material]
In the present invention, when an image recording layer composition of an image forming material is applied on an aluminum support described later, it is dissolved in various organic solvents and used. Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate-3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 1 to 50% by weight.
本発明において画像記録層には、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加することができる。画像記録層の被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.3〜5g/m2である。更に好ましくは0.5〜3g/m2である。 In the present invention, a surfactant can be added to the image recording layer in order to improve the coating surface quality. The coverage of the image recording layer is suitably ranges from about 0.1 g / m 2 ~ about 10 g / m 2 in weight after drying. More preferably from 0.3 to 5 g / m 2. More preferably, it is 0.5-3 g / m < 2 >.
〔保護層〕
通常、露光を大気中で行う場合には、画像記録層の上に、さらに、保護層を設ける事が好ましい。保護層は、画像記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の画像記録層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、この様な保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、画像記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様な、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第3,458,311号、特開昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
[Protective layer]
Usually, when exposure is performed in the air, it is preferable to further provide a protective layer on the image recording layer. The protective layer prevents exposure of low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that hinder the image formation reaction caused by exposure in the image recording layer to the image recording layer. Make it possible. Therefore, the properties desired for such a protective layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, and furthermore, transmission of light used for exposure is not substantially inhibited, and adhesion to the image recording layer is improved. It is desirable that it is excellent and can be easily removed in the development process after exposure. Such a device for the protective layer has been conventionally devised, which is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.
保護層に使用できる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いる事がよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100%加水分解され、分子量が300から2400の範囲のものを挙げる事ができる。 As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound that is relatively excellent in crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, Water-soluble polymers such as polyacrylic acid are known, but among these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis rate of 71 to 100% and a molecular weight in the range of 300 to 2400.
具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。 Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like.
保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の重合層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。 Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that unnecessary polymerization reaction occurs during production and raw storage, and unnecessary fogging and image line thickening occur during image exposure. In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic polymer layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization.
これに対し、これら2層間の接着性を改善すべく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第292,501号、米国特許第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを5〜80重量%混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用する事ができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−49729号公報に詳しく記載されている。 On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, U.S. Pat. No. 292,501 and U.S. Pat. No. 44,563 disclose an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesion can be obtained by mixing by weight% and laminating on the polymerized layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method of the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.
さらに、保護層に他の機能を付与する事もできる。例えば、露光に使う、350nmから450nmの光の透過性に優れ、かつ500nm以上の光を効率良く吸収しうる、着色剤(水溶性染料等)の添加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性をさらに高める事ができる。 Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (such as a water-soluble dye) that is excellent in the transmission of light from 350 nm to 450 nm and that can absorb light of 500 nm or more, which is used for exposure, it is safe light without causing a decrease in sensitivity. The aptitude can be further enhanced.
(支持体)
次に、画像形成材料の支持体について説明する。支持体は、特に限定されないが、アルミニウム支持体が好ましい。アルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニウムまたはその合金(例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルとの合金)、またはアルミニウム、アルミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を意味し、通常その厚さは0.05mm〜1mm程度である。また特開昭48−18327号に記載の複合シートも使用することができる。
(Support)
Next, the support for the image forming material will be described. The support is not particularly limited, but an aluminum support is preferable. Aluminum supports are dimensionally stable aluminum or alloys thereof (eg, alloys with silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel), or aluminum or aluminum alloys laminated or deposited. It means a plastic film or paper, and its thickness is usually about 0.05 mm to 1 mm. A composite sheet described in JP-A-48-18327 can also be used.
アルミニウム支持体は適宜、後述する表面処理が施されることが好ましい。
(砂目立て処理)
砂目立て処理方法は、特開昭56−28893号に開示されているような機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは組み合わせて用いることもできる。その中でも本発明に有用に使用される表面粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂目立てする方法であり、適する電流密度は100C/dm2〜400C/dm2の範囲である。さらに具体的には、0.1〜50%の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度20〜100℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm2〜400C/dm2の条件で電解を行うことが好ましい。
The aluminum support is preferably appropriately subjected to a surface treatment described later.
(Graining treatment)
Examples of the graining method include mechanical graining, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, electrochemical graining method that electrochemically grains in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and wire brush grain method that scratches aluminum surface with metal wire, and ball grain method that graines aluminum surface with abrasive balls and abrasives Further, a mechanical graining method such as a brush grain method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive can be used, and the above graining methods can be used alone or in combination. The method is a method of chemically graining in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution, suitable current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 ranges to make the surface roughness usefully employed in the present invention among them It is. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 100 ° C., for 1 second to 30 minutes, electrolysis at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to carry out.
このように砂目立て処理したアルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤として用いることにより改善できる。本発明において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃であり、Alの溶解量が5〜20g/m3となるような条件が好ましい。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65重量%の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。なお、本発明で有効に用いられるAl支持体の表面粗さ(Ra)は0.3〜0.7μmである。 The grained aluminum support is chemically etched with acid or alkali. When an acid is used as an etching agent, it takes time to destroy the fine structure, which is disadvantageous when the present invention is applied industrially, but it can be improved by using an alkali as the etching agent. As the alkali agent suitably used in the present invention, caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like are used, and preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50 respectively. %, 20 to 100 ° C., and conditions such that the dissolution amount of Al is 5 to 20 g / m 3 are preferable. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65% by weight sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123. In addition, the surface roughness (Ra) of the Al support effectively used in the present invention is 0.3 to 0.7 μm.
(陽極酸化処理)
以上のようにして処理されたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施されることが好ましい。陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を流すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液の濃度が1〜80%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜100V、電解時間10〜100秒の範囲が適当である。
(Anodizing treatment)
The aluminum support treated as described above is preferably further subjected to an anodizing treatment. The anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when a direct current or an alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or a non-aqueous solution by combining sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc. An anodized film can be formed. The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and therefore cannot be determined in general. In general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80%, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. A range of ˜60 amperes / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 to 100 seconds is appropriate.
これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国特許第1,412,768号明細書に記載されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第3,511,661号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明においては、陽極酸化皮膜は1〜10g/m2であることが好ましく、1g/m2以上であると版に傷が入り難く、10g/m2以下であると製造に多大な電力が不要となり、経済的に有利である。好ましくは、1.5〜7g/m2である。更に好ましくは、2〜5g/m2である。 Among these anodizing treatments, a method for anodizing at a high current density in sulfuric acid and U.S. Pat. No. 3,511,661, particularly described in British Patent 1,412,768. A method of anodizing the described phosphoric acid as an electrolytic bath is preferred. In the present invention, the anodized film is preferably from 1~10g / m 2, 1g / m 2 or more plate on difficult to enter scratches If it is, a great deal power production and is 10 g / m 2 or less This is unnecessary and is economically advantageous. Preferably, a 1.5~7g / m 2. More preferably 2-5 g / m 2.
更に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。かかる封孔処理は、熱水又は無機塩または有機塩を含む熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。また本発明のアルミニウム支持体にはアルカリ金属珪酸塩によるシリケート処理又はシリケート処理以外の処理、たとえば弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。 Furthermore, in the present invention, the aluminum support may be subjected to sealing treatment after graining treatment and anodizing. Such sealing treatment is performed by immersing the substrate in hot water or a hot aqueous solution containing an inorganic salt or an organic salt, a steam bath, or the like. The aluminum support of the present invention may be subjected to a surface treatment such as a silicate treatment with an alkali metal silicate or a treatment other than the silicate treatment, for example, an immersion treatment in an aqueous solution of potassium fluorinated zirconate or phosphate.
上記の如く表面処理を施されたアルミニウム支持体上に、前記の光重合性組成物からなる画像記録層を形成することで、本発明の画像形成材料を作製するが、画像記録層を塗設する前に必要に応じて有機または無機の中間層が設けられてもかまわない。 An image recording material of the present invention is produced by forming an image recording layer comprising the photopolymerizable composition on the aluminum support that has been surface-treated as described above. An organic or inorganic intermediate layer may be provided as necessary before the treatment.
〔中間層〕
本発明における画像形成材料には、画像記録層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平11−38635号、特開平11−38629号、特開平10−282645号、特開平10−301262号、特開平11−24277号、特開平11−109641号、特開平10−319600号、特開平11−84674号、特開平11−327152号、特開2000−10292号、特開2000−235254号、特開2000−352824号、特願平11−284091号明細書、特開2001−209170号公報等に記載のものを挙げることができる。
[Middle layer]
In the image forming material of the present invention, an intermediate layer may be provided for the purpose of improving the adhesion and soiling between the image recording layer and the support. Specific examples of such an intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-159983, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, Special Kaihei 8-320551, JP 9-34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP-A-10-282682, JP-A-11-84684, JP-A-10-69092, JP-A-10-115931, Kaihei 11-38635, JP-A-11-38629, JP-A-10-282645, JP-A-10-301262, JP-A-11-24277, JP-A-11-109641, JP-A-10-319600, JP-A-10-319600 11-84684, JP-A-11-327152, JP-A-2000-10292, JP-A-2000-235254, JP-A-2000-352824, Japanese Patent Application No. 11-284091, JP-A-2001-209170. And the like.
〔露光及び現像処理〕
本発明における画像形成材料を、例えば、カーボンアーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリウムカドミニウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、FD・YAGレーザー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザー(350nm〜600nm)等の従来公知の活性光線で画像露光した後、現像処理することにより、アルミニウム板支持体表面に画像を形成することができる。画像露光後、現像までの間に、重合性画像記録層の硬化率を高める目的で50℃〜150℃の温度で1秒〜5分の時間の加熱プロセスを設けることを行っても良い。
[Exposure and development processing]
The image forming material in the present invention is, for example, a carbon arc lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a halogen lamp, a helium cadmium laser, an argon ion laser, an FD / YAG laser, a helium neon laser, a semiconductor. An image can be formed on the surface of the aluminum plate support by exposing the image with a conventionally known actinic ray such as a laser (350 nm to 600 nm) and then developing it. In order to increase the curing rate of the polymerizable image recording layer after image exposure and before development, a heating process may be performed at a temperature of 50 ° C. to 150 ° C. for a period of 1 second to 5 minutes.
また、本発明において画像記録層の上には、前述したように、通常、酸素遮断性を有する保護層が設けてあり、本発明における現像液を用いて、保護層の除去と画像記録層未露光部の除去を同時に行う方法、または、水、温水で保護層を先に除外し、その後未露光部の画像記録層を現像で除去する方法が知られている。これらの水または温水には特開平10−10754号公報に記載の防腐剤等、特開平8−278636号公報に記載の有機溶剤等を含有させることができる。 In addition, as described above, a protective layer having an oxygen barrier property is usually provided on the image recording layer in the present invention. Using the developer in the present invention, the protective layer is removed and the image recording layer is not coated. A method of simultaneously removing the exposed portion, or a method of removing the protective layer first with water and warm water and then removing the image recording layer of the unexposed portion by development is known. These water or warm water can contain a preservative described in JP-A-10-10754, an organic solvent described in JP-A-8-278636, and the like.
本発明において、画像形成材料の現像は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、露光処理した画像形成材料を現像液に浸漬してブラシで擦る等により行う。 In the present invention, the image forming material is developed according to a conventional method at a temperature of 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C., for example, by immersing the exposed image forming material in a developer and rubbing with a brush. To do.
さらに自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させても良い。このようにして現像処理された画像形成材料は特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号などの各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムやデンプン誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明において画像形成材料の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。また画像形成材料が平版印刷版原版である場合には、上記のような処理により得られた印刷版は特開2000−89478号公報に記載の方法による後露光処理やバーニングなどの加熱処理により、耐刷性を向上させることができる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。 Further, when developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored using a replenishing solution or a fresh developing solution. The image forming material thus developed is washed with water, a surfactant and the like as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-1115045, 59-58431, and the like. And a desensitizing solution containing gum arabic, starch derivatives and the like. In the present invention, these treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the image forming material. When the image forming material is a lithographic printing plate precursor, the printing plate obtained by the above treatment is subjected to a heat treatment such as post-exposure treatment or burning by the method described in JP-A-2000-89478. Printing durability can be improved. The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
本発明において画像形成材料が平版印刷版原版である場合には、以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。印刷時、版上の汚れ除去のためプレートクリーナーを使用してもよい。プレートクリーナーとしては、従来より知られているPS版用プレートクリーナーが用いることができ、例えば、CL−1,CL−2,CP,CN−4,CN,CG−1,PC−1,SR,IC(富士写真フイルム株式会社製)等が挙げられる。 In the present invention, when the image forming material is a lithographic printing plate precursor, the lithographic printing plate obtained by the above processing is applied to an offset printing machine and used for printing a large number of sheets. During printing, a plate cleaner may be used to remove stains on the plate. As the plate cleaner, a conventionally known plate cleaner for PS plate can be used. For example, CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG-1, PC-1, SR, IC (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and the like.
以下に本発明を実施例によって具体的に説明するが、勿論、本発明の範囲はこれらにより制限されるものではない。
初めに以下のようにして、画像形成材料として平版印刷版原版(1)〜(4)を作成した。
〔平版印刷版原版(1)〕
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム板を水でよく洗浄し、10%水酸化ナトリウムに70℃60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗、その後20%硝酸で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、1.5%硝酸水溶液中で270クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.30μm(Ra表示)であった。引き続いて、30%の硫酸水溶液中に浸漬し、40℃で2分間デスマットした後、33℃、20%硫酸水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度5A/dm2において、50秒陽極酸化したところ厚さが2.7g/m2であった。
このように処理されたアルミニウム版上に、下記組成の中間層用塗布液を塗布し、乾燥塗布重量が2mg/m2に塗布し、100℃で3分乾燥した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but of course, the scope of the present invention is not limited by these examples.
First, lithographic printing plate precursors (1) to (4) were prepared as image forming materials as follows.
[Lithographic printing plate precursor (1)]
A 0.3 mm thick material 1S aluminum plate was thoroughly washed with water, etched by dipping in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, washed with running water, then neutralized and washed with 20% nitric acid, and washed with water. . This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1.5% nitric acid aqueous solution with an electric quantity at the anode of 270 coulomb / dm 2 using a sinusoidal alternating current under the condition of V A = 12.7V. When the surface roughness was measured, it was 0.30 μm (Ra indication). Subsequently, after dipping in a 30% aqueous sulfuric acid solution and desmutting at 40 ° C. for 2 minutes, a cathode was placed on the grained surface in a 33 ° C., 20% aqueous sulfuric acid solution at a current density of 5 A / dm 2 . When anodized for 50 seconds, the thickness was 2.7 g / m 2 .
On the aluminum plate thus treated, an intermediate layer coating solution having the following composition was applied, applied to a dry coating weight of 2 mg / m 2, and dried at 100 ° C. for 3 minutes.
<中間層用塗布液>
下記組成を混合攪拌し、約5分後に発熱が見られ、60分間反応させた後、メタノール20,000gを加えた液。
<Coating liquid for intermediate layer>
The following composition was mixed and stirred. After about 5 minutes, exotherm was observed, and after reacting for 60 minutes, 20,000 g of methanol was added.
メタノール 100g
DDP−8(燐酸化合物:日光ケミカル製) 15g
水 10g
燐酸 5g
テトラエトキシシラン 50g
3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン 50g
Methanol 100g
DDP-8 (phosphate compound: manufactured by Nikko Chemical) 15g
10g of water
Phosphoric acid 5g
Tetraethoxysilane 50g
3-Methacryloxypropyltriethoxysilane 50g
この下塗り層上に、下記組成の光重合性組成物1を乾燥塗布重量が1.5g/m2になるように塗布し、100℃で90秒間乾燥させ感光層を形成した。
On this undercoat layer, a
<光重合性組成物1>
エチレン性不飽和結合含有化合物(A1) 1.8g
バインダーポリマー(B1) 1.5g
増感色素(C1) 0.15g
光重合開始剤(D1) 0.2g
β−フタロシアニン(F1)分散物 0.2g
フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF177(DIC製) 0.03g
メチルエチルケトン 10g
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 10g
<
1.8g of ethylenically unsaturated bond-containing compound (A1)
Binder polymer (B1) 1.5g
Sensitizing dye (C1) 0.15 g
Photoinitiator (D1) 0.2g
β-phthalocyanine (F1) dispersion 0.2 g
Fluorine nonionic surfactant Megafac F177 (manufactured by DIC) 0.03g
Methyl ethyl ketone 10g
10g of propylene glycol monomethyl ether acetate
このように形成された光重合性感光層上にポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500)の3重量%の水溶液を乾燥塗布重量が2.5g/m2になるように塗布し、100℃で90秒間乾燥させ、平版印刷版原版(1)を得た。 A 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree: 98 mol%, polymerization degree: 500) was applied on the photopolymerizable photosensitive layer thus formed so that the dry coating weight was 2.5 g / m 2. The plate was dried at 100 ° C. for 90 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor (1).
〔平版印刷版原版(2)〕
上記平版印刷版原版(1)において、光重合性組成物1におけるC−1をC−2(後述)に変更した光重合性組成物2を使用した以外は同様の方法で、平版印刷版原版(2)を作成した。
[Lithographic printing plate precursor (2)]
The lithographic printing plate precursor (1) is the same as the lithographic printing plate precursor (1) except that the photopolymerizable composition 2 in which C-1 in the
〔平版印刷版原版(3)〕
平版印刷版原版(2)において、光重合性組成物2に更にトリアジン化合物(I)−1を0.1g添加した光重合性組成物3を用いた以外は同様の方法で、平版印刷版原版(3)を作成した。
[Lithographic printing plate precursor (3)]
The planographic printing plate precursor (2) is the same as the planographic printing plate precursor (2) except that the photopolymerizable composition 3 obtained by adding 0.1 g of the triazine compound (I) -1 to the photopolymerizable composition 2 is used. (3) was created.
〔平版印刷版原版(4)〕
厚さ0.30mmの材質1Sのアルミニウム板を8号ナイロンブラシと800メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、20%HNO3で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、1%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理
を行った。その表面粗さを測定したところ、0.45μm(Ra表示)であった。引き続いて、30%のH2SO4水溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、33℃、20%H2SO4水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度5A/dm2において50秒間陽極酸化したところ、厚さが2.7g/m2の陽極酸化被膜が形成された。
[Lithographic printing plate precursor (4)]
An aluminum plate made of material 1S having a thickness of 0.30 mm was used with a No. 8 nylon brush and an aqueous suspension of 800 mesh Pamiston, and its surface was grained and washed thoroughly with water. After etching by immersing in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, washed with running water, neutralized and washed with 20% HNO 3 and washed with water. This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% nitric acid aqueous solution with a quantity of electricity at the anode of 300 coulomb / dm 2 using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of V A = 12.7V. When the surface roughness was measured, it was 0.45 μm (Ra indication). Subsequently, after dipping in a 30% H 2 SO 4 aqueous solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, a cathode was placed on the grained surface in a 33 ° C., 20% H 2 SO 4 aqueous solution. When anodization was performed for 50 seconds at a density of 5 A / dm 2 , an anodized film having a thickness of 2.7 g / m 2 was formed.
上記の陽極酸化被膜が形成されたアルミニウム板に、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム共重合体(60/25/15モル比、分子量Mn=3万)を、水/メタノール=5g/95gに溶解した液を塗布量が3mg/m2となるように塗布し、80℃、30秒間乾燥させたものを支持体とした。 On the aluminum plate on which the anodized film is formed, methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium copolymer (60/25/15 molar ratio, molecular weight Mn = 30,000) A support obtained by applying a solution dissolved in water / methanol = 5 g / 95 g so that the coating amount was 3 mg / m 2 and drying at 80 ° C. for 30 seconds was used.
この中間層上に、下記組成の光重合性組成物4を乾燥塗布重量が1.5g/m2になるように塗布し、100℃で90秒間乾燥させ感光層を形成した。 On this intermediate layer, a photopolymerizable composition 4 having the following composition was applied such that the dry coating weight was 1.5 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 90 seconds to form a photosensitive layer.
<光重合性組成物4>
エチレン性不飽和結合含有化合物(A2) 1.5g
バインダーポリマー(B2) 1.8g
増感色素(C2) 0.1g
上記光重合開始剤(D1) 0.2g
β−フタロシアニン(F1)分散物 0.2g
フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF177(DIC製) 0.03g
メチルエチルケトン 10g
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 10g
<Photopolymerizable composition 4>
Ethylenically unsaturated bond-containing compound (A2) 1.5 g
Binder polymer (B2) 1.8g
Sensitizing dye (C2) 0.1g
0.2 g of the above photopolymerization initiator (D1)
β-phthalocyanine (F1) dispersion 0.2 g
Fluorine nonionic surfactant Megafac F177 (manufactured by DIC) 0.03g
Methyl ethyl ketone 10g
10g of propylene glycol monomethyl ether acetate
このように形成された光重合性感光層上にポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500)の3重量%の水溶液を乾燥塗布重量が2.5g/m2になるように塗布し、100℃で90秒間乾燥させ、平版印刷版原版(4)を得た。 A 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree: 98 mol%, polymerization degree: 500) was applied on the photopolymerizable photosensitive layer thus formed so that the dry coating weight was 2.5 g / m 2. And dried at 100 ° C. for 90 seconds to obtain a planographic printing plate precursor (4).
これらの平版印刷版原版の内、平版印刷版原版(1)(光重合性組成物1)はFD・YAGレーザー(CSI社製プレートジェット4)で、平版印刷版原版(2)〜(4)(光重合性組成物2〜4)はVioletレーザー(富士写真フイルム社製ラクセルVx9600CTP)にて、露光量を変え、2400dpiで175線の条件で画像露光した。 Among these lithographic printing plate precursors, the lithographic printing plate precursor (1) (photopolymerizable composition 1) is an FD • YAG laser (plate jet 4 manufactured by CSI), and the lithographic printing plate precursors (2) to (4) (Photopolymerizable compositions 2 to 4) were subjected to image exposure under conditions of 175 lines at 2400 dpi with a Violet laser (Luxel Vx9600CTP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with different exposure amounts.
現像は下記組成の現像液およびフィニッシングガム液FP−2W(富士写真フイルム社製)を仕込んだ自動現像機(富士写真フイルム社製LP−850PII)で標準処理を行った。 For development, standard processing was performed with an automatic processor (LP-850PII, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) charged with a developer having the following composition and finishing gum solution FP-2W (Fuji Photo Film Co., Ltd.).
<現像液>
下記成分を水に溶解し、現像液を調製した。
炭酸塩 a mol/L
炭酸水素塩 b mol/L
界面活性剤 c g/L
添加剤 d g/L
エチレンジアミンテトラ酢酸・4Na塩(キレート剤) 2 g/L
<Developer>
The following components were dissolved in water to prepare a developer.
Carbonate a mol / L
Bicarbonate b mol / L
Surfactant cg / L
Additive dg / L
Ethylenediaminetetraacetic acid, 4Na salt (chelating agent) 2 g / L
[評価]
現像性評価の指標として、アルカリ現像液による非画像部の現像速度を測定し、また、耐刷性評価の指標として、アルカリ現像液の画像記録層への浸透速度を測定した。
以下に、本発明における「アルカリ現像液による非画像部の現像速度」及び「アルカリ現像液の画像記録層への浸透速度」の測定方法について詳細に説明する。
[Evaluation]
The development speed of the non-image area with an alkaline developer was measured as an index for evaluation of developability, and the penetration speed of the alkaline developer into the image recording layer was measured as an index for evaluation of printing durability.
Hereinafter, a method for measuring the “development speed of the non-image area with the alkali developer” and the “penetration speed of the alkali developer into the image recording layer” in the present invention will be described in detail.
<アルカリ現像液による非画像部の現像速度の測定>
ここで、アルカリ現像液による非画像部の現像速度とは、画像記録層(非画像部)の膜厚(m)を現像に要する時間(sec)で除した値である。本発明における現像速度の測定方法としては、図1に示すように、アルミニウム支持体上に未露光の画像記録層を備えたものを範囲の一定のアルカリ現像液(30℃)中に浸漬し、画像記録層の溶解挙動をDRM干渉波測定装置で調査した。図1に、画像記録層の溶解挙動を測定するためのDRM干渉波測定装置の概略図を示す。本発明においては、640nmの光を用い干渉により膜厚の変化を検出した。現像挙動が画像記録層表面からの非膨潤的現像の場合、膜厚は現像時間に対して徐々に薄くなり、その厚みに応じた干渉波が得られる。また、膨潤的溶解(脱膜的溶解)の場合には、膜厚は現像液の浸透により変化するため、きれいな干渉波が得られない。
<Measurement of development speed of non-image area with alkali developer>
Here, the development speed of the non-image area with the alkali developer is a value obtained by dividing the film thickness (m) of the image recording layer (non-image area) by the time (sec) required for development. As a measuring method of the developing speed in the present invention, as shown in FIG. 1, the one provided with an unexposed image recording layer on an aluminum support is immersed in a certain alkaline developer (30 ° C.) in a range, The dissolution behavior of the image recording layer was investigated with a DRM interference wave measuring device. FIG. 1 shows a schematic diagram of a DRM interference wave measuring apparatus for measuring the dissolution behavior of an image recording layer. In the present invention, a change in film thickness was detected by interference using light of 640 nm. When the development behavior is non-swelling development from the surface of the image recording layer, the film thickness gradually decreases with respect to the development time, and an interference wave corresponding to the thickness can be obtained. Further, in the case of swelling dissolution (film removal dissolution), the film thickness changes due to the penetration of the developer, so that a clean interference wave cannot be obtained.
この条件において測定を続け、画像記録層が完全に除去され、膜厚が0となるまでの時間(現像完了時間)(s)と、画像記録層の膜厚(μm)より、現像速度を以下の式により求めることができる。この現像速度が大きいものほど、現像液により容易に膜が除去され、現像性が良好であると判定する。
(未露光部の)現像速度=〔画像記録層厚(μm)/記録完了時間(sec)〕
実技性能との対応を得るため、版材の現像性試験をった(現像性評価参照)。
The measurement is continued under these conditions, and the development speed is determined from the time until the image recording layer is completely removed and the film thickness becomes zero (development completion time) (s) and the film thickness (μm) of the image recording layer. It can obtain | require by the type | formula. It is determined that the higher the development speed, the easier the film is removed by the developer and the better the developability.
Development speed (of unexposed area) = [Image recording layer thickness (μm) / Recording completion time (sec)]
In order to obtain correspondence with practical performance, the developability test of the plate material was performed (see developability evaluation).
<アルカリ現像液の画像記録層への浸透速度の測定>
また、アルカリ現像液の画像記録層への浸透速度とは、導電性支持体上に前記画像記録層を製膜し、現像液に浸漬した場合の静電容量(F)の変化速度を示す値である。
本発明における浸透性の目安となる静電容量の測定方法としては、図2に示すように、アルカリ現像液(28℃)中に、露光して(光重合性組成物1はFD・YAGレーザー(CSI社製プレートジェット4)で、露光量を0.25mJ/cm2、光重合性組成物2、3はVioletレーザー(富士写真フイルム社製ラクセルVx9600CTP)にて、露光量を0.05mJ/cm2露光)、硬化した画像記録層を備えたアルミニウム支持体を一方の電極として浸漬し、アルミニウム支持体に導線をつなぎ、他方に通常の電極を用いて電圧を印加する方法が挙げられる。電圧を印加後、浸漬時間の経過に従って現像液が支持体と画像記録層との界面に浸透し、静電容量が変化する
。
<Measurement of penetration rate of alkali developer into image recording layer>
Further, the permeation speed of the alkali developer into the image recording layer is a value indicating the change speed of the capacitance (F) when the image recording layer is formed on a conductive support and immersed in the developer. It is.
As shown in FIG. 2, the method of measuring the electrostatic capacity, which is a measure of permeability in the present invention, is exposed to an alkali developer (28 ° C.) (the
この静電容量が変化するまでにかかる時間(s)と、画像記録層の膜厚(μm)より以下の式により求めることができる。この浸透速度が小さいものほど、現像液の浸透性が低いと判定する。
(露光部の)現像液浸透速度=
〔画像記録層厚(μm)/静電容量変化が一定になるまでに要する時間(s)〕
実技性能との対応を得るため、得られた版材を印刷機にかけ耐刷性試験を行った
(耐刷性評価参照)。
From the time (s) required until the capacitance changes and the film thickness (μm) of the image recording layer, it can be obtained by the following equation. It is determined that the smaller the permeation rate, the lower the permeability of the developer.
Developer penetration rate (of exposed area) =
[Image recording layer thickness (μm) / Time required for capacitance change to be constant (s)]
In order to obtain correspondence with practical performance, the obtained plate material was subjected to a printing durability test on a printing press (see printing durability evaluation).
本発明の平版印刷版原版における画像記録層の物性としては、アルカリ現像液に対する未露光部の現像速度が80nm/sec以上が好ましく、より好ましくは80〜400nm/secであり、更に好ましくは90〜200nm/secである。また、アルカリ現像液の露光部における浸透速度は100nF/sec以下であることが好ましく、より好ましくはは90nF/sec以下、更に好ましくは80nF/sec以下である。 As the physical properties of the image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention, the development rate of the unexposed portion with respect to the alkaline developer is preferably 80 nm / sec or more, more preferably 80 to 400 nm / sec, and still more preferably 90 to 200 nm / sec. The penetration rate of the alkali developer in the exposed area is preferably 100 nF / sec or less, more preferably 90 nF / sec or less, and still more preferably 80 nF / sec or less.
(現像性評価)
富士写真フイルム社製LP−850PIIを用い、表1に記載の現像液により28℃18秒で現像し、実際の非画像部の現像性を観察した。
(耐刷性評価)
平版印刷版原版(1)〜(3)を、光重合性組成物1はFD・YAGレーザー(CSI社製プレートジェット4)で2400dpiで175線、0.25mJ/cm2で画像露光、光重合性組成物2、3はVioletレーザー(富士写真フイルム社製ラクセルVx9600CTP)にて、2400dpiで175線、0.05mJ/cm2で画像露光した。
露光後、水道水による水洗により保護層を除去した後、富士写真フイルム社製LP−850PIIを用い、28℃18秒で現像した。フィニッシャーは、富士フイルム(株)社製FP−2Wの1:1水希釈液を用いた。
得られた平版印刷版を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて印刷し、刷了枚数を耐刷性の指標とした。
(Developability evaluation)
Using LP-850PII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., developed with the developer shown in Table 1 at 28 ° C. for 18 seconds, and the actual developability of the non-image area was observed.
(Evaluation of printing durability)
The lithographic printing plate precursors (1) to (3), the
After the exposure, the protective layer was removed by rinsing with tap water, and then developed at 28 ° C. for 18 seconds using LP-850PII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FP-2W manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was used.
The obtained lithographic printing plate was printed using a printing press Lithron manufactured by Komori Corporation, and the number of finished sheets was used as an index of printing durability.
(空気中炭酸ガスによるpH低下)
各現像液を富士写真フイルム社製LP−850PIIに仕込み、1日版材を処理せず、放置した後のpH変動を求めた。
(PH drop due to carbon dioxide in the air)
Each developer was charged into LP-850PII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and the plate material was not processed for 1 day, and the pH fluctuation after standing was determined.
(現像カスの評価)
上述の塗布感材20m2を上述の現像液(1リットル)中で現像後、1ヶ月放置し沈降した現像カスの有無を調査した。この結果も示す。
(Evaluation of development residue)
The above-mentioned coated photosensitive material 20 m 2 was developed in the above-mentioned developer (1 liter) and left for 1 month to investigate the presence or absence of development residue. This result is also shown.
表2〜5の結果から明らかなように、本発明の画像形成方法により、画像形成材料へのダメージが少ない比較的低いpH(8.5〜11.5)でも十分な現像性が得られ、良好な耐刷性が得られた。また、現像液のpH変動が小さいことから、炭酸ガスによる現像活性の低下が小さいと考えられる。また、現像カスによる問題もほとんど発生しなかった(表2〜5、現像液1〜13)。一方、本発明の画像形成方法によらず、画像形成を行った場合には、残膜が生じて十分な現像性が確保できなかったり、耐刷性が低下したり、さらに現像カスが現像浴内に沈殿するという現象が見られた(表2〜5、比較現像液14〜19)。
As is apparent from the results in Tables 2 to 5, the image forming method of the present invention provides sufficient developability even at a relatively low pH (8.5 to 11.5) with little damage to the image forming material, and good printing durability. Sex was obtained. Further, since the pH fluctuation of the developer is small, it is considered that the decrease in development activity due to carbon dioxide gas is small. Moreover, almost no problems due to development residue occurred (Tables 2 to 5,
Claims (8)
X−Y−O−(A)n−(B)m−H (1)
(式中、Xは置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Yは単結合又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し、A及びBは互いに異なる基であって、−CH2CH2O−又は−CH2CH(CH3)O−のいずれかを表し、n、mはそれぞれ0又は1〜100の整数を表し、但しnとmは同時に0ではなく、またn若しくはmのいずれかが0である場合にはn及びmは1ではない。)。 A photopolymerization type in which an image recording layer containing a photopolymerization initiation system sensitive to light in the visible light to ultraviolet wavelength region, a polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group, and a binder polymer is formed on a support. After image exposure of the image forming material, at least one interface selected from the group consisting of a nonionic aromatic ether surfactant represented by the following formula (1), which contains at least one carbonate and at least one bicarbonate. An image forming method comprising developing with a developer containing 1.0% to 10% by weight of an activator, having a pH of 8.5 to 11.5, and a conductivity x of 30 <x <100 mS / cm:
X-Y-O- (A) n- (B) m-H (1)
(In the formula, X represents an aromatic group which may have a substituent, Y represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, A and B are groups different from each other, and- Represents either CH 2 CH 2 O— or —CH 2 CH (CH 3 ) O—, n and m each represents 0 or an integer of 1 to 100, provided that n and m are not 0 at the same time, and n Or, if either m is 0, n and m are not 1.)
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003370768A JP2005134657A (en) | 2003-10-30 | 2003-10-30 | Method for forming image |
US10/973,918 US7115352B2 (en) | 2003-10-30 | 2004-10-27 | Method for forming images |
DE602004014577T DE602004014577D1 (en) | 2003-10-30 | 2004-10-28 | Imaging process |
AT04025679T ATE399337T1 (en) | 2003-10-30 | 2004-10-28 | IMAGING PROCESS |
EP04025679A EP1528435B1 (en) | 2003-10-30 | 2004-10-28 | Method for forming images |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003370768A JP2005134657A (en) | 2003-10-30 | 2003-10-30 | Method for forming image |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005134657A true JP2005134657A (en) | 2005-05-26 |
Family
ID=34647674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003370768A Pending JP2005134657A (en) | 2003-10-30 | 2003-10-30 | Method for forming image |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005134657A (en) |
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