JP2004184880A - 薄膜光ファイバの被覆構造 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光ファイバ裸線13を被覆した薄膜被覆層14に2層もしくは3層から成る保護被覆層15,16を設けた光ファイバ心線10の被覆構造において、薄膜被覆層14の次に被覆する第2層目の被覆層15は、該薄膜被覆層14に対する密着力が40g/mm以下の紫外線硬化型樹脂で構成すること。
【選択図】図1
Description
【産業上の利用分野】
この発明は、光ファイバ裸線を被覆した薄膜被覆層に2層もしくは3層から成る保護被覆層を設けた薄膜光ファイバの被覆構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、光ファイバを接続するに際し、圧着型コネクターを用いて接続する方法が多用されつつあり、それに伴い、光ファイバ裸線を構成するクラッド層上に、このクラッド層に対して密着性の良い非剥離性の薄膜被覆層を被覆することが知られている。(特許文献1参照)
【0003】
図3はこのような薄膜被覆層を有する光ファイバ心線の断面図であって、通常5μmから15μmのコア1及びクラッド2から成るSM光ファイバ裸線3の上に密着性の良好な薄膜の非剥離性のUV硬化型樹脂が被覆されている(薄膜樹脂層4)。この薄膜樹脂層4の外径は125μmであり、この上に更にUV硬化型樹脂から成る第2層目被覆層5,第3層目被覆層6が保護被覆層として被覆されて光ファイバ心線7が仕上げられている。
【0004】
【特許文献1】
特開2000−81552号公報(第2−3頁、第1図)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の光ファイバ心線7はその使用に際し、外側の第2層目被覆層5および第3層目被覆層6のみが剥ぎ取られて接続されるが、第2層目被覆層5の薄膜樹脂層4に対する密着力が何ら考慮されていないために、例えばその密着力が大きいと薄膜樹脂層4がクラッド2から剥離することがあった。
【0006】
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、その目的とするところは、第2層目被覆層に低密着型のUV硬化型樹脂を使用して、薄膜樹脂層がクラッドから剥離することを抑制した薄膜光ファイバを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の薄膜光ファイバの被覆構造は、光ファイバ裸線を被覆した薄膜被覆層に2層もしくは3層から成る保護被覆層を設けた薄膜光ファイバの被覆構造であって、前記薄膜被覆層の次に被覆する第2層目の被覆層は、該薄膜被覆層に対する密着力が40g/mm以下の紫外線硬化型樹脂とすることにある。
このようにすることにより、薄膜被覆層に対する密着力が40g/mm以下であれば、薄膜樹脂層がクラッドから剥離することを抑制することができる。
【0008】
【実施例】
図1は本発明の光ファイバ心線の断面図であって、以下、本発明の光ファイバ心線の構造を図1に基づいて説明する。
10は光ファイバ心線であり、中央にガラスファイバのコア11とクラッド12から成る光ファイバ裸線13と、その外周を取り巻く裸線保護と機械的強度の補償のための樹脂から成る薄膜の被覆層(薄膜被覆層)14とで構成されている。
【0009】
この薄膜被覆層14は仕上がり外径が略125μmで、UV硬化型(紫外線硬化型)樹脂で成形され、クラッド12に対して剥離しないように被覆されている。
【0010】
薄膜被覆層14の外周には、更に2層目となるソフトUV被覆層(第2層目被覆層)15と、3層目となるハードUV被覆層(第3層目被覆層)16が被覆されている。これら2層目及び3層目の被覆層15,16は、光ファイバ裸線13の保護効果の大きいもの、すなわち側圧や温度変化による伝送損失を抑えることができるものであることが望ましい。
【0011】
そこで、薄膜被覆層14に対する2層目の被覆層15の密着力を種々変化させた光ファイバ心線を多数用意して、密着力の評価テストを行った。図2は評価テストに用いた冶具の概略図である。
【0012】
図2において、光ファイバ心線10をその心線径に合った溝を有する固定具20に所定長接着し、3mm/minの引っ張り速度で2層目及び3層目の被覆層15,16に円周状の切り目を入れ、2層目及び3層目の被覆層15,16から1層目である薄膜被覆層14が塗布されたままの石英ガラスを任意の長さ引き抜き、そのときの最大応力をロードセル21で計測した。密着力の大きさは心線に作用した最大応力を固定具20に固定した心線長で除した値とする。
【0013】
テスト結果は、表1に示すように、密着力がほぼ40g/mm以下のものでは薄膜被覆層14が剥離は5%以下と小さく、密着力が50g/mmと増加すると薄膜被覆層14が剥離する頻度は40%と増え、密着力が150g/mmになると、ほぼ100%の割合で薄膜被覆層14が剥離することが判明した。
【表1】
【0014】
以上の結果から、第2層目の被覆層15の薄膜被覆層14に対する密着力を40g/mm以下とすれば、光ファイバの接続時等において外層被覆を剥ぐ必要が生じた場合、ほぼ第2層目被覆層15,第3層目被覆層16の保護被覆層のみが剥ぎ取られ、薄膜被覆層14がクラッド12から剥離するのを顕著に低減し、薄膜被覆層14にまで影響が及ぶことが可及的に抑制されるので、伝送特性の劣化も回避でき、上述のように密着力を40g/mm以下としても実用上差し支えない。
【0015】
【発明の効果】
本発明によれば、次のような効果が得られる。
(a)請求項1の発明によれば、薄膜被覆層に対する密着力が40g/mm以下であれば、薄膜樹脂層がクラッドから剥離することを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ファイバ心線の断面図である。
【図2】評価テストに用いた冶具の概略図である。
【図3】従来の光ファイバ心線の断面図である。
【符号の説明】
1,11・・・コア
2,12・・・クラッド
3,13・・・光ファイバ裸線
4・・・薄膜樹脂層
5・・・第2層目被覆層
6・・・第3層目被覆層
7,10・・・光ファイバ心線
14・・・薄膜被覆層
15・・・2層目となるソフトUV被覆層(第2層目被覆層)
16・・・3層目となるハードUV被覆層(第3層目被覆層)
20・・・固定具
21・・・ロードセル
Claims (1)
- 光ファイバ裸線を被覆した薄膜被覆層に2層もしくは3層から成る保護被覆層を設けた薄膜光ファイバの被覆構造であって、前記薄膜被覆層の次に被覆する第2層目の被覆層は、該薄膜被覆層に対する密着力が40g/mm以下の紫外線硬化型樹脂である薄膜光ファイバの被覆構造。
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---|---|---|---|
JP2002354343A JP2004184880A (ja) | 2002-12-05 | 2002-12-05 | 薄膜光ファイバの被覆構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002354343A JP2004184880A (ja) | 2002-12-05 | 2002-12-05 | 薄膜光ファイバの被覆構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004184880A true JP2004184880A (ja) | 2004-07-02 |
Family
ID=32755381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2002354343A Pending JP2004184880A (ja) | 2002-12-05 | 2002-12-05 | 薄膜光ファイバの被覆構造 |
Country Status (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2002-12-05 JP JP2002354343A patent/JP2004184880A/ja active Pending
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