JP2002190460A - 研磨布、研磨装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
研磨布、研磨装置および半導体装置の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 ドレッシング処理を施さずに、比較的長い時
間に亘って安定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供
しようとするものである。 【解決手段】 水系媒体で加水分解されるα、β−不飽
和のホモポリマーまたはコポリマー等の高分子材料を含
む研磨層を有する研磨布とする。
間に亘って安定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供
しようとするものである。 【解決手段】 水系媒体で加水分解されるα、β−不飽
和のホモポリマーまたはコポリマー等の高分子材料を含
む研磨層を有する研磨布とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、研磨布、研磨装置
および半導体装置の製造方法に関する。
および半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置の製造において半導体
基板(例えば半導体ウェハ)を鏡面仕上げしたり、半導
体ウェハ上の絶縁膜を平坦化したり、または埋め込み配
線を形成するために金属膜をエッチバックしたりする場
合には、研磨布を有する研磨装置が用いられている。
基板(例えば半導体ウェハ)を鏡面仕上げしたり、半導
体ウェハ上の絶縁膜を平坦化したり、または埋め込み配
線を形成するために金属膜をエッチバックしたりする場
合には、研磨布を有する研磨装置が用いられている。
【0003】前記研磨装置は、硬質発泡ポリウレタンま
たは硬質発泡ポリウレタンとポリウレタン不織布の二層
構造からなる表面に微細な凹凸を有する研磨布が被覆さ
れた回転テーブルと、前記研磨布に研磨砥粒等を含む研
磨スラリーを供給する供給管と、前記ターンテーブルの
上方に上下動自在でかつ回転自在に配置されたホルダと
を備えた構造を有する。このような研磨装置により例え
ば半導体ウェハ上の配線に堆積した絶縁膜を平坦化する
には、前記ホルダにより半導体ウェハをその研磨面であ
る絶縁膜が前記研磨布に対向するように保持し、前記供
給管から研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給しながら、
前記ホルダにより前記半導体ウェハを前記研磨布に向け
て所望の荷重を与え、さらに前記ホルダおよび前記回転
テーブルを同方向に回転させる。
たは硬質発泡ポリウレタンとポリウレタン不織布の二層
構造からなる表面に微細な凹凸を有する研磨布が被覆さ
れた回転テーブルと、前記研磨布に研磨砥粒等を含む研
磨スラリーを供給する供給管と、前記ターンテーブルの
上方に上下動自在でかつ回転自在に配置されたホルダと
を備えた構造を有する。このような研磨装置により例え
ば半導体ウェハ上の配線に堆積した絶縁膜を平坦化する
には、前記ホルダにより半導体ウェハをその研磨面であ
る絶縁膜が前記研磨布に対向するように保持し、前記供
給管から研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給しながら、
前記ホルダにより前記半導体ウェハを前記研磨布に向け
て所望の荷重を与え、さらに前記ホルダおよび前記回転
テーブルを同方向に回転させる。
【0004】前述した研磨において、前記研摩スラリー
中の0.2μm前後の研磨砥粒が研磨布の開放気孔(通
常40〜50μm径)に充填され、前記研磨布と前記半
導体ウェハの間に研磨砥粒が均一に分散され、かつ開放
気孔間の研磨布部分にも研磨砥粒が保持される。このた
め、前記半導体ウェハの絶縁膜が機械的に研磨され、そ
の結果絶縁膜表面が平坦化される。
中の0.2μm前後の研磨砥粒が研磨布の開放気孔(通
常40〜50μm径)に充填され、前記研磨布と前記半
導体ウェハの間に研磨砥粒が均一に分散され、かつ開放
気孔間の研磨布部分にも研磨砥粒が保持される。このた
め、前記半導体ウェハの絶縁膜が機械的に研磨され、そ
の結果絶縁膜表面が平坦化される。
【0005】しかしながら、長い時間に亘って研磨を続
行すると開放気孔に研磨砥粒が蓄積されて開放気孔間の
研磨布部分に存在する研磨砥粒が増大する。つまり、研
磨砥粒による研磨力が増大する。その結果、研磨初期に
比べて研磨速度が高くなる、いわゆる研磨性能の変動を
招く。
行すると開放気孔に研磨砥粒が蓄積されて開放気孔間の
研磨布部分に存在する研磨砥粒が増大する。つまり、研
磨砥粒による研磨力が増大する。その結果、研磨初期に
比べて研磨速度が高くなる、いわゆる研磨性能の変動を
招く。
【0006】従来、前述したように研磨性能が変動した
研磨布は、多数のダイヤモンド粒子を金属製の基材に電
着した構造のドレッシングツールを有するドレッシング
装置を用いて処理し、再生することが行われている。し
かしながら、このようなドレッシングは被研磨部材の研
磨毎に施さない限り、研磨布による研磨性能の変動を回
避することが困難であるため、ドレッシング処理を含む
研磨操作が煩雑になる。
研磨布は、多数のダイヤモンド粒子を金属製の基材に電
着した構造のドレッシングツールを有するドレッシング
装置を用いて処理し、再生することが行われている。し
かしながら、このようなドレッシングは被研磨部材の研
磨毎に施さない限り、研磨布による研磨性能の変動を回
避することが困難であるため、ドレッシング処理を含む
研磨操作が煩雑になる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ドレッシン
グ処理を施さずに、比較的長い時間に亘って安定した研
磨性能を発揮し得る研磨布を提供しようとするものであ
る。
グ処理を施さずに、比較的長い時間に亘って安定した研
磨性能を発揮し得る研磨布を提供しようとするものであ
る。
【0008】本発明は、研磨砥粒の自動供給機能を有
し、かつドレッシングを施さずに、比較的長い時間に亘
って安定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供しよう
とするものである。
し、かつドレッシングを施さずに、比較的長い時間に亘
って安定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供しよう
とするものである。
【0009】本発明は、前述の安定した研磨性能を有す
る研磨布を備えた研磨装置を提供しようとするものであ
る。
る研磨布を備えた研磨装置を提供しようとするものであ
る。
【0010】本発明は、半導体基板上の絶縁膜に溝およ
び開口部から選ばれる少なくとも1つの埋込み用部材に
高精度の埋め込み配線層のような導電部材を安定して形
成することが可能な半導体装置の製造方法を提供しよう
とするものである。
び開口部から選ばれる少なくとも1つの埋込み用部材に
高精度の埋め込み配線層のような導電部材を安定して形
成することが可能な半導体装置の製造方法を提供しよう
とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明に係る研磨布は、
水系媒体で加水分解される高分子材料を含む研磨層を有
することを特徴とするものである。
水系媒体で加水分解される高分子材料を含む研磨層を有
することを特徴とするものである。
【0012】本発明に係る別の研磨布は、水系媒体で加
水分解される高分子材料とこの高分子材料に分散された
酸化セリウム、酸化マンガン、シリカ、アルミナおよび
ジルコニアからなる群から選ばれる少なくとも1つの研
磨砥粒とを含む研磨層を有することを特徴とするもので
ある。
水分解される高分子材料とこの高分子材料に分散された
酸化セリウム、酸化マンガン、シリカ、アルミナおよび
ジルコニアからなる群から選ばれる少なくとも1つの研
磨砥粒とを含む研磨層を有することを特徴とするもので
ある。
【0013】本発明に係るさらに別の研磨布は、水系媒
体に可溶な高分子材料を含む研磨層を有することを特徴
とするものである。
体に可溶な高分子材料を含む研磨層を有することを特徴
とするものである。
【0014】本発明に係るさらに別の研磨布は、水系媒
体に可溶な高分子材料とこの高分子材料に分散された酸
化セリウム、酸化マンガン、シリカ、アルミナおよびジ
ルコニアからなる群から選ばれる少なくとも1つの研磨
砥粒とを含む研磨層を有することを特徴とするものであ
る。
体に可溶な高分子材料とこの高分子材料に分散された酸
化セリウム、酸化マンガン、シリカ、アルミナおよびジ
ルコニアからなる群から選ばれる少なくとも1つの研磨
砥粒とを含む研磨層を有することを特徴とするものであ
る。
【0015】本発明に係るさらに別の研磨布は、水系媒
体が存在する非摩擦力の下で表面が溶出せず、摩擦力の
下で表面が溶出する研磨層を有することを特徴とするも
のである。
体が存在する非摩擦力の下で表面が溶出せず、摩擦力の
下で表面が溶出する研磨層を有することを特徴とするも
のである。
【0016】本発明に係るさらに別の研磨布は、酸化セ
リウム、酸化マンガン、シリカ、アルミナおよびジルコ
ニアからなる群から選ばれる少なくとも1つの研磨砥粒
を分散して含有し、水系媒体が存在する非摩擦力の下で
表面が溶出せず、摩擦力の下で表面が溶出すると共に前
記研磨砥粒がその表面に供給される研磨層を有すること
を特徴とするものである。
リウム、酸化マンガン、シリカ、アルミナおよびジルコ
ニアからなる群から選ばれる少なくとも1つの研磨砥粒
を分散して含有し、水系媒体が存在する非摩擦力の下で
表面が溶出せず、摩擦力の下で表面が溶出すると共に前
記研磨砥粒がその表面に供給される研磨層を有すること
を特徴とするものである。
【0017】本発明に係る研磨装置は、前述した研砥粒
を含まない研磨層を有する研磨布が表面に取付けられた
回転テーブルと、前記回転テーブルの上方に上下動自在
でかつ回転自在に配置され、被研磨部材を保持するとと
もに、この被研磨部材を前記回転テーブルの前記研磨布
に所望の荷重で押圧させるための前記回転テーブルと同
方向に回転する保持手段と、前記研磨布に研磨砥粒を含
む研磨スラリーを供給するための供給手段とを具備した
ことを特徴とするものである。
を含まない研磨層を有する研磨布が表面に取付けられた
回転テーブルと、前記回転テーブルの上方に上下動自在
でかつ回転自在に配置され、被研磨部材を保持するとと
もに、この被研磨部材を前記回転テーブルの前記研磨布
に所望の荷重で押圧させるための前記回転テーブルと同
方向に回転する保持手段と、前記研磨布に研磨砥粒を含
む研磨スラリーを供給するための供給手段とを具備した
ことを特徴とするものである。
【0018】本発明に係る別の研磨布は、前述した研磨
砥粒を含有する研磨層を有する研磨布が表面に取付けら
れた回転テーブルと、前記回転テーブルの上方に上下動
自在でかつ回転自在に配置され、被研磨部材を保持する
とともに、この被研磨部材を前記回転テーブルの前記研
磨布に所望の荷重で押圧させるための前記回転テーブル
と同方向に回転する保持手段と、前記研磨布に研磨砥粒
を含まず、少なくとも水を含む研磨組成物を供給するた
めの供給手段とを具備したことを特徴とするものであ
る。
砥粒を含有する研磨層を有する研磨布が表面に取付けら
れた回転テーブルと、前記回転テーブルの上方に上下動
自在でかつ回転自在に配置され、被研磨部材を保持する
とともに、この被研磨部材を前記回転テーブルの前記研
磨布に所望の荷重で押圧させるための前記回転テーブル
と同方向に回転する保持手段と、前記研磨布に研磨砥粒
を含まず、少なくとも水を含む研磨組成物を供給するた
めの供給手段とを具備したことを特徴とするものであ
る。
【0019】本発明に係る半導体装置の製造方法は、半
導体基板上の絶縁膜に配線層の形状に相当する溝および
ビアフィルの形状に相当する開口部から選ばれる少なく
とも1つの埋込み用部材を形成する工程と、前記埋込み
用部材の内面を含む前記絶縁膜上に銅または銅合金から
なる配線材料膜を形成する工程と、前述した各研磨装置
のうちのいずれかの研磨装置を用いて前記配線材料膜を
研磨することにより前記埋込み用部材内に配線層および
ビアフィルから選ばれる少なくとも1つの導電部材を形
成する工程とを具備することを特徴とするものである。
導体基板上の絶縁膜に配線層の形状に相当する溝および
ビアフィルの形状に相当する開口部から選ばれる少なく
とも1つの埋込み用部材を形成する工程と、前記埋込み
用部材の内面を含む前記絶縁膜上に銅または銅合金から
なる配線材料膜を形成する工程と、前述した各研磨装置
のうちのいずれかの研磨装置を用いて前記配線材料膜を
研磨することにより前記埋込み用部材内に配線層および
ビアフィルから選ばれる少なくとも1つの導電部材を形
成する工程とを具備することを特徴とするものである。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る6つの研磨布
を詳細に説明する。
を詳細に説明する。
【0021】(1)研磨布 この研磨布は、水系媒体で加水分解される高分子材料を
含む研磨層を有する。このような研磨布は、具体的には
前記高分子材料を射出成型等により成型して作られた研
磨層のみからなる研磨布、または金属等の各種材料から
なる基材上に前記高分子材料を例えばキャスティングし
て研磨層を形成した研磨布、を挙げることができる。
含む研磨層を有する。このような研磨布は、具体的には
前記高分子材料を射出成型等により成型して作られた研
磨層のみからなる研磨布、または金属等の各種材料から
なる基材上に前記高分子材料を例えばキャスティングし
て研磨層を形成した研磨布、を挙げることができる。
【0022】前記高分子材料は、主鎖に水系媒体で加水
分解される構造が分岐して結合されたものであること好
ましい。
分解される構造が分岐して結合されたものであること好
ましい。
【0023】前記水系媒体で加水分解される構造として
は、例えば下記式(I)または下記式(II)で表される
ものを挙げることができる。
は、例えば下記式(I)または下記式(II)で表される
ものを挙げることができる。
【0024】
【化13】
【0025】ただし、式中のR1〜R3はいずれもアルキ
ル基、アリール基の中から選ばれた基であって、互いに
同一の基であっても異なる基であってもよい。
ル基、アリール基の中から選ばれた基であって、互いに
同一の基であっても異なる基であってもよい。
【0026】
【化14】
【0027】ただし、式中のR4〜R6はそれぞれ水素原
子または炭素数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜1
8の有機基であって、R6とR7は互いに結合してY1を
ヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、Y1は
酸素原子又は硫黄原子である。
子または炭素数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜1
8の有機基であって、R6とR7は互いに結合してY1を
ヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、Y1は
酸素原子又は硫黄原子である。
【0028】前記式(I)中のR1〜R3は、それぞれ水
素原子、アルキル基、アリール基を示す。このアルキル
基は、特に炭素数1〜18のアルキル基であることが好
ましく、直鎖状アルキル基であることがさらに好まし
く、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基であることが最も
好ましい。
素原子、アルキル基、アリール基を示す。このアルキル
基は、特に炭素数1〜18のアルキル基であることが好
ましく、直鎖状アルキル基であることがさらに好まし
く、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基であることが最も
好ましい。
【0029】前記アルキル基を具体的に例示すると、メ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec−ブチル、イソブチル、n−アミル、イソア
ミル、sec−アミル、n−ペンチル、n−オクチル、
ドデシル、セチル、ステアリル等を挙げることができ
る。
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec−ブチル、イソブチル、n−アミル、イソア
ミル、sec−アミル、n−ペンチル、n−オクチル、
ドデシル、セチル、ステアリル等を挙げることができ
る。
【0030】前記アリール基としては、例えばフェニ
ル、置換フェニル、ナフチル、置換ナフチル等を挙げる
ことができる。
ル、置換フェニル、ナフチル、置換ナフチル等を挙げる
ことができる。
【0031】前記式(I)で表される水系媒体で加水分
解される構造が主鎖に分岐して結合された高分子材料と
しては、例えばカルボキシル基含有α、β−不飽和単量
体とトリアルキルシリルクロライドとの反応によりα、
β−不飽和カルボン酸トリアルキルシリルエステルを生
成し、このエステルを単独重合あるいは共重合させるこ
とによって得られるホモポリマーまたはコポリマーが挙
げられる。ここで用いられるカルボキシル基含有α、β
−不飽和単量体としては、例えばアクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、メサコン酸、マレイン酸、フマル酸
などが挙げられる。また、前記トリアルキルシリルクロ
ライドとしてはトリメチル、トリエチル、トリn−プロ
ピル、トリイソプロピル、トリn−ブチル、トリsec
−ブチル、トリイソブチル、トリn−アミル、トリイソ
アミル、トリsec−アミル、トリn−ペンチル、トリ
n−オクチル、トリドデシル、トリセチル、トリフェニ
ル、トリp−メチルフェニル、トリベンジル等のシリル
クロライドが好適に使用できる。
解される構造が主鎖に分岐して結合された高分子材料と
しては、例えばカルボキシル基含有α、β−不飽和単量
体とトリアルキルシリルクロライドとの反応によりα、
β−不飽和カルボン酸トリアルキルシリルエステルを生
成し、このエステルを単独重合あるいは共重合させるこ
とによって得られるホモポリマーまたはコポリマーが挙
げられる。ここで用いられるカルボキシル基含有α、β
−不飽和単量体としては、例えばアクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、メサコン酸、マレイン酸、フマル酸
などが挙げられる。また、前記トリアルキルシリルクロ
ライドとしてはトリメチル、トリエチル、トリn−プロ
ピル、トリイソプロピル、トリn−ブチル、トリsec
−ブチル、トリイソブチル、トリn−アミル、トリイソ
アミル、トリsec−アミル、トリn−ペンチル、トリ
n−オクチル、トリドデシル、トリセチル、トリフェニ
ル、トリp−メチルフェニル、トリベンジル等のシリル
クロライドが好適に使用できる。
【0032】前記式(I)で表される水系媒体で加水分
解される構造が主鎖に分岐して結合された高分子材料を
具体的に例示すると、例えば下記式(III)で示される
単量体に基づく構成単位、下記式(IV)で示される単量
体に基づく構成単位を有するα、β−不飽和のホモポリ
マーまたはコポリマーを挙げることができる。
解される構造が主鎖に分岐して結合された高分子材料を
具体的に例示すると、例えば下記式(III)で示される
単量体に基づく構成単位、下記式(IV)で示される単量
体に基づく構成単位を有するα、β−不飽和のホモポリ
マーまたはコポリマーを挙げることができる。
【0033】
【化15】
【0034】
【化16】
【0035】ただし、これらの式中のR1〜R3はいずれ
も水素原子、アルキル基、アリール基の中から選ばれた
基であって、互いに同一の基であっても異なる基であっ
てもよい。
も水素原子、アルキル基、アリール基の中から選ばれた
基であって、互いに同一の基であっても異なる基であっ
てもよい。
【0036】前記式(III)で示される単量体に基づく
構成単位に対応するα、β−不飽和カルボン酸トリアル
キルシリルエステル(シリルアクリレート)を以下に式
(III−1)〜(III−22)として列挙する。また、前
記式(IV)で示される単量体に基づく構成単位に対応す
るα、β−不飽和カルボン酸トリアルキルシリルエステ
ル(シリルメタクリレート)を以下に式(IV−1)〜
(IV−22)として列挙する。
構成単位に対応するα、β−不飽和カルボン酸トリアル
キルシリルエステル(シリルアクリレート)を以下に式
(III−1)〜(III−22)として列挙する。また、前
記式(IV)で示される単量体に基づく構成単位に対応す
るα、β−不飽和カルボン酸トリアルキルシリルエステ
ル(シリルメタクリレート)を以下に式(IV−1)〜
(IV−22)として列挙する。
【0037】
【化17】
【0038】
【化18】
【0039】
【化19】
【0040】
【化20】
【0041】
【化21】
【0042】
【化22】
【0043】
【化23】
【0044】
【化24】
【0045】
【化25】
【0046】
【化26】
【0047】また、他の好ましいα、β−不飽和カルボ
ン酸トリアルキルシリルエステルを以下に式(VII−
1)〜(VII−10)として列挙する。
ン酸トリアルキルシリルエステルを以下に式(VII−
1)〜(VII−10)として列挙する。
【0048】
【化27】
【0049】
【化28】
【0050】
【化29】
【0051】
【化30】
【0052】前記高分子材料が共重合体(コポリマー)
である場合には、前述したα、β−不飽和カルボン酸ト
リアルキルシリルエステルと他の単量体(モノマー)と
を共重合する。ここに用いられる単量体としては、例え
ばα、β―不飽和単量体等が挙げられる。このα、β―
不飽和単量体としては、例えばメチル(メタ)アクリレ
ート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メ
タ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレー
ト、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル
(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレー
ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチル
ヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アク
リレート、ステアリル(メタ)アクリレート、スチレ
ン、α−メチルスチレン、p−ビニルトルエン、アクリ
ロニトリル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのポリ
エチレングリコールまたはポリプロピレングリコールの
付加体および、これのメチルあるいはエチルエーテル体
等が挙げられる。
である場合には、前述したα、β−不飽和カルボン酸ト
リアルキルシリルエステルと他の単量体(モノマー)と
を共重合する。ここに用いられる単量体としては、例え
ばα、β―不飽和単量体等が挙げられる。このα、β―
不飽和単量体としては、例えばメチル(メタ)アクリレ
ート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メ
タ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレー
ト、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル
(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレー
ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチル
ヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アク
リレート、ステアリル(メタ)アクリレート、スチレ
ン、α−メチルスチレン、p−ビニルトルエン、アクリ
ロニトリル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのポリ
エチレングリコールまたはポリプロピレングリコールの
付加体および、これのメチルあるいはエチルエーテル体
等が挙げられる。
【0053】前記式(II)中のR4、R5およびR6は、
それぞれ水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、ア
リール基、アルカノール基などの有機基、R7は炭素数
1〜18のアルキル基、アリール基、アルカノール基で
あって、これらの有機基は適当な置換基を有していても
よく、また、R6とR7は互いに結合してY1をヘテロ原
子とする置換基を有しない又は有する複素環を形成して
いてもよい。アルキル基は、メチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イ
ソブチル、n−アミル、イソアミル、sec−アミル、
n−ペンチル、n−オクチル、ドデシル、セチル、ステ
アリルが好ましい。
それぞれ水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、ア
リール基、アルカノール基などの有機基、R7は炭素数
1〜18のアルキル基、アリール基、アルカノール基で
あって、これらの有機基は適当な置換基を有していても
よく、また、R6とR7は互いに結合してY1をヘテロ原
子とする置換基を有しない又は有する複素環を形成して
いてもよい。アルキル基は、メチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イ
ソブチル、n−アミル、イソアミル、sec−アミル、
n−ペンチル、n−オクチル、ドデシル、セチル、ステ
アリルが好ましい。
【0054】前記式(II)で表される水系媒体で加水分
解される構造を有する化合物は、例えばカルボキシル基
を有する化合物(例えば1分子中に1個以上、好ましく
は1〜120個のカルボキシル基を有する化合物)と下
記式(VIII)で表されるビニルエーテル化合物、ビニル
チオエーテル化合物、あるいは酸素原子または硫黄原子
をヘテロ原子とするビニル型二重結合を持つ複素環化合
物との反応により容易に得ることができる。
解される構造を有する化合物は、例えばカルボキシル基
を有する化合物(例えば1分子中に1個以上、好ましく
は1〜120個のカルボキシル基を有する化合物)と下
記式(VIII)で表されるビニルエーテル化合物、ビニル
チオエーテル化合物、あるいは酸素原子または硫黄原子
をヘテロ原子とするビニル型二重結合を持つ複素環化合
物との反応により容易に得ることができる。
【0055】
【化31】
【0056】ただし、式中のR4〜R6はそれぞれ水素原
子または炭素数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜1
8の有機基であって、R6とR7は互いに結合してY1を
ヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、Y1は
酸素原子又は硫黄原子である。
子または炭素数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜1
8の有機基であって、R6とR7は互いに結合してY1を
ヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、Y1は
酸素原子又は硫黄原子である。
【0057】前記式(VIII)におけるR4、R5、R
6は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アリール基、アルカノール基などの有機基、R7は
炭素数1〜18のアルキル基、アリール基、アルカノー
ル基であって、これらの有機基は適当な置換基を有して
いてもよく、また、R6とR7は互いに結合してY1をヘ
テロ原子とする置換基を有しない又は有する複素環を形
成していてもよい。
6は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アリール基、アルカノール基などの有機基、R7は
炭素数1〜18のアルキル基、アリール基、アルカノー
ル基であって、これらの有機基は適当な置換基を有して
いてもよく、また、R6とR7は互いに結合してY1をヘ
テロ原子とする置換基を有しない又は有する複素環を形
成していてもよい。
【0058】前記式(VIII)で表される化合物を具体的
に例示すると、メチルビニルエーテル、エチルビニルエ
ーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−プロピルビ
ニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチル
ビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、
シクロヘキシルビニルエーテル等の脂肪族ビニルエーテ
ル化合物及びこれらに対応する脂肪族ビニルチオエーテ
ル化合物、さらには2,3−ジヒドロフラン、3,4−
ジヒドロ―2H−ピラン等の環状ビニルエーテル化合物
およびこれらに対応する環状ビニルチオエーテル化合物
などが挙げられる。
に例示すると、メチルビニルエーテル、エチルビニルエ
ーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−プロピルビ
ニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチル
ビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、
シクロヘキシルビニルエーテル等の脂肪族ビニルエーテ
ル化合物及びこれらに対応する脂肪族ビニルチオエーテ
ル化合物、さらには2,3−ジヒドロフラン、3,4−
ジヒドロ―2H−ピラン等の環状ビニルエーテル化合物
およびこれらに対応する環状ビニルチオエーテル化合物
などが挙げられる。
【0059】前記1分子中に1個以上のカルボキシル基
を有する好ましい高分子材料としては、例えばポリエス
テル樹脂、アクリル樹脂、マレイン化ポリブタジエン樹
脂などが挙げられる。
を有する好ましい高分子材料としては、例えばポリエス
テル樹脂、アクリル樹脂、マレイン化ポリブタジエン樹
脂などが挙げられる。
【0060】前記1分子中にカルボキシル基1個以上を
有する化合物と前記式(VIII)で表される化合物との反
応は、通常酸触媒の存在下、室温ないし100℃の範囲
の温度において行われる。
有する化合物と前記式(VIII)で表される化合物との反
応は、通常酸触媒の存在下、室温ないし100℃の範囲
の温度において行われる。
【0061】前記式(II)で表される水系媒体で加水分
解される構造が主鎖に分岐して結合された高分子材料と
しては、カルボキシル基含有α、β−不飽和単量体と前
記式(VIII)で表される化合物との反応生成物を単独重
合あるいは共重合させることによって得られるホモポリ
マーまたはコポリマーが挙げられる。ここで用いられる
カルボキシル基含有α、β−不飽和単量体としては、例
えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、メサコン
酸、マレイン酸、フマル酸などが挙げられる。
解される構造が主鎖に分岐して結合された高分子材料と
しては、カルボキシル基含有α、β−不飽和単量体と前
記式(VIII)で表される化合物との反応生成物を単独重
合あるいは共重合させることによって得られるホモポリ
マーまたはコポリマーが挙げられる。ここで用いられる
カルボキシル基含有α、β−不飽和単量体としては、例
えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、メサコン
酸、マレイン酸、フマル酸などが挙げられる。
【0062】前記式(II)で表される水系媒体で加水分
解される構造が主鎖に分岐して結合された高分子材料を
具体的に例示すると、例えば下記式(V)で示される単
量体に基づく構成単位、下記式(VI)で示される単量体
に基づく構成単位を有するα、β−不飽和のホモポリマ
ーまたはコポリマーを挙げることができる。
解される構造が主鎖に分岐して結合された高分子材料を
具体的に例示すると、例えば下記式(V)で示される単
量体に基づく構成単位、下記式(VI)で示される単量体
に基づく構成単位を有するα、β−不飽和のホモポリマ
ーまたはコポリマーを挙げることができる。
【0063】
【化32】
【0064】
【化33】
【0065】ただし、これら式中のR4〜R6はそれぞれ
水素原子または炭素数1〜18の有機基、R7は炭素数
1〜18の有機基であって、R6とR7は互いに結合して
Y1をヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、
Y1は酸素原子又は硫黄原子である。
水素原子または炭素数1〜18の有機基、R7は炭素数
1〜18の有機基であって、R6とR7は互いに結合して
Y1をヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、
Y1は酸素原子又は硫黄原子である。
【0066】前記式(V)の構成単位に対応するカルボ
キシル基含有α、β−不飽和単量体と前記式(VIII)で
表される化合物との反応生成物(アクリル酸ヘミマセタ
ールエステル)を以下に式(V−1)〜式(V−8)と
して列挙する。また、前記単量単位(VI)に対応するカ
ルボキシル基含有α、β−不飽和単量体と前記一般式
(VIII)で表される化合物との反応生成物(メタクリル
酸ヘミマセタールエステル)を以下に式(VI−1)〜
(VI−8)として列挙する。
キシル基含有α、β−不飽和単量体と前記式(VIII)で
表される化合物との反応生成物(アクリル酸ヘミマセタ
ールエステル)を以下に式(V−1)〜式(V−8)と
して列挙する。また、前記単量単位(VI)に対応するカ
ルボキシル基含有α、β−不飽和単量体と前記一般式
(VIII)で表される化合物との反応生成物(メタクリル
酸ヘミマセタールエステル)を以下に式(VI−1)〜
(VI−8)として列挙する。
【0067】
【化34】
【0068】
【化35】
【0069】
【化36】
【0070】
【化37】
【0071】また、他の好ましいカルボキシル基含有
α、β−不飽和単量体と前記式(VIII)で表される化合
物との反応生成物を下記式(IX−1)〜式(IX−8)に
列挙する。
α、β−不飽和単量体と前記式(VIII)で表される化合
物との反応生成物を下記式(IX−1)〜式(IX−8)に
列挙する。
【0072】
【化38】
【0073】
【化39】
【0074】
【化40】
【0075】前記高分子材料が共重合体(コポリマー)
である場合には、前述したカルボキシル基含有α、β−
不飽和単量体と前記式(VIII)で表される化合物との反
応生成物と他の単量体(モノマー)とを共重合する。こ
こに用いられる単量体としては、例えばα、β―不飽和
単量体等が挙げられる。このα、β―不飽和単量体とし
ては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メ
タ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレー
ト、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル
(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリ
レート、t−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキ
シル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ス
テアリル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチル
スチレン、p−ビニルトルエン、アクリロニトリル、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレートのポリエチレングリコ
ールまたはポリプロピレングリコールの付加体および、
これのメチルあるいはエチルエーテル体等が挙げられ
る。
である場合には、前述したカルボキシル基含有α、β−
不飽和単量体と前記式(VIII)で表される化合物との反
応生成物と他の単量体(モノマー)とを共重合する。こ
こに用いられる単量体としては、例えばα、β―不飽和
単量体等が挙げられる。このα、β―不飽和単量体とし
ては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メ
タ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレー
ト、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル
(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリ
レート、t−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキ
シル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ス
テアリル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチル
スチレン、p−ビニルトルエン、アクリロニトリル、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレートのポリエチレングリコ
ールまたはポリプロピレングリコールの付加体および、
これのメチルあるいはエチルエーテル体等が挙げられ
る。
【0076】前記高分子材料における前記式(III)、
式(IV)、式(V)および式(VI)で示される単量体に
基づく構成単位の含有量は、20〜100重量%、より
好ましくは40〜100重量%であることが望ましい。
前記構成単位の含有量を20重量%未満にすると、高分
子材料が加水分解された際に再生するカルボキシル基の
量が少なすぎ、そのため高分子材料の水性媒体への溶解
性が低下し、研磨性能が劣り好ましくない。
式(IV)、式(V)および式(VI)で示される単量体に
基づく構成単位の含有量は、20〜100重量%、より
好ましくは40〜100重量%であることが望ましい。
前記構成単位の含有量を20重量%未満にすると、高分
子材料が加水分解された際に再生するカルボキシル基の
量が少なすぎ、そのため高分子材料の水性媒体への溶解
性が低下し、研磨性能が劣り好ましくない。
【0077】前記高分子材料は、数平均分子量が500
〜500,000、ガラス転移温度が30〜100℃、
より好ましくは数平均分子量が500〜100,00
0、ガラス転移温度が50〜80℃であることが望まし
い。このような特定の数均分子量、ガラス転移温度を有
する高分子材料を含む研磨布は、被研磨部材の研磨時に
おける研磨性能をより一層安定化することが可能とな
る。
〜500,000、ガラス転移温度が30〜100℃、
より好ましくは数平均分子量が500〜100,00
0、ガラス転移温度が50〜80℃であることが望まし
い。このような特定の数均分子量、ガラス転移温度を有
する高分子材料を含む研磨布は、被研磨部材の研磨時に
おける研磨性能をより一層安定化することが可能とな
る。
【0078】前記研磨層は、さらに前記高分子材料より
溶解性の高い物質の粒子が前記高分子材料に分散された
形態を有することが好ましい。
溶解性の高い物質の粒子が前記高分子材料に分散された
形態を有することが好ましい。
【0079】前記粒子としは、例えばロジン、セルロー
ス、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。こ
のような粒子は、前記高分子材料に対して1〜50体積
%の範囲で分散されていることが好ましい。前記粒子の
分散量を1体積%未満にすると、その粒子の分散効果
(研磨過程での研磨層の溶解促進効果)を十分高めるこ
とが困難になる。前記粒子の分散量が50体積%を超え
ると、水溶液に浸漬すると同時に分解してしまい、研磨
布として機能しなくなる虞がある。
ス、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。こ
のような粒子は、前記高分子材料に対して1〜50体積
%の範囲で分散されていることが好ましい。前記粒子の
分散量を1体積%未満にすると、その粒子の分散効果
(研磨過程での研磨層の溶解促進効果)を十分高めるこ
とが困難になる。前記粒子の分散量が50体積%を超え
ると、水溶液に浸漬すると同時に分解してしまい、研磨
布として機能しなくなる虞がある。
【0080】(2)研磨布 この研磨布は、水系媒体で加水分解される高分子材料と
この高分子材料に分散された酸化セリウム、酸化マンガ
ン、シリカ、アルミナおよびジルコニアからなる群から
選ばれる少なくとも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有
する。このような研磨布は、具体的には前記高分子材料
および研磨砥粒を射出成型等により成型して作られた研
磨層のみからなる研磨布、または金属等の各種材料から
なる基材上に前記高分子材料および研磨砥粒を例えばキ
ャスティングして研磨層を形成した研磨布、を挙げるこ
とができる。
この高分子材料に分散された酸化セリウム、酸化マンガ
ン、シリカ、アルミナおよびジルコニアからなる群から
選ばれる少なくとも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有
する。このような研磨布は、具体的には前記高分子材料
および研磨砥粒を射出成型等により成型して作られた研
磨層のみからなる研磨布、または金属等の各種材料から
なる基材上に前記高分子材料および研磨砥粒を例えばキ
ャスティングして研磨層を形成した研磨布、を挙げるこ
とができる。
【0081】前記高分子材料は、前記(1)の研磨布で
説明したのと同様なものが用いられる。
説明したのと同様なものが用いられる。
【0082】前記研磨砥粒は、前記高分子材料に0.5
〜20重量%の範囲で均一分散して配合されることが好
ましい。
〜20重量%の範囲で均一分散して配合されることが好
ましい。
【0083】前記研磨砥粒は、0.02〜0.1μmの
平均粒径を有し、球状もしくは球に近似した形状を有す
ることが好ましい。
平均粒径を有し、球状もしくは球に近似した形状を有す
ることが好ましい。
【0084】(3)研磨布 この研磨布は、水系媒体に可溶な高分子材料を含む研磨
層を有する。このような研磨布は、具体的には前記高分
子材料を射出成型等により成型して作られた研磨層のみ
からなる研磨布、または金属等の各種材料からなる基材
上に前記高分子材料を例えばキャスティングして研磨層
を形成した研磨布、を挙げることができる。
層を有する。このような研磨布は、具体的には前記高分
子材料を射出成型等により成型して作られた研磨層のみ
からなる研磨布、または金属等の各種材料からなる基材
上に前記高分子材料を例えばキャスティングして研磨層
を形成した研磨布、を挙げることができる。
【0085】前記高分子材料は、前記研磨層に被研磨部
材を300gf/cm2の荷重を加えた状態で前記研磨
層と前記被研磨部材との間の相対速度を1.0m/se
cとした時の水系媒体中で溶解する速度が0.01〜1
0.0mg/分であることが好ましい。この溶解速度を
0.01mg/分未満にすると、前記研磨布の研磨層に
前記被研磨部材を所望の荷重を加えた状態で前記研磨層
と前記被研磨部材を相互に回転させながら、前記研磨層
に例えば研磨砥粒を及び水を含む研磨スラリーを供給し
て前記被研磨部材を研磨する際、前記研磨層表面を良好
に更新することが困難になって、前記研磨砥粒が研磨層
に局所的に蓄積される虞がある。一方、溶解速度を1
0.0mg/分を超えると前記被研磨部材の研磨に際
し、研磨挿表面の溶解速度が大きいために研磨スラリー
が研磨層外部に放出されてスラリー中の研磨砥粒を前記
研磨層と前記被研磨部材の間に十分に供給できなくなる
虞がある。
材を300gf/cm2の荷重を加えた状態で前記研磨
層と前記被研磨部材との間の相対速度を1.0m/se
cとした時の水系媒体中で溶解する速度が0.01〜1
0.0mg/分であることが好ましい。この溶解速度を
0.01mg/分未満にすると、前記研磨布の研磨層に
前記被研磨部材を所望の荷重を加えた状態で前記研磨層
と前記被研磨部材を相互に回転させながら、前記研磨層
に例えば研磨砥粒を及び水を含む研磨スラリーを供給し
て前記被研磨部材を研磨する際、前記研磨層表面を良好
に更新することが困難になって、前記研磨砥粒が研磨層
に局所的に蓄積される虞がある。一方、溶解速度を1
0.0mg/分を超えると前記被研磨部材の研磨に際
し、研磨挿表面の溶解速度が大きいために研磨スラリー
が研磨層外部に放出されてスラリー中の研磨砥粒を前記
研磨層と前記被研磨部材の間に十分に供給できなくなる
虞がある。
【0086】前記高分子材料としては、例えばアクリル
酸、メタアクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン
酸、ヒドロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシアル
キルメタアクリレート、N−ビニル−2−ピロリドン、
メチルビニルエーテル、N−ビニルホルムアミド、N,
N−ジメチルアクリルアミドの群から選ばれる少なくと
も1つ以上のモノマーを重合して得られるホモポリマー
またはコポリマーを挙げることができる。
酸、メタアクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン
酸、ヒドロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシアル
キルメタアクリレート、N−ビニル−2−ピロリドン、
メチルビニルエーテル、N−ビニルホルムアミド、N,
N−ジメチルアクリルアミドの群から選ばれる少なくと
も1つ以上のモノマーを重合して得られるホモポリマー
またはコポリマーを挙げることができる。
【0087】(4)研磨布 この研磨布は、水系媒体で可溶な高分子材料とこの高分
子材料に分散された酸化セリウム、酸化マンガン、シリ
カ、アルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる
少なくとも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有する。こ
のような研磨布は、具体的には前記高分子材料および研
磨砥粒を射出成型等により成型して作られた研磨層のみ
からなる研磨布、または金属等の各種材料からなる基材
上に前記高分子材料および研磨砥粒を例えばキャスティ
ングして研磨層を形成した研磨布、を挙げることができ
る。
子材料に分散された酸化セリウム、酸化マンガン、シリ
カ、アルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる
少なくとも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有する。こ
のような研磨布は、具体的には前記高分子材料および研
磨砥粒を射出成型等により成型して作られた研磨層のみ
からなる研磨布、または金属等の各種材料からなる基材
上に前記高分子材料および研磨砥粒を例えばキャスティ
ングして研磨層を形成した研磨布、を挙げることができ
る。
【0088】前記高分子材料は、前記(3)の研磨布で
説明したのと同様なものが用いられる。
説明したのと同様なものが用いられる。
【0089】前記研磨砥粒は、前記高分子材料に0.5
〜20重量%の範囲で均一分散して配合されることが好
ましい。
〜20重量%の範囲で均一分散して配合されることが好
ましい。
【0090】前記研磨砥粒は、0.02〜0.1μmの
平均粒径を有し、球状もしくは球に近似した形状を有す
ることが好ましい。
平均粒径を有し、球状もしくは球に近似した形状を有す
ることが好ましい。
【0091】(5)研磨布 この研磨布は、水系媒体が存在する非摩擦力の下で表面
が溶出せず、摩擦力の下で表面が溶出する研磨層を有す
る。
が溶出せず、摩擦力の下で表面が溶出する研磨層を有す
る。
【0092】ここで、『摩擦力』とは前記研磨層に被研
磨部材を150〜500gf/cm 2の荷重を加えた状
態で前記研磨層と前記被研磨部材との間の相対速度を
0.2〜3.0m/secとした時の前記研磨層に与え
られる力を意味する。
磨部材を150〜500gf/cm 2の荷重を加えた状
態で前記研磨層と前記被研磨部材との間の相対速度を
0.2〜3.0m/secとした時の前記研磨層に与え
られる力を意味する。
【0093】このような研磨布は、例えば前記研磨層の
みからなる構造のもの、または金属等の各種材料からな
る基材上に前記研磨層を形成した構造のもの、を挙げる
ことができる。
みからなる構造のもの、または金属等の各種材料からな
る基材上に前記研磨層を形成した構造のもの、を挙げる
ことができる。
【0094】前記研磨層は、例えば前記(1)の研磨布
で説明した水系媒体で加水分解される高分子材料(特に
前記式(III)、式(IV)、式(V)および式(VI)で
示される単量体に基づく構成単位を有するホモポリマー
またはコポリマー)を含む材料からなる。
で説明した水系媒体で加水分解される高分子材料(特に
前記式(III)、式(IV)、式(V)および式(VI)で
示される単量体に基づく構成単位を有するホモポリマー
またはコポリマー)を含む材料からなる。
【0095】(6)研磨布 この研磨布は、酸化セリウム、酸化マンガン、シリカ、
アルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる少な
くとも1つの研磨砥粒を分散して含有し、水系媒体が存
在する非摩擦力の下で表面が溶出せず、摩擦力の下で表
面が溶出すると共に前記研磨砥粒がその表面に供給され
る研磨層を有する。
アルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる少な
くとも1つの研磨砥粒を分散して含有し、水系媒体が存
在する非摩擦力の下で表面が溶出せず、摩擦力の下で表
面が溶出すると共に前記研磨砥粒がその表面に供給され
る研磨層を有する。
【0096】ここで、『摩擦力』とは前記研磨層に被研
磨部材を150〜500gf/cm 2の荷重を加えた状
態で前記研磨層と前記被研磨部材との間の相対速度を
0.2〜3.0m/secとした時の前記研磨層に与え
られる力を意味する。
磨部材を150〜500gf/cm 2の荷重を加えた状
態で前記研磨層と前記被研磨部材との間の相対速度を
0.2〜3.0m/secとした時の前記研磨層に与え
られる力を意味する。
【0097】このような研磨布は、例えば前記研磨砥粒
を含む研磨層のみからなる構造のもの、または金属等の
各種材料からなる基材上に前記研磨砥粒を含む研磨層を
形成した構造のもの、を挙げることができる。
を含む研磨層のみからなる構造のもの、または金属等の
各種材料からなる基材上に前記研磨砥粒を含む研磨層を
形成した構造のもの、を挙げることができる。
【0098】前記研磨層は、例えば前記(1)の研磨布
で説明した水系媒体で加水分解される高分子材料(特に
前記式(III)、式(IV)、式(V)および式(VI)で
示される単量体に基づく構成単位を有するホモポリマー
またはコポリマー)と前記研磨砥粒とを含む材料からな
る。
で説明した水系媒体で加水分解される高分子材料(特に
前記式(III)、式(IV)、式(V)および式(VI)で
示される単量体に基づく構成単位を有するホモポリマー
またはコポリマー)と前記研磨砥粒とを含む材料からな
る。
【0099】前記研磨砥粒は、前記研磨層中に0.5〜
20重量%の範囲で均一分散して配合されることが好ま
しい。
20重量%の範囲で均一分散して配合されることが好ま
しい。
【0100】前記研磨砥粒は、0.02〜0.1μmの
平均粒径を有し、球状もしくは球に近似した形状を有す
ることが好ましい。
平均粒径を有し、球状もしくは球に近似した形状を有す
ることが好ましい。
【0101】次に、本発明に係る研磨装置を図1を参照
して説明する。
して説明する。
【0102】研磨布2は、ターンテーブル1上に被覆さ
れている。研磨砥粒および水を含み、必要に応じて界面
活性剤、分散剤を含む研磨スラリー(または研磨砥粒を
含まず、水を含み、必要に応じて界面活性剤、分散剤を
含有する研磨組成物)を供給するための供給管3は、前
記研磨布2の上方に配置されている。上面に支持軸4を
有する基板ホルダ5は、研磨布2の上方に上下動自在で
かつ回転自在に配置されている。
れている。研磨砥粒および水を含み、必要に応じて界面
活性剤、分散剤を含む研磨スラリー(または研磨砥粒を
含まず、水を含み、必要に応じて界面活性剤、分散剤を
含有する研磨組成物)を供給するための供給管3は、前
記研磨布2の上方に配置されている。上面に支持軸4を
有する基板ホルダ5は、研磨布2の上方に上下動自在で
かつ回転自在に配置されている。
【0103】前記研磨スラリーまたは研磨組成物に含有
される界面活性剤としては、例えばポリエチレングリコ
ールフェニルエーテル、エチレングリコール脂肪酸エス
テル等の非イオン性界面活性剤;例えばイミダゾリベタ
イン等の両性イオン性界面活性剤;例えばドデシル硫酸
ナトリウム等の陰イオン性界面活性剤;ステアリントリ
メチルアンモニウムクロライド等の陽イオン性界面活性
剤を挙げることができる。
される界面活性剤としては、例えばポリエチレングリコ
ールフェニルエーテル、エチレングリコール脂肪酸エス
テル等の非イオン性界面活性剤;例えばイミダゾリベタ
イン等の両性イオン性界面活性剤;例えばドデシル硫酸
ナトリウム等の陰イオン性界面活性剤;ステアリントリ
メチルアンモニウムクロライド等の陽イオン性界面活性
剤を挙げることができる。
【0104】前記研磨布は、前述した(1)〜(6)と
同様な構成のものが用いられる。ただし、被研磨部材の
研磨処理にあたって前記(1),(3),(5)の研磨
布を用いた場合には、供給管3から研磨砥粒および水を
含む研磨スラリーを研磨布に供給し、前記(2),
(4),(6)の研磨布を用いた場合には、供給管3か
ら研磨砥粒を含まず、水を含み、必要に応じて界面活性
剤、分散剤を含有する研磨組成物を研磨布に供給する。
具体的な研磨方法を以下に説明する。
同様な構成のものが用いられる。ただし、被研磨部材の
研磨処理にあたって前記(1),(3),(5)の研磨
布を用いた場合には、供給管3から研磨砥粒および水を
含む研磨スラリーを研磨布に供給し、前記(2),
(4),(6)の研磨布を用いた場合には、供給管3か
ら研磨砥粒を含まず、水を含み、必要に応じて界面活性
剤、分散剤を含有する研磨組成物を研磨布に供給する。
具体的な研磨方法を以下に説明する。
【0105】(a)前記(1),(3),(5)の構造
の研磨布を有する研磨装置による研磨処理 まず、ホルダ5により被研磨部材(例えば基板)6をそ
の被研磨面が研磨布2に対向するように保持する。つづ
いて、供給管3から研磨砥粒および水を含む研磨用スラ
リー7を供給しながら、支持軸4により前記被研磨部材
6を前記研磨布2に向けて所望の加重を与え、さらに前
記ホルダ5およびターンテーブル1を同方向に回転させ
る。このとき、前記被研磨部材6の被研磨面はこの被研
磨部材6と前記研磨布2の間に供給された研磨用スラリ
ー中の研磨砥粒により研磨される。
の研磨布を有する研磨装置による研磨処理 まず、ホルダ5により被研磨部材(例えば基板)6をそ
の被研磨面が研磨布2に対向するように保持する。つづ
いて、供給管3から研磨砥粒および水を含む研磨用スラ
リー7を供給しながら、支持軸4により前記被研磨部材
6を前記研磨布2に向けて所望の加重を与え、さらに前
記ホルダ5およびターンテーブル1を同方向に回転させ
る。このとき、前記被研磨部材6の被研磨面はこの被研
磨部材6と前記研磨布2の間に供給された研磨用スラリ
ー中の研磨砥粒により研磨される。
【0106】(b)前記(2),(4),(6)の構造
の研磨布を有する研磨装置による研磨処理 まず、ホルダ5により被研磨部材(例えば基板)6をそ
の被研磨面が研磨布2に対向するように保持する。つづ
いて、供給管3から研磨砥粒を含まず、水を含む研磨組
成物を供給しながら、支持軸4により前記被研磨部材6
を前記研磨布2に向けて所望の加重を与え、さらに前記
ホルダ5およびターンテーブル1を同方向に回転させ
る。このとき、前記研磨布の研磨層に分散された研磨砥
粒はその研磨層材料の溶出により前記被研磨部材6の被
研磨面と前記研磨層の間に供給されるため、前記被研磨
部材6の被研磨面は前記研磨層から供給された研磨砥粒
と供給管3から供給された水を含む研磨組成物の存在下
で研磨される。
の研磨布を有する研磨装置による研磨処理 まず、ホルダ5により被研磨部材(例えば基板)6をそ
の被研磨面が研磨布2に対向するように保持する。つづ
いて、供給管3から研磨砥粒を含まず、水を含む研磨組
成物を供給しながら、支持軸4により前記被研磨部材6
を前記研磨布2に向けて所望の加重を与え、さらに前記
ホルダ5およびターンテーブル1を同方向に回転させ
る。このとき、前記研磨布の研磨層に分散された研磨砥
粒はその研磨層材料の溶出により前記被研磨部材6の被
研磨面と前記研磨層の間に供給されるため、前記被研磨
部材6の被研磨面は前記研磨層から供給された研磨砥粒
と供給管3から供給された水を含む研磨組成物の存在下
で研磨される。
【0107】次に、本発明に係る半導体装置の製造方法
を説明する。
を説明する。
【0108】(第1工程)基板上の凹部および開口部か
ら選ばれる少なくとも1つの埋込み用部材を形成し、こ
の埋込み用部材を含む全面に銅または銅合金からなる配
線材料膜を形成する。
ら選ばれる少なくとも1つの埋込み用部材を形成し、こ
の埋込み用部材を含む全面に銅または銅合金からなる配
線材料膜を形成する。
【0109】前記基板としては、例えば半導体基板、ガ
ラス基板等を挙げることができる。
ラス基板等を挙げることができる。
【0110】前記埋込み用部材は、例えば前記基板上の
絶縁膜に形成される。この絶縁膜としては、例えばシリ
コン酸化膜、ボロン添加ガラス膜(BPSG膜)、リン
添加ガラス膜(PSG膜)等を用いることができる。こ
の絶縁膜上には、窒化シリコン、炭素、アルミナ、窒化
ホウ素、ダイヤモンド等からなる研磨ストッパ膜が被覆
されることを許容する。
絶縁膜に形成される。この絶縁膜としては、例えばシリ
コン酸化膜、ボロン添加ガラス膜(BPSG膜)、リン
添加ガラス膜(PSG膜)等を用いることができる。こ
の絶縁膜上には、窒化シリコン、炭素、アルミナ、窒化
ホウ素、ダイヤモンド等からなる研磨ストッパ膜が被覆
されることを許容する。
【0111】前記銅系金属としては、銅(Cu)または
Cu−Si合金、Cu−Al合金、Cu−Si−Al合
金、Cu−Ag合金のような銅合金(Cu合金)等を用
いることができる。
Cu−Si合金、Cu−Al合金、Cu−Si−Al合
金、Cu−Ag合金のような銅合金(Cu合金)等を用
いることができる。
【0112】前記配線材料膜は、例えばスパッタ蒸着、
真空蒸着、またはメッキ等により形成される。
真空蒸着、またはメッキ等により形成される。
【0113】前記半導体基板上の埋込み用部材を含む前
記絶縁膜に前記配線材料膜を形成する前に導電性バリア
層を形成することを許容する。このような導電性バリア
層を前記埋込み用部材を含む前記絶縁膜に形成すること
によって、配線材料膜の形成後の後述する研磨処理によ
り前記導電性バリア層で囲まれた前記埋込み用部材に配
線層およびビアフィルから選ばれる少なくとも1つの埋
め込み導電部材に形成することが可能になる。その結
果、導電部材であるCuが前記絶縁膜に拡散するのを前
記導電性バリア層で阻止し、Cuによる半導体基板の汚
染を防止することが可能になる。
記絶縁膜に前記配線材料膜を形成する前に導電性バリア
層を形成することを許容する。このような導電性バリア
層を前記埋込み用部材を含む前記絶縁膜に形成すること
によって、配線材料膜の形成後の後述する研磨処理によ
り前記導電性バリア層で囲まれた前記埋込み用部材に配
線層およびビアフィルから選ばれる少なくとも1つの埋
め込み導電部材に形成することが可能になる。その結
果、導電部材であるCuが前記絶縁膜に拡散するのを前
記導電性バリア層で阻止し、Cuによる半導体基板の汚
染を防止することが可能になる。
【0114】前記導電性バリア層は、例えばTiN、T
i、Nb、W,WN,TaN,TaSiN,Ta,C
o,Co,Zr,ZrNおよびCuTa合金から選ばれ
る1層または2層以上から作られる。このような導電性
バリア層は、15〜50nmの厚さを有することが好ま
しい。
i、Nb、W,WN,TaN,TaSiN,Ta,C
o,Co,Zr,ZrNおよびCuTa合金から選ばれ
る1層または2層以上から作られる。このような導電性
バリア層は、15〜50nmの厚さを有することが好ま
しい。
【0115】(第2工程)前記基板の配線材料膜を前述
した研磨装置を用いて研磨することにより前記銅系金属
を埋込み用部材内に埋込み、例えば銅または銅合金から
なる埋め込み配線層のような埋込み導電部材を形成す
る。
した研磨装置を用いて研磨することにより前記銅系金属
を埋込み用部材内に埋込み、例えば銅または銅合金から
なる埋め込み配線層のような埋込み導電部材を形成す
る。
【0116】具体的には、次のような2つの手法により
埋込み導電部材を形成する。
埋込み導電部材を形成する。
【0117】(a)まず、ホルダ5により被研磨部材で
ある半導体基板6をその銅または銅合金からなる配線材
料膜が研磨布(前記(1),(3),(5)の構造を有
する研磨布)2に対向するように保持する。つづいて、
供給管3から研磨砥粒および水を含む研磨用スラリー7
を供給しながら、支持軸4により前記半導体基板6を前
記研磨布2に向けて所望の加重を与え、さらに前記ホル
ダ5およびターンテーブル1を同方向に回転させる。こ
のとき、前記基板6の配線材料膜はこの配線材料膜と前
記研磨布2の間に供給された前記研磨用スラリー中の研
磨砥粒により主に研磨されて銅または銅合金が埋込み用
部材内に埋込まれたような埋込み導電部材が形成され
る。
ある半導体基板6をその銅または銅合金からなる配線材
料膜が研磨布(前記(1),(3),(5)の構造を有
する研磨布)2に対向するように保持する。つづいて、
供給管3から研磨砥粒および水を含む研磨用スラリー7
を供給しながら、支持軸4により前記半導体基板6を前
記研磨布2に向けて所望の加重を与え、さらに前記ホル
ダ5およびターンテーブル1を同方向に回転させる。こ
のとき、前記基板6の配線材料膜はこの配線材料膜と前
記研磨布2の間に供給された前記研磨用スラリー中の研
磨砥粒により主に研磨されて銅または銅合金が埋込み用
部材内に埋込まれたような埋込み導電部材が形成され
る。
【0118】(b)まず、ホルダ5により被研磨部材で
ある半導体基板6をその銅または銅合金からなる配線材
料膜が研磨布(前記(2),(4),(6)の構造を有
する研磨布)2に対向するように保持する。つづいて、
供給管3から研磨砥粒を含まず、水を含む研磨組成物を
供給しながら、支持軸4により前記被研磨部材6を前記
研磨布2に向けて所望の加重を与え、さらに前記ホルダ
5およびターンテーブル1を同方向に回転させる。この
とき、前記研磨布の研磨層に分散された研磨砥粒はその
研磨層材料の溶出により前記基板6の配線材料膜と前記
研磨布の間に供給されるため、前記基板6の配線材料膜
は前記研磨層から供給され研磨砥粒と供給管3から供給
された水を含む研磨組成物の存在下で研磨されて銅また
は銅合金が埋込み用部材内に埋込まれたような埋込み導
電部材が形成される。
ある半導体基板6をその銅または銅合金からなる配線材
料膜が研磨布(前記(2),(4),(6)の構造を有
する研磨布)2に対向するように保持する。つづいて、
供給管3から研磨砥粒を含まず、水を含む研磨組成物を
供給しながら、支持軸4により前記被研磨部材6を前記
研磨布2に向けて所望の加重を与え、さらに前記ホルダ
5およびターンテーブル1を同方向に回転させる。この
とき、前記研磨布の研磨層に分散された研磨砥粒はその
研磨層材料の溶出により前記基板6の配線材料膜と前記
研磨布の間に供給されるため、前記基板6の配線材料膜
は前記研磨層から供給され研磨砥粒と供給管3から供給
された水を含む研磨組成物の存在下で研磨されて銅また
は銅合金が埋込み用部材内に埋込まれたような埋込み導
電部材が形成される。
【0119】前記研磨スラリーまたは研磨組成物には、
銅と反応して水に実質的に不溶性で、かつ銅よりも機械
的に脆弱な銅錯体を生成する水溶性の有機酸(第1有機
酸)および酸化剤をさらに含有させることを許容する。
銅と反応して水に実質的に不溶性で、かつ銅よりも機械
的に脆弱な銅錯体を生成する水溶性の有機酸(第1有機
酸)および酸化剤をさらに含有させることを許容する。
【0120】前記第1有機酸としては、例えば2−キノ
リンカルボン酸(キナルジン酸)、2−ピリジンカルボ
ン酸、2,6−ピリジンカルボン酸、キノリン酸等を挙
げることができる。
リンカルボン酸(キナルジン酸)、2−ピリジンカルボ
ン酸、2,6−ピリジンカルボン酸、キノリン酸等を挙
げることができる。
【0121】前記第1有機酸は、前記研磨スラリーまた
は研磨組成物中に0.1重量%以上含有されることが好
ましい。前記第1有機酸の含有量を0.1重量%未満に
すると、CuまたはCu合金の表面に銅よりも機械的に
脆弱な銅錯体を十分に生成することが困難になる。その
結果、研磨時においてCuまたはCu合金の研磨速度を
十分に高めることが困難になる。より好ましい前記第1
有機酸の含有量は、0.3〜1.2重量%である。
は研磨組成物中に0.1重量%以上含有されることが好
ましい。前記第1有機酸の含有量を0.1重量%未満に
すると、CuまたはCu合金の表面に銅よりも機械的に
脆弱な銅錯体を十分に生成することが困難になる。その
結果、研磨時においてCuまたはCu合金の研磨速度を
十分に高めることが困難になる。より好ましい前記第1
有機酸の含有量は、0.3〜1.2重量%である。
【0122】前記酸化剤は、銅もしくは銅合金に前記研
磨スラリーまたは研磨組成物を接触させた際に銅の水和
物を生成する作用を有する。かかる酸化剤としては、例
えば過酸化水素(H2 O2 )、次亜塩素酸ソーダ(Na
ClO)のような酸化剤を用いることができる。
磨スラリーまたは研磨組成物を接触させた際に銅の水和
物を生成する作用を有する。かかる酸化剤としては、例
えば過酸化水素(H2 O2 )、次亜塩素酸ソーダ(Na
ClO)のような酸化剤を用いることができる。
【0123】前記酸化剤は、前記研磨スラリーまたは研
磨組成物中に前記第1有機酸に対して重量割合で10倍
以上含有することが好ましい。前記酸化剤の含有量を重
量割合で前記第1有機酸に対して10倍未満にすると、
CuまたはCu合金の表面への銅錯体生成を十分に促進
することが困難になる。より好ましい前記酸化剤の含有
量は、前記第1有機酸に対して重量割合で30倍以上、
さらに好ましくは50倍以上である。
磨組成物中に前記第1有機酸に対して重量割合で10倍
以上含有することが好ましい。前記酸化剤の含有量を重
量割合で前記第1有機酸に対して10倍未満にすると、
CuまたはCu合金の表面への銅錯体生成を十分に促進
することが困難になる。より好ましい前記酸化剤の含有
量は、前記第1有機酸に対して重量割合で30倍以上、
さらに好ましくは50倍以上である。
【0124】前記研磨スラリーまたは研磨組成物には、
カルボキシル基およびヒドロキシル基をそれぞれ1つ持
つ有機酸(第2有機酸)を存在させることを許容する。
カルボキシル基およびヒドロキシル基をそれぞれ1つ持
つ有機酸(第2有機酸)を存在させることを許容する。
【0125】前記第2有機酸は、前記酸化剤による銅の
水和物の生成を促進する作用を有する。かかる第2有機
酸としては、例えば乳酸、酒石酸、マンデル酸およびリ
ンゴ酸等を挙げることができ、これらは1種または2種
以上の混合物の形態で用いることができる。特に、乳酸
が好ましい。
水和物の生成を促進する作用を有する。かかる第2有機
酸としては、例えば乳酸、酒石酸、マンデル酸およびリ
ンゴ酸等を挙げることができ、これらは1種または2種
以上の混合物の形態で用いることができる。特に、乳酸
が好ましい。
【0126】前記第2有機酸は、前記研磨スラリーまた
は研磨組成物中に前記第1有機酸に対して20〜250
重量%含有されることが好ましい。第2有機酸の含有量
を20重量%未満にすると、前記酸化剤による銅の水和
物の生成を促進する作用を十分に発揮することが困難に
なる。一方、第2有機酸の含有量が250重量%を超え
ると、銅もしくは銅合金からなる配線材料膜がエッチン
グされ、パターン形成ができなくなる恐れがある。より
好ましい前記第2有機酸の含有量は、前記第1有機酸に
対して40〜200重量%である。
は研磨組成物中に前記第1有機酸に対して20〜250
重量%含有されることが好ましい。第2有機酸の含有量
を20重量%未満にすると、前記酸化剤による銅の水和
物の生成を促進する作用を十分に発揮することが困難に
なる。一方、第2有機酸の含有量が250重量%を超え
ると、銅もしくは銅合金からなる配線材料膜がエッチン
グされ、パターン形成ができなくなる恐れがある。より
好ましい前記第2有機酸の含有量は、前記第1有機酸に
対して40〜200重量%である。
【0127】以上説明したよう本発明に係る研磨布[研
磨布(1)]は、水系媒体で加水分解される高分子材料
を含む研磨層を有する。
磨布(1)]は、水系媒体で加水分解される高分子材料
を含む研磨層を有する。
【0128】このような構成の研磨布に被研磨部材を押
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒および水
を含む研磨スラリーを供給すると、前記被研磨部材と前
記研磨布の間に供給された研磨砥粒により主に前記被研
磨部材の研磨面が研磨される。この時、前記研磨布は水
系媒体で加水分解される高分子材料を含むため、前記被
研磨部材の押圧、摺接により機械的な力が加わる前記研
磨層の箇所において、供給される研磨スラリー中の水に
より加水分解して溶解し、研磨布の表面が常に更新され
る。このため、前記研磨布(研磨層)表面に研磨スラリ
ー中の研磨砥粒が蓄積して増大するのを回避できる。そ
の結果、従来のように被研磨部材の研磨後に次の被研磨
部材を研磨する前に研磨布をドレッシング装置のドレッ
シングツールにより処理してその表面を再生する操作を
行うことなく、比較的長い時間に亘って研磨初期と同等
の研磨性能(研磨初期に比べて研磨速度が若干低下す
る)を発揮できる。したがって、被研磨部材をドレッシ
ングレスで長時間に亘って安定的に研磨することが可能
な研磨布を提供できる。
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒および水
を含む研磨スラリーを供給すると、前記被研磨部材と前
記研磨布の間に供給された研磨砥粒により主に前記被研
磨部材の研磨面が研磨される。この時、前記研磨布は水
系媒体で加水分解される高分子材料を含むため、前記被
研磨部材の押圧、摺接により機械的な力が加わる前記研
磨層の箇所において、供給される研磨スラリー中の水に
より加水分解して溶解し、研磨布の表面が常に更新され
る。このため、前記研磨布(研磨層)表面に研磨スラリ
ー中の研磨砥粒が蓄積して増大するのを回避できる。そ
の結果、従来のように被研磨部材の研磨後に次の被研磨
部材を研磨する前に研磨布をドレッシング装置のドレッ
シングツールにより処理してその表面を再生する操作を
行うことなく、比較的長い時間に亘って研磨初期と同等
の研磨性能(研磨初期に比べて研磨速度が若干低下す
る)を発揮できる。したがって、被研磨部材をドレッシ
ングレスで長時間に亘って安定的に研磨することが可能
な研磨布を提供できる。
【0129】特に、前記研磨布を構成する主たる高分子
材料として前記式(III)、式(IV)に示す単量体に基
づく構成単位(アクリル酸シリルエステル、メタクリル
酸シリルエステル)、および前記式(V)、式(VI)に
示す単量体に基づく構成単位(アクリル酸ヘミアセター
ルエステル、メタクリル酸ヘミアセタールエステル)を
有するホモポリマーあるいはコポリマーを用いれば、研
磨布の加水分解による溶解性を高めることができるた
め、研磨布の表面の更新性をより一層高めることができ
る。
材料として前記式(III)、式(IV)に示す単量体に基
づく構成単位(アクリル酸シリルエステル、メタクリル
酸シリルエステル)、および前記式(V)、式(VI)に
示す単量体に基づく構成単位(アクリル酸ヘミアセター
ルエステル、メタクリル酸ヘミアセタールエステル)を
有するホモポリマーあるいはコポリマーを用いれば、研
磨布の加水分解による溶解性を高めることができるた
め、研磨布の表面の更新性をより一層高めることができ
る。
【0130】すなわち、前記式(III)、式(IV)、式
(V)および式(VI)に示す単量体に基づく構成単位を
有するホモポリマーあるいはコポリマーは、それぞれ主
鎖にシリルエステルおよびヘミアセタールエステル基が
結合されており、これらが加水分解されると親水性の遊
離したカルボキシル基が再生されるため、前記研磨布表
面の溶解がより円滑になされ、研磨布の表面の更新性を
より一層高めることができる。
(V)および式(VI)に示す単量体に基づく構成単位を
有するホモポリマーあるいはコポリマーは、それぞれ主
鎖にシリルエステルおよびヘミアセタールエステル基が
結合されており、これらが加水分解されると親水性の遊
離したカルボキシル基が再生されるため、前記研磨布表
面の溶解がより円滑になされ、研磨布の表面の更新性を
より一層高めることができる。
【0131】また、前記研磨布に前記高分子材料より溶
解性の高い物質(例えばロジン等)の粒子を分散させる
ことによって、この粒子を起点とする溶解も進行するた
め、研磨布の表面の更新性をさらに一層高めることがで
きる。
解性の高い物質(例えばロジン等)の粒子を分散させる
ことによって、この粒子を起点とする溶解も進行するた
め、研磨布の表面の更新性をさらに一層高めることがで
きる。
【0132】本発明の別の研磨布[研磨布(2)]は、
水系媒体で加水分解される高分子材料とこの高分子材料
に分散された酸化セリウム、酸化マンガン、シリカ、ア
ルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる少なく
とも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有する。
水系媒体で加水分解される高分子材料とこの高分子材料
に分散された酸化セリウム、酸化マンガン、シリカ、ア
ルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる少なく
とも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有する。
【0133】このような構成の研磨布に被研磨部材を押
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒を含ま
ず、水を含む研磨組成物を供給すると、前記研磨布は水
系媒体で加水分解される高分子材料を含むため、前記被
研磨部材の押圧、摺接により機械的な力が加わる前記研
磨布の箇所において、供給される研磨組成物中の水によ
り加水分解されて溶出する。このため、前記研磨布に分
散された研磨砥粒が前記被研磨部材と前記研磨布の間に
供給される、研磨砥粒の自動供給機能を有することによ
って、前記被研磨部材の研磨面が主に前記研磨砥粒によ
り研磨される。また、前記研磨布が加水分解して溶解さ
れ、研磨布の表面が常に更新されるため、前記研磨布表
面に前記研磨砥粒が蓄積して増大するのを回避できる。
その結果、従来のように被研磨部材の研磨後に次の被研
磨部材を研磨する前に研磨布をドレッシング装置のドレ
ッシングツールにより処理してその表面を再生する操作
を行うことなく、比較的長い時間に亘って研磨初期と同
等の研磨性能(研磨初期に比べて研磨速度が若干低下す
る)を発揮できる。したがって、被研磨部材をドレッシ
ングレスで長時間に亘って安定的に研磨することが可能
な研磨布を提供できる。
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒を含ま
ず、水を含む研磨組成物を供給すると、前記研磨布は水
系媒体で加水分解される高分子材料を含むため、前記被
研磨部材の押圧、摺接により機械的な力が加わる前記研
磨布の箇所において、供給される研磨組成物中の水によ
り加水分解されて溶出する。このため、前記研磨布に分
散された研磨砥粒が前記被研磨部材と前記研磨布の間に
供給される、研磨砥粒の自動供給機能を有することによ
って、前記被研磨部材の研磨面が主に前記研磨砥粒によ
り研磨される。また、前記研磨布が加水分解して溶解さ
れ、研磨布の表面が常に更新されるため、前記研磨布表
面に前記研磨砥粒が蓄積して増大するのを回避できる。
その結果、従来のように被研磨部材の研磨後に次の被研
磨部材を研磨する前に研磨布をドレッシング装置のドレ
ッシングツールにより処理してその表面を再生する操作
を行うことなく、比較的長い時間に亘って研磨初期と同
等の研磨性能(研磨初期に比べて研磨速度が若干低下す
る)を発揮できる。したがって、被研磨部材をドレッシ
ングレスで長時間に亘って安定的に研磨することが可能
な研磨布を提供できる。
【0134】特に、前記研磨布を構成する主たる高分子
材料として前記式(III)、式(IV)に示す単量体に基
づく構成単位(アクリル酸シリルエステル、メタクリル
酸シリルエステル)、および前記式(V)、式(VI)に
示す単量体に基づく構成単位(アクリル酸ヘミアセター
ルエステル、メタクリル酸ヘミアセタールエステル)を
有するホモポリマーあるいはコポリマーを用いれば、前
述したように研磨布の加水分解による溶解性を高めるこ
とができるため、研磨布中から研磨砥粒をより円滑に供
給できるとともに、研磨布表面の更新性をより一層高め
ることができる。
材料として前記式(III)、式(IV)に示す単量体に基
づく構成単位(アクリル酸シリルエステル、メタクリル
酸シリルエステル)、および前記式(V)、式(VI)に
示す単量体に基づく構成単位(アクリル酸ヘミアセター
ルエステル、メタクリル酸ヘミアセタールエステル)を
有するホモポリマーあるいはコポリマーを用いれば、前
述したように研磨布の加水分解による溶解性を高めるこ
とができるため、研磨布中から研磨砥粒をより円滑に供
給できるとともに、研磨布表面の更新性をより一層高め
ることができる。
【0135】また、前記研磨布に前記高分子材料より溶
解性の高い物質(例えばロジン等)の粒子を分散させる
ことによって、この粒子を起点とする溶解も進行するた
め、研磨布中から研磨砥粒をより一層円滑に供給できる
とともに、研磨布表面の更新性をさらに一層高めること
ができる。
解性の高い物質(例えばロジン等)の粒子を分散させる
ことによって、この粒子を起点とする溶解も進行するた
め、研磨布中から研磨砥粒をより一層円滑に供給できる
とともに、研磨布表面の更新性をさらに一層高めること
ができる。
【0136】本発明に係る別の研磨布[(3)研磨布]
は、水系媒体に可溶な高分子材料を含む研磨層を有す
る。
は、水系媒体に可溶な高分子材料を含む研磨層を有す
る。
【0137】このような構成の研磨布に被研磨部材を押
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒および水
を含む研磨スラリーを供給すると、前記被研磨部材と前
記研磨布の間に供給された研磨砥粒により主に前記被研
磨部材の研磨面が研磨される。この時、前記研磨布は水
系媒体で可溶な高分子材料を含むため、前記被研磨部材
の押圧、摺接により機械的な力が加わる前記研磨層の箇
所において、供給される研磨スラリー中の水により溶解
し、研磨布の表面が常に更新される。このため、前記研
磨布(研磨層)表面に研磨スラリー中の研磨砥粒が蓄積
して増大するのを回避できる。その結果、従来のように
被研磨部材の研磨後に次の被研磨部材を研磨する前に研
磨布をドレッシング装置のドレッシングツールにより処
理してその表面を再生する操作を行うことなく、比較的
長い時間に亘って研磨初期と同等の研磨性能(研磨初期
に比べて研磨速度が若干低下する)を発揮できる。した
がって、被研磨部材をドレッシングレスで長時間に亘っ
て安定的に研磨することが可能な研磨布を提供できる。
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒および水
を含む研磨スラリーを供給すると、前記被研磨部材と前
記研磨布の間に供給された研磨砥粒により主に前記被研
磨部材の研磨面が研磨される。この時、前記研磨布は水
系媒体で可溶な高分子材料を含むため、前記被研磨部材
の押圧、摺接により機械的な力が加わる前記研磨層の箇
所において、供給される研磨スラリー中の水により溶解
し、研磨布の表面が常に更新される。このため、前記研
磨布(研磨層)表面に研磨スラリー中の研磨砥粒が蓄積
して増大するのを回避できる。その結果、従来のように
被研磨部材の研磨後に次の被研磨部材を研磨する前に研
磨布をドレッシング装置のドレッシングツールにより処
理してその表面を再生する操作を行うことなく、比較的
長い時間に亘って研磨初期と同等の研磨性能(研磨初期
に比べて研磨速度が若干低下する)を発揮できる。した
がって、被研磨部材をドレッシングレスで長時間に亘っ
て安定的に研磨することが可能な研磨布を提供できる。
【0138】特に、前記研磨布を構成する主たる高分子
材料として研磨層に前記被研磨部材を300gf/cm
2の荷重を加えた状態で前記研磨層と前記被研磨部材と
の間の相対速度を1.0m/secとした時の水系媒体
中で溶解する速度が0.01〜10.0mg/分である
ものを用いれば、前記研磨過程での研磨布の溶解性をよ
り高めることができるため、研磨布の表面の更新性をよ
り一層高めることができる。
材料として研磨層に前記被研磨部材を300gf/cm
2の荷重を加えた状態で前記研磨層と前記被研磨部材と
の間の相対速度を1.0m/secとした時の水系媒体
中で溶解する速度が0.01〜10.0mg/分である
ものを用いれば、前記研磨過程での研磨布の溶解性をよ
り高めることができるため、研磨布の表面の更新性をよ
り一層高めることができる。
【0139】本発明に係る別の研磨布[(4)研磨布]
は、水系媒体で可溶な高分子材料とこの高分子材料に分
散された酸化セリウム、酸化マンガン、シリカ、アルミ
ナおよびジルコニアからなる群から選ばれる少なくとも
1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有する。
は、水系媒体で可溶な高分子材料とこの高分子材料に分
散された酸化セリウム、酸化マンガン、シリカ、アルミ
ナおよびジルコニアからなる群から選ばれる少なくとも
1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有する。
【0140】このような構成の研磨布に被研磨部材を押
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒を含ま
ず、水を含む研磨組成物を供給すると、前記研磨布は水
系媒体に可溶な高分子材料を含むため、前記被研磨部材
の押圧、摺接により機械的な力が加わる前記研磨布の箇
所において、供給される研磨組成物中の水により溶出す
る。このため、前記研磨布に分散された研磨砥粒が前記
被研磨部材と前記研磨布の間に供給される、研磨砥粒の
自動供給機能を有することによって、前記被研磨部材の
研磨面が主に前記研磨砥粒により研磨される。また、前
記研磨布が水に可溶で、研磨布の表面が常に更新される
ため、前記研磨布表面に前記研磨砥粒が蓄積して増大す
るのを回避できる。その結果、従来のように被研磨部材
の研磨後に次の被研磨部材を研磨する前に研磨布をドレ
ッシング装置のドレッシングツールにより処理してその
表面を再生する操作を行うことなく、比較的長い時間に
亘って研磨初期と同等の研磨性能(研磨初期に比べて研
磨速度が若干低下する)を発揮できる。したがって、被
研磨部材をドレッシングレスで長時間に亘って安定的に
研磨することが可能な研磨布を提供できる。
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒を含ま
ず、水を含む研磨組成物を供給すると、前記研磨布は水
系媒体に可溶な高分子材料を含むため、前記被研磨部材
の押圧、摺接により機械的な力が加わる前記研磨布の箇
所において、供給される研磨組成物中の水により溶出す
る。このため、前記研磨布に分散された研磨砥粒が前記
被研磨部材と前記研磨布の間に供給される、研磨砥粒の
自動供給機能を有することによって、前記被研磨部材の
研磨面が主に前記研磨砥粒により研磨される。また、前
記研磨布が水に可溶で、研磨布の表面が常に更新される
ため、前記研磨布表面に前記研磨砥粒が蓄積して増大す
るのを回避できる。その結果、従来のように被研磨部材
の研磨後に次の被研磨部材を研磨する前に研磨布をドレ
ッシング装置のドレッシングツールにより処理してその
表面を再生する操作を行うことなく、比較的長い時間に
亘って研磨初期と同等の研磨性能(研磨初期に比べて研
磨速度が若干低下する)を発揮できる。したがって、被
研磨部材をドレッシングレスで長時間に亘って安定的に
研磨することが可能な研磨布を提供できる。
【0141】特に、前記研磨布を構成する主たる高分子
材料として研磨層に前記被研磨部材を300gf/cm
2の荷重を加えた状態で前記研磨層と前記被研磨部材と
の間の相対速度を1.0m/secとした時の水系媒体
中で溶解する速度が0.01〜10.0mg/分である
ものを用いれば、前記研磨過程での研磨布の溶解性をよ
り高めることができるため、研磨布中から研磨砥粒をよ
り円滑に供給できるとともに、研磨布表面の更新性をよ
り一層高めることができる。
材料として研磨層に前記被研磨部材を300gf/cm
2の荷重を加えた状態で前記研磨層と前記被研磨部材と
の間の相対速度を1.0m/secとした時の水系媒体
中で溶解する速度が0.01〜10.0mg/分である
ものを用いれば、前記研磨過程での研磨布の溶解性をよ
り高めることができるため、研磨布中から研磨砥粒をよ
り円滑に供給できるとともに、研磨布表面の更新性をよ
り一層高めることができる。
【0142】本発明に係る別の研磨布[(5)研磨布]
は、水系媒体が存在する非摩擦力の下で表面が溶出せ
ず、摩擦力の下で表面が溶出する研磨層を有する。
は、水系媒体が存在する非摩擦力の下で表面が溶出せ
ず、摩擦力の下で表面が溶出する研磨層を有する。
【0143】このような構成の研磨布に被研磨部材を押
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒および水
を含む研磨スラリーを供給すると、前記被研磨部材と前
記研磨布の間に供給された研磨砥粒により主に前記被研
磨部材の研磨面が研磨される。この時、前記研磨布は前
記被研磨部材の押圧、摺接により機械的な力(摩擦力)
が加わる前記研磨層の箇所において、供給される研磨ス
ラリー中の水の存在下で溶出し、研磨布の表面が常に更
新される。このため、前記研磨布(研磨層)表面に研磨
スラリー中の研磨砥粒が蓄積して増大するのを回避でき
る。その結果、従来のように被研磨部材の研磨後に次の
被研磨部材を研磨する前に研磨布をドレッシング装置の
ドレッシングツールにより処理してその表面を再生する
操作を行うことなく、比較的長い時間に亘って研磨初期
と同等の研磨性能(研磨初期に比べて研磨速度が若干低
下する)を発揮できる。したがって、被研磨部材をドレ
ッシングレスで長時間に亘って安定的に研磨することが
可能な研磨布を提供できる。
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒および水
を含む研磨スラリーを供給すると、前記被研磨部材と前
記研磨布の間に供給された研磨砥粒により主に前記被研
磨部材の研磨面が研磨される。この時、前記研磨布は前
記被研磨部材の押圧、摺接により機械的な力(摩擦力)
が加わる前記研磨層の箇所において、供給される研磨ス
ラリー中の水の存在下で溶出し、研磨布の表面が常に更
新される。このため、前記研磨布(研磨層)表面に研磨
スラリー中の研磨砥粒が蓄積して増大するのを回避でき
る。その結果、従来のように被研磨部材の研磨後に次の
被研磨部材を研磨する前に研磨布をドレッシング装置の
ドレッシングツールにより処理してその表面を再生する
操作を行うことなく、比較的長い時間に亘って研磨初期
と同等の研磨性能(研磨初期に比べて研磨速度が若干低
下する)を発揮できる。したがって、被研磨部材をドレ
ッシングレスで長時間に亘って安定的に研磨することが
可能な研磨布を提供できる。
【0144】本発明に係るさらに別の研磨布[(6)研
磨布]は、酸化セリウム、酸化マンガン、シリカ、アル
ミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる少なくと
も1つの研磨砥粒を分散して含有し、水系媒体が存在す
る非摩擦力の下で表面が溶出せず、摩擦力の下で表面が
溶出すると共に前記研磨砥粒がその表面に供給される研
磨層を少なくとも被研磨部材が接触される側に有する。
磨布]は、酸化セリウム、酸化マンガン、シリカ、アル
ミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる少なくと
も1つの研磨砥粒を分散して含有し、水系媒体が存在す
る非摩擦力の下で表面が溶出せず、摩擦力の下で表面が
溶出すると共に前記研磨砥粒がその表面に供給される研
磨層を少なくとも被研磨部材が接触される側に有する。
【0145】このような構成の研磨布に被研磨部材を押
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒を含ま
ず、水を含む研磨組成物を供給すると、前記研磨布は前
記被研磨部材の押圧、摺接により機械的な力(摩擦力)
が加わる前記研磨布の箇所において、供給される研磨組
成物中の水の存在下で溶出する。このため、前記研磨布
に分散された研磨砥粒が前記被研磨部材と前記研磨布の
間に供給される、研磨砥粒の自動供給機能を有すること
によって、前記被研磨部材の研磨面が主に前記研磨砥粒
により研磨される。また、前記研磨布が水の存在下で前
記摩擦力により溶出され、研磨布の表面が常に更新され
るため、前記研磨布表面に前記研磨砥粒が蓄積して増大
するのを回避できる。その結果、従来のように被研磨部
材の研磨後に次の被研磨部材を研磨する前に研磨布をド
レッシング装置のドレッシングツールにより処理してそ
の表面を再生する操作を行うことなく、比較的長い時間
に亘って研磨初期と同等の研磨性能(研磨初期に比べて
研磨速度が若干低下する)を発揮できる。したがって、
被研磨部材をドレッシングレスで長時間に亘って安定的
に研磨することが可能な研磨布を提供できる。
圧して回転させながら、前記研磨布に研磨砥粒を含ま
ず、水を含む研磨組成物を供給すると、前記研磨布は前
記被研磨部材の押圧、摺接により機械的な力(摩擦力)
が加わる前記研磨布の箇所において、供給される研磨組
成物中の水の存在下で溶出する。このため、前記研磨布
に分散された研磨砥粒が前記被研磨部材と前記研磨布の
間に供給される、研磨砥粒の自動供給機能を有すること
によって、前記被研磨部材の研磨面が主に前記研磨砥粒
により研磨される。また、前記研磨布が水の存在下で前
記摩擦力により溶出され、研磨布の表面が常に更新され
るため、前記研磨布表面に前記研磨砥粒が蓄積して増大
するのを回避できる。その結果、従来のように被研磨部
材の研磨後に次の被研磨部材を研磨する前に研磨布をド
レッシング装置のドレッシングツールにより処理してそ
の表面を再生する操作を行うことなく、比較的長い時間
に亘って研磨初期と同等の研磨性能(研磨初期に比べて
研磨速度が若干低下する)を発揮できる。したがって、
被研磨部材をドレッシングレスで長時間に亘って安定的
に研磨することが可能な研磨布を提供できる。
【0146】本発明に係る研磨装置は、前述した
(1),(3),(5)の構成の研磨層を有する研磨布
が表面に取付けられた回転テーブルと、前記回転テーブ
ルの上方に上下動自在でかつ回転自在に配置され、被研
磨部材を保持するとともに、この被研磨部材を前記回転
テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押圧させるための
前記回転テーブルと同方向に回転する保持手段と、前記
研磨布に研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給するための
研磨スラリー供給手段とを具備した構造を有する。この
ような研磨装置は、前述した(1),(3),(5)の
研磨布の作用によりドレッシング処理を施さなくとも、
比較的長い時間に亘って安定した研磨性能を発揮するこ
とができる。
(1),(3),(5)の構成の研磨層を有する研磨布
が表面に取付けられた回転テーブルと、前記回転テーブ
ルの上方に上下動自在でかつ回転自在に配置され、被研
磨部材を保持するとともに、この被研磨部材を前記回転
テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押圧させるための
前記回転テーブルと同方向に回転する保持手段と、前記
研磨布に研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給するための
研磨スラリー供給手段とを具備した構造を有する。この
ような研磨装置は、前述した(1),(3),(5)の
研磨布の作用によりドレッシング処理を施さなくとも、
比較的長い時間に亘って安定した研磨性能を発揮するこ
とができる。
【0147】本発明に係る別の研磨装置は、酸化セリウ
ム、酸化マンガン、シリカ、アルミナおよびジルコニア
からなる群から選ばれる少なくとも1つの研磨砥粒を含
む前述した(2),(4),(6)の構成の研磨層を有
する研磨布が表面に取付けられた回転テーブルと、前記
回転テーブルの上方に上下動自在でかつ回転自在に配置
され、被研磨部材を保持するとともに、この被研磨部材
を前記回転テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押圧さ
せるための前記回転テーブルと同方向に回転する保持手
段と、前記研磨布に研磨砥粒を含まず、少なくとも水を
含む研磨組成物を供給するための研磨組成物供給手段と
を具備した構造を有する。このような研磨装置は、前述
した(2),(4),(6)研磨布の作用により研磨砥
粒の自動供給機能を有し、かつドレッシング処理を施さ
なくとも、比較的長い時間に亘って安定した研磨性能を
発揮することができる。
ム、酸化マンガン、シリカ、アルミナおよびジルコニア
からなる群から選ばれる少なくとも1つの研磨砥粒を含
む前述した(2),(4),(6)の構成の研磨層を有
する研磨布が表面に取付けられた回転テーブルと、前記
回転テーブルの上方に上下動自在でかつ回転自在に配置
され、被研磨部材を保持するとともに、この被研磨部材
を前記回転テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押圧さ
せるための前記回転テーブルと同方向に回転する保持手
段と、前記研磨布に研磨砥粒を含まず、少なくとも水を
含む研磨組成物を供給するための研磨組成物供給手段と
を具備した構造を有する。このような研磨装置は、前述
した(2),(4),(6)研磨布の作用により研磨砥
粒の自動供給機能を有し、かつドレッシング処理を施さ
なくとも、比較的長い時間に亘って安定した研磨性能を
発揮することができる。
【0148】本発明に係る半導体装置の製造方法は、半
導体基板上の絶縁膜に配線層の形状に相当する溝および
ビアフィルの形状に相当する開口部から選ばれる少なく
とも1つの埋込み用部材を形成する工程と、前記埋込み
用部材の内面を含む前記絶縁膜上に銅または銅合金から
なる配線材料膜を形成する工程と、前述した(1)〜
(6)の研磨布が組み込まれた研磨装置を用いて前記配
線材料膜を研磨することにより前記埋込み用部材内に配
線層およびビアフィルから選ばれる少なくとも1つの導
電部材を形成する工程とを具備する。
導体基板上の絶縁膜に配線層の形状に相当する溝および
ビアフィルの形状に相当する開口部から選ばれる少なく
とも1つの埋込み用部材を形成する工程と、前記埋込み
用部材の内面を含む前記絶縁膜上に銅または銅合金から
なる配線材料膜を形成する工程と、前述した(1)〜
(6)の研磨布が組み込まれた研磨装置を用いて前記配
線材料膜を研磨することにより前記埋込み用部材内に配
線層およびビアフィルから選ばれる少なくとも1つの導
電部材を形成する工程とを具備する。
【0149】このような方法によれば、前述したドレッ
シングレスで安定した研磨性能を有する研磨布を備えた
研磨装置により前記配線材料膜を簡略された操作で研磨
を行うことによって、目的とする膜厚を有する配線層の
ような導電部材が埋込み用部材に形成された半導体装置
を量産的に製造することが可能になる。
シングレスで安定した研磨性能を有する研磨布を備えた
研磨装置により前記配線材料膜を簡略された操作で研磨
を行うことによって、目的とする膜厚を有する配線層の
ような導電部材が埋込み用部材に形成された半導体装置
を量産的に製造することが可能になる。
【0150】
【実施例】以下、好ましい実施例を詳細に説明する。
【0151】<合成例1>まず、攪拌機付きのフラスコ
にキシレン40.0重量部、酢酸ブチル10.0重量部
を仕込み、134℃に昇温させ、攪拌しながら、トリi
so―プロピルシリルアクリレート(前記式(III−
4)の化合物)60.0重量部、2−エトキシエチルメ
タクリレート15.0重量部、メチルメタクリレート2
0.0重量部、n−ブチルメタクリレート5.0重量部
および重合触媒パーブチルI(日本油脂株式会社製、商
品名、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネー
ト)1.0重量部の混合液をフラスコの中へ3時間で滴
下し、滴下終了後同温度で30分間保持した。つづい
て、キシレン10.0重量部、パーブチルI1.0重量
部との混合物を20分間で滴下し、さらに同温度で2時
間攪拌を続けて重合反応を完結させた。最後に、キシレ
ン48.0重量部を加えて希釈することにより、下記式
(X)に示す構造式を持つアクリル酸シリルエステルの
単位を有する共重合体の50%キシレン溶液を得た。
にキシレン40.0重量部、酢酸ブチル10.0重量部
を仕込み、134℃に昇温させ、攪拌しながら、トリi
so―プロピルシリルアクリレート(前記式(III−
4)の化合物)60.0重量部、2−エトキシエチルメ
タクリレート15.0重量部、メチルメタクリレート2
0.0重量部、n−ブチルメタクリレート5.0重量部
および重合触媒パーブチルI(日本油脂株式会社製、商
品名、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネー
ト)1.0重量部の混合液をフラスコの中へ3時間で滴
下し、滴下終了後同温度で30分間保持した。つづい
て、キシレン10.0重量部、パーブチルI1.0重量
部との混合物を20分間で滴下し、さらに同温度で2時
間攪拌を続けて重合反応を完結させた。最後に、キシレ
ン48.0重量部を加えて希釈することにより、下記式
(X)に示す構造式を持つアクリル酸シリルエステルの
単位を有する共重合体の50%キシレン溶液を得た。
【0152】なお、得られた共重合体は数平均分子量が
67,000、ガラス転移温度が56℃であった。ま
た、この共重合体中に占めるアクリル酸シリルエステル
の単位は、60重量%であった。
67,000、ガラス転移温度が56℃であった。ま
た、この共重合体中に占めるアクリル酸シリルエステル
の単位は、60重量%であった。
【0153】
【化41】
【0154】<合成例2>まず、攪拌機付きのフラスコ
にキシレン40.0重量部、酢酸ブチル10.0重量部
を仕込み、134℃に昇温させ、攪拌しながら、1−i
so―ブトキシエチルメタクリレート(前記式(VI−
6)の化合物)43.7重量部、メチルメタクリレート
52.0重量部、2−エチルヘキシルアクリレート4.
3重量部および重合触媒パーブチルI1.0重量部の混
合液をフラスコの中へ3時間で滴下し、滴下終了後同温
度で30分間保持した。つづいて、キシレン10.0重
量部、パーブチルI1.0重量部との混合物を20分間
で滴下し、さらに同温度で2時間攪拌を続けて重合反応
を完結させた。最後に、キシレン48.0重量部を加え
て希釈することにより、下記式(XI)に示す構造式を
持つメタクリル酸ヘミアセタールエステルの単位を有す
る共重合体の50%キシレン溶液を得た。
にキシレン40.0重量部、酢酸ブチル10.0重量部
を仕込み、134℃に昇温させ、攪拌しながら、1−i
so―ブトキシエチルメタクリレート(前記式(VI−
6)の化合物)43.7重量部、メチルメタクリレート
52.0重量部、2−エチルヘキシルアクリレート4.
3重量部および重合触媒パーブチルI1.0重量部の混
合液をフラスコの中へ3時間で滴下し、滴下終了後同温
度で30分間保持した。つづいて、キシレン10.0重
量部、パーブチルI1.0重量部との混合物を20分間
で滴下し、さらに同温度で2時間攪拌を続けて重合反応
を完結させた。最後に、キシレン48.0重量部を加え
て希釈することにより、下記式(XI)に示す構造式を
持つメタクリル酸ヘミアセタールエステルの単位を有す
る共重合体の50%キシレン溶液を得た。
【0155】なお、得られた共重合体は数平均分子量が
38,000、ガラス転移温度が50℃であった。ま
た、この共重合体中に占めるメタクリル酸ヘミアセター
ルエステルの単位は43.7重量%であった。
38,000、ガラス転移温度が50℃であった。ま
た、この共重合体中に占めるメタクリル酸ヘミアセター
ルエステルの単位は43.7重量%であった。
【0156】
【化42】
【0157】<合成例3>攪拌機付きのフラスコに、キ
シレン40.0重量部、酢酸ブチル10.0重量部を仕
込み、134℃に昇温させ、攪拌しながら、アクリル酸
64.0重量部、アクリル酸メトキシエチル36.0重
量部および重合触媒パーブチルI1.0重量部の混合液
をフラスコの中へ3時間で滴下し、滴下終了後同温度で
30分間保持した。つづいて、キシレン10.0重量
部、パーブチルI1.0重量部との混合物を20分間で
滴下し、さらに同温度で2時間攪拌を続けて重合反応を
完結させた。
シレン40.0重量部、酢酸ブチル10.0重量部を仕
込み、134℃に昇温させ、攪拌しながら、アクリル酸
64.0重量部、アクリル酸メトキシエチル36.0重
量部および重合触媒パーブチルI1.0重量部の混合液
をフラスコの中へ3時間で滴下し、滴下終了後同温度で
30分間保持した。つづいて、キシレン10.0重量
部、パーブチルI1.0重量部との混合物を20分間で
滴下し、さらに同温度で2時間攪拌を続けて重合反応を
完結させた。
【0158】最後に、キシレン48.0重量部を加えて
希釈し、水媒体に可溶なポリマーの50%溶液を得た。
希釈し、水媒体に可溶なポリマーの50%溶液を得た。
【0159】得られたポリマーの数平均分子量は、2
1,000であり、ガラス転移温度は35℃であった。
1,000であり、ガラス転移温度は35℃であった。
【0160】<合成例4>攪拌機付きのフラスコに、キ
シレン40.0重量部、酢酸ブチル10.0重量部を仕
込み、134℃に昇温させ、攪拌しながら、メタクリル
酸メチル15.0重量部、メタクリル酸ブチル85.0
重量部および重合触媒パーブチルI1.0重量部の混合
液をフラスコの中へ3時間で滴下し、滴下終了後同温度
で30分間保持した。つづいて、キシレン10.0重量
部、パーブチルI1.0重量部との混合物を20分間で
滴下し、さらに同温度で2時間攪拌を続けて重合反応を
完結させた。
シレン40.0重量部、酢酸ブチル10.0重量部を仕
込み、134℃に昇温させ、攪拌しながら、メタクリル
酸メチル15.0重量部、メタクリル酸ブチル85.0
重量部および重合触媒パーブチルI1.0重量部の混合
液をフラスコの中へ3時間で滴下し、滴下終了後同温度
で30分間保持した。つづいて、キシレン10.0重量
部、パーブチルI1.0重量部との混合物を20分間で
滴下し、さらに同温度で2時間攪拌を続けて重合反応を
完結させた。
【0161】最後に、キシレン48.0重量部を加えて
希釈し、摩擦力のもとで表面が水媒体に溶出するポリマ
ーの50%溶液を得た。
希釈し、摩擦力のもとで表面が水媒体に溶出するポリマ
ーの50%溶液を得た。
【0162】得られたポリマーの数平均分子量は、1
7,000であり、ガラス転移温度は44℃であった。
7,000であり、ガラス転移温度は44℃であった。
【0163】(実施例1)純水に平均粒径0.2μmの
酸化セリウム砥粒を0.5重量%分散させて研磨スラリ
ーを調製した。
酸化セリウム砥粒を0.5重量%分散させて研磨スラリ
ーを調製した。
【0164】また、ターンテーブル上に前記合成例1で
合成した式(X)に示す構造式を有する共重合体の50
%キシレン溶液をキャスティングした後乾燥することに
より共重合体からなる厚さ50μmの研磨布を形成し
た。この研磨布で覆われたターンテーブルを前述した図
1に示す研磨装置に組み込んだ。
合成した式(X)に示す構造式を有する共重合体の50
%キシレン溶液をキャスティングした後乾燥することに
より共重合体からなる厚さ50μmの研磨布を形成し
た。この研磨布で覆われたターンテーブルを前述した図
1に示す研磨装置に組み込んだ。
【0165】次いで、シリコン酸化膜が形成された20
mm角のシリコン基板を用意した。つづいて、前述した
図1に示す研磨装置の基板ホルダ5に前記シリコン基板
6をその酸化膜がターンテーブル1上の研磨布2と対向
するように保持した。つづいて、前記ホルダ5の支持軸
4により前記ウェハ6をターンテーブル1上の研磨布2
に約300g/cm2 の荷重を与え、前記ターンテーブ
ル1およびホルダ5をそれぞれ100rpm、103r
pmの速度で同方向に回転させながら、前記研磨スラリ
ーを供給管3から20ml/分の速度で前記研磨布2に
供給して前記シリコン基板6表面のシリコン酸化膜を6
0分間に亘って研磨した。
mm角のシリコン基板を用意した。つづいて、前述した
図1に示す研磨装置の基板ホルダ5に前記シリコン基板
6をその酸化膜がターンテーブル1上の研磨布2と対向
するように保持した。つづいて、前記ホルダ5の支持軸
4により前記ウェハ6をターンテーブル1上の研磨布2
に約300g/cm2 の荷重を与え、前記ターンテーブ
ル1およびホルダ5をそれぞれ100rpm、103r
pmの速度で同方向に回転させながら、前記研磨スラリ
ーを供給管3から20ml/分の速度で前記研磨布2に
供給して前記シリコン基板6表面のシリコン酸化膜を6
0分間に亘って研磨した。
【0166】(比較例1)研磨装置に組み込まれる研磨
布として硬質発泡ポリウレタン(ローデル社製商品名;
IC1000)を用いた以外、実施例1と同様な条件で
シリコン基板表面のシリコン酸化膜を60分間に亘って
研磨した。
布として硬質発泡ポリウレタン(ローデル社製商品名;
IC1000)を用いた以外、実施例1と同様な条件で
シリコン基板表面のシリコン酸化膜を60分間に亘って
研磨した。
【0167】実施例1および比較例1における研磨時間
とシリコン酸化膜の研磨速度を測定した。その結果を図
2に示す。
とシリコン酸化膜の研磨速度を測定した。その結果を図
2に示す。
【0168】図2から明らかなように従来の硬質発泡ポ
リウレタンからなる研磨布を備えた研磨装置でシリコン
基板上のシリコン酸化膜を研磨する比較例1では、研磨
時間の経過に伴って研磨速度が上昇し、初期研磨速度に
対して60分間経過後において30%の研磨速度が上
昇,つまり研磨速度が変動することがわかる。
リウレタンからなる研磨布を備えた研磨装置でシリコン
基板上のシリコン酸化膜を研磨する比較例1では、研磨
時間の経過に伴って研磨速度が上昇し、初期研磨速度に
対して60分間経過後において30%の研磨速度が上
昇,つまり研磨速度が変動することがわかる。
【0169】これに対し、前記式(X)に示す構造式を
有する共重合体からなる研磨布を備えた研磨装置でシリ
コン基板上のシリコン酸化膜を研磨する実施例1では、
研磨時間の経過に伴って研磨速度が若干下がるものの、
初期研磨速度に対して60分間経過後において10%し
か研磨速度が下降せず、安定した研磨速度を示すことが
わかる。
有する共重合体からなる研磨布を備えた研磨装置でシリ
コン基板上のシリコン酸化膜を研磨する実施例1では、
研磨時間の経過に伴って研磨速度が若干下がるものの、
初期研磨速度に対して60分間経過後において10%し
か研磨速度が下降せず、安定した研磨速度を示すことが
わかる。
【0170】(実施例2)ターンテーブル上に前記合成
例2で合成した式(XI)に示す構造式を有する共重合
体の50%キシレン溶液をキャスティングした後乾燥す
ることにより共重合体からなる厚さ50μmの研磨布を
形成した。この研磨布で覆われたターンテーブルを前述
した図1に示す研磨装置に組み込んだ。
例2で合成した式(XI)に示す構造式を有する共重合
体の50%キシレン溶液をキャスティングした後乾燥す
ることにより共重合体からなる厚さ50μmの研磨布を
形成した。この研磨布で覆われたターンテーブルを前述
した図1に示す研磨装置に組み込んだ。
【0171】次いで、シリコン酸化膜が形成された20
mm角のシリコン基板を用意した。つづいて、前述した
図1に示す研磨装置の基板ホルダ5に前記シリコン基板
6をその酸化膜がターンテーブル1上の研磨布2と対向
するように保持した後、実施例1と同様な方法により前
記シリコン基板6表面のシリコン酸化膜を研磨した。
mm角のシリコン基板を用意した。つづいて、前述した
図1に示す研磨装置の基板ホルダ5に前記シリコン基板
6をその酸化膜がターンテーブル1上の研磨布2と対向
するように保持した後、実施例1と同様な方法により前
記シリコン基板6表面のシリコン酸化膜を研磨した。
【0172】また、研磨布表面形状を整えるドレッシン
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
【0173】その結果、ドレッシングを5分間以上行う
と、酸化膜の研磨速度が約40nm/minで安定して
研磨できることを確認した。
と、酸化膜の研磨速度が約40nm/minで安定して
研磨できることを確認した。
【0174】(実施例3)ロデール社商品名のIC10
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例4で合
成した摩擦力の下で表面が水媒体に溶出するポリマー
(メタクリル酸メチル/メタクリル酸ブチルの共重合
体)の50%キシレン溶液を厚さ85μm塗布した後、
乾燥して研磨布を形成した。この研磨布で覆われたター
ンテーブルを前述した図1に示す研磨装置に組み込ん
だ。
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例4で合
成した摩擦力の下で表面が水媒体に溶出するポリマー
(メタクリル酸メチル/メタクリル酸ブチルの共重合
体)の50%キシレン溶液を厚さ85μm塗布した後、
乾燥して研磨布を形成した。この研磨布で覆われたター
ンテーブルを前述した図1に示す研磨装置に組み込ん
だ。
【0175】次いで、シリコン酸化膜(P−TEOS
膜)が形成された25mm角のシリコン基板を用意し
た。つづいて、前述した図1に示す研磨装置の基板ホル
ダ5に前記シリコン基板6をその酸化膜がターンテーブ
ル1上の研磨布2と対向するように保持した。ひきつづ
き、前記ホルダ5の支持軸4により前記シリコン基板6
をターンテーブル1上の研磨布2に約300g/cm2
の荷重を与え、前記ターンテーブル1およびホルダ5を
それぞれ約50rpm、160rpmの速度で同方向に
回転させながら、純水に平均粒径0.2μmの酸化セリ
ウム砥粒を1重量%分散させて研磨スラリーを供給管3
から20ml/分の速度で前記研磨布2に供給して前記
シリコン基板6表面のシリコン酸化膜を研磨した。
膜)が形成された25mm角のシリコン基板を用意し
た。つづいて、前述した図1に示す研磨装置の基板ホル
ダ5に前記シリコン基板6をその酸化膜がターンテーブ
ル1上の研磨布2と対向するように保持した。ひきつづ
き、前記ホルダ5の支持軸4により前記シリコン基板6
をターンテーブル1上の研磨布2に約300g/cm2
の荷重を与え、前記ターンテーブル1およびホルダ5を
それぞれ約50rpm、160rpmの速度で同方向に
回転させながら、純水に平均粒径0.2μmの酸化セリ
ウム砥粒を1重量%分散させて研磨スラリーを供給管3
から20ml/分の速度で前記研磨布2に供給して前記
シリコン基板6表面のシリコン酸化膜を研磨した。
【0176】また、研磨布表面形状を整えるドレッシン
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
【0177】その結果、ドレッシングを5分間以上行う
と、酸化膜の研磨速度が約40nm/minで安定して
研磨できることを確認した。
と、酸化膜の研磨速度が約40nm/minで安定して
研磨できることを確認した。
【0178】(実施例4)ロデール社商品名のIC10
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例3で合
成した水媒体に可溶なポリマー(アクリル酸/アクリル
酸メトキシエチルの共重合体)の50%キシレン溶液を
厚さ55μm塗布した後、乾燥して研磨布を形成した。
この研磨布で覆われたターンテーブルを前述した図1に
示す研磨装置に組み込んだ。
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例3で合
成した水媒体に可溶なポリマー(アクリル酸/アクリル
酸メトキシエチルの共重合体)の50%キシレン溶液を
厚さ55μm塗布した後、乾燥して研磨布を形成した。
この研磨布で覆われたターンテーブルを前述した図1に
示す研磨装置に組み込んだ。
【0179】次いで、シリコン酸化膜(P−TEOS
膜)が形成された25mm角のシリコン基板を用意し
た。つづいて、前述した図1に示す研磨装置の基板ホル
ダ5に前記シリコン基板6をその酸化膜がターンテーブ
ル1上の研磨布2と対向するように保持した後、実施例
3と同様な方法により前記シリコン基板6表面のシリコ
ン酸化膜を研磨した。
膜)が形成された25mm角のシリコン基板を用意し
た。つづいて、前述した図1に示す研磨装置の基板ホル
ダ5に前記シリコン基板6をその酸化膜がターンテーブ
ル1上の研磨布2と対向するように保持した後、実施例
3と同様な方法により前記シリコン基板6表面のシリコ
ン酸化膜を研磨した。
【0180】また、研磨布表面形状を整えるドレッシン
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
【0181】その結果、ドレッシングを5分間以上行う
と、酸化膜の研磨速度が約50nm/minで安定して
研磨できることを確認した。
と、酸化膜の研磨速度が約50nm/minで安定して
研磨できることを確認した。
【0182】(実施例5)ロデール社商品名のIC10
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例2で合
成したメタクリル酸ヘミアセタールエステルの単位を有
する共重合体の50%キシレン溶液を厚さ70μm塗布
した後、乾燥して研磨布を形成した。この研磨布で覆わ
れたターンテーブルを前述した図1に示す研磨装置に組
み込んだ。
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例2で合
成したメタクリル酸ヘミアセタールエステルの単位を有
する共重合体の50%キシレン溶液を厚さ70μm塗布
した後、乾燥して研磨布を形成した。この研磨布で覆わ
れたターンテーブルを前述した図1に示す研磨装置に組
み込んだ。
【0183】次いで、シリコン酸化膜(P−TEOS
膜)が形成された25mm角のシリコン基板を用意し
た。つづいて、前述した図1に示す研磨装置の基板ホル
ダ5に前記シリコン基板6をその酸化膜がターンテーブ
ル1上の研磨布2と対向するように保持した後、実施例
3と同様な方法により前記シリコン基板6表面のシリコ
ン酸化膜を研磨した。
膜)が形成された25mm角のシリコン基板を用意し
た。つづいて、前述した図1に示す研磨装置の基板ホル
ダ5に前記シリコン基板6をその酸化膜がターンテーブ
ル1上の研磨布2と対向するように保持した後、実施例
3と同様な方法により前記シリコン基板6表面のシリコ
ン酸化膜を研磨した。
【0184】また、研磨布表面形状を整えるドレッシン
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
【0185】その結果、ドレッシングを5分間以上行う
と、酸化膜の研磨速度が約50nm/minで安定して
研磨できることを確認した。
と、酸化膜の研磨速度が約50nm/minで安定して
研磨できることを確認した。
【0186】(実施例6)ロデール社商品名のIC10
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例1で合
成したアクリル酸シリルエステルの単位を有する共重合
体およびこの共重合体に対して平均粒径0.2μmの酸
化セリウム砥粒を3重量%分散させた50%キシレン溶
液を厚さ約50μm塗布した後、乾燥して研磨布を形成
した。この研磨布で覆われたターンテーブルを前述した
図1に示す研磨装置に組み込んだ。
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例1で合
成したアクリル酸シリルエステルの単位を有する共重合
体およびこの共重合体に対して平均粒径0.2μmの酸
化セリウム砥粒を3重量%分散させた50%キシレン溶
液を厚さ約50μm塗布した後、乾燥して研磨布を形成
した。この研磨布で覆われたターンテーブルを前述した
図1に示す研磨装置に組み込んだ。
【0187】次いで、シリコン酸化膜(P−TEOS
膜)が形成された25mm角のシリコン基板を用意し
た。つづいて、前述した図1に示す研磨装置の基板ホル
ダ5に前記シリコン基板6をその酸化膜がターンテーブ
ル1上の研磨布2と対向するように保持した。ひきつづ
き、前記ホルダ5の支持軸4により前記シリコン基板6
をターンテーブル1上の研磨布2に約300g/cm2
の荷重を与え、前記ターンテーブル1およびホルダ5を
それぞれ約50rpm、160rpmの速度で同方向に
回転させながら、4.3重量%の過酸化水素水溶液(研
磨組成物)を供給管3から20ml/分の速度で前記研
磨布2に供給して前記シリコン基板6表面のシリコン酸
化膜を研磨した。
膜)が形成された25mm角のシリコン基板を用意し
た。つづいて、前述した図1に示す研磨装置の基板ホル
ダ5に前記シリコン基板6をその酸化膜がターンテーブ
ル1上の研磨布2と対向するように保持した。ひきつづ
き、前記ホルダ5の支持軸4により前記シリコン基板6
をターンテーブル1上の研磨布2に約300g/cm2
の荷重を与え、前記ターンテーブル1およびホルダ5を
それぞれ約50rpm、160rpmの速度で同方向に
回転させながら、4.3重量%の過酸化水素水溶液(研
磨組成物)を供給管3から20ml/分の速度で前記研
磨布2に供給して前記シリコン基板6表面のシリコン酸
化膜を研磨した。
【0188】また、研磨布表面形状を整えるドレッシン
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
【0189】その結果、ドレッシングを10秒間行った
後に酸化膜を研磨したところ、研磨組成物中に砥粒が含
有されていないにも拘わらず、酸化膜を約4nm/mi
nの速度で研磨できることを確認した。
後に酸化膜を研磨したところ、研磨組成物中に砥粒が含
有されていないにも拘わらず、酸化膜を約4nm/mi
nの速度で研磨できることを確認した。
【0190】(実施例7)ロデール社商品名のIC10
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例1で合
成したアクリル酸シリルエステルの単位を有する共重合
体およびこの共重合体に対して平均粒径0.6μmのθ
アルミナ砥粒を3重量%分散させた50%キシレン溶液
を厚さ約50μm塗布した後、乾燥して研磨布を形成し
た。この研磨布で覆われたターンテーブルを前述した図
1に示す研磨装置に組み込んだ。
00/Suba−400の研磨表面に前記合成例1で合
成したアクリル酸シリルエステルの単位を有する共重合
体およびこの共重合体に対して平均粒径0.6μmのθ
アルミナ砥粒を3重量%分散させた50%キシレン溶液
を厚さ約50μm塗布した後、乾燥して研磨布を形成し
た。この研磨布で覆われたターンテーブルを前述した図
1に示す研磨装置に組み込んだ。
【0191】次いで、Cu膜が形成された25mm角の
シリコン基板を用意した。つづいて、前述した図1に示
す研磨装置の基板ホルダ5に前記シリコン基板6をその
Cuがターンテーブル1上の研磨布2と対向するように
保持した。ひきつづき、前記ホルダ5の支持軸4により
前記シリコン基板6をターンテーブル1上の研磨布2に
約300g/cm2 の荷重を与え、前記ターンテーブル
1およびホルダ5をそれぞれ約50rpm、160rp
mの速度で同方向に回転させながら、研磨組成物を供給
管3から20ml/分の速度で前記研磨布2に供給して
前記シリコン基板6表面のシリコン酸化膜を研磨した。
なお、前記研磨組成物はキナルジン酸0.5重量%、乳
酸0.6重量%、界面活性剤0.9重量%および過酸化
水素水4.3重量%の水溶液を用いた。
シリコン基板を用意した。つづいて、前述した図1に示
す研磨装置の基板ホルダ5に前記シリコン基板6をその
Cuがターンテーブル1上の研磨布2と対向するように
保持した。ひきつづき、前記ホルダ5の支持軸4により
前記シリコン基板6をターンテーブル1上の研磨布2に
約300g/cm2 の荷重を与え、前記ターンテーブル
1およびホルダ5をそれぞれ約50rpm、160rp
mの速度で同方向に回転させながら、研磨組成物を供給
管3から20ml/分の速度で前記研磨布2に供給して
前記シリコン基板6表面のシリコン酸化膜を研磨した。
なお、前記研磨組成物はキナルジン酸0.5重量%、乳
酸0.6重量%、界面活性剤0.9重量%および過酸化
水素水4.3重量%の水溶液を用いた。
【0192】また、研磨布表面形状を整えるドレッシン
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
グは#80のダイヤモンド電着ドレッサで、荷重200
g/cm2、ターンテーブルの回転数160rpmの条
件でドレッシングを行った。
【0193】その結果、ドレッシングを10秒間行った
後にCu膜を研磨したところ、研磨組成物中に砥粒が含
有されていないにも拘わらず、Cu膜を約11nm/m
inの速度で研磨できることを確認した。
後にCu膜を研磨したところ、研磨組成物中に砥粒が含
有されていないにも拘わらず、Cu膜を約11nm/m
inの速度で研磨できることを確認した。
【0194】(実施例8)まず、コロイダルシリカ3.
6重量%、コロイダルアルミナ1.1重量%、2−キノ
リンカルボン酸(キナルジン酸)0.6重量%、乳酸
0.35重量%、ドデシル硫酸アンモニウム1.8重量
%、過酸化水素3.9重量%、ヒドロキシエチルセルロ
ース0.5重量%および残部水からなる研磨スラリーを
調製した。
6重量%、コロイダルアルミナ1.1重量%、2−キノ
リンカルボン酸(キナルジン酸)0.6重量%、乳酸
0.35重量%、ドデシル硫酸アンモニウム1.8重量
%、過酸化水素3.9重量%、ヒドロキシエチルセルロ
ース0.5重量%および残部水からなる研磨スラリーを
調製した。
【0195】次いで、図3の(A)に示すように表面に
図示しないソース、ドレイン等の拡散層が形成されたシ
リコン基板21上にCVD法により層間絶縁膜としての
例えば厚さ1000nmのSiO2 膜22を堆積した
後、前記SiO2 膜22にフォトエッチング技術により
配線層に相当する形状を有する幅100μm、深さ0.
8μmの複数の溝23を形成した。つづいて、図3の
(B)に示すように前記溝23を含む前記SiO2 膜2
2上にスパッタ蒸着により厚さ15nmのTiNからな
るバリア層24および厚さ1.6μmのCu膜25をこ
の順序で形成した。
図示しないソース、ドレイン等の拡散層が形成されたシ
リコン基板21上にCVD法により層間絶縁膜としての
例えば厚さ1000nmのSiO2 膜22を堆積した
後、前記SiO2 膜22にフォトエッチング技術により
配線層に相当する形状を有する幅100μm、深さ0.
8μmの複数の溝23を形成した。つづいて、図3の
(B)に示すように前記溝23を含む前記SiO2 膜2
2上にスパッタ蒸着により厚さ15nmのTiNからな
るバリア層24および厚さ1.6μmのCu膜25をこ
の順序で形成した。
【0196】次いで、実施例1と同様な前記化41に示
す構造式を有する共重合体からなる厚さ0.8mmの研
磨布で表面が覆われたターンテーブルを備えた図1に示
す研磨装置を用いて基板ホルダ5に前記Cu膜25が成
膜されたシリコン基板21をそのCu膜25が前記研磨
布布2側に対向するように逆さにして保持し、支持軸4
により前記シリコン基板21を研磨布2に500gf/
cm2 の荷重を与え、さらに前記ターンテーブル1およ
びホルダ5をそれぞれ103rpm、100rpmの速
度で同一方向に回転させながら、前記研磨スラリーを供
給管3から50mL/分の速度で前記研磨布2に供給し
て前記溝23を除く前記SiO2膜22表面が露出する
までCu膜25および前記バリア層24を約40分間か
けて研磨することにより図3の(C)に示すように周囲
がバリア層24で包まれた埋込みCu配線層26を形成
して半導体装置を製造した。
す構造式を有する共重合体からなる厚さ0.8mmの研
磨布で表面が覆われたターンテーブルを備えた図1に示
す研磨装置を用いて基板ホルダ5に前記Cu膜25が成
膜されたシリコン基板21をそのCu膜25が前記研磨
布布2側に対向するように逆さにして保持し、支持軸4
により前記シリコン基板21を研磨布2に500gf/
cm2 の荷重を与え、さらに前記ターンテーブル1およ
びホルダ5をそれぞれ103rpm、100rpmの速
度で同一方向に回転させながら、前記研磨スラリーを供
給管3から50mL/分の速度で前記研磨布2に供給し
て前記溝23を除く前記SiO2膜22表面が露出する
までCu膜25および前記バリア層24を約40分間か
けて研磨することにより図3の(C)に示すように周囲
がバリア層24で包まれた埋込みCu配線層26を形成
して半導体装置を製造した。
【0197】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、ド
レッシング処理を施さずに、比較的長い時間に亘って安
定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供することがで
きる。
レッシング処理を施さずに、比較的長い時間に亘って安
定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供することがで
きる。
【0198】本発明によれば、研磨砥粒の自動供給機能
を有し、かつドレッシングを施さずに、比較的長い時間
に亘って安定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供す
ることができる。
を有し、かつドレッシングを施さずに、比較的長い時間
に亘って安定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供す
ることができる。
【0199】本発明によれば、前述の安定した研磨性能
を有する研磨布を備え、半導体装置の埋込み配線層のよ
うな埋込み導電材を形成するための化学機械研磨(CM
P)に有用な研磨装置を提供しようとするものである。
を有する研磨布を備え、半導体装置の埋込み配線層のよ
うな埋込み導電材を形成するための化学機械研磨(CM
P)に有用な研磨装置を提供しようとするものである。
【0200】本発明によれば、半導体基板上の絶縁膜に
溝および開口部から選ばれる少なくとも1つの埋込み用
部材に高精度の埋め込み配線層のような導電部材を安定
して形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供
することができる。
溝および開口部から選ばれる少なくとも1つの埋込み用
部材に高精度の埋め込み配線層のような導電部材を安定
して形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供
することができる。
【図1】本発明に係る研磨装置の一形態を示す概略図。
【図2】本発明の実施例1および比較例1の研磨装置に
よりシリコン酸化膜を研磨した際の研磨時間と研磨速度
の関係を示す特性図。
よりシリコン酸化膜を研磨した際の研磨時間と研磨速度
の関係を示す特性図。
【図3】本発明の実施例8における半導体装置の製造工
程を示す断面図。
程を示す断面図。
1…ターンテーブル、 2…研磨パッド、 3…供給管、 5…ホルダ 21…シリコン基板、 22…SiO2 膜、 23…溝、 26…Cu埋込み配線層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B24D 3/00 350 B24D 3/00 350 3/28 3/28 11/00 11/00 A C08F 20/28 C08F 20/28 22/20 22/20 24/00 24/00 30/08 30/08 C08J 5/14 CEY C08J 5/14 CEY C08K 3/22 C08K 3/22 3/36 3/36 C08L 101/02 C08L 101/02 101/14 101/14 (72)発明者 齋藤 晶子 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術センター内 (72)発明者 桜井 直明 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術センター内 (72)発明者 押部 義宏 愛知県知多郡武豊町鹿ノ子田1−18 (72)発明者 石戸谷 昌洋 神奈川県茅ヶ崎市南湖5−9−5 Fターム(参考) 3C058 AA07 AA09 AC04 BA04 BA09 CB03 CB10 DA17 3C063 AB05 BB03 BC03 BG07 CC30 EE10 FF20 4F071 AA30 AA32 AA33 AA35 AA36 AA37 AB17 AB26 AE13 AF04 DA19 4J002 BE041 BG011 BG071 BG131 BH021 BJ001 BQ001 DE096 DE146 DJ016 4J100 AB02Q AB03Q AB04Q AL03Q AL04Q AL05Q AL08P AL08Q AL09Q AL39P AM02Q BA02Q BA04P BA05P BA06P BA72P BC04P BC04Q BC43P BC53P CA01 CA04 DA38 JA01
Claims (21)
- 【請求項1】 水系媒体で加水分解される高分子材料を
含む研磨層を有することを特徴とする研磨布。 - 【請求項2】 前記高分子材料は、主鎖に水系媒体で加
水分解される構造が分岐して結合されたものであること
を特徴とする請求項1記載の研磨布。 - 【請求項3】 前記高分子材料の水系媒体で加水分解さ
れる構造は、下記式(I)または下記式(II)で表され
ることを特徴とする請求項2記載の研磨布。 【化1】 ただし、式中のR1〜R3はいずれも水素原子、アルキル
基、アリール基の中から選ばれた基であって、互いに同
一の基であっても異なる基であってもよい。 【化2】 ただし、式中のR4〜R6はそれぞれ水素原子または炭素
数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜18の有機基で
あって、R6とR7は互いに結合してY1をヘテロ原子と
する複素環を形成していてもよく、Y1は酸素原子又は
硫黄原子である。 - 【請求項4】 前記高分子材料は、下記式(III)、下
記式(IV)、下記式(V)または下記式(VI)で示され
る単量体に基づく構成単位を有するα、β−不飽和のホ
モポリマーまたはコポリマーであることを特徴とする請
求項2記載の研磨布。 【化3】 ただし、式中のR1〜R3はいずれも水素原子、アルキル
基、アリール基の中から選ばれた基であって、互いに同
一の基であっても異なる基であってもよい。 【化4】 ただし、式中のR1〜R3はいずれも水素原子、アルキル
基、アリール基の中から選ばれた基であって、互いに同
一の基であっても異なる基であってもよい。 【化5】 ただし、式中のR4〜R6はそれぞれ水素原子または炭素
数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜18の有機基で
あって、R6とR7は互いに結合してY1をヘテロ原子と
する複素環を形成していてもよく、Y1は酸素原子又は
硫黄原子である。 【化6】 ただし、式中のR4〜R6はそれぞれ水素原子または炭素
数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜18の有機基で
あって、R6とR7は互いに結合してY1をヘテロ原子と
する複素環を形成していてもよく、Y1は酸素原子又は
硫黄原子である。 - 【請求項5】 水系媒体で加水分解される高分子材料と
この高分子材料に分散された酸化セリウム、酸化マンガ
ン、シリカ、アルミナおよびジルコニアからなる群から
選ばれる少なくとも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有
することを特徴とする研磨布。 - 【請求項6】 前記高分子材料は、主鎖に水系媒体で加
水分解される構造が分岐して結合されたものであること
を特徴とする請求項5記載の研磨布。 - 【請求項7】 前記高分子材料の水系媒体で加水分解さ
れる構造は、下記式(I)または下記式(II)で表され
ることを特徴とする請求項6記載の研磨布。 【化7】 ただし、式中のR1〜R3はいずれも水素原子、アルキル
基、アリール基の中から選ばれた基であって、互いに同
一の基であっても異なる基であってもよい。 【化8】 ただし、式中のR4〜R6はそれぞれ水素原子または炭素
数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜18の有機基で
あって、R6とR7は互いに結合してY1をヘテロ原子と
する複素環を形成していてもよく、Y1は酸素原子又は
硫黄原子である。 - 【請求項8】 前記高分子材料は、下記式(III)、下
記式(IV)、下記式(V)または下記式(VI)で示され
る単量体に基づく構成単位を有するα、β−不飽和のホ
モポリマーまたはコポリマーであることを特徴とする請
求項6記載の研磨布。 【化9】 ただし、式中のR1〜R3はいずれも水素原子、アルキル
基、アリール基の中から選ばれた基であって、互いに同
一の基であっても異なる基であってもよい。 【化10】 ただし、式中のR1〜R3はいずれも水素原子、アルキル
基、アリール基の中から選ばれた基であって、互いに同
一の基であっても異なる基であってもよい。 【化11】 ただし、式中のR4〜R6はそれぞれ水素原子または炭素
数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜18の有機基で
あって、R6とR7は互いに結合してY1をヘテロ原子と
する複素環を形成していてもよく、Y1は酸素原子又は
硫黄原子である。 【化12】 ただし、式中のR4〜R6はそれぞれ水素原子または炭素
数1〜18の有機基、R7は炭素数1〜18の有機基で
あって、R6とR7は互いに結合してY1をヘテロ原子と
する複素環を形成していてもよく、Y1は酸素原子又は
硫黄原子である。 - 【請求項9】 水系媒体に可溶な高分子材料を含む研磨
層を有することを特徴とする研磨布。 - 【請求項10】 前記高分子材料は、前記研磨層に被研
磨部材を300gf/cm2の荷重を加えた状態で前記
研磨層と前記被研磨部材との間の相対速度を1.0m/
secとした時の水系媒体中で溶解する速度が0.01
〜10.0mg/分であることを特徴とする請求項9記
載の研磨布。 - 【請求項11】 前記高分子材料は、アクリル酸、メタ
アクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、ヒド
ロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシアルキルメタ
アクリレート、N−ビニル−2−ピロリドン、メチルビ
ニルエーテル、N−ビニルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアクリルアミドの群から選ばれる少なくとも1つ以
上のモノマーを重合して得られるホモポリマーまたはコ
ポリマーであることを特徴とする請求項9または10記
載の研磨布。 - 【請求項12】 水系媒体に可溶な高分子材料とこの高
分子材料に分散された酸化セリウム、酸化マンガン、シ
リカ、アルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれ
る少なくとも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有するこ
とを特徴とする研磨布。 - 【請求項13】 水系媒体が存在する非摩擦力の下で表
面が溶出せず、摩擦力の下で表面が溶出する研磨層を有
することを特徴とする研磨布。 - 【請求項14】 酸化セリウム、酸化マンガン、シリ
カ、アルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる
少なくとも1つの研磨砥粒を分散して含有し、水系媒体
が存在する非摩擦力の下で表面が溶出せず、摩擦力の下
で表面が溶出すると共に前記研磨砥粒がその表面に供給
される研磨層を有することを特徴とする研磨布。 - 【請求項15】 水系媒体で加水分解される高分子材料
を含む研磨層を有する研磨布が表面に取付けられた回転
テーブルと、 前記回転テーブルの上方に上下動自在でかつ回転自在に
配置され、被研磨部材を保持するとともに、この被研磨
部材を前記回転テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押
圧させるための前記回転テーブルと同方向に回転する保
持手段と、 前記研磨布に研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給するた
めの供給手段とを具備したことを特徴とする研磨装置。 - 【請求項16】 水系媒体で加水分解される高分子材料
とこの高分子材料に分散された酸化セリウム、酸化マン
ガン、シリカ、アルミナおよびジルコニアからなる群か
ら選ばれる少なくとも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を
有する研磨布が表面に取付けられた回転テーブルと、 前記回転テーブルの上方に上下動自在でかつ回転自在に
配置され、被研磨部材を保持するとともに、この被研磨
部材を前記回転テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押
圧させるための前記回転テーブルと同方向に回転する保
持手段と、 前記研磨布に研磨砥粒を含まず、少なくとも水を含む研
磨組成物を供給するための供給手段とを具備したことを
特徴とする研磨装置。 - 【請求項17】 水系媒体に可溶な高分子材料を含む研
磨層を有する研磨布を表面に取付けた回転テーブルと、 前記回転テーブルの上方に上下動自在でかつ回転自在に
配置され、被研磨部材を保持するとともに、この被研磨
部材を前記回転テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押
圧させるための前記回転テーブルと同方向に回転する保
持手段と、 前記研磨布に研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給するた
めの供給手段とを具備したことを特徴とする研磨装置。 - 【請求項18】 水系媒体に可溶な高分子材料とこの高
分子材料に分散された酸化セリウム、酸化マンガン、シ
リカ、アルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれ
る少なくとも1つの研磨砥粒とを含む研磨層を有する研
磨布を表面に取付けた回転テーブルと、 前記回転テーブルの上方に上下動自在でかつ回転自在に
配置され、被研磨部材を保持するとともに、この被研磨
部材を前記回転テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押
圧させるための前記回転テーブルと同方向に回転する保
持手段と、 前記研磨布に研磨砥粒を含まず、少なくとも水を含む研
磨組成物を供給するための供給手段とを具備したことを
特徴とする研磨装置。 - 【請求項19】 水系媒体の存在下での摩擦力により表
面が溶出する研磨層を有する研磨布を表面に取付けた回
転テーブルと、 前記回転テーブルの上方に上下動自在でかつ回転自在に
配置され、被研磨部材を保持するとともに、この被研磨
部材を前記回転テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押
圧させるための前記回転テーブルと同方向に回転する保
持手段と、 前記研磨布に研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給するた
めの供給手段とを具備したことを特徴とする研磨装置。 - 【請求項20】 酸化セリウム、酸化マンガン、シリ
カ、アルミナおよびジルコニアからなる群から選ばれる
少なくとも1つの研磨砥粒を分散して含有し、水系媒体
の存在下での摩擦力により表面が溶出すると共に前記研
磨砥粒がその表面に供給される研磨層を有する研磨布を
表面に取付けた回転テーブルと、 前記回転テーブルの上方に上下動自在でかつ回転自在に
配置され、被研磨部材を保持するとともに、この被研磨
部材を前記回転テーブルの前記研磨布に所望の荷重で押
圧させるための前記回転テーブルと同方向に回転する保
持手段と、 前記研磨布に研磨砥粒を含まず、少なくとも水を含む研
磨組成物を供給するための供給手段とを具備したことを
特徴とする研磨装置。 - 【請求項21】 半導体基板上の絶縁膜に配線層の形状
に相当する溝およびビアフィルの形状に相当する開口部
から選ばれる少なくとも1つの埋込み用部材を形成する
工程と、 前記埋込み用部材の内面を含む前記絶縁膜上に銅または
銅合金からなる配線材料膜を形成する工程と、 請求項15,16,17,18,19または20記載の
研磨装置を用いて前記配線材料膜を研磨することにより
前記埋込み用部材内に配線層およびビアフィルから選ば
れる少なくとも1つの導電部材を形成する工程とを含む
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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