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JPH0761609B2 - 研磨方法及びこれに用いる研磨パッド - Google Patents

研磨方法及びこれに用いる研磨パッド

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JPH0761609B2
JPH0761609B2 JP2071894A JP7189490A JPH0761609B2 JP H0761609 B2 JPH0761609 B2 JP H0761609B2 JP 2071894 A JP2071894 A JP 2071894A JP 7189490 A JP7189490 A JP 7189490A JP H0761609 B2 JPH0761609 B2 JP H0761609B2
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JP
Japan
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polishing
abrasive
polishing pad
water
cellulose ether
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義三郎 滝澤
哲司 千田
司朗 三浦
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株式会社フジミインコーポレーテツド
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、物品の研磨方法及びそれに用いる研磨パッド
に関し、特に合成樹脂成形品例えばプラスチックレン
ズ、風防ガラス、医療用品、食器、ラジオ部品、機械部
品、ボタン、キャップ、キャビネット、化粧板、眼鏡
枠、プラスチック製安全ガラス等及び金属、ガラス、半
導体材料等の研磨に有用な方法であり、又それに用いる
研磨パッドに関するものである。
[従来の技術] 従来、プラスチック製品や金属等を研磨する方法及び研
磨用組成物としては、特開昭49-100689号公報及び特開
昭61-278587号公報に開示されている。
特開昭49-100689号公報には、水、研磨剤及び酸性化合
物からなる研磨用組成物を用いることを特徴とする合成
樹脂成形品の研磨法及び研磨用組成物が開示されてい
る。
この方法は、従来、水と酸化セリウム、酸化アルミニウ
ム等の研磨剤をスラリー化して用いていたのに対し、前
記研磨材にポリ塩化アルミニウム、硝酸セリウム、硝酸
アルミニウム、臭化アルミニウム等の酸化性化合物を添
加してなる研磨用組成物を用いるものである。
この水と研磨剤と酸化性化合物からなる研磨用組成物を
用いて物品を研磨する方法は、特にプラスチックを高能
率かつ高品質に研磨することが出来るが、しかし、この
スラリーは強酸性スラリーであり、pH値が4〜2位で低
い。
従って、このプラスチック用研磨スラリーを用いる方法
は、強酸性のスラリーを用いるので、研磨機や治具が腐
触し易く、また作業者の手が荒れ易く、使用に当たって
安全衛生上の問題がある。
又、出願人は上記問題を解決するために、特開昭61-278
587号公報に、水と、酸化アルミニウムの研磨剤及び硫
酸ニッケルの研磨促進剤からなり、中性ないし弱酸性で
あることを特徴とする研磨用組成物を開示した。
以上の研磨用組成物は全てスラリー化して用いられるの
で、研磨スラリーを供給するためのポンプ、攪拌機、温
度コントロール、配管設備等の複雑な装置が必要で、必
ずしも作業性が良いとは言いがたい。
また、従来、シート状研磨材として用いられるものの代
表的なものとしては、紙または、布等の基材の上面に、
古くは、、ゼラチン、ポリビニルアルコールなどの天然
又は合成水溶性高分子物質で研磨砥粒を接着させたもの
や、近年では、フェノール系、エポキシ系、ウレタン
系、酢酸ビニル系、アクリル系などの耐水性合成樹脂接
着剤で砥粒を接着させた主に、粗仕上用に使用されてい
るいわゆるサンドペーパーまたは研磨テープと称するも
のがある。
しかし、これら水溶性接着剤を使用したものは、耐水性
が無く、接着力が弱いので砥粒の脱落が速く、また耐水
性のある合成樹脂接着剤では、接着力が強すぎて、砥粒
の脱落が起りにくいため、いわゆる目詰まり現象を起し
て、いずれも寿命が短かいという欠点を有している。し
かも、これらは、いわゆる鏡面仕上(ポリシング)分野
に使用される10μ以下の砥粒のように、砥粒径が細かい
ほど、その傾向が大きく、十分なる研磨成果が現れな
い。そのため、プラスチック、金属、ガラス等の鏡面仕
上には、従来の砥粒をスラリー化した研磨用組成物が用
いられているのが現状である。
[発明が解決しようとする課題] 以上の従来の物品の研磨方法においては、いずれも前述
のような問題点がある。
本発明は、従来技術の問題点を解決するためになされた
ものであり、本発明は、物品を研磨するに当たって、前
述の安全衛生上の問題を解消し、作業性の良好な研磨方
法及びこれに用いる研磨パッドを提供することを目的と
するものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は、研磨材と水溶性セルロースエーテル及び硬化
剤からなる混合物を、基材上にシート状に塗布したもの
から成る研磨パッドを、物品の表面に当接させ、該物品
と研磨パッド間に水を供給し、該物品を研磨することを
特徴とする研磨方法である。
さらに、本発明は、研磨材と水溶性セルロースエーテル
及び硬化剤からなる混合物を基材上に塗布したものから
成ることを特徴とする研磨パッドである。
そして、又、前記研磨材の平均粒子径が0.5〜10ミクロ
ンであり、研磨材が酸化アルミウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化錫及び酸化セリウムから選ばれた1種であり、 前記水溶性セルロースエーテルの研磨材に対する重量割
合が1〜8%であり、前記水溶性セルロースエーテルが
ヒドロキシプロピルメチルセルロース及びメチルセルロ
ース及びヒドロキシエチルメチルセルロースから選ばれ
た1種であり、 前記硬化剤の研磨材に対する重量割合が、0.2〜1.5%で
あり、硬化剤がグリオキザール、クエン酸、タンニン
酸、尿素ホルマリン樹脂及びメチルロールメラミン樹脂
から選ばれた1種であり、 前記基材は植毛布、不織布、合成紙、人工皮革、織布、
合成樹脂フィルム、スポンジから選ばれた1種であるこ
とを特徴とする研磨方法及びその方法に用いる研磨パッ
ドである。
[作用] 本発明の研磨方法に用いる研磨パッドは、水溶性セルロ
ースエーテルからなり、これらの水溶性セルロースエー
テルは、その構造中にあるOH基を他のOH基を持った化合
物と脱水縮合させ、網目構造をとらせることにより、水
に溶けにくくすることができる。
この不溶化剤としてグリオキザール、クエン酸、タンニ
ン酸、尿素ホルマリン樹脂及びメチルロールマラミン樹
脂があげられ、これらが本発明の研磨パッドにおいて、
硬化剤として作用する物である。
従って、本発明の研磨パッドは、研磨時に水のみを供給
することによって、アルミナ研磨剤のバインダーとして
使用している水溶性セルロースエーテルが少しずつ溶解
し、適度な自生作用によって研磨能率を維持し、バイン
ダー又は研磨用パッド基材の適度なクッション効果によ
って高能率で優れた研磨面が得られる。
次に、限定理由について述べる。
研磨材の平均粒子径が0.5μ未満では、研磨品質は良い
が、粒子径が小さいため、十分な研磨量が得られない。
平均粒子径が10μを超えると、研磨面が粗すぎて、鏡面
が得られず、また、深いスクラッチが入りやすいので、
平均粒子径0.5〜10μが好ましい。
また水溶性セルロースエーテルの研磨材に対する重量割
合が1%未満では接着力が不十分であり、8%を超える
と接着力が強すぎて、適度な自生作用がなく、目詰まり
現象により十分な研磨量が得られないので、重量割合を
1〜8%とした。
さらに、硬化剤の研磨材に対する重量割合が0.2%未満
では水溶性セルロースエーテルと同様に接着力が不十分
で砥粒の脱落が速く、1.5%を超えると接着力が強すぎ
て、目詰まり現象が起こるので、その性能及び経済性を
考慮して0.2〜1.5%とした。
なお、基材としては、植毛布、不織布、合成紙、人工皮
革、織布、合成樹脂フィルム、スポンジ等から1種を選
んで用いることが出来る。
また本発明の研磨方法は、上記のように、研磨時は、一
般の市水等の水を供給するだけで、研磨が行なえるの
で、研磨機や治具が腐触せず、作業者の手荒れの問題が
全然ない。
さらに水を供給するのみで、研磨材のスラリー化の必要
はなく、その設備も必要なく、供給装置が簡易ですみ、
作業性が大巾に向上するものである。
次に本発明の実施例について述べる。
[実施例] 第1図(a)〜(e)は、本発明の研磨パッドのパター
ンの模式図である。
図において、1は基材、2は研磨材の混合物である。
[実施例1] 平均粒径が3μのα型酸化アルミニウムの研磨材を40重
量部と水60重量部を混合し、これに水溶性セルロースエ
ーテルとして、ヒドロキシプロピルメチルセルロースを
0.5、1.0、1.25、1.5、2.0、2.5、3.0重量部(研磨材に
対する重量%換算:1.25,2.5,3.125,3.75,5.0,6.25,7.
5)添加して、グリオキザール(CHOCHO)の40%水溶液
を、それぞれ0.5重量部(研磨材に対する重量%換算:0.
75%)加え、よく混合し、ペースト状の混合物を作る。
基材1として、従来のプラスチックレンズ研磨用に使用
されるレーヨン製植毛布を用い、この植毛布1m2当り12
00gの割合で表面に均一に、このペーストを塗布し、熱
風乾燥機で約120℃,60分間乾燥し、1m2当り約500g(厚
さ0.4mm)の研磨材の乾燥混合物2が得られた。
この乾燥混合物のベースである植毛布1の裏面に両面接
着テープ等の感圧接着剤を付け、第1図に示すような、
研磨パッドの種々の形状の中から所要の形状を選び、こ
の型に型抜された本発明の研磨パッドを作成し、性能試
験に用いた。
また、比較例として、従来の研磨用組成物として、水に
本発明と同等の平均粒径が3μのα型酸化アルミニウム
の研磨剤を20重量%懸濁し、これに硫酸ニッケル(NiSO
4・6H2O)の研磨促進剤を5重量%添加したスラリーを
用いた。
被研磨物のプラスチック製品には、アリルジグリコール
カーボネート樹脂の70mm径の眼鏡用レンズを用いた。こ
のレンズを、非球面用レンズ研磨機に装填し、レンズの
表面に、本発明の研磨パッド又は従来法による植毛布を
当接し、レンズと研磨パッド又は植毛布を相対的に摺動
して、5分間研磨する。
研磨の間、本発明の場合はレンズと研磨パッドの間に水
のみ2l/分の割合で供給し、従来法では、研磨用スラリ
ーを循環方式により同じく2l/分の割合で供給する。な
お、研磨圧力は、両者とも240g/cm2である。
研磨後、レンズの研磨表面を検査して、鏡面度、オレン
ジピールやスクラッチのような表面欠陥の有無を調べ
た。
次に、レンズの重量を計測し、研磨による重量損失を算
出して研磨量を求める。
これらの結果を第1表に示す。
この第1表から明らかなように、水溶性セルロースエー
テルの添加重量部が0.5及び3.0の場合は、表面欠陥はな
いものの、研磨量が比較的に減少するので、研磨材に対
する重量割合が1〜8%が好ましいことが明らかであ
る。
また、研磨材の平均粒子径は本実施例では3μのものを
使用したが、0.5μ未満の研磨材では、研磨品質は良い
が、粒子径が小さいため、十分な研磨量が得られず、平
均粒子径が10μを超えると、研磨面が粗すぎて、鏡面が
得られず、また、深いスクラッチが入りやすいことが判
明した。
本発明の研磨用パッドは、水を供給するだけで、従来の
研磨用スラリーを用いた場合と同様に研磨量が多くて、
研磨能率は非常に高く、また表面欠陥が認められず、研
磨表面の品質が高い。
[実施例2] 実施例1と同様の方法で、平均粒子径が1μ又は6μの
α型酸化アルミニウムの研磨材を使用した研磨パッドを
作成し、また従来の研磨用組成物にも同様の平均粒子径
のα型酸化アルミニウムの研磨材を使用して比較試験を
行った。
この結果を第2表に示す。
第2表に示すように、研磨材の平均粒子径を1μ又は6
μに変化させても、従来法と比較し、研磨量も多くて表
面欠陥もなく、充分に研磨品質が高いことが判る。
なお、本実施例では、研磨材の厚さを0.4mmとしたが、
この厚さは基材の種類により、増減してよいが、一般に
プラスチックの滲透しにくいものでは0.1mm位から使用
でき、上限は1.0mm程度が強度及び経済性から好まし
い。
また研磨パッドのパターンは被研磨物の種類及び形状に
より、さまざまな形態をとることができる。
本発明の研磨方法及び研磨パッドにおいては、以上に述
べた実施例に限定されるものではない。
[発明の効果] 本発明の研磨方法及び研磨パッドによれば、従来の研磨
材及び酸性化合物からなる研磨用スラリーを用いる方法
と同様に、高能率かつ高品質に研磨することが出来る上
に、従来の研磨用スラリーと異なり、水のみを供給する
ため、腐触の問題もなく、作業者の手荒れの問題もな
い。又複雑な研磨関連装置も不要であり、作業性を大巾
に改善することが出来る等の効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(e)は、本発明の実施態様例における
研磨パッドのパターンの模式図である。 図において、1:基材、2:研磨材の混合物。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】研磨材と水溶性セルロースエーテル及び硬
    化剤からなる混合物を、基材上に、シート状に塗布した
    ものから成る研磨パッドを、物品の表面に当接し、該物
    品と研磨パッド間に水を供給し、該物品を研磨すること
    を特徴とする研磨方法。
  2. 【請求項2】前記研磨材の平均粒子径が0.5〜10ミクロ
    ンであることを特徴とする請求項1記載の研磨方法。
  3. 【請求項3】前記研磨材が酸化アルミウム、酸化ジルコ
    ニウム、酸化錫及び酸化セリウムから選ばれた1種であ
    ることを特徴とする請求項2記載の研磨方法。
  4. 【請求項4】前記水溶性セルロースエーテルの研磨材に
    対する重量割合が、1〜8%であることを特徴とする請
    求項1〜3の内1項記載の研磨方法。
  5. 【請求項5】前記水溶性セルロースエーテルがヒドロキ
    シプロピルメチルセルロース、メチルセルロース及びヒ
    ドロキシエチルメチルセルロースから選ばれた1種であ
    ることを特徴とする請求項4記載の研磨方法。
  6. 【請求項6】前記硬化剤の研磨材に対する重量割合が、
    0.2〜1.5%であることを特徴とする請求項1〜5の内1
    項記載の研磨方法。
  7. 【請求項7】前記硬化剤が、グリオキザール、クエン
    酸、タンニン酸、尿素ホルマリン樹脂及びメチルロール
    メラミン樹脂から選ばれた1種であることを特徴とする
    請求項6記載の研磨方法。
  8. 【請求項8】前記基材が植毛布、不織布、合成紙、人工
    皮革、織布、合成樹脂フィルム、スポンジから選ばれた
    1種であることを特徴とする請求項1〜7の内1項記載
    の研磨方法。
  9. 【請求項9】研磨材と水溶性セルロースエーテル及び硬
    化剤からなる混合物を、基材上に、塗布したものから成
    ることを特徴とする研磨パッド。
  10. 【請求項10】前記研磨材の平均粒子径が0.5〜10ミク
    ロンであることを特徴とする請求項9記載の研磨パッ
    ド。
  11. 【請求項11】前記研磨材が酸化アルミウム、酸化ジル
    コニウム、酸化錫及び酸化セリウムから選ばれた1種で
    あることを特徴とする請求項10記載の研磨パッド。
  12. 【請求項12】前記水溶性セルロースエーテルの研磨材
    に対する重量割合が、1〜8%であることを特徴とする
    請求項9〜11の内1項記載の研磨パッド。
  13. 【請求項13】前記水溶性セルロースエーテルがヒドロ
    キシプロピルメチルセルロース、メチルセルロース及び
    ヒドロキシエチルメチルセルロースから選ばれた1種で
    あることを特徴とする請求項12記載の研磨パッド。
  14. 【請求項14】前記硬化剤の研磨材に対する重量割合
    が、0.2〜1.5%であることを特徴とする請求項9〜13の
    内1項記載の研磨パッド。
  15. 【請求項15】前記硬化剤が、グリオキザール、クエン
    酸、タンニン酸、尿素ホルマリン樹脂及びメチルロール
    メラミン樹脂から選ばれた1種であることを特徴とする
    請求項14記載の研磨パッド。
  16. 【請求項16】前記基材が、植毛布、不織布、合成紙、
    人工皮革、織布、合成樹脂フィルム、スポンジから選ば
    れた1種であることを特徴とする請求項9〜15の内1項
    記載の研磨パッド。
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