DE2432503C3 - Elektrolumineszenzelement - Google Patents
ElektrolumineszenzelementInfo
- Publication number
- DE2432503C3 DE2432503C3 DE2432503A DE2432503A DE2432503C3 DE 2432503 C3 DE2432503 C3 DE 2432503C3 DE 2432503 A DE2432503 A DE 2432503A DE 2432503 A DE2432503 A DE 2432503A DE 2432503 C3 DE2432503 C3 DE 2432503C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- zns
- electroluminescent
- thin
- dielectric layers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/57—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing manganese or rhenium
- C09K11/572—Chalcogenides
- C09K11/574—Chalcogenides with zinc or cadmium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Elektrolumineszenzelement
der im Oberbegriff des Anspruches I genannten Art.
Bei einem bekannten derartigen Elektrolumineszenzelement (FR-Zusatz-PS 66 220 zu FR-PS 10 77 637) «,
besteht die elektrolumineszierende Schicht aus einer Trägersubstanz wie Methylzellulose oder Polystyrol, in
der Fluoreszenzstoffpartikel verteilt sind, bestehend aui
einer Mischung von Zinksulfid und Zinkoxid mit einer Mangandotierung. Die zu beiden Seiten der elektrolu- π
mineszierenden Schicht angeordneten dielektrischen Schichten bestehen aus einer isolierenden organischen
Substanz wie Nitrozellulose. Bei einem derartigen Elektrolumineszenzelement erfolgt bei Anlegen einer
Wechselspannung an die Elektroden eine Emission von in
Fluoreszenzlicht aus den in Berührung miteinander stehenden Partikeln.
Es ist ferner ein Strahlungsverstärker in Form eines Leuchtschirmes bekannt (DE-AS 1136 429), bei dem
beiderseits einer elektrolumineszierenden Schicht lei- r>
tende Schichten vorgesehen sind, von denen eine aus Titandioxyd besteht. Die elektrolumineszierende
Schicht ist zusammenhängend, homogen und kornfrei und kann aus Zinksulfid bestehen, welches mit
annähernd 0,5 bis 2 Gew.-% Mangan dotiert ist. Im mi
Betrieb des Leuchtschirmes wird eine Gleichspannung an die beiden leitenden Schichten angelegt, und bei
Einfall von Ultraviolett- oder Röntgenlicht auf die elektrolumineszierende Schicht erfolgt eine Emission
von sichtbarem Lumineszenzlicht. h>
Gegenstand eines älteren Vorschlags (P 24 29 J18.3-33) ist ein Verfahren zur Steuerung eines
oleklroliimineszenten Schullclcments, welches aus einer
dünnen elektrolumineszierenden Schicht besteht, auf
deren beiden Seiten je eine dielektrische Schicht mit einer darauf befindlichen Elektrode angeordnet ist. Das
elektrolumineszente Schaltelement weist bezüglich der emittierten Lichtintensität in Abhängigkeit von der
Amplitude einer an die Elektroden angelegten Wechselspannung innerhalb eines bestimmten Wechselspannungsamplitudenbereichs
Hysterese-Eigenschaften auf. Diese Hysterese-Eigenschaften beruhen auf einer ein
zusätzliches elektrisches Feld in der lumineszierenden Schicht erzeugenden remanenten Polarisation und
bestehen darin, daß, wenn die Amplitude der zugeführten Wechselspannung von einem kleineren zu einem
größeren Wert allmählich erhöht wird und dann allmählich von dem größeren zu dem kleineren Wert
verringert wird, wobei beide Werte in dem genannten Wechselspannungsamplitudenbereich liegen, die von
dem Element emittierte Lichtintensität für jeden zwischen den beiden Werten liegenden Amplitudenwert
im Falle der Amplitudenerhöhung geringer ist als im Fall der Amplitudenverringerung.
Bei dem vorgeschlagenen Verfahren werden diese Hysterese-Eigenschaften dazu ausgenutzt. Information
in das Schaltelement einzuschreiben, bzw. daraus zu löschen, dadurch, daß ständig Basisimpulse einer
mittleren Wechselspannungsamplitude an das Schaltelement angelegt werden und zum Einschreiben von
Information eine zeitweise Einwirkung auf das Schaltelement im Sinne einer Erhöhung der Polarisation
desselben vorgenommen wird und zum Löschen auf das Schaltelement im Sinne einer Verringerung dieser
Polaristion eingewirkt wird. Die Basisimpulse bewirken nach einem derartigen Einschreib- bzw. Löschvorgang
die Emission einer erhöhten bzw. verringerten Lichtintensität
Die Aufgabe der Erfindung ist es, ein Elektrolumineszenzelement der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1
genannten Art zu schaffen, bei dem die Abhängigkeit der Lichtemission von der Amplitude der zugeführten
Wechselspannung die vorstehend ei«jrterten Hysterese-Eigenschaften
zeigt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen
Merkmale gelöst.
Das erfindungsgemäße Elektrolumineszenzelement kann aufgrund der Hysterese, die sich bei der
Abhängigkeit der Lichtemission von der Amplitude der zugeführten Wechselspannung ergibt, zum Speichern
von Information, und zwar insbesondere von Analoginformation verwendet werden. Eine Hysterese ergibt
sich auch hinsichtlich der Abhängigkeit der Stärke und der Phase des elektrischen Stroms von der zugeführten
V.'echselspannungsamplitudc.
Ausfuhrungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend im Zusammenhang mit den Zeichnungen und im
Vergleich zum Stande der Technik näher erläutert. Es zeigt
Fig. I einen Querschnitt durch ein bekanntes Elektrolumineszenzelement mit Mn-dotierter dünner
ZnS-Schicht,
Fig· 2 ein Diagramm, das die Lichtemission in
Abhängigkeit von der zugeführten Spannung bei dem bekannten Element gemäß F i g. I zeigt,
Fig.3A ein Diagramm, das die Hysleresekennlinicn
zeigt, die bei der Abhängigkeit der Lichtemission oder des elektrischen Stroms von der zugeführten Wechselspannung
bei dem als Ausführungsbeispiel der Erfindung beschriebenen EL-Elcmcnt aiiftrclcn.
Fig.3B ein Diagramm, das die Hysteresekennhnien
zeigt, die bei dem als Ausführungsbeispiel der Erfindung beschriebenen Element hinsichtlich der Abhängigkeit
der Phase des elektrischen Stroms von der zugeföhrten Spannung auftreten,
Fig.4 einen Querschnitt durch eine Aufdampfvorrichtung
mittels Elektronenstrablaufheizung, die zur Herstellung des als Ausführungsbeispiel der Erfindung
beschriebenen Elements verwendet wird, und
F i g. 5 ein Diagramm zur Erläuterung der Beziehung zwischen der Substrattemperatur und der Mn-Konzentration
in der ZnS-Pille.
Es ist bekannt, daß ein Dünnschicht-Elektrolumineszenzelement
mit Doppelisolierstruktur, das aus einer dünnen elektrolumineszierenden ZnS-Schicht besteht,
die zwischen zwei dielektrische Schichten geschichtet ist, hervorragende Elektrolumineszenz zeigt.
In Fig. 1 ist ein typisches, bekanntes EL-Element mit
dünner ZnS-Schicht und Doppelisolierstruktur gezeigt, das ein Glassubstrat 1, das mit einer transparenten
Elektrode 2 aus SnÜ2 oder IniOj beschichtet ist, eine
dünne elektroiumineszierende ZnS-Schicht 4, die zwischen zwei dielektrischen Schichten 3 und 5 gehalten
ist, und eine metallische hintere Elektrode 6 aus Al usw. hat. Diese Schichten 3,4 und 5 und die Elektroden 2 und
6 werden nacheinander auf das Substrat 1 unter Verwendung von Aufdampftechnik aufeinander aufgebracht.
Vorzugsweise wird die dünne elektroiumineszierende ZnS-Schicht 4 dadurch gebildet, daß eine mit Mn
dotierte gesinterte ZnS-Pille in gewünschter Menge verdampft wird, wobei Mn als Lumineszenzzentrum in
der dünnen elektrolumineszierenden ZnS-Schicht 4 dient. Die dielektrischen Schichten 3 und 5 werden
entweder aus Oxiden oder Nitriden von Halbleitern oder Metallen oder aus Verbindungen solcher Elemente
gebildet.
Das oben erläuterte EL-Element zeigt eine Lichtemission in Abhängigkeit von der zugeführten Spannung,
wie dies in Fig.2 gezeigt ist, wenn eine Wechselspannung
an die Elektroden 3 und 5 gelegt wird. Hystereseeigenschaften sind nicht erkennbar.
Hystereseeigenschaften sind nur aufgrund von Effekten zu erwarten, die beim Transport von
Ladungsträgern auftreten, die in Fallen tiefen Potentials gefangen sind, die sich in der dünnen elektrolumineszierenden
ZnS-Schicht oder im Grenzbereich zwischen der ZnS-Schicht und den dielektrischen Schichten befinden.
Bishet gab es jedoch kein wirksames Verfahren zur Bildung solcher Fallen in der EL-Schicht oder im
Grenzgebiet zwischen dieser und den dielektrischen Schichten. Daher konnten die ZnS-EL-Elemente gemäß
dem Stand der Technik die obenerwähnten Hystereseeigenschaften nicht zeigen.
Im Rahmen der Erfindung wurde entdeckt, daß ein eine dünne ZnS-Schicht aufweisendes EL-Element der
oben erläuterten Art Hystereseeigenschaften zeigt, wenn die elektroiumineszierende dünne Schicht aus ZnS
mit einem Durchmesser der ZnS-Körner von weniger als 0,2 μm besteht, das eine Mn-Doticrung in einer
Konzentration von 0,05 bis 5,0 Gew.-% aufweist und t von den beiden dielektrischen Schichten mindestens
eine aus Oxiden der seltenen Erden und/oder Oxiden oder Nitriden von Elementen der Gruppen III, IV oder
V gebildet werden.
von der zugeführten Wechselspannung ergeben, und Fig.3B zeigt die Hystereseeigenschaflen, die sich
hinsichtlich der Abhängigkeit der Phase des elektrischen Stroms von der zugefülirten Wechselspannung
ergeben.
Das Mn muß in das ZnS-Kristallgitter in geeigneter
Konzentration eingebracht werden, um aktiv als Lumineszenzzentrum in der dünnen EL-Schicht zu
wirken, und die ZnS-Kristallkörner in der dünnen ι« ZnS-Schicht zu wirken, und die ZnS-Kristallkörner in
der dünnen ZnS-Schicht müssen auf eine geeignete Größe, vorzugsweise auf einen Durchmesser von 0,05
bis 0,2 μίτι anwachsen, damit das EL-Element eine gute
Elektrolumineszenz zeigt und die Fallen tiefen Poten-ί tials in der Schicht gebildet werden. Es wurde gefunden,
daß eine geeignete Mn-Konzentration 0,05 bis 5,0 Gew.-°/o beträgt, und die Größe der polykristallinen
ZnS-Körner dadurch gesteuert werden kann, daß die Konzentration des Mn in der zur Verdampfung
benutzten ZnS-Pilte und die Substrattemperatur während
der Aufdampfung mittels Ele'.vonenstrahlaufheizens geändert werden.
Mindestens eine der beiden dielektrischen Schichten wird aus Oxiden der seltenen Erden oder aus Oxiden
oder Nitriden von Elementen der Gruppe III, IV oder V
des periodischen Systems gebildet, wobei sich während des Aufwachsens Oxidleerstellen bilden, wodurch die
Fallen niedrigen Potentials zwischen der Mn-dotierten dünnen ZnS-Schicht und der dielektrischen Schicht
jo entstehen. Geeignete Oxide sind Dy-/)j, YiOj, Ta2O-,,
S1O2. Die Oxidleerstellen, die während des Aufwachsens
der Körner entstehen, führen dazu, daß das Element elektrische Eigenschaften zeigt, die sich von den
grundsätzlichen Eigenschaften der in massiver Form vorliegenden Werkstoffe unterscheiden. Ein unter
Erfüllung der obigen Bedingungen hergestelltes EL-Element weist Hystereseeigenschaflen auf. Im folgenden
wird das Verfahren zur Herstellung eines solchen Mn-dotierten ZnS-EL-Elements erläutert.
Die Mn-dotierte elektroiumineszierende dünne ZnS-Schicht wird unter Verwendung des Aufdampfens
miuels Elektronenstrahlaufheizung gebildet, wobei eine hierzu geeignete Vorrichtung in Fig.4 gezeigt ist. Es
sind eine Grundplatte ti, ein isolator 12, eine r, wassergekühlte Anode 13 zum Haltern der Pille, eine
Elektronenstrahl-Ablenkeinheit 14, eine Abstoßeinheit 15, ein Wolframdraht 16 und ein Pt-Podest 17
vorgesehen. Die auf dem Pt-Podest 17 angeordnete gesinterte ZnS-PiIIe empfängt Elektronenstrahlen 19,
die aus dem Wolframdraht 16 austreten und von der Ablenkeinheit 14 abgelenkt werden, so daß die Pille
aufgeheizt und verdampft wird und dadurch ZnS in die Dampfphase überführt vfird.
Vorzugsweise wird die gesinterte ZnS-Pille 18 in der ή Weise hergestellt, daß hochgereinigtes Mn mit einer
Konzentration viii 0,05 bis 5,0 Gew.-% in das
ZnS-Pulver eingebracht und danach das Gemisch gepreßt wird und in reinem Argon bei Temperaturen
von 1100 bis 12000C gesintert wird. Die Verdampfung
zur Herstellung des ZnS-EL-Schicht wird unter Einhaltung der folgenden Bedingungen durchgeführt:
ein Unterdruck von 0,2 bis 1,0- 10"5Torr (0,3 bis
1,3- 10-J Pa); eine Substrattemperatui von 100 bis
3000C; eine Aufdampfrate von 1800 bis 2500 Ä/min (180
Die F i g. 3A und 3B zeigen die I lystercseeigensehaf- b-, bis 250 nm/min). Das Substrat wird nach Beendigung
ten eines derartigen EL-Elements. F i g. 3A zeigt die der Aufdampfung liir I bis 2 h im Vakuum bei r>75 bis
Hystereseeigenschaften, die sieh hinsichtlich der Abhängigkeit der Lichtemissiiil·! oder des elektrischen Stroms
600'C gehalten. Diese anschließende Wärmebehandlung wird zu dem Zweck durchgeführt, das Mn in
ausreichendem Maß als Dotierung in das ZnS-Kristallgitter
einzuführen und die Verzerrung der ZnS-EL-Schicht auszugleichen. Die gebildete Mn-doticrtc
ZnS-Schicht hat eine Dicke von 0,4 bis 2,0 μιη und sie
enthält Mn mit einer Konzentralion von 0.05 bis 5,0 Gew.-°/o.
In F-" i g. 5 ist die Beziehung zwischen der Substratlemperatur.
die in einem Bereich zwischen 100 und 300°C gewählt wird, und der Mn-Konzentration der Pille 18
gezeigt, die in einem Bereich zwischen 0,05 bis 5,0 Gcw.-% gewählt wird. Dabei ist auf der Abszissenachse
die SubsirattcmpeniHir während des Aufdampfens
aufgetragen, während auf der Ordinatenachsc die Konzentration des Mn in der Pille 18 aufgetragen ist.
Wenn das Mn-doticrtc ZnS-EI.-Element eine IiL-Schicht
enthält, die unier Bedingungen gebildet wurde, die den in I"ig. 5 mit Kreisen bezeichneten Punkten
entsprechen, hat das Element das I lystcresephänoinen,
wahrend Elemente, bei denen die Herstellung der IiL-Schicht den mit »x« bezeichneten Punkten entspricht,
keine IlyMereseeigenschaften haben. Ks wird
aus dem Diagramm deutlich, daß das Element dann die gewünschten Hystereseeigensehaften hat. wenn die
Mn-dolierte dünne ZnS-Schicht desselben durch Verdampfen
durch Elektronenstrahlaufheizung unter Bedingungen gebildet wurde, die dein schräg schraffierten
Bereich entsprechen.
Hs sei erwähnt. daß. wenn ein Aufd-irüpfvnrf-.irtrcn
mittels Widerstandsheizung zur Bildung der dünnen EL-Schicht anstatt mittels Elektronenstrahlaufheizung
verwendet wird, das Element nicht die gewünschten Eigenschaften haben kann, da die Konzentration von
Mn in der gebildeten Schicht nicht ausreicht, und nicht gleichmäßig ist in Richtung der Dickenerstreckung der
Schicht. Die Aufdampfmethode mittels Elcktronenstrahlaufheizung
vermeidet diese Mangel.
Im folgenden wird das Verfahren zur I lerstellung i\cr
dielektrischen Schichten erläutert. Die dielektrischen Schichten werden aus Oxiden der seltenen Erden
und/oder aus Oxiden oder Nitriden von Elementen der Gruppen III. IV und V unter Verwendung der
Aufciarnpftechnik, der Kathodenzerstäubung, der anodischen
Oxidation oder der chemischen Dampfniederschlagung, gebildet. Sie bestehen beispielsweise aus
einer Mischung von Y;O( und SiOi oder ZrO; und SiO;
in einem geeigneten Verhältnis. Vorzugsweise werden die dielektrischen Schichten unter Verwendung des
Aufdampfverfahrens mittels Elektroncnstrahlaufheizung
gebildet, und die Dicke der Schichten liegt im Bereich zwischen 0.2 bis 0.5 μπι.
Die Bedingungen zur Herstellung der aus Y;Oi oder
ZrO; bestehenden dielektrischen Schichten und die dielektrischen Eigenschaften dieser Schichten sind die
folgenden:
ZrO2
Form des verdampften Stoffs
Substrattemperatur
Aufdampfrate
Substrattemperatur
Aufdampfrate
Restlicher
Gasdruck
Gasdruck
gepreßte Pille gepreßte Pille
IOO-3OO°C I00-300°C
400-500 A/min 400-500 A/min
(40—50 nm/min) (40—50 nm/min)
0,5-1,0
• 10 ^ Torr
(0,7-1,3
■ 10 > Pa)
10-12.5
• 10 ^ Torr
(0,7-1,3
■ 10 > Pa)
10-12.5
0,5-1,0
■ 10^ Torr
(0,7-1.3
■ 10^ Torr
(0,7-1.3
10 ' Pa)
19-22
19-22
1-3 · 10 ' 2-4 · 10 >
3-4 ■ 10" V/cm 4 · 10* V/cm
Dielektrizitätskonstante bei
I klIz
I klIz
Verlustwinkcl
bei 1 kHz
Durehschlaglekistärke
bei 1 kHz
Durehschlaglekistärke
Das mit einer dünnen Mn-dotiertcn ZnS-Schicht versehene El. Element, dessen El.-Schicht und diclck
Irische Schichten entsprechend den den angegebenen Bedingungen gebildet wurden, zeigt die in E i g. 3A und
5Ii dargestellten llysteresceigenschaften und kann
dalvr als Speicherelement verwendet werden
Keim .nan zu Fig. IA zurück, so ist ersichtlich, dall
ein Speicherbereich ausgedrückt werden kann durch V,,,- V,.„ was mit der Breite der llysteresisschleife
identisch ist, wöbe· V,,· der Grtiizs.puripungswett für
eine IiL-!'mission auf clem Kurvenast ansteigender
Spannung und V1, der Spannungswert ist, bei dem die
Lichtemission auf dem Kurvenast abfallender Spannung erlischt. Es ist ersichtlich, daß die .Speicherwirkungen
des Elements um so stärker auftreten, je größer der Speicherbereich ist.
Ein Elektrolumineszcnzelcment, das eine dünne elektrolumineszierende ZnS-Schichi hat, die unter
Einhaltung der im schraffierten Feld von Fig.1)
entsprechenden Bedingungen hergestellt wurde, und dessen dielektrische Schichten aus ZrO2 bestehen, hat
folgende Eigenschaften, wenn eine sinusförmige Wechselspannung von 1 kHz an das Element angelegt wird:
Die Breite der Hystereseschleife beträgt 15 V, wenn die Messung bei einer Temperatur von 300 K erfolgt;
die Breite der Hystereseschleife beträgt 30 V, wenn die Messung bei einer Temperatur von 77 K erfolgt.
Wenn die dielektrischen Schichten aus Y2Oi bestehen, sind die Eigenschaften des Elements wie folgt:
Die Breite der Hystereseschleife beträgt 15 V, we../ι die Messung bei einer Temperatur von 400 K erfolgt;
die Breite der Hystereseschleife beträgt 40 V, wenn die Messung bei einer Temperatur von 77 K erfolgt.
Die Breite der Hystereseschleife beträgt 15 V, wenn die Messung bei einer Temperatur von 300 K erfolgt;
die Breite der Hystereseschleife beträgt 30 V, wenn die Messung bei einer Temperatur von 77 K erfolgt.
Wenn die dielektrischen Schichten aus Y2Oi bestehen, sind die Eigenschaften des Elements wie folgt:
Die Breite der Hystereseschleife beträgt 15 V, we../ι die Messung bei einer Temperatur von 400 K erfolgt;
die Breite der Hystereseschleife beträgt 40 V, wenn die Messung bei einer Temperatur von 77 K erfolgt.
Hierzu 3 Blatt Zeichnuncen
Claims (3)
1. Elektrolumineszenzelement, bei dem auf beiden
Seiten der mit Mn als Lumineszenzzentren dotiertes Zinksulfid enthaltenden dünnen elektrolumineszierenden
Schicht je eine dielektrische Schicht und darauf je eine Elektrode angeordnet sind, dadurch
gekennzeichnet,
daß die elektrolumineszierende dünne Schicht (4)
aus Zinksulfid mit einem Durchmesser der ZnS-Körner von weniger als 0,2 μπίϊ besteht, das eine
Mn-Dotierung in einer Konzentration von 0,05 bis 5,0 Gew.-% aufweist, und
daß von den beiden dielektrischen Schichten (3, 5) r>
mindestens eine aus Oxiden der seltenen Erden und/oder Nitriden oder Oxiden von Elementen der
Gruppen II!, IV oder V des periodischen Systems besteht.
2. Elektrolumineszenzelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine der
dielektrischen Schichten (3, 5) aus Y2O3 oder ZrO2
besteht.
3. Verfahren zur Herstellung eines Elektrolumineszenzelements
nach Anspruch 1 oder 2, dadurch 2> gekennzeichnet, daß die Mn-dolierte dünne elektrolumineszierende
ZnS-Schicht (J) durch Aufdampfen in der Weise gebildet wird, daß eine gesinterte
ZnS-PiIIe (18), die Mn in einem Konzentrationsbereich zwischen 0,05 und 5,0 Gew.-°/o enthält, mittels
Elektronenstrahlaufheizung zum Verdampfen gebracht wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7732973A JPS5412199B2 (de) | 1973-07-05 | 1973-07-05 | |
JP7733073A JPS5438477B2 (de) | 1973-07-05 | 1973-07-05 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2432503A1 DE2432503A1 (de) | 1975-02-06 |
DE2432503B2 DE2432503B2 (de) | 1978-05-24 |
DE2432503C3 true DE2432503C3 (de) | 1979-01-18 |
Family
ID=26418420
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2432503A Expired DE2432503C3 (de) | 1973-07-05 | 1974-07-04 | Elektrolumineszenzelement |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4394601A (de) |
DE (1) | DE2432503C3 (de) |
GB (1) | GB1481047A (de) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI60333C (fi) * | 1980-04-24 | 1981-12-10 | Lohja Ab Oy | Elektroluminens-aotergivningskomponent |
EP0090535B1 (de) * | 1982-03-25 | 1986-07-02 | The Secretary of State for Defence in Her Britannic Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and | Elektrolumineszenzplatte und Verfahren zu deren Herstellung |
CA1201606A (en) * | 1983-01-27 | 1986-03-11 | Donald L. Kramer | Photometric device |
JPS6074384A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-26 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜発光素子 |
JPS60124396A (ja) * | 1983-12-09 | 1985-07-03 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜発光素子 |
JPS60182692A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-18 | ホ−ヤ株式会社 | 薄膜el素子とその製造方法 |
EP0159531B1 (de) * | 1984-03-23 | 1988-01-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Dünnfilm-Elektrolumineszenzanordnung |
JPS60216496A (ja) * | 1984-04-10 | 1985-10-29 | 平手 孝士 | 発光色可変形薄膜電界発光素子 |
EP0163351B1 (de) * | 1984-05-31 | 1988-04-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Dünnfilm-Elektrolumineszenzanordnung |
JPH086086B2 (ja) * | 1985-09-30 | 1996-01-24 | 株式会社リコー | 白色エレクトロルミネツセンス素子 |
JPH0679513B2 (ja) * | 1985-12-25 | 1994-10-05 | 株式会社日本自動車部品総合研究所 | 薄膜エレクトロルミネセンス素子の製造方法 |
ATE156324T1 (de) * | 1988-12-27 | 1997-08-15 | Canon Kk | Durch elektrisches feld lichtemittierende vorrichtung |
GB2278853B (en) * | 1993-06-08 | 1997-02-12 | Fuji Electric Co Ltd | Method for manufacturing thin-film electroluminescence device |
GB9506328D0 (en) * | 1994-08-18 | 1995-05-17 | Ultra Silicon Techn Uk Ltd | Improvements in and relating to TFEL technology |
GB2306251B (en) * | 1994-08-18 | 1998-02-04 | Ultra Silicon Techn Uk Ltd | Improved luminous efficiency in a thin film EL device |
US5910706A (en) * | 1996-12-18 | 1999-06-08 | Ultra Silicon Technology (Uk) Limited | Laterally transmitting thin film electroluminescent device |
DE102013205042A1 (de) * | 2013-03-21 | 2014-09-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung von Materialparametern, insbesondere der Ladungsträgerlebensdauer eines Halbleitersubstrates durch Messung von Lumineszenzstrahlung |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2933602A (en) * | 1955-10-10 | 1960-04-19 | Du Pont | Apparatus for generating visible light by photo-electroluminescence |
US3534159A (en) * | 1968-10-30 | 1970-10-13 | Bell Telephone Labor Inc | Single pickup tube color television camera system |
US3854070A (en) * | 1972-12-27 | 1974-12-10 | N Vlasenko | Electroluminescent device with variable emission |
-
1974
- 1974-07-04 GB GB29702/74A patent/GB1481047A/en not_active Expired
- 1974-07-04 DE DE2432503A patent/DE2432503C3/de not_active Expired
-
1977
- 1977-05-18 US US05/798,008 patent/US4394601A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1481047A (en) | 1977-07-27 |
DE2432503B2 (de) | 1978-05-24 |
US4394601A (en) | 1983-07-19 |
DE2432503A1 (de) | 1975-02-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2432503C3 (de) | Elektrolumineszenzelement | |
DE2550933C2 (de) | Halbleiterphotodiode für ein mit Wechselstrom betriebenes Lichtventil und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2743141C2 (de) | Halbleiterbauelement mit einer Schicht aus amorphem Silizium | |
DE2812592A1 (de) | Elektrolumineszenz-duennschichtanzeigeelement und verfahren zu seiner herstellung | |
DE1489986B1 (de) | Geschichteter Koerper mit durch Bestrahlung anregbarer elektrischer Leitfaehigkeit und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2647396A1 (de) | Gasentladungspaneel | |
DE2528103B2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Kristallschicht | |
DE4024602A1 (de) | Elektrolumineszenzvorrichtung | |
DE19632277C2 (de) | Dielektrischer Dünnfilm, eine einen Dünnfilm aufweisende Elektrolumineszenzvorrichtung, die den gleichen verwendet, und Verfahren zur Herstellung der Elektrolumineszenzvorrichtung | |
DE3228566C2 (de) | Dünnschicht-Elektrolumineszenz-Element | |
DE2449542B2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer amorphen Schicht auf einem Halbleitersubstrat | |
DE4226593A1 (de) | Elektrolumineszenz- (el) - anzeigetafel und verfahren zu deren herstellung | |
DE2806880B2 (de) | Solarzelle und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE19613669A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelements | |
DE2007261B2 (de) | Elektrische Widerstandssubstanz, insbesondere Widerstandsschicht und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE2063580A1 (de) | Transparenter Leiter und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE3542116C2 (de) | ||
DE102016102501A1 (de) | Mikroelektronische Elektrodenanordnung | |
DE1105068B (de) | Verfahren zur Herstellung von Vielfachdioden | |
DE102004047630A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines CBRAM-Halbleiterspeichers | |
DE2260205C3 (de) | Elektrolumineszenz-Anordnung | |
DE2351254B2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Multidioden-Speicherplatte für eine Bildaufnahmeröhre | |
DE1614753A1 (de) | Fotoelektrische Leiter | |
DE3202399C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilm-Elektrolumineszenzelements | |
DE2624394C3 (de) | Photoleitende Ladungsspeicherplatte |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: KADOR, U., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. KLUNKER, H., DIPL.-ING. DR.RER.NAT. SCHMITT-NILSON, G., DIPL.-ING. DR.-ING. HIRSCH, P., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: KLUNKER, H., DIPL.-ING. DR.RER.NAT. SCHMITT-NILSON, G., DIPL.-ING. DR.-ING. HIRSCH, P., DIPL.-ING.,PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN |