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DE1447010C3 - Vorsensibilisierte Druckplatte zur Herstellung von Flach- und Hochdruckformen und Verfahren zum Herstellen der Druckformen - Google Patents

Vorsensibilisierte Druckplatte zur Herstellung von Flach- und Hochdruckformen und Verfahren zum Herstellen der Druckformen

Info

Publication number
DE1447010C3
DE1447010C3 DE19631447010 DE1447010A DE1447010C3 DE 1447010 C3 DE1447010 C3 DE 1447010C3 DE 19631447010 DE19631447010 DE 19631447010 DE 1447010 A DE1447010 A DE 1447010A DE 1447010 C3 DE1447010 C3 DE 1447010C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
phenyl
printing
parts
production
forms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19631447010
Other languages
English (en)
Other versions
DE1447010B2 (de
DE1447010A1 (de
Inventor
Johannes Dr. Munder
Oskar Prof.Dr. Sues
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of DE1447010A1 publication Critical patent/DE1447010A1/de
Publication of DE1447010B2 publication Critical patent/DE1447010B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1447010C3 publication Critical patent/DE1447010C3/de
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

R1-CH = N-R
Ψ
O
entspricht, worin
R1 einen gegebenenfalls substituierten, aromatischen Kohlenwasserstoff- oder heterocyclischen Rest und
R einen aromatischen Kohlenwasserstoffrest, der
■ · ι ÄO
substituiert sein kann,
bedeutet, und daß das in organischen Lösungsmitteln lösliche Harz in saurer oder alkalischer wäßriger Lösung löslich ist.
2. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Harze Polymerisate und/oder Polykondensate vorhanden sind, denen als Monomere Verbindungen zugrunde liegen, die aromatische Kerne besitzen.
3. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der lichtempfindlichen Schicht Nilblau BX, Methylengrün, Kristallviolett, Safranin, Auramin, Gallocyanin, Rhodamin 3 oder Viktoriareinblau BOX als Sensibilisatoren enthalten sind.
4. Verfahren zur Herstellung von Flach- oder Hochdruckformen unter Verwendung des lichtempfindlichen Materials nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man von der lichtempfindlichen Schicht nach ihrer bildmäßigen Be-Iichtung die bei der Belichtung vom Licht nicht getroffenen Stellen mit einer basischen oder sauren wäßrigen Lösung oder einem organischen Lösungsmittel von der Druckplatte entfernt.
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Die Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Druckplatte zur Herstellung von Flach- und Hochdruckformen sowie ein Verfahren zum Herstellen der Druckformen aus den vorsensibilisierten Druckplatten. Die Druckplatte weist eine in ihrer Zusammensetzung neue lichtempfindliche Schicht auf.
Als vorsensibilisiert werden mit einer lichtempfindlichen Schicht versehene Druckplatten bezeichnet, die für länger als nur wenige Tage im Dunkeln gelagert werden können, ohne derart an Lichtempfindlichkeit zu verlieren, daß sie nicht mehr verwendbar sind. Als lichtempfindliche Substanzen werden für die Herstellung vorsensibilisierter Druckplatten vielfach Diazoverbindungen verwendet. Es ist auch bekannt, Diazoverbindungen im Gemisch mit in organischen Lösungsmitteln löslichen Harzen, die oft auch in alkalischer Lösung löslich sind, anzuwenden. Die Herstellung der Diazoverbindungen erfordert verhältnismäßig großen Aufwand an Chemikalien, Vorrichtungen und Zeit. Es besteht daher ein Bedürfnis, mit einfacheren Mitteln herstellbare lichtempfindliche Verbindungen zu finden, die für die Herstellung vorsensibilisierter Druckplatten brauchbar sind. Es ist ferner aus der deutschen Patentschrift 955 379 bekannt, daß im Thiophenring nitrierte Thiophenverbindungen lichtempfindlich sind und daß man sie zur Herstellung vorsensibilisierter Druckplatten verwenden kann. Sie müssen jedoch gemeinsam mit wasserlöslichen Kolloiden verwendet werden, da ihre Verwendbarkeit darauf beruht, daß in ihrer Gegenwart wasserlösliche Kolloide gegerbt und dadurch in Wasser und wäßrigen Lösungen schwerer löslich oder unlöslich werden. Die Mitverwendung wasserlöslicher Kolloide ist mit dem Nachteil verbunden, daß die lichtempfindliche Schicht und in einem geringeren Ausmaß auch das aus der lichtempfindlichen Schicht durch Belichten und Entwickeln entstandene Restbild, welches das Bild der fertigen Druckform darstellt, das beim Einfärben der Druckform Farbe annimmt und die Farbe beim Drucken auf den Bedruckstoff überträgt, gegen Feuchtigkeit empfindlich sind. So kann die lichtempfindliche Schicht leicht durch Fingerabdrücke verdorben werden, die bildmäßig belichtete Schicht leicht beim Entwickeln mit wäßrigen Entwicklungslösungen durch zu langes Einwirken oder ungünstige Zusammensetzung des Entwicklers Schaden leiden und die fertige Druckform durch die Einwirkung von Feuchtwasser oder atmosphärischer Feuchtigkeit rascherem Verschleiß unterliegen. Der gleichen Empfindlichkeit gegen Feuchtigkeit unterliegen übrigens auch, wenn auch meist in nicht so hohem Maße, alle vorsensibilisierten Druckplatten, in deren lichtempfindlicher Schicht wasserlösliche Diazoverbindungen enthalten sind, und das sind praktisch alle negativ arbeitenden Druckplatten, die mit Diazoverbindungen vorsensibilisiert sind, d.h. die Druckplatten, deren Verwendbarkeit darauf beruht, daß ihre lichtempfindliche Schicht nach einem Belichten weniger leicht in Wasser oder einem anderen Lösungsmittel löslich ist als vor einem Belichten.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine vorsensibilisierte Druckplatte zur Verfugung zu stellen, die in ihrer lichtempfindlichen Schicht eine lichtempfindliche Verbindung enthält, die sich mit verhältnismäßig einfachen Mitteln herstellen läßt und deren lichtempfindliche Schicht gegen Feuchtigkeit verhältnismäßig unempfindlich ist. Mit der vorsensibilisierten Druckplatte sollen sich auf einfache Weise Druckformen herstellen lassen.
Bei der Lösung der Aufgabe wird von der bekannten vorsensibilisierten Druckplatte zur Herstellung von Flach- und Hochdruckformen ausgegangen, die in ihrer lichtempfindlichen Schicht ein in organischen Lösungsmitteln lösliches Harz und eine lichtempfindliche Verbindung enthält und dadurch gekennzeichnet ist, daß die lichtempfindliche Verbindung der Formel
R1 — CH = N — R
Ψ
O
entspricht, worin
R1 einen gegebenenfalls substituierten, aromatischen Kohlenwasserstoff- oder heterocyclischen Rest und
R einen aromatischen Kohlenwasserstoffrest, der substituiert sein kann,
(bedeutet, und daß das in organischen Lösungsmitteln ■ (lösliche Harz in saurer oder alkalischer wäßriger [Lösung löslich ist.
! Das Verfahren zur Herstellung von Flach- oder JHochdruckformen erfolgt unter Verwendung der er- S jfindungsgemäßen Druckplatte und ist dadurch gekennjzeichnet, daß man von der lichtempfindlichen Schicht jnach ihrer bildmäßigen Belichtung die bei der Beilichtung vom Licht nicht getroffenen Stellen mit einer !basischen oder sauren wäßrigen Lösung oder einem !organischen Lösungsmittel von der Druckplatte entiernt
i Zu der obenstehenden Formel werden als aroma-I tische Kohlenwasserstoffe z. B. ,genannt: Phenyl, jNaphthyl, Anthracyl, Phenantryl und die Reste hö- is herer Ringsysteme, wie Naphthacen, Chrysen, Pyren, Perylen, Coronen oder Acenaphthene
! Als heterocyclische Reste werden genannt z. B. j Reste, die sich ableiten von Furan, Pyrrol, Thiophen, Pyrazol, Imidazol, Triazol, Thiazol, Oxazol, Iso- ao j oxazol, IndoL, Thionaphthen, Benzfuran, Indazol, jCarbazol, Dibenzofuran, ferner Pyridin, Pyridazin, i Pyrimidin, Pyrazm, Chinolin, Chinazolin, Acridin, ■ Phenazin. ■
Als Substituenten der genannten Kohlenwasser- as . stoff- und heterocyclischen Reste werden aufgeführt:
Eine gerade oder verzweigte, gesättigte oder un- ; gesättigte aliphatische Kohlenwasserstoffkette mit niedriger Anzahl von Kohlenstoffatomen, vorzugsweise in der längsten Kette nicht mehr als 8 Kohlen-Stoffatome. Reste dieser Art sind beispielsweise die ; Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Isopropyl-, Butyl-, 1,3-Methyl-hexyl-, Propenyl(I)-Gruppen. Ferner können die genannten Substituenten bedeuten gesättigte und ungesättigte cyclische Kohlenwasserstoffe, wie Cyclopentyl, Cyclohexyl, Dimethylcyclohexyl oder Cyclopenten-, Cyclohexadien-Reste. Weiterhin sind als Substituenten Alkoxy-, Oxyalkyl-, Alkoxyalkyl-Reste verwendbar, z.B. Methoxy-, Äthoxy-, Propoxy-., Oxymethyl-, Oxyäthyl-, Oxy-iso-propyl-, Methoxymethyl-, Äthoxymethyl-Reste; ferner heterocyclische Verbindungen, vor allem in hydrierter Form, z. B. den Morpholin-Rest, aromatische cyclische Verbindungen mit Heteroatomen, z. B. den Pyridyl-Rest, aromatische Kohlenwasserstoff-Reste, wie Aryl-, Naphthyl-, Alkylaryl-, Aralkyl-, Alkylarylalkyl-, Alkoxyaryl-, Oxalkylaryl-Reste, z. B. Phenyl-, Tolyl, Xylyl, Benzyl, Methoxyphenyl, Methqxyanthracyl, Phenylmethoxyl; auch halogenierte Arylreste, wie ChlorphenyL Bromphenyl, Dichlorphenyl; weiterhin ein Halogenrest, wie Chlor, Brom, ein Nitror, ein N-Oxy- und ein Cyan-Rest.
Darüber hinaus kommen erfindungsgemäß weiterhin Derivate in Frage, die durch Substitution der genannten aromatischen Kohlenwasserstoff- und heterocyclischen Grundgerüste mit folgenden Resten gebildet werden: Amino-, Alkylamino-, Dialkylamino-, Arylamino-, Diarylamino-, Arylalkylamino-Reste, wie die Methylamino-, Propylamino-, Dimethylamino-, Diäthylamino-, Dipropylamino-, Methylbutyl-amino-, Phenylamino-, Naphthylamine-, Benzyl-äthyl-amino-Gruppe. Im folgenden werden an Hand einer Tabelle beispielhaft einige Verbindungen, <iie gemäß der Erfindung verwendbar sind, aufgeführt: .; - . -·.;
'■■ Formel Ri 2-Nitro-phenyl R Fp. -;
(0Q ...■·.
r-l 3-Nitro-phenyl Phenyl 92 '-.■-..
2 4-Nitro-phenyl Phenyl 144 bis 145 „
3 4-Dimethylamino-phenyl Phenyl 186 -
4 4-Cyan-phenyl Phenyl 129 bis 130 . -;
5 4-Hydroxy-phenyl Phenyl 147
6 2-Hydroxy-phenyl Phenyl 206 . -
7 3-Methoxy-4-hydroxy-phenyl Phenyl 119 ■ ..;
8 3,4-Dihydroxymethylenphenyl Phenyl 200
9 3-Methoxy-4-hydroxy-phenyl Phenyl:. 120 bis 124 !;
10 4-Acetamino-phenyl 4-Methyl-phenyl ··.....«. 173 bis 174
11 4-Oxyacryloyl-phenyl Phenyl 195 -..
12 4-(Methyl-benzyl-amino)-phenyl :■. Phenyl .·-·· 145 ·.:.
13 4-Diphenyl Phenyl 110 bis 113
14 4-Hydroxy-naphthyl Phenyl 190 bis 191 .
15 (2'-Diazo-l'-oxo-naphthalin-4'-sutfonyl)-
A sw\ τηϊπ\ £>ιλ\ τI
4-Methyl-phenyl 137 bis 139
16 *r~UAjf JJXlCliyi
(2'-Diazo-l'-oxo-naphthalin-4'-suMonyl)-
Phenyl. ... ·;.-■,. 150 Zp .,;.;.. ......
16a 4-oxyphenyl Phenyl .-.·. -:'■' "■■'. 118 bis 119 /
2-Phenyl-äthenyl
17 2-(2'-Nitro-phenyl)-äthenyl Phenyl 151 bis 151,5
18 2,2-Diphenyl-äthenyl Phenyl 86
19 2-Naphthyl-6-methinimino-N-phenyl-
N-oxyd ·.-..-.
Methyümino-N-phenyl-N-oxyd
Phenyl 135 bis 136
20 Methylamino-N-(4-methyl-phenyl)- Phenyl 227 ^ . ·.,·<;
21 :·'■ N-oxyd : · ·■■:·-... .··:■· :::■■ Phenyl ; ^ .τ;. 175 bis 176 ■„,-.
22 2-Furyl · / '-■;■ ■-. 4-Methyl-phenyl ■.•j-ζπ: 184bisl85; ,,,^
2-Thiophenyl ■ .; · \-J.--i ;;.■■.;·■·■;■
23 S-Chlor-thiophenyl^ Phenyl .· i: : ; .-5.".V- 87 bis 88^A
24 5-Jod-thiophenyl-2 Phenyl ■ ■ 88 bis 89■-.*■.-.·.■
25 Phenyl 114 - , ,
26 Phenyl 168 bis 170
(Fortsetzung vorstehender Tabelle)
Formel Ri R Fp. 203
(0Q 122 bis 123
27 5-Methoxy-thiophenyl-2 Phenyl 113,5
28 5,3-Bis-carboxyäthyl-4-methyl-pyrrol-2 Phenyl 164 bis 165
29 Pyridyl-3 Phenyl
30 6-(Methinimino-N-phenyl-N-oxyd)- Phenyl 84 bis 85
pyridyl-2 182 bis 184
31 Thionaphthenyl-3 Phenyl 167 bis 168
32 Indolyl-3 Phenyl 143 bis 144
33 2-Methyl-indolyl-3 Phenyl 146
34 Chinolyl-4 Phenyl 224 bis 225
35 Chinolyl-2 Phenyl 68 bis 70
36 Benzimidazolyl-2 Phenyl 119 bis 120
37 Benzthiazolyl-2 4-Methyl-phenyl
38 N-Methyl-carbazolyl-3 Phenyl 224 bis 226
39 N-Äthyl-carbazolyl-3 Phenyl >200
40 Anthracenyl-9 Phenyl 159 bis 161
41 Anthracenyl-9 4-Methyl-phenyl
42 Pyrenyl-1 Phenyl
Es können auch Mischungen der genannten lichtempfindlichen Verbindungen untereinander angewendet werden. Ebenso ist der Zusatz von geringen Mengen anderer lichtempfindlicher Verbindungen z. B. Chinondiaziden — beschrieben in der deutschen Patentschrift 901 500 — möglich.
Außer den genannten Nitronen bedarf es zur Herstellung der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht noch mindestens eines Harzes, das Gruppen trägt, die es im alkalischen oder sauren, wäßrigen Medium löslich machen.
Die weitaus besten Ergebnisse werden erzielt, falls vorzugsweise vollsynthetische Harze mit einem sehr hohen Anteil von aromatischen Kernen in der Hauptkette oder als Substituenten Verwendung finden. Jedoch bringen auch andere harzartige Substanzen noch brauchbare Ergebnisse. Löslichmachende Gruppen der obengenannten Art sind im Falle des alkalischen Mediums beispielsweise Säureanhydrid-, Carboxyl-, Sulfonamid- oder Sulfonimidgruppen. Solche Harze mit diesen Gruppen sind beispielsweise abgeleitet von Vinylpolymerisaten und Vinylmischpolymerisaten. Speziell brauchbar sind z. B. Mischpolymerisate von Styrol mit Maleinsäure-anhydrid oder säuregruppentragende Harze, wie Phthalsäureesterharze, Polykohlensäureester, Maleinatharze, Alkydharze oder Kolophoniumharze. Hochpolymere Polyacrylsäure als solche oder in Beimischung kann ebenfalls noch Verwendung finden. Als besonders zweckmäßig für das Verfahren haben sich die Mischpolymerisate des Styrols mit Maleinsäureanhydrid in verschiedenen Verhältnissen erwiesen. Hiervon sind die Mischpolymerisate, die auf 1 Mol Styrol etwa 1 Mol Maleinsäure-anhydrid enthalten, besonders vorteilhaft. Ebenso gute Ergebnisse erhält man mit Formaldehyd-Kondensaten, mit Phenol oder Meta-Kresol, das mit Chloressigsäure umgesetzt wurde. Gruppen, die die Harze in saurem Medium löslich machen, sind vor allem Formaldehydkondensate von aromatischen Aminen, z. B. Dimethylanilin, Vinylpolymerisate mit aromatischen Resten, die durch Aminogruppen substituiert sind, wie Polyaminostyrol, oder mit basischen heterocyclischen Resten, wie Polyvinylpyridin. Konstitutionsgemäß sind die genannten Harze auch in oi ganischen Lösungsmitteln löslich.
Die Mengenverhältnisse zwischen den genannte Harzen und lichtempfindlicher Verbindung könne in weiten Grenzen schwanken. Gemische aus 2 Teile Harz und 1 Teil lichtempfindlicher Verbindung bi zu Gemischen, die 2 Teile lichtempfindlicher Vei bindung auf 1 Teil Harz enthalten, sind vorzuzieher Jedoch lassen sich auch noch günstige Ergebnisse ei zielen durch Anwendung von Gemischen im Ge wichtsverhältnis von 10:1 bis 100:1.
Als empfindlichkeitssteigernde Zusätze können dei erfindungsgemäßen Schichten optische Sensibilisatorei in geringer Menge zugesetzt werden. Im folgendei werden in einer Tabelle die gängigen Farbstoffe auf geführt, die eine besonders hohe Steigerung der Licht empfindlichkeit hervorrufen:
Nilblau BX
Methylengrün
Methylenblau IaD ...
Kristallviolett
Safranin
Auramin
Gallocyanin
Rhodamin 3G
Viktorioreinblau BOX
55
1029 N; 1040
785
967
752
998
864
822
S. 698 S. 451
S. 329 S. 417 S. 307 S. 433 S. 365 S. 347
51180 52020 52015 42555 50240 41000 51030 45210 42595
Zitat I entspricht Seiten- und Nummernangabe dei Farbstofftabellen von G. S c h u 11 z, 7. Aufl. (1931), Bd. I, Spalte II entspricht der Nummer des Colour Index Vol. IV. Überraschenderweise handelt es sich bei den obengenannten Farbstoffen um Sensibilisatoren, die in der photographischen Technik teils als desensibilisierend (z. B. Nilblau BX oder Safranin), teils als inaktiv für Sensibilisierungszwecke (z. B. Auramin oder Viktoriareinblau BOX) bekannt sind.
(S. S t a u d e, Phys. Chem. Taschenbuch, Bd. II, Tabellen S. 1825 bis 1893 [1947], I. Aufl.)
Zur Steigerung der filmbildenden Eigenschaften der lichtempfindlichen Mischung kann in manchen Fällen
7 8
die erfindungsgemäß genannte lichtempfindliche Mi- schung Veränderungen an den Stellen, an denen die schung in Verbindung mit kleinen Mengen natürlicher, Lichtenergie einwirkt. Nach Beendigung der Belichhalbsynthetischer und synthetischer Harze angewendet tung, d. h. nachdem an den belichteten Stellen die werden. Als Harze dieser Art kommen z. B. in Frage: Beschichtung sich teilweise, bevorzugt, aber min-Balsamharz, Kolophonium, Schellack und modifizierte 5 destens zum überwiegenden Teil verändert hat, liegt Harze, wie mit Kolophonium modifizierte Phenol- eine bildmäßig chemisch differenzierte Fläche vor. harze, Cumaronharze, Indenharze und die unter den Diese so differenzierte Fläche, die bereits hier ein Sammelbegriff »Lack-Kunstharze« fallenden Substan- mehr oder weniger deutlich sichtbares Bild der Vorzen. Zu diesen Lack-Kunstharzen gehören, wie etwa lage zeigt, wird nun in eine Druckform umgewandelt, aus dem Kunststofftaschenbuch von Saechtling- io Hierbei wird die differenzierte Fläche mit einem sauer Z e b r ο w s k i, 11. Aufl. (1955), S. 212 ff., hervor- basisch reagierenden Lösungsmittel überwischt, welgeht, abgewandelte Naturstoffe, wie Celluloseäther, ches die unbelichteten Stellen vom Träger ablöst, Polymerisate, Polykondensate, z. B. Polyester, wie während es die belichteten Stellen unangegriffen zu-Phthalatharze, Terephthalsäure- bzw. Isophthalsäure- rückläßt. Das solchermaßen behandelte, erfindungsäthylenglykolpolyester, Maleinatharze, Maleinsäure- 15 gemäße Material kann sodann mit fetter Farbe einKolophonium-Mischester höherer Alkohole, Phenol- gefärbt und in einer Offsetmaschine für Druckzwecke formaldehydharze, Harnstoff-Formaldehydharz, Aide- verwendet werden,
hydharze, Ketonharze, Polyamide und Polyurethane. Bei Verwendung von Metallplatten ist die ent-
AIs Lösungsmittel für die Behandlung der Kopien schichtete und gegebenenfalls weiter vorbereitete für Druckzwecke sind nur basische oder saure, ao Platte ätzbar und kann sodann für Hoch- und Tiefwäßrige Lösungen und organische Lösungsmittel ge- druckzwecke eingesetzt werden. Es lassen sich in eignet. Für die basischen wäßrigen Lösungen kommen allen Fällen kontrastreiche Bilder mit hoher Randvorzugsweise die sekundären und tertiären Alkalisalze schärfe in hohen Druckauflagen erzielen,
der Phosphorsäure oder Kieselsäure, z.B. Silikate, Die Lichtempfindlichkeit der Nitrone ist aus der wie Natriummetasilikat oder Phosphate, wie Tri- »5 Literatur bekannt, vor allem aus F. Kröhnke, natriumphosphat in Frage. Auch die wäßrigen Lö- Lib. Ann. d. Chemie, 604, 203 (1957); J. Splitter: sungen organischer Basen, wie Mono- und Di-äthanol- J. org. Chem., 23, 651, (1958).
amin, sind geeignet. Für die sauren wäßrigen Lö- Die Verbindungen können nach bekannten Mesungen kommen z. B. Phosphorsäure, Schwe- thoden in analoger Weise hergestellt werden. Solche feisäure und Maleinsäure in Frage. In manchen 30 Herstellungsweisen sind in der Literatur beschrieben, Fällen sind auch wäßrige Lösungen oder Emulsionen z. B. in J. S ρ 1 i 11 e r und M. C a 1 ν i η, J. org. von organischen Lösungsmitteln, besonders Glycol- Chem., 20, 114, (1955). Hierbei werden aromatische monomethyläther oder Butylacetat, geeignet. Aldehyde mit Aryl-hydroxylaminen zur Umsetzung
Als alkoholische Komponente kann beispielsweise gebracht.
auch Methanol, Äthanol, Propanol, Isopropanol und 35 Ein üblicher und zugleich prinzipieller Reaktions-Butanol in Frage kommen. Naturgemäß können ablauf einer der vorgenannten Darstellungsmethoden ebenso reine organische Lösungsmittel oder Mi- ist der folgende: 5 g 2-Thiophenaldehyd und 4,9 g schungen von organischen Lösungsmitteln unterein- Phenylhydroxylamin werden in 10 ml Methanol geander Anwendung finden. löst. Nach längerem Stehen kristallisiert das Nitron
Die Mengenverhältnisse der Komponenten der Ent- 40 aus und kann aus wäßrigem Methanol umkristallisiert
wickler können in weiten Grenzen schwanken. So werden. Die Ausbeute beträgt etwa zwischen 70 und
bringen 1- bis lOvolumprozentige Lösungen der 80% der Theorie.
sauren oder basischen Substanzen in Wasser sehr Die erfindungsgemäß zu verwendenden Nitrone
gute Ergebnisse. Auch Mengen unter 1 Volumprozent zeichnen sich durch relativ leichte Zugänglichkeit und
und über 10 Volumprozent bis 30 oder 40 Volum- 45 geringe Herstellungskosten aus. Die damit herge-
prozent, oder in manchen Fällen bis 80 Volumprozent stellten Druckplatten besitzen eine ausgezeichnete
sind noch gut verwendbar im Sinne der Erfindung. Lagerfähigkeit und sind weitgehend gegen Temperatur-
Diesen wäßrigen Lösungen können organische Lö- einflüsse resistent; es kommt ihnen ferner eine aus-
sungsmittel in weiten Grenzen zugegeben werden. gezeichnete Lichtempfindlichkeit zu, die es erlaubt,
Meist sind hierbei kleinere Mengen, wie einige Vo- 50 mit kurzen Belichtungszeiten einwandfreie Bilder und
lumprozent bis 20 Volumprozent vorzuziehen. Druckformen herzustellen.
Die Verwendung der erfindungsgemäß genannten Die Entwicklung mit basisch oder sauer reagierenlichtempfindlichen Mischung für Druckzwecke kann den wäßrigen Lösungen läßt sich schnell und vollbeispielsweise auf folgende Art geschehen: Die ge- ständig durchführen und bereitet darüber hinaus die nannten Nitrone und Harze werden in dünner Schicht 55 nicht drucken sollenden Flächen von Offsetdruckauf ein Trägermaterial aufgebracht. Dies kann in formen so vor, daß eine zusätzliche Hydrophilierung bekannter Weise etwa durch Lösen der Verbindungen nicht mehr nötig wird. Durch die Auswahl der ge- und Beschichten des Trägers mit diesen Lösungen und nannten Harze für die Herstellung der lichtempfindanschließendes Verdunsten des Lösungsmittels er- liehen Schicht wird eine homogene, feste Lösung der folgen. Gegebenenfalls kann dies auch durch Sprühen 60 Nitrone in der Schicht sichergestellt. Die erhöhte oder Tauchen erfolgen. Tendenz vieler Nitrone zur Kristallisation kommt
Zur Erzeugung eines Lichtmusters auf der licht- hierbei nicht zur Auswirkung.
empfindlichen Schicht kann diese Schicht im Kontakt, Durch die in den erfindungsgemäßen Druckplatten
episkopisch oder diaskopisch belichtet werden. Als zu verwendende lichtempfindliche Schicht wird ferner
Lichtquelle kann hierbei eine Bogenlampe oder 65 eine höhere Resistenz der belichteten Flächen gegen-
Quecksilberlampe zur Anwendung gelangen. Unter über dem Angriff des entschichtenden Lösungsmittels
dem Einfluß dieses Lichtmusters erleidet, wie oben erreicht, so daß auch bei längerer Berührung des
erwähnt, die erfindungsgemäße lichtempfindliche Mi- Bildes mit der Entwicklerlösung keine Beschädigungen
9 10
der verbleibenden Bildstellen eintreten. Durch die .
Erhöhung der Abriebfestigkeit des druckenden Reliefs B e ι s ρ ι e 1 4
werden sehr hohe Auflagen beim Druckvorgang er- Zur Herstellung einer lichtempfindlichen Papierreicht. Es wird angenommen, daß auch während des druckfolie wird ein Papier, das einseitig eine mit Belichtungsprozesses eine Reaktion der erfindungs- 5 Formaldehyd gehärtete, aus Kasein und Ton begemäß zugesetzten Harze mit den lichtempfindlichen stehende Schicht trägt, mit einer Lösung von 1 GeVerbindungen oder deren Zersetzungsprodukten ein- wichtsteil des Nitrons entsprechend der Formel 17 tritt, wodurch eine erhöhte physikalische und ehe- und 1 Gewichtsteil des unter Beispiel 3 beschriebenen mische Differenzierung zwischen den Bildstellen und Harzes in 100 Volumteilen Glykolmonomethyläther den bildfreien Flächen erzielt wird. io auf einer Schleuder beschichtet. Die Schicht wird, wie ..... im Beispiel 1 angegeben, getrocknet und belichtet.
Beispiel 1 Nach dem Entwickeln mit einer 5%igen wäßrigen Ein Gewichtsteil des Nitrons entsprechend der Lösung von Trinatriumphosphat und gegebenenfalls Formel 6 wird zusammen mit 1,2 Gewichtsteilen eines Nachbehandlung mit 1 %iger Phosphorsäure kann alkalischen Novolakes, d. h. einem Phenolformalde- 15 man mit der so erhaltenen Druckschablone in einer hydkondensationsprodukt, in 100 Volumteilen GIy- Offsetmaschine drucken. Man ei hält Druckbildei mit kolmonomethyläther gelöst. Mit dieser Lösung wird großer Deckkraft und hoher Auflage,
eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumfolie auf . .
einer Schleuder beschichtet, mit Warmluft getrocknet Beispiel 5
und zur Entfernung des restlichen Lösungsmittels ao Auf eine Metallunterlage wird, wie im Beispiel 1 2 Minuten bei 1000C nachgetrocknet. Zur Erzeugung beschrieben, eine Lösung von 1 Teil des Nitrons der einer Druckform wird die nun lichtempfindliche Folie Formel 19 und 0,2 Teilen eines durch Umsetzung von an einer Kohlenbogenlampe von 18 Ampere im Ab- N-Äthylanilin mit Formaldehyd erhältlichen PoIystand von etwa 70 cm unter einer negativen trans- kondensationsproduktes in 100 Volumteilen Glykolparenten Filmvorlage etwa 2 Minuten belichtet. Dabei as monomethyläther aufgetragen, getrocknet und beentsteht ein braungefärbtes Bild, das durch Über- lichtet. Man entwickelt die Platte durch Überwischen wischen mit einer 5 %igen wäßrigen Lösung von Tri- mit einer 5 %igen wäßrigen Phosphorsäure. Nach dem natriumphosphat entwickelt wird. Die Folie kann Einfärben mit fetter Farbe kann die Platte in der nun mit fetter Farbe eingefärbt und in einer Offset- Offsetdruckmaschine gedruckt werden. Auch hier maschine für Druckzwecke benutzt werden. Ein 30 ergeben sich randscharfe Bilder und hohe Auflagen. Überwischen mit l%iger Phosphorsäure vor dem .
Einfärben bringt noch verbesserte Ergebnisse. Die B e 1 s ρ 1 e 1 6
Platte kann ohne Schädigung der Schicht längere Die Lösung von 1 Gewichtsteil des Nitrons, For-Zeit auch bei erhöhter Temperatur gelagert werden. mel 21 des Formelverzeichnisses, und 0,5 Gewichts-. . . „ 35 teilen des unter Beispiel 3 beschriebenen Harzes in
Beispiel/ 100 Volumteilen eines Gemisches aus 50 Teilen GIy-
Man löst 1 Gewichtsteil des Nitrons entsprechend kolmonomethyläther und 50 Teilen Dimethylform-
der Formel 8 und 1,5 Gewichtsteile des unter 1 be- amid wird, wie im Beispiel 1 beschrieben, auf die
schriebenen Harzes in 100 Volumteilen einer Mischung Aluminiumfolie aufgetragen, geüocknet, belichtet und
von Glykolmonomethyläther und Dimethylformamid 40 durch Überwischen mit einer wäßrigen Lösung von
1:1, und setzt zu dieser Lösung 0,01 Gewichtsteil 5 % Trinatriumphosphat entwickelt. Sie kann nun,
Nilblau BX zu. Wie im Beispiel 1 angegeben, wird wie im Beispiel 1 beschrieben, weiterverarbeitet wer-
mit dieser Lösung eine Aluminiumfolie beschichtet, den.
getrocknet und diese anschließend 2 Minuten unter ...
einer negativen transparenten Filmvorlage unter der 45 Beispiel/
Kohlenbogenlampe belichtet. Die Folie wird durch 1,5 Gewichtsteile des Nitrons entsprechend der Überwischen mit einer 5 %igen Lösung von Tri- Formel 25 des Formelverzeichnisses und 5,2 Genatriumphosphat entwickelt und wie im Beispiel 1 wichtsteile des unter Beispiel 1 beschriebenen Harzes mit Phosphorsäure behandelt und nach dem Ein- werden in 100 Volumteilen Glykolmonomethyläther färben mit fetter Farbe in die Offsetdruckmaschine 50 gelöst. Eine gut gereinigte, polierte Zinkplatte wird gespannt. Ohne Zusatz des Sensibilisators muß man mit dieser Lösung beschichtet und wie im Beispiel 1 unter sonst gleichen Bedingungen 3 Minuten be- getrocknet. Anschließend wird 10 Minuten unter lichten, um eine gleich gute Druckschablone zu er- einer negativen transparenten Filmvorlage unter der halten. Kohlenbogenlampe belichtet. Nach dem Entfernen
„.'.._ 55 der unbelichteten Schichtteile mit einer Lösung von
BeispielJ 85 % 5 %igem Trinatriumphosphat und 15 % Glykol-
Ein Gewichtsteil des Nitrons entsprechend der monomethyläther erhält man ein Bild, das auf Grund
Formel 11 und 0,2 Gewichtsteile eines Konden- der guten Resistenz des Ausbelichtungsproduktes und
sationsproduktes des unter 1 beschriebenen Harzes des Harzes mit einem der dafür üblichen Ätzmittel,
mit Monochloressigsäure in Glykolmonomethyläther 60 etwa 6%iger Salpetersäure, zu einer Druckform tief-
(100 Volumteile) wurden, wie unter Beispiel 1 be- geätzt werden kann. Es ergeben sich hohe Auflagen
schrieben, auf die Platte aufgebracht, 2 Minuten be- mit ausgezeichneten Druckbildern,
lichtet und durch Überwischen mit einer wäßrigen . .
Lösung von 1 % Natriummetasiükat · 9 H2O zu einem Beispiele
druckfähigen Bild entwickelt. Diese Platte kann in 65 Auf eine Metallunterlage wjrd, wie im Beispiel 1
einer Offsetdruckmaschine gedruckt werden. Es lassen beschrieben, eine Lösung von einem Teil des Nitrons
sich damit sehr hohe Druckauflagen mit randscharfen entsprechend der Formel 26 des Formelverzeichnisses
Druckbildern herstellen. und 0,5 Teile des unter Beispiel 3 beschriebenen Har-
11 12
zes in 100 Teilen Glykolmonomethyläther aufgetragen, wickelt die Platte durch Überwischen mit einer Lög?trocknet und belichtet. Man entwickelt die Platte sung von 85% einer 5%igen wäßrigen Lösung Tridurch Überwischen mit einer 5%igen wäßrigen Lö- natriumphosphat und 15% Glykolmonomethyläther. sung von Trinatriumphosphat. Nach weiterer Be- Nach der üblichen Nachbehandlung der Druckhandlung, wie im Beispiel 1 beschrieben, kann die 5 schablone mit 1 %iger Phosphorsäure kann die Platte Platte in die Offsetdruckmaschine gespannt und ge- mit Druckfarbe eingefärbt und dann in der Offsetdruckt werden. druckmaschine gedruckt werden.
Beispiel9 Beispiel 13
1 Gewichtsteil des Nitrons der Formel 28 und 0,2 Ge- io Man löst ein Gewichtsteil des Nitrons entsprechend wichtsteile des unter Beispiel 3 beschriebenen Harzes der Formel 42 und 1,2 Gewichtsteile des unter Beiwerden in einem Gemisch von 50 Volumteilen Glykol- spiel 3 beschriebenen Harzes in einem Gemisch von monomethyläther und 50 Volumteilen Dimethyl- 50 Volumteilen Glykolmonomethyläther und 50 Voformamid gelöst, wie im Beispiel 1 beschrieben, auf lumteilen Dimethylformamid, trägt diese Lösung, wie die Aluminiumplatte aufgetragen und getrocknet. 15 im Beispiel 1 beschrieben, auf die Metallunterlage auf, Nach dem Belichten wird die Platte durch Über- trocknet und belichtet 2 Minuten unter der Kohlenwischen mit einer 10%igen wäßrigen Lösung von bogenlampe. Die Platte wird entwickelt, indem man Trinatriumphosphat entwickelt, mit l%iger Phos- sie mit einer Mischung von 80% einer 5%igen wäßphorsäure eingerieben und nach dem Einfärben mit rigen Lösung von Trinatriumphosphat und 20% fetter Farbe in die Offsetdruckmaschine gespannt und 20 Glykolmonomethyläther überwischt. Nach der Be-, gedruckt. handlung mit 1 %iger Phosphorsäure kann die Platte „.■ „■ nn mit fetter Farbe eingefärbt werden und in der Offset-I maschine gedruckt werden.
j Auf eine Metallunterlage wird, wie im Beispiel 1 . .
j beschrieben, eine Lösung von einem Teil des Nitrons 25 B e ι s ρ 1 e 1 14
I entsprechend der Formel 30 und 1 Gewichtsteil des Man löst 0,5 Gewichtsteile des Nitrons entsprechend 1 im Beispiel 3 beschriebenen Harzes in 100 Volumteilen der Formel 4 und 0,5 Gewichtsteile des Nitrons ent- ; Glykolmonomethyläther aufgebracht, getrocknet und sprechend der Formel 20 und 1 Gewichtsteil des unter belichtet. Die Platte wird durch Überwischen mit einer Beispiel 3 beschriebenen Harzes in 100 Volumteilen wäßrigen Lösung von 10% Trinatriumphosphat ent- 30 eines Gemisches aus 20% Butylacetat und 80% GIywickelt und, wie im Beispiel 1 beschrieben, druck- kolmonomethyläther, trägt diese Lösung auf die fertig gemacht. Metallunterlage auf, trocknet und belichtet 10 Mi- : . nuten unter der Kohlenbogenlampe. Man entwickelt i Beispiel 11 die piatte durch Überwischen mit einer 5%igen j Ein Gewichtsteil des Nitrons entsprechend der 35 wäßrigen Lösung von Natriummetasilikat · 9H2O. ! Formel 35 und 0,5 Gewichtsteile des unter Beispiel 3 Nach dem Einfärben mit fetter Farbe kann die Folie
beschriebenen Harzes werden in 100 Teilen Glykol- in der Offsetdruckmaschine gedruckt werden.
: monomethyläther gelöst, auf die Aluminiumfolie auf-
I gebracht, getrocknet und 2 Minuten belichtet. Man Beispiel 15
entwickelt die Platte durch Überwischen mit einer 4°
5 %igen wäßrigen Lösung von Natriummetasilikat Auf eine Metallunterlage wird, wie im Beispiel 1 •9H2O, färbt mit fetter Farbe ein und druckt die beschrieben, eine Lösung von 0,8 Gewichtsteilen des Platte in der Offsetdruckmaschine. Nitrons entsprechend der Formel 10 und 0,2 Ge-. . wichtsteilen 2,5-Dimethoxy-4-toluolsulfiminobenzo-B e 1 s ρ 1 e 1 12 45 chinondiazid-1 und 1 Gewichtsteil des im Beispiel 1 Auf eine Metallunterlage wird, wie im Beispiel 1 beschriebenen Harzes in 100 Volumteilen Glykolbeschrieben, eine Lösung von 1 Teil des Nitrons ent- monomethyläther aufgetragen, getrocknet und 3 Misprechend der Formel 40 des Formelverzeichnisses nuten unter der Kohlenbogenlampe belichtet. Man und 2 Teile des im Beispiel 3 beschriebenen Harzes entwickelt die Platte durch Überwischen mit einer in 100 Volumteilen eines Gemisches von 50 Teilen 5° wäßrigen Lösung von 5 % Trinatriumphosphat. Nach Glykolmonomethyläther und 50 Teilen Dimethyl- der Nachbehandlung mit 1 %iger Phosphorsäure kann formamid aufgebracht, getrocknet und 2 Minuten die Platte mit fetter Farbe eingefärbt und in der unter der Kohlenbogenlampe belichtet. Man ent- Offsetdruckmaschine gedruckt werden.
Hierzu 4 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Vorsensibilisierte Druckplatte zur Herstellung von Flach- und Hochdruckformen, die in ihrer lichtempfindlichen Schicht ein in organischen Lösungsmitteln lösliches Harz und eine lichtempfindliche Verbindung enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Verbindung der Formel to
DE19631447010 1963-07-04 1963-07-04 Vorsensibilisierte Druckplatte zur Herstellung von Flach- und Hochdruckformen und Verfahren zum Herstellen der Druckformen Expired DE1447010C3 (de)

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EP0388484B1 (de) * 1989-03-20 1994-09-21 Siemens Aktiengesellschaft Hochauflösender Photoresist
DE58908699D1 (de) * 1989-03-20 1995-01-12 Siemens Ag Verfahren zum Erzeugen einer Photoresiststruktur.

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