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CN201359681Y - 边缘光刻胶去除装置 - Google Patents

边缘光刻胶去除装置 Download PDF

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CN201359681Y
CN201359681Y CNU2009201057247U CN200920105724U CN201359681Y CN 201359681 Y CN201359681 Y CN 201359681Y CN U2009201057247 U CNU2009201057247 U CN U2009201057247U CN 200920105724 U CN200920105724 U CN 200920105724U CN 201359681 Y CN201359681 Y CN 201359681Y
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CN
China
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clean
gas
out system
substrate
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CNU2009201057247U
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English (en)
Inventor
王辉
张琨鹏
姚庆阳
李庆平
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BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本实用新型涉及一种边缘光刻胶去除装置,包括固设在喷嘴主体上的第一喷嘴模块,所述第一喷嘴模块上设置有用于去除基板边缘光刻胶的第一清洗剂喷嘴和第一气体喷嘴,所述第一清洗剂喷嘴和第一气体喷嘴分别连通有第一清洗剂供给口和第一气体供给口;所述第一气体喷嘴和所述基板之间设置有用于防止清洗剂溅射的第一防溅挡板,所述第一防溅挡板与所述第一气体喷嘴的设置方向一致。本实用新型边缘光刻胶去除装置可有效防止清洗剂溅射到基板上的电路图形区域,提高了边缘光刻胶的清除效果,减少了清除边缘光刻胶时产生的基板不良。

Description

边缘光刻胶去除装置
技术领域
本实用新型涉及光刻制造工艺中的光刻胶去除技术,特别是涉及一种边缘光刻胶去除装置。
背景技术
半导体器件、平板显示面板制造的光刻工艺中,需要在基板表面涂布光刻胶(Photosensitive Resist,简称PR),并对涂布PR后的基板进行曝光和显影来获得所需要的电路图形。
目前的液晶面板制造工艺中,一般采用旋转(Spin)方式对基板表面进行涂布PR,通过旋转方式涂布PR后PR会在基板的边缘残留,而基板边缘残留的PR会对后续对基板进行处理的烘干设备和曝光设备造成污染,而这种污染会造成产品不良以及设备故障,因此,需要对涂布PR后基板的边缘进行处理,以去除基板边缘残留的PR。液晶面板制造工艺中,一般将涂布PR后的基板送入边缘PR清除(Edge Bead Remove,简称EBR)装置,由EBR装置来去除基板边缘处的PR。现有技术中的EBR装置包括由清洗剂喷嘴和氮气喷嘴组成的边缘去除喷嘴(EBR Nozzle),清洗剂喷嘴和氮气喷嘴均为针式喷嘴结构,其中,基板送入EBR装置后,清洗剂喷嘴垂直于基板表面,氮气喷嘴与基板表面呈一定倾斜的角度。EBR装置对基板边缘的PR进行清除过程如下:首先,由清洗剂喷嘴喷出的清洗剂喷洒到基板边缘,清洗剂会将基板边缘残留的PR溶解;然后,氮气喷嘴喷射出氮气,由氮气将清洗剂吹干,完成对基板边缘PR的清除。同时,由于基板一般为长方形,因此,基板的每个边缘均由一个相应的EBR喷嘴对基板进行清洁处理。
发明人在实现本实用新型过程中发现现有技术至少存在以下技术缺陷:现有技术中的EBR装置虽然可以实现清除基板边缘PR的目的,但是,由于在工作过程中EBR装置在受到排气压力、(氮气)气流以及清洗剂喷嘴部分堵塞的影响时,会出现清洗剂的喷射方向发生变化,此时,清洗剂容易溅射到基板上除清洗区域以外电路图形区域,溅射到基板的电路图形区域后会造成该电路图形区域的光刻胶溶解,造成基板上的电路图形不良,出现产品不良,而不良品的产生又增加了基板制作过程中的成本,降低了生产的效率。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种边缘光刻胶去除装置,以解决现有技术的技术缺陷,避免基板上电路图形区域的不良,提高生产过程中产品质量和生产效率。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种边缘光刻胶去除装置,包括固设在喷嘴主体上的第一喷嘴模块,所述第一喷嘴模块上设置有用于去除基板边缘光刻胶的第一清洗剂喷嘴和第一气体喷嘴;所述第一清洗剂喷嘴和第一气体喷嘴分别连通有第一清洗剂供给口和第一气体供给口;所述第一气体喷嘴和所述基板之间设置有用于防止清洗剂溅射的第一防溅挡板,第一防溅挡板与所述第一气体喷嘴的设置方向一致。
其中,所述第一气体喷嘴为狭缝状喷嘴。所述第一防溅挡板的宽度大于所述第一气体喷嘴的总宽度。所述第一防溅挡板为与所述基板呈一定倾斜角度的平板;且所述第一防溅挡板靠近所述基板的一端还设置有与所述基板垂直设置的平板。
进一步地,所述边缘光刻胶去除装置还可包括固设在所述喷嘴主体上与所述第一喷嘴模块对称设置的第二喷嘴模块;所述第二喷嘴模块上设置有第二清洗剂喷嘴和第二气体喷嘴;所述第二清洗剂喷嘴和第二气体喷嘴分别连通有第二清洗剂供给口和第二气体供给口;所述第二气体喷嘴和所述基板之间设置有用于防止清洗剂溅射的第二防溅挡板,所述第二防溅挡板与所述第二气体喷嘴的设置方向一致。
此外,所述喷嘴主体上设置有排气腔,设置在所述排气腔两侧的排气腔挡板上设置有用于感应所述基板位置防止所述基板与排气腔挡板相撞的传感器。
所述第一清洗剂供给口连通有用于调整清洗剂流量的清洗剂流量计,所述清洗剂流量计上设置有用于感应清洗剂流量的清洗剂流量上限传感器和清洗剂流量下限传感器;或所述第一气体供给口连通有用于控制气体流量的气体流量计,所述气体流量计上设置有用于感应气体流量的气体流量上限传感器和气体流量下限传感器。
所述第二清洗剂供给口连通有用于调整清洗剂流量的清洗剂流量计,所述清洗剂流量计上设置有用于感应清洗剂流量的清洗剂流量上限传感器和清洗剂流量下限传感器;或所述第二气体供给口连通有用于控制气体流量的气体流量计,所述气体流量计上设置有用于感应气体流量的气体流量上限传感器和气体流量下限传感器。
本实用新型提供了一种边缘光刻胶去除装置,通过在气体喷嘴和基板之间设置防溅挡板,可有效防止清洗剂溅射到基板上的电路图形区域,减少了因清洗剂溅射到电路图形区域而造成的基板不良。同时,本实用新型技术方案通过采用狭缝状喷嘴作为气体喷嘴,进一步地阻挡了溅射的清洗剂,同时提高了气体喷嘴喷射出的氮气的均匀性,提高了清洗剂的吹干效果。此外,本实用新型技术方案中还通过在排气腔挡板上设置传感器,可有效感应基板距离排气腔挡板的距离,防止基板与排气腔挡板相撞,避免边缘光刻胶清洗过程中产生的基板不良。
附图说明
图1为本实用新型边缘光刻胶去除装置实施例一的主视图;
图2为图1的俯视图;
图3为本实用新型边缘光刻胶去除装置实施例一的组装示意图;
图4为本实用新型边缘光刻胶去除装置中挡板的一组装结构示意图;
图5为本实用新型边缘光刻胶去除装置中挡板的另一组装结构示意图;
图6为本实用新型边缘光刻胶去除装置第二实施例的结构示意图;
图7为本实用新型边缘光刻胶去除装置第二实施例的组装示意图;
图8为本实用新型实施例中清洗剂流量计的结构示意图;
图9为本实用新型实施例中气体流量计的结构示意图。
具体实施方式
下面通过附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
图1为本实用新型边缘光刻胶去除装置实施例一的主视图;图2为图1的俯视图;图3为本实用新型边缘光刻胶去除装置实施例一的组装示意图。本实施例边缘光刻胶去除装置包括喷嘴主体1和第一喷嘴模块2。其中,第一喷嘴模块2的左端固设在喷嘴主体1上;第一喷嘴模块2的下表面设置有用于去除基板边缘光刻胶的第一清洗剂喷嘴21和第一气体喷嘴22,第一清洗剂喷嘴21垂直于基板4设置,第一气体喷嘴22与基板4呈一倾斜角度设置;第一喷嘴模块2的上表面设置有与第一清洗剂喷嘴21连通的第一清洗剂供给口23和与第一气体喷嘴22连通的第一气体供给口24;第一气体喷嘴22和基板4之间设置有用于防止清洗剂溅射的第一防溅挡板3,该第一防溅挡板3与第一气体喷嘴22的设置方向一致。
具体地,如图3所示,第一喷嘴模块2可通过螺母固设在喷嘴主体1上,此外,喷嘴主体1上还可设置与容置第一清洗剂喷嘴21的容置孔25,以使得第一清洗剂喷嘴21更加稳定,保证第一清洗剂喷嘴21的喷射方向。第一防溅挡板3也可通过螺母固设在第一喷嘴模块2的右端,同样的,也可通过其它方式固定。
实际应用中,第一清洗剂喷嘴21可包括并排排列的多个喷嘴口,且第一防溅挡板的宽度大于第一气体喷嘴的总宽度。具体地,本实施例中,第一清洗剂喷嘴21的总长度小于或等于第一喷嘴模块2的长度,第一防溅挡板3的长度大于第一喷嘴模块2的长度,即第一防溅挡板3的宽度大于由并排排列的多个喷嘴口组成的第一清洗剂喷嘴21的总宽度。第一防溅挡板3的长度大于第一喷嘴模块2的长度,可有效阻挡第一清洗剂喷嘴21两侧喷出的清洗剂,防止清洗剂溅射到基板4的电路图形区域而造成基板不良,本实施例中第一防溅挡板3伸出第一喷嘴模块2两侧的距离a均为10mm~15mm。此外,实际应用中,第一防溅挡板3的顶端与基板4之间的距离要适当,以获得较好的阻挡清洗剂、防止清洗剂溅射的效果,具体地,本实施例中,第一防溅挡板3的顶端与基板4的垂直距离b设定为1mm~3mm,第一防溅挡板3的顶端与基板的边缘的距离c设定为5mm~20mm,根据实际的需要可设定为所需要的最合适的距离,只要第一防溅挡板3可有效阻挡清洗剂溅射到基板上的电路图形区域即可。
实际应用中,第一清洗剂喷嘴21可由多个针状喷嘴排列而构成,第一气体喷嘴22也可为狭缝状喷嘴。具体地,构成第一清洗剂喷嘴21的针状喷嘴之间的距离要适当,以使得清洗剂可均匀的喷射在基板4的边缘,使得清洗剂可较好的溶解基板4边缘的光刻胶,达到较好的清洗效果,本实施例中的针状喷嘴之间的距离为3mm~6mm;狭缝状喷嘴与基板4呈一定倾斜的角度,如45°角度,使得第一气体喷嘴22喷出的氮气朝向基板4的边缘,以保证第一气体喷嘴22喷出的氮气可有效的吹干清洗剂,此外,狭缝状喷嘴的缝隙大小要合适,以控制氮气的喷射量,提高喷射出的氮气的均匀性,本实施例中,狭缝状喷嘴的缝隙设置为0.1mm~0.4mm。本实施例中,第一气体喷嘴22采用狭缝状喷嘴,可进一步地阻挡第一清洗剂喷嘴21溅射过来的清洗剂,降低了清洗剂溅射到基板4上的电路图形区域的可能性,同时利用狭缝状喷嘴可均匀的吹干基板4上的清洗剂,达到较好的去除边缘光刻胶的目的。
实际应用中,喷嘴主体1上还可设置有排气腔5,排气腔5与第一清洗剂喷嘴21和喷嘴主体1之间空间形成的排气室连通,该排气腔5两侧设置有排气腔挡板6,排气腔5还连通有用于将清洗剂和气体排出的排气管7。具体地,本实施例中,根据基板4的清洗位置以及第一清洗剂喷嘴21的清洗位置,可对排气腔挡板6的位置进行调节,以保证排气腔5的排气效果,此外,排气过程中,排气管7应具备一定的排气压强,本实施例中排气管7的排气压强为300Pa~600Pa,以达到较好的排气效果,以提高去除边缘光刻胶的效果。
实际应用中,排气腔挡板6边缘还可设置有用于感应基板4位置防止基板4与排气腔挡板6相撞的传感器8。具体地,可通过在排气腔挡板6边缘固设一金属杆,并将传感器8固设在该金属杆上,且传感器8与排气腔挡板6之间的距离要适当,本实施例中传感器8设置在距离排气腔挡板6边缘10mm~20mm的位置。当基板4距离排气腔挡板6在设定的最小距离以外时,传感器8感应不到基板4的存在,此时,传感器8可输出一低电压信号,该低电压信号代表传感器8感应不到基板4的存在,基板4距离排气腔挡板6较远,为达到有效去除基板4边缘所有光刻胶的目的,可尽量让基板4靠近排气腔挡板6;当基板4距离排气腔挡板6在设定的最小距离以内时,传感器8会感应到基板4并输出一个高电压的信号,该高电压的信号代表传感器8感应到基板4的存在,基板4距离排气腔挡板6较近,若基板4再进一步的靠近排气腔挡板6,则基板4可能会与排气腔挡板6相撞。可以看出,通过设置传感器8,同时设定好传感器8的感应距离,在去除基板边缘光刻胶时可有效防止基板与排气腔挡板相撞,此外,本实施例中,传感器8还可连接有报警装置,当检测到传感器8感应到高电压信号,即基板4距离排气腔挡板6过近时,表示基板4的位置出现异常,此时可停止清洗工作并由报警装置发出报警,直到工程维护人员对基板的位置进行调整正常后再工作,因此,可有效避免清洗过程中基板位置异常而造成的不良。
图4为本实用新型边缘光刻胶去除装置中挡板的一组装结构示意图;图5为本实用新型边缘光刻胶去除装置中挡板的另一组装结构示意图。实际应用中,第一防溅挡板3可具有不同的形状以及固定方式,具体地,如图4所示,第一防溅挡板3为靠近基板的顶端与基板呈一定倾斜角度的平板,第一防溅挡板3的该种结构形式可有效阻挡清洗剂通过第一气体喷嘴溅射到基板上的电路图形区域,同样的,如图5所示,第一防溅挡板3靠近基板的顶端还可设置有与基板垂直设置的平板31,同样可以达到防止清洗剂溅射到基板上的电路图形区域的目的。同样的,根据实际的需要,可将第一防溅挡板设置成不同的结构形式,且也可通过其它固定方式固定在第一喷嘴模块上。
本实施例边缘光刻胶去除装置通过在第一气体喷嘴和基板之间设置第一防溅挡板,可有效防止清洗剂溅射到基板上的电路图形区域,减少了因清洗剂溅射到电路图形区域而造成的基板不良。同时,本实施例通过采用狭缝状喷嘴作为第一气体喷嘴,进一步地阻挡了溅射的清洗剂,同时提高了第一气体喷嘴喷射出的氮气的均匀性,提高了清洗剂的吹干效果。此外,本实施例中还通过在排气腔挡板上设置传感器,可有效感应基板距离排气腔挡板的距离,防止基板与排气腔挡板相撞,避免边缘光刻胶清洗过程中产生的基板不良。
图6为本实用新型边缘光刻胶去除装置第二实施例的结构示意图;图7为本实用新型边缘光刻胶去除装置第二实施例的组装示意图。在上述实施例一的基础上,本实施例中喷嘴主体1上还固设有与第一喷嘴模块2对称设置的第二喷嘴模块9,该第二喷嘴模块9可与第一喷嘴模块2具有相同的结构和功能。具体地,该第二喷嘴模块9的上表面设置有用于去除基板4边缘光刻胶的第二清洗剂喷嘴91和第二气体喷嘴92,第二清洗剂喷嘴91垂直于基板4设置,第二气体喷嘴92与基板4呈一倾斜角度设置;第二喷嘴模块9的下表面设置有与第二清洗剂喷嘴91连通的第二清洗剂供给口93和与第二气体喷嘴92连通的第二气体供给口94;第二气体喷嘴92和基板4之间设置有用于防止清洗剂溅射的第二防溅挡板95,该第二防溅挡板95与第二气体喷嘴92的设置方向一致。
本实施例中,第二清洗剂喷嘴可与第一清洗剂喷嘴具有相同的结构,第二气体喷嘴可与第一气体喷嘴具有相同的结构,同样的,第二防溅挡板可与第一防溅挡板具有相同的结构。
实际应用中,为使基板4上下两面边缘的光刻胶均被有效地去除,可将基板4放置在第一喷嘴模块2和第二喷嘴模块9之间,通过两个喷嘴模块上的清洗剂喷嘴和气体喷嘴的作用,同时将基板上下两面边缘的光刻胶去除,提高了去除基板边缘光刻胶的效率。
在实现上述实施例一的技术效果的基础上,本实施例技术方案通过在喷嘴主体上设置相互对称设置的两个喷嘴模块,并在每个喷嘴模块上分别设置清洗剂喷嘴和气体喷嘴,可同时对基板上下表面的边缘光刻胶进行清除,有效提高了去除基板边缘光刻胶的效率。
图8为本实用新型实施例中清洗剂流量计的结构示意图。上述各实施例中,第一清洗剂供给口和/或第二清洗剂供给口还可分别连通有用于调整清洗剂流量的清洗剂流量计10,用于控制第一清洗剂喷嘴和/或第二清洗剂喷嘴喷射出的清洗剂的流量和速度,提高基板边缘光刻胶的清洗效果。此外,清洗剂流量计10上还可设置用于感应清洗剂流量的清洗剂流量上限传感器101和清洗剂流量下限传感器102,其中,清洗剂流量上限传感器101用于感应清洗剂流量计上规定的清洗剂流量的上限流量,清洗剂流量下限传感器102用于感应清洗剂流量计上规定的清洗剂流量的下限流量,同时,清洗剂流量上限传感器101和清洗剂流量下限传感器102还可连接有报警装置。当清洗剂流量上限传感器101感应到清洗剂流量达到规定的上限流量,或清洗剂流量下限传感器102感应到清洗剂流量低于规定的下限流量时,表明清洗剂流量异常,因此,清洗剂流量上限传感器101和清洗剂流量下限传感器102可将反应清洗剂流量异常的信号反馈给报警装置,由报警装置发出警报,相关人员获得警报后可对相应的异常情况进行处理,避免因清洗剂流量异常而造成无法有效的去除边缘光刻胶。
图9为本实用新型实施例中气体流量计的结构示意图。在上述各实施例的基础上,第一气体供给口和/或第二气体供给口也可分别连通有用于调整气体流量的气体流量计20,用于控制第一气体喷嘴和/或第二气体喷嘴喷射出的氮气的流量和速度,保证第一气体喷嘴和/或第二气体喷嘴的喷射出的氮气的均匀性以及流量。此外,气体流量计20上还可设置用于感应气体流量的气体流量上限传感器201和气体流量下限传感器202,其中,气体流量上限传感器201用于感应气体流量流量计上规定的气体流量的上限流量,气体流量下限传感器202用于感应气体流量计上规定的气体流量的下限流量,同时,气体流量上限传感器201和气体流量下限传感器202还可连接有报警装置。当气体流量上限传感器201感应到气体流量达到规定的上限流量,或气体流量下限传感器202感应到气体流量低于规定的下限流量时,表明气体流量异常,因此,气体流量上限传感器201和气体流量下限传感器202可将反应气体流量异常的信号反馈给报警装置,由报警装置发出警报,相关人员获得警报后可对相应的异常情况进行处理,避免因气体流量异常而造成无法有效的去除边缘光刻胶。
可以看出,本实用新型实施例技术方案中,通过设定气体流量计和/或清洗剂流量计,可有效控制清洗基板边缘光刻胶的过程中氮气和清洗剂的流量,使得清洗剂喷嘴喷射出的清洗剂和气体喷嘴喷射出的氮气流量和速度适中,进一步提高了基板边缘光刻胶的去除效果,同时也可有效避免因清洗剂或氮气流量过大而造成的清洗剂溅射不良。
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对其进行限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本实用新型技术方案的精神和范围。

Claims (9)

1、一种边缘光刻胶去除装置,包括固设在喷嘴主体上的第一喷嘴模块,所述第一喷嘴模块上设置有用于去除基板边缘光刻胶的第一清洗剂喷嘴和第一气体喷嘴;所述第一清洗剂喷嘴和第一气体喷嘴分别连通有第一清洗剂供给口和第一气体供给口;其特征在于,所述第一气体喷嘴和所述基板之间设置有用于防止清洗剂溅射的第一防溅挡板,所述第一防溅挡板与所述第一气体喷嘴的设置方向一致。
2、根据权利要求1所述的边缘光刻胶去除装置,其特征在于,所述第一气体喷嘴为狭缝状喷嘴。
3、根据权利要求1所述的边缘光刻胶去除装置,其特征在于,所述第一防溅挡板的宽度大于所述第一气体喷嘴的总宽度。
4、根据权利要求1所述的边缘光刻胶去除装置,其特征在于,所述第一防溅挡板为与所述基板呈一定倾斜角度的平板。
5、根据权利要求4所述的边缘光刻胶去除装置,其特征在于,所述第一防溅挡板靠近所述基板的一端还设置有与所述基板垂直设置的平板。
6、根据权利要求1所述的边缘光刻胶去除装置,其特征在于,还包括固设在所述喷嘴主体上与所述第一喷嘴模块对称设置的第二喷嘴模块;所述第二喷嘴模块上设置有第二清洗剂喷嘴和第二气体喷嘴;所述第二清洗剂喷嘴和第二气体喷嘴分别连通有第二清洗剂供给口和第二气体供给口;所述第二气体喷嘴和所述基板之间设置有用于防止清洗剂溅射的第二防溅挡板,所述第二防溅挡板与所述第二气体喷嘴的设置方向一致。
7、根据权利要求1~6任一所述的边缘光刻胶去除装置,其特征在于,所述喷嘴主体上设置有排气腔,设置在所述排气腔两侧的排气腔挡板上设置有用于感应所述基板位置防止所述基板与排气腔挡板相撞的传感器。
8、根据权利要求1所述的边缘光刻胶去除装置,其特征在于,所述第一清洗剂供给口连通有用于调整清洗剂流量的清洗剂流量计,所述清洗剂流量计上设置有用于感应清洗剂流量的清洗剂流量上限传感器和清洗剂流量下限传感器;或所述第一气体供给口连通有用于控制气体流量的气体流量计,所述气体流量计上设置有用于感应气体流量的气体流量上限传感器和气体流量下限传感器。
9、根据权利要求6所述的边缘光刻胶去除装置,其特征在于,所述第二清洗剂供给口连通有用于调整清洗剂流量的清洗剂流量计,所述清洗剂流量计上设置有用于感应清洗剂流量的清洗剂流量上限传感器和清洗剂流量下限传感器;或所述第二气体供给口连通有用于控制气体流量的气体流量计,所述气体流量计上设置有用于感应气体流量的气体流量上限传感器和气体流量下限传感器。
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