CN102156389A - 维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法，该维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。

Description

维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法

本申请是申请号为200780005788.3，申请日为2006年5月23日，发明名称为“维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及用曝光光束经由光学构件(例如投影光学系统)与液体使衬底曝光的曝光装置的维修技术，以及使用此维修技术的曝光技术及组件制造技术。

背景技术

半导体组件及液晶显示组件等微组件(电子组件)，使用将形成于标线片等掩膜上的图案转印至涂有抗蚀剂等感光材料的晶片等衬底上的、所谓的光刻法加以制造。在此光刻工序中，为了将掩膜上的图案经由投影光学系统转印至衬底上，使用步进重复(step&repeat)方式的缩小投影型曝光装置(所谓的步进器(stepper))、及步进扫描(step&scan)方式的缩小投影型曝光装置(所谓的扫描步进器(scanningstepper))等的曝光装置。

这种曝光装置，为了对应伴随着半导体组件等高集成化导致的图案微细化而年年要求提高的分辨率(解析力)的情况，进行了曝光用光的短波长化及投影光学系统孔径数(NA)的增加(大NA化)。然而，曝光用光的短波长化及大NA化虽能提高投影光学系统的分辨率，但却会导致焦深的窄小化，因此如此下去的话焦深将变得过窄，有曝光动作时聚焦欲度不足之虞。

因此，作为一种实质上缩短曝光波长、且与在空气中相比较使焦深扩大的方法，开发了一种利用液浸法的曝光装置(例如，参照专利文献1)。该液浸法将投影光学系统的下面与衬底表面之间充满水或有机溶媒等液体，在形成液浸区域的状态下进行曝光。据此，利用曝光用光在液体中的曝光的用光波长为空气中的1/n倍(n为液体的折射率，例如为1.2～1.6左右)的特性，来提高解像度且能将焦深扩大至约n倍。

[专利文献1]国际公开第99/49504号小册子

使用上述液浸法进行曝光处理时，一边从规定的液体供应机构将液体供应至投影光学系统与衬底间的液浸区域、一边进行曝光，例如，在衬底的步进移动等时以规定的液体回收机构回收该液浸区域的液体。然而，在使用此液浸法的曝光中，抗蚀剂残渣等的微小异物(微粒)有可能附着于与该液体接触的部分，例如附着于液体供应机构及液体回收机构的液体流路等液体接触的部分。此种附着的异物，有可能会在之后的曝光时再次混入液体中而附着于曝光对象的衬底上，成为转印图案的形状不良等缺陷的原因。

因此，最好是能例如在曝光装置的定期的维修保养等时，以某种方法有效地除去蓄积在该液体供应机构及液体回收机构的液体流路等上的异物。

本发明鉴于上述情况，其目的在提供一种以液浸法进行曝光的曝光装置的有效的维修技术。

此外，本发明的目的在提供一种能容易地应用该维修技术的曝光技术及组件制造技术。另外，本发明的另一目的在于提供一种能容易的进行与液体接触的液体接触部的洗净的洗净技术、曝光技术、及组件制造技术。

发明内容

本发明的第1曝光装置的维修方法，上述曝光装置使用第1液体(1)充满衬底载台(PH等)所保持的衬底(P)与光学构件(2)之间以形成液浸空间，用曝光用光(EL)经由上述光学构件(2)与上述第1液体使上述衬底曝光，所述光装置的维修方法的特征在于包括：移动步骤，与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件(30)对向，与上述衬底载台独立地配置可动载台(MST)；以及洗净步骤，将第2液体(1A)供应到上述液浸空间形成构件与上述可动载台之间来洗净上述液浸空间形成构件。

本发明的第1曝光方法，是用第1液体(1)充满衬底载台(PH等)所保持的衬底(P)与光学构件(2)之间以形成液浸空间，用曝光用光经由上述光学构件(2)与上述第1液体使上述衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：移动步骤，通过与上述衬底载台的交换，与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件(30)对向，配置可动载台(MST)；以及洗净步骤，将第2液体(1A)供应到上述液浸空间形成构件与上述可动载台之间以洗净上述液浸空间形成构件。

根据上述本发明的第1维修方法及曝光方法，由于将该第2液体供应至液浸空间形成构件(喷嘴构件)，因此在以液浸法进行曝光时能将蓄积在液浸空间形成构件的异物的至少一部分与该第2液体一起除去。此时，通过与测量载台或衬底载台更换的可动载台的使用，能有效地进行维修。

本发明的第1曝光装置，是经由光学构件(2)与第1液体(1)用曝光用光(EL)使衬底(P)曝光的曝光装置，其特征在于包括：衬底载台(PH等)，保持上述衬底；液浸空间形成构件(30)，用第1液体(1)充满保持于上述衬底载台的上述衬底与光学构件之间，来形成液浸空间；可动载台(MST)，通过与上述衬底载台的交换，而与上述液浸空间形成构件对向配置；以及洗净机构(62，63A)，其至少一部分设于上述可动载台(MST)，对与上述液浸空间形成构件之间供应第2液体以洗净上述液浸空间形成构件。

通过本发明的第1曝光装置能实施本发明的第1维修方法或曝光方法。此外，本发明的组件制造方法，使用本发明的第1维修方法、曝光方法、或曝光装置。

本发明的第2曝光装置的维修方法，是上述曝光装置用第1液体(1)充满光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸空间，用曝光用光(EL)经由上述光学构件(1)与上述第1液体使上述衬底曝光，所述光装置的维修方法的特征在于包括：洗净步骤，在与用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件(30)的上述第1液体通过口连通的规定空间内，使第2液体振动以洗净上述液浸空间形成构件。

根据本发明的第2维修方法，通过使该第2液体在液浸空间形成构件、例如喷嘴构件内部振动，即能在以液浸法进行曝光时容易的将蓄积在液浸空间形成构件内的异物的至少一部分与第2液体一起去除。因此，能有效地进行例如实施含液浸空间形成构件的该第1液体的供应及回收的机构的维修。本发明的第2曝光方法，使用本发明的第2维修方法。

本发明的第3曝光装置的维修方法，是上述曝光装置用第1液体(1)充满光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸空间，用曝光用光(EL)经由上述光学构件(2)与上述第1液体使上述衬底曝光的曝光装置的维修方法，其特征在于包括：移动步骤，与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件(30)对向配置可动体(MST)；以及洗净步骤，为了洗净上述液浸空间形成构件，从上述可动体朝上述液浸空间形成构件的上述第1液体通过口喷出第2液体。

根据本发明的第3维修方法，通过将该第2液体喷出至液浸空间形成构件、例如喷嘴构件的通过口，即能在以液浸法进行曝光时容易的将蓄积在液浸空间形成构件内的异物的至少一部分与第2液体一起去除。因此，能有效率的进行例如实施含液浸空间形成构件的该第1液体的供应及回收的机构的维修。本发明的第3曝光方法，使用本发明的第3维修方法。

本发明的第2曝光装置，经由光学构件(2)与第1液体(1)以曝光用光(EL)使衬底(P)曝光，其具备：液浸空间形成构件(30)，用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间；液体供应机构(26、27)，对与液浸空间形成构件的第1液体通过口连通的规定空间内供应第2液体；以及加振装置(267A、267B)，使该规定空间内的第2液体振动。

本发明的第3曝光装置，经由光学构件(2)与第1液体(1)以曝光用光(EL)使衬底(P)曝光，其具备：液浸空间形成构件(30)，用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间；可动体(MST)，与液浸空间形成构件对向配置；以及喷出装置(362A、362B)，为了洗净该液浸空间形成构件，从可动体朝液浸空间形成构件的第1液体通过口喷出第2液体。

根据本发明的第2或第3曝光装置，能分别实施本发明的第2或第3维修方法，另外，本发明的第2或第3曝光方法，是使用本发明的第2或第3维修方法。本发明的组件制造方法，包含使用本发明的第2、第3曝光方法或第2、第3曝光装置使衬底曝光的动作，使曝光后衬底显影的动作(S204)，以及对显影后衬底进行加工的动作(S205)。

本发明的第4曝光装置的维修方法，是上述曝光装置用第1液体(1)充满光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸空间，经由上述光学构件(2)与上述第1液体用曝光用光(EL)使上述衬底(P)曝光，所述曝光装置的维修方法的特征在于包括：移动步骤，与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件(30)对向配置可动体；以及洗净步骤，用设置于上述可动体的具可挠性的清扫构件(468)清扫上述液浸空间形成构件。根据本发明的第4维修方法，通过使用清扫构件研磨(清扫)，能用以液浸法进行曝光时容易地将蓄积在液浸空间形成构件、例如顽固的附着而蓄积在喷嘴构件的异物的至少一部分去除。因此，能有效率的进行维修。本发明的第4曝光方法，使用本发明的第4维修方法。本发明的组件制造方法，包含使用本发明的第4曝光方法使衬底曝光的动作(S204)，使曝光后衬底显影的动作(S204)，以及对显影后衬底进行加工的动作(S205)。

本发明的第5曝光装置的维修方法，是上述曝光装置用第1液体(1)充满光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸空间，经由上述光学构件(2)与上述第1液体用曝光用光(EL)使上述衬底曝光的曝光装置的维修方法，其特征在于包括：液浸步骤，与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件(30)对向配置可动体(PH等)，将上述第1液体供应到上述可动体上；以及洗净步骤，使用所供应的气体以便在上述曝光时围绕上述液浸空间，来清扫上述液浸空间形成构件。根据本发明的第5维修方法，由于将混有因该气体而产生微小气泡的液体的液浸空间形成构件供应至例如喷嘴构件，因此能在以液浸法进行曝光时容易的将顽固的附着而蓄积在液浸空间形成构件的异物的至少一部分去除。因此，能有效地进行维修。本发明的第5曝光方法，使用本发明的第5维修方法。本发明的组件制造方法，包含使用本发明的第5曝光方法使衬底曝光的动作(S204)，使曝光后衬底显影的动作(S204)，以及对显影后衬底进行加工的动作(S205)。

本发明的第4曝光装置，用第1液体(1)充满光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸空间，经由光学构件(2)与第1液体用曝光用光(EL)使该衬底曝光，其具备：液浸空间形成构件(30)，用第1液体形成该液浸空间；可动体(MST)，与光学构件(2)对向配置；以及洗净机构(470、168A、168B)，具有配置于该可动体具有可挠性的清扫构件(468)，一边使清扫构件与该液浸空间形成构件的至少一部分接触、一边进行相对移动，以洗净液浸空间形成构件。

本发明的第5曝光装置，用第1液体(1)充满光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸空间，经由光学构件(2)与第1液体以曝光用光(EL)使该衬底曝光，其具备：液浸空间形成构件(30)，用第1液体形成该液浸空间；气体供应机构(593、594)，在该衬底的曝光时以围绕该液浸空间的方式供应气体；可动体(PH等)，与光学构件(2)对向配置；液体供应部(10)，将第1液体经由液浸空间形成构件供应至该可动体上；以及控制装置(CONT)，从该气体供应机构对该可动体上被供应该第1液体的区域供应该气体，以洗净液浸空间形成构件。

通过本发明的第4及或第5曝光装置，能实施本发明的第4及第5维修方法或曝光方法。此外，本发明的组件制造方法，包含使用第4或第5曝光装置使衬底曝光的动作(S204)，使曝光后衬底显影的动作(S204)，以及对显影后衬底进行加工的动作(S205)。

本发明的第6曝光装置的维修方法，该曝光装置用曝光用光(EL)经由光学构件(2)与第1液体(1)使衬底(P)曝光，其特征在于，包含：使用至少一部分设置于与保持衬底的第1可动构件(PH等)不同的第2可动构件(MTB)的洗净构件，来洗净与第1液体接触的液体接触部。本发明的第6曝光方法，使用本发明的第6维修方法。本发明的组件制造方法，包含使用第6曝光方法使衬底曝光的动作(S204)，使曝光后衬底显影的动作(S204)，以及对显影后衬底进行加工的动作(S205)。

本发明的第6曝光装置，用曝光用光(EL)经由光学构件(2)与第1液体(1)使衬底(P)曝光，其特征在于，具备：第1可动构件(PH)，供保持衬底；第2可动构件(MTB)，不同于第1可动构件；以及洗净构件，其至少一部分设于第2可动构件，用于洗净与第1液体接触的液体接触部。

本发明的第7曝光装置，用曝光用光(EL)经由光学构件(2)与第1液体(1)使衬底(P)曝光，其特征在于，具备：可动构件(MTB)，与光学构件对向配置；以及洗净构件(470等)，其至少一部分设于可动构件，一边使与第1液体接触的液体接触部与清扫构件接触、一边相对移动，以洗净液体接触部。本发明的组件制造方法，包含使用第6或第7曝光装置使衬底曝光的动作(S204)，使曝光后衬底显影的动作(S204)，以及对显影后衬底进行加工的动作(S205)。

上述本发明各规定要件后所附括号内的符号，虽然对应显示本发明实施方式的图中的构件，但各符号仅为易于理解本发明而表示发明的要件，本发明并不受限于这些实施方式的构成。

附图说明

图1是表示把本发明第1实施方式的曝光装置的一部分剖开后的概略构成图。

图2是表示图1中的喷嘴构件30的立体图。

图3是表示图2所示的喷嘴构件的仰视图。

图4是表示图1中连接于测量载台MST的洗净液供应部及回收部的部分剖断图。

图5是表示图1的衬底载台PST及测量载台MST的俯视图。

图6是表示测量载台MST从图5的状态移动至投影光学系统PL底面的过程的俯视图。

图7(A)～(D)是表示本发明第1实施方式的洗净步骤的测量台MTB及喷嘴构件30的截面图，示出按照图7(A)～(D)实施本发明的维修方法的情况。

图8是表示连接于本发明第2实施方式的测量载台MST的洗净液供应部及回收部的部分剖断图。

图9是表示本发明第2实施方式的衬底载台PST及测量载台MST的俯视图。

图10是表示测量载台MST从图9的状态移动至投影光学系统PL底面的过程的俯视图。

图11(A)～(D)是表示本发明第2实施方式的洗净步骤的测量台MTB及喷嘴构件30的截面图，示出按照图11(A)～(D)实施本发明的维修方法的情况。

图12是表示本发明第3实施方式的洗净机构的部分剖断图。

图13(A)～(D)是表示本发明第3实施方式的洗净步骤的测量台MTB及喷嘴构件30的截面图，示出按照图13(A)～(D)实施本发明的维修方法的情况。

图14是表示连接于本发明第4实施方式的测量载台MST的洗净液回收部及刷子机构的部分剖断图。

图15是表示本发明第4实施方式的衬底载台PST及测量载台MST的俯视图。

图16是表示测量载台MST从图15的状态移动至投影光学系统PL底面的过程的俯视图。

图17(A)～(D)是表示本发明第4实施方式的洗净步骤的测量台MTB及喷嘴构件30的截面图，示出按照图17(A)～(D)实施本发明的维修方法的情况。

图18是表示本发明第4实施方式的第1变形例的喷嘴构件30的洗净状态的部分剖断图。

图19是表示本发明第4实施方式的第2变形例的喷嘴构件30的洗净状态的部分剖断图。

图20是表示本发明第5实施方式的曝光装置的主要部位的部分剖断图。

图21是表示本发明第6实施方式的曝光装置的衬底载台及测量载台等的俯视图。

图22是表示本发明第6实施方式的变形例的衬底载台及测量载台等的俯视图。

图23是表示微组件的一制造步骤例的流程图。

附图标记说明

1：液体；2：光学元件；10：液体供应机构；11：液体供应部；13、14：供应口；20：液体回收机构；21：液体回收部；24：回收口；25：网状过滤器；26、62：洗净液供应部；30：喷嘴构件；267A、267B：搅拌器；268A、268B：驱动部；60、460、660、760：池部；65：洗净液回收部；468、488、488A：刷子构件；AR1：投影区域；AR2：液浸区域；CONT：控制装置；EL：曝光用光；EX：曝光装置；M：掩膜；P：衬底；PL：投影光学系统；PST：衬底载台；MST：测量载台；MTB：测量台。

具体实施方式

(第1实施方式)

以下，参照图式说明本发明的一个最佳实施方式例。

图1是表示第1实施方式的曝光装置的EX的概略构成图，在图1中，曝光装置EX具备：用于支撑形成有转印用图案的掩膜M的掩膜载台RST，支撑曝光对象的衬底P的衬底载台PST，用曝光用光EL照明掩膜载台RST所支撑的掩膜M的照明光学系统IL，将用曝光用光EL照明的掩膜M的图案像投影到衬底载台PST所支撑的衬底上P上的投影区域AR1的投影光学系统PL，形成有对准用基准标记等的测量载台MST，统筹控制曝光装置EX全体的动作的控制装置CONT，用于适用液浸法的液浸系统(液浸机构)。本例的液浸系统，包含：对衬底P上及测量载台MST上供应液体1的液体供应机构10、与回收供应至衬底P上及测量载台MST上的液体1的液体回收机构20。

曝光装置EX，至少在将掩膜M的图案像转印至衬底P上的期间，通过液体供应机构10供应的液体1在包含投影光学系统PL的投影区域AR1的衬底P上的部分区域、或衬底P上的部分区域及其周围区域(局部的)形成液浸区域AR2。具体而言，曝光装置EX，采用在投影光学系统PL的像面侧终端部的光学元件(例如底面大致平坦的透镜或平行平面板等)2、与配置在该像面侧的衬底P表面之间充满液体1的局部液浸方式，用通过掩膜M的曝光用光EL，经由投影光学系统PL及投影光学系统PL与衬底P间的液体1使衬底P曝光，据此将掩膜M的图案转印曝光至衬底P。另外，在本例中，使用形成包含从投影光学系统PL射出的曝光用光EL的光路空间的液浸空间的液浸空间形成构件(包含例如喷嘴构件30)来进行液浸曝光。

在本例中，作为曝光装置EX，把使用一边使掩膜M与衬底P同步移动于规定的扫描方向、一边将形成在掩膜M上的图案曝光至衬底P的扫描型曝光装置(所谓的扫描步进器(scanning stepper))的情况为例进行说明。以下，取平行于投影光学系统PL的光轴AX的方向为Z轴，垂直于Z轴的平面内沿掩膜M与衬底P的同步移动方向(扫描方向)为X轴，沿垂直于该扫描方向的方向(非扫描方向)为Y轴来进行说明。另外，绕X轴、Y轴及Z轴(倾斜)的方向分别设为θX、θY、及θZ方向。本文中的衬底，包含例如在硅晶片等的半导体晶片等的基材上涂有感光材(以下，适当的称抗蚀剂)，所谓的感光膜包含涂有其它保护膜(面涂膜)等各种膜。掩膜则包含形成有应缩小曝光至衬底上的组件图案的标线片，例如在玻璃板等的透明板构件上使用铬等遮光膜形成规定的图案。此透射型掩膜，并不限于以遮光膜形成图案的二元掩膜，也包含例如半调型、或空间频率调变型等的移相型掩膜等。在此实施方式中，衬底P使用例如在直径200mm至300mm程度的圆板状半导体晶片上，例如以未图示的涂布显影装置涂以规定厚度(例如200nm左右)的感光性材料的抗蚀剂，并根据需要在其上涂有反射防止膜或面涂膜者。

首先，照明光学系统IL是使用曝光用光EL照明掩膜载台RST所支撑的掩膜M，具有：用于使未图示的光源射出的光束照度均匀化的光学积分器、中继透镜系统、将曝光用光EL在掩膜M上的照明区域设定为狭缝状的可变视野光阑等。掩膜M上的规定照明区域由照明光学系统IL以均匀照度分布的曝光用光EL照明。从照明光学系统IL射出的曝光用光EL，使用例如从水银灯射出的紫外线带的亮线(i线等)、KrF准分子激光(波长248nm)等的远紫外光(DUV光)、或ArF准分子激光(波长193nm)、F₂激光(波长157nm)等的真空紫外光(VUV光)等。在本例中，曝光用光EL使用ArF准分子激光。

另外，掩膜载台RST用于支撑掩膜M，能在未图示的掩膜座上垂直于投影光学系统PL的光轴AX的平面内、即XY平面内进行2维移动及θZ方向的微小旋转。掩膜载台RST，例如用线性马达等的掩膜载台驱动装置RSTD驱动。掩膜载台驱动装置RSTD用控制装置CONT控制。在掩膜载台RST上设有反射镜55A，在反射镜55A的对向位置设有激光干涉仪56A。实际上，激光干涉仪56A构成为具有3轴以上的测长轴的激光干涉仪系统。掩膜载台RST(掩膜M)的2维方向位置以及旋转角由激光干涉仪56A实时加以测量，测量结果被输出到控制装置CONT。控制装置CONT根据该测量结果驱动掩膜载台驱动装置RSTD，由此进行掩膜载台RST所支撑的掩膜M的移动及定位。另外，反射镜55A不仅是平面镜也可包含角隅棱镜(复归反射器)，或者，也可取代反射镜55A使用例如对掩膜载台RST的端面(侧面)实施镜面加工所形成的反射面。

投影光学系统PL将掩膜M的图案以规定投影倍率β(β例如为1/4、1/5等的缩小倍率)投影曝光到衬底P上，由包含设于衬底P侧(投影光学系统PL的像面侧)终端部的光学元件2的多个光学元件所构成，这些光学元件由镜筒PK支撑。另外，投影光学系统PL不限于缩小系统，也可以是等倍系统及放大系统中的任一个。此外，投影光学系统PL前端部的光学元件2以能装拆(更换)的方式设于镜筒PK，而液浸区域AR2的液体1则接触于光学元件2。虽然没有图示，投影光学系统PL经由防振机构装载于以3根支柱支撑的镜筒平台，但也可如国际公开第2006/038952号小册子所公开的那样，将投影光学系统PL悬吊支撑于投影光学系统PL上方所配置的未图示的主框架构件、或前述掩膜基座等。

在本例中，使用纯水作为液体1。纯水不仅能使ArF准分子激光穿透，例如从水银灯射出的紫外线带的亮线及KrF准分子激光等的远紫外线(DUV光)也能穿透。光学元件2用萤石(CaF₂)形成。由于萤石与水的亲和性高，因此能使光学元件2的液体接触面2a大致完全与液体1接触。另外，光学元件2也可以是与水的亲和性高的石英等。

另外，衬底P的抗蚀剂，例如具有排斥液体1的疏液性的抗蚀剂。如前所述，也可根据需要在抗蚀剂上涂布保护用的面涂层。在本例中，将排斥液体1的性质称为疏液性。当液体1为纯水时，所谓疏液性即指疏水性。另外，于衬底载台PST上部固定有例如以真空吸附方式保持衬底P的衬底保持具PH。此外，衬底载台PST具备：控制衬底保持具PH(衬底P)的Z方向位置(聚焦位置)及θX、θY方向的倾斜角的Z载台52，以及支撑该Z载台52并移动的XY载台53，该XY载台53例如经由空气轴承装载在底座54上以便可以在与XY平面平行的导引面(与投影光学系统PL的像面实质上平行的面)上沿X方向、Y方向移动。衬底载台PST(Z载台52及XY载台53)用例如线性马达等的衬底载台驱动装置PSTD驱动。衬底载台驱动装置PSTD则用控制装置CONT控制。在本例中，将衬底保持具形成于能在Z、θX及θY方向可动的台(table)，将其总称为衬底保持具PH。此外，也可将台与衬底保持具分开构成，例如以真空吸附等方式将衬底保持具固定于台。另外，Z载台52，也可例如以衬底保持具PH(台)、以及将此衬底保持具PH(台)驱动于Z、θX及θY方向的致动器(例如音圈马达等)来构成。

在衬底载台PST上的衬底保持具PH设有反射镜55B，在反射镜55B的对向位置设有激光干涉仪56B。反射镜55B实际上如图5所示，由X轴反射镜55BX及Y轴反射镜55BY所构成，激光干涉仪56B则由X轴激光干涉仪56BX及Y轴激光干涉仪56BY所构成。回到图1，衬底载台PST上的衬底保持具PH(衬底P)的2维方向位置及旋转角，用激光干涉仪56B加以实时测量，测量结果输出到控制装置CONT。控制装置CONT，根据该测量结果来驱动衬底载台驱动装置PSTD，据此进行衬底载台PST所支撑的衬底P的移动及定位。另外，也可将激光干涉仪56B设计成也能测量衬底载台PST的Z轴方向位置、及θX、θY方向的旋转信息，其详细状况例如已公开于特表2001-510577号公报(对应国际公开第1999/28790号小册子)。此外，也可取代反射镜55B，使用把衬底载台PST或衬底保持具PH的侧面进行镜面加工所形成的反射镜。

另外，在衬底保持具PH上，以围绕衬底P的方式设有可更换的环状、平面的疏液性板件97。作为疏液处理，例如可以例举使用具有疏液性材料的单层或多层的薄膜涂层处理。作为具有疏液性的材料，例如有四氟乙烯(铁氟龙(注册商标))等的氟系树脂材料、丙烯系树脂材料、硅系树脂材料、或聚乙烯等的合成树脂材料。在板件97的上面是与衬底保持PH所保持的衬底P表面大致同高的平坦面。此处，衬底P的边缘与板件97之间虽有0.1～1mm的间隙，但在本例中，由于衬底的抗蚀剂为疏液性且液体1具有表面张力，因此几乎不会产生液体1流入该间隙的情形，即使进行衬底P周缘附近的曝光，也能将液体1保持在板件97与投影光学系统PL之间。另外，也可在衬底保持具PH上设置用于将流入至板件97与衬底P间的间隙的液体1排出至外部的吸引装置(未图标)。因此，衬底P的抗蚀剂(或面涂层)不一定须具有疏液性。此外，本例中虽于衬底保持具PH设有板件97，但也可对围绕衬底P的衬底保持具PH的上面施以疏液处理而形成为平坦面。

[液体的供应及回收机构的说明]

其次，图1的液体供应机构10将规定液体1供应到衬底P上，其具备：可送出液体1的液体供应部11、以及一端部连接于液体供应部11的供应管12。液体供应部11，具备：收容液体1的储液槽、过滤部、以及加压泵等。另外，液体供应装置11不需具备储液槽、过滤部、加压泵等的全部，至少一部分例如可用设置有曝光装置EX的工厂等的设备来代用。

液体回收机构20用于回收供应至衬底P上的液体1，具备：可回收液体1的液体回收部21、一端部连接于液体回收部21的回收管22、连结于回收管22的供应管27、以及连接于供应管27的端部用于供应规定洗净液的洗净液供应部26。在回收管22及供应管27的途中分别设计阀23及28。液体回收部21，例如具备真空泵等的真空系统(吸引装置)、以及收容所回收液体1的储液槽等。洗净液供应部26具备收容洗净液体的储液槽、以及加压泵等。关闭回收管22侧的阀23、打开供应管27侧的阀28，即能从洗净液供应部26经由回收管27将洗净液供应到回收管22。此外，液体回收机构20不需具备真空系统、储液槽等的全部，至少一部分例如可以用设置有曝光装置EX的工厂等的设备来代用。

作为洗净液，可使用不同于液体1的水与稀释剂的混合液、γ-丁丙酯(γ-Butyrolactone)、或异丙醇(IPA)等的溶剂。不过，也可使用液体1来作为该洗净液。另外，也可将来自洗净液供应部26的供应管27连接于与液体供应部11连通的供应管12。在这种情况下，可与液体1的供应流路(例如供应管12等)分开独立地将洗净液供应到液浸区域(液浸空间)。在投影光学系统PL终端部的光学元件2附近，配置有作为流路形成构件的喷嘴构件30。喷嘴构件30是在衬底P(衬底载台PST)上方围绕光学元件2周围设置的环状构件，经由未图示的支撑构件被支撑于立柱机构(未图示)。在投影光学系统PL的投影区域AR1位于衬底P上的状态，喷嘴构件30具备配置成与该衬底P表面对向的第1供应口13与第2供应口14(参照图3)。另外，喷嘴构件30在其内部具有供应流路82A、82B(参照图3)。供应流路82A的一端连接于第1供应口13，在该供应流路82A的中途，经由供应流路82B连接于第2供应口14(参照图3)，供应流路82A的另一端部则经由供应管12连接于液体供应部11。再者，喷嘴构件30具备配置成与衬底P表面对向的矩形框状回收口24(参照图3)。

图2是喷嘴构件30的概略立体图。如图2所示，喷嘴构件30是围绕投影光学系统PL终端部的光学元件2周围设置的环状构件，举一例而言，具备第1构件31、与配置在第1构件31上部的第2构件32。第1、第2构件31及32分别为板状构件，在其中央部具有能配置投影光学系统PL(光学元件2)的贯通孔31A及32A。

图3是图2的喷嘴构件30中、下层的第1构件31的仰视图，在图3中，形成于其上的第2构件32的供应流路82A、82B以及连接于供应流路82A的供应管12用双点连线表示。另外，喷嘴构件30的第1构件31，具备：形成在投影光学系统PL的光学元件2的+X方向侧、将液体1供应到衬底P上的第1供应口13，以及形成在光学元件2的-X方向侧、将液体1供应到衬底P上的第2供应口14。供应口13及14配置成在X方向(衬底P的扫描方向)夹着投影区域AR1。另外，供应口13及14是分别贯通第1构件31的贯通孔，虽在Y方向为细长的矩形，但也可以是从投影区域AR1的中心往外侧扩张的圆弧状等。

另外，在第1构件31中形成有：配置成围绕投影光学系统PL的光学元件2(投影区域AR1)的矩形(也可是圆形等)框状的回收口24、以及用于连通回收口24与回收管22的回收流路84。回收口24是形成于第1构件31底面的槽状凹部，且相对光学元件2设置在比供应口13、14更外侧。供应口13、14与衬底P间的间隙、以及回收口24的与衬底P间的间隙，例如设置成大致相同。此外，也嵌有即形成有多数小孔而构成网眼状的多孔构件网状过滤器25以便覆盖回收口24。待充满液体1的液浸区域AR2形成在用回收口24所围矩形(也可以是圆形等)区域的内侧以便包含投影区域AR1，且在扫描曝光时局部地形成在衬底P上的一部分(或包含衬底P上的一部分)。喷嘴构件(流路形成构件)30，由于用液体1充满光学元件2与衬底P之间，来形成含曝光用光EL的光路空间的局部性液浸空间(相当于液浸区域AR2)，因此也称为液浸空间形成构件、或confinement member(限制构件)等。

图2的喷嘴构件30的第1构件31、第2构件32、以及图3的网状过滤器25，分别用易与液体1亲和的亲液性材料、例如不锈钢(SUS)或钛等所形成。因此，在图1中，液浸区域AR2中的液体1，在通过设于喷嘴构件30的回收口24的网状过滤器25后，经回收流路84及回收管22圆滑的被回收至液体回收部21。此时，在抗蚀剂残渣等异物中，大于网状过滤器25的网眼的异物将会残留在其表面。

在图3中，本例的液体的回收口24虽为矩形或圆形框状，但也可如双点连线所示，使用在X方向夹着供应口13、14而配置的2个矩形(或圆弧状等)回收口29A及29B、以及在Y方向夹着光学元件2而配置的2个矩形(或圆弧状等)回收口29C及29D所构成的回收口，在各回收口29A～29D配置网状过滤器来代之。另外，回收口29A～29D的数量可为任意。此外，也可例如国际公开第2005/122218号小册子所公开的，使用双重的回收口29A～29D与回收口24来回收液浸区域AR2的液体1。再者，也可在供应口13、14配置用于防止液浸区域AR2内的异物进入喷嘴构件30内部的网状过滤器。相反的，例如在回收管22内附着异物的可能性低时，并不一定必须设置网状过滤器。

另外，上述实施方式所使用的喷嘴构件30，并不限于上述构造，也可使用例如欧洲专利申请公开第1420298号说明书、国际公开第2004/055803号小册子、国际公开第2004/057589号小册子、国际公开第2004/057590号小册子、国际公开第2005/029559号小册子(对应美国专利申请公开第2006/0231206号)所记载的流路形成构件等。

另外，在本例中，液体的供应口13、14与回收口24虽设在同一喷嘴构件30，但供应口13、14与回收口24也可设于不同构件(喷嘴构件等)。例如，可仅将供应口设于其它构件，或仅将回收口设于其它构件。进而，也可例如国际公开第2005/122218号小册子所公开的，将液体回收用的第2回收口(nozzle)设在喷嘴构件30的外侧。此外，在图1中，也可使供应口13及14分别连通于不同的液体供应部，从供应口13及14以能彼此独立控制控制量的状态将液体1供应到液浸区域AR2。

另外，供应口13、14也可不与衬底P对向配置。进而，本例的喷嘴构件30的下面虽设定为比投影光学系统PL的下端面(射出面)更接近像面侧(衬底侧)，但也可例如将喷嘴构件30的下面设定为与投影光学系统PL的下端面相同高度(Z位置)。此外，也可将喷嘴构件30的一部分(下端部)以不遮蔽曝光用光EL的方式潜入到投影光学系统PL(光学元件2)的下侧。

如上所述，喷嘴构件30分别构成液体供应机构10及液体回收机构20的一部分。即，喷嘴构件30是液浸系统的一部分。另外，设于回收管22及供应管27的阀23及28分别开闭回收管22及供应管27的流路，其动作用控制装置CONT加以控制。在回收管22的流路开放期间，液体回收部21能通过回收口22从液浸区域AR2吸引回收液体1，在阀28为关闭状态下，用阀23封闭回收管22的流路时，即停止经由回收口24吸引回收液体1。之后，通过打开阀28，即能从洗净液供应部26经供应管27、回收管22及网状过滤器25而通过喷嘴构件30的回收口24流过洗净液。

另外，也可将液浸机构的一部分、例如至少将喷嘴构件30悬吊支撑于保持投影光学系统PL的主框架(例如含前述镜筒平台)，或不同于主框架的其它框架构件。或者，如前所述当投影光学系统PL用悬吊方式支撑时，可投影光学系统PL一体悬吊支撑喷嘴构件30，也可与投影光学系统PL分开独立地将喷嘴构件30设于测量框架，若为后者的情况下，投影光学系统PL可不以悬吊方式支撑。

在图1中，液体供应部11及洗净液供应部26的液体供应用控制装置CONT控制。控制装置CONT能分别独立控制液体供应部11及洗净液供应部26对衬底P上每单位时间的液体供应量。从液体供应部11送出的液体1，经由供应管12及喷嘴构件30的供应流路82A、82B，从喷嘴构件30(第1构件31)下面与衬底P对向设置的供应口13、14(参照图3)被供应至衬底P上。

另外，液体回收部21的液体回收动作用控制装置CONT控制。控制装置CONT能控制液体回收部21每单位时间的液体回收量。从喷嘴构件30下面与衬底P对向设置的回收口24经由网状过滤器25回收的衬底P上的液体1，经喷嘴构件30的回收流路84及回收管22被回收至液体回收部21。

[测量载台的说明]

在图1中，测量载台MST，具备：在Y方向为细长的长方形、被驱动于X方向(扫描方向)的X载台181，在其上例如经由空气轴承所装载的调平台188，以及装载于此调平台188上作为测量单元的测量台MTB。作为一个例子，测量台MTB经由空气轴承装载于调平台188上，但也可将测量台MTB与调平台188一体化。X载台181例如经由空气轴承装载于底座54上能于X方向移动自如。

图5是表示图1中的衬底载台PST及测量载台MST的俯视图，在此图5中，在Y方向(非扫描方向)夹着底座54，与X轴平行地设有在各自的内面于X方向以规定排列配置有多个永久磁铁的X轴固定件186及187，于固定件186及187之间分别经由含线圈的移动件182及183，与Y轴方向大致平行地配置有在X方向移动自如的Y轴滑件180。并沿Y轴滑件180配置于Y方向移动自如的衬底载台PST，由衬底载台PST内的移动件、与Y轴滑件180上的固定件(未图示)构成将衬底载台PST驱动于Y方向的Y轴线性马达，由移动件182及183及与对应的固定件186及187构成分别将衬底载台PST驱动于X方向的一对X轴线性马达。这些X轴、Y轴线性马达等，相当于图1的衬底载台驱动装置PSTD。

另外，测量载台MST的X载台181经由在固定件186及187之间分别包含线圈的移动件184及185配置成能在X方向移动自如，由与移动件184及185对应的固定件186及187构成分别将测量载台MST驱动于X方向的一对X轴线性马达。该X轴线性马达在图1中表示为测量载台驱动装置TSTD。

在图5中，在X载台181的-X方向端部，以和Y轴大致平行、在Z方向重迭且按顺序对向于内面的方式，固定有截面形状为“コ”字形的固定件167和平板状固定件171，所述固定件167为了在Z方向产生相同磁场而配置有多个永久磁铁，所述固定件171包含大致沿X轴方向卷绕(排列)的线圈，配置于下方固定件167内、于测量台MTB的Y方向分离的2处分别固定有包含沿Y轴卷绕(排列)的线圈的移动件166A及166B，为了在Z方向夹着上方固定件171、在测量台MTB固定有截面形状为“コ”字形的固定件170，所述固定件170配置有在Y方向以规定排列配置的多个永久磁铁。由下方固定件167与移动件166A及166B分别构成将测量台MTB相对X载台181微驱动于X方向及θz方向的X轴音圈马达168A及168B(参照图1)，由上方的固定件171与移动件170构成相对X载台181将测量台MTB驱动于Y方向的Y轴线性马达169。

另外，在测量台MTB上的-X方向及+Y方向分别固定有X轴反射镜55CX及Y轴反射镜55CY，以和反射镜55CX在-X方向对向的方式配置有X轴激光干涉仪56C。反射镜55CX、55CY在图1中作反射镜55C显示。激光干涉仪56C是多轴激光干涉仪，由激光干涉仪56C随时测量测量台MTB的X方向位置、及θZ方向的旋转角度等。另外，也可取代反射镜55CX、55CY而使用例如对测量载台MST的侧面等施以镜面加工所形成反射面。

另一方面，在图5中，Y方向位置测量用的激光干涉仪56BY共用于衬底载台PST及测量载台MST。即，X轴的2个激光干涉仪56BX及56C的光轴，通过投影光学系统PL的投影区域AR1的中心(本例中与图1的光轴AX一致)与X轴平行，Y轴激光干涉仪56BY的光轴则通过其投影区域的中心(光轴AX)与Y轴平行。因此，通常，为进行扫描曝光，在将衬底载台PST移动至投影光学系统PL的下方时，激光干涉仪56BY的激光束照射于衬底载台PST的反射镜55BY，由激光干涉仪56BY测量衬底载台PST(衬底P)的Y方向位置。此外，例如为测量投影光学系统PL的成像特性等，在将测量载台MST的测量台MTB移动至投影光学系统PL的下方时，激光干涉仪56BY的激光束照射于测量台MTB的反射镜55CY，由激光干涉仪56BY测量测量台MTB的Y方向位置。如此，即能恒以投影光学系统PL的投影区域的中心为基准，高精度地测量衬底载台PST及测量台MTB的位置，而能减少高精度且昂贵的激光干涉仪的数量，降低制造成本。

此外，沿衬底载台PST用的Y轴线性马达及测量台MTB用的Y轴线性马达169，分别配置有光学方式等的线性编码器(未图标)，在激光干仪56BY的激光束未照射反射镜55BY或55CY的期间，衬底载台PST或测量台MTB的Y方向位置则分别用上述线性编码器来测量。

回到图1，测量台MTB的2维方向位置及旋转角用激光干涉仪56C及图5的激光干涉仪56BY(或线性编码器)来测量，测量结果被送至控制装置CONT。控制装置CONT根据该测量结果驱动测量载台驱动装置TSTD、线性马达169、以及音圈马达168A、168B，以此进行测量载台MST中测量台MTB的移动或定位。

另外，调平台188，具备能分别以例如气缸或音圈马达方式控制Z方向位置的3个Z轴致动器，通常，以调平台188控制测量台MTB的Z方向位置、θX方向、θY方向的角度，以使测量台MTB的上面与投影光学系统PL的像面对焦。因此，在喷嘴构件30附近，设有用于测量投影区域AR1内及其附近的衬底P上面等被检测面的位置的自动聚焦传感器(未图示)，根据此自动聚焦传感器的测量值，由控制装置CONT控制调平台188的动作。再者，虽未图示，还设有用于维持调平台188相对X载台181的X方向、Y方向、θZ方向的位置的致动器。

另外，自动聚焦传感器通过在其多个测量点分别测量被检测面的Z方向位置信息，也检测θX方向、θY方向的倾斜信息(旋转角)，但也可将该多个测量点的至少一部分设定在液浸区域AR2(或投影区域AR1)内，或者，也可将全部设定在液浸区域AR2的外侧。另外，例如能用激光干涉仪56B、56C测量被检测面的Z轴、θX及θY方向的位置信息时，也可不设置能在衬底P的曝光动作中测量其Z轴方向的位置信息的自动聚焦传感器，也可作成至少在曝光动作中使用激光干涉仪55B、55C的测量结果来进行被检测面于Z轴、θX及θY方向的位置控制。

本例的测量台MTB，具备用于进行涉及曝光的各种测量的测量器类(测量用构件)。即，测量台MTB具备：固定线线马达169的移动件等及反射镜55C的测量台本体159，以及固定在此上面、例如由石英玻璃等低膨胀率的光透射性材料所构成的板件101。此板件101的全表面形成有以铬膜所形成的遮光膜102(参照图6)，随处设有测量器用的区域、以及特开平5-21314号公报(对应美国专利第5243195号)等所公开的形成有多个基准标记的基准标记区域FM。

如图5所示，在板件101上的基准标记区域FM，形成有图1的掩膜用对准传感器90用的一对基准标记FM1、FM2、以及衬底用对准传感器ALG用的基准标记FM3。将这些基准标记的位置用对应的对准传感器分别测量，就能测量出投影光学系统PL的投影区域AR1的投影位置与对准传感器ALG的检测位置间的间隔(位置关系)的基准线(base line)量。在此基准线量的测量时，在板件101上也形成液浸区域AR2。此外，对准传感器90被用于掩膜M的标记与基准标记FM1、FM2的位置关系的检测，对准传感器ALG则用于衬底P上的对准标记及基准标记FM3的位置信息的检测。本例的对准传感器90、ALG虽分别用图像处理方式进行标记的检测，但也可是其它方式、例如检测通过同调光束的照射而从该标记产生的衍射光的方式等。

在板件101上的测量器用区域中，形成有各种测量用开口图案。作为此测量用开口图案，例如有空间像测量用开口图案(例如狭缝状开口图案62X、62Y)、照明不均测量用针孔开口图案、照度测量用开口图案、以及液面像差测量用开口图案等，在这些开口图案底面侧的测量台本体159内，配置有由对应测量器用光学系统及光电传感器构成的测量器。

该测量器的一个例子，例如是特开昭57-117238号公报(对应美国专利第4465368号说明书)等所公开的照度不均传感器，例如特开2002-14005号公报(对应美国专利申请公开第2002/0041377号说明书)等所公开的用于测量由投影光学系统PL所投影的图案空间像(投影图像)的光强度的空间像测量装置61，例如特开平11-16816号公报(对应美国专利申请公开第2002/0061469号说明书)等所公开的照度监视器，以及例如国际公开第99/60361号小册子(对应欧洲专利第1079223号说明书)等所公开的波面像差测量器。

另外，在本例中，对应于进行经由投影光学系统PL与液体1由曝光用光EL使衬底P曝光的液浸曝光，在利用曝光用光EL的测量中所使用的上述照度不均传感器、照度监视器、空间像测量器、波面像差测量器等，则经由投影光学系统PL及液体1来接收曝光用光EL。因此，在板件101表面涂有疏液涂层。

另外，在图5中，在测量台MTB上，形成有由大致矩形的凹部构成、用于暂时收容洗净液的池部60。池部60略大于图3的喷嘴构件30底面的大小。在测量台MTB，如图4所示，连接有：用于对池部60供应与从图1洗净液供应部26所供应的洗净液相同的洗净液的另一洗净液供应部62、以及用于回收该池部60内的洗净液的洗净液回收部65。

在测量台MTB的截面的图4中，池部60是形成在测量台本体159上面的凹部，配合池部60的大小于板件101也形成有开口101a。从池部60底面至测量台本体159侧面形成有洗净液的流路85，流路85经由具有可挠性的配管63A连结于洗净液供应部62，在配管63A经由具有可挠性的配管63B连结洗净液回收部65。举一例而言，洗净液供应部62具备收容洗净液的储液槽及加压泵等，洗净液回收部65具备真空泵等的真空系统(吸引装置)以及收容所回收的洗净液的储液槽等。再者，在配管63A及63B的途中分别装有开关用的阀64A及64B，阀64A、64B的开关、洗净液供应部62、以及洗净液回收部65的动作由控制部61控制。控制部61根据来自图1的控制装置CONT的控制信息进行对池部60的洗净液供应及回收。具体而言，将洗净液供应到池部60时关闭阀64B而打开阀64A，从池部60回收洗净液时则打开阀64B而关闭阀64A。

另外，在池部60的底面中央，设置有例如压电陶瓷(钛酸钡系或锆钛酸铅系(所谓的PZT)等)或铁素体振子(磁致伸缩型振子)等的超音波振子66，超音波振子66的振荡动作也由控制部64控制。对池部60供应洗净液进行图1的喷嘴构件30的洗净时，根据需要进一步从超音波振子66对洗净液内产生例如100KHz～1MHz程度的超音波，能够提高洗净效果。

另外，如图1所示，在液体回收机构20中设有洗净液供应部26的情况下，也可省略图4的洗净液供应部62。此外，也可将用于收容洗净液供应部62内的洗净液的储液槽作成装拆自如的匣式容器，将用洗净液回收部62所回收的洗净液送回该匣式容器。另外，也可将洗净液供应部62及洗净液回收部65的各自的至少一部分，以例如设置有曝光装置EX的工厂等的设备来加以代用。另外，使池部60内的洗净液振动的构件并不限于超音波振子，也可使用例如后述的搅拌器等。

[曝光步骤的说明]

在图1中，在衬底P上设定有多个照射区域，本例的控制装置CONT一边监测激光干涉仪56B的输出一边移动衬底载台PST，以步进扫描(step&scan)方式按顺序使多个照射区域曝光，以便相对投影光学系统PL的光轴AX(投影区域AR1)使衬底P沿规定路径前进。即，在曝光装置EX进行的扫描曝光时，在投影光学系统PL的矩形投影区域AR1投影掩膜M的部分图案像，掩膜M相对投影光学系统PL以速度V移动于X方向，与此同步的，衬底P经由衬底载台PST以速度β·V(β为投影倍率)移动于X方向。在衬底P上的一个照射区域的曝光结束后，通过衬底P的步进移动，移动至下一照射区域的扫描开始位置，然后，如图5所室，以步进扫描方式一边移动衬底P、一边依序进行对各照射区域的扫描曝光处理。

衬底P的曝光处理中，控制装置CONT驱动液体供应机构10，进行对衬底P上的液体供应动作。从液体供应机构10的液体供应部11送出的液体1在流通过供应管12后，经形成在喷嘴构件30内部的供应流路82A、82B供应至衬底P上。供应至衬底P上的液体1，配合衬底P的动作流过投影光学系统PL的下面。例如，在一照射区域的曝光中衬底P移动于+X方向时，液体1与衬底P往相同的+X方向、与衬底P大致相同速度，流过投影光学系统PL的下面。在此状态下，从照明光学系统IL射出、通过掩膜M的曝光用光EL照射至投影光学系统PL的像面侧，据此，掩膜M的图案经由投影光学系统PL及液浸区域AR2的液体1曝光至衬底P。控制装置CONT在曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧时，即在衬底P的曝光动作中，进行用液体供应机构10对衬底P上的液体1的供应。在曝光动作中持续用液体供应机构10供应液体1而良好的形成液浸区域AR2。另一方面，控制装置CONT在曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧时，即在衬底P的曝光动作中，进行用液体回收机构20对衬底P上的液体1的回收。在曝光动作中(曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧时)，通过持续进行液体回收机构20对衬底P上的液体1的回收，能抑制液浸区域AR2的扩大。

在本例中，在曝光动作中，液体供应机构10用供应口13、14同时进行从投影区域AR1的两侧对衬底P上的液体1的供应。据此，从供应口13、14供应至衬底P上的液体1，能良好的扩散至投影光学系统PL终端部的光学元件2的下端面与衬底P之间、以及喷嘴构件30(第1构件31)下面与衬底P之间，形成至少比投影区域AR1范围大的液浸区域AR2。另外，假设供应口13及14连接于其它液体供应部的情况下，也可就扫描方向，将从投影区域AR1前方供应的每单位时间的液体供应量，设定为多于从其相反侧供应的液体供应量。

另外，也可不在曝光动作中进行液体回收机构20的液体1的回收动作，而在曝光结束后，开放回收管22的流路来回收衬底P上的液体1。举一例而言，可仅在衬底P上的某一照射区域的曝光结束后、至下一照射区域的曝光开始前的部分期间(衬底P的步进移动期间的至少一部分)，用液体回收机构20进行衬底P上液体1的回收。

控制装置CONT，于衬底P的曝光中，持续以液体供应机构10进行液体1的供应。藉持续进行液体1的供应，不仅能以液体1良好的将投影光学系统PL与衬底P之间予以充满，也能防止产生液体1的振动(所谓的水锤现象)。以此方式，即能对衬底P的所有照射区域以液浸法进行曝光。

另外，例如在衬底P的更换中，控制装置CONT，使测量载台MST移动至与投影光学系统PL的光学元件2对向的位置，在测量载台MST上形成液浸区域AR2。此时，在使衬底载台PST与测量载台MST接近的状态下移动，通过与一载台的更换将另一载台与光学元件2对向配置，来在衬底载台PST与测量载台MST之间移动液浸区域AR2。控制装置CONT在测量载台MST上形成有液浸区域AR2的状态下，使用装载于测量载台MST的至少一个测量器(测量构件)，进行与曝光相关的测量(例如基准线测量)。据此，能取代衬底P的液浸曝光所需的信息(例如基准线量、或曝光用光EL的照度等)。另外，关于在衬底载台PST与测量载台MST之间移动液浸区域AR2的动作，以及衬底P更换中的测量载台MST的测量动作的详细情形，已公开于国际公开2005/074014号小册子(对应欧洲专利申请公开第1713113号说明书)、以及国际公开第2006/013806号小册子等。此外，具备衬底载台与测量载台的曝光装置，例如已公开于日本特开平11-135400号公报(对应国际公开第1999/23692号小册子)、特开2000-164504号公报(对应美国专利第6897963号)。此处，在指定国及选择国的国内法令允许的范围下，援用美国专利第6897963号等的公开作为本说明书的一部分。

[洗净步骤的说明]

如在上述的曝光步骤中，当图1的衬底P与液浸区域AR2的液体1接触时，会有衬底P的一部分成分溶解至液体1中的情形。例如，作为衬底P上的感光性材料而使用化学增幅型抗蚀剂的情形时，该化学增幅型抗蚀剂，包含基底树脂、基底树脂中所含的光酸产生剂(PAG：Photo Acid Generator)以及被称为“Quencher”的胺系物质。当此种抗蚀剂接触液体1时，抗蚀剂的一部分成分，具体而言，其中的PAG及胺系物质等会有溶解至液体1中的情形。另外，在衬底P的基材本身(例如硅衬底)与液体1接触时，也会因构成该基材的不同，而有该基材的一部分成分(硅等)溶解至液体1中的可能性。

这样，接触衬底P后的液体1，有可能包含由衬底P产生的杂质及抗蚀剂残渣等所构成的微粒等的微小异物。另外，液体1也有可能包含大气中的尘埃及杂质等的微小异物。因此，以液体回收机构20回收的液体1，有可能包含各种杂质等的异物。因此，液体回收部21将回收的液体1排出至外部。另外，也可将回收后液体1的至少一部分用内部处理装置加以净化后，将该净化后的液体1送回至液体供应机构10。

另外，混入到液浸区域AR2的液体1中的上述微粒等的异物中，比设于图1中的喷嘴构件30的回收口24的网状过滤器25的网眼大的异物等，有可能附着而残留在包含网状过滤器25表面(外面)等的上述液体接触部。这些残留的异物，有可能在衬底P的曝光时，再次混入液浸区域AR2的液体1。当混入到液体1的异物附着于衬底P上时，有可能导致将形成于衬底P的图案产生形状不良等的缺陷。

因此，本例的曝光装置EX，在例如液体供应机构10及液体回收机构20的定期或通过操作员等的要求而进行维修时，以下述方式进行残留在喷嘴构件30的异物的洗净。另外，也可随时监测用液回收机构21所回收的液体中微粒的程度，在该微粒程度超过规定容许范围时实施包含以下洗净步骤的维修。例如，在回收管22途中经由分歧管设置测量异物(微粒)的微粒计数器，来监测回收液体中的微粒数。微粒计数器，例如从回收的液体以规定取样率抽出规定容量的液体，对抽出的液体照射激光束，对散射光的图像进行图像处理来测量该液体中的微粒数。

在该洗净步骤中，在停止曝光用光EL照射的状态下，如图6所示，将测量载台MST的测量台MTB紧贴(或接近)在衬底载台PST上的衬底保持具PH。其次，使衬底载台MST与测量台MTB(测量载台MST)同时往+X方向移动，将测量台MTB上的池部60移动至投影光学系统PL正下方。之后，可使衬底载台进一步往+X方向退避。其结果，如图7(A)所示，将测量台MTB上的池部60以围绕投影光学系统PL前端的光学元件2的方式，移动至通过支撑构件33A及33B(涂有疏液膜)用未图示的立柱机构所支撑的喷嘴构件30底面。另外，也可将至此的动作视为移动步骤，而将之后的步骤视为洗净步骤。

在这种状态下，关闭图4的阀64B而打开阀64A，从洗净液供应部62将洗净液1A供应至池部60。并如图7(B)所示，使洗净液1A从池部60溢流，以使洗净液1A通过喷嘴构件30的回收口24的网状过滤器25浸透至喷嘴构件30内部。此时，洗净液1A也浸透至供应口13、14内部。在此状态下停止洗净液1A的供应，但可通过测量台MTB上面的疏液膜、支撑构件33A及33B的疏液膜、以及洗净液1A表面张力的作用，将洗净液1A保持在喷嘴构件30与射出台MTB之间。此时，附着在喷嘴构件30内的网状过滤器25及供应口13、14内的异物的大部分，会混入洗净液1A内而沉降或沉淀至池部60的底面。

之后，根据需要如图7(C)所示，从超音波振子66通过洗净1A朝向喷嘴构件30产生超音波S。据此，进行喷嘴构件30、尤其是网状过滤器25的超音波洗净，顽固的附着在网状过滤器25内的异物从过滤器25混入或溶解至洗净液1A。当仅用洗净液1A的洗净效果充分高时，可以省略此超音波洗净步骤。此外，也可用喷嘴构件30与测量台MTB的相对移动(振动)来取代或兼用超音波洗净。

其次，在图4中，关闭阀64A而打开阀64B，用洗净液回收部65回收池部60内的洗净液1A。其结果，如图7(D)所示，残留在喷嘴构件30的网状过滤器25等的异物即与洗净液1A一起，经流路85被回收至图4的洗净液回收部65。此外，也可根据需要重复多次从图7(A)至图7(D)的洗净步骤。

本例的洗净步骤的作用及优点，整理如下。

(A1)如图7(B)所示，由于洗净液1A通过供应口13、14供应到喷嘴构件30内部，因此在以液浸法进行曝光时，能将蓄积在喷嘴构件30内的至少部分异物与洗净液1A一起去除。此时，由于使用测量载台MST供应洗净液1A，因此能在不对保持有衬底P的衬底载台PST造成影响的状况下，且在例如基准线量的测量时等有效地进行液体供应机构10及液体回收机构20的维修(进而曝光装置的维修)。其结果，在其后的曝光步骤中，由于衬底P上的液浸区域AR2的液体中异物量减少，因此能降低被转印的图案形状误差等，高精度的进行曝光。

此外，例如图1中液体的供应口13、14与回收口24设置在不同喷嘴构件的情形时，可在洗净步骤中，仅进行其中一方喷嘴构件的洗净。据此，也能减少其后的曝光时液体中的异物量。

(A2)另外，如图7(B)所示，由于洗净液1A，用从测量载台MST上部的测量台MTB上面所设的池部60溢流至该上面的方式来供应，因此能在不改变测量台MTB的Z方向位置的情况下，用简单的构成对喷嘴构件30供应洗净液1A。

如上述的使洗净液1从池部60溢流的方式，并不一定必须在测量台MTB上形成池部(凹部)60，测量台MTB上面仍可维持平面。此时，可将使洗净液1A振动的超音波振子设置在喷嘴构件30，而不设在测量台MTB。另外，在图1中，在本例的测量载台MST设有调平台188。因此，可加大调平台188的Z方向的驱动量，于图7(B)中，在池部60充满洗净液1A的状态下，使测量台MTB往上方(+Z方向)上升，以将喷嘴构件30的底面部浸渍于池部60的洗净液1A内。如此，也能通过供应口13、14及回收口24(网状过滤器25)将洗净液1A供应至喷嘴构件30内。之后，根据需要进行超音波洗净后，使测量台MTB下降，喷嘴构件30内的异物就被除去而沉淀至池部60内。另外，当曝光装置EX具备喷嘴构件30的装拆机构(或更换机构)时，也可通过此机构使喷嘴构件30下降至下方而浸在洗净液1A中。

(A3)另外，喷嘴构件30配置成围绕最接近投影光学系统PL像面的光学构件2，且在喷嘴构件30的回收口24设有网状过滤器25，在上述洗净步骤中将网状过滤器25的全面浸渍于洗净液1A。因此，能有效地除去附着于网状过滤器25的异物。

(A4)另外，由于上述洗净步骤包含以超音波使洗净液1A振动的步骤，因此能提高喷嘴构件30的洗净效果。不过，此超音波洗净并非一定须要。

(A5)另外，因为在上述洗净步骤包含在最后回收洗净液1A的步骤，因此能将混有异物的洗净液1A排至外部。

此外，洗净液1A的回收，也可使用图1的液浸曝光用液体的液体回收部21来进行。由此，能简化液体回收机构(甚至洗净机构)的全体。

(A6)另外，在上述实施方式中，由于液浸曝光用的液体1与洗净液1A为不同种类，因此能使用溶剂等洗净效果高的液体来作为洗净液1A。

此外，也可使用液体1来作为洗净液1A，此时，能以图1的液体供应部11兼作为图1的洗净液供应部26及图4的洗净液供应部62，能简化液体供应机构(即洗净机构)的构成。另外，在上述实施方式中，虽经由具可挠性的配管63A、63B将测量载台MST、与洗净液供应部62及洗净液回收部65连结，但在进行例如洗净动作以外的动作(测量动作等)时，可解除以该配管63A、63B的连结。如此，在该测量动作时等，能高精度地进行该测量载台MST的移动(位置控制)。另外，在上述实施方式中，虽将洗净机构的至少一部分设于测量载台MST上，但不限于此，也可设置与测量载台MST不同的可动体(例如，洗净专用的载台等的可动载台)，在此可动体上同样地进行洗净。

《第2实施方式》

接着，参照图8～图11，说明本发明的第2实施方式。在图8至图11中，与第1实施方式相同或同等的构成部分赋予相同符号，并简化或省略其说明。在本实施方式中，测量台MTB、喷嘴构件30的内部构造、以及洗净步骤虽与第1实施方式不同，但曝光步骤与第1实施方式相同。关于测量台MTB、及喷嘴构件30的内部构造，参照图8及图11加以说明。

[洗净液搅拌器的说明]

如图11(A)所示，于本实施方式的喷嘴构件30的回收口24内的网状过滤器25上部的空间(规定空间)，配置有多个被支撑为能旋转(也可以是可振动)的搅拌器267A、267B等。搅拌器267A、267B等实际上以等间隔设置于例如4处，在以下的说明中，仅代表性的显示搅拌器267A、267B。本例的搅拌器267A、267B是由杆状永久磁铁构成的电磁搅拌器(magnetic stirrer)。与此对应的，在测量载台MST的测量台MTB上部(参照图9)，埋设有分别包含多个电磁线圈的驱动部268A、268B、268C、268D，用于使搅拌器267A、267B同时以非接触方式旋转或振动。另外，也可以1处的驱动部268A按顺序驱动多个搅拌器267A、267B。

如后所述，在将洗净液注入到喷嘴构件30内部以洗净网状过滤器25时，为提高洗净效果，以搅拌器267A、267B进行洗净液的搅拌(加振)。此外，只要能使洗净液振动即可，因此也能取代搅拌器267A、267B等而使用超音波振子。另外，作为搅拌器267A、267B，也可使用可旋转的小型风扇，将此扇用设在喷嘴构件30内的小型马达来使其旋转。

在显示测量台MTB截面的图8中，在被板件101覆盖的测量台本体159内，固定有驱动部268A、268B。以驱动部268A、268B进行的图11(A)的喷嘴构件30内的搅拌器267A、267B的驱动动作由控制部261控制。控制部261根据来自图1的控制装置CONT的控制信息来旋转或振动搅拌器267A、267B。

另外，使用超音波振子取代图11(A)的搅拌器267A、267B时，可使用例如压电陶瓷(钛酸钡系或锆钛酸铅系(所谓的PZT)等)或铁素体振子(磁致伸缩型振子)等。在从图1的洗净液供应部26将洗净液供应至喷嘴构件30内以进行喷嘴构件30的洗净时，通过进行搅拌器267A、267B的旋转等、或从该超音波振子对洗净液内产生例如100KHz～1MHz程度的超音波，能提升洗净效果。

另外，也可在测量台MTB内设置对喷嘴构件30供应洗净液的洗净液供应部。此外，也可将洗净液供应部26内收容洗净液的储液槽作成装拆自如的匣式容器，将用液体回收部21回收的液体送回该匣式容器，以此液体作为洗净液。

其次，参照图10及图11说明本实施方式的洗净步骤。与第1实施方式同样地实施曝光步骤后，在停止曝光用光EL的照射的状态下，如图10所示，将测量载台MST的测量台MTB紧贴(或接近)于衬底载台PST上的衬底保持具PH。其次，使衬底载台MST与测量台MTB(测量载台MST)同时往+X方向移动，将测量台MTB的驱动部268A～268D移动至投影光学系统PL底面。之后，可使衬底载台PST进一步往+X方向退避。其结果，如图11(A)所示，将测量台MTB上的驱动部268A、268B以围绕投影光学系统PL前端的光学元件2的方式，移动至通过支撑构件33A及33B(涂有疏液膜)以未图示的立柱机构所支撑的喷嘴构件30的搅拌器267A、267B底面。

在此状态下，关闭图1的阀23而打开阀28，从洗净液供应部62经供应管27、回收管22及回收流路84将洗净液201A供应到喷嘴构件30的回收口24。并如图11(B)所示，将洗净液20充填到设于喷嘴构件30的回收口24的网状过滤器25的上部空间(设置搅拌器267A、267B的空间)。此时，洗净液201A逐渐地通过回收口24而流到测量台MTB上，但由于该上面具有疏液性，因此洗净液201A几乎不会扩散。

其次，如图11(C)所示，为提高网状过滤器25的洗净效果，驱动喷嘴构件30内的搅拌器267A、267B，通过搅拌使喷嘴构件30内的网状过滤器25上方的洗净液201A振动。据此，附着在喷嘴构件30的网状过滤器25的异物的大部分混入或溶解于洗净液201A。

其次，关闭图1中的阀28而打开阀23，如图11(D)所示，经由回收流路84用图1的液体回收部21回收喷嘴构件30内及测量台MTB上的洗净液201A。其结果，残留在喷嘴构件30的网状过滤器25等的异物与洗净液201A一起，被回收到图1的液体回收部21。此外，也可根据需要重复多次从图11(A)至图11(D)的洗净步骤。

本实施方式的洗净步骤的作用及优点，整理如下。

(B1)如图11(B)所示，由于洗净液201A被供应到喷嘴构件30的回收口24内的空间，因此在用液浸法进行曝光时，能将蓄积在喷嘴构件30内的至少部分异物与洗净液201A一起去除。此时，由于在喷嘴构件30内部用搅拌器267A、267B(或超音波振子等)使洗净液201A振动，因此能将喷嘴构件30内部迅速洗净。因此，能有效地进行液体供应机构10及液体回收机构20的维修(进而曝光装置的维修)。其结果，在其后的曝光步骤中，由于衬底P上的液浸区域AR2的液体中异物量减少，因此能降低被转印的图案形状误差等，高精度地进行曝光。

此外，例如在图1中液体的供应口13、14与回收口24设置在不同喷嘴构件的情况下，可在洗净步骤中，仅进行其中一方喷嘴构件的洗净。据此，也能减少其后的曝光时液体中的异物量。

(B2)另外，从图1的洗净液供应部26将洗净液201A供应给喷嘴构件30内的情况下，洗净液201A，在以液浸法进行曝光时沿着供应至液浸区域AR2的液体1被回收的回收管22的一部分及回收流路84被供应至喷嘴构件30内。因此，能简化洗净液201A的供应机构(进而洗净机构)。

(B3)此外，也可取代从图1的洗净液供应部26经回收流路84将洗净液201A供应至喷嘴构件30内，而从测量台MTB内的洗净液供应部(未图示)将洗净液供应至测量台MTB上，使此洗净液浸透至喷嘴构件30的回收口24及供应口13、14。此时，也能容易的洗净喷嘴构件30的供应13、14。

(B4)另外，本例的喷嘴构件30配置成围绕最接近投影光学系统PL像面的光学构件2，且于喷嘴构件30的回收口24设有网状过滤器25，在上述洗净步骤中，在网状过滤器25旁边用搅拌器267A、267B使洗净液201A振动。因此，能有效率的除去附着于网状过滤器25的异物。

(B5)另外，由于上述洗净步骤包含最后回收洗净液201A的步骤，因此能将混有异物的洗净液201A排至外部。

(B6)另外，在上述实施方式中，由于液浸曝光用的液体1与洗净液1A为不同种类，因此能使用溶剂等洗净效果高的液体来作为洗净液201A。此外，也可使用液体1来作为洗净液201A，此时，能以图1的液体供应部11兼作为图1的洗净液供应部26，能简化液体及洗净液的供应机构(甚至洗净机构)的构成。

《第3实施方式》

接着，参照图12及图13，说明本发明的第3实施方式。本实施方式的曝光装置基本上也与图1的曝光装置EX同样构成，但在实施方式的曝光装置中用于洗净喷嘴构件30的洗净机构不同。另外，在图12及图13中，与第1实施方式相同或同等的构成部分赋予相同符号，并简化或省略其说明。图12是表示本实施方式的测量载台MST上的测量台MTB的截面图，在该图12中，形成有用于对测量台本体159上面(板件101)喷出洗净液的喷出口386a，并围绕此形成有多个气体吸引口(代表性地表示2个吸引口387Aa、387Bb)。另外，该洗净液的喷出状态，在本实施方式中为将该洗净液以雾状喷出。此外，作为该洗净液的其它喷出状态，也可使该洗净液以高压喷出来进行高压洗净。此等状态也可根据污染程度来区分使用。

另外，喷出口386a经由测量台本体159内的供应流路386、及外部的具可挠性配管363A，连接于洗净液的喷出装置362A。此外，吸引口387Aa、387Ba在测量台本体159内经由分歧流路387A、387B连通于吸引流路387，吸引流路387经由外部的具可挠性配管363B连接于气体或雾状液体用的吸引装置365A，在配管363A及3693B分别安装有开关用的阀364A及364B。如前所述，本例的洗净机构为喷出口386a与吸引口387Aa、387Ba近接配置的差动排气型的洗净液喷出机构。

从喷出装置362A喷出的洗净液的种类，与从图1的洗净液供应部26供应的洗净液相同，包含喷出装置362A、吸引装置365A、阀364A、364B、以及形成有喷出口386a与吸引口387Aa、387Ba的测量台MTB的洗净机构的动作用图1的控制装置CONT控制。在本例中，喷出口386a及吸引口387Aa、387Ba的直径小，其内部涂有疏液涂层。因此，在非洗净时(一般的曝光时)，即使液浸区域AR2位于喷出口386a及吸引口387Aa、387Ba的上，液体也不会进入喷出口386a及吸引口387Aa、387Ba内。此外，由于喷出口386a及吸引口387Aa、387Ba的内部具有疏液性，因此能防止其内部污染。另外，在喷出口386a前端可安装各种网状过滤器，通过变更该网眼形状，能将洗净液整形为放射状、一直线状、或圆锥状等各种形状从喷出口386a喷出。例如，可通过实验从这些网眼形状(洗净液喷射形态)中选择洗净效果高的。另外，本实施方式的洗净机构，也能设置在图1的衬底载台PST上的衬底保持具PH。此外，该洗净机构的一部分，也能用例如设置曝光装置EX的工厂等的设备代用。

其次，参照图13，说明进行例如图1的液体供应机构10及液体回收机构20的维修时，使用本发明的洗净机构进行图1的喷嘴构件30的洗净时的一个动作例。首先，如图13(A)所示，将测量台MTB上的喷口386a以围绕投影光学系统PL前端的光学元件2的方式，移动至通过支撑构件33A及33B以未图示的立柱机构所支撑的喷嘴构件30的回收口24底面。

在这种状态下，打开图12的阀364A、364B，从喷出装置362A通过配管363A将洗净液以喷出状态供应至供应流路386，从吸引流路387通过配管363B用吸引装置365A吸引气体。其结果，如图13(B)所示，从从测量台MTB的供应流路386端部的喷出口386a朝向喷嘴构件30的回收口24(或供应口13、14)喷出洗净液301B，与此同时，喷出的洗净液301B从多个吸引口经吸引流路387被吸引排出(差动排气)。此时，附着在回收口24内的网状过滤器25(或供应口13、14内)的异物与雾状洗净液301B一起被去除，从吸引流路387排出。

其次，在进行上述洗净液301B的喷出及差动排气的状态下，如图13(C)所示，使测量台MTB往X方向、Y方向移动，以使从喷出口386a喷出的洗净液301B能喷射于喷嘴构件30的回收口24及供应口13、14的大致全面。然后，如图13(D)所示，在从喷出口386a喷出的洗净液301B通过喷嘴构件30的回收口24及供应口13、14的大致全面的时刻，停止洗净液301B的喷出及差动排气，结束洗净步骤。其结果，残留在喷嘴构件30的网状过滤器25等的异物与洗净液301B一起，被回收至图12的吸引装置365A。另外，也可根据需要，重复多次从图13(A)至图13(D)的洗净步骤。此外，也可与此洗净液的喷出及差动排气一起，进行从图1的洗净液供应部26对喷嘴构件30的洗净液供应。

本实施方式的洗净步骤的作用及优点，整理如下。

(C1)如图13(B)所示，由于为了洗净喷嘴构件30，从测量台MTB(测量载台MST)侧朝喷嘴构件30的回收口及供应口13、14喷出洗净液301B，因此能有效地除去附着在喷嘴构件30内的异物。因此，能有效地进行液体供应机构10及液体回收机构20的维修(甚至曝光装置的维修)。

此外，例如图1中液体的供应口13、14与回收口24设置在不同喷嘴构件的情形时，可在洗净步骤中，仅进行其中一方喷嘴构件的洗净。据此，也能减少其后的曝光时液体中的异物量。

(C2)另外，在本实施方式中，由于使用吸引喷出洗净液的氛围中的气体的差动排气，因此能有效地回收被除去的异物。

此外，也可不进行差动排气而仅对喷嘴构件30喷出洗净液。另外，为了提高洗净效果，也可提高洗净液的温度。

(C3)另外，由于包含一边从测量载台MST侧将洗净液喷出到喷嘴构件30的回收口24或供应口13、14的一部分、一边如图13(C)所示使喷嘴构件30与测量载台MST相对移动的步骤，即使喷出口386a仅有1处，也能进行比其广的喷嘴构件30的全面的洗净。另外，在本实施方式中，虽设定为洗净喷嘴构件30的液体1的通过口(包含供应口与回收口的至少一方)，但也可洗净除此通过口以外的喷嘴构件30的液体接触区域(网状过滤器25以外的喷嘴构件30下面等)。此外，在例如围绕喷嘴构件30的回收口下面(朝向衬底P侧的面)形成有捕捉流至回收口外侧的液体1的捕捉面(倾斜面)时，也可同样的洗净此捕捉面。

(C4)另外，本例的喷嘴构件30配置成围绕最接近投影光学系统PL像面的光学构件2，且在喷嘴构件30的回收口24设有网状过滤器25，在该洗净步骤中，对网状过滤器25的全面喷出洗净液。因此，能有效率的除去附着于网状过滤器25的异物。

(C5)另外，在本实施方式中，由于液浸曝光用的液体1与洗净液301B为不同种类，因此能使用溶剂等洗净效果高的液体来作为洗净液301B。此外，也可使用液体1来作为洗净液301B。若上述洗净时没有液体飞散等问题的话，并不一定需要设置吸引装置365A。

[喷嘴构件30的污染状态监测方法的说明]

在上述实施方式中，在例如维修时进行喷嘴构件30的洗净，但也可如下所述，监测喷嘴构件30的回收口24等的污染状态，其监测结果，当喷嘴构件30的污染状态超过规定容许范围时，使用上述实施方式的方法进行喷嘴构件30的洗净。

进行该污染状态的监测时，预先在图1的曝光装置EX的衬底匣(未图示)内装入已洗净的衬底。该已洗净的衬底可以是以来自液体供应装置11或洗净液供应部26的液体加以洗净的，也可以是在未图示的涂布显影装置内洗净的。将该已洗净的衬底装载于衬底保持具PH上，以液浸法进行曝光后，将之卸下。

之后，使用例如设在晶片装载系统或涂布显影装置内等的传感器，进行该被卸下的衬底上的微粒数的检测。然后，例如在每一规定批数的衬底曝光时，监测该已洗净的衬底的液浸曝光后微粒数的增减，当该微粒数超过其容许范围时，视为喷嘴构件30的污染在增加，而进行喷嘴构件30的洗净。据此，能以适当的时机进行喷嘴构件30的洗净。此外，也可不进行液浸曝光，而以曝光时相同的移动轨迹(移动路径)来移动衬底。在这种情况下，可不在衬底上形成抗蚀剂等的膜，衬底也可是硅以外的其它材料。

另外，在本实施方式中，虽然是移动测量载台MST，来使洗净液的喷出口386a与喷嘴构件30相对移动，但也可将喷嘴构件30作成可动，在静止的测量载台MST(或衬底台PST)上使喷出口386a与喷嘴构件30相对移动。

《第4实施方式》

接着，参照图14至图17，说明本发明的第4实施方式。在图14至图17中，与第1实施方式相同或同等的构成部分赋予相同符号，并省略其说明。在本实施方式中，测量台MTB的内部构造、及洗净步骤虽与第1实施方式不同，但曝光步骤与第1实施方式相同。关于测量台MTB的构造，参照图14及图15进行说明。如图15所示，在测量台MTB上形成有由大致矩形的凹部构成、用于暂时收容洗净液的池部460。池部460具有略大于图3的喷嘴构件30底面的大小，在测量台MTB，如图14所示，连接有用于回收该池部460内的洗净液的洗净液回收部465，且设有用于进行喷嘴构件30的洗净的可动刷子机构(清扫构件)。

在表示测量台MTB的截面的图14中，池部460是形成在测量台本体159上面的凹部，配合池部460的大小在板件101也形成有开口101a。从池部460底面至测量台本体159侧面形成有洗净液的流路485，流路485经由具有可挠性的配管463A连结于洗净液回收部465，配管63A经由具有可挠性的配管63B连结洗净液回收部465。举一例而言，洗净液回收部465具备真空泵等的真空系统(吸引装置)以及收容所回收的洗净液的储液槽等。另外，在配管463A的途中装有开关用的阀464A，阀464A的开关以及洗净液回收部465的动作用控制部461控制。控制部461根据来自图1的控制装置CONT的控制信息进行对池部460的洗净液回收。

另外，在池部460的底面中央，设置有音圈马达方式等的升降用驱动部470，由控制部461所控制的驱动部470经由升降轴469支撑矩形平板状的刷子框467，在刷子框467周缘部的矩形框状凸部以可更换的状态固定有刷子构件468。刷子构件468，例如将多个由合成树脂或非织造织物等形成的具可挠性纤维状构件加以成束构成，以刷子构件468研磨附着污物的物体(液体接触部)，即能在不使该物体受损的情形下，迅速的除去污染。此外，刷子构件468的俯视形状，与图3的喷嘴构件内的框状的网状过滤器25的俯视形状大致相同，可以用刷子构件468大致覆盖网状构件25的全面。含刷子构件468、刷子框467、升降轴469、及驱动部470来构成刷子机构。

在这种情况下，在通常的曝光时，升降轴469下降将刷子构件468收纳至池部460内，以使刷子构件468的前端位于比测量台MTB的板件101表面低的位置。另一方面，在图1的喷嘴构件30的洗净时，通过驱动部470使升降轴469上升，刷子构件468的前端部位在比板件101高的位置，刷子构件468能接触洗净对象的构件。另外，驱动部470也可根据需要使刷子构件468在Z方向以微小振幅振动。另外，通过图1的X轴音圈马达168A、168X使测量台MTB在X方向振动，即能使刷子构件468在X方向振动。此外，在池部460内会如后所述的流入洗净液，因此为避免与该洗净液的接触，升降轴469等以波纹管构件(bellows)471等加以密封。另外，本实施方式的洗净机构的一部分，也可以用例如设置有曝光装置EX的工厂等的设备来加以代用。

接着，参照图16及图17，说明本实施方式的洗净步骤。首先，用和第1实施方式相同的方式实施曝光步骤后，在停止曝光用光的照射的状态下，如图16所示，将测量载台MST的测量台MTB紧贴(或接近)于衬底载台PST上的衬底保持具PH。其次，使衬底载台MST与测量台MTB(测量载台MST)同时往+X方向移动，将测量台MTB上的池部460移动至投影光学系统PL的底面。之后，可使衬底载台PST进一步往+X方向退避。其结果，如图17(A)所示，将测量台MTB上的池部460以围绕投影光学系统PL前端的光学元件2的方式，移动到通过支撑构件33A及33B(涂有疏液膜)以未图示的立柱机构所支撑的喷嘴构件30底面。在此状态下，图14的阀463A被关闭。

其次，用图14的驱动部470使升降轴469及刷子框467上升，如图17(B)所示，使刷子框467上的刷子构件468紧贴于覆盖喷嘴构件30的回收口24的网状过滤器25的大致全面。在此状态下，通过进行升降轴469的Z方向微小振动、与使用图1的X轴音圈马达168A、168B的测量台MTB的X方向微小振动，来使刷子构件468相对网状过滤器25在Z方向及X方向微量振动。通过此刷子构件468的研磨动作，附着在网状过滤器25的异物被除去而落下、或附着于刷子构件468上。另外，也可进一步使刷子构件468紧贴于含喷嘴构件30的供应口13、14的区域并进行微量振动，以除去附着在供应口13、14旁边的异物。

接着，关闭图1的阀23而打开阀28，从洗净液供应部62经供应管27、回收管22及回收流路84供应洗净液401A，并如图17(C)所示，将洗净液401A供应到喷嘴构件30的回收口24内。被供应的洗净液401A，通过网状过滤器25及刷子构件468以含有异物的状态流入到池部460内。之后，关闭图1的阀28以停止洗净液供部26的洗净液401A的供应动作后，打开图14的阀464A通过洗净液回收部465经由配管463A及流路485来回收池部460内的洗净液。据此，如图17(D)所示，含有测量台MTB的池部460内异物的洗净液401A，被回收到图14的洗净液回收部465。此外，也可根据需要重复多次从图17(A)至图17(D)的洗净步骤。

本实施方式的洗净步骤的作用及优点，整理如下。

(D1)如图17(B)所示，由于为了洗净喷嘴构件30，而用具有可挠性的刷子构件468研磨从测量台MTB(测量载台MST)侧至含喷嘴构件30的回收口24的区域，因此能有效率除去顽固的附着在回收口24的异物。此时，由于在测量台MTB上设有刷子构件468，因此不会影响保持衬底P的衬底载台PST，且能在例如基准线量的测量时等有效地进行液体供应机构10及液体回收机构20的维修(甚至曝光装置的维修)。其结果，在其后的曝光步骤中，由于能减少衬底P上的液浸区域AR2的液体中异物的量，因此能降低所转印的图案的形状误差，高精度地进行曝光。

此外，刷子构件468的数量无论是一个或多个皆可，其数量及大小可任意设定。不过，将刷子构件468的大小配合网状过滤器25的大小，能有效地进行网状过滤器25的清扫。另外，刷子构件468也可设在衬底载台PST(衬底保持具PH)上。如此，能简化载台(甚至洗净机构)的构成。

另外，也可用刷子构件468研磨包含喷嘴构件30的供应口13、14的区域。另外，例如在图1中，液体的供应口13、14与回收口24设置在不同喷嘴构件的情况下，可在洗净步骤中，仅进行其中一方喷嘴构件的洗净。据此，也能减少其后的曝光时液体中的异物量。

(D2)另外，如图17(B)所示，由于使刷子构件468与喷嘴构件30相对振动，因此例如顽固的附着在喷嘴构件30的异物也能容易的加以去除。另外，也可取代使刷子构件468振动，而例如驱动喷嘴构件30及/或测定台MTB，使喷嘴构件30与刷子构件468在Z方向相对振动。

另外，在本实施方式中，如图14所示，虽设有将刷子构件468驱动在Z方向的驱动部470，但在本实施方式，与图1同样地，在测量载台MST上设有调平机构188。因此，通过增大调平机构188的Z方向驱动量，可省略驱动部470。相反地，也能在驱动部470附加往X方向或Y方向的振动机构。另外，通过使喷嘴构件往-Z方向移动以接触刷子构件468，能够省略驱动部470。此时，可利用喷嘴构件30的装拆机构(或更换机构)。

(D3)在本实施方式中，由于在用刷子构件468进行的研磨步骤后，也对喷嘴构件30的回收口24供应洗净液401A以进行使用液体的洗净，因此能冲掉从喷嘴构件30除去的异物。

(D4)喷嘴构件30配置成围绕最接近投影光学系统PL像面的光学构件2，且在喷嘴构件30的回收口24设有网状过滤器25，在上述洗净步骤中，实质上对网状过滤器25的全面用刷子构件468进行研磨。因此，能有效地除去附着于网状过滤器25的异物。另外，本实施方式虽设定为洗净喷嘴构件30的液体1的通过口(包含供应口与回收口的至少一方)，但也可洗净此通过口以外的喷嘴构件30的液体接触区域。

(D5)在本实施方式中，由于液浸曝光用的液体1与洗净液401A为不同种类，因此能使用溶剂等洗净效果高的液体来作为洗净液401A。此外，也可使用液体1来作为洗净液401A，此时，可用图1的液体供应部11兼作为图1的洗净液供应部26，可简化液体供应机构的构成。另外，在本实施方式中，虽从喷嘴构件30侧朝刷子构件468供应洗净液，但也可与其并用、或代的以使用未图示的洗净液供应机构从刷子构件468之间隙朝向喷嘴构件30的网状过滤器25渗出洗净液的方式。如此，能提高使用刷子构件468的洗净效果。另外，也可在测量台MTB设置用于吸引从刷子构件468与喷嘴构件30的接触部产生的异物或洗净液等的吸引装置。此时，能防止或抑制因上述洗净(清扫)造成测量台MTB等的污染。

《第4实施方式的第1变形例》

在第4实施方式中，如图17(A)所示，使用用测量载台MST的测量台MTB上的可升降的刷子架467支撑的刷子构件468来进行喷嘴构件30的洗净(清扫)。此外，也可如图18所示，用设置于自行走机器人上的刷子构件来进行喷嘴构件30的洗净。在对应图17(A)的部分以相同符号表示的图18中，在测量MTB上面形成收纳用的的凹部475，在凹部475的中央部用升降轴477支撑有支撑板476。图1的控制装置CONT通过经由图18的驱动部478使升降轴477在投影光学系统PL的光轴方向(Z方向)升降，能使支撑板476在凹部475底面与测量台MTB上面附近位置之间移动。

另外，在测量台MTB上装载有自行走机器人479(装有4个用内部马达驱动的小型车480)，在自行走机器人479的前端部具备能上下活动、与图17(A)的刷子构件468相同构成的小型的刷子构件488。自行走机器人479例如用图1的控制装置CONT经由未图标的信号缆线或以无线方式在测量台MTB上移动于X方向、Y方向。在喷嘴构件30的洗净时，自行走机器人479的移动路径设定成刷子构件488能沿着矩形框状回收口24(网状过滤器25)的全面移动。此外，自行走机器人479上部固定有摄像装置487，将摄像装置487所拍摄的图像数据显示于未图标的显示器，能由操作员确认喷嘴构件30的回收口24(网状过滤器25)的位置，根据此结果修正自行走机器人479的移动路径。

在此第1变形例的通常曝光时及测量时，自行走机器人479移动到支撑板476，被收纳在凹部475内的位置479A。而在进行喷嘴构件30的洗净时，支撑板476上升，自行走机器人479移动至测量台MTB上面。与此同时(并行)，测量载台MST(测量台MTB)移动至喷嘴构件30下面，测量台MTB静止。接着，使自行走机器人479的刷子构件488上升至能接触喷嘴构件30的高度后，驱动自行走机器人479用刷子构件488研磨喷嘴构件30的网状过滤器25进行洗净。此时或之后，从图1的洗净液供应部26将洗净液供应到喷嘴构件30内，使网状过滤器25的异物混入或溶解于洗净液内后，作为一个例子，使图1的液体回收部动作来回收该洗净液。

另外，也可取代上述洗净液的供应方式，从图1的液体供应部11供应液浸用的液体1。之后，降下刷子构件488后，自行走机器人479被再次收纳至凹部475内的位置479A。这样，使用自行走机器人479来使刷子构件488与喷嘴构件30相对移动，也能有效地洗净喷嘴构件30。如果采用此变形例的话，即便是在喷嘴构件30的回收口24等的形状变化时，也能使用同一自行走机器人479进行此洗净。

《第4实施方式的第2变形例》

另外，如图19所示，也可准备与曝光对象衬底的外形相同但未涂布抗蚀剂的虚拟衬底CP，在此虚拟衬底CP上面设置具有覆盖喷嘴构件30下面的回收口24及/或供应口13、14全面的形状的刷子构件488A。在此例中，在进行喷嘴构件30的洗净时，在衬底载台PST上的衬底保持具PH上装载虚拟衬底CP以取代曝光对象的衬底。此时，调整刷子构件488A的高度，以便经由衬底载台PST的Z载台使衬底保持PH的上面的Z位置的最低的状态下，使刷子构件488A的上端大致接触喷嘴构件30的下面。

之后，驱动该Z载台使虚拟衬底CP的刷子构件488A上升，使刷子构件488A的前端部充分接触喷嘴构件30的下面、特别是网状过滤器25后，使衬底载台PST在X方向、Y方向稍微振动。此时或之后，从图1的洗净液供应部26将洗净液供应至喷嘴构件30内，使网状过滤器25的异物混入(溶解)至洗净液内后，例如，使图1的液体回收部21动作来回收该洗净液。另外，也可取代上述洗净液的供应方式，从图1的液体供应部11供应液浸用的液体1。之后，卸下虚拟衬底CP。这样，使虚拟衬底CP的刷子构件488A与喷嘴构件30相对移动，也能有效率的洗净喷嘴构件30。采用此变形例的话，即无须在曝光装置的载台系统设置洗净机构，而能将曝光装置的制造成本压低。此外，也可取代刷子构件488A而在虚拟衬底CP设置其它研磨构件。

《第5实施方式》

接着，参照图20说明本发明的第5实施方式。在图20中，与图1对应的部分赋予相同符号并省略其详细说明。

图20是表示本例的曝光装置的投影光学系统PL下部及衬底载台PST的构成，在此图20中，围绕投影光学系统PL最下端的光学元件2设置作为液浸空间形成空间的环状的喷嘴构件530A，使用液浸法的曝光时在衬底保持具PH上装载曝光对象衬底，从与图1的液体供应机构10相同的液体供应机构供应的液体1，经喷嘴构件530A的供应口13、14被供应至该衬底上。

与此同时(并行)、或根据需要从围绕该供应口13、14形成在喷嘴构件530A的矩形框状回收口24(于此处安装网状过滤器25)，使用与图1的液体回收机构20相同的液体回收机构回收该液体1。在本例中，从外部的气体供应装置593经配管594、喷嘴构件530A内的通气孔592、以及喷嘴构件530A下面围绕回收口24形成的矩形(也可以是圆形等)送风口591，以规定流量持续地供应经高度除尘、温度控制的空气等气体。在这种情况下，通过从该送风口591供应的气体(气帘)，在该喷嘴构件530A与曝光对象衬底之间维持局部的充满液体1的液浸空间。

在本例中，在进行喷嘴构件530A的洗净时，如图20所示，在衬底保持具PH上装载与曝光对象衬底的外形相同但未涂布抗蚀剂的虚拟衬底DP，以取代曝光对象的衬底。在虚拟衬底DP上，形成有在进行液浸曝光时覆盖液浸空间的大小的环状凸部DPa，凸部DPa的内侧上面DPb被例如疏液性的多孔质构件所覆盖。在此状态下，从喷嘴构件30A的供应口13、14将液体1供应至虚拟衬底DP的凸部DPa，从送风口591供应气体595A、595B。

此时，由于气体595A、595B被凸部DPa遮住，因此会流至内侧的回收口24(网状过滤器25)侧，且通过多孔质性的上面DPb，据此于气体595A、595B混入多量的微小气泡。承上所述，由于会因该微小气泡提高洗净效果，因此，特别是附着于网状过滤器25的异物即混入或溶解至液体1内。之后，从回收口24经回收管22将液体1回至液体回收机构，且残留在虚拟衬底DP的凸部DPa内侧的液体1，与虚拟衬底DP一起被搬至外部。

如果采用本实施方式的话，由于从气体供应装置593及包含配管594的气体供应机构通过液体1，将气体供应至喷嘴构件530A的大致回收口24侧，因此能有效地洗净回收口24内的网状过滤器25。此时，由于虚拟衬底DP的上面DPb为多孔质，因此能获得高洗净效果。此外，也可取代虚拟衬底DP而装载平板状的虚拟衬底。在此情况下，也能通过气体的流动获得较高的洗净效果。

《第6实施方式》

接着，参照图21说明本发明的第6实施方式。在图21中，与图5及图6对应部分赋予相同符号并省略其详细说明。图21是表示本例的曝光装置的衬底载台PST及包含测量载台MST的载台系统，在此图21中，测量载台MST的测量台MTB，能通过未图示的更换机构与装载在外部的多目的工具台696(可动体)更换。在该多目的工具台696上，与测量台MTB同样地，固定有X轴反射镜655DX、Y轴反射镜655DY、与移动件170相同的移动件670A、以及与移动件166A、166B相同的移动件666C、666D。因此，将测量台MTB与工具台696更换时，工具台696的位置可以用激光干涉仪56C及56BY进行测量，且通过由工具台696的移动件670A与测量台MTB的固定件171所构成的Y轴线性马达、与由工具台696的移动件666C及666D与测量台MTB的固定件167所构成的X轴致动器，与测量台MTB同样地控制工具台696的位置及旋转角。

另外，在图21中，在工具台696上形成有池部660，在此池部660内设置与图14的刷子构件468相同的刷子机构(未图示)，也设有排出此池部660内液体的机构及驱动该刷子机构的控制系统。因此，将该工具台696的池部660移动到投影光学系统PL下方的喷嘴构件30底面，能与图17的第4实施方式同样地进行喷嘴构件30的洗净。

另外，也可取代使用上述能与测量台MTB更换的工具台696，而如图22所示，在测量载台MST的测量台MTB经由连结构件798A及798B连结多目的的工具台799。在此变形例中，在工具台799上形成有池部760，于此池部760内设置与图14的刷子构件468相同的刷子机构(未图示)，也设有排出此池部760内液体的机构及驱动该刷子机构的控制系统。因此，驱动测量载台MST，将工具台799的池部760移动到投影光学系统PL下方的喷嘴构件30底面，能与图17的第4实施方式同样的进行喷嘴构件30的洗净，实施曝光装置的维修。此变形例不需要更换机构。

另外，在本实施方式中，例如为了使刷子构件468与喷嘴构件30相对移动，可将喷嘴构件30作成可动并相对静止的刷子构件468来移动喷嘴构件30。此外，在本实施方式中，设置于工具台696或工具台799的洗净机构并不限于第4实施方式的刷子机构，也可以是其它实施方式的洗净机构。

另外，上述第1～第6实施方式及其变形例中，测量载台MST除洗净机构外，也具备上述多个测量器的至少一个及基准标记来作为测量构件，但搭载于测量载台MST的测量构件的种类及/或数量等并不限于此。也可设置例如测量投影光学系统PL的透射率的透射率测量器等来作为测量构件。另外，也可仅将上述测量器或仅将其一部分设于测量载台MST，而将其它部分设于测量载台MST外部。另外，也可将至少一个测量构件设置于衬底载台PST。

另外，上述第1～第6实施方式及其变形例中，虽将前述洗净机构的至少一部分设于测量载台MST，但也可将洗净机构的至少一部分设于与测量载台MST分开独立的可动载台(可动构件、可动体)。该可动载台可以是衬底载台PST。在这种情况下，例如，在第2实施方式中，可将搅拌器的驱动部(268A、268B)埋设于衬底载台PST。另外，在第3实施方式中，可将洗净液的喷出口386a设置于衬底载台PST上。另外，该可动载台也可不同于衬底载台PST。在这种，例如在衬底P的更换时等，为了维持前述液浸区域AR2可通过与衬底载台PST的更换将该可动载台与投影光学系统PL对向配置。

另外，在上述第1～第6实施方式及其变形例中，虽以前述洗净机构来洗净喷嘴构件30，但洗净对象并不限于喷嘴构件30，也可以是与液体1接触的其它的液体接触部(例如，光学元件2等)。此外，在上述各实施方式及其变形例中，可使用例如混入了气泡的液体1作为洗净用的液体来进行液体接部的气泡洗净。另外，在上述各实施方式及其变形例中在液体接触部的洗净使用液体时，可使用前述微粒监测器等的测量装置来监测洗净动作。

另外，在上述各实施方式及其变形例中，虽然使用干涉仪系统(56A～56C)来测量掩膜载台RST、衬底载台PST、及测量载台MST的各位置信息，但并不限于此，例如也可使用检测设置于各载台的标尺(衍射光栅)的编码器系统。在这种情况下，作为具备干涉仪系统与编码器系统的双方的混合系统，最好使用干涉仪系统的测量结果来进行编码器系统测量结果的校正(calibration)。此外，也可切换使用干涉仪系统与编码器系统、或使用双方来进行载台的位置控制。

另外，上述各实施方式中可将衬底保持具PH与衬底载台PST形成为一体，也可分别构成衬底保持具PH与衬底载台PST，例如通过真空吸附等方式将衬底保持具PH固定于衬底载台PST。

此外，本发明也可适用于将各种测量器类搭载于衬底载台PST的曝光装置(不具备测量载台MST的曝光装置)。另外，各种测量器类可仅将其一部分搭载于测量载台MST或衬底载台，其余则设在外部或其它构件。

以上，虽使用第1实施方式至第6实施方式及其变形例说明了本发明，但也可适当组合这些实施方式。例如，可组合第1实施方式与第2实施方式。在这种情况下，搅拌器的驱动部268A、268B可埋设在测量台MTB的池部60的底面下或设于其它处。此外，也可组合第1实施方式与第4实施方式。在这种情况下，能在用测量台MTB的池部60的洗净液进行喷嘴构件30的洗净后、或一边进行洗净一边以刷子构件468洗净喷嘴构件30的网状过器25。另外，也可组合第3实施方式与第4实施方式。在这种情况下，可将池部60及刷子构件468设于如第3实施方式所示的具备形成于测量台本体159的喷射口及吸引口的测量载台MST。此时，可在从喷射口喷射洗净液后，以刷子构件468进行洗净，之后，再次喷射洗净液。

另外，也可适当组合使用第1实施方式至第6实施方式及其变形例所说明的洗净步骤。例如，可在实施第1实施方式的洗净步骤后，适当的实施第2～第6实施方式及/或其变形例的洗净步骤。也可在实施第1实施方式的洗净步骤后确认喷嘴构件的洗净效果，根据其结果，实施洗净液的喷射(第3实施方式)、或更进一步进行使用刷子构件的洗净(第4实施方式)。在这种情况下，使用第4实施方式的变形例1所说明的工具载台较为便利。

另外，在上述各实施方式及其变形例中，虽使用水作为液浸法所使用的液体1，但也可以是水以外的液体。例如，在曝光用光EL的光源为F₂激光(波长157nm)时，作为液体1例如可使用氟系油或全氟化聚醚(PFPE)等的氟系流体。另外，作为液体1，除此以外，也可使用对曝光用光EL具有穿透性且折射率尽可能的高、并且对投影光学系统PL及衬底P表面所涂的抗蚀剂安定的液体(例如杉木油(cedaroil))。此外，液体1也可使用折射率高于石英或萤石的材料(折射率1.6～1.8左右)。另外，也可使用折射率高于石英或萤石的材料(例如1.6以上)来形成光学元件2。

另外，半导体组件等的微组件，如图23所示，经微组件的功能、性能设计步骤(201)，根据该设计步骤制作掩膜(标线片)的步骤(202)，制造衬底(组件的基材)的步骤(203)，包含使用前述实施方式的曝光装置EX将掩膜的图案曝光至衬底的工序、将曝光后的衬底予以显影的工序、显影后衬底的加热及蚀刻工序等的衬底处理步骤(204)，组件组装步骤(205)(包含切割工序、结合工序、封装工序等的加工工序)，并经检查步骤等而制造，出厂。

另外，在上述各实施方式及变形例中，作为衬底P，除了半导体组件制造用的半导体晶片以外，也能适用于显示器组件用的玻璃衬底、薄膜磁头用的陶瓷晶片、或在曝光装置所使用的掩膜或标线片的原版(合成石英、硅晶片)、以及薄片状构件等。此外，衬底P的形状并不仅限于圆形，也可以是矩形等的其它形状。另外，在上述各实施方式及变形例中，虽使用形成有转印图案的掩膜，但也可取代该掩膜，而使用例如美国专利第6778257号说明书所公开的，根据待曝光图案的电子数据来形成透射图案或反射图案的电子掩膜。该电子掩膜包含也被称为可变成形掩膜(主动式掩膜或图像产生器)，例如非发光型图像显示组件(空间光调变器)的一种的DMD(Digital Micro-mirrorDevice)等)。DMD具有根据规定电子数据驱动的多个反射组件(微小面镜)，多个反射组件于DMD表面排列成2维矩阵状，且以像素单位被驱动而反射、偏向曝光用光。各反射组件可调整其反射面角度。DMD的动作可通过控制装置CONT进行控制。控制装置CONT，根据与应形成至衬底P上的图案对应的电子数据(图案信息)驱动DMD的反射组件，将照明系统IL所照射的曝光用光用反射组件进行图案化。通过DMD的使用，与使用形成有图案的掩膜(标线片)进行曝光的情形相比较，在图案变更时，由于不须要掩膜更换作业及在掩膜载台的掩膜位置对准操作，因此能更为有效地进行曝光动作。此外，使用电子掩膜的曝光装置，可不设置掩膜载台，而仅通过衬底载台使衬底移动于X轴及Y轴方向。另外，使用DMD的曝光装置除上述美国专利外，也公开于例如日本特开平8-313842号公报、特开2004-304135号公报。此处，在指定国及选择国的法令允许的范围下，援用美国专利第6778257号公报等的公开作为本文记载的一部分。

另外，作为曝光装置EX，除了使掩膜M与衬底P同步移动以扫描曝光掩膜M图案的步进扫描方式的扫描型曝光装置(扫描步进器)之外，也能适用于在掩膜M与衬底P静止的状态下使掩膜M的图案一次曝光，并按顺序步进移动衬底P的步进重复方式的投影曝光装置(步进器)。

另外，适用本发明的曝光装置、以及维修方法及曝光方法的曝光装置，并不一定需要具备投影光学系统。只要在能实施本发明的范围内具备将来自光源的曝光用光引导至衬底的光学构件即可。此外，也可根据前述的曝光方式省略掩膜载台及/或衬底载台。

作为曝光装置EX的种类，并不限于将半导体组件图案曝光至衬底P的半导体组件制造用的曝光装置，也能广泛地适用于液晶显示组件制造用或显示器制造用的曝光装置，或用于制造薄膜磁头、微机器、MEMS、DNA芯片、摄像元件(CCD)，或标线片、掩膜等的曝光装置等。

另外，本发明也能适用于例如特开平10-163099号公报、特开平10-214783号公报(对应美国专利第6341007号、第6400441号、第6549269号及第6590634号说明书)、特表2000-505958号公报(对应美国专利第5969441号说明书)或美国专利第6208407号说明书等所公开的具备多个衬底载台的多载台型曝光装置。在这种情况下，为对多个衬底载台分别实施洗净。关于多载台型曝光装置，在指定国及选择国的国内法令允许的范围下，援用上述美国专利等的公开作为本说明书记载的一部分。

另外，在上述各实施方式及变形例中，投影光学系统虽将前端光学元件像面侧的光路空间(液浸空间)充满液体，但也可采用例如国际公开第2004/019128号小册子所公开的将前端光学元件的掩膜侧光路空间也用液体充满的投影光学系统。此外，本发明也能适用于将投影光学系统与衬底间的液浸区域用其周围的气帘(air curtain)来加以保持的液浸型曝光装置。另外，本发明也能适用于例如国际公开第2001/035168号小册子所公开的通过在衬底上形成干涉条纹，以在衬底上形成线与空间图案(line&space pattern)的曝光装置。在这种情况下，经由光学构件与衬底P间的液体对衬底P照射曝光用光。

在上述各实施方式及变形例中，不须将液体供应部及/或液体回收部设于曝光装置，而可代之以例如设置曝光装置的工厂等的设备。另外，液浸曝光所需的曝光装置及附属设置的构造，不限于上述构造，也可使用例如欧洲专利公开第1420298号公报、国际公开第2004/055803号小册子、国际公开第2004/057590号小册子、国际公开第2005/029559小册子(对应美国专利公开第2006/0231206号)、国际公开第2004/086468小册子(对应美国专利公开第2005/0280791号)、特开2004-289126号公报(对应美国专利第6952253号)等所记载的。关于液浸曝光装置的液浸机构及其附属机器，在指定国及选择国的法令允许的范围下，援用上述美国专利或美国专利公开等的公开作为本说明书记载的一部分。

在上述实施方式中，作为液浸法所使用的液体1，可使用对曝光用光的折射率高于水，例如折射率为1.6～1.8左右的。此处，作为折射率高于纯水(例如1.5以上)的液体1，例如有折射率约1.50的异丙醇(Isopropanol)、折射率约1.61的丙三醇(Glycerol)等具有C-H键、O-H键的规定液体，己烷、庚烷、癸烷等的规定液体(有机溶剂)、折射率约1.60的十氢奈(Decalin：Decahydronaphthalene)等。或者，液体1也可以是这些规定液体中任意2种类以上液体的混合物，或于纯水中添加(混合)上述液体。另外，作为液体1，也可以是在纯水中添加(混合)H⁺、Cs⁺、K⁺、Cl⁺、SO₄ ^2-、PO₄ ^2-等碱或酸。进而，也可以是在纯水中添加(混合)Al氧化物等的微粒子。另外，作为液体1，以光的吸收系数小、温度依存性少、且对投影光学系统PL、及/或衬底P表面所涂的感光材(及面涂膜或反射防止膜等)安定的材料较佳。作为液体1，也可使用超临界流体。此外，可于衬底P设置隔离液体以保护感光材及基材的面涂层膜等。

另外，也可取代氟化钙(萤石)，而以例如石英(二氧化硅)、或氟化钡、氟化锶、氟化锂、氟化镁等的氟化合物的单结晶材料来形成投影光学系统PL的光学元件(终端光学元件)2，或以折射率(例如1.6以上)高于石英及萤石的材料来形成。作为折射率1.6以上的材料，例如，可如国际公开第2005/059617号小册子所公开的，使用蓝宝石、二氧化锗等，或者，也可如国际公开第2005/059618号小册子所公开的，使用氯化钾(折射率约1.75)等。

使用液浸法的情况，可例如国际公开第2004/019128号小册子(对应美国专利公开第2005/0248856号)所公开的，除终端光学元件像面侧的光路外，也将终端光学元件的物体面侧光路用液体充满。进而，也可在终端光学元件表面的一部分(至少包含与液体的接触面)或全部，形成具有亲液性及/或溶解防止功能的薄膜。此外，石英虽与液体的亲和性高，且也不须需溶解防止膜，但石英最少形成溶解防止膜较佳。

在上述各实施方式中，虽使用ArF准分子激光来作为曝光用光EL的光源，也可如国际公开第1999/46835号小册子(对应美国专利7023610号)所公开的，使用包含DFB半导体激光或光纤激光等固体激光源、光纤放大器等的光放大部、以及波长转换部等，输出波长193nm的脉冲光的高谐波产生装置。此外，在上述实施方式中，投影区域(曝光区域)虽为矩形，但也可以是例如圆弧形、梯形、平行四边形、或菱形等其它形状。

进而，例如特表2004-519850号公报(对应美国专利第6611316号)所公开的，本发明也可适用于将2个标线片图案经由投影光学系统在晶片上合成，以1次扫描曝光在晶片上的1个照射区域大致同时双重曝光的曝光装置。如前所述，本发明并不限于上述实施方式，在不脱离本发明要旨范围内可取各种构成。

如以上所述，本案实施方式的曝光装置EX，将包含本案申请专利范围所举的各构成要素的各种子系统，以能保持规定机械精度、电气精度、光学精度的方式，加以组装制造。为确保上述各种精度，于此组装的前后，对各种光学系统进行用于实现光学精度的调整，对各种机械系统进行用于实现机械精度的调整，对各种电气系统则进行用于实现各种电气精度的调整。各种子系统组装至曝光装置的步骤，包含各种子系统彼此间的机械连接、电气回路的连接、气压回路的连接等。该各种子系统组装至曝光装置的步骤前，当然有各个子系统的组装步骤。各种子系统组装至曝光装置的步骤结束后，即进行综合调整，以确保曝光装置全体的各种精度。另外，曝光装置的制造以在温度及清洁度等受到管理的无尘室中进行为佳。

关于本案说明书所公开的各种美国专利及美国专利申请公开等，除特别表示援用于此外，在指定国及选择国的法令允许的范围下，其公开也作为本文的一部分。

根据本发明，由于能有效地进行以液浸法进行曝光的曝光装置的维修，因此可减少其后的曝光时液浸区域的液体中的异物量，以高精度制造组件。因此，本发明能对包括我国的半导体产业的精密机器产业的发展有非常显著的贡献。

Claims (136)

1.一种曝光装置的维修方法，上述曝光装置用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间，经由上述光学构件与上述第1液体用曝光用光使上述衬底曝光，所述曝光装置的维修方法的特征在于包括：

移动步骤，与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件对向配置可动体；以及

洗净步骤，用设置于上述可动体的具可挠性的清扫构件清扫上述液浸空间形成构件。

2.根据权利要求1所述的维修方法，其特征在于：

上述光学构件是上述曝光装置的投影光学系统的一部分。

3.根据权利要求1或2所述的维修方法，其特征在于：

上述洗净步骤包含：

使上述清扫构件与上述液浸空间形成构件相对振动的步骤。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净步骤中，在使用上述清扫构件进行的上述液浸空间形成构件的清扫中使用洗净液。

5.根据权利要求4所述的维修方法，其特征在于：

上述洗净液从上述清扫构件与上述液浸空间形成构件的至少一方供应。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述洗净步骤包含：

在使用上述清扫构件进行的清扫步骤后，接着对上述液浸空间形成构件供应第2液体的步骤。

7.根据权利要求6所述的维修方法，其特征在于：

上述第1液体不同于上述第2液体。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述清扫构件设置于能在上述可动体上移动的自行走机构。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述清扫构件设在保持上述衬底的衬底载台上取代上述衬底所配置的虚拟衬底表面。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述可动体是保持上述衬底的衬底载台、或独立于上述衬底载台并且可动的载台。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的维修方法，其特征在于：

由保持上述衬底的衬底载台、或独立于上述衬底载台并且可动的载台的致动器驱动上述可动体。

12.根据权利要求11所述的维修方法，其特征在于：

通过与上述衬底载台或上述可动载台的交换或连结，由上述致动器驱动上述可动体。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净步骤中，至少清扫上述液浸空间形成构件的通过口。

14.根据权利要求13所述的维修方法，其特征在于：

上述通过口包含上述液浸空间形成构件的上述第1液体的供应口及回收口的至少一方。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净步骤中，至少清扫上述液浸空间形成构件的网眼状过滤构件。

16.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

使用权利要求1至15中任一项所述的维修方法的步骤。

17.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

与使用上述第1液体充满上述光学构件与上述衬底之间以形成液浸空间的液浸空间形成构件对向配置可动体，用上述可动体的具可挠性的清扫构件清扫上述液浸空间形成构件。

18.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求16或17所述的曝光方法使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

19.一种曝光装置，用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间，经由上述光学构件与上述第1液体用曝光用光使上述衬底曝光，所述曝光装置的特征在于包括：

液浸空间形成构件，用上述第1液体形成上述液浸空间；

可动体，与上述光学构件对向配置；以及

洗净机构，具有配置于上述可动体的具有可挠性的清扫构件，一边使上述清扫构件与上述液浸空间形成构件的至少一部分接触、一边进行相对移动，来洗净上述液浸空间形成构件。

20.根据权利要求19所述的曝光装置，其特征在于还包括：

投影光学系统，

上述光学构件是投影光学系统的一部分。

21.根据权利要求19或20所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构使上述清扫构件与上述液浸空间形成构件相对振动。

22.根据权利要求19至21中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构至少洗净上述液浸空间形成构件的通过口。

23.根据权利要求22所述的曝光装置，其特征在于：

上述通过口包含上述液浸空间形成构件的上述第1液体的供应口及回收口的至少一方。

24.根据权利要求19至23中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构至少洗净上述液浸空间形成构件的网眼状过滤构件。

25.根据权利要求19至24中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构对上述液浸空间形成构件与上述清扫构件的接触部供应洗净液。

26.根据权利要求25所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构从上述清扫构件与上述液浸空间形成构件的至少一方供应上述洗净液。

27.根据权利要求25所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构从上述液浸空间形成构件朝向上述清扫构件供应上述洗净液。

28.根据权利要求25或27所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构从上述清扫构件的间隙朝向上述液浸空间形成构件供应上述洗净液。

29.根据权利要求19至28中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构在上述清扫构件与上述液浸空间形成构件的接触时、或使用上述清扫构件进行的洗净动作后，将第2液体供应到上述液浸空间形成构件。

30.根据权利要求29所述的曝光装置，其特征在于：

上述第1液体不同于上述第2液体。

31.根据权利要求19至30中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构包含保持上述清扫构件且能在可动体上移动的自行走机构。

32.根据权利要求19至31中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述清扫构件设在保持上述衬底的衬底载台上取代上述衬底而配置的虚拟衬底表面。

33.根据权利要求19至32中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述可动体是保持上述衬底的衬底载台、或独立于上述衬底载台可动的载台。

34.根据权利要求19至33中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

由保持上述衬底的衬底载台、或独立于上述衬底载台可动的载台的致动器驱动上述可动体。

35.根据权利要求34所述的曝光装置，其特征在于：

通过与上述衬底载台或上述可动载台的交换或连结，由上述致动器驱动上述可动体。

36.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装置，其特征在于包括：

可动构件，与上述光学构件对向配置；以及

洗净机构，其至少一部分设置于上述可动构件，一边使与上述第1液体接触的液体接触部与清扫构件接触、一边相对移动，以洗净上述液体接触部。

37.根据权利要求36所述的曝光装置，其特征在于包括：

喷嘴构件，用上述第1液体充满上述光学构件与上述衬底之间以形成液浸空间，

上述液体接触部包含上述喷嘴构件。

38.一种曝光装置，用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间，经由上述光学构件与上述第1液体用曝光用光使上述衬底曝光，所述曝光装置的特征在于包括：

液浸空间形成构件，用上述第1液体形成上述液浸空间；

可动体，与上述光学构件对向配置；以及

洗净机构，至少一部分配置于上述可动体、洗净上述液浸空间形成构件；

由保持上述衬底的衬底载台、或独立于上述衬底载台可动的载台的致动器驱动上述可动体；

通过与上述衬底载台或上述可动载台的交换或连结，由上述致动器驱动上述可动体。

39.根据权利要求38所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构包含至少一部分配置于上述可动体的清扫构件。

40.根据权利要求38或39所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构使上述清扫构件与上述液浸空间形成构件相对振动。

41.根据权利要求40所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构对上述液浸空间形成构件与上述清扫构件的接触部供应洗净液。

42.根据权利要求41所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构从上述清扫构件与上述液浸空间形成构件的至少一方供应上述洗净液。

43.根据权利要求41所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构从上述液浸空间形成构件朝向上述清扫构件供应上述洗净液。

44.根据权利要求41所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构从上述清扫构件的间隙朝向上述液浸空间形成构件供应上述洗净液。

45.根据权利要求40至44中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构在上述清扫构件与上述液浸空间形成构件的接触时、或使用上述清扫构件进行的洗净动作后，将第2液体供应到上述液浸空间形成构件。

46.根据权利要求45所述的曝光装置，其特征在于：

上述第1液体不同于上述第2液体。

47.根据权利要求40至46中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净机构具有设置于上述可动体的池部；

上述清扫构件设置于上述池部内。

48.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求19至47中任一项所述的曝光装置使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

49.一种曝光装置的维修方法，上述曝光装置经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光，所述曝光装置的维修方法的特征在于包括：

使用至少一部分设置在不同于保持上述衬底的第1可动构件的第2可动构件的洗净构件，来洗净与上述第1液体接触的液体接触部。

50.根据权利要求49所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净时使用第2液体。

51.根据权利要求50所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净时使上述第2液体振动。

52.根据权利要求50或51所述的维修方法，其特征在于：

上述第2液体是不同于上述第1液体的洗净用液体。

53.根据权利要求49至52中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净时使上述洗净构件接触于上述液体接触部。

54.根据权利要求49至53中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述液体接触部包含用上述第1液体充满上述光学构件与上述衬底之间以形成液浸空间的喷嘴构件。

55.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

使用权利要求49至54中任一项所述的维修方法的步骤。

56.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

使用至少一部分设置在不同于保持上述衬底的第1可动构件的第2可动构件的洗净构件，来洗净与上述第1液体接触的液体接触部的动作。

57.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求55或56所述的曝光方法使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

58.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装置，其特征在于包括：

第1可动构件，保持上述衬底；

第2可动构件，不同于上述第1可动构件；以及

洗净构件，其至少一部分设置于上述第2可动构件，用于洗净与上述第1液体接触的液体接触部。

59.根据权利要求58所述的曝光装置，其中，上述洗净构件于上述洗净时使用第2液体。

60.根据权利要求59所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净构件包含使上述第2液体振动的超音波振子。

61.根据权利要求58至60中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述洗净构件在上述洗净时接触上述液体接触部。

62.根据权利要求58至61中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

在上述第2可动构件的上面设置有测量构件的至少一部分。

63.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求58至62中任一项所述的曝光装置使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

64.一种曝光装置的维修方法，上述曝光装置用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间，用曝光用光经由上述光学构件与上述第1液体使上述衬底曝光，所述光装置的维修方法的特征在于包括：

洗净步骤，在与用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件的上述第1液体通过口连通的规定空间内，使第2液体振动以洗净上述液浸空间形成构件。

65.根据权利要求64所述的维修方法，其特征在于：

上述光学构件是上述曝光装置的投影光学系统的一部分。

66.根据权利要求64或65所述的维修方法，其特征在于：

上述第2液体经由上述第1液体的流路的至少一部分，供应到上述液浸空间形成构件内的上述规定空间。

67.根据权利要求64至66中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述第2液体经由上述通过口，供应到上述液浸空间形成构件内的上述规定空间。

68.根据权利要求64至67中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净步骤中，至少洗净上述液浸空间形成构件的通过口。

69.根据权利要求64至68中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述通过口包含上述液浸空间形成构件的上述第1液体的供应口及回收口的至少一方。

70.根据权利要求64至69中任一项所述的维修方法，其特征在于：

至少洗净设置于上述通过口的网眼状的过滤构件。

71.根据权利要求64至70中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净步骤中，至少洗净上述液浸空间形成构件的网眼状过滤构件。

72.根据权利要求64至71中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述第2液体沿与上述第1液体回收路的至少一部分共通的路径，被供应到上述液浸空间形成构件。

73.根据权利要求64至72中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述第2液体从与上述光学构件对向配置的可动构件通过上述通过口，被供应到上述规定空间。

74.根据权利要求64至73中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述洗净步骤包含回收上述第2液体的步骤。

75.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

使用权利要求64至74中任一项所述的维修方法的步骤。

76.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

在与用上述第1液体充满上述光学构件与上述衬底之间以形成液浸空间的液浸空间形成构件的上述第1液体通过口连通的规定空间内，使第2液体振动以洗净上述液浸空间形成构件。

77.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求75或76所述的曝光方法使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

78.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装置，其特征在于包括：

液浸空间形成构件，用上述第1液体充满上述光学构件与上述衬底之间以形成液浸空间；

液体供应机构，对与上述液浸空间形成构件的上述第1液体通过口连通的规定空间内供应第2液体；以及

加振装置，使上述规定空间内的上述第2液体振动。

79.根据权利要求78所述的曝光装置，其特征在于还包括：

投影光学系统，

上述光学构件是投影光学系统的一部分。

80.根据权利要求78或79所述的曝光装置，其特征在于：

上述液体供应机构经上述通过口将上述第2液体供应到上述规定空间。

81.根据权利要求78至80中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

通过在上述规定空间内的上述第2液体的振动来至少洗净上述通过口。

82.根据权利要求78至81中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述通过口包含上述液浸空间形成构件的上述第1液体的供应口及回收口的至少一方。

83.根据权利要求78至82中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述液浸空间形成构件在上述通过口设有网眼状的过滤构件。

84.根据权利要求78至83中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

通过在上述规定空间内的上述第2液体的振动来至少洗净上述液浸空间形成构件的网眼状过滤构件。

85.根据权利要求78至84中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述液体供应机构沿与上述第1液体回收路的至少一部分共通的路径，将上述第2液体供应到上述液浸空间形成构件。

86.根据权利要求78至85中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述加振装置包含搅拌上述第2液体的搅拌装置。

87.根据权利要求86所述的曝光装置，其特征在于：

上述搅拌装置包含：

搅拌器，配置在上述规定空间内；以及

驱动装置，设在与上述光学构件对向配置的可动构件，用于驱动上述搅拌器。

88.根据权利要求78至87中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述液体供应装置从与上述光学构件对向配置的可动构件通过上述通过口，将上述第2液体供应到上述规定空间。

89.根据权利要求87或88所述的曝光装置，其特征在于：

上述可动构件不同于保持上述衬底的可动构件。

90.根据权利要求78至89中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述加振装置包含在上述第2液体中产生超音波的超音波产生装置。

91.根据权利要求78至90中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述液体供应机构具有与上述第1液体的流路的至少一部分共通的供应路。

92.根据权利要求78至91中任一项所述的曝光装置，其特征在于包括：

回收上述第2液体的液体回收机构。

93.根据权利要求78至92中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述液体供应装置具有收容上述第2液体的、装拆自如的容器。

94.根据权利要求78至93中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述第1液体不同于上述第2液体。

95.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求78至94中任一项所述的曝光装置使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

96.一种曝光装置的维修方法，是上述曝光装置用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间，用曝光用光经由上述光学构件与上述第1液体使上述衬底曝光的曝光装置的维修方法，其特征在于包括：

移动步骤，与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件对向配置可动体；以及

洗净步骤，为了洗净上述液浸空间形成构件，从上述可动体朝上述液浸空间形成构件的上述第1液体通过口喷出第2液体。

97.根据权利要求96所述的维修方法，其特征在于：

上述光学构件是上述曝光装置的投影光学系统的一部分。

98.根据权利要求96或97所述的维修方法，其特征在于：

上述通过口包含上述液浸空间形成构件的上述第1液体的供应口及回收口的至少一方。

99.根据权利要求96至98中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述洗净步骤至少洗净设置于上述通过口的网眼状的过滤构件。

100.根据权利要求96至99中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述洗净步骤至少洗净上述液浸空间形成构件的网眼状过滤构件。

101.根据权利要求96至100中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述洗净步骤包含吸引喷出上述第2液体的氛围中的气体的步骤。

102.根据权利要求96至101中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述洗净步骤包含一边喷出上述第2液体、一边相对移动上述液浸空间形成构件与上述可动体的步骤。

103.根据权利要求96至102中任一项所述的维修方法，其特征在于：

上述第1液体不同于上述第2液体。

104.根据权利要求96至103中任一项所述的维修方法，其特征在于：

使用不同于保持上述衬底的可动体的可动体。

105.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

使用权利要求96至104中任一项所述的维修方法的步骤。

106.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

朝向用上述第1液体充满上述光学构件与上述衬底之间以形成液浸空间的液浸空间形成构件，从不同于保持上述衬底的可动体的可动体喷出第2液体，以洗净上述液浸空间形成构件。

107.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求105或106所述的曝光方法使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

108.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装置，其特征在于包括：

液浸空间形成构件，用上述第1液体充满上述光学构件与上述衬底之间以形成液浸空间；

可动体，与上述液浸空间形成构件对向配置；以及

喷出装置，为了洗净上述液浸空间形成构件，从上述可动体朝上述液浸空间形成构件的上述第1液体通过口喷出第2液体。

109.根据权利要求108所述的曝光装置，其特征在于还包括：

投影光学系统，

上述光学构件是投影光学系统的一部分。

110.根据权利要求108或109所述的曝光装置，其特征在于：

上述通过口包含上述液浸空间形成构件的上述第1液体的供应口及回收口的至少一方。

111.根据权利要求108至110中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述液浸空间形成构件在上述通过口设有网眼状的过滤构件。

112.根据权利要求108至111中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

通过上述第2液体的喷出来至少洗净上述液浸空间形成构件的网眼状过滤构件。

113.根据权利要求108至112中任一项所述的曝光装置，其特征在于还包括：

吸引装置，从上述可动体上面的喷出口附近吸引气体及液体。

114.根据权利要求108至113中任一项所述的曝光装置，其特征在于还包括：

控制装置，一边用上述喷出装置喷出第2液体、一边相对移动上述液浸空间形成构件与上述可动体。

115.根据权利要求108至114中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述可动体不同于保持上述衬底的可动体。

116.根据权利要求108至115中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述第1液体不同于上述第2液体。

117.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求108至116中任一项所述的曝光装置使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

118.一种曝光装置的维修方法，是上述曝光装置用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间，经由上述光学构件与上述第1液体用曝光用光使上述衬底曝光的曝光装置的维修方法，其特征在于包括：

液浸步骤，与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件对向配置可动体，将上述第1液体供应到上述可动体上；以及

洗净步骤，使用所供应的气体以便在上述曝光时围绕上述液浸空间，来清扫上述液浸空间形成构件。

119.根据权利要求118所述的维修方法，其特征在于：

上述光学构件是上述曝光装置的投影光学系统的一部分。

120.根据权利要求118或119所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净步骤中，经由上述第1液体将上述气体供应到上述液浸空间形成构件的上述第1液体通过口。

121.根据权利要求118至120中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述液浸步骤中，被供应上述第1液体的上述可动体表面为多孔质。

122.根据权利要求118至121中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述液浸步骤中，取代上述衬底在上述可动体配置表面为多孔质的虚拟衬底，对上述虚拟衬底供应上述第1液体。

123.根据权利要求118至122中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净步骤中，至少清扫上述液浸空间形成构件的上述第1液体的供应口及回收口的至少一方。

124.根据权利要求118至123中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净步骤中，至少清扫上述液浸空间形成构件的网眼状过滤构件。

125.根据权利要求118至124中任一项所述的维修方法，其特征在于：

在上述洗净步骤中，清扫与上述第1液体接触的上述液浸空间形成构件的至少一部分。

126.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

使用权利要求118至125中任一项所述的维修方法的步骤。

127.一种经由光学构件与第1液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件对向配置可动体，将上述第1液体供应到上述可动体，且使用所供应的气体以便在上述曝光时围绕上述液浸空间，来清扫上述液浸空间形成构件。

128.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求126或127所述的曝光方法使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

129.一种曝光装置，用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间，经由上述光学构件与上述第1液体用曝光用光使上述衬底曝光，所述曝光装置的特征在于包括：

液浸空间形成构件，用上述第1液体形成上述液浸空间；

气体供应机构，供应气体以便在上述衬底的曝光时围绕上述液浸空间；

可动体，与上述光学构件对向配置；

液体供应部，经由上述液浸空间形成构件将上述第1液体供应至上述可动体上；以及

控制装置，从上述气体供应机构对上述可动体上的被供应上述第1液体的区域供应上述气体，以洗净上述液浸空间形成构件。

130.根据权利要求129所述的曝光装置，其特征在于包括：

投影光学系统，上述光学构件是投影光学系统的一部分。

131.根据权利要求129或130所述的曝光装置，其特征在于：

上述气体供应机构，经由上述第1液体将上述气体供应至上述液浸空间形成构件的上述第1液体通过口。

132.根据权利要求131所述的曝光装置，其特征在于：

上述通过口包含上述液浸空间形成构件的上述第1液体的供应口及回收口的至少一方。

133.根据权利要求131或132所述的曝光装置，其特征在于：

在上述通过口设有网眼状的过滤构件。

134.根据权利要求129至133中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

被供应上述第1液体的上述可动体表面为多孔质。

135.根据权利要求129至134中任一项所述的曝光装置，其特征在于：

上述气体供应机构，将上述气体至少供应到上述液浸空间形成构件的上述第1液体的回收口或/及网眼状过滤构件。

136.一种组件制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求129至135中任一项所述的曝光装置使衬底曝光；

使曝光后的衬底显影；以及

对显影后的衬底进行加工。

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