[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

CN107850693B - 减反射膜 - Google Patents

减反射膜 Download PDF

Info

Publication number
CN107850693B
CN107850693B CN201680044423.0A CN201680044423A CN107850693B CN 107850693 B CN107850693 B CN 107850693B CN 201680044423 A CN201680044423 A CN 201680044423A CN 107850693 B CN107850693 B CN 107850693B
Authority
CN
China
Prior art keywords
fluorine
antireflection film
functional group
substituted
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201680044423.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107850693A (zh
Inventor
张锡勋
金宪
金芙敬
边真锡
张影来
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chem Ltd filed Critical LG Chem Ltd
Priority claimed from PCT/KR2016/014182 external-priority patent/WO2017095206A1/ko
Publication of CN107850693A publication Critical patent/CN107850693A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107850693B publication Critical patent/CN107850693B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/006—Anti-reflective coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/66—Additives characterised by particle size
    • C09D7/67—Particle size smaller than 100 nm
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

本发明涉及一种减反射膜，包含：硬涂层，该硬涂层的表面的中心线平均粗糙度(Ra)为1.2nm以下并且表面能为34mN/m以下；以及在所述硬涂层上形成的低折射率层。

Description

减反射膜
技术领域
相关申请的交叉引用
本申请要求基于2015年12月03日提交到韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2015-0171773和于2016年12月02日提交到韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2016-0163711的优先权的权益，这两项申请的公开内容通过引用全部并入本申请中。
本发明涉及一种减反射膜。更具体地，本发明涉及一种减反射膜，该减反射膜能够同时实现高耐擦伤性和防污性能，同时具有低反射率和高透光率，并且能够通过实现低反射率来减少外部光的反射，从而提高显示装置的可视性。
背景技术
通常，诸如PDP或LCD的平板显示装置配备有减反射膜以使从外部入射的光的反射最小化。
为了使光的反射最小化，存在：将诸如无机微粒的填料分散在树脂中并将填料涂布在基膜上来赋予不规则度的方法(防眩光：AG涂层)；通过在基膜上形成多个具有不同的折射率的层来利用光的干涉的方法(减反射：AR涂层)；将它们混合的方法等。
其中，在AG涂层的情况下，反射的光的绝对量相当于常规硬涂层的量，但是，通过利用由不规则度引起的光散射来减少进入眼睛的光的量，可以得到低反射效果。然而，由于表面不规则度，AG涂层具有差的屏幕清晰度，因此，近年来已经对AR涂层进行了许多研究。
作为使用AR涂层的膜，基膜上层压硬涂层(高折射率层)、低反射涂层等的多层结构已经商业化。然而，上述形成多个层的方法具有以下缺点：由于单独地进行形成各个层的步骤，层间粘合力(界面粘合力)弱，并且耐擦伤性低。
另外，通常，为了改善减反射膜中包含的低折射率层的耐擦伤性，已经主要尝试添加各种纳米尺寸的粒子(例如，二氧化硅、氧化铝、沸石等的粒子) 的方法。然而，当如上所述使用纳米尺寸的粒子时，通过显著增加纳米尺寸的粒子相对于折射率层的粘合剂树脂的含量来提高耐擦伤性存在限制，并且低折射率层的表面的防污性能大大降低。
因此，已经积极地进行许多研究以减少从外部入射的光的绝对反射量并且改善表面的耐擦伤性，以及改善防污性能。
发明内容
技术问题
本发明的一个目的是提供一种减反射膜，该减反射膜能够同时实现高耐擦伤性和防污性能，同时具有低反射率和高透光率，并且能够通过实现低反射率来减少外部光的反射，从而提高显示装置的可视性。
技术方案
在本公开的一个实施方案中，提供一种减反射膜，包含：硬涂层，其表面的中心线平均粗糙度(Ra)为1.2nm以下并且表面能为34mN/m以下；以及在所述硬涂层上形成的低折射率层。
下文中，将更详细地描述根据本发明的具体实施方案的减反射膜。
在本公开中，“可光聚合的化合物”统指当用光照射时，例如，当用可见光或紫外光照射时引起聚合反应的化合物。
此外，“含氟化合物”指在化合物中含有至少一个氟元素的化合物。
此外，“(甲基)丙烯酰基((meth)acryl)”指丙烯酰基(acryl)和甲基丙烯酰基(methacryl)两者。
此外，“(共)聚合物((co)polymer)”指共聚物和均聚物两者。
此外，“中空二氧化硅粒子”指由硅化合物或有机硅化合物衍生的二氧化硅粒子，其中，在二氧化硅粒子的表面上和/或内部存在空穴。
根据本发明的一个实施方案，可以提供一种减反射膜，包含：硬涂层，其表面的中心线平均粗糙度(Ra)为1.2nm以下并且表面能为34mN/m以下；以及在所述硬涂层上形成的低折射率层。
通常，为了进一步降低减反射膜的反射率，添加过量的无机微粒，但是结果，具有低折射率层的表面的耐擦伤性和防污性能大大降低的限制。减反射膜的光学特性和机械性能主要由低折射率层来确定，因此，以前的研究集中于改变低折射率层的主要特性或使用新的添加剂的方法。
然而，本发明人对减反射膜进行深入研究并且通过实验发现，当减反射膜的硬涂层具有以前未知的表面特性时，减反射膜能够同时改善防污性能和诸如耐擦伤性的机械性能或光学特性，从而完成本发明。
具体地，如对于上述实施方案的减反射膜所提出的那样，当将中心线平均表面粗糙度(Ra)为1.2nm以下且表面能为34mN/m以下的硬涂层施用于减反射膜中时，可以调节整个减反射膜的表面特性，并且这种减反射膜可以同时实现高耐擦伤性和防污性能，同时具有低反射率和高透光率，并且通过实现低反射率来减少外部光的反射，从而提高显示装置的可视性。
硬涂层的表面的中心线平均粗糙度(Ra)可以为1.2nm以下，或为0.4nm至 1.0nm，或为0.5nm至0.8nm。中心线平均粗糙度可以是表示JIS标准(JIS B 0601-1982)的表面粗糙度的测量值。例如，可以使用涂布有铝的硅尖(Bruker Corp.)用Multimode AFM(MultiMode8)装置(Bruker Corp.)以0.5Hz至0.8Hz的扫描速度进行测量。具体地，用碳带将各个样品(长度×宽度：1cm×1cm)固定在AFM样品盘上，用光学显微镜观察平坦部分来进行测量，并且对在 5μm×5μm的区域中的3个点的测量值取平均值，从而得到中心线平均粗糙度 (Ra)。
另外，硬涂层的表面能可以为34mN/m以下，或为28mN/m至34mN/m，或为30mN/m至33.5mN/m。上述表面能通过如下方式测量：使用公知的测量装置，例如，接触角测定仪DSA-100(Kruss)确定在10个点处的去离子水 (Gebhardt)和二碘甲烷(Owens)的接触角，计算平均值，然后将平均接触角转换为表面能。具体地，在表面能的测量中，可以通过使用Dropshape Analysis软件并将OWRK(Owen,Wendt,Rable,Kaelble)方法的下面的通式1应用于程序，来将接触角转换为表面能。
[通式1]
Figure BDA0001561815410000031
由于硬涂层具有上述中心线平均粗糙度和表面能，因此，包含上述硬涂层的减反射膜可以同时实现高耐擦伤性和防污性能，同时具有低反射率和高透光率。
当中心线平均粗糙度和表面能量被限制在上述范围内时，包含硬涂层和低折射率层的减反射膜的表面粗糙度可以相对降低。因此，减反射膜的表面滑动性能得到改善并且可以减少摩擦。此外，可以降低减反射膜的表面粗糙度和表面能，这使得表面难以通过毛细管现象吸附污染物，从而促进表面清洁并且确保提高的防污性能。
硬涂层的中心线平均粗糙度和表面能可以通过调节硬涂层的表面特性来得到。例如，通过调节硬涂层的表面中的固化程度，硬涂层的表面的中心线平均粗糙度(Ra)可以为1.2mm以下，或为0.5nm至1.0mm，并且硬涂层的表面能可以为34mN/m以下，或为28mN/m至34mN/m，或为30mN/m至 33.5mN/m。
具体地，硬涂层的固化程度可以通过调节诸如光照射量或强度，或者在硬涂层的形成过程中注入的氮气的流量的固化条件来控制，并且可以得到表面固化至约30％至48％的硬涂层。在基本上完全固化的硬涂层的情况下，会难以具有足够的耐擦伤性，但是如上所述，表面固化至约30％至48％的硬涂层可以同时具有高耐擦伤性和防污性能。
因此，表面固化至约30％至48％的硬涂层在表面处的中心线平均粗糙度 (Ra)可以为1.2nm以下，或为0.5nm至1.0nm，并且表面能为34mN/m以下，或为28mN/m至34mN/m，或为30mN/m至33.5mN/m。
例如，可以通过在氮气吹扫下(为了施加氮气气氛条件)以5mJ/cm2至 2,000mJ/cm2或10mJ/cm2至200mJ/cm2的剂量对用于形成硬涂层的树脂组合物进行紫外线照射来得到硬涂层。此外，在将用于形成硬涂层的树脂组合物涂布在基板上的状态下，也可以在以10m/分钟至100m/分钟的速度移动的同时进行紫外线照射。
同时，作为硬涂层，可以使用本领域中公知的硬涂层而没有特别地限制。
硬涂膜的一个实例包括包含含有可光固化的树脂的粘合剂树脂的硬涂膜。
硬涂层中包含的可光固化的树脂可以是当用诸如紫外光等的光照射时能够引起聚合反应的可光固化的化合物的聚合物，并且可以是本领域中通常使用的树脂。
例如，硬涂层可以包含粘合剂树脂，该粘合剂树脂含有选自以下物质中的至少一种可光固化的化合物的聚合物：具有至少一个烯属不饱和键的(甲基) 丙烯酸酯单体；具有至少一个烯属不饱和键的氨基甲酸酯类(甲基)丙烯酸酯单体、具有至少一个烯属不饱和键的环氧类(甲基)丙烯酸酯和具有至少一个烯属不饱和键的酯类(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物；以及具有至少一个烯属不饱和键并且具有杂环骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物，或具有至少一个烯属不饱和键并且具有脂环的(甲基)丙烯酸酯。
另外，可光固化的化合物可以是多官能(甲基)丙烯酸酯类单体或低聚物。在这种情况下，在确保硬涂层的物理性能的方面，有利地是(甲基)丙烯酸酯类官能团的数量为2至10，优选地为2至8，更优选地为2至7。
这种多官能(甲基)丙烯酸酯单体是分子中具有至少一个或至少两个具有烯属不饱和键的官能团如乙烯基或(甲基)丙烯酸酯基的(甲基)丙烯酸酯单体，其更具体的实例包括：双官能(甲基)丙烯酸酯，如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯单硬脂酸酯、二环戊基二(甲基)丙烯酸酯和异氰脲酸酯二(甲基)丙烯酸酯；三官能(甲基)丙烯酸酯，如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯；四官能以上的(甲基)丙烯酸酯，如季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯和二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；以及上述多官能(甲基)丙烯酸酯单体的环氧乙烷改性产物、己内酯改性产物和丙酸改性产物。
此外，可光固化的化合物可以包括诸如氨基甲酸酯类(甲基)丙烯酸酯、环氧类(甲基)丙烯酸酯或酯类(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物中的至少一种。
此外，可光固化的化合物可以是具有杂环骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物或具有脂环的(甲基)丙烯酸酯。
作为上述杂环骨架，可以使用的具体骨架包括二噁烷骨架、三噁烷骨架、异氰脲酸酯骨架等。(甲基)丙烯酰基可以与杂环骨架连接。具体地，(甲基)丙烯酰基优选直接地或通过烃基与杂环骨架连接。当(甲基)丙烯酰基通过烃基连接时，烃基可以包括具有1至10个碳原子的亚烷基，或具有1至10个碳原子并且具有醚键的亚烷基。
具有脂环的(甲基)丙烯酸酯的具体实例包括：作为单官能(甲基)丙烯酸酯化合物，具有脂环的单官能(甲基)丙烯酸酯，如(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基) 丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基氧乙基酯、(甲基)丙烯酸环己酯、1,3-金刚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-金刚烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基-2-金刚烷基 (甲基)丙烯酸酯、3-羟基-1-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯和1-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯；或具有脂环的双官能(甲基)丙烯酸酯，如三环癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯。
作为硬涂膜的另一实例，可以提出如下硬涂膜，该硬涂膜包含：粘合剂树脂，该粘合剂树脂含有可光固化的树脂和重均分子量为10,000以上的高分子量(共)聚合物；以及分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒。
高分子量(共)聚合物可以是选自纤维素类聚合物、丙烯酰基类聚合物、苯乙烯类聚合物、环氧化物类聚合物、尼龙类聚合物、氨基甲酸酯类聚合物和聚烯烃类聚合物中的至少一种。
硬涂层中包含的可光固化的树脂可以是当用诸如紫外光等的光照射时能够引起聚合反应的可光固化的化合物的聚合物，并且可以是本领域中通常使用的树脂。可光固化的化合物的具体实例如上所述。
有机或无机微粒的粒径可以为1μm至10μm。
有机或无机微粒可以是包括丙烯酸类树脂、苯乙烯类树脂、环氧树脂和尼龙树脂的有机微粒，或者可以是包括氧化硅、二氧化钛、氧化铟、氧化锡、氧化锆和氧化锌的无机微粒。
硬涂膜可以由包含有机或无机微粒、可光固化的树脂、光引发剂和重均分子量为10,000以上的高分子量(共)聚合物的防眩光涂层组合物形成。
作为硬涂膜的另一实例，可以提出包含含有可光固化的树脂的粘合剂树脂以及分散在所述粘合剂树脂中的抗静电剂的硬涂膜。
如上所述，硬涂层中包含的可光固化的树脂是当用诸如紫外线的光照射时可以引起聚合反应的可光固化的化合物的聚合物，并且可以是本领域中通常使用的树脂。可光固化的化合物的具体实例如上所述。
抗静电剂可以是季铵盐化合物；吡啶盐；具有1至3个氨基的阳离子化合物；阴离子化合物，如磺酸碱、硫酸酯碱、磷酸酯碱、膦酸碱等；两性化合物，如氨基酸类或氨基硫酸酯类化合物；非离子化合物，如亚氨基醇类化合物、甘油类化合物、聚乙二醇类化合物等；有机金属化合物，如包含锡、钛等的金属醇盐化合物；金属螯合物化合物，如有机金属化合物的乙酰丙酮盐；这些化合物中的两种以上的反应物或聚合物；以及这些化合物中的两种以上的混合物。此处，季铵盐化合物可以是分子中具有至少一个季铵盐基团的化合物，并且可以使用低分子型或高分子型而没有限制。
另外，作为抗静电剂，也可以使用导电聚合物和金属氧化物微粒。导电聚合物可以包括：芳香族共轭聚(对亚苯基)、杂环共轭聚吡咯、聚噻吩、脂肪族共轭聚乙炔、含有杂原子的共轭聚苯胺、混合型共轭聚(亚苯基亚乙烯基)、分子中具有多个共轭链的共轭双链型共轭化合物、通过共轭聚合物链与饱和聚合物的接枝或嵌段共聚合而得到的导电复合物等。此外，金属氧化物微粒包括：氧化锌、氧化锑、氧化锡、氧化铈、氧化铟锡、氧化铟、氧化铝、掺杂锑的氧化锡、掺杂铝的氧化锌等。
包含可光固化的树脂的粘合剂树脂以及分散在该粘合剂树脂中的抗静电剂的硬涂膜还可以包含选自烷氧基硅烷类低聚物和金属醇盐类低聚物中的至少一种化合物。
烷氧基硅烷类化合物可以是本领域中通常使用的化合物，但是优选地，可以是选自四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷和缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷中的至少一种化合物。
另外，金属醇盐类低聚物可以通过包含金属醇盐类化合物和水的组合物的溶胶-凝胶反应来制备。所述溶胶-凝胶反应可以通过与上述用于制备烷氧基硅烷类低聚物的方法相似的方法进行。
然而，由于金属醇盐类化合物可以与水迅速反应，因此，溶胶-凝胶反应可以通过将金属醇盐类化合物在有机溶剂中稀释，然后向其中缓慢地逐滴添加水来进行。此时，考虑到反应效率等，金属醇盐类化合物与水的摩尔比(基于金属离子)优选地调节在3至170的范围内。
此处，金属醇盐类化合物可以是选自四异丙醇钛、异丙醇锆和异丙醇铝中的至少一种化合物。
另一方面，硬涂膜可以由包含可光固化的树脂或可光固化的化合物、抗静电剂和光聚合引发剂的可光固化的涂层组合物形成。
作为光聚合引发剂，可以使用已知可用于可光固化的树脂组合物的任意化合物而没有特别地限制。具体地，可以使用二苯甲酮类化合物、苯乙酮类化合物、非咪唑类化合物、三嗪类化合物、肟类化合物或它们中的两种以上的混合物。
基于100重量份的可光聚合的化合物，光聚合引发剂的用量可以为1重量份至100重量份。如果光聚合引发剂的量太小，在可光固化的涂层组合物的光固化步骤中光聚合引发剂不固化，从而产生残留物质。如果光聚合引发剂的量太大，未反应的引发剂会作为杂质残留，或者交联密度会降低，由此，得到的膜的机械性能会劣化或者反射率会大大提高。
可光固化的涂层组合物还可以包含有机溶剂。
有机溶剂的非限制性实例包括酮、醇、乙酸酯和醚，或它们中的两种以上的混合物。
这种有机溶剂的具体实例包括：酮，如甲基乙基酮、甲基异丁基酮、乙酰丙酮或异丁基酮；醇，如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇或叔丁醇；乙酸酯，如乙酸乙酯、乙酸异丙酯或聚乙二醇单甲醚乙酸酯；醚，如四氢呋喃或丙二醇单甲醚；或它们中的两种以上的混合物。
有机溶剂可以在将可光固化的涂层组合物中包含的各组分混合时添加，或者可以在将各组分以分散的或混合的状态添加到有机溶剂中时添加到可光固化的涂层组合物中。如果可光固化的涂层组合物中有机溶剂的含量太小，可光固化的涂层组合物的流动性会降低，在最终制备的膜中引起诸如产生条纹的缺陷等。此外，如果添加过量的有机溶剂，固体含量降低，并且由于涂布和成膜不充分，膜的物理性能和表面性能会劣化，并且在干燥和固化工艺的过程中会产生缺陷。因此，可光固化的涂层组合物可以包含有机溶剂，使得包含的组分的总固体的浓度为1重量％至55重量％，或为30重量％至45 重量％。
可光固化的涂层组合物还可以包含添加剂。这种添加剂的实例包括：润湿剂，用于降低可光固化的涂层组合物的涂布溶液的表面张力，从而改善在基板上的润湿性能；流平剂，用于改善表面流平性能，从而确保均匀的厚度和涂布性能，等等。
另一方面，与上述硬涂层一起，包含使用含有可光固化的化合物、至少两种含有光反应性官能团的含氟化合物、无机微粒和光引发剂的可光固化的涂层组合物制备的低折射率层的减反射膜可以改善耐磨性或耐擦伤性，同时还降低反射率并且提高透光率，同时确保防止外部污染物的优异的防污性能。
具体地，当可光固化的涂层组合物含有两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物时，最终制备的低折射率层可以具有降低的反射率和提高的透光率，并且确保防止外部污染物的高防污性能，同时改善诸如耐擦伤性的机械性能。
具体地，由于含有光反应性官能团的含氟化合物中含有的氟元素的特性，由可光固化的涂层组合物制备的低折射率层能够使相对于液体或有机物质的相互作用能降低，由此，不仅可以大大减少转移至低折射率层的污染物的量，而且可以防止转移的污染物残留在表面上的现象，并且污染物本身可以容易地除去。
另外，在低折射率层的形成过程中，含有光反应性官能团的含氟化合物中包含的反应性官能团进行交联作用，从而提高低折射率层具有的物理耐久性、耐擦伤性和热稳定性。
特别地，通过使用两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物，与使用一种含有光反应性官能团的含氟化合物的情况相比，可以得到更高的协同效应，具体地，如上所述制备的低折射率层可以实现诸如改善的防污性能和滑动性能的表面性能，同时确保更高的物理耐久性和耐擦伤性。
具体地，低折射率层包含：粘合剂树脂，该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物与两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物之间交联的(共) 聚合物；以及分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒。
两种以上类型的包含光反应性官能团的含氟化合物可以根据含有的氟含量范围进行分类。具体地，两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物根据类型具有不同的氟含量范围。
由于由在两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物中表现出较高的氟含量的含氟化合物引起的特性，由可光固化的涂层组合物制备的低折射率层和减反射膜可以具有更加改善的防污性能，同时确保较低的反射率。此外，在两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物中表现出较低的氟含量的含氟化合物可以进一步改善与可光固化的涂层组合物中含有的其它组分的相容性，进一步地，最终制备的低折射率层和减反射膜具有更高的物理耐久性和耐擦伤性，并且具有均匀的表面特性和高表面滑动性以及改善的防污性能。
更具体地，两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物可以基于其中含有的25重量％的氟含量来进行分类。各个含有光反应性官能团的含氟化合物中含有的氟的含量可以通过公知的分析方法，例如，IC(离子色谱法) 分析方法来确认。
作为一个具体的实例，两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物可以包括第一含氟化合物，该第一含氟化合物含有光反应性官能团并且含有25重量％至60重量％的氟。
此外，两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物可以包括第二含氟化合物，该第二含氟化合物含有光反应性官能团并且含有1重量％至25 重量％的氟。
当可光固化的涂层组合物包含1)含有光反应性官能团并且含有25重量％至60重量％的氟的第一含氟化合物，以及2)含有光反应性官能团并且含有1％重量以上且小于25％的氟的第二含氟化合物时，与使用一种类型的含有光反应性官能团的含氟化合物的情况相比，可以实现诸如提高的防污性能和滑动性能的表面特性，同时确保更高的物理耐久性和耐擦伤性。
具体地，由于具有较高的氟含量的第一含氟化合物，最终制备的低折射率层和减反射膜可以具有更加改善的防污性能同时确保较低的反射率，由于具有较低的氟含量的第二含氟化合物，可以进一步提高与可光固化的涂层组合物中含有的其它组分的相容性。此外，最终制备的低折射率层和减反射膜可以具有更高的物理耐久性和耐擦伤性，并且具有均匀的表面性能和高表面滑动性能以及改善的防污性能。
第一含氟化合物与第二含氟化合物之间的氟含量的差异可以为5重量％以上。当第一含氟化合物与第二含氟化合物之间的氟含量的差异为5重量％以上或为10重量％以上时，由第一含氟化合物和第二含氟化合物各自引起的效果可以进一步最大化，由此，可以增加同时使用第一含氟化合物和第二含氟化合物的协同作用。
术语“第一”和“第二”用于指定待提及的组分，因此，对顺序或重要性没有限制。
对第一含氟化合物与第二含氟化合物之间的重量比没有特别地限制，但是为了使最终制备的低折射率层具有均匀的表面特性以及改善的耐擦伤性和防污性能，第一含氟化合物与第二含氟化合物之间的重量比可以为0.01至0.5，优选地为0.01至0.4。
两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物可以分别含有或取代有一个以上的光反应性官能团。光反应性官能团指通过照射光，例如，通过照射可见光或紫外光而能够参与聚合反应的官能团。光反应性官能团可以包括已知能够通过照射光而参与聚合反应的各种官能团。其具体实例包括(甲基) 丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基或硫醇基。
两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物可以各自是重均分子量(由通过GPC方法测定的就聚苯乙烯而言的重均分子量)为2,000至200,000，优选地为5,000至100,000的低聚物或(共)聚合物。
两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物中的每一种或它们中的任意一种或多种可以是一个分子中具有两个以上反应性官能团的含氟单体。
为了进一步降低低折射率层的折射率，可以包括一个分子中具有两个以上反应性官能团的含氟单体。
当含氟单体一个分子中具有两个以上的反应性官能团时，可以提高低折射率层的涂膜强度，并且当含有氟时，可以调节低折射率层的诸如折射率的光学特性。在一分子中具有两个以上反应性官能团的含氟单体的实例包括：具有季戊四醇骨架的含氟单体、具有二季戊四醇骨架的含氟单体、具有三羟甲基丙烷骨架的含氟单体、具有环己基骨架的含氟单体、具有直链骨架的含氟单体等。
如果含有光反应性官能团的含氟化合物的重均分子量太小，可光固化的涂层组合物中的含氟化合物不能均匀地且有效地配置在最终制备的低折射率层的表面上，而是位于其内部。因此，低折射率的表面所具有的防污性能降低，并且低折射率层的交联密度降低，从而会使诸如整体强度和耐擦伤性的机械性能降低。
另外，如果含有光反应性官能团的含氟化合物的重均分子量太高，与可光固化的涂层组合物中的其它组分的相容性会降低，因此，最终制备的低折射率层的雾度或透光率会降低，并且低折射率层的强度也会降低。
具体地，含有光反应性官能团的含氟化合物包括：i)被至少一个光反应性官能团取代并且在至少一个碳上被至少一个氟取代的脂肪族化合物或脂环族化合物；ii)被至少一个光反应性官能团取代，至少一个氢被氟取代，并且至少一个碳被硅取代的杂脂肪族化合物或杂脂环族化合物；iii)被至少一个光反应性官能团取代并且在至少一个硅上被至少一个氟取代的聚二烷基硅氧烷类聚合物(例如，聚二甲基硅氧烷类聚合物)；或iv)被至少一个光反应性官能团取代并且至少一个氢被氟取代的聚醚化合物，或者i)至iv)中的两种以上的混合物或它们的共聚物。
基于100重量份的可光聚合的化合物，可光固化的涂层组合物可以含有 20重量份至300重量份的至少两种含有光反应性官能团的含氟化合物。至少两种含有光反应性官能团的含氟化合物相对于可光聚合的化合物的含量是以至少两种含有光反应性官能团的含氟化合物的总含量为基准。
当与可光聚合的化合物相比，添加过量的含有光反应性官能团的含氟化合物时，实施方案的可光固化的涂层组合物的涂布性能会降低，或者由实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层不会具有足够的耐久性或耐擦伤性。当与可光聚合的化合物相比，含有光反应性官能团的含氟化合物的量太小时，由实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层不会具有诸如足够的防污性能和耐擦伤性的机械性能。
含有光反应性官能团的含氟化合物还可以包含硅或硅化合物。换言之，含有光反应性官能团的含氟化合物可以在其中选择性地含有硅或硅化合物。具体地，含有光反应性官能团的含氟化合物中的硅的含量可以为0.1重量％至 20重量％。
含有光反应性官能团的含氟化合物中分别含有的硅或硅化合物的含量也可以通过公知的分析方法，例如，ICP(电感耦合等离子体)分析方法来确认。
含有光反应性官能团的含氟化合物中含有的硅可以提高与实施方案的可光固化的涂层组合物中含有的其它组分的相容性，由此，可以防止最终制备的折射层上产生雾度并且用于提高透明度，并且进一步改善最终制备的低折射率层或减反射膜的表面上的滑动性能，从而提高耐擦伤性。
另一方面，如果含有光反应性官能团的含氟化合物中的硅的含量太大，实施方案的可光固化的涂层组合物中含有的其它组分与含氟化合物之间的相容性甚至会降低，由此，最终制备的低折射率层和减反射膜不会具有足够的透明度和减反射性能，因此，表面的防污性能也会降低。
同时，可光固化的涂层组合物还可以包含被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷可以是反应性官能团存在于表面上的化合物，从而提高诸如在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的耐擦伤性的机械性能。
当用于形成低折射率层的可光固化的涂层组合物还包含被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷时，低折射率层中含有的粘合剂树脂还可以包含：可光聚合的化合物和两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物之间交联的(共)聚合物；以及被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。
当使用先前已知的诸如二氧化硅、氧化铝、沸石等的微粒时，仅膜或涂膜的强度增加，而当使用被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷时，不仅最终制备的低折射率层或减反射膜的强度增加，而且可以在整个膜区域上形成交联键，从而改善表面强度和耐擦伤性两者。
基于100重量份的可光聚合的化合物，可光固化的涂层组合物可以包含 0.5重量份至60重量份或1.5重量份至45重量份的被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。
当在可光固化的涂层组合物中，相对于可光聚合的化合物，被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的含量太小时，会难以充分确保在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的耐擦伤性。当在可光固化的涂层组合物中，相对于可光聚合的化合物，被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的含量太大时，最终制备的低折射率层或减反射膜的透明度会降低，并且耐擦伤性甚至会降低。
在聚倍半硅氧烷中取代的反应性官能团可以包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃[烯丙基(ally)、环烯基、乙烯基二甲基甲硅烷基等]、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种，并且可以优选地是环氧化物或(甲基)丙烯酸酯。
反应性官能团的更具体的实例包括：(甲基)丙烯酸酯、具有1至20个碳原子的(甲基)丙烯酸烷基酯、具有3至20个碳原子的烷基环烷基环氧化物和具有1至10个碳原子的环烷烃环氧化物。
(甲基)丙烯酸烷基酯表示未与(甲基)丙烯酸酯键合的“烷基”的另一部分是键合位置，环烷基环氧化物表示未与环氧化物键合的“环烷基”的另一部分是键合位置，烷基环烷烃环氧化物表示未与环烷烃环氧化物键合的“烷基”的另一部分是键合位置。
另一方面，除了上述反应性官能团之外，被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还可以包含选自具有1至20个碳原子的直链或支链烷基、具有6至20个碳原子的环己基和具有6至20个碳原子的芳基中的至少一种非反应性官能团。这样，当反应性官能团和非反应性官能团在聚倍半硅氧烷中进行表面取代时，被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷中的硅氧烷键(-Si-O-)位于分子的内部而不暴露于外部，由此，可以提高与其它有机物质的相容性，并且硅氧烷键稳固地形成在反应性官能团与其它有机物质之间，从而不被外部压力分离。此外，它可以用作在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂中的刚性支撑。因此，可以大大提高最终制备的低折射率层和减反射膜的强度和耐擦伤性。
另一方面，聚倍半硅氧烷可以由(RSiO1.5)n(其中，n为4至30或为8至 20)表示，并且可以具有多种结构，如无规、梯形、笼形、部分笼形等。
然而，为了提高由可光固化的涂层组合物制备的低折射率层和减反射膜的物理性能和质量，可以使用被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷(polyhedral oligomericsilsesquioxane)作为被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。
另外，更优选地，被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷在分子中可以包含8至20个硅原子。
另外，具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个或所有硅原子可以被反应性官能团取代，并且未被反应性官能团取代的硅原子可以如上所述被非反应性官能团取代。
当具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代时，可以提高在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的机械性能。此外，当其余的硅原子被非反应性官能团取代时，出现分子结构的空间位阻，这显著降低了硅氧烷键(-Si-O-)暴露于外部的频率或概率，由此，可以提高与其它有机物质的相容性，并且硅氧烷键稳固地形成在反应性官能团与其它有机物质之间，从而不被外部压力分离。此外，它可以用作在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂中的刚性支撑。因此，可以大大提高最终制备的低折射率层或减反射膜的强度和耐擦伤性。
被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷 (POSS)的实例包括：被至少一个醇取代的POSS，如TMP二醇异丁基POSS、环己二醇异丁基POSS、1,2-丙二醇异丁基POSS、八(3-羟基-3-甲基丁基二甲基甲硅烷氧基)POSS等；被至少一个胺取代的POSS，如氨丙基异丁基POSS、氨丙基异辛基POSS、氨乙基氨丙基异丁基POSS、N-苯基氨丙基POSS、N- 甲基氨丙基异丁基POSS、八铵基POSS(octaammonium POSS)、氨基苯基环己基POSS、氨基苯基异丁基POSS等；被至少一个羧酸取代的POSS，如马来酰胺酸-环己基POSS、马来酰胺酸-异丁基POSS、八马来酰胺酸POSS等；被至少一个环氧基取代的POSS，如环氧环己基异丁基POSS、环氧环己基POSS、缩水甘油基POSS、缩水甘油基乙基POSS、缩水甘油基异丁基POSS、缩水甘油基异辛基POSS等；被至少一个酰亚胺取代的POSS，如马来酰亚胺环己基POSS、马来酰亚胺异丁基POSS等；被至少一个(甲基)丙烯酸酯基取代的 POSS，如丙烯酰氧基异丁基POSS、(甲基)丙烯酰基异丁基POSS、(甲基)丙烯酸酯基环己基POSS、(甲基)丙烯酸酯基异丁基POSS、(甲基)丙烯酸酯基乙基POSS、(甲基)丙烯酰基乙基POSS、(甲基)丙烯酸酯基异辛基POSS、(甲基) 丙烯酰基异辛基POSS、(甲基)丙烯酰基苯基POSS、(甲基)丙烯酰基POSS、丙烯酰氧基POSS(acrylo POSS)等；被至少一个腈基取代的POSS，如氰基丙基异丁基POSS等；被至少一个降冰片烯取代的POSS，如降冰片烯基乙基乙基POSS、降冰片烯基乙基异丁基POSS、降冰片烯基乙基二硅烷基异丁基POSS POSS)、三降冰片烯基异丁基POSS等；被至少一个乙烯基取代的POSS，如烯丙基异丁基POSS、单乙烯基异丁基POSS、八环己烯基二甲基甲硅烷基 POSS、八乙烯基二甲基甲硅烷基POSS、八乙烯基POSS等；被至少一个烯烃取代的POSS，如烯丙基异丁基POSS、单乙烯基异丁基POSS、八环己烯基二甲基甲硅烷基POSS、八乙烯基二甲基甲硅烷基POSS、八乙烯基POSS 等；被具有5至30个碳原子的PEG取代的POSS；或者被至少一个硫醇基取代的POSS，如巯基丙基异丁基POSS、巯基丙基异辛基POSS等。
同时，实施方案的可光固化的涂层组合物中含有的可光聚合的化合物可以形成待制备的低折射率层的粘合剂树脂。具体地，可光聚合的化合物可以包含含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。具体地，可光聚合的化合物可以包含含有一个以上、或两个以上、或三个以上的(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。
含有(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物的具体实例包括：季戊四醇三(甲基) 丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三氯乙烯二异氰酸酯(trilenediisocyanate)、二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、丁二醇二甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸六乙酯、甲基丙烯酸丁酯或它们中的两种以上的混合物，或者氨基甲酸酯改性的丙烯酸酯低聚物、环氧丙烯酸酯低聚物、醚丙烯酸酯低聚物、树枝状丙烯酸酯低聚物或它们中的两种以上的混合物。此处，低聚物的分子量优选地为1,000至10,000。
含有乙烯基的单体或低聚物的具体实例包括二乙烯基苯、苯乙烯或对甲基苯乙烯。
对可光固化的涂层组合物中可光聚合的化合物的含量没有特别地限制。然而，考虑到最终制备的低折射率层和减反射膜的机械性能，可光固化的涂层组合物的固体含量中的可光聚合的化合物的含量可以为10重量％至80重量％。可光固化的涂层组合物的固体含量仅指固体组分，排出如下所述的选择性地包含在可光固化的涂层组合物中的液体组分，例如，有机溶剂。
另一方面，除了上述单体或低聚物之外，可光聚合的化合物还可以包含氟系(甲基)丙烯酸酯类化合物。当还包含氟系(甲基)丙烯酸酯类化合物时，氟系(甲基)丙烯酸酯类化合物与含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物的重量比可以为0.1％至10％。
氟系(甲基)丙烯酸酯类化合物的具体实例包括选自下面的化学式(11)至 (15)中的至少一种化合物。
[化学式11]
Figure BDA0001561815410000171
在上面的化学式11中，R1是氢基或具有1至6个碳原子的烷基，a是0 至7的整数，b是1至3的整数。
[化学式12]
Figure BDA0001561815410000172
在上面的化学式12中，c是1至10的整数。
[化学式13]
Figure BDA0001561815410000173
在上面的化学式13中，d是1至11的整数。
[化学式14]
Figure BDA0001561815410000174
在上面的化学式14中，e是1至5的整数。
[化学式15]
Figure BDA0001561815410000181
在上面的化学式15中，f是4至10的整数。
另一方面，低折射率层可以包含分散在粘合剂树脂中的无机微粒。无机微粒指直径为纳米或微米单位的无机粒子。
具体地，无机微粒可以是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子、数均粒径为1nm至50nm的纳米二氧化硅粒子或它们的混合物。
中空二氧化硅粒子指在粒子的表面上和/或内部存在空穴的二氧化硅粒子。中空二氧化硅粒子可以具有比内部被填充的粒子的折射率更低的折射率，从而可以表现出优异的减反射性能。
中空二氧化硅粒子的数均粒径可以为10nm至100nm，优选地为20nm至 70nm，更优选地为30nm至70nm，粒子的形状优选地为球形，但是可以是无定形。
另外，作为中空二氧化硅粒子，可以单独使用表面被光反应性官能团取代的中空二氧化硅粒子、表面被含氟化合物涂布的中空二氧化硅粒子、或者表面未被取代或未被涂布的中空二氧化硅粒子，或者可以使用两种以上的混合物或反应物。光反应性官能团可以包括(甲基)丙烯酸酯基、乙烯基、羟基、胺基、烯丙基、环氧基、羟基、异氰酸酯基、胺基和硫醇基。
中空二氧化硅粒子可以以分散在预定分散介质中的胶体相包含在组合物中。包含中空二氧化硅粒子的胶体相可以包含有机溶剂作为分散介质。
胶体相中的无机纳米粒子的固体含量可以鉴于实施方案的可光固化的涂层组合物中的中空二氧化硅的含量范围以及可光固化的涂层组合物的粘度等来确定，例如，胶体相中的中空无机纳米粒子的固体含量可以为5重量％至 60重量％。
此处，分散介质中有机溶剂的实例包括：醇，如甲醇、异丙醇、乙二醇、丁醇等；酮，如甲基乙基酮、甲基异丁基酮等；芳香烃，如甲苯、二甲苯等；酰胺，如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等；酯，如乙酸乙酯、乙酸丁酯、γ-丁内酯等；醚，如四氢呋喃、1,4-二噁烷等；或它们的混合物。
另外，作为无机微粒，可以使用数均粒径为1nm至50nm或为3nm至30nm 的纳米二氧化硅粒子。与中空二氧化硅粒子不同，纳米二氧化硅粒子指内部被填充的二氧化硅粒子。
通过使用纳米二氧化硅粒子，由上述实施方案的可光固化的涂层组合物制备的低折射率层可以确保更高的机械强度和耐擦伤性。此外，当以预定量包含数均粒径为1nm至50nm或为3nm至30nm的纳米二氧化硅粒子时，在低折射率层的形成过程中会产生无机微粒等的相分离，使得低折射率层的反射率可以进一步降低。
基于100重量份的可光聚合的化合物，低折射率层可以包含10重量份至 400重量份或20重量份至200重量份的无机微粒。当添加过量的无机微粒时，无机微粒配置在最终制备的低折射率层的表面上，过度地生成表面不规则度，因此防污性能会降低。
作为光聚合引发剂，可以使用已知可用于可光固化的树脂组合物的任意化合物而没有特别地限制。具体地，可以使用二苯甲酮类化合物、苯乙酮类化合物、非咪唑类化合物、三嗪类化合物、肟类化合物或它们中的两种以上的混合物。
基于100重量份的可光聚合的化合物，光聚合引发剂的用量可以为1重量份至100重量份。如果光聚合引发剂的量太小，在可光固化的涂层组合物的光固化步骤中光聚合引发剂不固化，从而产生残留物质。如果光聚合引发剂的量太大，未反应的引发剂会作为杂质残留，或者交联密度会降低，由此，得到的膜的机械性能会劣化，或者反射率会大大提高。
同时，可光固化的涂层组合物还可以包含有机溶剂。
有机溶剂的非限制性实例包括酮、醇、乙酸酯和醚，或它们中的两种以上的混合物。
这种有机溶剂的具体实例包括：酮，如甲基乙基酮、甲基异丁基酮、乙酰丙酮或异丁基酮；醇，如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇或叔丁醇；乙酸酯，如乙酸乙酯、乙酸异丙酯或聚乙二醇单甲醚乙酸酯；醚，如四氢呋喃和丙二醇单甲醚；或它们中的两种以上的混合物。
有机溶剂可以在将可光固化的涂层组合物中包含的各组分混合时添加，或者可以在将各组分以分散的或混合的状态添加到有机溶剂中时添加到可光固化的涂层组合物中。如果可光固化的涂层组合物中的有机溶剂的含量太小，可光固化的涂层组合物的流动性会降低，在最终制备的膜中引起诸如产生条纹的缺陷等。此外，如果添加过量的有机溶剂，固体含量降低，并且由于涂布和成膜不充分，膜的物理性能和表面性能会劣化，并且在干燥和固化工艺的过程中会产生缺陷。因此，可光固化的涂层组合物可以包含有机溶剂，使得包含的组分的总固体的浓度为1重量％至50重量％，或为2重量％至20 重量％。
低折射率层可以通过将可光固化的涂层组合物涂布在预定基板上，并使涂布后的产品光固化来得到。对基板的具体种类和厚度没有特别地限制，可以使用已知可用于制备低折射率层或减反射膜的基板而没有特别地限制。
可以使用通常用于涂布可光固化的涂层组合物的方法和装置，而没有特别地限制。例如，可以使用诸如使用迈耶棒(Meyer bar)等的棒涂布方法、凹版涂布方法、双辊反向涂布方法、真空狭缝式模具涂布方法、双辊涂布方法等。
低折射率层的厚度可以为1nm至300nm，或为50nm至200nm。因此，涂布在预定基板上的可光固化的涂层组合物的厚度可以为约1nm至300nm，或为50nm至200nm。
在使可光固化的涂层组合物光固化的步骤中，可以照射波长为200nm至 400nm的紫外光或可见光，并且曝光量优选地为5mJ/cm2至2,000mJ/cm2。对曝光时间没有特别地限制，可以根据所使用的曝光装置、照射光的波长或曝光量来适当地改变。
另外，在使可光固化的涂层组合物光固化的步骤中，可以进行氮气吹扫等来施加氮气气氛条件。
低折射率层的平均反射率可以为2.0％以下，或为1.0％以下，或为0.7％以下。
有益效果
根据本发明，可以提供一种减反射膜，该减反射膜能够同时实现高耐擦伤性和防污性能，同时具有低反射率和高透光率，并且能够通过实现低反射率来减少外部光的反射，从而提高显示装置的可视性。
具体实施方式
下文中，将通过实施例更详细地描述本发明的实施方案。然而，提供这些实施例仅用于说明的目的，本发明的范围不意在受这些实施例限制。
<制备实施例和比较例：减反射膜的制备>
(1)硬涂膜的制备
用甲基异丁基酮稀释由Toyo Ink Co.制备的盐型抗静电硬涂层溶液(固体含量为50重量％，产品名称：LJD-1000)，来制备固体含量为40％的硬涂层液。用#10迈耶棒将稀释后的硬涂层溶液涂布在三乙酰纤维素膜上，在90℃下干燥2分钟，然后在下面的表2的条件下光固化，来得到厚度为10μm的硬涂膜。
(2)用于制备低折射率层的可光固化的涂层组合物的制备
将下面的表1中的示出组分混合并用MIBK(甲基异丁基酮)溶剂稀释，使得固体含量为3重量％。
[表1](单位：重量％，基于总固体含量)
LR1 LR2 LR3 LR4 LR5
THRULYA 4320 50 50 50 42 42
X71-1203M 15
OPTOOL-AR110 15 15 18 18
RS-537 3 3 3 5 5
MA0701 4 5
MIBK-ST 10 10 10 15 13
二季戊四醇五丙烯酸酯 18 18 15 16 13
Irgacure-127 4 4 3 4 4
1)THRULYA 4320(由Catalysts and Chemicals Ltd.制备)：中空二氧化硅分散液(在MIBK溶剂中的固体含量为20重量％)
2)X71-1203M(由Shinetsu制备)：含有光反应性官能团的含氟化合物(在 MIBK溶剂中稀释至固体含量为15重量％，固体的氟含量为：约45重量％)
3)OPTOOL-AR 110(由Daikin制备)：具有光反应性官能团的含氟化合物 (在MIBK溶剂中稀释至固体含量为15重量％，固体的氟含量为：约51重量％)
4)RS537(由DIC制备)：含有光反应性官能团的含氟化合物(在MIBK溶剂中稀释至固体含量为40重量％，固体的氟含量为：约17重量％)
5)MA0701：聚倍半硅氧烷(由Hybrid Plastics制备)
6)MIBK-ST(由Nissan Chemical制备)：在MIBK溶剂中用纳米二氧化硅分散体稀释至固体含量为30％
(3)低折射率层和减反射膜的制备
用#3迈耶棒将在上面的表1中得到的可光固化的涂层组合物涂布在下面的表2中所示的硬涂膜上，并在60℃下干燥1分钟。在氮气吹扫下以100mJ/cm2的剂量对干燥后的物质进行紫外线照射，形成厚度为100nm的低折射率层，从而制备减反射膜。
[表2]
Figure BDA0001561815410000221
<实验例：减反射膜的物理性能的测量>
对在实施例和比较例中得到的减反射膜进行以下实验。
1.硬涂膜的表面能的测量
各个实施例和比较例的硬涂层的表面能通过如下方式测量：使用接触角测定仪DSA-100(Kruss)确定在10个点处的去离子水(Gebhardt)和二碘甲烷 (Owens)的接触角，计算平均值，然后将平均接触角转换为表面能。在表面能的测量中，通过使用DropshapeAnalysis软件并将OWRK(Owen,Wendt,Rable, Kaelble)方法的下面的通式1应用于程序，来将接触角转换为表面能。
[通式1]
Figure BDA0001561815410000231
2.中心线平均粗糙度(Ra)的测量
各个实施例和比较例的硬涂层的中心线平均粗糙度根据关于JIS标准(JIS B0601-1982)的表面粗糙度(Ra)的测量标准来测量。具体地，使用涂布有铝的硅尖(BrukerCorp.)用Multimode AFM(MultiMode 8)装置(Bruker Corp.)以 0.5Hz至0.8Hz的扫描速度进行测量。用碳带将各个实施例和比较例的硬涂层样品(长度×宽度：1cm×1cm)固定在AFM样品盘上，用光学显微镜观察平坦部分来进行测量，并且对在5μm×5μm的区域中的3个点的测量值取平均值，从而得到中心线平均粗糙度(Ra)。
3.防污性能的测量
在实施例和比较例中得到的减反射膜的表面上用红色记号笔绘制三条直线。然后，通过当用无纺布摩擦时的擦除次数来评价防污性能。
O：当摩擦5次以下时擦除
△：当擦拭6至10次时擦除
×：当摩擦11次以上时擦除或未擦除
4.耐擦伤性的测量
在负载下以10cm/秒的速度用钢丝绒(#0000)来回摩擦在实施例和比较例中得到的减反射膜的表面的20mm*20mm的表面区域10次。通过确认用肉眼观察到的1cm以下的划痕为1个以下时的最大负载来评价耐擦伤性。
[表]
Figure BDA0001561815410000241
如表3 中所示，可以证实，实施例的减反射膜具有相对优异的耐擦伤性，同时具有优异的防污性能。相反，可以证实，比较例的减反射膜表现出相对差的耐擦伤性，并且不能确保足够的防污性能。
具体地，可以证实，在使用表面的中心线平均粗糙度(Ra)为1.2nm以下并且表面能为34mN/m以下的硬涂层的实施例的减反射膜中，可以同时实现高耐擦伤性和防污性能，并且还可以实现相对低的反射率，例如，0.7％以下的平均反射率。

Claims (19)

1.一种减反射膜，包含：硬涂层，该硬涂层的表面的中心线平均粗糙度(Ra)为1.2nm以下并且表面能为34mN/m以下；以及
在所述硬涂层上形成的低折射率层；
其中，所述低折射率层包含：粘合剂树脂，该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物与两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物之间交联的(共)聚合物；以及分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒；
所述两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物根据类型具有不同的氟含量范围，
其中，所述两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物包括：含有光反应性官能团并且含有25重量％至60重量％的氟的第一含氟化合物；和含有光反应性官能团并且含有1重量％以上且小于25重量％的氟的第二含氟化合物。
2.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述硬涂层的表面的中心线平均粗糙度(Ra)为0.5nm至0.8nm。
3.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述硬涂层的表面能为30mN/m至33.5mN/m。
4.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述硬涂层包含粘合剂树脂，该粘合剂树脂含有选自以下物质中的至少一种可光固化的化合物的聚合物：(甲基)丙烯酸酯单体；氨基甲酸酯类(甲基)丙烯酸酯单体、环氧类(甲基)丙烯酸酯和酯类(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物；它们各自具有至少一个烯属不饱和键。
5.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述硬涂层包含：粘合剂树脂，该粘合剂树脂含有可光固化的树脂和重均分子量为10,000以上的高分子量(共)聚合物；以及分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒。
6.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述硬涂层包含：含有可光固化的树脂的粘合剂树脂；以及分散在所述粘合剂树脂中的抗静电剂。
7.根据权利要求6所述的减反射膜，其中，
所述硬涂层还包含选自烷氧基硅烷类低聚物和金属醇盐类低聚物中的至少一种化合物。
8.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述第一含氟化合物与所述第二含氟化合物之间的氟含量的差异为5重量％以上。
9.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述第一含氟化合物与所述第二含氟化合物之间的重量比为0.01至0.5。
10.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述含有光反应性官能团的含氟化合物是重均分子量为2,000至200,000的低聚物或(共)聚合物，或者
一个分子中具有两个以上的反应性官能团的含氟单体。
11.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述低折射率层含有20重量份至300重量份的所述两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物。
12.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述含氟化合物中包含的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种。
13.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述含有光反应性官能团的含氟化合物包括选自以下物质中的至少一种：i)被至少一个光反应性官能团取代并且在至少一个碳上被至少一个氟取代的脂肪族化合物或脂环族化合物；ii)被至少一个光反应性官能团取代，至少一个氢被氟取代，并且至少一个碳被硅取代的杂脂肪族化合物或杂脂环族化合物；iii)被至少一个光反应性官能团取代并且在至少一个硅上被至少一个氟取代的聚二烷基硅氧烷类聚合物；以及iv)被至少一个光反应性官能团取代并且至少一个氢被氟取代的聚醚化合物。
14.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述低折射率层中包含的粘合剂树脂还包含：可光聚合的化合物与两种以上类型的含有光反应性官能团的含氟化合物之间交联的(共)聚合物；以及被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。
15.根据权利要求14所述的减反射膜，其中，
基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述低折射率层包含0.5重量份至60重量份的被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。
16.根据权利要求14所述的减反射膜，其中，
所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷。
17.根据权利要求14所述的减反射膜，其中，
所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代，其余的未被反应性官能团取代的硅原子被非反应性官能团取代。
18.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
所述无机微粒包括选自数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子和数均粒径为1nm至50nm的纳米二氧化硅粒子中的至少一种，其中所述纳米二氧化硅粒子是指内部被填充的二氧化硅粒子。
19.根据权利要求1所述的减反射膜，其中，
基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述低折射率层包含10重量份至400重量份的所述无机微粒。
CN201680044423.0A 2015-12-03 2016-12-05 减反射膜 Active CN107850693B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20150171773 2015-12-03
KR10-2015-0171773 2015-12-03
KR1020160163711A KR102017789B1 (ko) 2015-12-03 2016-12-02 반사 방지 필름
KR10-2016-0163711 2016-12-02
PCT/KR2016/014182 WO2017095206A1 (ko) 2015-12-03 2016-12-05 반사 방지 필름

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107850693A CN107850693A (zh) 2018-03-27
CN107850693B true CN107850693B (zh) 2020-05-12

Family

ID=59219053

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680044423.0A Active CN107850693B (zh) 2015-12-03 2016-12-05 减反射膜

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10809419B2 (zh)
EP (1) EP3316008B1 (zh)
JP (1) JP6704624B2 (zh)
KR (1) KR102017789B1 (zh)
CN (1) CN107850693B (zh)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6789593B2 (ja) * 2016-03-09 2020-11-25 エルジー・ケム・リミテッド 反射防止フィルム
KR102201344B1 (ko) 2017-05-26 2021-01-08 주식회사 엘지화학 배터리 모듈과 이를 포함하는 배터리 팩 및 자동차
KR102166844B1 (ko) * 2017-09-15 2020-10-16 주식회사 엘지화학 하드 코팅 필름
KR102166845B1 (ko) * 2017-09-15 2020-10-16 주식회사 엘지화학 하드 코팅 필름
KR102257923B1 (ko) 2018-01-24 2021-05-27 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102267594B1 (ko) 2018-01-24 2021-06-18 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102280262B1 (ko) 2018-05-18 2021-07-21 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
JP7071418B2 (ja) * 2019-02-15 2022-05-18 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー 反射防止コーティング
KR102337211B1 (ko) * 2019-03-12 2021-12-09 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102327414B1 (ko) * 2019-10-01 2021-11-17 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치
KR102327415B1 (ko) 2019-10-01 2021-11-17 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치
KR102332887B1 (ko) 2019-10-01 2021-11-30 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치
CN112731765B (zh) * 2020-12-30 2024-03-26 西安瑞联新材料股份有限公司 一种含氟树脂组合物及制备方法和包含其的固化膜的制备方法
KR20230101276A (ko) * 2021-12-29 2023-07-06 주식회사 동진쎄미켐 실리콘 수지, 이를 포함하는 코팅 조성물 및 이의 경화체

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101107542A (zh) * 2005-01-18 2008-01-16 富士胶片株式会社 透明膜及其制备方法、偏振片和图像显示装置
CN101128753A (zh) * 2005-02-22 2008-02-20 富士胶片株式会社 薄膜及其制备方法、使用该薄膜的偏振片、液晶、以及使用该偏振片的显示装置
CN103460078A (zh) * 2011-03-29 2013-12-18 凸版印刷株式会社 防反射膜及偏振片
KR20140084613A (ko) * 2012-12-27 2014-07-07 동우 화인켐 주식회사 반사방지필름 및 이를 포함하는 편광판
KR20140140139A (ko) * 2013-05-23 2014-12-09 에스케이이노베이션 주식회사 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3491340B2 (ja) 1994-06-20 2004-01-26 東ソー株式会社 光磁気記録媒体
JP4178023B2 (ja) * 2002-05-01 2008-11-12 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板用保護フィルム、偏光板、および画像表示装置
EP1565767A4 (en) 2002-11-25 2007-10-10 Fujifilm Corp ANTI-REFLEXIVE FILM, POLARIZATION PLATE AND FLIGHT CRYSTAL DISPLAY DEVICE
JP2005017707A (ja) 2003-06-26 2005-01-20 Nitto Denko Corp 反射防止フィルム、偏光板、光学素子および画像表示装置
KR101194210B1 (ko) 2003-12-24 2012-10-29 후지필름 가부시키가이샤 반사 방지 필름, 편광판 및 액정표시장치
US7695781B2 (en) 2004-02-16 2010-04-13 Fujifilm Corporation Antireflective film, polarizing plate including the same, image display unit including the same and method for producing antireflective film
JP2005266800A (ja) 2004-02-18 2005-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板およびそれを用いたｖａモード型液晶表示装置
JP2006058728A (ja) 2004-08-23 2006-03-02 Toppan Printing Co Ltd 反射防止部材
JP4301115B2 (ja) 2004-08-25 2009-07-22 Ｊｓｒ株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及び反射防止膜
JP4556664B2 (ja) 2004-12-24 2010-10-06 日本ゼオン株式会社 反射防止積層体
JP2007177192A (ja) 2005-01-18 2007-07-12 Fujifilm Corp 透明フィルムおよびその製造方法、偏光板、画像表示装置
US7846511B2 (en) 2005-01-18 2010-12-07 Fujifilm Corporation Transparent film and method for manufacturing the same, polarized plate and image display device
US7419707B2 (en) * 2005-02-21 2008-09-02 Fujifilm Corporation Coating composition for the formation of low refractive index layer, antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2007069471A (ja) 2005-09-07 2007-03-22 Fujifilm Corp 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板および表示装置
JP4990005B2 (ja) 2006-03-31 2012-08-01 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2007321143A (ja) * 2006-05-01 2007-12-13 Fujifilm Corp 水中油（ｏ／ｗ）型エマルション塗布組成物、積層体、偏光板、画像表示装置、及び積層体の製造方法
JP5160550B2 (ja) 2006-10-16 2013-03-13 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 低屈折率層用コーティング組成物、これを用いた反射防止膜および前記反射防止膜を含む画像表示装置
KR100787770B1 (ko) * 2006-10-16 2007-12-24 제일모직주식회사 저굴절층 코팅용 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름 및이를 포함하는 화상 표시 장치
JP5170083B2 (ja) 2007-03-12 2013-03-27 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 防眩性反射防止フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
JP4961238B2 (ja) * 2007-03-28 2012-06-27 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2009042351A (ja) * 2007-08-07 2009-02-26 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム、偏光板及び表示装置
US20090142561A1 (en) * 2007-12-04 2009-06-04 Toppan Printing Co., Ltd. Antireflection laminated body
JP2009204833A (ja) 2008-02-27 2009-09-10 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置
JP2010152311A (ja) 2008-07-22 2010-07-08 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
KR20110084957A (ko) * 2008-10-17 2011-07-26 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 저굴절율막 및 그 제조 방법, 반사 방지막 및 그 제조 방법, 저굴절율막용 코팅액 세트, 미립자 적층 박막 부착 기재 및 그 제조 방법, 및 광학 부재
KR20100074024A (ko) 2008-12-22 2010-07-01 니치유 가부시키가이샤 반사 방지 필름
KR20100112740A (ko) 2009-04-10 2010-10-20 도레이첨단소재 주식회사 저반사 필름
JP2011164457A (ja) 2010-02-12 2011-08-25 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム
JP2011215424A (ja) 2010-03-31 2011-10-27 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2012008159A (ja) 2010-06-22 2012-01-12 Toray Advanced Film Co Ltd ディスプレイ用フィルター
JP2012133079A (ja) 2010-12-21 2012-07-12 Konica Minolta Advanced Layers Inc ハードコートフィルム、その製造方法、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP6070195B2 (ja) * 2011-01-14 2017-02-01 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置
US9389339B2 (en) * 2011-04-22 2016-07-12 Fujifilm Corporation Method for producing antireflection film, antireflection film, and coating composition
WO2012157682A1 (ja) 2011-05-16 2012-11-22 大日本印刷株式会社 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
WO2013183487A1 (ja) * 2012-06-06 2013-12-12 東レ株式会社 積層体、導電性積層体およびタッチパネル、ならびに、塗料組成物および当該塗料組成物を用いる積層体の製造方法
JP5914440B2 (ja) 2012-09-28 2016-05-11 富士フイルム株式会社 ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP6354124B2 (ja) 2013-06-24 2018-07-11 凸版印刷株式会社 反射防止フィルム

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101107542A (zh) * 2005-01-18 2008-01-16 富士胶片株式会社 透明膜及其制备方法、偏振片和图像显示装置
CN101128753A (zh) * 2005-02-22 2008-02-20 富士胶片株式会社 薄膜及其制备方法、使用该薄膜的偏振片、液晶、以及使用该偏振片的显示装置
CN103460078A (zh) * 2011-03-29 2013-12-18 凸版印刷株式会社 防反射膜及偏振片
KR20140084613A (ko) * 2012-12-27 2014-07-07 동우 화인켐 주식회사 반사방지필름 및 이를 포함하는 편광판
KR20140140139A (ko) * 2013-05-23 2014-12-09 에스케이이노베이션 주식회사 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름

Also Published As

Publication number Publication date
EP3316008B1 (en) 2019-06-26
US20180364396A1 (en) 2018-12-20
JP2018530007A (ja) 2018-10-11
KR20170065459A (ko) 2017-06-13
US10809419B2 (en) 2020-10-20
CN107850693A (zh) 2018-03-27
EP3316008A1 (en) 2018-05-02
KR102017789B1 (ko) 2019-09-03
JP6704624B2 (ja) 2020-06-03
EP3316008A4 (en) 2018-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107850693B (zh) 减反射膜
CN109988331B (zh) 抗反射膜及其制造方法
CN108431639B (zh) 抗反射膜
CN111929751B (zh) 抗反射膜
CN108027451B (zh) 减反射膜
KR102093950B1 (ko) 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
CN107921757B (zh) 减反射膜
CN107922756B (zh) 可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜
CN108027455B (zh) 减反射膜和显示装置
CN107850694B (zh) 减反射膜和显示装置
CN108473791B (zh) 抗反射膜
JP7138892B2 (ja) 反射防止フィルム
US20180051148A1 (en) Photocurable coating composition, low refractive index layer, and antireflection film
JP6820081B2 (ja) 反射防止フィルム
CN108025526B (zh) 减反射膜及其制备方法
CN108139668B (zh) 用于形成低折射率层的可光固化的涂层组合物
CN108885282B (zh) 抗反射膜
WO2017095206A1 (ko) 반사 방지 필름
WO2017160027A1 (ko) 반사 방지 필름
WO2017052186A1 (ko) 광경화성 코팅 조성물, 저굴절층 및 반사 방지 필름

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant