WO2021100392A1 - ガラス板の製造装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

給気口８及び排気口９が配置された基面５とこれに対向する対向面６との間に処理空間７が形成され、給気口８から処理空間７に給気されて排気口９に排気される処理ガスを用いて処理空間７内でガラス板Ｇの処理面Ｇａにエッチング処理を施す処理槽１と、ガラス板Ｇの処理面Ｇａと基面５とが対向するようにガラス板Ｇを処理空間７内に搬送する搬送手段２２と、を備えると共に、給気口８と排気口９との相互間における給気口８から排気口９側に離隔した位置に、基面５から対向面６側に向かって突出する凸部２３を形成する。

Description

ガラス板の製造装置及びその製造方法

　本発明は、給気口から処理空間に給気され且つ処理空間から排気口に排気される処理ガスを用いて、処理空間内でガラス板の処理面にエッチング処理を施すようにしたガラス板の製造装置及びその製造方法に関する。

　周知のように、ガラス板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイ用のガラス基板や、スマートフォン、タブレット型ＰＣ等のモバイル機器用のガラス基板、さらには有機ＥＬ照明用のカバーガラスなどに代表されるように、各種分野に利用されている。この最終製品たるガラス板を作り出すための元になるガラス板の製造工程では、当該ガラス板の取り扱い時などに静電気の帯電に起因する問題が生じ得る。そこで、この種のガラス板の表面（処理面）にフッ化水素等の処理ガスを吹き付けてエッチング処理を施し、当該ガラス板の表面を粗化することによって、静電気の帯電を抑止することが行われている。

　このようにガラス板の表面にエッチング処理を施す装置の具体例として、特許文献１に開示された装置が挙げられる。同文献に開示の装置は、下部構成体の上面（基面）に給気口及び排気口を設け、この基面と上部構成体の下面との相互間に処理空間を形成したものである。そして、処理空間で、給気口から給気されて排気口に排気される処理ガスによって、連続して搬送されるガラス板の下面（処理面）にエッチング処理を施すものである。

特開２０１７－５２６７９号公報

　ところで、特許文献１に開示の装置は、基面が単一の平面であるため、以下に示すような弊害を招く。すなわち、処理ガスが処理空間を流れる際には、外気の影響等を受けて処理ガスの濃度が基面に近づくに連れて高くなる傾向がある。この場合、処理空間内で搬送されるガラス板の処理面は基面から離隔しているため、処理面の近傍では処理ガスの濃度が低くなる。そのため、当該処理面に十分なエッチング処理を施すことができず、ガラス板の粗化量を適正量にすることが困難になる。

　以上の観点から、本発明は、ガラス板の処理面の近傍での処理ガスの濃度低下を抑制して、当該処理面に十分なエッチング処理を施し、ガラス板の粗化量を適正量にすることを課題とする。

　上記課題を解決するために創案された本発明の第一の側面は、給気口及び排気口が配置された基面と該基面に対向する対向面との間に処理空間が形成され、前記給気口から前記処理空間に給気され且つ前記処理空間から前記排気口に排気される処理ガスを用いて、前記処理空間内でガラス板の処理面にエッチング処理を施す処理槽と、前記処理空間内で前記ガラス板の処理面と前記基面とが対向するように前記ガラス板を搬送する搬送手段と、を備えたガラス板の製造装置であって、前記給気口と前記排気口との相互間における前記給気口から前記排気口側に離隔した位置に、前記基面から前記対向面側に向かって突出する凸部を形成したことに特徴づけられる。

　このような構成によれば、基面に配置された給気口から処理空間に給気された処理ガスは、基面に配置された排気口に排気されるが、この処理ガスの濃度は、本来的には外気の影響等を受けて基面に近づくに連れて高濃度になる傾向がある。ここでの構成では、基面の近傍を給気口側から排気口側に向かって流れる高濃度の処理ガスが、基面から対向面側に向かって突出する凸部に当たり、その流れ方向が基面側から対向面側に向かう方向に方向変換する。この場合、搬送手段によって処理空間内で搬送されるガラス板の処理面は、基面と対向しているため、方向変換した高濃度の処理ガスは、ガラス板の処理面に接触し易くなる。したがって、ガラス板の処理面に対しては、濃度が高められた処理ガスによって十分なエッチング処理を施すことが可能になり、ガラス板の粗化量を適正量にすることができる。

　この製造装置において、前記凸部は、前記ガラス板の搬送方向と交差する方向に延びると共に、前記ガラス板及び前記凸部の前記搬送方向と交差する方向の長さは、前記ガラス板よりも前記凸部の方が長いことが好ましい。

　このようにすれば、凸部に当たることで基面側から対向面側に向かう高濃度の処理ガスは、ガラス板の処理面における搬送方向と交差する方向の全長に亘って接触し易くなる。これにより、処理空間で搬送されるガラス板の処理面の全域に十分なエッチング処理を施すことが可能になり、ガラス板の全域に亘って粗化量の適正化を図ることができる。

　以上の製造装置において、前記搬送手段は、前記ガラス板を支持する搬送ローラを、前記給気口と前記排気口との相互間における前記ガラス板の搬送方向の複数箇所に備えると共に、これら搬送ローラの前記搬送方向の相互間に前記凸部が配列されていることが好ましい。

　このようにすれば、ガラス板が搬送方向の複数個所で搬送ローラによって支持されるため、ガラス板を安定して搬送することができる。しかも、それら搬送ローラの搬送方向の相互間に凸部が配列されているため、それら搬送ローラとの干渉を回避しつつ、凸部を適切に配列することができ、レイアウト面で好ましくなる。これにより、ガラス板の搬送形態の適正化と、凸部のレイアウトの適正化とを、効率良く両立させることができる。

　以上の製造装置において、前記凸部は、前記ガラス板の搬送方向に複数配列されていることが好ましい。

　このようにすれば、給気口から処理空間に給気されて基面の近傍を排気口に向かって流れる高濃度の処理ガスを、搬送方向の複数個所で凸部により方向変換して、ガラス板の処理面に向かわせることができる。これにより、ガラス板の粗化量のさらなる適正化が図られる。

　以上の製造装置において、前記給気口は、前記基面から前記対向面側に向かって突出する突出部に形成されていることが好ましい。

　このようにすれば、給気口から処理空間に給気される処理ガスは、突出部が対向面側に向かって突出している分だけ、ガラス板の処理面に近い位置に給気される。これにより、ガラス板の処理面の近傍に存する処理ガスをより一層高濃度に維持し易くなり、ガラス板の粗化量のさらなる適正化を図ることが可能となる。

　上記課題を解決するために創案された本発明の第二の側面は、給気口及び排気口が配置された基面と該基面に対向する対向面との間に処理空間が形成された処理槽で、前記給気口から前記処理空間に給気され且つ前記処理空間から前記排気口に排気される処理ガスを用いて、前記処理空間内に存するガラス板の処理面にエッチング処理を施すエッチング工程と、搬送手段を用いて、前記処理空間内で前記ガラス板の処理面と前記基面とが対向するように前記ガラス板を搬送する搬送工程と、を備えたガラス板の製造方法であって、前記エッチング工程では、前記給気口と前記排気口との相互間における前記給気口から前記排気口側に離隔した位置に形成され且つ前記基面から前記対向面側に向かって突出する凸部に、前記給気口側から前記排気口側に向かって流れる前記処理ガスを当てることに特徴づけられる。

　このような製造方法によれば、既述の製造装置と同様に、給気口から処理空間に給気されて基面の近傍を排気口に向かって流れる高濃度の処理ガスが、基面から対向面側に向かって突出する凸部に当たり、その流れ方向が基面側から対向面側に向かう方向に方向変換する。したがって、この製造方法によっても、ガラス板の処理面に対して、濃度が高められた処理ガスによって十分なエッチング処理を施すことが可能になり、ガラス板の粗化量の適正化を図ることができる。

　本発明によれば、ガラス板の処理面の近傍での処理ガスの濃度低下が抑制されて、当該処理面に十分なエッチング処理を施し得ることになり、ガラス板の粗化量を適正量にすることが可能になる。

本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置（その主要部をなすエッチング処理用の処理槽）の要部を示す概略縦断正面図である。 図１のＸ－Ｘ線に従って切断した横断平面図である。 本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の構成要素である搬送ローラの周辺構造の一例を示す要部拡大縦断側面図である。 本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の構成要素である搬送ローラの周辺構造の他の例を示す要部拡大縦断側面図である。 本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の構成要素である凸部の周辺構造を示す要部拡大縦断正面図である。 本発明の第二実施形態に係るガラス板の製造装置（その主要部をなすエッチング処理用の処理槽）の要部を示す概略縦断正面図である。 図６のＹ－Ｙ線に従って切断した横断平面図である。

　以下、本発明の実施形態に係るガラス板の製造装置及びその製造方法について添付図面を参照して説明する。

＜第一実施形態＞
　図１は、本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置（その主要部をなすエッチング処理用の処理槽１）の要部を示す概略縦断正面図である。同図に示すように、処理槽１は、上側に配置された上部構成体２と、下側に配置された下部構成体３と、この両構成体２、３の奥行方向（紙面と直交する方向）の両端にそれぞれ固定された端壁４（図２参照）とを備える。下部構成体３の上面（基面）５と、基面５に対向する上部構成体２の下面（対向面）６との間には、ガラス板Ｇの下面（処理面）Ｇａに対してエッチング処理を施すための処理空間７が形成されている。

　図１に示す矢印Ａ方向は、ガラス板Ｇの搬送方向であって、以下の説明では、矢印Ａに沿う方向を単に搬送方向という。また、同図における左側を搬送方向前側といい、同図における右側を搬送方向後側という。さらに、両構成体２、３の奥行方向を単に奥行方向という。ここで、図例では、ガラス板Ｇの搬送方向は、横方向のうちの水平方向であるが、これ以外の横方向すなわち水平方向に対して搬送方向前側が３０°以内の範囲で下降傾斜または上昇傾斜する方向であってもよい。なお、ガラス板Ｇの厚みは、特に限定されないが、例えば１ｍｍ以下、７００μｍ以下、または５００μｍ以下とされる。ガラス板Ｇのサイズも、特に限定されないが、例えば２００×３００ｍｍ～３１００×３５００ｍｍとされる。

　基面５には、処理空間７に処理ガス（例えばフッ化水素）を給気する給気口８と、処理空間７から処理ガスを排気する排気口９とが配置されている。この実施形態では、給気口８及び排気口９は何れも、基面５に開口している。給気口８は、基面５の搬送方向中央部から搬送方向後側に離隔した位置に開口し、排気口９は、基面５の搬送方向中央部から搬送方向前側に離隔した位置に開口している。給気口８及び排気口９は何れも、図２に示すように、奥行方向に延びるスリット状に形成されている。この実施形態では、給気口８及び排気口９の奥行方向の長さは何れも、ガラス板Ｇの奥行方向の長さよりも長尺とされている。

　図１に示すように、下部構成体３は、上面が単一の平面からなる既述の基面５とされた基台板１０と、基台板１０の搬送方向後側の部位に垂下固定された給気構体１１と、基台板１０の搬送方向前側の部位に垂下固定された排気構体１２とを備える。基台板１０の搬送方向後側の部位には、給気口８に通じる給気孔１３が形成され、給気孔１３は、給気構体１１に形成された給気路１４に連通している。基台板１０の搬送方向前側の部位には、排気口９に通じる排気孔１５が形成され、排気孔１５は、排気構体１２に形成された排気路１６に連通している。給気路１４の上流側の端部（図例の下方側の端部）は、処理ガス供給源（図示略）に通じ、排気路１６の下流側の端部（図例の下方側の端部）は、処理ガス回収部（図示略）に通じている。なお、この実施形態では、下部構成体３は、処理ガスに対する耐食性に優れたポリ塩化ビニル等の樹脂で形成されている。また、給気構体１１及び排気構体１２にはそれぞれ、処理ガスによる結露の発生を防止するためのヒータ（図示略）が内蔵されている。

　基台板１０の上部には、給気口８から排気口９に至るまでの部位における搬送方向の複数個所（図例では３箇所）に、ガラス板Ｇを下方から支持するディスク状の搬送ローラ１７が組み付けられている。これらの搬送ローラ１７は、図２に示すように、基台板１０の上部の奥行方向についても複数個所（図例では４箇所）に組み付けられている。また、基台板１０の上部には、給気口８よりも搬送方向後側の部位及び排気口９よりも搬送方向前側の部位にも、同様の搬送ローラ１８が組み付けられ、これらの搬送ローラ１８も奥行方向の複数箇所に同様にして組み付けられている。

　これら全ての搬送ローラ１７、１８は、それぞれが独立したフリーローラであって、回転駆動力が付与されず、図３に示すように、基台板１０の上部に形成された凹部１９に回転自在に保持されている。各凹部１９は、搬送方向及び奥行方向の何れについても所定間隔を置いて形成されている。詳述すると、各搬送ローラ１７（１８）は、各凹部１９に遊びをもって挿入され、各ローラ１７（１８）の上部のみが基面５から上方に突出している。各ローラ１７（１８）のローラ軸１７ａ（１８ａ）は、各凹部１９の高さ方向中間部から奥行き方向の両側に延びる支持面２０上に回転自在に支持されている。この例では、各ローラ軸１７ａ（１８ａ）の上方が開放されている。これに代えて、図４に示すように、各ローラ軸１７ａ（１８ａ）の上方が、基面５を上端に有する覆壁部２１で覆われるようにしてもよい。

　処理槽１の搬送方向後側及び処理槽１の搬送方向前側にはそれぞれ、処理空間７にガラス板Ｇを搬入し且つ処理空間７からガラス板Ｇを搬出するための複数の駆動搬送ローラ（図示略）が搬送方向に沿って配置されている。したがって、処理空間７内でガラス板Ｇの処理面Ｇａと基面５とが対向するようにガラス板Ｇを搬送する搬送手段２２は、ガラス板Ｇの送りを案内する既述の複数の搬送ローラ１７（１８）と、ガラス板Ｇに送り力を付与する既述の複数の駆動搬送ローラとから構成される。この実施形態では、搬送手段２２は、複数枚のガラス板Ｇを処理空間７内に順次連続して搬送するように構成される。なお、搬送ローラ１７、１８は、回転駆動力が付与されるローラとし、ガラス板Ｇに送り力を付与してもよい。

　図１に示すように、基面５上には、給気口８と排気口９との相互間における搬送方向の複数箇所（図例では３箇所）に、基面５から対向面６側に向かって突出する凸部２３が形成されている。これらの凸部２３のうち、最も搬送方向後側に存する凸部２３は、給気口８から搬送方向前側に離隔しており、最も搬送方向前側に存する凸部２３は、排気口９から搬送方向後側に離隔している。また、これらの凸部２３のうち、搬送方向中央周辺部に存する凸部２３（図例では２個の凸部２３）は、複数の搬送ローラ１７（図例では３個の搬送ローラ１７）の相互間にそれぞれ配置されている。なお、最も搬送方向前側に存する凸部２３は、排気口９から搬送方向後側に離隔せずに排気口９に隙間なく連接していてもよい。

　図２に示すように、複数の凸部２３は、搬送方向と交差する方向（図例では搬送方向と直交する方向（奥行方向））に延びている。これら複数の凸部２３の奥行方向の長さは、ガラス板Ｇの奥行方向の長さよりも長尺とされ、この実施形態では、給気口８及び排気口９の奥行方向の長さよりも長尺とされている。また、この実施形態では、各凸部２３は、断面が矩形の細長状の板状体または柱状体であるが、断面が台形、その他の多角形、円形、もしくは半円形等の細長状の板状体または柱状体であってもよい。なお、図例では、各凸部２３の奥行方向の両端が端壁４から僅かに離隔しているが、端壁４に到達していてもよい。

　図５に示すように、各凸部２３の基面５からの突出寸法Ｌ１は、基面５からガラス板Ｇの処理面Ｇａまでの離隔寸法Ｌ２の１／５～４／５、好ましくは２／５～３／５である。具体的数値として、寸法Ｌ１は、１～５ｍｍ、好ましくは２～３ｍｍであり、寸法Ｌ２は、２～１０ｍｍ、好ましくは３～６ｍｍである。ここで、各凸部２３の材質は、処理ガスに対する耐食性に優れたポリ塩化ビニル等の樹脂である。

　上部構成体２は、図１に示すように、搬送方向前側の天板２４と搬送方向後側の天板２５とが連設固定して構成され、この両天板２４、２５の下面は、面一状態で連なる単一の平面をなす既述の対向面６である。この対向面６は、基面５と平行であると共に、対向面６及び基面５は、処理空間７に搬送されてくるガラス板Ｇの処理面Ｇａ及び上面Ｇｂと平行である。

　上部構成体２は、処理ガスに対する耐食性に優れたポリ塩化ビニル等の樹脂で形成されている。また、搬送方向前側の天板２４及び搬送方向後側の天板２５にはそれぞれ、処理ガスによる結露の発生を防止するためのヒータ（図示略）が内蔵されている。

　以上の構成からなる製造装置（処理槽１）を用いたガラス板の製造方法は、図１を参酌して、処理槽１で、給気口８から処理空間７に給気され且つ処理空間７から排気口９に排気される処理ガスを用いて、処理空間７内に存するガラス板Ｇの処理面Ｇａにエッチング処理を施すエッチング工程を備える。さらに、当該製造方法は、搬送手段２２を用いて、処理空間７内でガラス板Ｇの処理面Ｇａと基面５とが対向するようにガラス板Ｇを搬送する搬送工程を備える。そして、エッチング工程では、基面５上に形成された凸部２３に、給気口８側から排気口９側に向かって流れる処理ガスを当てる。

　次に、上記第一実施形態に係るガラス板の製造装置及びその製造方法の作用効果を説明する。

　給気口８から処理空間７に給気された処理ガスは、処理空間７から排気口９に排気されるが、この処理ガスの濃度は、本来的には外気の影響等を受けて基面５に近づくに連れて高濃度になる傾向がある。ここで本実施形態に係る構成によれば、給気口８から基面５の近傍を排気口９に向かって流れる高濃度の処理ガスは、図１に示すように、凸部２３に当たることで、その流れ方向が矢印Ｗで示すように基面５側から対向面６側に向かう方向に方向変換する。このとき、同図に鎖線で示すように、処理空間７に搬送されてきたガラス板Ｇの処理面Ｇａは、基面５と対向しているため、方向変換した高濃度の処理ガスは、ガラス板Ｇの処理面Ｇａに接触し易くなる。したがって、ガラス板Ｇの処理面Ｇａに対しては、濃度が高められた処理ガスによって十分なエッチング処理を施すことが可能になり、ガラス板Ｇの粗化量を適正量にすることができる。

　しかも、凸部２３の奥行方向の長さは、ガラス板Ｇの奥行方向の長さよりも長尺であるため、凸部２３に当たることによって矢印Ｗで示すように方向変換した高濃度の処理ガスは、ガラス板Ｇの奥行方向の全長に亘って処理面Ｇａと接触し易くなる。したがって、処理空間７内を通過するガラス板Ｇの処理面Ｇａの全域に対して、濃度が高められた処理ガスを接触させることができる。これにより、処理空間７内で搬送されるガラス板Ｇの処理面Ｇａの全域に十分なエッチング処理を施すことが可能になり、ガラス板Ｇの全域に亘って粗化量の適正化が図られる。

　また、凸部２３の奥行方向の長さは、給気口８及び排気口９の奥行方向の長さよりも長尺であるため、給気口８側から排気口９側に向かう高濃度の処理ガスをできるだけ多く方向変換させることができ、ガラス板Ｇの処理面Ｇａの全域に対して、より一層十分なエッチング処理を施すことが可能になる。

　さらに、ガラス板Ｇの処理空間７内での搬送時には、ガラス板Ｇが搬送方向及び奥行方向の複数個所でディスク状の搬送ローラ１７によって支持されるため、ガラス板Ｇを安定して搬送することができる。しかも、それら搬送ローラ１７の搬送方向の相互間に凸部２３が配列されているため、それら搬送ローラ１７との干渉を回避しつつ、凸部２３を適切に配列することができ、レイアウト面で好ましくなる。これにより、ガラス板Ｇの搬送形態の適正化と、凸部２３のレイアウトの適正化とを、効率良く両立させることができる。

　また、凸部２３が搬送方向の複数箇所に配列されているため、給気口８側から排気口９側に向かう高濃度の処理ガスを、搬送方向の複数個所で方向変換することができ、ガラス板Ｇの粗化量のさらなる適正化を図ることが可能になる。

　＜第二実施形態＞
　図６及び図７は、本発明の第二実施形態に係るガラス板の製造装置（処理槽１）を例示している。これら両図に示すように、この第二実施形態に係る処理槽１が、上述の第一実施形態に係る処理槽１と相違しているところは、給気口８が、基面５から対向面６側に向かって突出する突出部２７に形成されている点である。詳しくは、給気口８は、突出部２７の突端（上端）に開口している。また、突出部２７は、図７に示す平面視で、奥行方向に長尺な細長状の額縁形状をなしている。ここで、突出部２７の材質は、処理ガスに対する耐食性に優れたポリ塩化ビニル等の樹脂である。その他の構成要素は、上述の第一実施形態と同一であるので、両実施形態に共通する構成要素については、図６及び図７に同一符号を付し、その説明を省略する。

　この第二実施形態に係る製造装置（処理槽１）によれば、給気口８から処理空間７に給気される処理ガスは、突出部２７が対向面６側に向かって突出している分だけ、ガラス板Ｇの処理面Ｇａに近い位置に給気される。これにより、ガラス板Ｇの処理面Ｇａの近傍に存する処理ガスをより一層高濃度に維持し易くなり、ガラス板Ｇの粗化量のさらなる適正化を図ることができる。

　以上の第一及び第二実施形態では、基台板１０の基面５上に、凸部２３を別体として形成したが、凸部２３を基台板１０と一体形成するようにしてもよい。この場合には、基台板１０の上面のうちの凸部２３を除く領域が基面５となる。

　また、同様に、突出部２７も、基台板１０の基面５上に別体として形成したが、基台板１０と一体形成するようにしてもよく、この場合にも、基台板１０の上面のうちの突出部２７を除く領域が基面５となる。

　以上の第一及び第二実施形態では、一つの凸部２３を、一つの板状体または柱状体が奥行方向に延びるようにして形成したが、これに代えて、一つの凸部２３を、複数の板状体または柱状体が奥行方向に延びるように配列させて形成してもよい。この場合、複数の板状体または柱状体の奥行方向の相互間に隙間を設けてもよい。但し、その隙間の大きさは、基面５の近傍を給気口８側から排気口９側に向かって流れる処理ガスを凸部２３によって十分に方向変換させることが可能となるような大きさにする必要がある。

　以上の第一及び第二実施形態では、搬送ローラ１７がディスク状をなすものであるが、ディスク状よりも軸方向に長尺な円筒形状であってもよく、また奥行方向に配列される搬送ローラ１７の個数も一列につき１個であってもよい。但し、そのようにする場合には、搬送ローラ１７が邪魔にならずに基面５の近傍を給気口８側から排気口９側に向かって十分な量の処理ガスを流すことができるようにし、且つ、ガラス板Ｇの撓みの問題が生じないようにする必要がある。

　以上の第一及び第二実施形態では、基台板１０の上面を基面５とし、該基面５に、給気口８、排気口９及び凸部２３を配置したが、これに代えて、天板２４、２５の下面を基面とし、該基面に、給気口、排気口及び凸部を配置してもよい。この場合には、基台板１０の上面（基面５）が対向面となり、且つ、ガラス板Ｇの上面Ｇｂが処理面となる。

１     処理槽
５     基面
６     対向面
６ａ   対向面
６ｂ   対向面
７     処理空間
７ａ   処理空間
７ｂ   処理空間
８     給気口
９     排気口
１７   搬送ローラ
２２   搬送手段
２３   凸部
２７   突出部
Ｇ     ガラス板
Ｇａ   ガラス板の処理面

Claims (6)

1. 　給気口及び排気口が配置された基面と該基面に対向する対向面との間に処理空間が形成され、前記給気口から前記処理空間に給気され且つ前記処理空間から前記排気口に排気される処理ガスを用いて、前記処理空間内でガラス板の処理面にエッチング処理を施す処理槽と、
   　前記処理空間内で前記ガラス板の処理面と前記基面とが対向するように前記ガラス板を搬送する搬送手段と、
   を備えたガラス板の製造装置であって、
   　前記給気口と前記排気口との相互間における前記給気口から前記排気口側に離隔した位置に、前記基面から前記対向面側に向かって突出する凸部を形成したことを特徴とするガラス板の製造装置。
2. 　前記凸部は、前記ガラス板の搬送方向と交差する方向に延びると共に、前記ガラス板及び前記凸部の前記搬送方向と交差する方向の長さは、前記ガラス板よりも前記凸部の方が長いことを特徴とする請求項１に記載のガラス板の製造装置。
3. 　前記搬送手段は、前記ガラス板を支持する搬送ローラを、前記給気口と前記排気口との相互間における前記ガラス板の搬送方向の複数箇所に備えると共に、これら搬送ローラの前記搬送方向の相互間に前記凸部が配列されていることを特徴とする請求項１または２に記載のガラス板の製造装置。
4. 　前記凸部は、前記ガラス板の搬送方向に複数配列されていることを特徴とする請求項１～３の何れかに記載のガラス板の製造装置。
5. 　前記給気口は、前記基面から前記対向面側に向かって突出する突出部に形成されていることを特徴とする請求項１～４の何れかに記載のガラス板の製造装置。
6. 　給気口及び排気口が配置された基面と該基面に対向する対向面との間に処理空間が形成された処理槽で、前記給気口から前記処理空間に給気され且つ前記処理空間から前記排気口に排気される処理ガスを用いて、前記処理空間内に存するガラス板の処理面にエッチング処理を施すエッチング工程と、
   　搬送手段を用いて、前記処理空間内で前記ガラス板の処理面と前記基面とが対向するように前記ガラス板を搬送する搬送工程と、
   を備えたガラス板の製造方法であって、
   　前記エッチング工程では、前記給気口と前記排気口との相互間における前記給気口から前記排気口側に離隔した位置に形成され且つ前記基面から前記対向面側に向かって突出する凸部に、前記吸気口側から前記排気口側に向かって流れる前記処理ガスを当てることを特徴とするガラス板の製造方法。

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