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WO2007135893A1 - 表示装置 - Google Patents

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Publication number
WO2007135893A1
WO2007135893A1 PCT/JP2007/059933 JP2007059933W WO2007135893A1 WO 2007135893 A1 WO2007135893 A1 WO 2007135893A1 JP 2007059933 W JP2007059933 W JP 2007059933W WO 2007135893 A1 WO2007135893 A1 WO 2007135893A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
common
display device
signal
pixel region
wiring
Prior art date
Application number
PCT/JP2007/059933
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Masahiro Yoshida
Original Assignee
Sharp Kabushiki Kaisha
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Kabushiki Kaisha filed Critical Sharp Kabushiki Kaisha
Priority to US12/301,286 priority Critical patent/US8395744B2/en
Priority to EP07743368A priority patent/EP2026121B1/en
Priority to CN2007800175131A priority patent/CN101443699B/zh
Priority to DE602007010134T priority patent/DE602007010134D1/de
Priority to AT07743368T priority patent/ATE486298T1/de
Priority to JP2008516610A priority patent/JP4724749B2/ja
Publication of WO2007135893A1 publication Critical patent/WO2007135893A1/ja
Priority to HK09105596.8A priority patent/HK1126866A1/xx
Priority to HK09108113.6A priority patent/HK1130321A1/xx

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line

Definitions

  • the present invention relates to an active matrix display device, and more particularly to a display device in which a drive circuit (driver) is mounted on one side of an active matrix substrate.
  • a drive circuit driver
  • an active matrix substrate in which scanning lines and signal lines are formed in a matrix on a substrate and a driving element such as a TFT (Thin Film Transistor) is formed at the intersection of these signal lines is a liquid crystal display device or the like.
  • a scanning line driving circuit 91 is provided at one end of scanning lines G arranged in parallel to each other, and is orthogonal to the scanning lines G and parallel to each other.
  • a signal line driving circuit 92 is provided at one end of the signal line S disposed in the circuit. That is, in the conventional active matrix substrate 90 shown in FIG. 17, the scanning line driving circuit 91 and the signal line driving circuit 92 are provided on two adjacent sides in the peripheral region 94 of the pixel region 93, respectively.
  • FIG. 18 a configuration in which a driving circuit 98 in which a scanning line driving circuit and a signal line driving circuit are integrated is mounted on only one side of an active matrix substrate 95 is disclosed in 2003-241217 (see FIG. 4).
  • FIG. 3 and the like in the same document also show a configuration in which a scanning line driving circuit is arranged on one side of the active matrix substrate 95 and signal line driving circuits are arranged on both sides of the scanning line driving circuit.
  • the conventional active matrix substrate shown in Fig. 18 is arranged parallel to each other.
  • Each of the plurality of signal lines S is alternately drawn out on both sides of the pixel region 96 and connected to the drive circuit 98, whereby the width of the frame region 97 on both sides in the extending direction of the signal line S is made uniform. Yes.
  • the conventional configuration as shown in FIG. 18 is particularly suitably employed in a display device for a small electronic device such as a mobile phone, a digital camera, or a PDA (Personal Digital Assistant).
  • a small electronic device such as a mobile phone, a digital camera, or a PDA (Personal Digital Assistant).
  • the number of signal lines wired in the frame area is steadily increasing.
  • the high-definition panel has a problem that the frame width cannot be reduced due to restrictions on the wiring layout of the active matrix substrate in order to improve the yield.
  • a common electrode (a common electrode) is formed on the entire surface of the counter substrate facing the active matrix substrate.
  • the common electrode is connected to an active matrix substrate or a driving circuit (not shown in FIG. 18) provided in an FPC (Flexible Printed Circuit) connected to the active matrix substrate through a common wiring 101.
  • a predetermined voltage (common voltage V) is applied.
  • the common wiring 101 and the common electrode of the counter substrate are connected to the electric com
  • a contact 102 (referred to as a “common transition”) 102 is provided on the active matrix substrate 95.
  • the common transition 102 is formed of a conductive material such as carbon paste or gold, and has a cross-sectional area of about 500 m 2 to about Lmm 2 .
  • the common transition 102 is arranged in a region where no lead-out wiring is provided in the frame region 97 of the active matrix substrate 95.
  • the common wiring 101 it is necessary to route the common wiring 101 along the periphery of the pixel region 96 until the driving circuit side force reaches the common transition 102.
  • the common wiring 101 must have a low resistance so that display defects such as unevenness and crosstalk due to signal delay of the common electrode do not occur. For this reason, the common wiring 101 needs to have a sufficient wiring width. Therefore, in the conventional active matrix substrate as shown in FIG. 18, not only the area around the signal line S but also the area around the common wiring 101 having a sufficient width must be secured around the pixel area 96. Therefore, there was a problem that the area of the frame area could not be reduced.
  • the present invention provides a display device in which a drive circuit is arranged on one side of an active matrix substrate and the common voltage V is supplied to the counter substrate side through a common transition of the active matrix substrate.
  • the purpose is to reduce the area of the frame area without reducing the yield.
  • a first display device is a display device including an active matrix substrate and a counter substrate, wherein the active matrix substrate is arranged in a matrix.
  • a bus line driving circuit that is disposed outside the pixel area on one side of the active matrix substrate and supplies a scanning signal and a data signal to the scanning line and the signal line, respectively.
  • a common drive circuit for generating a common signal to be supplied to the common electrode of the counter substrate, wherein the active matrix substrate is the active matrix substrate.
  • the pixel region is compared with the conventional configuration in which the entire common wiring is disposed outside the pixel region.
  • the width of the common wiring arranged outside can be reduced, or the common wiring outside the pixel region can be eliminated.
  • the width of the frame area is smaller than the conventional configuration. Since the size can be reduced, a display device can be provided in which the area of the frame region without reducing the yield is reduced.
  • the common wiring force arranged in the dummy pixel region is electrically connected to the auxiliary capacitance wiring in the pixel region.
  • the common wiring force arranged in the dummy pixel region is electrically independent of the auxiliary capacitance wiring in the pixel region.
  • a dummy auxiliary capacitance line parallel to the auxiliary capacitance line in the pixel region is further arranged in the dummy pixel region.
  • a width of a crossing portion with the signal line is smaller than a main wiring width of the common wiring in the auxiliary capacitance wiring.
  • the terminal portion of the signal line opposite to the signal input side is arranged so as not to cross the dummy auxiliary capacitance wiring.
  • an auxiliary capacitor is formed between the pixel electrode in the actual pixel region and a scanning line adjacent to the scanning line that drives the pixel electrode.
  • the width of the intersection with the signal line in the common wiring in the dummy pixel region is smaller than the main wiring width of the common wiring.
  • the end of the signal line opposite to the signal input side is arranged so as not to cross the common wiring of the dummy pixel region. .
  • the first display device further includes a shielding member that visually shields the dummy pixel region.
  • a liquid crystal is provided between the active matrix substrate and the counter substrate.
  • a second display device is a display device including a display medium between an active matrix substrate and a counter substrate, wherein the active matrix substrate force matrix A scanning pixel and a signal line arranged in a line, an actual pixel region including an effective pixel that performs display according to a data signal supplied by the signal line, and A pixel region including an impurity trapping region that is located closer to the panel end than the actual pixel region and in which a trap wiring for electrically trapping impurities in the display medium is formed; A bus line driving circuit that is disposed outside the pixel region on one side of the active matrix substrate and supplies a scanning signal and a data signal to the scanning line and the signal line, respectively, and a common signal supplied to the common electrode of the counter substrate A common drive circuit for generating the active matrix substrate, wherein the active matrix substrate is provided on a side of the active matrix substrate opposite to the side where the bus line drive circuit is disposed, and the common signal is supplied to the common electrode of the
  • the width of the intersection with the signal line is smaller than the main width of the common line in the common wiring of the impurity trapping region. I like it.
  • the end of the signal line opposite to the signal input side is arranged so as not to cross the common wiring of the impurity trapping region.
  • the display medium is preferably a liquid crystal.
  • the drive circuit is arranged on one side of the active matrix substrate and the common voltage V is supplied to the counter substrate side via the common transition of the active matrix substrate. Reduce the area of the frame area without reducing the yield can do.
  • FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of an active matrix substrate 10 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG.
  • FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of a dummy picture element region and an actual picture element region in the vicinity thereof.
  • FIG. 4 is a diagram showing a cross-sectional structure of a liquid crystal display device that works according to the present embodiment, (a) is a diagram showing a position of a cross section in a plan view, and (b) is a diagram showing an A shown in (a). —Cross sectional view showing the configuration of the liquid crystal display device in section A ′, (c) is a sectional view showing the configuration of the liquid crystal display device in section BB ′ shown in (a).
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the effect of the active matrix substrate 10 according to the present embodiment.
  • FIG. 6 is a plan view showing a schematic configuration of an active matrix substrate 20 of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG.
  • FIG. 8 is an active matrix substrate for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 30 is a plan view showing a schematic configuration of 30.
  • FIG. 30 is a plan view showing a schematic configuration of 30.
  • FIG. 9 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG.
  • FIG. 10 is a plan view showing a schematic configuration of an active matrix substrate 40 of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG.
  • FIG. 12 is an equivalent circuit diagram of a dummy pixel region and an actual pixel region in the vicinity thereof.
  • FIG. 13 is a plan view showing a schematic configuration of an active matrix substrate 50 of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG.
  • FIG. 15 is a diagram showing a cross-sectional structure of a liquid crystal display device that is useful in the present embodiment, (a) is a diagram showing the position of the cross section in a plan view, and (b) is a diagram showing an A shown in (a).
  • (c) is the liquid crystal display device in the BB ′ cross section shown in (a) It is sectional drawing which shows the structure of a device.
  • FIG. 16 is a plan view showing a configuration of an active matrix substrate according to a modification of the embodiment of the present invention.
  • FIG. 17 is a plan view showing a configuration example of an active matrix substrate included in a conventional display device.
  • FIG. 18 is a plan view showing a configuration example of an active matrix substrate included in a conventional display device.
  • the drawings referred to below show main constituent members for explaining the present invention, among the constituent members of each part of the display device according to the embodiment of the present invention. This is shown in a simplified or omitted form. Therefore, the display device according to the present invention can include arbitrary components not shown in the drawings referred to in this specification. In addition, the dimensions of the members in each drawing do not necessarily faithfully represent the actual dimensions of the constituent members and the dimensional ratios of the members. Furthermore, in the following embodiment, a mode in which the display device of the present invention is implemented as a liquid crystal display device is illustrated, but the present invention is not limited to the liquid crystal display device.
  • FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of an active matrix substrate 10 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG.
  • the active matrix substrate 10 which is useful in the present embodiment is used for a display device such as a liquid crystal display device.
  • the active matrix substrate 10 is arranged on a translucent substrate 11 made of glass or the like so that n scanning lines G and m signal lines S are orthogonal to each other.
  • Each pixel has a pixel region 12 having a TFT and a pixel electrode (V, not shown). Note that in FIGS. 1 and 2 and other drawings referred to in this specification, the number of scanning lines G and signal lines S is omitted.
  • the drive element is not limited to TFT.
  • a region surrounding the rectangular pixel region 12 in a frame shape and overlapping with the counter substrate is referred to as a frame region 13.
  • Facti A bus line driving circuit 16 that integrates a scanning line driving circuit for driving the scanning line G and a signal line driving circuit for driving the signal line S in one chip on one side of the submatrix substrate 10 is a COG (Chip On Glass ) Method.
  • a bus line driving circuit is formed directly on the active matrix substrate 10.
  • common transitions 15 a and 15 b are provided in the vicinity of both ends of the side opposite to the side on which the bus line driving circuit 16 is disposed.
  • the common transitions 15a and 15b are formed of a conductive material such as carbon paste or gold, and generally have a cross-sectional area of about 500 ⁇ m 2 -lmm 2 . Note that the number of common transitions is not limited to two.
  • the force is connected to the nosline drive circuit 16 through the upper side in FIG. 2 in the frame region 13, and the lower side in FIG. 2 is connected to the S, S, S,, ', iS frame region 13 in FIG.
  • the signal lines S are distributed to the two sides facing each other in the frame region 13 by about half of them, so that the widths of the two sides of the frame region 13 can be made uniform.
  • m signal lines S 1, S 2, S 3, S 5,... are alternately arranged on two opposite sides in the frame region 13.
  • the signal lines S to S are connected to the frame region 13.
  • the signal lines s to s may be drawn to one side and the signal lines s to s may be drawn to the opposite side.
  • the signal lines S are distributed in the frame region 13 so as to be divided by about half of the two sides facing each other!
  • the scanning line G includes dummy scanning lines G 1, G 2 and G in addition to the n scanning lines G to G to which a scanning signal for turning on the TFT gate is applied at a predetermined timing.
  • dummy scanning lines G 1, G 2 and G in addition to the n scanning lines G to G to which a scanning signal for turning on the TFT gate is applied at a predetermined timing.
  • the configuration with one dummy scanning line G is shown as an example, but the number of dummy scanning lines is It is not limited to.
  • the dummy scanning lines G 1, G 2, G 3 have the same signal as the scanning signal of the display area dl d2 d3
  • a signal that does not function as a scanning signal that is, a signal power that does not reach a high potential for turning on the gate of the TFT, is applied from the bus line driving circuit 16.
  • dummy scanning lines G, G, G ⁇ always apply the same potential as the low potential of the scanning signal dl d2 d3
  • FIG. 2 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG. As shown in FIG. 2, the pixel electrodes 17 and dl d2 in the actual picture element region are also provided between the dummy scanning line G and the dummy scanning line G.
  • a pixel electrode 17d and a TFT 18d are provided.
  • the gate electrode of TFT18d is connected to the dummy scanning line G.
  • the drain electrode of TFT18d is the pixel electrode d2
  • T d3 dl is applied to the dummy scanning line G.
  • the pixel electrode 17d connected via the FT 18d constitutes a picture element (dummy picture element) that does not contribute to display.
  • An area where dummy picture elements that do not contribute to display are formed is referred to as a “dummy picture element area”.
  • a region where a picture element (effective pixel) contributing to display is formed is referred to as a “real picture element region”.
  • a liquid crystal display device that performs color display using color filters such as RGB three colors is illustrated, and “picture element” is a pixel corresponding to a color filter of one color.
  • Means. “Dummy pixel area” and “dummy picture element area”, and “real pixel area” and “real picture element area” have the same meaning. Since the dummy picture element region does not contribute to the display as described above, it is preferable that the dummy picture element region is hidden by a black matrix provided on the counter substrate, or a light shielding plate attached to the surface of the active matrix substrate or the counter substrate.
  • FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the dummy picture element area and the actual picture element area in the vicinity thereof. According to this configuration, since the dummy scanning lines G and G are provided outside the real picture element region, the real picture dl d2
  • the magnitude gd of the parasitic capacitance C between the pixel electrode and the gate bus line is equalized, and the bright line at the end of the pixel region is prevented. Further, by providing the dummy scanning line G outside the scanning line G, the impurities d3 in the display medium moved by the scanning signal
  • Common wires 14a, 14b, 14c, and 14d are formed over the four sides of the frame region 13 so as to surround the pixel region 12.
  • As the material of the common wirings 14a, 14b, 14c, 14d for example, aluminum, molybdenum, tantalum, or alloys thereof are used.
  • the common wires 14a and 14b are formed on two sides facing each other in the frame region 13 in parallel with the scanning line G.
  • the common wires 14c and 14d are formed on two sides opposite to each other in the frame region 13 in parallel with the signal line S.
  • the above-described common transition 15a is provided so as to be electrically connected to a connection portion between the common wiring 14a and the common wiring 14c. Further, the above-described common transition 15b is provided so as to be electrically connected to a connection portion between the common wiring 14b and the common wiring 14c.
  • the common wires 14a, 14b, 14c and the common wire 14d are formed in different layers on the active matrix substrate 10. Therefore, as shown in FIG. 2, for example, the common wiring 14a and the common wiring 14d are electrically connected via a contact hole 19 formed in an insulating film between these wirings.
  • the active matrix substrate 10 of the present embodiment has an auxiliary capacitor C formed in parallel with the liquid crystal capacitor C. Therefore, the active matrix substrate 10 is
  • each of the picture elements in the real picture element region has auxiliary capacity wirings CS, CS,... That form a capacity (auxiliary capacity C) with the pixel electrode 18.
  • auxiliary capacity C capacity
  • Quantity wiring CS, CS, ... are common wiring 14a
  • the IB 1 2 shape is not limited to the example shown in FIG.
  • one end of the auxiliary line CS, CS As shown in FIG. 2, one end of the auxiliary line CS, CS,.
  • auxiliary capacitance lines CS 1, CS 2,... are held at the same potential as the common lines 14c and 14d.
  • the common wires 14e, 14e, 14f is formed in addition to the common wires 14a to 14d formed in the frame region 13.
  • the common wiring 14e is parallel to the common wiring 14a and is formed in the dummy pixel region between the dummy scanning line G and the dummy scanning line G. It is.
  • the common wiring 14f is parallel to the common wiring 14a and is formed in a dummy picture element region between the dummy scanning line G and the d3 scanning line G. Both ends of the common wiring 14e are electrically connected to the common wiring 14c and the common wiring 14d, respectively.
  • Both ends of the common wiring 14f are also electrically connected to the common wiring 14c and the common wiring 14d, respectively.
  • the common wirings 14e and 14f are formed in the same layer as the common wirings 14a, 14b, and 14c, and are formed in a different layer from the common wiring 14d. Therefore, as shown in FIG. 2, the common wiring 14e and the common wiring 14d are electrically connected through the contact hole 19 formed in the insulating film of these wirings. The same applies to the electrical connection between the force common wiring 14f and the common wiring 14d (not shown in FIG. 2).
  • FIG. 4 is a diagram showing a cross-sectional structure of the liquid crystal display device that works according to the present embodiment, (a) is a diagram showing the position of the cross section in the plan view, and (b) is an A diagram shown in (a). —Cross-sectional view showing the configuration of the liquid crystal display device in the A ′ cross-section, (c) is a cross-sectional view showing the configuration of the liquid crystal display device in the BB ′ cross-section shown in (a). In FIG. 4 (b) and FIG. 4 (c), the alignment film is not shown. 4A to 4C are the same in the cross-sectional structure of the force common wiring 14f showing the cross-sectional structure of the common wiring 14e.
  • the liquid crystal 62 is sandwiched between the active matrix substrate 10 and the counter substrate 60.
  • the surface of the translucent substrate 11 has the common wiring 14e, the first insulating film 63, the signal line S, the second insulating film 64, and the alignment film. (Not shown) are formed in this order.
  • a black matrix 66, a color filter 65, a common electrode 66, and an alignment film are formed on the surface of the translucent substrate 61.
  • the widths of the common wirings 14e and 14f are arbitrary as long as they are within the dummy picture element region, but are preferably as large as possible. As the widths of the common wirings 14e and 14f in the dummy picture element region are increased, the widths of the common wirings 14a and 14b in the frame region 13 can be reduced, and as a result, the width of the frame region 13 can be reduced.
  • the common voltage V supplied to the input terminals 14g and 14h in the common wires 14a and 14b is com through the common wires 14a and 14b.
  • the common wirings 14e and 14f are connected to a part of the common wires 14d and 14c, the input terminals 14g and 14h of the common wires 14a and 14b serving as the supply terminals for the common voltage V, and the com com
  • the width of the common wirings 14a and 14b in the frame region 13 can be reduced as the line width of the common wirings 14e and 14f is increased to reduce the wiring resistance. If the width of the dummy picture element region is sufficient and the line widths of the common wires 14e and 14f can be made sufficiently large, the common wire in the frame region 13 can be completely eliminated.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the effect of the active matrix substrate 10 that is effective in the present embodiment.
  • FIG. 5A shows a conventional configuration in which common wiring is arranged only in the frame region as shown in FIG.
  • FIGS. 3A and 3B are plan views showing a configuration related to the present embodiment shown in FIGS. 1 and 2 on a scale capable of comparing the widths of the frame regions, respectively.
  • the common wiring is also provided to the dummy pixel region in the pixel region 12.
  • the width of the frame region 13 can be made smaller than the width of the frame region 97 in the conventional configuration.
  • FIG. 6 is a plan view showing a schematic configuration of the active matrix substrate 20 of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG.
  • the same referential mark as 1st Embodiment is attached, and the detailed description is abbreviate
  • the active matrix substrate 20 that is useful in the present embodiment is provided with common wirings 14 a and 14 b in parallel to the signal lines S in the frame region 13.
  • This is the same as the first embodiment in that the common wirings 14e and 14f are provided in the dummy picture element area, and the width of the frame area 13 can be reduced.
  • the common wirings 14c and 14d are connected to the common wiring 14a and the common wiring.
  • Wire 14e is connected to form an electrically closed loop, and common wires 14c and 14d are connected to COM.
  • the second embodiment is different from the first embodiment in that the closed wiring 14b and the common wiring 14f are connected to form an electrically closed loop.
  • the common wiring is connected to one end of the auxiliary capacitance wirings CS 1, CS 3,.
  • the second embodiment is also different from the first embodiment in that a voltage is supplied via the auxiliary capacitance wiring 21a (which is electrically connected!). Therefore, a voltage different from the common voltage V can be supplied to the auxiliary capacitance line CS.
  • FIG. 7 shows that a voltage is supplied via the auxiliary capacitance wiring 21a (which is electrically connected!). Therefore, a voltage different from the common voltage V can be supplied to the auxiliary capacitance line CS.
  • the auxiliary capacitance lines CS, CS, CS are connected to the other ends of the lines CS, CS,.
  • the display device according to the second embodiment is implemented as a normally white liquid crystal display device, a voltage different from the common voltage V is supplied to the auxiliary capacitor wiring CS.
  • FIG. 8 is a plan view showing a schematic configuration of the active matrix substrate 30 of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG.
  • the same referential mark as those embodiment is attached, and the detailed description is abbreviate
  • the active matrix substrate 30 that works in the present embodiment is provided with common wirings 14 a and 14 b in parallel to the signal lines S in the frame region 13. This is the same as in the first and second embodiments in that the common wirings 14e and 14f are provided in the dummy picture element region, and the width of the frame region 13 can be reduced.
  • the common wires 14c and 14d are connected to the common wire 14a and the common wire.
  • 14e is connected to form an electrically closed loop, and common wires 14c and 14d are common.
  • This embodiment differs from the second embodiment in that in the pixel region 12, the auxiliary capacitance wiring CS is arranged together with the common wirings 14 e and 14 f in the dummy picture element region. Yes. In this way, by arranging the auxiliary capacitance wiring CS in the dummy pixel area, the auxiliary capacitance d
  • the resistance of the entire wiring can be reduced and applied to the auxiliary capacitance wiring CS, CS, ...
  • the voltage drop can be prevented.
  • the pixel electrode 17d and the TFT 18d in the dummy picture element region are not essential. That is, the pixel electrode may not be formed in the dummy picture element region.
  • the dummy pixel region may not have a TFT, and the pixel electrode 17d of the dummy pixel region may be connected to at least one of the auxiliary capacitance wiring CS and the common wirings 14e and 14f.
  • FIG. 10 is a plan view showing a schematic configuration of an active matrix substrate 40 of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG. Note that components similar to those described in the above embodiments are denoted by the same reference numerals as those of those embodiments, and detailed description thereof is omitted.
  • the active matrix substrate 40 that is effective in the present embodiment is provided with common wirings 14a and 14b in parallel to the signal line S in the frame region 13, and the pixel region 12 Similar to the first and second embodiments in that the common wirings 14e and 14f are provided in the dummy picture element region, there is an effect that the width of the frame region 13 can be reduced.
  • the common wires 14c and 14d are connected to the common wire 14a and the common wire.
  • 14e is connected to form an electrically closed loop, and common wires 14c and 14d are common.
  • FIG. 12 is an equivalent circuit diagram of the dummy picture element area and the actual picture element area in the vicinity thereof.
  • the auxiliary capacitor C is formed by using the scanning lines of adjacent pixels. For this reason, the active matrix that works with this embodiment
  • the task substrate 40 does not include the auxiliary capacitance wiring as in the first and second embodiments.
  • each of the pixel electrode 17 or the pixel electrode 17d in each of the real pixel region and the dummy pixel region A storage capacitor C is formed with the scanning line one level above. For example, connected to scan line G
  • the pixel electrode 17 of the picture element CS 1 is connected to the dummy scanning line G that is one level higher than the scanning line G.
  • FIG. 13 is a plan view showing a schematic configuration of an active matrix substrate 50 of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is an enlarged plan view showing the vicinity of part A in FIG. Note that components similar to those described in the above embodiments are denoted by the same reference numerals as those of those embodiments, and detailed description thereof is omitted.
  • the active matrix substrate 50 that works in the present embodiment does not have a dummy picture element region. Instead, as shown in FIG. 13 and FIG. 14, the active matrix substrate 50 is arranged on the outer side (the frame region side) of the scanning line G and the scanning line G.
  • Trap wirings 51a and 5 lb for capturing ionic impurities in the liquid crystal are provided outside 1 n (the frame region side).
  • the trap wirings 51a and 51b have a function of capturing ionic impurities when a predetermined voltage (for example, ⁇ 5 V) is applied. This prevents display unevenness due to diffusion of ionic impurities into the actual picture element region.
  • the trap wirings 51a and 51b are formed of the same transparent electrode material (ITO or IZO) as the pixel electrode, the same wiring material as the scanning line G or signal line S (for example, A or Mo), and the like.
  • FIG. 15 is a diagram showing a cross-sectional structure of a liquid crystal display device that works according to the present embodiment, where (a) is a diagram showing the position of the cross section in the plan view, and (b) is AA ′ shown in (a). Sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal display device in a cross section, (c) is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal display device in the BB 'cross section shown to (a). In FIG. 15 (b) and FIG. 15 (c), the orientation film is not shown.
  • the liquid crystal display device sandwiches the liquid crystal 62 between the active matrix substrate 50 and the counter substrate 60. Yes.
  • the surface of the transparent substrate 11 includes the common wiring 14e, the first insulating film 63, the signal line S, the second insulating film 64, the trap wiring 51a, An alignment film (not shown) is formed in this order.
  • a black matrix 66, a color filter 65, a common electrode 66, and an alignment film are formed on the surface of the translucent substrate 61.
  • the black matrix 66 of the counter substrate 60 is arranged so as to hide the trap wiring 5 la.
  • the common wiring 14e is formed on the surface of the transparent substrate 11 of the active matrix substrate 50, and the first insulating film 63 and the second insulating film are formed thereon. 64, trap wiring 51a is formed.
  • the width of the common wiring 14e is larger than the width of the trap wiring 51a.
  • the width of the common wiring 14e, 14f may be smaller than the width of the trap wiring 51a, 5 lb.
  • the widths of the common wires 14e and 14f are increased, the widths of the common wires 14a and 14b can be reduced, and the frame region 13 can be reduced.
  • FIG. 16 is a plan view showing a configuration of an active matrix substrate 70 according to a modification of the first embodiment as a modification of the embodiment of the present invention.
  • the active matrix substrate 70 as shown in a region P surrounded by a circle symbol in FIG.
  • the common wiring 14e provided in the dummy picture element region of the pixel region 12 is preferably formed so that the width of the portion intersecting with the signal line S is narrower than the main wiring width W.
  • the width W ′ of the portion intersecting with the signal line S is narrower than the main wiring width W.
  • the common provided in the pixel region 12 is similar to the above.
  • the width of the portion that intersects the signal line S is made narrower than the main wiring width W.
  • the width of the portion intersecting with the signal line S is the main wiring.
  • the end of the signal line S on the side opposite to the signal input side does not cross the common wiring 14 e provided in the dummy pixel region of the pixel region 12.
  • the load on the signal line S can be reduced and an appropriate voltage can be supplied to the pixel electrode, and the short circuit between the signal line S and the common wiring 14e due to the pinhole of the insulating film can be eliminated.
  • the common wiring 14f does not cross the end portion of the signal line S opposite to the signal input side.
  • FIG. 16 the modification of the first embodiment is shown.
  • the signal input side of the signal line S is similar to the above.
  • the auxiliary capacitance line CS provided in the dummy pixel area is also opposite to the signal input side of the signal line S.
  • the opposite end does not cross.
  • the force scanning line may be configured to be parallel to the short side of the active matrix substrate, illustrating the configuration in which the scanning line is parallel to the long side of the active matrix substrate.
  • FIG. 2 and the like may have a configuration in which a force element power S stripe arrangement is shown, in which an example of a pixel element is a delta arrangement.
  • the number of dummy scanning lines is not limited to three in the above example, and may be larger than this.
  • common wiring and auxiliary capacitance wiring in the case of the third embodiment
  • common wiring and auxiliary capacitance wiring in the case of the third embodiment
  • common wiring and auxiliary capacitance wiring may be arranged in the dummy picture element areas of multiple rows.
  • the present invention When the present invention is implemented as a liquid crystal display device, a liquid crystal display mode and a backlight are used. There is no limitation on the presence or absence.
  • the present invention can be applied to a liquid crystal display device of any mode such as a transmissive type, a reflective type, or a transflective type.
  • the present invention provides an active matrix substrate in which a bus line driving circuit is arranged on one side of a frame region and supplies a common voltage V to a counter substrate side through a common transition, and a com
  • As a display device it can be used industrially.

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Abstract

 アクティブマトリクス基板の一辺に駆動回路を有し、コモン転移を介して対向基板側へ共通電圧Vcomを供給するアクティブマトリクス型表示装置において、歩留まりを低下させることなく、額縁領域の面積を縮小する。アクティブマトリクス基板(10)の画素領域(12)は、(a)信号線によって供給されるデータ信号に応じた表示を行う有効画素を含む実画素領域と、(b)前記実画素領域よりもパネル端側に位置するダミー画素領域とを有し、前記アクティブマトリクス基板(10)においてバスライン駆動回路(16)が配置された一辺に対向する辺に設けられたコモン転移(15a,15b)へコモン信号を供給するコモン配線(14)の少なくとも一部が、前記画素領域における前記ダミー画素領域に配置されている。

Description

明 細 書
表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、アクティブマトリクス型の表示装置に関し、特に、アクティブマトリクス基板 の一辺に駆動回路 (ドライバ)が搭載された表示装置に関する。
背景技術
[0002] 従来、基板上に走査線および信号線をマトリクス状に形成し、これらの信号線の交 点に TFT(Thin Film Transistor)等の駆動素子を形成したアクティブマトリクス 基板が、液晶表示装置等に広く用いられている。当初、アクティブマトリクス基板にお いては、図 17に示すように、互いに平行に配置された走査線 Gの一端に、走査線駆 動回路 91が設けられ、前記走査線 Gに直交しかつ互いに平行に配置された信号線 Sの一端に、信号線駆動回路 92が設けられることが一般的であった。つまり、図 17に 示す従来のアクティブマトリクス基板 90では、画素領域 93の周辺領域 94において、 隣り合う二辺に、走査線駆動回路 91と信号線駆動回路 92とがそれぞれ設けられて いた。
[0003] 一方、近年の半導体製造技術の進歩に伴い、駆動回路の高集積ィ匕が進んでいる 。また、表示装置においては、表示領域の大きさを確保しつつ、表示装置の筐体外 形をできる限り小さくすることが望まれ、いわゆる挟額縁化が、一つの重要な解決課 題とされている。このような背景から、アクティブマトリクス基板の周辺領域の一辺のみ に走査線駆動回路と信号線駆動回路の両方を搭載する試みもなされている (例えば 特開 2003— 241217号公報参照)。
[0004] 具体的には、図 18に示すように、アクティブマトリクス基板 95の一辺のみに、走査 線駆動回路と信号線駆動回路を一体ィ匕した駆動回路 98が搭載された構成が、特開 2003— 241217号公報(同文献の図 4参照)に開示されている。
[0005] なお、同文献の図 3等には、アクティブマトリクス基板 95の一辺に走査線駆動回路 が配置され、この走査線駆動回路の両側に信号線駆動回路が配置された構成も開 示されている。図 18に示した従来のアクティブマトリクス基板は、互いに平行に配列さ れた複数の信号線 Sのそれぞれを、画素領域 96の両側に交互に引き出して駆動回 路 98に接続することにより、信号線 Sの延設方向の両側における額縁領域 97の幅を 均等にしている。
[0006] 図 18に示したような従来の構成は、特に、携帯電話、デジタルカメラ、または PDA( Personal Digital Asistant)等の小型電子機器用の表示装置に好適に採用され ている。
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] しカゝしながら、近年の表示装置の高解像度化に伴い、額縁領域に配線される信号 線の本数は増加の一途をたどっている。特に、信号線本数が多い高精細パネルに おいては、信号線の幅や信号線の間隔を小さくする必要があり、配線リークや断線に よる歩留まり低下を余儀なくされる。このため、高精細パネルでは、歩留まり向上を図 ろうとすると、アクティブマトリクス基板の配線レイアウトの制限により額縁幅が縮小で きない、という問題を有している。
[0008] また、アクティブマトリクス基板に対向する対向基板には、表面全体に共通電極 (コ モン電極)が形成されている。この共通電極には、アクティブマトリクス基板またはァク ティブマトリクス基板に接続された FPC (Flexible Printed Circuit)等に設けられ た駆動回路(図 18には図示せず)から、コモン配線 101を介して、所定の電圧 (共通 電圧 V )が印加される。この場合、コモン配線 101と対向基板の共通電極とを電気 com
的に接続するためのコンタクト(「コモン転移」と称される) 102が、アクティブマトリクス 基板 95上に設けられる。コモン転移 102は、カーボンペーストや金等の導電性材料 で形成され、 500 m2〜: Lmm2程度の断面積を有する。図 18に示すように画素領域 96の周辺領域の一辺に駆動回路 98が配置されている場合、駆動回路 98の周辺は 、駆動回路 98からの引き出し配線が密集しているので、コモン転移を配置することが できない。従って、図 18に示すように、アクティブマトリクス基板 95の額縁領域 97に おいて引き出し配線が設けられていない領域に、コモン転移 102が配置される。そし て、駆動回路側力もコモン転移 102に至るまで、画素領域 96の周辺に沿ってコモン 配線 101を引き廻す必要がある。 [0009] なお、共通電極の信号遅延によるムラやクロストーク等の表示不良が発生しないよう に、コモン配線 101は低抵抗でなければならない。このため、コモン配線 101には、 十分な配線幅が必要である。従って、図 18に示したような従来のアクティブマトリクス 基板では、画素領域 96の周辺において、信号線 Sを引き廻す領域のみならず、十分 な幅のコモン配線 101を引き廻す領域を確保しなければならないので、額縁領域の 面積を小さくすることができな 、、 t 、う課題があった。
[0010] 本発明は、上記の問題を鑑み、アクティブマトリクス基板の一辺に駆動回路を配置 し、かつアクティブマトリクス基板のコモン転移を介して対向基板側へ共通電圧 V を com 供給する表示装置において、歩留まりを低下させることなぐ額縁領域の面積を縮小 することを目的としている。
課題を解決するための手段
[0011] 上記の目的を達成するために、本発明に力かる第 1の表示装置は、アクティブマトリ タス基板と対向基板とを備えた表示装置において、前記アクティブマトリクス基板が、 マトリクス状に配置された走査線および信号線と、前記信号線によって供給されるデ ータ信号に応じた表示を行う有効画素を含む実画素領域と、前記実画素領域よりも パネル端側に位置するダミー画素領域とを含む画素領域を有し、前記表示装置が、 前記アクティブマトリクス基板の一辺において前記画素領域外に配置され、前記走査 線および信号線へ、走査信号およびデータ信号をそれぞれ供給するバスライン駆動 回路と、前記対向基板の共通電極へ供給するコモン信号を生成するコモン駆動回路 とを備え、前記アクティブマトリクス基板が、前記アクティブマトリクス基板において前 記バスライン駆動回路が配置された一辺に対向する辺に設けられ、前記コモン信号 を前記対向基板の共通電極へ供給するためのコモン転移と、前記コモン信号を前記 コモン転移へ供給するためのコモン配線とを備え、前記コモン配線の少なくとも一部 力 前記画素領域における前記ダミー画素領域に配置されていることを特徴とする。
[0012] 上記の構成によれば、コモン配線の少なくとも一部を画素領域におけるダミー画素 領域に配置したことにより、コモン配線の全体を画素領域外に配置した従来の構成 に比較して、画素領域外に配置されるコモン配線の幅を細くでき、あるいは画素領域 外のコモン配線を無くすことができる。これにより、額縁領域の幅を従来の構成よりも 小さくすることができるので、歩留まりを低下させることなぐ額縁領域の面積が縮小さ れた表示装置を提供できる。
[0013] 前記第 1の表示装置において、前記ダミー画素領域に配置されているコモン配線 力 前記画素領域内の補助容量配線に電気的に接続されていることが好ましい。
[0014] 前記第 1の表示装置において、前記ダミー画素領域に配置されているコモン配線 力 前記画素領域内の補助容量配線に対して電気的に独立していることが好ましい
[0015] 前記第 1の表示装置において、前記ダミー画素領域に、前記画素領域内の補助容 量配線に並列なダミー補助容量配線がさらに配置されたことが好ましい。
[0016] 前記第 1の表示装置において、前記補助容量配線において、前記信号線との交叉 部分の幅が、当該コモン配線の主たる配線幅よりも小さいことが好ましい。
[0017] 前記第 1の表示装置にお!、て、前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記 ダミー補助容量配線に交叉しな 、よう配置されたことが好まし 、。
[0018] 前記第 1の表示装置において、前記実画素領域の画素電極が、当該画素電極を 駆動する走査線に隣接する走査線との間で補助容量を形成することが好ましい。
[0019] 前記第 1の表示装置において、前記ダミー画素領域のコモン配線において、前記 信号線との交叉部分の幅が、当該コモン配線の主たる配線幅よりも小さいことが好ま しい。
[0020] 前記第 1の表示装置にお!、て、前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記 ダミー画素領域のコモン配線に交叉しな 、よう配置されたことが好ま 、。
[0021] 前記第 1の表示装置において、前記ダミー画素領域を視覚的に遮蔽する遮蔽部材 をさらに備えたことが好ましい。
[0022] 前記第 1の表示装置において、前記アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液 晶を備えたことが好ましい。
[0023] 上記の目的を達成するために、本発明に力かる第 2の表示装置は、アクティブマトリ タス基板と対向基板との間に表示媒体を備えた表示装置において、前記アクティブ マトリクス基板力 マトリクス状に配置された走査線および信号線と、前記信号線によ つて供給されるデータ信号に応じた表示を行う有効画素を含む実画素領域と、前記 実画素領域よりもパネル端側に位置し前記表示媒体中の不純物を電気的に捕獲す るためのトラップ配線が形成された不純物捕獲領域とを含む画素領域を有し、前記 表示装置が、前記アクティブマトリクス基板の一辺において前記画素領域外に配置さ れ、前記走査線および信号線へ、走査信号およびデータ信号をそれぞれ供給する バスライン駆動回路と、前記対向基板の共通電極へ供給するコモン信号を生成する コモン駆動回路とを備え、前記アクティブマトリクス基板が、前記アクティブマトリクス 基板において前記バスライン駆動回路が配置された一辺に対向する辺に設けられ、 前記コモン信号を前記対向基板の共通電極へ供給するためのコモン転移と、前記コ モン信号を前記コモン転移へ供給するためのコモン配線とを備え、前記コモン配線 の少なくとも一部が、前記画素領域における前記不純物捕獲領域に配置されている ことを特徴とする。
[0024] 上記の構成によれば、コモン配線の少なくとも一部を画素領域における不純物捕 獲領域に配置したことにより、コモン配線の全体を画素領域外に配置した従来の構 成に比較して、画素領域外に配置されるコモン配線の幅を細くでき、あるいは画素領 域外のコモン配線を無くすことができる。これにより、額縁領域の幅を従来の構成より も小さくすることができるので、歩留まりを低下させることなぐ額縁領域の面積が縮小 された表示装置を提供できる。
[0025] 前記第 2の表示装置にぉ 、て、前記不純物捕獲領域のコモン配線にお!、て、前記 信号線との交叉部分の幅が、当該コモン配線の主たる配線幅よりも小さいことが好ま しい。
[0026] 前記第 2の表示装置にお 、て、前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記 不純物捕獲領域のコモン配線に交叉しな 、よう配置されたことが好まし 、。
[0027] 前記第 1または第 2の表示装置において、前記表示媒体が液晶であることが好まし い。
発明の効果
[0028] 以上のとおり、本発明によれば、アクティブマトリクス基板の一辺に駆動回路を配置 し、かつアクティブマトリクス基板のコモン転移を介して対向基板側へ共通電圧 V を com 供給する表示装置において、歩留まりを低下させることなぐ額縁領域の面積を縮小 することができる。
図面の簡単な説明
[図 1]図 1は、本発明の一実施形態にカゝかるアクティブマトリクス基板 10の概略構成を 示す平面図である。
[図 2]図 2は、図 1における A部付近を拡大して示す平面図である。
[図 3]図 3は、ダミー絵素領域およびその近傍の実絵素領域の等価回路図である。
[図 4]図 4は、本実施形態に力かる液晶表示装置の断面構造を示す図であり、(a)は 平面図における断面の位置を示す図、(b)は(a)に示す A— A'断面における液晶表 示装置の構成を示す断面図、(c)は(a)に示す B— B'断面における液晶表示装置 の構成を示す断面図である。
[図 5]図 5は、本実施形態にカゝかるアクティブマトリクス基板 10の効果を説明する図で ある。
[図 6]図 6は、本発明の一実施形態にカゝかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板 20の概略構成を示す平面図である。
[図 7]図 7は、図 6における A部付近を拡大して示す平面図である。
[図 8]図 8は、本発明の一実施形態にカゝかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板
30の概略構成を示す平面図である。
[図 9]図 9は、図 8における A部付近を拡大して示す平面図である。
[図 10]図 10は、本発明の一実施形態に力かる液晶表示装置のアクティブマトリクス基 板 40の概略構成を示す平面図である。
[図 11]図 11は、図 10における A部付近を拡大して示す平面図である。
[図 12]図 12は、ダミー絵素領域およびその近傍の実絵素領域の等価回路図である。
[図 13]図 13は、本発明の一実施形態に力かる液晶表示装置のアクティブマトリクス基 板 50の概略構成を示す平面図である。
[図 14]図 14は、図 13における A部付近を拡大して示す平面図である。
[図 15]図 15は、本実施形態に力かる液晶表示装置の断面構造を示す図であり、 (a) は平面図における断面の位置を示す図、(b)は (a)に示す A— A'断面における液晶 表示装置の構成を示す断面図、(c)は(a)に示す B— B'断面における液晶表示装 置の構成を示す断面図である。
[図 16]図 16は、本発明の実施形態の変形例にカゝかるアクティブマトリクス基板の構成 を示す平面図である。
[図 17]図 17は、従来の表示装置が備えるアクティブマトリクス基板の構成例を示す平 面図である。
[図 18]図 18は、従来の表示装置が備えるアクティブマトリクス基板の構成例を示す平 面図である。
発明を実施するための最良の形態
[0030] 以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。ただし、以下で 参照する各図は、説明の便宜上、本発明の一実施形態の表示装置における各部の 構成部材のうち、本発明を説明するための主要な構成部材を示し、他の構成部材に ついては簡略ィ匕または省略して示したものである。従って、本発明に力かる表示装置 は、本明細書が参照する各図に示されていない任意の構成部材を備え得る。また、 各図中の部材の寸法は、実際の構成部材の寸法および各部材の寸法比率等を必 ずしも忠実に表したものではない。さらに、下記の実施形態では、液晶表示装置とし て本発明の表示装置を実施する態様を例示するが、本発明は液晶表示装置に限定 されない。
[0031] [第 1の実施形態]
図 1は、本発明の一実施形態にカゝかるアクティブマトリクス基板 10の概略構成を示 す平面図である。図 2は、図 1における A部付近を拡大して示す平面図である。本実 施形態に力かるアクティブマトリクス基板 10は、液晶表示装置等の表示装置に用い られる。アクティブマトリクス基板 10は、ガラス等を材料とする透光性基板 11上に、 n 本の走査線 Gと m本の信号線 Sとが直交するように配置され、走査線 Gと信号線 Sと の交点のそれぞれに TFTおよび画素電極 (V、ずれも図示せず)を備えた画素領域 1 2を有する。なお、図 1および図 2並びに本明細書において参照する他の図において は、走査線 Gおよび信号線 Sの本数を省略して図示している。なお、駆動素子は TF Tに限定されない。アクティブマトリクス基板 10において、矩形の画素領域 12を額縁 状に囲み、かつ対向基板との重なりを有する領域を、額縁領域 13と称する。ァクティ ブマトリクス基板 10の一辺に、走査線 Gを駆動する走査線駆動回路と信号線 Sを駆 動する信号線駆動回路とを 1チップに集積したバスライン駆動回路 16が、 COG (Chi p On Glass)方式等により実装されている。もしくは、アクティブマトリクス基板 10上 に直接、バスライン駆動回路が形成されている。
[0032] 額縁領域 13において、バスライン駆動回路 16が配置された側の辺に対向する辺 の両端部近傍に、コモン転移 15a, 15bが設けられている。コモン転移 15a, 15bは、 カーボンペーストや金等の導電性材料で形成され、一般的には、 500 ^ m2- lmm2 程度の断面積を有する。なお、コモン転移の数は 2個に限定されない。
[0033] m本の信号線 Sにおいて、ノ スライン駆動回路 16に最も遠い位置にある信号線を S とし、バスライン駆動回路 16に最も近い位置にある信号線を Sとする。信号線 Sのう
1 m
ち約半数が、画素領域 12から引き出された後、額縁領域 13における一辺を通って ノ スライン駆動回路 16に接続され、残りの信号線 Sは、画素領域 12から前記約半数 の信号線 Sとは反対方向に引き出された後、額縁領域 13を通ってバスライン駆動回 路 16に接続されている。すなわち、図 2の例では、 m本の信号線 Sのうち、 S , S , S
2 4 6
, · · ·力 額縁領域 13において図 2における上側の辺を通ってノ スライン駆動回路 1 6に接続され、 S , S , S , 、'、iS 額縁領域 13において図 2における下側の辺を通
1 3 5
つてバスライン駆動回路 16に接続されている。このように、信号線 Sを、その約半数 ずつ、額縁領域 13において互いに対向する二辺に振り分けて配線することにより、 額縁領域 13の前記二辺の幅を均等にすることができる。ただし、図 2の例では、 m本 の信号線 S , S , S , S , · · ·が額縁領域 13において互いに対向する二辺へ交互に
1 2 3 4
引き出される構成としたが、これに限らず、例えば、信号線 S〜S を、額縁領域 13
1 m/2
の一辺へ引き出し、信号線 s 〜sをその反対側へ引き出した構成としても良い。
(m/2)+l m
なお、信号線 Sが額縁領域 13において互いに対向する二辺に約半数ずつ振り分け て配線されて 、ることは、本発明にとつて必須ではな!/、。
[0034] 走査線 Gは、 TFTのゲートを ONにするための走査信号が所定のタイミングで印加 される n本の走査線 G〜Gの他に、ダミー走査線 G , G , G も含む。なお、図 1で
I n dl d2 d3
は、走査線 Gの外側に 2本のダミー走査線 G , G が設けられ、走査線 Gの外側に
1 dl d2 n
1本のダミー走査線 G が設けられた構成を例示するが、ダミー走査線の数はこの例 に限定されない。ダミー走査線 G , G , G には、表示領域の走査信号と同様の信 dl d2 d3
号、あるいは、走査信号としては機能しない信号、すなわち TFTのゲートを ONにす る High電位には至らない電位の信号力 バスライン駆動回路 16より印加される。ある いは、ダミー走査線 G , G , G 〖こ、走査信号の Low電位と同じ電位を常に印加す dl d2 d3
るようにしても良い。
[0035] 図 2は、図 1における A部付近を拡大して示す平面図である。図 2に示すように、ダミ 一走査線 G とダミー走査線 G との間の領域にも、実絵素領域の画素電極 17および dl d2
TFT18と同様に、画素電極 17dおよび TFT18dが設けられている。 TFT18dのゲ ート電極は、ダミー走査線 G に接続されている。 TFT18dのドレイン電極は、画素電 d2
極 17dに接続されている(後述の図 3も参照)。上述のとおり、ダミー走査線 G , G , dl d2
G には、走査信号としては機能しない信号が供給されるので、ダミー走査線 G に T d3 dl
FT18dを介して接続されている画素電極 17dは、表示に寄与しない絵素 (ダミー絵 素)を構成する。このように、表示に寄与しないダミー絵素が形成されている領域を「 ダミー絵素領域」と称する。これに対して、表示に寄与する絵素 (有効画素)が形成さ れている領域 (ダミー走査線 G と走査線 Gとの間の領域)を「実絵素領域」と称する。
d2 n
[0036] なお、本実施形態では、例えば RGB三色等のカラーフィルタを用いてカラー表示 を行う液晶表示装置を例示しており、「絵素」とは、一色のカラーフィルタに対応する 一画素を意味する。「ダミー画素領域」と「ダミー絵素領域」、「実画素領域」と「実絵素 領域」は、それぞれ同義である。ダミー絵素領域は、上述のとおり表示に寄与しない ため、対向基板に設けられたブラックマトリクスや、アクティブマトリクス基板または対 向基板の表面に張り付けられた遮光板で隠されていることが好ましい。
[0037] 図 3は、ダミー絵素領域およびその近傍の実絵素領域の等価回路図である。この 構成によれば、実絵素領域の外側にダミー走査線 G , G を設けたことにより、実絵 dl d2
素領域の最上段の走査線 Gで駆動される絵素と、 2段目以降の走査線 G , G , · · ·
1 2 3 で駆動される絵素とにおいて、画素電極とゲートバスライン間の寄生容量 C の大きさ gd が均等となり、画素領域端部における輝線が防止される。また、走査線 Gの外側にダ ミー走査線 G を設けたことにより、走査信号によって移動した表示媒体中の不純物 d3
を非表示領域にとどめると 、う効果がある。 [0038] 画素領域 12を囲むように、額縁領域 13の四辺にわたって、コモン配線 14a, 14b, 14c, 14dが形成されている。コモン配線 14a, 14b, 14c, 14dの材料としては、例え ば、アルミニウム、モリブデン、またはタンタル、あるいはこれらの合金等が用いられる 。コモン配線 14a, 14bは、走査線 Gと平行に、額縁領域 13において互いに対向す る二辺に形成されている。コモン配線 14c, 14dは、信号線 Sと平行に、額縁領域 13 にお 、て互いに対向する二辺に形成されて!、る。コモン配線 14aとコモン配線 14cと の接続箇所に電気的に接続するように、前述のコモン転移 15aが設けられている。ま た、コモン配線 14bとコモン配線 14cとの接続箇所に電気的に接続するように、前述 のコモン転移 15bが設けられている。なお、コモン配線 14a, 14b, 14cと、コモン配 線 14dとは、アクティブマトリクス基板 10にお 、て互いに異なる層に形成されて!、る。 このため、図 2に示すように、例えばコモン配線 14aとコモン配線 14dとは、これらの 配線間の絶縁膜に形成されたコンタクトホール 19を介して電気的に接続されている。
[0039] また、図 3に示したように、本実施形態のアクティブマトリクス基板 10は、液晶容量 C と並列に補助容量 C が形成されている。このため、アクティブマトリクス基板 10は、
IX CS
図 2に示すように、実絵素領域の各絵素内に、画素電極 18との間で容量 (補助容量 C )を形成する補助容量配線 CS , CS , · · ·を有している。図 2の例では、補助容
CS 1 2
量配線 CS, CS, · · ·は、コモン配線 14a
1 2 , 14bと平行な幹線 CS と、この幹線 CS
1 1 に直交する支線 CS とから構成される。ただし、補助容量配線 CS , CS , · · ·の形
IB 1 2 状は、図 2に示した例には限定されない。
[0040] 補助容量配線 CS , CS , · · ·の幹線 CS の一端は、図 2に示すように、コンタクトホ
1 2 1
ール 19を介してコモン配線 14dに電気的に接続されている。また、図 2では図示を省 略したが、補助容量配線 CS , CS , · · ·の幹線 CS の他端は、同様にコンタクトホー
1 2 1
ルを介してコモン配線 14cに電気的に接続されている。この構成により、補助容量配 線 CS , CS , · · ·は、コモン配線 14c, 14dと同電位に保持される。
1 2
[0041] また、本実施形態に力かるアクティブマトリクス基板 10では、図 1に示すように、額縁 領域 13に形成されたコモン配線 14a〜14d以外に、画素領域 12内にもコモン配線 1 4e, 14fが形成されている。図 2に示すように、コモン配線 14eは、コモン配線 14aと 平行であり、ダミー走査線 G とダミー走査線 G との間のダミー絵素領域内に形成さ れている。また、コモン配線 14fは、コモン配線 14aと平行であり、ダミー走査線 G と d3 走査線 Gとの間のダミー絵素領域内に形成されている。コモン配線 14eの両端は、 コモン配線 14cおよびコモン配線 14dのそれぞれに電気的に接続されている。コモン 配線 14fの両端も、コモン配線 14cおよびコモン配線 14dのそれぞれに電気的に接 続されている。なお、コモン配線 14e, 14fは、コモン配線 14a, 14b, 14cと同じ層で あって、コモン配線 14dとは異なる層に形成されている。従って、図 2に示すように、コ モン配線 14eと、コモン配線 14dとは、これらの配線の絶縁膜に形成されているコンタ タトホール 19を介して電気的に接続される。また、図 2では図示を省略した力 コモン 配線 14fと、コモン配線 14dとの電気的接続も同様である。
[0042] 図 4は、本実施形態に力かる液晶表示装置の断面構造を示す図であり、 (a)は平 面図における断面の位置を示す図、(b)は(a)に示す A— A'断面における液晶表示 装置の構成を示す断面図、(c)は(a)に示す B— B'断面における液晶表示装置の 構成を示す断面図である。図 4 (b)および図 4 (c)では、配向膜の図示は省略されて いる。なお、図 4 (a)〜(c)は、コモン配線 14eの断面構造を示す力 コモン配線 14f の断面構造も同様である。
[0043] 図 4 (b)に示すように、本実施形態の液晶表示装置は、アクティブマトリクス基板 10 と対向基板 60との間に液晶 62を挟持している。図 4 (b)に示すように、アクティブマト リクス基板 10において、透光性基板 11の表面には、コモン配線 14e、第 1絶縁膜 63 、信号線 S、第 2絶縁膜 64、および配向膜 (図示せず)が、この順に形成されている。 また、対向基板 60において、透光性基板 61の表面には、ブラックマトリクス 66、カラ 一フィルタ 65、共通電極 66、および配向膜(図示せず)が形成されている。
[0044] コモン配線 14e, 14fの幅は、ダミー絵素領域に収まる範囲であれば任意であるが 、できるだけ大きくすることが好ましい。ダミー絵素領域のコモン配線 14e, 14fの幅を 大きくするほど、額縁領域 13のコモン配線 14a, 14bの幅を小さく形成することができ 、ひいては額縁領域 13の幅を縮小できる力もである。コモン配線 14a, 14bにおける 入力端 14g, 14hへそれぞれ供給される共通電圧 V は、コモン配線 14a, 14bを介 com
してコモン転移 15a, 15bへそれぞれ伝達されると共に、コモン配線 14dの一部とコ モン配線 14e, 14fとコモン配線 14cの一部とを介して、コモン転移 15a, 15bへそれ ぞれ伝達される。つまり、コモン配線 14e, 14fは、コモン配線 14d, 14cの一部と共 に、共通電圧 V の供給端子となるコモン配線 14a, 14bの入力端 14g, 14hと、コモ com
ン転移 15a, 15bとの間を並列に接続する線である。よって、コモン配線 14e, 14fの 線幅を大きくしてその配線抵抗が小さくなるほど、額縁領域 13のコモン配線 14a, 14 bの幅を小さくすることができる。なお、ダミー絵素領域の幅が十分にあり、コモン配線 14e, 14fの線幅を十分に大きくできる場合は、額縁領域 13のコモン配線を完全にな くすことも可能である。
[0045] 図 5は、本実施形態に力かるアクティブマトリクス基板 10の効果を説明する図であり 、図 18に示したように額縁領域のみにコモン配線を配置した従来の構成を (a)に、図 1および図 2に示した本実施形態にカゝかる構成を (b)に、額縁領域の幅を対比可能 なスケールでそれぞれ示した平面図である。図 5の(a)と (b)とを比較することから明 らかなように、本実施形態に力かるアクティブマトリクス基板 10によれば、画素領域 1 2内のダミー絵素領域にもコモン配線 14e, 14fを設けたことにより、従来の構成にお ける額縁領域 97の幅よりも、額縁領域 13の幅を縮小することができる。
[0046] [第 2の実施形態]
図 6は、本発明の一実施形態にカゝかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板 20 の概略構成を示す平面図である。図 7は、図 6における A部付近を拡大して示す平面 図である。なお、第 1の実施形態において説明した構成と同様の構成については、 第 1の実施形態と同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
[0047] 図 6および図 7に示すように、本実施形態に力かるアクティブマトリクス基板 20は、 額縁領域 13において信号線 Sに平行にコモン配線 14a, 14bが設けられており、画 素領域 12のダミー絵素領域にコモン配線 14e, 14fが設けられている点において、 第 1の実施形態と同様であり、額縁領域 13の幅を小さくできるという効果を奏する。
[0048] し力し、額縁領域 13において、コモン配線 14c , 14dがコモン配線 14aとコモン配
1 1
線 14eとを接続して電気的に閉ループを形成しており、コモン配線 14c , 14dがコモ
2 2 ン配線 14bとコモン配線 14fとを接続して電気的に閉ループを形成している点で、第 1の実施形態と異なる。
[0049] また、図 7に示すように、補助容量配線 CS , CS , · · ·の一端に対して、コモン配線 とは独立して 、る (電気的に接続されて!、な 、)補助容量配線 21aを介して電圧が供 給される点においても、第 1の実施形態と異なる。従って、補助容量配線 CSに対して 、共通電圧 V とは異なる電圧を供給できる。なお、図 6に示すように、補助容量配 com
線 CS , CS , · · ·の他端には、補助容量配線 21aと同様に、補助容量配線 CS , CS
1 2 1
,…同士を電気的に接続する補助容量配線 21bが形成されている。なお、図 6に
2
おいては、補助容量配線 21a, 21bと補助容量配線 CS , CS , · · ·との接続の図示
1 2
を省略している。
[0050] この第 2の実施形態によれば、第 1の実施形態に比べて以下の利点がある。すなわ ち、ノーマリーホワイト方式の液晶表示装置として第 2の実施形態にかかる表示装置 を実施する場合、補助容量配線 CSに対して、共通電圧 V とは異なる電圧を供給 com
することにより、画素内で補助容量配線と画素電極が短絡する不良があった場合で も、致命的な欠陥 (輝点)を回避することができる。
[0051] [第 3の実施形態]
図 8は、本発明の一実施形態にカゝかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板 30 の概略構成を示す平面図である。図 9は、図 8における A部付近を拡大して示す平面 図である。なお、前述の各実施形態において説明した構成と同様の構成については 、それらの実施形態と同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
[0052] 図 8および図 9に示すように、本実施形態に力かるアクティブマトリクス基板 30は、 額縁領域 13において信号線 Sに平行にコモン配線 14a, 14bが設けられており、画 素領域 12のダミー絵素領域にコモン配線 14e, 14fが設けられている点において、 第 1および第 2の実施形態と同様であり、額縁領域 13の幅を小さくできるという効果を 奏する。
[0053] また、額縁領域 13において、コモン配線 14c , 14dがコモン配線 14aとコモン配線
1 1
14eとを接続して電気的に閉ループを形成しており、コモン配線 14c , 14dがコモン
2 2 配線 14bとコモン配線 14fとを接続して電気的に閉ループを形成している点では、第 1の実施形態とは異なるが、第 2の実施形態と同じである。
[0054] 本実施形態では、画素領域 12において、ダミー絵素領域にコモン配線 14e, 14fと 共に、補助容量配線 CSが配置されている点において、第 2の実施形態と異なって いる。このように、ダミー絵素領域に補助容量配線 CSを配置したことにより、補助容 d
量配線全体の抵抗を低くすることができ、補助容量配線 CS , CS , · · ·に印加される
1 2
電圧の低下を防止できる。
[0055] なお、本実施形態にぉ 、て、ダミー絵素領域の画素電極 17dおよび TFT18dは必 須ではない。すなわち、ダミー絵素領域には画素電極が形成されていなくても良い。 また、ダミー絵素領域には TFTを有さず、ダミー絵素領域の画素電極 17dが補助容 量配線 CSおよびコモン配線 14e, 14fの少なくとも一方と接続された構成としても良 d
い。
[0056] [第 4の実施形態]
図 10は、本発明の一実施形態にカゝかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板 4 0の概略構成を示す平面図である。図 11は、図 10における A部付近を拡大して示す 平面図である。なお、前述の各実施形態において説明した構成と同様の構成につい ては、それらの実施形態と同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
[0057] 図 10および図 11に示すように、本実施形態に力かるアクティブマトリクス基板 40は 、額縁領域 13において信号線 Sに平行にコモン配線 14a, 14bが設けられており、 画素領域 12のダミー絵素領域にコモン配線 14e, 14fが設けられている点において 、第 1および第 2の実施形態と同様であり、額縁領域 13の幅を小さくできるという効果 を奏する。
[0058] また、額縁領域 13において、コモン配線 14c , 14dがコモン配線 14aとコモン配線
1 1
14eとを接続して電気的に閉ループを形成しており、コモン配線 14c , 14dがコモン
2 2 配線 14bとコモン配線 14fとを接続して電気的に閉ループを形成している点では、第 1の実施形態とは異なるが、第 2の実施形態と同じである。
[0059] 図 12は、ダミー絵素領域およびその近傍の実絵素領域の等価回路図である。図 1 2に示すように、本実施形態にかかる液晶表示装置は、隣接する画素の走査線を利 用して補助容量 C を形成している。このため、本実施形態に力かるアクティブマトリ
CS
タス基板 40は、第 1および第 2の実施形態のような補助容量配線を備えていない。
[0060] 図 10に示すように、アクティブマトリクス基板 40では、実絵素領域およびダミー絵素 領域の両方において、画素電極 17または画素電極 17dのそれぞれが、当該画素の 1段上の走査線との間で補助容量 C を形成している。例えば、走査線 Gに接続され
CS 1 ている絵素の画素電極 17は、走査線 Gよりも 1段上にあるダミー走査線 G との間で
1 d2 補助容量 c を形成する。
CS
[0061] [第 5の実施形態]
図 13は、本発明の一実施形態にカゝかる液晶表示装置のアクティブマトリクス基板 5 0の概略構成を示す平面図である。図 14は、図 13における A部付近を拡大して示す 平面図である。なお、前述の各実施形態において説明した構成と同様の構成につい ては、それらの実施形態と同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
[0062] 本実施形態に力かるアクティブマトリクス基板 50は、第 1〜第 4の実施形態とは異な り、ダミー絵素領域を有していない。その代わりに、アクティブマトリクス基板 50は、図 13および図 14に示すように、走査線 Gよりも外側(額縁領域側)と、走査線 Gよりも
1 n 外側(額縁領域側)に、液晶中のイオン性不純物を捕獲するためのトラップ配線 51a , 5 lbを備えている。
[0063] 液晶表示装置の製造工程にお!/、て、配向膜に対してラビング処理を行う場合、摩 擦によって基板力 削り取られた配向膜が、異物として配向膜表面に付着し、時間経 過と共にイオン性不純物となって液晶中に拡散して 、くことがある。トラップ配線 51a , 51bは、所定の電圧 (例えば— 5V)が印加されることにより、イオン性不純物を捕獲 する機能を持つ。これにより、イオン性不純物が実絵素領域に拡散することによる表 示ムラを防止できる。トラップ配線 51a, 51bは、画素電極と同じ透明電極材料 (ITO または IZO)や、走査線 Gまたは信号線 Sと同じ配線材料 (例えば Aほたは Mo)等で 形成される。
[0064] アクティブマトリクス基板 50では、このトラップ配線 51a, 51bの下層に、コモン配線 14e, 14fが配置されている。図 15は、本実施形態に力かる液晶表示装置の断面構 造を示す図であり、(a)は平面図における断面の位置を示す図、(b)は (a)に示す A -A'断面における液晶表示装置の構成を示す断面図、(c)は(a)に示す B— B'断 面における液晶表示装置の構成を示す断面図である。図 15 (b)および図 15 (c)で は、配向膜の図示は省略されている。なお、図 15 (a)〜(c)は、トラップ配線 51aの断 面構造を示すが、トラップ配線 5 lbの構造も同様である。 [0065] 図 15 (b)および図 15 (c)に示すように、本実施形態にかかる液晶表示装置は、ァク ティブマトリクス基板 50と対向基板 60との間に、液晶 62を挟持している。図 15 (b)に 示すように、アクティブマトリクス基板 50において、透光性基板 11の表面には、コモン 配線 14e、第 1絶縁膜 63、信号線 S、第 2絶縁膜 64、トラップ配線 51a、および配向 膜 (図示せず)が、この順に形成されている。また、対向基板 60において、透光性基 板 61の表面には、ブラックマトリクス 66、カラーフィルタ 65、共通電極 66、および配 向膜 (図示せず)が形成されている。なお、対向基板 60のブラックマトリクス 66は、トラ ップ配線 5 laを隠すように配置されて 、る。
[0066] また、図 15 (c)に示すように、コモン配線 14eは、アクティブマトリクス基板 50の透光 性基板 11の表面に形成され、その上層に、第 1絶縁膜 63、第 2絶縁膜 64、トラップ 配線 51aが形成されている。図 15では、コモン配線 14eの幅力 トラップ配線 51aの 幅よりも大きい構成を示している力 コモン配線 14e, 14fの幅がトラップ配線 51a, 5 lbの幅よりも小さくても良い。ただし、第 1の実施形態で説明したように、コモン配線 1 4e, 14fの幅を大きくするほど、コモン配線 14a, 14bの幅を小さくすることができ、額 縁領域 13の縮小が図れる。
[0067] 以上、第 1〜第 5の実施形態を説明したが、これらの実施形態の一変形例をここで 説明する。図 16は、本発明の実施形態の一変形例として、第 1の実施形態の変形例 にかかるアクティブマトリクス基板 70の構成を示す平面図である。図 16において丸記 号で囲んで示した領域 Pに表れているように、アクティブマトリクス基板 70において、
1
画素領域 12のダミー絵素領域に設けられたコモン配線 14eは、信号線 Sと交差する 部分の幅が、主たる配線幅 Wよりも細く形成されていることが好ましい。なお、コモン 配線 14fも同様に、信号線 Sと交差する部分の幅 W'が、主たる配線幅 Wよりも細く形 成されていることが好ましい。これにより、信号線 Sの負荷を低減し画素電極に適切な 電圧を供給することができる。また、絶縁膜のピンホールなどに起因する、信号線 Sと コモン配線 14eとの短絡の確率が減少するという効果もある。なお、図 16では、第 1 の実施形態の変形例を示したが、第 2〜第 5の実施形態に力かるアクティブマトリクス 基板においても、上記と同様に、画素領域 12内に設けられたコモン配線 14eにおい て、信号線 Sと交差する部分の幅を、主たる配線幅 Wよりも細く形成する構成とすれ ば、上記と同様の効果が得られる。また、第 3の実施形態の場合、ダミー絵素領域に 設けられた補助容量配線 CSにおいて、信号線 Sと交差する部分の幅を主たる配線
d
幅 wよりも細く形成することによつても、同様の効果が得られる。
[0068] また、図 16において丸記号で囲んで示した領域 Pに表れているように、アクティブ
2
マトリクス基板 70において、信号線 Sにおける信号入力側と反対側の末端部が、画 素領域 12のダミー絵素領域に設けられたコモン配線 14eと交叉しないようにすること が好ましい。これにより、信号線 Sの負荷を低減し画素電極に適切な電圧を供給する ことができ、また絶縁膜のピンホールなどに起因する信号線 Sとコモン配線 14eの短 絡が無くなるという利点がある。なお、コモン配線 14fも同様に、信号線 Sにおける信 号入力側と反対側の末端部と交叉しないようにすることが好ましい。なお、図 16では 、第 1の実施形態の変形例を示したが、第 2〜第 5の実施形態に力かるアクティブマト リクス基板においても、上記と同様に、信号線 Sにおける信号入力側と反対側の末端 部力 画素領域 12のダミー絵素領域に設けられたコモン配線 14eと交叉しない構成 とすれば、上記と同様の効果が得られる。また、第 3の実施形態の場合、ダミー絵素 領域に設けられた補助容量配線 CSに対しても、信号線 Sにおける信号入力側と反
d
対側の末端部が交叉しな 、ようにすることが好まし 、。
[0069] また、上述の各実施形態は、本発明の一具体例に過ぎず、発明の範囲内で上記の 実施形態を変更することが可能である。例えば、図 2等では、走査線がアクティブマト リクス基板の長辺に平行な構成を例示した力 走査線がアクティブマトリクス基板の短 辺に平行な構成であっても良!、。
[0070] また、図 2等には、絵素がデルタ配列である例を示した力 絵素力 Sストライプ配列さ れた構成であっても良 、。
[0071] ダミー走査線の数は、上述の例の 3本に限定されず、これよりも多くても良い。これ により、ダミー絵素領域が複数行形成される場合は、いずれか 1つの行のダミー絵素 領域のみにコモン配線および補助容量配線 (第 3の実施形態の場合)を配置しても 良 、し、複数行のダミー絵素領域にコモン配線および補助容量配線 (第 3の実施形 態の場合)を配置しても良 、。
[0072] また、本発明を液晶表示装置として実施する場合、液晶の表示モードやバックライト の有無等については、何ら限定がない。例えば、透過型、反射型、または半透過型 等の、任意のモードの液晶表示装置に本発明を適用できる。
産業上の利用可能性
本発明は、額縁領域の一辺にバスライン駆動回路を配置し、かつコモン転移を介し て対向基板側へ共通電圧 V を供給するアクティブマトリクス基板およびこれを用い com
た表示装置として、産業上利用可能である。

Claims

請求の範囲
[1] アクティブマトリクス基板と対向基板とを備えた表示装置において、
前記アクティブマトリクス基板が、
マトリクス状に配置された走査線および信号線と、
前記信号線によって供給されるデータ信号に応じた表示を行う有効画素を含む実 画素領域と、前記実画素領域よりもパネル端側に位置するダミー画素領域とを含む 画素領域を有し、
前記表示装置が、
前記アクティブマトリクス基板の一辺において前記画素領域外に配置され、前記走 查線および信号線へ、走査信号およびデータ信号をそれぞれ供給するバスライン駆 動回路と、
前記対向基板の共通電極へ供給するコモン信号を生成するコモン駆動回路とを備 え、
前記アクティブマトリクス基板が、
前記アクティブマトリクス基板において前記バスライン駆動回路が配置された一辺 に対向する辺に設けられ、前記コモン信号を前記対向基板の共通電極へ供給する ためのコモン転移と、
前記コモン信号を前記コモン転移へ供給するためのコモン配線とを備え、 前記コモン配線の少なくとも一部が、前記画素領域における前記ダミー画素領域に 配置されて!ゝることを特徴とする表示装置。
[2] 前記ダミー画素領域に配置されているコモン配線力 前記画素領域内の補助容量 配線に電気的に接続されて ヽる、請求項 1に記載の表示装置。
[3] 前記ダミー画素領域に配置されているコモン配線力 前記画素領域内の補助容量 配線に対して電気的に独立して!/、る、請求項 1に記載の表示装置。
[4] 前記ダミー画素領域に、前記画素領域内の補助容量配線に並列なダミー補助容 量配線がさらに配置された、請求項 1に記載の表示装置。
[5] 前記補助容量配線において、前記信号線との交叉部分の幅が、当該コモン配線の 主たる配線幅よりも小さ ヽ、請求項 4に記載の表示装置。
[6] 前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記ダミー補助容量配線に交叉し ないよう配置された、請求項 4に記載の表示装置。
[7] 前記実画素領域の画素電極が、当該画素電極を駆動する走査線に隣接する走査 線との間で補助容量を形成する、請求項 1に記載の表示装置。
[8] 前記ダミー画素領域のコモン配線において、前記信号線との交叉部分の幅が、当 該コモン配線の主たる配線幅よりも小さい、請求項 1〜7のいずれか一項に記載の表 示装置。
[9] 前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記ダミー画素領域のコモン配線に 交叉しないよう配置された、請求項 1〜8のいずれか一項に記載の表示装置。
[10] 前記ダミー画素領域を視覚的に遮蔽する遮蔽部材をさらに備えた、請求項 1〜9の
V、ずれか一項に記載の表示装置。
[11] 前記アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶を備えた、請求項 1〜 10のい ずれか一項に記載の表示装置。
[12] アクティブマトリクス基板と対向基板との間に表示媒体を備えた表示装置において、 前記アクティブマトリクス基板が、
マトリクス状に配置された走査線および信号線と、
前記信号線によって供給されるデータ信号に応じた表示を行う有効画素を含む実 画素領域と、前記実画素領域よりもパネル端側に位置し前記表示媒体中の不純物を 電気的に捕獲するためのトラップ配線が形成された不純物捕獲領域とを含む画素領 域を有し、
前記表示装置が、
前記アクティブマトリクス基板の一辺において前記画素領域外に配置され、前記走 查線および信号線へ、走査信号およびデータ信号をそれぞれ供給するバスライン駆 動回路と、
前記対向基板の共通電極へ供給するコモン信号を生成するコモン駆動回路とを備 え、
前記アクティブマトリクス基板が、
前記アクティブマトリクス基板において前記バスライン駆動回路が配置された一辺 に対向する辺に設けられ、前記コモン信号を前記対向基板の共通電極へ供給する ためのコモン転移と、
前記コモン信号を前記コモン転移へ供給するためのコモン配線とを備え、 前記コモン配線の少なくとも一部が、前記画素領域における前記不純物捕獲領域 に配置されて ヽることを特徴とする表示装置。
[13] 前記不純物捕獲領域のコモン配線において、前記信号線との交叉部分の幅が、当 該コモン配線の主たる配線幅よりも小さい、請求項 12に記載の表示装置。
[14] 前記信号線の信号入力側と逆側の末端部が、前記不純物捕獲領域のコモン配線 に交叉しないよう配置された、請求項 12または 13に記載の表示装置。
[15] 前記表示媒体が液晶である、請求項 12〜14のいずれか一項に記載の表示装置。
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