Verfahren zum Herstellen eines langzeitstabllen Moduls von photoelektro- che lshen Zellen.
Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines langzeitstabilen Moduls, welches einen nicht-hitzebeständi¬ gen Stoff, insbesondere einen Sensibilisator enthält, wobei zwei Glasplatten umfangsseitig mit einer Randversiegelungs¬ struktur auf der Basis von Glaslot verbunden werden und der nicht-hitzebeständige Stoff nach einer thermischen Versiege¬ lung der Glasplatten durch mindestens eine geeignet ausge-
bildete Einfüllöffnung in das versiegelte Modul eingepumpt wird. Weiter betrifft die Erfindung ein nach dem Verfahren hergestelltes langzeitstabiles Modul.
Stand der Technik
Aus der EP 0 333 641 A1 ist z. B. eine regenerative photo¬ elektrochemische Zelle bekannt, bei welcher zwischen zwei Platten aus Glas, Kunststoff oder Metall Leiterbahnen, Elek¬ troden und ein Chro ophor eingeschlossen sind. Der Chromo- phor ist als monomolekulare Schicht auf der Oberfläche eines Metalloxidhalbleiters mit hoher innerer Oberfläche ausgebil¬ det. Zwischen den schichtförmigen Elektroden befindet sich ein Elektrolyt, der für den Ladungsträgertransport verant¬ wortlich ist. Eine solche Solarzelle lässt sich vom Aufbau her mit einer elektrochemischen Batterie (galvanische Zelle) vergleichen, deren eine Elektrode (Photoelektrodenschicht) mit einem das Sonnenlicht absorbierenden, photochemisch ak¬ tiven Sensibilisator belegt ist.
Aus der DE-42 25 576 AI ist ein ganzes Modul bestehend aus mehreren photoelektrochemischen Zellen bekannt. Die Zellen sind intern elektrisch in Reihe geschaltet und werden im we¬ sentlichen durch Abschnitte von transparenten leitenden Schichten (TCO-Schichten), stegartigen Verbindungsleitern und Gegenelektroden miteinander verbunden. Es resultiert ei¬ ne Art Z-Verschaltung.
Es ist bekannt, dass die in der Zelle eingeschlossenen Schicht aterialen gegen atmosphärische Einflüsse, insbeson¬ dere gegen Wasserdampf und Sauerstoff geschützt werden müs-
sen. Es ist daher unumgänglich, die Zelle gas- bzw. dampf¬ dicht abzuschliessen.
Die US 4,117,210, welche sich ebenfalls mit einer Solarzelle der genannten Art befasst, schlägt vor, den seitlichen Rand mit einem inerten Isolationsmaterial wie z. B. Epoxidharz zu verschliessen. Zu beachten ist natürlich, dass der nicht- hitzebeständige Sensibilisator (z. B. eine metallorganische Verbindung) bei der Herstellung des Randabschlusses nicht verändert oder sogar zerstört wird.
Versuche haben gezeigt, dass Epoxy-Materialien bis heute nicht die gewünschte Langzeitstabilität (in der Grössenord- nung von mehreren Jahren) gewährleisten können. Weiter be¬ steht Gefahr, dass sie bei hohen Betriebstemperaturen aus¬ gasen.
Aus der JP 61-252 537 ist ein Verfahren zum Herstellen einer versiegelten Zelle bekannt. Zwei Glasplatten werden mit Elektroden beschichtet und dann entlang des Umfangs mit ei¬ nem niedrigschmelzenden Glas verbunden. Ein funktionales Hochpolymer-Material und ein Elektrolyt werden durch eine Injektionsöffnung in die Zelle injiziert. Dann wird elektro¬ lytisch ein Polymerfilm auf einer Elektrode abgelagert. Die entladene Elektrolytlösung wird dann ausgepumpt und durch einen Elektrolyten ersetzt, welcher den Polymerfilm nicht angreift. Die Injektionsöffnung wird mit einem Siliconharz verschlossen und mit einem Lot abgedeckt.
Die thermische Versiegelung ist im übrigen auch bei ansteu¬ erbaren Displayzellen (z. B. Flüssigkristallanzeigen) be¬ kannt, wo eine Flüssigkeit zwischen zwei mit Hilfe eines niedrigschmelzenden Glaslots verbundenen Glasplatten einge¬ schlossen wird (z. B. JP 56-114 922).
Darstellung der Erfindung
Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Modul und ein Ver¬ fahren zur Herstellung eines solchen Moduls anzugeben, das die in der Praxis unerlassliche Langzeitstabilität in der Grössenordnung von mehreren Jahren aufweist bzw. ermöglicht.
Die erfindungsge ässe Lösung ist durch die Merkmale des An¬ spruchs 1 definiert. Demzufolge werden die Randversiege¬ lungsstruktur und die Stege durch eine selektive Beschich¬ tung (einer oder beider Glasplatten) auf der Basis von Glas¬ lot hergestellt. Beim nachfolgenden Verbinden der Glasplat¬ ten im Rahmen einer thermischen Versiegelung wird mindestens eine der Glasplatten auf oder über die Transformationstempe¬ ratur des Glases gebracht. Nach dem Abkühlen der Glasplatten wird der nicht-hitzebeständige Stoff durch mindestens eine geeignet ausgebildete Einfüllöffnung in das versiegelte Mo¬ dul eingepumpt.
Es genügt nicht, dass die Glasplatten bei einer Temperatur verbunden werden, bei welcher das Glaslot schmilzt. Vielmehr uss die Temperatur so hoch gewählt werden, dass das Glas der Platten plastisch verformbar wird. Erst ab dieser (Transformations-)Temperatur ist es möglich, grössere ver¬ siegelte Module mit minimalem und konstantem Plattenabstand herzustellen (Nivellierung der Glasplatten und ggf. Minimie¬ rung des Abstandes). Die Glasplatte senkt sich unter dem Ei¬ gengewicht ab und passt sich im weichen (d. h. spannungs¬ freien) Zustand an die andere an. Dadurch wird ermöglicht, dass das Glaslot an jeder Stelle der Randstruktur und der modulinnenseitig angeordneten Stege beide Glasplatten be¬ netzt und diffusionsdicht verbindet. Der Abstand der Glas¬ platten soll über das ganze Modul hinweg betrachtet konstant
sein (ansonsten die verschiedenen Zellen unterschiedliche elektrische Charakteristiken haben). Zu beachten ist, dass zur Gewährleistung einer Langzeitstabilitat ein dichter Randverbund für sich noch nicht ausreicht. Wichtig ist auch, dass das Modul innenseitig in getrennte Kammern unterteilt wird, die ebenfalls gegeneinander dicht sind und unerwünsch¬ te elektrochemische Reaktionen bzw. Ausgleichsströme unter¬ binden (Problem der Elektrolytseparierung) .
Durch thermische Versiegelungsverfahren lassen sich viel bessere Diffusionssperren herstellen. Indem der Schichtauf¬ bau des Moduls nicht vor dem Versiegeln fertiggestellt wird, sondern der Versiegelungsschritt in einer Stufe des Herstel¬ lungsverfahrens eingeführt wird, in welcher die dafür hohen Temperaturen zulässig sind und die empfindlichen Materialien erst nachher in das Modul eingebracht werden, ist eine Hürde überwunden worden, die der Anwendung guter .Versiegelungsver¬ fahren bisher im Wege stand.
Der springende Punkt der Erfindung liegt also darin, dass erst nach dem Versiegeln/Verkapseln des Moduls eine den ent¬ sprechenden Stoff (z. B. Sensibilisator, elektrochromer Stoff etc.) enthaltende Lösung eingefüllt wird. Dieses Ver¬ fahren bietet gegenüber der bekannten Methode der Sensibili- sierung im Tauchbad eine Reihe von entscheidenden produk¬ tionstechnischen Vorteilen.
Die erfindungsgemässe Idee lässt sich im übrigen zur Her¬ stellung von beliebig versiegelten Modulen anwenden, die innenseitig mindestens eine nanoporöse Trägerschicht mit einem Adsorbat aufweisen: Das Versiegeln des Moduls wird vor dem Einbringen des Adsorbats durchgeführt und das Adsorbat wird nachträglich durch eine geeignet ausgebildete bzw. an¬ gebrachte Einfüllöffnung eingepumpt.
Während im Tauchbad-Verfahren zum Schutz gegen Wasserdampf, Sauerstoff und sonstige unerwünschte Fremdstoffe in einer Schutzgasatmosphäre gearbeitet werden muss (damit sich kein Wasserdampf auf der Schicht niederschlagen kann), entfallen diese aufwendigen Methoden weitgehend, kann doch die emp¬ findliche Sensibilisatorlosung direkt vom Speichertank in das verschlossene (z. B. evakuierte) Modul gepumpt werden. Die Verschmutzungsgefahr (im Sinn einer unerwünschten Fremd¬ stoffadsorption) ist also minimal. Weiter kann auf diese Weise sehr sparsam mit der Sensibilisatorlosung umgegangen werden.
Die Dicke des Moduls ist also sehr viel kleiner als dessen Querabmessungen. Das Verfahren findet typischerweise Anwen¬ dung auf Module, bei denen die Dicke der Modulwände viel grösser als die Dicke des schichtförmigen Modulinnenraums ist. Vorzugsweise werden die Platten in einem Abstand von weniger als 100 Jim durch die Stege verbunden.
Typischerweise erfolgt die thermische Versiegelung im tempe¬ raturstabilisierten Ofen. Beim Zusammenfügen der Platten kann zusätzlich mechanischer Druck angewendet werden.
Vorzugsweise wird ein Glas mit einer Transformationstempera¬ tur im Bereich von 550-580 °C verwendet. Die Versiegelungs¬ temperatur liegt z. B. im Bereich von 600-700 °C.
Durch die Erfindung wird es möglich, zwei grossflächige Ein¬ zelplatten in präzisem Abstand zueinander zu verbinden, auch wenn sie ursprünglich mit Unebenheiten behaftet waren. Auf¬ grund der kleinen Abstände kommt mit dem aufgeschmolzenen Glaslot eine Kapillarkraft zur Wirkung, die die Platten in einen gleichmässigen Abstand von z. B. 20 μm bringt. Weiter ist im Bereich der Transformationstemperatur ein gezieltes
Formen bzw. Krümmen der Platten möglich. Dies ist interes¬ sant für fahrzeugtechnische und architektonische Anwendungen (sphärisch, zylindrisch oder beliebig gekrümmte Module).
Die Glaslot-Technik ist den auf organischen oder anorgani¬ schen Polymerisationen oder organisch-anorganischen Copoly- erisationen beruhenden Klebeverfahren hinsichtlich Lang¬ zeitstabilitat, Gasdichtigkeit und Dampfdichtigkeit über¬ legen. Auch die thermische Stabilität ist weitaus besser, kann es doch bei Klebstoffen auf Polymerbasis bereits ab Temperaturen unter 100 °C zu Ausgas- oder Zersetzungser¬ scheinungen kommen. Eine hermetisch geschlossene Anordnung ist für die Lebensdauer von photoelektrochemischen Solar¬ modulen, elektrochromen Modulen u. dgl. von grösster Bedeu¬ tung.
Es ist bekannt, dass die Photostabilität von photoelektro¬ chemischen Solarmodulen stark durch die Anwesenheit von Was¬ ser und Sauerstoff im Elektrolyt bzw. im organischen Leiter und in den Elektroden herabgesetzt werden kann. Das erfin¬ dungsgemässe Versiegelungsverfahren gestattet es, bei der Sensibilisierung bzw. Aktivierung mit sehr kleinen, ge¬ schlossenen Volumina zu arbeiten. Auch die Reinheit der kleinen, in die Module einzufüllenden Lösungsvolumina kann (prozentual gemessen) geringer sein als diejenige eines grossen Tauchbades, ohne dass dadurch der Anteil von uner¬ wünschterweise adsorbierten Fremdstoffen höher wäre.
Für die grosstechnische Produktion ist dies ein wichtiger Vorteil.
Durch das vorgeschaltete Versiegeln bei hohen Temperaturen wird die Readsorption von Wasserdampf und anderen möglicher¬ weise schädlichen Gasen oder Aerosolen in der hochporösen
Halbleiterschicht (Trägerschicht) verhindert. Die genannte unerwünschte Adsorption findet bei den bekannten Verfahren beim Abkühlen der gesinterten Photoelektrodenschicht an Luft und der anschliessenden Sensibilisierung in einem Tauchbad unweigerlich statt. Die bei hohen Temperaturen versiegelten erfindungsgemässen Module sind durch die thermische Ausga¬ sung bzw. Abspaltung von Wasser und Hydroxidgruppen nach der Versiegelung vollkommen wasserfrei. Die Module können vor dem Befüllen mit der Sensibilisatorlosung beliebig lang ver¬ schlossen gelagert werden und müssen nicht unter Schutzgas aufbewahrt werden.
Die Wasser- und Fremdstoffanteile im System können daher mit der vorliegenden Erfindung ohne grossen produktionstechni¬ schen Aufwand (d. h. weitgehend ohne Schutzgasatmosphäre) sehr gering gehalten werden.
Die Stege erhöhen die mechanische Stabilität des gesamten Moduls und erleichtern das blasenfreie Einfüllen der Sensi¬ bilisatorlosung bzw. eines Elektrolyten. Sie haben auch eine Bedeutung für die elektrische Funktion des Moduls.
Unter Beleuchtung kommt es zu räumlichen Gradienten im pho¬ toelektrochemischen Potential der Farbstoffzelle. Tritt ein Gradient nicht nur wie erwünscht senkrecht zu den sich ge¬ genüberliegenden Elektroden auf, sondern auch parallel zu den Elektrodenflächen, so führt dies zu Parallelströmen in den Elektroden und daraus bedingt zur langsamen räumlichen Separierung des Redoxpaares in der Farbstoffzelle (Elektro¬ lyse). Ein solcher Vorgang kann bis zu einer vollständigen Separierung des Redoxpaares führen und zieht in jedem Fall eine starke Veränderung der Charakteristik (insbesondere des Photostroms) der Zelle nach sich. Bei elektrischer Reihen¬ schaltung mehrerer Zellen in einem Modul mit durchgehenden
Elektrolyten entstehen starke photoelektrochemische Gradien¬ ten. Dem kann durch eine interne Unterteilung des Moduls mit entsprechend getrennten Elektrolyten entgegengewirkt werden.
Mit Vorteil sind die Stege linienförmig angebracht zur Auf¬ teilung des Modulinnenraums in streifenförmige Kammern. Selbstverständlich sind auch andere Kammerformen (z. B. Qua¬ drate, Waben, Kreise) möglich.
Vorzugsweise haben die Stege eine Breite von 0,1-5 mm und einen gegenseitigen Abstand von 5-50 mm. Die Stege sind vor¬ zugsweise aus demselben (oder einem geeignet modifizierten) Material wie das zur Versiegelung verwendete. Eine Mehrzahl von linienformigen Stegen schafft auch eine mechanisch feste Verbindung zwischen den Platten. Die Stege können mit Hilfe eines Siebdruckverfahrens auf die Platten aufgebracht und (z. B. zusammen mit gleichartig aufgebrachten Elektroden- und Trägerschichten) vor dem thermischen Versiegeln gesin¬ tert werden. Die Sinterung findet - z. B. abhängig vom ver¬ wendeten Glaslot - bei einer Temperatur im Bereich von 400-650 °C, insbesondere unterhalb von 600 °C statt.
Sowohl die Stege als auch alle übrigen Schichten können mit irgendeinem Druckverfahren aufgebracht werden (z. B. Inkjet¬ druck, Tiefdruck). Zu erwähnen sind die aus der Leiterplat¬ tenherstellung bekannten Verfahren.
Zur Anpassung und Optimierung der thermischen, mechanischen, chemischen und rheologischen Eigenschaften des Glaskörpers der Lote an die Eigenschaften der Substratoberfläche (z. B. Glas, leitfähig beschichtetes Glas o. dgl. ) kann die Zusam¬ mensetzung des Glaslotes beim Aufschmelzprozess durch geeig¬ nete oxidische Zuschläge wie B pO-__ PbO, Al20-,, CeO?, ZrC>2' Sn02, SiO-, vo0ς' Zn0' sb2°V Ti02 und In2°3 in Form kleiner
Teilchen < 1 μm bei Volumenanteilen < 30 % verändert werden. So lassen sich auch die Grenzflächeneigenschaf en und die Adhäsion günstig beeinflussen. Die Zuschläge werden z. B. im Rahmen des Siebdruckverfahrens eingebracht. Bei den Zuschlä¬ gen handelt es sich nicht etwa um chemische Bestandteile, die bereits im Glaslot enthalten sind, sondern um nachträg¬ lich zugefügte feinstkörnige Materialien.
Die erwähnten oxidischen Zusätze sind mit Vorteil in der Grössenordnung von einigen Nanometern (< 100 nm, insbesonde¬ re im Bereich von ca. 10 nm) und haben eine sehr grosse spe¬ zifische Oberfläche. Sie können hydrophob oder hydrophil ge¬ macht werden. Solche Teilchen können z. B. durch ein konti¬ nuierliches Flam enhydrolyseverfahren (continuous fla e hydrolysis) erzeugt werden. Sie können in der kristallogra- phischen Röntgenanalyse eine amorphe Struktur zeigen.
Je nach Art und (schaltungstechnischer) Ausführung des Mo¬ duls können bestimmte Stege aus einem isolierenden Material (insbesondere Glaslot) als Matrix und einem darin eingela¬ gerten leitfähigen Füllmaterial hergestellt werden. Der Füllmaterialanteil ist vorzugsweise kleiner als 70 Vol-%. Die Korngrösse sollte entsprechend der Grosse des Stegquer¬ schnittes gewählt sein und 50 μm nicht überschreiten. Es ist klar, dass die Füllstoffe thermisch resistent sein müssen. Für Glaslote kommen z.. B. Pigmente aus Glimmer, Titandioxid, Zirkondioxid, Siliciumdioxid, Graphit, Russ, fluor- oder an¬ timondotiertes Zinnoxid, Metall (z. B. Titan, Aluminium) und Titannitrid in Frage. Die Pigmente sollten natürlich sehr viel kleiner sein, als die kleinste Querschnittsabmessung des Steges. Bei einem Plattenabstand von z. B. 10-30 μm sind die Füllpartikel typischerweise kleiner als 1 μm.
Gemäss einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform werden
die Stege mit lichtstreuenden Füllpartikeln versehen. Diese Partikel können zugleich leitfähig sein wie oben beschrie¬ ben. Das auf die Stege auftreffende Licht wird über Totalre¬ flexionen im Glasaufbau in den danebenliegenden photoaktiven Bereich des Moduls eingekoppelt, was - im Vergleich zur Ver¬ wendung von transparenten Stegmaterialien - eine Verbesse¬ rung der Lichtausbeute zur Folge hat.
Zur Herstellung der Stege dienen stabile Glaslote, kristal¬ lisierende Glaslote oder Composit-Glaslote. Die Glaslote sollten einen Ausdehnungskoeffizienten (thermal expansion coefficient) haben, der etwas unterhalb desjenigen der zu verlötenden Gläser liegt.
Eine weitere Funktion der Stege kann darin bestehen, dass sie aus einem elektrochemisch resistenten Material herge¬ stellt werden und als Schutz gegen Korrosion deckend auf be¬ stimmte Schichtstrukturen (z. B. Leiterbahnen) gesetzt wer¬ den. In diesem Sinn werden z. B. unter den Stegen metalli¬ sche Leiterbahnen (Ag-Leiterbahnen) zur Ableitung des Photo¬ stroms und/oder zur Herstellung von elektrischen Kontakten angeordnet.
Typischerweise sind die Platten vor dem Aufbringen der Lei¬ terbahnen, Elektroden und Stege ganzflächig mit einer (teil) transparenten leitfähigen Schicht (z. B. aus fluordotiertem Zinnoxid) versehen worden (TCO-Schicht). (Solche Glasplatten sind im Handel erhältlich.) Die transparente leitfähige Schicht wird entsprechend der durch die Stege vorgezeichne¬ ten Unterteilung des Modulinnenraums selbst in streifenför- mige Bereiche unterteilt. Dies kann z. B. durch Ritzen oder Aetzen geschehen. Zusätzlich ist es von Vorteil, wenn auch die länglichen streifenförmigen Bereiche (bezüglich der Längsrichtung) in einzelne Abschnitte bzw. Teilflächen un-
terteilt werden. Zur Trennung der Teilflächen genügt ein Spalt von z. B. 1 mm. Auf eine derart vorbereitete Platte werden die Stege in Form einer Glaslot-Paste aufgebracht. Das Glaslot resp. die Paste ist dabei nicht mit leitfähigen Partikeln versetzt. Die nachträgliche erfindungsgemässe thermische Versiegelung bei einer Temperatur von mehr als 550 °C, insbesondere mehr als 600 °C, führt überraschender¬ weise dazu, dass die (gemäss einer bevorzugten Ausführungs¬ form transparenten) Stege trotzdem eine leitfähige Verbin¬ dung der einander gegenüberliegenden beabstandeten Platten bilden. Die in dieser Weise gebildeten niedrigen Kontakt¬ übergangswiderstände sind möglicherweise auf ein Aufschwim¬ men und gegenseitiges Kontaktieren der Zinnoxidbeschichtun- gen im Glaslot zurückzuführen. Dabei wird die Leitfähigkeit der fluordotierten Zinnoxidbeschichtung unter dem Flächen¬ kontakt nur geringfügig durch chemische Wechselwirkungen mit dem Glaslot vermindert. Versuche haben gezeigt, dass dazu Abstände zwischen den Platten von weniger als 30 μm, insbe¬ sondere 25 μm und weniger erforderlich sind. Diese Art der elektrischen Verbindung zwischen den Platten stellt ein pro¬ duktionstechnisch besonders einfaches Verfahren zur Herstel¬ lung von reihenverschalteten (z. B. Z-verschalteten) Modulen dar.
Zum Verlöten der Platten entlang vorgewählter Linien kann es u. U. auch genügen, die Oberfläche mit einem Laser lokal aufzuschmelzen. U. U. kann auf das Auftragen von Glaslot so¬ gar verzichtet werden.
Aus den obigen Erläuterungen ergibt sich, dass die Stege ei¬ ne Reihe von unterschiedlichen Funktionen wahrnehmen können (aber nicht müssen): Versiegelung des Modulinnenraums; Erhö¬ hung der mechanischen Stabilität des Moduls; zusätzliche Einkopplung von Licht in die photoaktive Schicht; Erleichte-
rung des blasenfreien Einfüllens; elektrische Verbindung zwischen den auf verschiedenen Platten aufgebrachten Elek¬ troden; gegenseitige Isolierung von Einzelkammern des Mo¬ duls; Diffusionssperre gegen potentialbedingte Drift- bzw. Separierungsprobleme; Korrosionsschutz (z. B. für Leiterbah¬ nen) .
Allgemein gilt, dass zur Erzielung eines kleinen Serienwi¬ derstandes im Elektrolyt (bzw. im organischen Leiter eines elektrochromen Moduls) ein möglichst geringer Abstand zwi¬ schen den Elektroden erforderlich ist. Für den Fall, dass beide Elektrodenbeschichtungen auf Gläsern aufgebracht sind, ist es mit dem vorgeschlagenen Verfahren möglich, bei Tempe¬ raturen, die leicht oberhalb der Transformationstemperatur der Gläser liegen, zu versiegeln. Es findet dann aufgrund des Abbaus der Glasspannung eine Nivellierung der Gläser und damit der Elektroden aufeinander statt. Der Nivellierungsef- fekt kann durch einen mechanischen Druck von aussen auf die Gläser noch verstärkt werden. Bei der Verwendung von Glas¬ loten als Material der Stege bestehen zusätzlich nach dem Aufschmelzen der Lote und der flüssigen Verbindung zur ge¬ genüberliegenden Kontaktstelle noch starke Kapillarkräfte, die eine weitere Nivellierung der Elektroden bewirken. Es ist mit dem vorgeschlagenen Verfahren daher möglich, eine Nivellierung der Elektroden im μ -Bereich über grosse Flä¬ chen (von z. B. 1 m ) mit unpolierten Floatgläsern zu erzie¬ len. Eine solche präzise Nivellierung über grosse Flächen ist mit Niedertemperatur-Klebetechniken nur mit sehr teuren Spezialgläsern möglich.
Wie bereits eingangs erwähnt, kann vor dem thermischen Ver¬ siegeln innenseitig des Moduls eine nanoporöse Schicht ange¬ bracht werden, deren effektive innere Oberfläche mindestens einem Faktor 100, insbesondere einem Faktor 500 und mehr
entspricht. Auf dieser Schicht wird nach dem Versiegeln des Moduls der in gelöster oder geeignet dispergierten Form ein¬ geführte Sensibilisator deponiert. Die nanoporöse Schicht besteht z. B. aus einem halbleitenden, möglichst transparen¬ ten Material (z. B. Titandioxid) mit sehr hoher interner Oberfläche, um eine möglichst grosse Menge an Sensibilisator zu adsorbieren. Als Sensibilisator kann z. B. ein metallor¬ ganischer Farbstoff verwendet werden. Es können jedoch auch rein organische Farbstoffe oder stark absorbierende Halblei- tercluster ("Quantum Dots") eingesetzt werden.
Der Sensibilisator (= Adsorbat) wird z. B. in Form einer kolloiden Lösung in das Modul eingepumpt. Denkbar ist auch das Einpumpen in Form einer übersättigten Lösung. Um das Einpumpen und das Verteilen im schichtför igen Modulinnen¬ raum zu erleichtern, können ( odulinnenseitig) Drainageka- näle vorgesehen werden, welche vorzugsweise einen Quer¬ schnitt von nicht mehr als 0,5 mm x 0,5 mm haben. Bedingt durch die Kapillarkräfte wird die eingepumpte Lösung schnell verteilt. Die Drainagekanäle können z. B. mechanisch (frä¬ sen, sandstrahlen), chemisch (durch ätzen) oder physikalisch (z. B. durch Laserstrahlung) erzeugt werden.
Beispielsweise können die mit einer transparenten leitfähi¬ gen Schicht versehenen Glasplatten im Siebdruckverfahren mit einer Maske versehen und die von der Maske freigelassenen Stellen geätzt oder gesandstrahlt werden.
Die Drainagekanäle können auch zur Stabilisierung des Moduls (insbesondere zur Trennung des Elektrolyten von den Stegen) beitragen. Dies ist dann der Fall, wenn die nanoporöse Schicht (in deren Bereich im Endeffekt der Elektrolyt erfor¬ derlich und gewünscht ist) durch die Drainagekanäle von den Stegen resp. von anderen Zellen getrennt ist und wenn die
Elektrolytmenge gerade so bemessen ist, dass sie ausreicht, um den kapillaren Zwischenraum zwischen der nanoporosen Schicht und der Gegenelektrode auszufüllen. Die Dicke der Kammern (d. h. der Abstand zwischen nanoporöser Schicht und Gegenelektrode) ist beträchtlich kleiner als die Querabmes¬ sung der Drainagekanäle. Der Elektrolyt wird also durch die Kapillarkräfte in den "elektrisch aktiven" Bereich der photoelektrochemischen Zelle gezogen.
Vor dem Versiegeln werden zudem innenseitig des Moduls Lei¬ terbahnen und Elektroden in Dünnschichttechnik angebracht, wobei vorzugsweise Drainagekanäle und Leiterbahnen bzw. Elektroden derart aufeinander ausgerichtet werden, dass die Drainagekanäle an den gewünschten Stellen zusätzlich als isolierende Trennbereiche wirken (mechanische Unterbrechung der elektrisch leitfähigen Beschichtung der Platten).
Die Gegenelektrode kann entweder auf der (u. U. mit einer dünnen Katalysatorschicht belegten) elektrisch leitfähigen (oder elektrisch leitfähig beschichteten) Rückabdeckung (zu¬ meist Glas) angeordnet sein, oder aber - in einem einseiti¬ gen Schichtaufbau - durch einen elektrisch isolierenden po¬ rösen Spacer (Abstandsschicht) von der Photoelektrode ge¬ trennt sein. Für den Ladungstransport zwischen den Elektro¬ den kann entweder ein flüssiger Elektrolyt (z. B. mit einem Iod/Iodid-Redoxpaar) , ein Feststoff- oder Gelelektrolyt oder ein aus einer flüssigen Phase polymerisierter organischer (oder teilorganischer) Leiter eingesetzt werden. Die Elek- trodenbeschichtungen können über Sieb- oder andere Druckver¬ fahren aufgebracht werden. Anschliessend folgt eine Verfe¬ stigung durch thermisches Sintern bei z. B. 300-550 °C. Falls das Glaslot erst nach dem Sintern aufgebracht wird, kann die Sinterung sogar bei Temperaturen über 550 °C erfol¬ gen.
Eine besonders bevorzugte Möglichkeit zum Einbringen eines Adsorbats (Sensibilisator, elektrochromer Stoff) in eine na¬ noporöse Schicht zeichnet sich dadurch aus, dass das Adsor¬ bat in Form stabilisierter Kolloide in einem Lösungsmittel dispergiert wird und ein im wesentlichen die von der nano¬ porosen Schicht zu adsorbierende Menge des Adsorbat enthal¬ tendes Volumen des Lösungmittels auf die nanoporöse Schicht gebracht wird, um die zeitverzögerte Adsorption des Adsor¬ bats zu ermöglichen.
Auf diese Weise kann die gewünschte Menge der Lösung zu¬ nächst vollständig in das Modul eingepumpt und dort verteilt werden, bevor die Abscheidung auf der nanoporosen Schicht beginnt. Bei diesem Verfahren wird im wesentlichen das dem Modulvolumen entsprechende Lösungsmittelvolumen als Trans¬ portmedium eingesetzt. Es sind jedoch auch Varianten denk¬ bar, bei welchen ein viel grösseres Lösungsvolumen durch das Modul hindurchgepumpt wird ("kontinuierliches Befüllen"). In beiden Fällen muss nachher das entladene Lösungsmittel aus¬ gepumpt und durch den Elektrolyt ersetzt werden. Zur Elimi¬ nierung unerwünschter Lösungsreste kann eine Trocknungsspü¬ lung bzw. Vakuumtrocknung zwischengeschaltet werden.
Die zeitverzögerte Adsorption kann durch Erstellen einer Kolloidlösung erreicht werden. Indem mit Kolloiden gearbei¬ tet wird, kann das Adsorbat in einer Menge in der Lösung transportiert werden, die die Sättigungsgrenze einer molaren Lösung um ein Vielfaches übersteigt. Die Stabilisierung der
Kolloide setzt voraus, dass die Löslichkeit der Adsorbatmo-
-4 leküle im Lösungsmittel relativ klein ist (z. B. < 10 mol/1). Die einzelnen Moleküle gehen also nur sehr langsam bzw. schlecht in Lösung. Andererseits werden die Moleküle auf der nanoporosen Schicht sehr schnell aufgenommen. Die erfindungsgemässe Zeitverzögerung bedeutet also, dass die
Zeit, die gebraucht wird, um die kolloidale Lösung auf der zu beschichtenden Oberfläche (z. B. in einer versiegelten elektrochemischen Zelle) zu verteilen, vernachlässigbar klein gegenüber der Zeit ist, innerhalb welcher ein wesent¬ licher Teil der Kolloide aufgelöst wird.
Die Adsorption des Adsorbats kann je nach gewählter Stabili¬ sierung durch Einstrahlung von Destabilisierungsenergie (Wärmestrahlung, Laserstrahlung, Ultraschall o. dgl . ) oder Anlegen einer elektrischen Spannung gezielt initiiert wer¬ den, sobald die kolloide Lösung gleichmässig auf der nanopo¬ rosen Schicht verteilt ist. Mit Vorteil wird das Adsorbat durch Coadsorbate stabilisiert resp. mikroverkapselt.
Das Lösungsmittel soll durch die Destabilisierungsenergie nicht zum Verdunsten gebracht werden. Vielmehr geht es um das Transferieren des Adsorbats auf die nanoporöse Schicht.
Eine besonders bevorzugte Ausführungsform zeichnet sich da¬ durch aus, dass als Lösungsmittel für Sensibilatorpigmente oder sonstige nanodisperse Stoffe der ohnehin in das Modul einzuführende Elektrolyt gewählt wird. D. h. Sensibilisator und Elektrolyt können in einem Schritt eingefüllt werden. Das Modul kann vorübergehend versiegelt und zwischengelagert werden, bis der Sensibilisator von der nanoporosen Schicht adsorbiert ist. Es handelt sich in einem gewissen Sinn um eine "diskontinuierliche Variante". Hier kann es erforder¬ lich oder vorteilhaft sein, im Modul, aber ausserhalb der Modulkammern und nur mit diesen verbundene Reservoir-Berei¬ che vorzusehen. Die Reservoir-Bereiche können als breite, tiefe Drainagerinnen ausgeführt werden. Die Beladung der na¬ noporosen Schicht mit dem Sensibilisator erfolgt aufgrund des Konzentrationsgefälles durch langsame Diffusion aus den Reservoir-Bereichen in die Modulkammern hinein. Das Verhält-
nis von Reservoir-Volumen zu Sensibilisatorkonzentration und Modulkammerlänge wird zweckmässigerweise so gewählt, dass die Elektrolytlösung nach Beendigung des Beladevorgangs mög¬ lichst sensibilisatorfrei ist. Die Reservoir-Bereiche können nach einer bestimmten Zeit wieder ausgepumpt und mit einem chemisch inerten Füllstoff gefüllt werden.
Eine Variante des Einschritt-Verfahrens stellt seine Wieder¬ holung dar. D. h. eine kolloide Lösung wird in die PEC-Zelle eingepumpt, durch Einstrahlung von Destabilisierungsenergie entladen und ausgepumpt, wobei dieser Ablauf mehrmals wie¬ derholt wird.
Der im Reservoir-Bereich und in den Drainagekanälen der Mo¬ dulkammern verbliebene Elektrolyt kann nach Abschluss der Modulaktivierung weggepumpt und/oder durch eine Dichtungs¬ masse (z. B. ein auf Siliconbasis beruhender Epoxidharz oder ein Siliconoel) oder durch ein Schutzgas (Argon, Stickstoff etc.) teilweise oder ganz ersetzt werden.
Aus folgenden Gründen ist die Verwendung einer stabilisier¬ ten Kolloidlösung mit gezielter Destabilisierung gegenüber einer gesättigten bzw. übersättigten Lösung von Vorteil.
Bei der Einfärbung der Photoelektrode mit Sensibilisator wird zur Erzielung eines Adsorptionsgleichgewichts mit sehr hoher Bindungskonstante eine Chemisorption des Sensibilisa- tors auf der Oberfläche angestrebt. Dies kann bei der Sensi¬ bilisierung von verschlossenen Modulen u. U. zu einer nicht homogenen Einfärbung führen.
Bei hochkonzentriert gelösten oder auch übersättigten Lösun¬ gen kommt es beim passiven, durch die in den Modulkammern herrschenden Kapillarkräfte bewirkten Einfliessen der Sensi-
bilisatorlosung zu einer raschen Adsorption auf nur einem Teil der Photoelektrode und dem Abfliessen von sensibilisa- torfreiem Lösungsmittel (chromatographischer Effekt). Zum gleichmässigen Einfärben ist es dann nötig, durch wieder¬ holtes Durchpumpen der Lösung einen aktiven Stofftransport des Sensibilisators durch das Modul hindurch zu erzwingen.
Als Sensibilisierungs- oder Aktivierungslösung wird eine kolloid-disperse Lösung bezeichnet, in der der Sensibili¬ sator oder der elektrochrom aktive Stoff stabilisiert wird. Dies kann durch ionische und nicht-ionische Detergentien oder amphiphile Stoffe und Stabilisierungshilfsmittel, wie Fettsäuren oder Fettsäure-Derivate, Alkyl- oder Arylschwe- felsäureester, Alkyl- oder Arylsulfonsäure-Derivate, Alko- holethersulfate, Phosphor- oder Phosphorsäure-Derivate, Al¬ kohole oder Polyole, Salze mit Kationen der Klassen Tetra- alkylammonium, Alkylimidazolium, Piperazinium und Tetra- alkylphosphonium, _ Sulfobetaine, Phospho- oder Phospho- natobetaine, teil- oder perfluorierte Kohlenwasserstoffe oder derivatisierte Siloxane mit endständigen reaktiven oder ionophoren Gruppen erreicht werden. Der stabilisierte Sensi¬ bilisator kann neben anderen, zur elektrochemischen Aktivie¬ rung, wie Redoxmediatoren und pH-Puffersubstanzen benötigten Substanzen, vorliegen.
Durch spezifische Grenzflächenwechselwirkungen zwischen Sen¬ sibilisator (resp. elektrochrom aktivierbarem Stoff) und an¬ deren, oben genannten Substanzen wird zunächst die Chemi- sorption des Sensibilisators resp. elektrochrom aktivierba¬ ren Stoffes auf der nanoporosen Schicht verhindert bzw. zeitlich stark verzögert. Das erlaubt - wie bereits weiter oben erwähnt - die Befüllung der Module, ohne dass dabei ei¬ ne momentane Adsorption des Sensibilisators (resp. elektro¬ chrom aktivierbaren Stoffes) eintritt. Durch langsame Dif-
fusion, gezielte Einstrahlung von Destabilisierungsenergie oder Anlegen einer elektrischen Spannung wird die Chemisorp- tion des Sensibilisators ermöglicht. Die Detergentien und Stabilisierungshilfsmittel können dabei gleichzeitig als elektrochemisch funktioneile auxiliäre Coadsorbate wirken. Der Stofftransport erfolgt dabei aus dem schichtförmigen Mo¬ dulinnenraum auf die nanoporöse Schicht (Photoelektrode). Im Modulvolumen bleiben die zur Herstellung eines elektrochemi¬ schen Kontaktes notwendigen Komponenten wie etwa der Redox- mediator zurück, sodass das Modul in einem einzigen Schritt ("diskontinuierlich") aktiviert werden kann.
Aus der bisherigen Darstellung des Herstellungsverfahrens ergeben sich diverse konstruktive Merkmale des Moduls selbst. Der schaltungsmässige Aufbau bzw. die geometrische Anordnung kann in an sich bekannter Weise ausgeführt sein. Wird das Modul durch Stege in eine regelmässig angeordnete zweidimensionale Anordnung von Kammern aufgeteilt, dann ist es vorteilhaft, eine Kombination von Z- und P-Verschaltung zu wählen. Die Kammern können z. B. spaltenweise P-verschal- tet und zeilenweise Z-verschaltet sein. Bei kleineren Modu¬ len können auch reine Z- bzw. P-Verschaltungen zweckdienlich sein.
Weitere vorteilhafte Ausführungsformen und Merkmalskombina¬ tionen ergeben sich aus der anschliessenden Detailbeschrei¬ bung und der Gesamtheit der Patentansprüche.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Die zur Erläuterung der Ausführungsbeispiele verwendeten Zeichnungen zeigen:
Fig. 1a-g eine schematische Darstellung der wichtigsten Verfahrensschritte zur Herstellung eines erfin- dungsgemässen photoelektrochemischen Moduls;
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines Modulf im Querschnitt, welche mehrere Z-verschaltete und mit Drainagekanälen versehene Kammern aufweist;
Fig. 3 eine schematische Darstellung eines Schnitts durch ein Modul mit einseitiger Z-Verschaltung;
Fig. 4 eine schematische Darstellung eines Schnitts durch ein Modul mit P-Verschaltung;
Fig. 5 eine schematische Darstellung eines Schnitts durch ein Modul mit einseitiger P-Verschaltung und beidseitigem Abgriff;
Fig. 6 eine schematische Darstellung eines Schnitts durch ein Modul mit W-Verschaltung;
Fig. 7 eine schematische Darstellung einer Draufsicht auf ein Modul mit kombinierter Z- und P-Verschal¬ tung;
Fig. 8 eine schematische perspektivische Darstellung des Ausschnitts A-A gemäss Fig. 7;
Fig. 9 eine schematische perspektivische Darstellung des Ausschnitts B-B gemäss Fig. 8;
Fig. 10 eine schematische Darstellung eines spannungs- verschalteten Moduls in der Draufsicht;
Fig. 11 eine schematische Darstellung einer erfindungsge- mässen Unterteilung der transparenten leitenden Schicht innerhalb der Zellen.
Grundsätzlich sind in den verschiedenen Figuren gleiche Tei¬ le stets mit gleichen Bezugszeichen versehen.
Wege zur Ausführung der Erfindung
Fig. 1a-g zeigt schematisch die wichtigsten Verfahrens¬ schritte zum Herstellen eines photoelektrochemischen Moduls (PEC-Modul) .
Ausgangspunkt stellen zwei mit einer TCO-Schicht 3, 4 (TCO = Transparent Conductive Oxide) versehene Glasplatten 1, 2 dar. Ein Beispiel für eine TCO-Schicht 3, 4 ist ein pyroly- tisch aufgebrachtes, fluordotiertes Zinnoxid einer Dicke von z. B. 0,1-1,0 μm. Die Glasplatten 1, 2 haben z. B. eine Dik- ke von 1-6 mm. Sie stellen Wände der PEC-Module dar.
Zunächst werden nun gemäss einer bevorzugten Ausführungsform Drainagekanäle 7.1, 7.2, 7.3 resp. 8.1, 8.2, 8.3 angebracht. In Fig. 1a ist schematisch angedeutet, dass auf die TCO- Schichten 3, 4 geeignete Masken 5, 6 aufgebracht werden. Durch anschliessendes Sandstrahlen entstehen an den von den Masken 5, 6 nicht abgedeckten Stellen die gewünschten Drai¬ nagekanäle 7.1, ..., 7.3 resp. 8.1, ..., 8.3 (Fig. 1b). Dann werden die Masken 5, 6 wieder entfernt (Fig. 1c). Die Drai¬ nagekanäle haben eine Breite und eine Tiefe von vorzugsweise jeweils weniger als 0,5 mm. Sie sind in einem Abstand von z. B. 5 mm angeordnet.
Nun wird die eigentliche Schaltungsstruktur aufgebaut (Fig. 1d). Im Siebdruckverfahren werden z. B. Stege 10.1, 10.2, 10.3 resp. 11.1, 11.2, 11.3 unmittelbar neben den Drainage- kanälen 7.1, ..., 7.3 resp. 8.1, ..., 8.3 aufgebracht. Sie haben z. B. je einen leitenden Bereich 15.1, 15.2, 15.3 resp. 16.1, 16.2, 16.3 in der Mitte. Neben den Stegen 10.1, ..., 10.3 resp. 11.1, ..., 11.3 werden eine nanoporöse Schicht 9.1, 9.2, 9.3 (z. B. eine Ti02-Schicht und eine Ge-
genelektrodenbeschichtung 14.1, 14.2, 14.3 aufgebracht. Dies geschieht z. B. mit Siebdruckverfahren. Die Stege 10.1, ..., 10.3, 11.1, ..., 11.3, die nanoporöse Schicht 9.1, ..., 9.3 und die Gegenelektrodenbeschichtung 14.1, ..., 14.3 werden z. B. bei ca. 550 °C in an sich bekannter Weise gesintert.
Im nächsten Schritt (Fig. 1e) werden die beiden Glasplatten 1, 2 mit den beschichteten Seiten gegeneinander gelegt. Die Stege 10.1, ..., 10.3» der einen Glasplatte 1 kommen dabei auf die Stege 11.1, ..., 11.3 der anderen Glasplatte 2 zu liegen. Nun werden die beiden Glasplatten 1, 2 bei einer Temperatur von mehr als 500 °C (z. B. bei etwa 650 °C) ver¬ bunden. Die zu einem wesentlichen Teil aus Glaslot bestehen¬ den Stege 10.1, ..., 10.3, 11.1, ..., 11.3 schmelzen auf und bilden eine durchgehende Verbindungsbrücke. Die leitenden Bereiche 15.1 und 16.1 resp. 15.2 und 16.2 resp. 15.3 und 16.3 bilden einen durchgehenden Kontakt zwischen den beiden Glasplatten 1 und 2.
Beim Verlöten der Glasplatten 1 , 2 werden eine Mehrzahl von getrennten Kammern 12.1, 12.2, ... gebildet. Sie werden im nächsten Schritt (Fig. 1f) mit einer molekulardispersen oder kolloiden Lösung 13 vollgepumpt. Die Lösung 13 kann die zur Aktivierung bzw. Sensibilisierung des Moduls erforderlichen Farbstoffpartikel in mikroverkapselter Form enthalten. So¬ bald die Lösung 13 im gesamten Modulinnenraum verteilt ist, wird die kolloide Lösung z. B. durch Einstrahlen von Licht destabilisiert, so dass sich die Farbstoffpartikel auf der nanoporosen Schicht 9.1, ..., 9.3 ablagern können. Der mi- kroverkapselte Farbstoff kann durch Chemi- oder Physisorp- tion auf der grossen Oberfläche der nanoporosen Schicht ad¬ sorbiert und durch Diffusionsprozesse als monomolekulare Schicht auf der Oberfläche verteilt werden.
Das entladene Lösungsmittel kann nun aus dem Modul ausge¬ pumpt werden, um einer Elektrolytlosung Platz zu machen. Die Elektrolytlosung kann in den Kammern 12.1, 12.2 in flüssi¬ ger, gelierter oder fester Form eingeschlossen werden. Die Einfüllöffnungen können dann versiegelt werden. Die Gelie¬ rung resp. Verfestigung kann auf einer induzierten Polymeri¬ sationsreaktion beruhen (Erwärmung, Bestrahlung). Die Poly¬ merisation kann durch Maskierung selektiv auf die einzelnen Kammern (bzw. Zellenbereiche) beschränkt werden. Gewünsch- tenfalls können nicht-polymerisierte oder sonstige Reste der Elektrolytlosung vor der Versiegelung aus dem Modul ausge¬ pumpt und durch einen chemisch inerten Füllstoff (Edelgas, Silicon) ersetzt werden.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn die kolloide Lösung zu¬ gleich als Elektrolyt verwendet werden kann. Es entfällt dann das Auspumpen des Lösungsmittels und das nachträgliche Einpumpen des Elektrolyten. Es handelt sich quasi um ein "1-Schritt-Verfahren" (Elektrolyt und Farbstoff werden in einem Schritt eingebracht).
Fig. 2 zeigt das gemäss dem beschriebenen Verfahren herge¬ stellte PEC-Modul. Die beiden Glasplatten 1 und 2 befinden sich in einem gegenseitigen Abstand von z. B. 20 μm. Das Mo¬ dul ist in eine Mehrzahl von gleichartigen Kammern 12.1, 12.2, ... aufgeteilt. Jede Kammer hat z. B. eine Breite von 3 mm. Gegeneinander sind sie durch Stege aus Glaslot abge¬ trennt. Die Drainagekanäle 7.1, ..., 7.3 resp. 8.1, ..., 8.3 unterteilen die TCO-Schichten 3, 4 in gewünschter Weise (d. h. entsprechend den Kammern) in elektrisch isolierte Teilbereiche.
Im vorliegenden Beispiel weist jeder Steg einen zentralen leitenden Bereich 17.2 und zwei diesen abdeckende isolieren-
de Bereiche 17.1 und 17.3 auf. Der leitende Bereich 17.2 verbindet die TCO-Schicht 3 der einen Glasplatte 1 mit der TCO-Schicht 4 (der benachbarten Kammer bzw. Zelle) der zwei¬ ten Glasplatte 2. Die Photoelektrode (9.4) der einen Kammer wird so elektrisch mit der Gegenelektrode (14.3) der anderen Kammer verbunden, was insgesamt zu einer Serienschaltung der einzelnen Kammern 12.1, 12.2, ... führt. Die in Fig. 2 ge¬ zeigte Verschaltung des Moduls wird aus offensichtlichen Gründen als Z-Verschaltung bezeichnet.
Die Drainagekanäle 7.1, ..., 7.3 und 8.1, ..., 8.3 erleich¬ tern das schnelle Einziehen der kolloiden Lösung resp. der Elektrolyt/Farbstoffmischung in die Kammern. Dies wird im einzelnen noch weiter unten erläutert.
Der leitende Bereich 17.2 stellt im Prinzip einen Teil des Steges dar, der durch geeignete Füllpartikel eine verhält- nismässig hohe Leitfähigkeit hat. Anstatt die Leitfähigkeit im zentralen Bereich 17.2 gezielt zu erhöhen, kann sie bei einem hinreichend leitfähigen Stegmaterial in den äusseren Bereichen 17.1 und 17.3 gezielt erniedrigt werden (z. B. durch Glimmer).
Die Einfallsrichtung des Lichtes ist durch die fett einge¬ zeichneten Pfeile identifiziert.
Nachfolgend werden der Vollständigkeit halber noch Einzel¬ heiten der Photo- und Gegenelektrode erwähnt.
Die Photoelektrodenschicht besteht typischerweise aus trans¬ parenten halbleitenden Nanopigmenten (10-50 nm) mit hoher Oberfläche. Neben dem bereits erwähnten Titandioxid sind Niobiumoxid, Zinnoxid, Bariumtitanat, Wolframoxid etc. bzw. Dotierungen mit Zirkondioxid, Aluminiumoxid, Siliziumoxid
als Schichtmaterial möglich. Gleiche Effekte lassen sich mit Substraten erreichen, deren Oberflächen mit den genannten Oxiden modifiziert worden sind. Die Photoelektrodenschicht wird vorzugsweise in Siebdrucktechnik (in einer Dicke von ca. 5-15 μm) aufgebracht und - wie bereits erwähnt - gesin¬ tert. Durch das Sintern entsteht die nanoporöse Schicht mit einer effektiven geometrischen Fläche mit dem Faktor 500 oder mehr.
Die Gegenelektrodenbeschichtung 14.3 ist eine katalytisch wirksame Beschichtung der (semi-)transparenten TCO-Schicht und besteht z. B. im wesentlichen aus Platin, Palladium, Rutheniumoxid o. dgl. Es handelt sich dabei um eine sehr dünne (< 20 nm) Beschichtung mit hoher katalytischer Wirk¬ samkeit bei guter mechanischer Haftung und bei guter Trans¬ parenz. Sie lässt sich z. B. durch pyrolytische Zersetzung von Platin-Verbindungen erzielen, welche gelöst oder disper- giert in einem siebdruckfähigen oder sprühbaren Medium ent¬ halten sind. Eine weitere Möglichkeit ist die Dispergierung von Platin-Nanopartikeln oder die Dispergierung von auf oxi¬ dischen Nanopartikeln (z. B. Zinnoxid, Titanoxid etc.) abge¬ schiedenem Platin in den genannten Medien. Die Beschichtung wird durch Sprühen oder Siebdruckverfahren aufgetragen und gesintert.
Die TCO-Schichten 3 und 4 können unterschiedlich dick und unterschiedlich stark dotiert sein (um z. B. eine höhere Leitfähigkeit der TCO-Schicht 4 zu erreichen).
Die Stege zwischen den Kammern lassen sich in unterschied¬ licher Weise ausführen. Eine bevorzugte Variante besteht z. B. darin, dass der Steg vollständig leitend ist. Er be¬ steht dann aus einem Material wie z. B. Glaslot mit korro¬ sionsunempfindlichem Füllstoff (Korrosionsbeständigkeit ge-
genüber dem Elektrolyt). Als Füllstoff kommen z. B. Graphit¬ pulver, Sn02:F-, Sn02:Sb-Pulver oder auch Sn02:Sb-beschich- tete Glimmerpigmente und ähnliche (z. T. handelsübliche) Produkte in Frage. Der Volumenanteil des Füllstoffs kann bis zu 70 % ausmachen. Bei einer Stegdicke von 10-20 μm und ei¬ ner Stegbreite von 2 mm oder weniger entsteht auf diese Wei¬ se ein weitgehend flächenhafter (bzw. linienförmiger) Kon¬ takt zwischen den TCO-Schichten 3 und 4. Die elektrische Isolation wird nach wie vor durch die Drainagekanäle 7.1, ..., 8.3 gewährleistet.
Vollständig bzw. flächenhaft leitende Stege lassen sich ge¬ mäss einer besonders bevorzugten Ausführungsform dadurch er¬ reichen, dass stabile Glaslote (d. h. solche, die ihre Struktur beim Aufschmelzen nicht ändern und daher wiederholt aufgeschmolzen werden können) oder kristallisierende Glas¬ lote (die bei Erhitzung auf die Löttemperatur kristallisie¬ ren) ohne leitfähigkeiterhöhende Füllstoffpartikel (d. h. quasi in reiner Form) entsprechend den gewünschten Stegen selektiv auf die TCO-Schichten aufgetragen werden und im Be¬ reich der Transformationstemperatur der Glasplatten 1 , 2 aufgeschmolzen und versiegelt werden. Es hat sich gezeigt, dass ein derartiges Verlöten zu elektrisch leitenden Stegen führt, obwohl das Basismaterial (Glaslot) eigentlich nicht leitend ist. Es wird vermutet, dass die Glasoberflächen im Bereich der Stege (resp. des flüssigen Glaslots) sich - auf¬ grund der bei Abständen im Bereich von 20 μm wirkenden Ka¬ pillarkräfte - gegeneinander zu wölben beginnen, wobei der effektive Abstand zwischen den TCO-Schichten sehr klein wird. Weiter ist zu vermuten, dass Material der TCO-Be¬ schichtung sich aufzulösen beginnt und die Leitfähigkeit des Stegmaterials erhöht.
Eine weitere Variante zu Fig. 2 besteht darin, dass auf die Drainagekanäle verzichtet wird und dafür einerseits der iso¬ lierende Bereich 17.1 des Stegs durch die TCO-Schicht 3 hin¬ durch bis auf die Glasplatte 1 gezogen wird und andererseits der nicht leitende Bereich 17.3 durch die TCO-Schicht 4 auf die Glasplatte 2 gezogen wird. Auf diese Weise werden die TCO-Schichten 3, 4 wiederum in gewünschter Weise Cd. h. ent¬ sprechend der Aufteilung und Geometrie der einzelnen Kam¬ mern) unterteilt.
Fig. 3 zeigt eine Variante der Z-Verschaltung. Es handelt sich um eine sogenannt einseitige Z-Verschaltung, da alle Schichten auf derselben Glasplatte 18 angeordnet sind. Die zweite Glasplatte 19 dient ausschliesslich zum Versiegeln des Moduls. Sie ist durch isolierende Stege 20.1, 20.2, 20.3 in einem Abstand zur Glasplatte 18 gehalten. Unmittelbar auf der Glasplatte 18 befinden sich - entsprechend den Kammern
25.1, ..., 25.3 unterteilte und gegenseitig isolierte - TCO- Schichten 21.1, 21.2, 21.3. Die gegenseitige Isolierung kommt dadurch zustande, dass die auf den TCO-Schichten 21.1,
21.2, 21.3 selektiv aufgebrachten Photoelektrodenschichten
22.1, 22.2, 22.3 (zwischen benachbarten TCO-Schichten 21.1, 21.2 resp. 21.2/21.3 etc.) lokalisierten Trennstellen 26.1,
26.2, 26.3 bis auf die isolierende Glasplatte 18 geführt sind.
Auf den Photoelektrodenschichten 22.1, 22.2, 22.3 sind Ab¬ standsschichten 23.1, 23.2, 23.3 (Spacer) vorgesehen, auf welchen schliesslich die Gegenelektrodenschichten 24.1, 24.2, 24.3 angeordnet sind. In den Abstandsschichten 23.1, 23.2, 23.3 befindet sich auch der Elektrolyt.
Da bei der in Fig. 3 gezeigten Ausführungsform der Abstand zwischen Photo- und Gegenelektrodeschicht 22.1 resp. 24.1
durch die Abstandsschicht 23.1 und nicht durch den Abstand der Glasplatten 18 und 19 bestimmt ist, ist die Planitat der Glasplatten 18, 19 unkritisch. Oberflächenunebenheiten im Bereich von 50 μm sind hier durchaus tolerierbar. D. h. es ist nicht zwingend, im Bereich der Transformationstemperatur der Glasplatten zu arbeiten. Weiter kann auch auf die Ver¬ wendung von teuren polierten Glasplatten verzichtet werden. Es ist möglich, mit gewöhnlichem Floatglas zu arbeiten. Die Isolationsstege werden dann auch in grösserer Dicke (z. B. 20-200 μm) aufgetragen.
Die Abstandsschichten 23.1, 23.2, 23.3 bestehen aus porösen, lichtstreuenden (und natürlich elektrisch isolierenden) transparenten Pigmenten. Die Grosse der Pigmente bewegt sich z. B. im Bereich zwischen 100 und 1 ' 000 nm. Die Dicke be¬ trägt z. B. 5 μm. Es eignen sich Schichten aus Titandioxid, Aluminiumoxid, Zirkonoxid, Siliziumoxid, Glimmer etc. Als anorganische Haftvermittler zwischen den Pigmentteilchen können z. B. Nanopartikel bzw. thermisch zersetzbare Verbin¬ dungen der genannten Oxide (und Zinnoxid) dienen, die in ei¬ ner Menge von bis zu 15 Vol-% beigemischt werden.
Die Gegenelektrodenschicht, die z. B. eine Dicke von 5-50 μm hat, kann durch eine poröse Graphitschicht gebildet sein. Die katalytische Wirksamkeit wird durch Beimischung von z. B. Russ- oder Platin-Nanopartikeln erreicht (Volumenan¬ teil bis 50 % resp. bis 1 %). Denkbar ist auch eine Kombina¬ tionsschicht (Stack) aus katalytisch stark aktiv gemachter dünner poröser Graphitschicht und stark leitfähiger dickerer inaktiver Graphitschicht. Als Haftvermittler zwischen den Teilchen der Graphitschicht kommen die bereits obengenannten Nanopartikel und Verbindungen in Frage.
Anstelle der Glasplatte 19 kann bei dieser einseitigen Ver- schaltung auch eine Metallplatte verwendet werden. Der Lichteinfall ist wie in Fig. 2 durch fette Pfeile einge¬ zeichnet.
Fig. 4 zeigt in schematischer Darstellung ein Modul in P- Verschaltung. Die Glasplatten 27, 28 sind innenseitig ganz¬ flächig mit TCO-Schichten 29, 30 abgedeckt. Eine Mehrzahl von Stegen 31.1, ..., 31.3 unterteilt den Zwischenraum zwi¬ schen den Glasplatten 27 und 28 in eine Mehrzahl von Kammern 32.1, ..., 32.3. Jede dieser Kammern 32.1, ..., 32.3 weist eine Photoelektrodenschicht 33.1, ..., 33.3 (auf der TCO- Schicht 29) und eine Gegenelektrodenbeschichtung 34.1, ..., 34.3 (auf der TCO-Schicht 30) auf. Zwischen Photo- und Ge¬ genelektrodenschicht 33.1, ... resp. 34.1, ... befindet sich der Elektrolyt.
Um auch bei grossflächigen Modulen eine gute Stromableitung zu gewährleisten, sind entlang den Kammern 32.1, ..., 32.3 Leiterbahnen 35.1, ..., 35.3 und 36.1, ..., 36.3 vorgesehen. Sie bestehen z. B. aus Silber. Damit sie nicht durch den Elektrolyten aufgelöst werden, müssen sie gegen diesen abge¬ deckt sein. Im vorliegenden Beispiel wird dies dadurch er¬ reicht, dass die Stege 31.1, ..., 31.3 (welche aus einem isolierenden, korrosionsbeständigen Material wie z. B. Glas¬ lot bestehen) die genannten Leiterbahnen 35.1, ..., 35.3, 36.1, ..., 36.3 vollständig überdecken. D. h. die Leiter¬ bahnen sind unter den Stegen angebracht. Sie können mit Hil¬ fe der Siebdrucktechnik aufgebracht und dann eingebrannt werden (Ag-, AI-, Cu-Fritte).
Bei der P-Verschaltung sind also eine Mehrzahl von identi¬ schen Zellen parallel geschaltet.
Fig. 5 zeigt ein einseitig P-verschaltetes Modul mit Abgrif¬ fen. Diese Ausführungsform stellt die Anwendung der ein¬ seitigen Technologie gemäss Fig. 3 auf die P-Verschaltung gemäss Fig. 4 dar. Die Glasplatte 37 trägt die elektroche¬ misch aktiven Schichten, während die Glasplatte 38 nur für den Stromabgriff ab Gegenelektrode verwendet wird. Wie in der Fig. 3 ist nur eine der beiden Glasplatten (nämlich die in Fig. 5 untere Glasplatte 37) mit einer TCO-Schicht 39 versehen. Es ist allerdings nicht ausgeschlossen, dass auch die Glasplatte 38 TCO-beschichtet ist.
Die beiden Glasplatten 37 und 38 werden durch Stege 40.1, ..., 40.3 in einem gegenseitigen Abstand von z. B. 20-200 μm gehalten. Die Stege 40.1, ..., 40.3 unterteilen zudem den Modulinnenraum in eine Mehrzahl gleichartiger Kammern 46.1, ..., 46.3. Jede Kammer 46.1, ..., 46.3 ist mit einer TiO^-Schicht 43.1, ..., 43.3 (auf der TCO-Schicht 39), einer Abstandsschicht 44.1, ..., 44.3 und einer darauf angeordne¬ ten Gegenelektrodenschicht 45.1, ..., 45.3 ausgestattet. Die drei genannten Schichten können in gleicher Weise ausgebil¬ det sein wie bei der einseitigen Z-Verschaltung gemäss Fig. 3.
Auf der TCO-Schicht 39 ist unter jedem zweiten Steg 40.2 ei¬ ne Leiterbahn 41.2 angeordnet. Die genannten Stege 40.2 sind vollständig isolierend und decken die Leiterbahn 41.2 voll¬ ständig ab.
Die übrigen Stege 40.1, 40.3 weisen je einen leitfähigen Be¬ reich 42.1, 42.3 auf. Dieser reicht jeweils von der Höhe der Gegenelektrodenschicht 45.1, ..., 45.3 bis zur abdeckenden Glasplatte 38. Sie verbinden die Gegenelektrodenschichten 45.1, ..., 45.3 mit den auf der Glasplatte 38 angebrachten, unter den leitfähigen Bereichen 42.1 , 42.3 der Stege 40.1,
40.3 vorgesehenen (und von ihnen abgedeckten) Leiterbahnen 41.1, 41.3. Der Strom kann daher von den Gegenelektroden¬ schichten 45.1, ..., 45.3 über die leitfähigen Bereiche 42.1, 42.3 und die Leiterbahnen 41.1, 41.3 weggeführt wer¬ den.
Es ist klar, dass die leitfähigen Bereiche 42.1, 42.3 resi- stent gegen Angriffe des Elektrolyten sein müssen. Vorzugs¬ weise sind diese leitfähigen Bereiche durch ein Glaslot mit leitfähiger Beimischung (z. B. mit Graphitteilchen) herge¬ stellt.
In Fig. 5 sind die stromabführenden Leiterbahnen 41.1, 41.2, 41.3 alternierend an den Glasplatten 38 und 37 angebracht. Es ist auch denkbar, dass jeder Steg (sinngemäss zur P-Ver¬ schaltung gemäss Fig. 4) beidseitig mit je einer Leiterbahn ausgerüstet ist. Allerdings muss dann der leitfähige Bereich 42.1, 42.3 begrenzt werden können, damit die Stege 40.1, ..., 40.3 nicht durchgängig leitend werden (Kurzschluss) .
Es gibt auch noch weitere Möglichkeiten zur internen Ver- schaltung des Moduls.
Fig. 6 veranschaulicht z. B. eine W-Verschaltung. Die beiden Glasplatten 47, 48, welche innenseitig mit TCO-Schichten 49, 50 versehen sind, sind durch Stege 51.1, ..., 51.3 und einer Dicke von z. B. 10-20 μm verbunden. An ausgewählten Trenn¬ stellen 52.1, ..., 52.3 sind die Stege 51.1, ..., 51.3 durch die TCO-Schichten 49 resp. 50 hindurch auf die Glasplatte 47 resp. 48 geführt. Die Trennstellen 52.1, ..., 52.3 befinden sich alternierend am unteren (Stege 51.1 und 51.3) und am oberen Ende (52.2) der Stege. Die durch die Stege 51.1, ..., 51.3 ebenfalls gebildeten Kammern 53.1, ..., 53.3 sind je mit einer Photoelektrodenschicht 55.1, ..., 55.3 und einei
Gegenelektrodenbeschichtung 54.1, ..., 54.3 ausgestattet. Auch die Photoelektrodenschichten 55.1, ..., 55.3 sind al¬ ternierend auf der oberen bzw. unteren Glasplatte 48 bzw. 47 (resp. deren TCO-Schichten 50 bzw. 49) angebracht. Dasselbe gilt vice versa für die Gegenelektrodenbeschichtungen 54.1, ... , 54.3.
Der Strom fliesst daher z. B. zunächst durch die TCO-Schicht 49 (auf der rechten Seite der Fig. 6), dann durch die Kammer 53.3 in die TCO-Schicht 50. Er gelangt dann in die Kammer 53 und wechselt wieder die Seite zur TCO-Schicht 49. Er gelangt unter dem Steg 51.2 hindurch in die Kammer 53.1 und wechselt hier wiederum die Seite. Im Unterschied zur Z-Verschaltung sind die Stege 51.1, ..., 51.3 in der W-Verschaltung voll¬ ständig isolierend. Der Strom wechselt die Seite also nicht zwischen den Kammern (d. h. in den Stegen) sondern in den Kammern.
Fig. 7 zeigt ausschnittsweise eine Draufsicht auf ein Modul mit kombinierter Z- und P-Verschaltung. Eine Vielzahl von in Reihen und Spalten angeordneten Kammern 56.11, .-., 56.35 sind in der bereits mehrfach beschriebenen Art (Photoelek¬ trode, Gegenelektrode, Elektrolyt) ausgeführt. Das besondere der vorliegenden Ausführungsform liegt darin, dass die Mo¬ dule 56.11, ..., 56.15 resp. 56.21, ..., 56.25 resp. 56.31, ..., 56.35 spaltenweise P-verschaltet sind. Die verschiede¬ nen Spalten sind miteinander Z-verschaltet.
Zuäusserst am Modul befindet sich ein Endabgriff 57. Es han¬ delt sich um eine relativ breite Leiterbahn, die von aussen kontaktiert werden kann, um das ganze, andeutungsweise ge¬ zeigte Modul mit einem gleichartigen weiteren Modul oder mit einem elektrischen Stromkreis zu verbinden. Der Endabgriff 57 erstreckt sich in Spaltenrichtung über die ganze Breite
des Moduls. Von ihm laufen dünne, fingerartige Leiterbahnen 58.1, ..., 58.5 weg. Sie greifen kammartig zwischen die Kam¬ mern 56.11, ..., 56.15 hinein. Im vorliegenden Beispiel sind sie auf der unteren Glasplatte 64 angebracht (vgl. dazu Fig. 8, welche den Schnitt A-A zeigt). In der oberen Glasplatte 65 ist ein Drainagekanal 61.1 vorgesehen. Er erstreckt sich ebenfalls in Spaltenrichtung, d. h. parallel zum Endabgriff 57 über das ganze Modul hinweg. Weiter stellt er den Ab- schluss der länglichen Kammern 56.11, ..., 56.15 dar. Ein zweiter Drainagekanal 62.1 begrenzt die Kammern 56.11, ..., 56.15 an der gegenüberliegenden Schmalseite. Der Drainage¬ kanal 62.1 ist (wie aus Fig. 9 ersichtlich) in der unteren Glasplatte 64 vorgesehen. Er verläuft parallel zum Drainage¬ kanal 61.1 und verbindet wie dieser die P-verschalteten Kam¬ mern 56.11, ..., 56.15.
Zwischen den Kammern 56.11, ..., 56.15 und 56.21, ..., 56.25 befindet sich eine Z-Verbindung 59. Es handelt sich um eine in Spaltenrichtung verlaufende Leiterbahn, die die untere Glasplatte 64 mit der oberen 65 leitend verbindet. Von der Z-Verbindung laufen nach links fingerförmige Leiterbahnen 60.1, ..., 60.5 zwischen den Kammern 56.11, ..., 56.15 hin¬ durch. Sie sind an der oberen Glasplatte 65 angebracht (und überdecken sich in der Darstellung gemäss Fig. 7 mit den Leiterbahnen 58.1, ..., 58.5 auf der unteren Glasplatte 63). Die fingerartigen Leiterbahnen 60.1, ..., 60.5 erstrecken sich bis zum Drainagekanal 61.1. Sinngemäss erstrecken sich die Leiterbahnen 58.1, ..., 58.5 bis zum Drainagekanal 62.1. Zwischen den Leiterbahnen 58.1, ..., 58.5 und 60.1, ..., 60.5 befinden sich Stege aus isolierendem Material (z. B. Glaslot). Schneidet man die Module 56.11, ..., 56.15 in Spaltenrichtung (d. h. parallel zu den Drainagekanälen 61.1 auf) so ergibt sich z. B. der in Fig. 4 gezeigte Quer¬ schnitt.
Von der Z-Verbindung 59 laufen Leiterbahnen 63.1, ..., 63.5 nach rechts weg. Sie sind auf der unteren Glasplatte 64 an¬ gebracht (vgl. Fig. 9) und erstrecken sich zwischen den Kam¬ mern 56.21, ..., 56.25 hindurch bis zum Drainagekanal 62.2. Der Drainagekanal 61.1 befindet sich wohlgemerkt auf der oberen Glasplatte 65 (d. h. er stört den Verlauf der Leiter¬ bahnen 63.1, ..., 63.5 nicht).
In der gleichen Weise sind die Kammern 56.21, ..., 56.25 und 56.31, ..., 56.35 verschaltet, die Drainagekanäle 62.2 und 63.1 sind sinngemäss zu den Drainagekanälen 62.1 und 61.2 angeordnet.
Das ganze wird verdeutlicht durch die dreidimensionalen Dar¬ stellungen der Ausschnitte A-A und B-B gemäss Fig. 8 und 9. Die untere Glasplatte 64 ragt z. B. seitlich leicht über die obere Glasplatte 65 hinaus, um den Endabgriff 57 freizugeben (Fig. 8). Es sind die TCO-Schichten 66 und 67 auf den Glas¬ platten 64 und 65 zu erkennen. Im Randbereich ist die TCO- Schicht 67 durch den Drainagekanal 61.1 unterbrochen. Die Leiterbahn 58.1 kreuzt den Drainagekanal 61.1, ist aber ge¬ genüber diesem durch eine Stegstruktur 68 aus isolierendem Material (z. B. Glaslot) abgedeckt. Die Stegstruktur 68 um¬ gibt die Kammern 56.11, ..., 56.15. In Fig. 8 ist schliess- lich noch das Ende der fingerartigen Leiterbahn 60.1 darge¬ stellt, welche von der Z-Verbindung 59 (vgl. Fig. 7) kommt.
Fig. 9 zeigt den Schnitt B-B aus Fig. 7 in dreidimensionaler Darstellung. Es sind die Drainagekanäle 62.1 und 61.2 zu er¬ kennen, welche in die untere resp. obere Glasplatte 64 resp. 65 eingelassen sind und die TCO-Schicht 66 resp. 67 gezielt unterbrechen. Weiter ist die Z-Verbindung 59 zu sehen, wel¬ che z. B. die Leiterbahn 60.1 der oberen Glasplatte 65 mit der Leiterbahn 63.1 der unteren Glasplatte 64 verbindet.
Aus Fig. 9 wird ersichtlich, dass in einem Schnitt parallel zu den Leiterbahnen 60.1 bis 60.5 über das ganze Modul hin¬ weg eine Struktur gemäss Fig. 2 realisiert ist.
Die in den Figuren 2 bis 6 im Querschnitt gezeigten Zellen sind in der Regel längliche Streifen (wie in Fig. 7 ersicht¬ lich). Mit Vorteil werden diese Streifen jedoch selbst noch in Teilflächen unterteilt. Dies soll prinzipiell anhand der Figur 11 erläutert werden. Die in der Regel ganzflächige Be¬ schichtung der Glasplatte mit einem transparenten leitenden Oxid wird also nicht nur durch Drainagekanäle 86, 87, 88 ne¬ ben den Stegen 83, 84, 85 aufgetrennt, sondern auch inner¬ halb einer Kammer in mehrere Teilflächen 80.1 bis 80.4 resp. 81.1 bis 81.4 resp. 82.1 bis 82.4. Die einzelnen Teilflächen 80.1 bis 82.4 sind z. B. quadratisch. Zwischen den Teilflä¬ chen 80.1, 80.2, 80.3, 80.4 (welche insgesamt z. B. dem Be¬ reich 56.11 in Fig. 7 entsprechen) sind keine Stege, sondern nur Unterbrüche der Beschichtung (z. B. Einschnitte) vorge¬ sehen. Sind sie allzu klein, wird es schwierig, die Platten beim Zusammenfügen aufeinander auszurichten. Die Breite ei¬ nes Einschnitts beträgt ein Vielfaches (z. B. 10-50faches) des Abstands der Glasplatten.
Zur Herstellung der Unterteilung können (senkrecht zum Steg¬ muster) über die ganze Glasplatte hinweg durchgehende Ein¬ schnitte von z. B. 1 mm Breite geritzt werden. Auf diese Weise kann erreicht werden, dass die TCO-Beschichtung auch im Bereich der Stege unterbrochen ist.
Die beschriebene Unterteilung verhindert Querströme inner¬ halb einer streifenförmigen Zelle (welche z. B. bei teilwei¬ ser Beleuchtung resp. Ueberschattung des Moduls auftreten können) .
Nachfolgend soll anhand der Fig. 10 das Einfüllen des Sensi¬ bilisators und des Elektrolyten erläutert werden. In Fig. 10 ist ein Modul mit Z-Verschaltung dargestellt. Eine Vielzahl von streifenförmigen funktionell identischen Kammern 69.1, 69.2, 69.3 bilden den
Dieser befindet sich zwischen zwei Glasplatten und ist seitlich durch eine die Kammern 69.1, 69.2, 69.3 rahmenförmig umschliessende Steg¬ struktur 70 hermetisch abgeschlossen. Die Kammern 69.1, 69.2, 69.3 sind durch linienförmige Stege 71.1, 71.2 gegen¬ einander abgegrenzt. In den Stegen 71.1, 71.2 ist eine Z- Verbindung 72.1, 72.2 untergebracht (vgl. z. B. leitfähiger Bereich 17.1 in Fig. 2).
Entlang einer der beiden Längsseiten jeder Kammer 69.1, 69.2 ist ein Drainagekanal 77.1, 77.2 vorgesehen. Endseitig der langen streifenförmigen Kammern 69.1, 69.2, 69.3 ist ein quer zur Längsrichtung der Kammern 69.1, 69.2, 69.3 verlau¬ fender Verbindungskanal 73, 74 vorgesehen. Er steht jeweils über einen Reservoir-Bereich 75.1, ... resp. 76.1, ... in Verbindung mit jeder Kammer 69.1, ... und deren Drainageka¬ nal 77.1.
Jeder Verbindungskanal 73, 74 hat vorzugsweise zwei jeweils an den Enden vorgesehene Einfüllöffnungen 78.1, 78.2 resp. 79.1, 79.2.
Wie bereits erwähnt, wird das Modul versiegelt, bevor der Sensibilisator in die nanoporöse Schicht (z. B. Titandio¬ xidschicht) eingebracht ist. Das Modul ist also thermisch versiegelt (z. B. gemäss der bevorzugten Glaslotversiege¬ lung) und muss nun befüllt werden. Zu diesem Zweck wird der Modulinnenraum über die Einfüllöffnungen 78.1, 78.2, 79.1, 79.2 evakuiert. Dann wird eine kolloide Lösung eingepumpt, welche den Sensibilisator in kolloidstabilisierter Form ent-
hält. Die Lösung zieht durch die Verbindungskanäle 73, 74, die Reservoir-Bereiche 75.1, ..., 76.1, ... in die Drainage¬ kanäle 77.1, ... und die Kammern 69.1, .... Die Drainageka¬ näle 77.1, ... ermöglichen dabei ein rasches Verteilen der kolloiden_ Lösung in allen Kammern 69.1, .... Das Ziel be¬ steht darin, dass die nanoporosen Schichten in den Kammern 69.1, ... vollständig mit der Lösung bedeckt sind, bevor die kolloid dispergierten Farbstoffteilchen adsorbiert werden können. Je nach Art der Dispergierung bzw. Stabilisierung kann es erforderlich sein, dass zur Destabilisierung der Kolloide Energie (z. B. in Form von Licht) eingestrahlt wer¬ den muss. Mit der Einstrahlung der Destabilisierungsenergie wird die Adsorbtion gezielt initiiert. Die Reservoir-Berei¬ che 75.1, ..., 76.1 können (via Diffusion) Farbstoffteilchen nachliefern, solang die nanoporöse Schicht nicht "gesättigt" ist.
Wenn der Adsorptionsprozess abgeschlossen, d. h. die Photo¬ elektrode eingefärbt ist, dann wird das (ganz oder teilwei¬ se) entladene Lösungsmittel, das sich in den Verbindungska¬ nälen 73, 74 und den Reservoir-Bereichen 75.1, ..., 76.1 be¬ findet, abgepumpt. Als nächstes wird eine Elektrolytlosung eingepumpt. Damit die Z-verschalteten Kammern elektroche¬ misch getrennt sind, darf in den Verbindungskanälen 73, 74 kein Elektrolyt vorhanden sein. Um dies sicherzustellen, werden die beiden Kanäle vorzugsweise ausgepumpt resp. mit einem inerten Füllstoff (Silicon) gefüllt. Dann werden die Einfüllöffnungen 78.1, 78.2, 79.1, 79.2 endgültig versie¬ gelt.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Farbstoffe, z. B. mikroverkapselt in einem Elektrolyten dispergiert sind. Farbstoff und Elektrolyt können dann in einem Schritt in das Modul eingebracht werden.
Um eine erfindungsgemässe kolloide Lösung herzustellen, wird zunächst die Farbstoffmenge pro m2 einer nanoporosen Schicht (z. B. Ti02-Schicht) mit gegebener Schichtdicke festgelegt. Aufgrund des vorgegebenen Zeil- bzw. Kammervolumens kann die notwendige Farbstoffmenge pro Volumeneinheit in mol/1 oder g/1 ermittelt werden. Weiter ergibt sich aus dem vorgegebe¬ nen Minimalabstand zwischen den Elektroden (d. h. dem freien Kammervolumen) ein maximal zulässiger Partikeldurchmesser. Er liegt bei einem Zehntel bis einem Hundertstel der klein¬ sten Querabmessung des Kammervolumens (d. h. bei 1/10 bis 1/100 der Dicke des schichtförmigen Zelleninnenrau s) . Aus dem Molgewicht und der Dichte des Farbstoffs und aus dem Partikelradius lässt sich die notwendige Partikelzahl und daraus die freie Partikeloberfläche ausrechnen. Der Platz¬ bedarf der gewünschten Tenside und Dispersionshilfsstoffe auf der Oberfläche des als Kolloid zu stabilisierenden Par- tikels kann durch die Teilchenzahl und damit die Konzentra¬ tion der Tenside resp. Dispersionshilfsstoffe pro Volumen¬ einheit ermittelt werden.
Die nachfolgenden Varianten A, B und C sollen das Gesagte veranschaulichen.
Variante A
Stabilisation der Partikel mit einem amphiphilen Tensid
kontinuierliche
Phase: N-Methyloxazolidon, NMO
- Farbstoff: cis-di(thiocyanato)bis(2, 2'-bipyridyl-
4,4'-dicarboxylat)ruthenium(II ) , [RuL2(NCS)2], 100g/l
Partikeldurchmesser ca. 100 nm
- Tensid: 2, 6-Dimethyl-4-methylpyridin 10-20g/l
- Redoxmediator: 1-Hexyl-3-methylimidazoliumiodid 200g/l
Iod 13g/l
Variante B
Stabilisierung der Partikel mit nichtionischem Tensid und Cotensid
- kontinuierliche
Phase: N-Methyloxazolidon, NMO
- Farbstoff: [RuL2( CS)2l 100g/l
Partikeldurchmesser ca. 100 nm
- Tensid: Polyethylenglykole mit
M ca. 20.000g/mol 10-50g/l
- Cotensid: Cholansäure-Derivate 1-10g/l
- pH- Stabilisator: tert-Butylpyridin 5-10g/l
- Redoxmediator: 1-Hexyl-3-methylimidazoliumiodid 200g/l
Iod 13g/l
Variante C
Stabilisation der Partikel mit ionischem Tensid und Cotensid
- kontinuierliche
Phase: N-Methyloxazolidon, NMO
- Farbstoff: [RuL2(NCS)2] 100g/l
Partikeldurchmesser ca. 100 nm
- Tensid: Alkylacarbonsäuren,
M = 100-400g/mol 30-50g/l
- Cotensid: Cholansäure-Derivate 1-10g/l
- pH- Stabilisator: tert-Butylpyridin 5-10g/l
- Redoxmediator: 1-Hexyl-3-methylimidazoliumiodid 200g/l
Iod 13g/l
Die beschriebenen Ausführungsformen können in unterschiedli¬ cher Weise abgewandelt werden. Im Prinzip ist die Erfindung nicht auf eine bestimmte Verschaltungsart beschränkt. Auch die Materialangaben sind für die Erfindung nicht als be¬ schränkend zu interpretieren. Insbesondere kann der in der Kolloid-Chemie bewanderte Fachmann nahezu jedes beliebige Sensibilisator- Elektrochrom- oder sonstiges Material als Nanopartikelkolloid dispergieren resp. stabilisieren. Je nach Eigenschaften der nanoporosen Schicht können auch ge¬ eignete Coadsorbate gefunden werden, die zugleich als Mikro- verkapselung für das Adsorbat verwendbar sind.
Zusammenfassend ist festzustellen, dass durch die Erfindung die Möglichkeit zur Herstellung langzeitstabiler Module ge¬ schaffen worden ist. Insbesondere bei der industriellen (d. h. grosstechnischen) Herstellung von plattenformigen Mo¬ dulen wird der Ablauf vereinfacht.