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WO1994024087A1 - Process for producing lignan compound - Google Patents

Process for producing lignan compound Download PDF

Info

Publication number
WO1994024087A1
WO1994024087A1 PCT/JP1994/000612 JP9400612W WO9424087A1 WO 1994024087 A1 WO1994024087 A1 WO 1994024087A1 JP 9400612 W JP9400612 W JP 9400612W WO 9424087 A1 WO9424087 A1 WO 9424087A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
compound
reaction
synthesis
group
reference example
Prior art date
Application number
PCT/JP1994/000612
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Sachio Mori
Shozo Takechi
Shiro Kida
Original Assignee
Shionogi & Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shionogi & Co., Ltd. filed Critical Shionogi & Co., Ltd.
Priority to AU64379/94A priority Critical patent/AU666819B2/en
Priority to EP94912092A priority patent/EP0646570B1/en
Priority to DK94912092T priority patent/DK0646570T3/da
Priority to DE69411243T priority patent/DE69411243T2/de
Priority to CA002138264A priority patent/CA2138264C/en
Priority to KR1019940704565A priority patent/KR100277242B1/ko
Priority to JP52298294A priority patent/JP3411036B2/ja
Priority to US08/356,199 priority patent/US5488134A/en
Publication of WO1994024087A1 publication Critical patent/WO1994024087A1/ja

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/76Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/94Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of polycyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings

Definitions

  • the present invention relates to a novel method for producing a lignan compound. More specifically, the present invention relates to a method for producing a lignan compound having an aryl ketone chain or an alkyl ketone chain, wherein the method comprises utilizing a Diels-Alder reaction. It relates to a manufacturing method.
  • Lignan compounds are useful for the treatment of arteriosclerosis, particularly atherosclerosis, and various compounds have been disclosed by the present applicant (JP-A-5-310634, W093 / 08155).
  • the present invention provides a compound of formula (II):
  • R 2 and R 3 are independently a lower alkoxy group, or R 2 and R 3 together form an alkylenedioxy group, and R 4 is a lower alkoxy group or hydrogen
  • R 5 and R 6 are independently lower alkyl groups
  • R 7 is a tri-lower alkylsilyl group
  • R 1 is an alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl lower alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group which may have a substituent
  • R 1 is a fuunyl group which may be optionally substituted by rho, logen, trihalomethyl, lower alkoxy or lower alkyl, since the target compound is produced with good regioselectivity.
  • this reaction is represented by the following reaction formula (see Example 1):
  • the selectivity between the target compound and the regioisomer which is a by-product shown in the reaction formula is, for example, as described later in Example 1, 8.4: 1, Example 4 in 11: 1, In the case of the fifth embodiment, the ratio is 13: 1, and all show high position selectivity.
  • R 1 is an aryl group
  • the desired compound can be obtained with high selectivity, and the method of the present invention is particularly suitable for mass synthesis of lignan analogs having aryl ketones. This is a practical method.
  • the “lower alkoxy group” in R 2 , R 3 , and R 4 means an oxy group substituted by a “lower alkyl group” described below, and preferably a methoxy group.
  • the “alkylenedioxy group” in R 2 and R 3 means a C! C 3 alkylenedioxy group, and includes methylenedioxy, ethylenedioxy and propylenedioxy.
  • the “tri-lower alkylsilyl group” for R 7 means a silyl group in which three identical or different groups are substituted among the below-mentioned “lower alkyl groups”, and thus includes trimethylsilyl and t-butyldimethylsilyl. And the like.
  • alkyl group in R 1 is the same! -Ji! ⁇ Means Arukiru, also the "lower alkyl group” means a straight chain or branched and C, one C 6 alkyl, methyl, Echiru, n- propyl, i one Puropinore, n- butyl, i-butyl, Examples are s-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl, 2-ethylbutyl and the like. The same applies to the “lower alkyl group” in R 5 and R 6 .
  • Cycloalkyl group means C 5 -C 7 cycloalkyl, and examples include cyclopentyl, cyclohexyl, and cycloheptyl.
  • the “cycloalkyl lower alkyl group” means a lower alkyl group as defined above substituted with a cycloalkyl as defined above, and examples thereof include cyclohexylmethyl and cyclopentylethyl.
  • the “aralkyl group” means a lower alkyl substituted by aryl, and includes, for example, benzyl, p-methoxybenzyl, fujunletyl, phenylpropyl, naphthylmethyl and the like.
  • Aryl group which may have a substituent means, for example, halogen, trihalo A phenyl group or a naphthyl group which may be substituted by methyl, lower alkoxy or lower alkyl.
  • a fuunyl group having a monosubstituted halogen group (more preferably, 4 monochloro fuunyl, etc.) and a fuunyl group having a monosubstituted trihalomethyl group (more preferably, 4- (trifluoromethyl) phenyl, etc.)
  • a phenyl group having a monosubstituted lower alkoxy group more preferably, 2-methoxyphenyl
  • a phenyl group having a monosubstituted lower alkyl group (more preferably, 2-methylphenyl).
  • the method of the present invention comprises the following steps:
  • the lactone compound (II) is converted into an enolate with a base
  • the compound formed by trapping the enolate with a silyl compound (R 7 C1) as an electrophile is subsequently converted into an acetylene compound (II)
  • the step of synthesizing compound (IV) It is not necessary to isolate the isobenzofuran compound (II), which is considered as a reaction intermediate, and the reaction may be performed continuously in the same vessel.
  • the second step is a step of deprotecting the tri-lower alkylsilyloxy group (OR 7 ) of compound (IV) with an acid to synthesize a hydroquine diketone compound (V).
  • the third step is a step of reducing compound (V) using a metal or a low-valent metal salt in the presence of an acid to synthesize compound (I).
  • the compound (I) can also be obtained by omitting the second step and directly reacting the product (IV) of the first step under the same conditions as in the third step.
  • the compound (II) and the compound (III) used in the first step there are no particular restrictions on the use of the compound (II) and the compound (III) used in the first step, but usually the compound (III) is used in an equivalent amount or an excess amount relative to the compound (II), preferably 1: Used in 1 to 1: 1.5. The same applies to the ratio of the silyl compound (R 7 C1) used to the compound (II).
  • a dialkyl metal amide generally used, for example, lithium diisopropyl amide, sodium getyl amide, etc.
  • bis (trialkylsilyl) metal amides such as lithium bis (trimethylsilinole) amide, potassium bis (trimethylsilinole) amide, sodium bis (triethylsilinole) amide
  • An amide or the like can be used.
  • Reaction solvents include, for example, ethers such as tetrahydrofuran, dimethyl ether, dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride. Can be used alone or as a mixture thereof. Preferably, a mixed solvent of tetrahydrofuran and methylene chloride is used.
  • the reaction of this step is usually completed at a temperature of 100 ° C. to 100 ° C., preferably at a temperature of 180 ° C. to 20 ° C., in a few minutes to a few hours.
  • Organic acids (formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.) and inorganic acids (boric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) which are usually used in the reaction can be used as the acid used in the second step. Used.
  • reaction solvent for example, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and alcohols such as methanol and ethanol can be used alone or in a mixture in the presence of water, and water-containing dioxane is preferably used.
  • the water may be contained in an equimolar amount with respect to the compound (IV).
  • the reaction in this step is usually completed at 0 ° C. to 100 ° C., preferably at 20 ° C. to 50 ° C., in several minutes to several hours.
  • an inorganic acid (hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) that is usually used in a reaction can be used, and hydrochloric acid is preferably used.
  • metal tin, zinc, iron and the like
  • low valent metal salt stannous chloride, titanium trichloride, ferrous chloride and the like
  • titanium trichloride is used.
  • reaction solvent for example, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and alcohols such as methanol and ethanol can be used alone or in the presence or absence of water, and preferably dioxane and metaoxane are used. Use a mixed solvent with ethanol.
  • the reaction in this step is usually completed at 0 ° C. to 100 ° C. (preferably at 20 ° C. to 70 ° C.) in several minutes to several hours.
  • Step 1 (Synthesis of 2- (3,4-dimethoxy-hydroxybenzyl) -4,5-methylenedioxybenzaldehyde ethylenedioxyacetal: 4) i) 2-bromo-4, To a solution of 28.0 g (122 fflmol) of 5-methylenedioxybenzaldehyde (Compound 3) in 250 ml of benzene was added 14 ml of ethylene glycol and 465 mg of p-toluenesulfonic acid, and the mixture was dehydrated with a Dean-Stark tube. Heat to reflux for 3 hours. To the ice-cooled reaction solution, add a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, and extract with ethyl acetate. The extract is washed with water and saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain 33.2 g of a crude acetal product as crystals. This is used for the next reaction without purification.
  • Step J_ (Synthesis of 2- (3,4-dimethoxy- ⁇ -acetoxybenzyl) -4,5-methylenedioxybenzaldehyde: 5)
  • This crystal becomes a low melting point crystal when stored in a storage warehouse, but is used for the next reaction without purification.
  • Step 1 (tri (3,4-dimethoxyphenyl) -1,4-dihydro-2- (methoxycarbonyl) -3-[4- (trifluoromethylinole) benzoyl] -6,7,8-trimethyl Toxi-4- (trimethylsilyloxy) -1,4-epoxynaphthalene: IV-a base)
  • TMS tri (3,4-dimethoxyphenyl) -1,4-dihydro-2- (methoxycarbonyl) -3-[4- (trifluoromethylinole) benzoyl] -6,7,8-trimethyl Toxi-4- (trimethylsilyloxy) -1,4-epoxynaphthalene: IV-a base)
  • TMS trimethylsilyloxy
  • Step 2 (4- (3,4-Dimethoxyphenyl) -4-hydroxy-3- (methoxycarbonyl) -2- [4- (trifluoromethyl) benzoyl] -5,6,7-trimethoxy-1 (4H) -Naphthalenone: Synthesis of Va)
  • IR v (CHCl s) 1737, 1711, 1605, 1580, 1511, 1488, 1461, 1433, 14 10, 1373, 1323. 1171, 1135, 1064, 1017 cm “ 1 .
  • IR ⁇ (CHC1 3) 1735 , 1711, 1603, 1581, 1514, 1487, 1461, 1434, 14 13, 1371, 1220, 1133, 1055 cm "1.
  • Step 1 (2-Benzyl-4- (3,4-dimethoxyphenyl) -4--hydroxyquin-3- (methoxycarbonyl) -5,6,7-trimethoxy-1 (4H) -naphthalenone: Ve Compound)
  • ⁇ -NR ⁇ (CDC1 3 ) 2. 71 (3H, s) 3. 24 (3H, s) 3. 83 (3H, s) 3. 89 (3 H, s) 3. 91 (3H, s) 4.06 (3H, s) 6.78-6.83 (3H, m) 7.34-7.68 (5 H, m) 7.41 (1H, s) 12.44 (1H, s).
  • IR ⁇ (nujol) 1727, 1598, 1573, 1509, I486, 1409, 1213, 1125, 10 49, 1022 cm- 1 .
  • IR Li (CHC1 3) 1738, 1713, 1600, 1510, 1461, 1412, 1168, 1055, 10 28 cm '1.
  • IR Li (CHC1 3) 1738, 1711, 1598, 1581, 1511, 1487, 1460, 1410, 11 30, 1055 cm-
  • IR v (CKlz) 1738, 1714, 1601, 1582, 1514, 1490, 1463, 1412, 1135, 1058 cm- 1 .
  • IR Li (CHC1 3) 1740, 1712, 1604, 1583, 1514, 1489, 1462, 1411, 11 38, 1056 cm- 1.
  • Step 1 (4- (3,4-dimethoxyphenyl) -4-hydroxy-3- (methoxycarbonyl) -6,7-methylenedioxy-2- [4- (trifluoromethyl) benzoyl]
  • IE v (CHCls) 1732, 1713, 1620, 1586, 1515, 1460, 1321, 1240, 1173, 1135, fine cm ' 1 .
  • Step 1 (2- (cyclohexanecarbonyl) -4- (3,4-dimethoxyphenyl) -4-hydroxy-3- (methoxycarbonyl) -5,6,7-trimethoxy-1 (4H) -Nuff Evening Lenon: Synthesis of V-k)
  • IR ⁇ (Nujol) 1714, 1606, 1580, 1516, 1489, 1410, 1240, 1197, 11 42, 1107, 1063, 1027, 1004 cm ' 1 .
  • the reaction is carried out in the same manner as in Step 3 of Example 1 to obtain the intended compound 1-1 from the compound V-1.
  • Step 1 (4- (3,4-Dimethoxyphenyl) -2- (3-ethyl-1-oxopentyl) -4-hydroxy-3- (methoxycarbonyl) -5,6,7-trimethoxy- 1 (4H) -Nuff Evening Lenon: Vm Taisei)
  • a crude product of the target compound IV-a is obtained from 00 g (25.0 mmol) and 7.04 g (27.5 ol) of compound III-a (Reference Example 3). Use this in the next reaction without purification.
  • IR ⁇ (CHC1 3) 1739 , 1713, 1601, 1583, 1514, 1488, 1462, 1411, 1130, 1057, 1 027cm- 1
  • IR ⁇ (CHC1 3) 1735 , 1710, 1603, 1583, 1513, 1487, 1461, 1434, 1412, 1372, 1 306, 1283, 1237, 1131,1056, 1029cm- 1
  • lignan analogs can be efficiently synthesized.
  • the reaction proceeds with good regioselectivity and is useful as an industrial production method.
  • Example 1 The compounds obtained according to Example 1 and Example 2 were tested.
  • TBA reactive substances Chiobarubi tool acid reactive substances
  • IC 5 Q LDL oxidation inhibiting denaturation rate
  • the compound obtained by the method of the present invention has an IC 5 o of 10 M or less, and thus can be said to have a strong antioxidant effect on LDL.
  • mice ICR male mice (body weight 30-40 g) were allowed to freely ingest a diet containing 1% cholesterol and 0.5% sodium cholate supplemented with 0.12% of the test compound (the control group was not added) for 7 days. Blood was collected, and the serum total cholesterol level was measured by the method of Allain described in Clinical Chemistry, Vol. 20, p. 470 (1974).
  • the cholesterol lowering effect of the test compound was evaluated by the cholesterol lowering rate determined by the following formula.
  • the compounds obtained by the present invention have a strong selective cholesterol lowering effect.

Landscapes

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Description

明 細 書 リグナン系化合物の製造方法 本発明はリグナン系化合物の新規な製造方法に関する。 より詳細には、 本発明は、 ァリ一ルケトン鎖又はアルキルケトン鎖を有するリグナン系化 合物の製造方法であって、 ディールス ·アルダー反応を利用することを特 徵とする該リグナン系化合物の製造方法に関する。
リグナン系化合物は動脈硬化症、 特にァテローム性動脈硬化症の処置に 有用な化合物であり、 本出願人により種々の化合物が開示されている(特 開平 5— 310634、 W093/08155)。
本発明は、 式 (II):
Figure imgf000003_0001
(II)
[式中、 R2 及び R3 は個別に低級アルコキシ基であるか、 又は R2 及び R 3 は一緒になってアルキレンジォキシ基を形成するものであり、 R4 は低級アルコキシ基又は水素であり、
R5 及び R6 は個別に低級アルキル基である] で示されるラク トン化合物を塩基の存在下に式: ―
R7C 1
[式中、 R7 はトリ低級アルキルシリル基である]
で示される化合物と反応させ、 次に得られた化合物に式 (III):
Figure imgf000004_0001
(III)
[式中、 R1 はアルキル基、 シクロアルキル基、 シクロアルキル低級アル キル基、 ァラルキル基、 又は置換基を有してもよいァリール基である] で示されるアセチレン化合物を付加させて式(IV):
Figure imgf000004_0002
[式中、 R R R3、 R R R6及び R7は前記と同意義である] で示される化合物を得、 これを還元して式(I) :
- 9-
Figure imgf000005_0001
(i)
[式中、 R R2、 R3、 R4、 R5 及び R6 は前記と同意義である] で示される化合物を製造する方法に関する。
本発明は、 R1 力くノ、ロゲン、 トリハロメチル、 低級アルコキシもしくは 低級アルキルによって置換されていてもよいフユニル基である場合、 目的 化合物が位置選択性良く製造されるので特に好ましい。 例えば、 この反応 は以下の反応式で示される (実施例 1参照) :
Figure imgf000006_0001
Figure imgf000006_0002
通元
Figure imgf000006_0003
上記反応式中、 付加反応において 2種類の生^ ί物が考えられる。 このうち 反応式中に示した目的化合物と副生成物である位置異性体との選択性は、 例えば、 後述の実施例 1の場台、 8.4 : 1、 実施例 4の場台 11 : 1、 実施例 5の場合 1 3 : 1であり、 いずれも高い位置選択性を示している。 このように、 R 1 がァリール基の場合は目的とする化合物を選択性よく得 ることが可能であり、本発明方法はとりわけァリ一ルケトン鎮を有するリ グナン類縁体の大量合成に適した実用的な方法である。
本明細書中、 R 2、 R 3、 R 4における 「低級アルコキシ基」 とは、 後述 の 「低級アルキル基」 が置換したォキシ基を意味するが、 好ましくは、 メ トキシ基が例示される。 R 2 及び R 3 における 「アルキレンジォキシ基」 とは、 C !一 C 3アルキレンジォキシ基を意味し、 メチレンジォキシ、 ェチ レンジォキシ、 プロピレンジォキシがある。
R 7における「トリ低級アルキルシリル基」とは、 後述の「低級アルキル基」 のうち、 同一または異なる基が 3個置換したシリル基を意味し、 従ってこ れにはトリメチルシリル、 t-プチルジメチルシリルなどが例示される。
R 1 における 「アルキル基」 とは、 じ!ーじ!^ァルキルを意味し、 また 「低級アルキル基」 とは直鎖もしくは分枝状の C ,一 C 6アルキルを意味し、 メチル、 ェチル、 n—プロピル、 i一プロピノレ、 n—ブチル、 iーブチル、 s ーブチル、 n—ペンチル、 1一ェチルプロピル、 2—ェチルブチル等が例 示される。 R 5 及び R 6 における 「低級アルキル基」 も同様である。 「シ クロアルキル基」 とは、 C 5— C 7シクロアルキルを意味し、 シクロペンチ ル、 シクロへキシル、 シクロへプチルが例示される。 「シクロアルキル低 級アルキル基」 とは、 前記定義した低級アルキル基に、 前記定義したシク 口アルキルが置換したものを意味し、 シクロへキシルメチル、 シク ϋペン チルェチル等が例示される。 「ァラルキル基」 とは前記低級アルキルにァ リールが置換しているものを意味し、 例えばベンジル、 p—メ トキシベン ジル、 フユニルェチル、 フヱニルプロピル、 ナフチルメチル等がある。
「置換基を有してもよいァリール基」 とは、 例えばハロゲン、 トリハロ メチル、 低級アルコキシもしくは低級アルキルによって置換されていても よいフヱニル基又はナフチル基を意味する。 好ましくは、 一置換のハロゲ ン基を有するフユニル基(より好ましくは、 4一クロ口フユニルなど)、 一 置換の卜リハロメチル基を有するフユニル基(より好ましくは、 4— (トリ フルォロメチル)フヱニルなど)、 一置換の低級アルコキシ基を有するフエ ニル基(より好ましくは、 2—メ トキシフユ二ルなど)、 一置換の低級アル キル基を有するフヱニル基(より好ましくは、 2—メチルフエニルなど)で あ^?
本発明の方法は以下のような各工程から構成される :
7
Figure imgf000009_0001
第 2工程
Figure imgf000009_0002
各工程の概要説明
第 1工程は、 ラク トン化合物 (II) を塩基によりエノラートとした後、 求電子剤であるシリル化合物 (R7C1) でこのエノラートを捕捉すること により生成する化合物を、 引き続きアセチレン化合物 (ΠΙ) と反応させ、 化合物 (IV) を合成する工程である。 反応中間体と考えられるイソべンゾ フラン化合物 (II) をあえて単離する必要はなく、 反応は同一容器内で連 続して行えばよい。
第 2工程は、 酸により化合物 (IV) のトリ低級アルキルシリルォキシ基 (OR7) を脱保護し、 ヒ ドロキンジケトン化合物 (V) を合成する工程で あ^ >o
第 3工程は、 酸の存在下、 金属又は低原子価金属塩を用いて化合物 (V) を還元し、 化合物 ( I ) を合成する工程である。
なお、 第 2工程を省略し、 第 1工程の生成物 (IV) を直接第 3工程と同 じ条件下で反応させても化合物 ( I ) を得ることができる。
反応条件
第 1工程で使用する化合物 (II) と化合物 (III) の使用割台について は特に制限はないが、 通常、 化合物 (III) を化合物 (II) に対して等量 もしくは過剰量で、 好ましくは 1 : 1~1 : 1. 5で使用する。 またシリ ル化合物 (R7C1) の化合物 (II) に対する使用割合についても同様であ 塩基としては、 通常用いられるジアルキル金属アミ ド類、 例えば、 リチ ゥムジイソプロピルアミ ド、 ナトリウムジェチルアミ ドなど、 また、 ビス (トリアルキルシリル)金属ァミ ド類、 例えば、 リチウムビス( ト リメチル シリノレ)ァミ ド、 力 リウム'ビス(ト リメチルシリノレ)ァ ミ ド、 ナ ト リウムビ ス(トリェチルシリノレ)アミ ドなどを用いることができ、 好ましくは、 リチ ゥムビス(トリメチルシリノレ)アミ ドを用いる。
反応溶媒は、 例えばテトラヒ ドロフラン、 ジェチルェ一テル、.ジォキサ ンなどのエーテル類、 n-へキサンなどの炭化水素類、 ベンゼン、 トルエン などの芳香族炭化水素類、 塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類を単 独でもしくはこれらを混合して使用でき、 好ましくは、 テトラヒ ドロフラ ンと塩化メチレンの混合溶媒を用いる。
本工程の反応は、 通常、 一 1 0 0 °Cから 1 0 0 °C、 好ましくは、 一 8 0 °Cから 2 0 °Cにて、 数分から数時間で完結する。
第 2工程で使用する酸としては、 通常反応に用いられる有機酸 (ギ酸、 酢酸、 トリフルォロ酢酸など)、 無機酸 (ホウ酸、 塩酸、 硫酸など) を用 いることができ、 好ましくは、 硫酸を用いる。
反応溶媒は、 例えばテトラヒ ドロフラン、 ジォキサンなどのエーテル類、 メタノール、 エタノールなどのアルコール類を、 水存在下、 単独でもしく は混合して使用でき、 好ましくは含水ジォキサンを用いる。 水は、 化合物 ( IV) に対して等モル量程度含まれておればよい。
本工程の反応は、 通常、 0 °Cから 1 0 0 °C、 好ましくは 2 0 °Cから 5 0 °Cにて、 数分から数時間で完結する。
第 3工程で使用する酸としては、 通常反応に用いられる無機酸 (塩酸、 硫酸など) を用いることができ、 好ましくは、 塩酸を用いる。
金属としては、 スズ、 亜鉛、 鉄などを用いることができ、 低原子価金属 塩としては、 塩化第一スズ、 三塩化チタン、 塩化第一鉄などを用いること ができる。 好ましくは、 三塩化チタンを用いる。
反応溶媒は、 例えば、 テトラヒ ドロフラン、 ジォキサンなどのエーテル 類、 メタノール、 エタノールなどのアルコール類を、 水存在下または非存 在下に、 単独でもしくは混合して使用でき、 好ましくはジォキサンとメタ ノールとの混合溶媒を用いる。
本工程の反応は、 通常、 0 °Cから 1 0 0 ° (:、 好ましくは 2 0 °Cから 7 0 °Cにて、 数分から数時間で完結する。
以下に参考例及び実施例を記載し、 本発明をさらに詳細に説明するが、 これらは本発明の範囲の限定を意図するものでない。
化合物 (Π) の合成例
参考例 1
3 -(3, 4-ジメ トキシフユニル) -4, 5, 6 -ト リメ トキシ -1 (3H)-ィソベンゾフ ラノ ン: II- 1の合成
工程 1 (4,4-ジメチル -2-(3, 4,5-トリメ トキシフユ二ル) -2-ォキサゾ リ ン : 2 の合成)
2-ァミ ノ- 2-メチル -1-プロパノール 12. 5 g (140 匪 ol) の乾燥塩化メ チレン 50 ml 溶液に、 氷冷下、 3, 4, 5-トリメ トキシベンゾイルクロリ ド (化合物 1) 16. 2 g (70 醫 ol) の乾燥塩化メチレン 40 ml 溶液を 30 分 間で滴下する。 滴下終了後、 更に 45 分間攪拌した後、 反応液をグラスフィ ルターで濾過する。 濾過物を、 塩化メチレンで洗浄し、 濾過液と洗浄液を 合わせ減圧濃縮する。 残渣を乾燥トルエン 30 ml に溶解し、 氷冷下、 塩 化チォニル 6. 64 ml (91. 0 關 ol) を滴下する。 室温に戻しながら更に 45 分間攪拌した後、 氷 (20 g) 及び水酸化ナトリウム水溶液 (NaOH 18 g/ 水 60 ml) を加えトルエンで抽出する。 抽出液を、 水、 飽和食塩水で洗浄 した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 減圧濃縮した残渣を n- へキ サン 70 ml より結晶化して目的とする化合物 2 を 16. 8 g (90. 6 ¾. ィヒ 合物 1 より) 得る。
融点: 87 — 89 °C
! H-NMR: <5 (CDC13) 1. 39 (611, s) 3. 88 (3H, s) 3. 91 (6H, s) 4. 10 (2H, s) 7. 20 (2H, s).
工程 2 (化合物 : Π-l の合成)
窒素気流下、 -30 °C の冷媒で冷却した化合物 2 (16. 8 g, 63. 4 mmol) の乾燥 THF 100 ml 溶液に、 1. 68 N n- BuLi-n- へキサン溶液 40. 0 ml (67. 2 mmol) を 15 分間かけて滴下する。 滴下終了後同温にて更に 45 分 間攪拌した後、 -78 °C に冷却し、 3, 4-ジメ トキシベンズアルデヒ ド 11. 6 g ( 69. 7 mmol) の乾燥 THF 30 ml 溶液を滴下する。 室温に戻しながら 1 時間攪拌した後、 飽和塩化アンモニゥム水溶液 (20 ml) と水 (20 ml) を加え、 酢酸ェチルで抽出する。 抽出液を、 水、 飽和食塩水で洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 減圧濃縮した残渣を 10 % 硫酸 70 ml に溶解し 30 分間加熱還流する。 反応液に氷水を加え、 塩化メチレンで 抽出する。 抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧濃縮した残渣を メタノール 80 ml より結晶化して目的とする化合物 II-1 を 20. 6 g (90. 4 %, 化合物 2 より) 得る。
融点: 141 一 142 。C
^l-NMR: 5 (CDC13) 3. 52 (3H, s) 3. 83 (3H, s) 3. 89 (3H, s) 3. 92 (3H, s) 3. 95 (3H, s) 6. 32 (1H, s) 6. 72 (1H, s) 6. 86 (2H, s) 7. 21 (1H, s).
上記参考例 1の方法は以下の反応式で表される。
Figure imgf000014_0001
CH2CI2
1
1 ) n— BuLi / THF
Figure imgf000014_0002
参考例 2
3-(3, 4-ジメ トキシフヱ二ル)- 5. 6-メチレンジォキシ -1(3H)-ィソベンゾ フラノン: Π-2の合成
工程 1 (2-(3, 4-ジメ トキシ-ひ-ヒ ドロキシベンジル) -4, 5-メチレンジ ォキシベンズアルデヒ ド エチレンジォキシァセタール : 4 の合成) i ) 2-ブロモ -4, 5-メチレンジォキシベンズアルデヒ ド (化合物 3) 28. 0 g (122 fflmol) のベンゼン 250 ml 溶液に、 エチレングリコール 14 ml、 p-トルエンスルホン酸 465 mg を加え、 ディーン .スターク管で脱水しな がら、 3 時間加熱還流する。 氷冷した反応液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液を加え、 酢酸ェチルで抽出する。 抽出液を、 水、 飽和食塩水で洗浄 後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧濃縮してァセタールの粗生成物 を結晶として 33. 2 g 得る。 このものは、 精製することなく次の反応に用 いる。
ϋ ) 窒素気流下、 前記得たァセタールの粗生成物 33. 2 g の乾燥 THF 300 ml 溶液に、 1.64 N n-ブチルリチウム一 n-へキサン溶液. 80 ml (1 31 mmol) を、 -78 。C に於て滴下する。 同温で更に 30 分間攪拌したのち、 3, 4-ジメ トキシベンズアルデヒ ド 20.3 g (122 mmol) の 乾燥 THF 85 ml 溶液を加え、 更に 30 分間攪拌する。 反応液に飽和塩化アンモニゥム水溶 液を加え、 酢酸ェチルで抽出する。 抽出液を、 水、 飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 減圧濃縮した残渣を中圧シリカゲル力 ラムクロマトグラフィ一精製 (Si02; 600 g, 酢酸ェチル - n_ へキサン = 1:2 - 1:1) して、 目的とする化合物 4 を油状物質として 35.6 g (80. 9 %, 化合物 3 より) 得る。
醒 : d (CD30D) 3.77 (3H, s) 3.80 (3H, s) 3.90一 4.17 (4H, m) 5.91 (1H, d, J = 1.2Hz) 5.93 (1H, d, J = 1.2Hz) 5.97 (1H, s) 6.13 (1H, s) 6.85 (1H, s) 6.87 (1H, s) 6.88 (1H, s) 6.98 (1H, s) 7.02 (1 H, s).
工程 J_ (2-(3,4-ジメ トキシ -α-ァセトキシベンジル) -4,5-メチレンジ ォキシベンズアルデヒ ド : 5 の合成)
i ) 窒素気流下、 前記化合物 (35.6 g, 98.3 mmol). Ν,Ν'-ジメチルァ ミノピリジン 360 m 及びトリェチルァミン 21 ml の乾燥 THF 170 ml 溶液に、 氷冷下、 無水酢酸 12.1 ml (128 mmol) を加え、 室温に戻しなが ら 50 分間攪拌する。 メタノール 4.4 ml を加え、 20 分間攪拌した反応 液を減圧濃縮し、 残渣に水を加え、 酢酸ェチルで抽出する。 抽出液を、 水、 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧濃縮して、 目的とするァセ夕一卜の粗生成物を油状物質として 39.6 得る c このも のは、 精製することなく次の反応に用いる。
ϋ ) 前記ァセター卜の粗生成物 39.6 g のァセトン 350 ml 溶液に、 氷?令下、 ] N塩酸 35 ml を加え、 室温に戻しながら 1 時間攪拌する。 反 応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和し、 減圧濃縮した残渣 に水を加え、 酢酸ェチルで抽出する。 抽出液を、 水、 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧濃縮して、 目的とするアルデヒ ド 5 の粗生成物を油状物質として 39. 0 g 得る。 このものは、 精製する ことなく次の反応に用いる。
Ή-NMR: 0 (CDC13) 2. 16 (3H, s) 3. 85 (6H. s) 6. 09 (2H, s) 6. 80 - 6. 89 (3H, m) 7. 09 (1H, s) 7. 32 (1H, s) 7. 58 (1H, s).
工程 3 (化合物 : Π- 2 の合成)
前記アルデヒ ド 5 の粗生成物 39. 0 g をメタノール 500 ml とジォキ サン 250 ml の混合溶媒に溶解し、 2-メチル -2-ブテン 130 ml を加える。 次に、 亜塩素酸ナトリウム 44 g (486 mmol)とリン酸ニ水素ナトリウム二 水和物 57 g (365 mmol) の 250 ml 水溶液を加え、 室温で 20 分間攪拌 する。 反応液に、 5 N 水酸化ナトリウム水溶液 160 ml を加え、 25 分間 攪拌した後、 6 N塩酸 160 ml を加えて更に 20 分間攪拌する。 反応液に 氷水を加え、 塩化メチレンで抽出する。 抽出液を、 水、 飽和炭酸水素ナト リウム水溶液、 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 減圧濃縮した残渣の粗結晶をエーテルで洗浄し、 更にメタノールより再結 晶を行なって目的とするラク トン II- 2 を結晶として 27. 0 g (86. 2 %, 化合物 4 より) 得る。
融点: 176 — 178 °C (メタノール)
-匿: 0 (CDC13) 3. 83 (3H, s) 3. 89 (3H, s) 6. 12 (2H, ABtype, J = 1. 2 Hz) 6. 20 (1H, s) 6. 66 (2H, d, J = 1. 2 Hz) 6. 86 (1H, s) 6. 87 (1H, s) 7. 25 (1H, s).
上記参考例 2の反応は以下の反応式で表される。
Figure imgf000017_0001
化合物 (III) の合成例
参考例 3
4-ォキソ -4- [4- (トリフルォロメチル)フエニル] -2-ブチン酸メチル: III- aの合成
工程 1 (4- [4-(トリフルォロメチル)フエニル] -4-(トリメチルシリ ルォキシ) -2-ブチン酸メチル : 8a の合成)
窒素気流下、 (Ti!S) 2NH 21. 1 ml (100 ramol) の乾燥 THF 100 ml 溶液 に、 -20から- 30 °C で 1. 64 M n-BuLi - n-へキサン 溶液 61 ml (100 mm ol) を滴下する。 ドライアイス一アセトン浴で冷却した反応液に、 プロピ オール酸メチル (化合物 6) 8. 41 g (100 mmol) の乾燥 THF 15 ml 溶液 を 9 分間で滴下する。 滴下終了後 36 分間攪拌した反応液に、 4- (トリフ ルォロメチル)ベンズアルデヒ ド (化合物 7a) 17. 4 g (100 mraol) の乾燥 THF 60 ml 溶液を 15 分間で滴下する。 更に 55 分間攪拌した反応液に、 塩化トリメチルシラン 14. 0 ml (110 mmol) を 7 分間で加える。 更に 37 分間攪拌した後、 冷却浴を取り除き 16 分間攪拌する。 反応液に 1 N塩 酸 100 ml を加え、 酢酸ェチルで抽出する。 抽出液を、 水、 飽和食塩水で 洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧濃縮して目的とするシ リルエーテル の粗生成物を油状物質として得る。 このものは精製する ことなく次の反応に用いる。
工程 2 (化合物 : III- a の合成)
氷冷下、 前記シリルエーテル 8a の粗生成物のァセトン 170 ml 溶液に、 8 N ジヨーンズ試薬 50 ml を 15 分間で滴下する。 滴下終了後、 35 分間 攪拌した反応液に 2-プロパノール 11. 4 ml (150 mmol) を加え、 室温に 戻しながら 1 時間攪拌する。 反応液を濾過し、 残渣の硫酸クロムをァセ トンで洗浄する。 反応液と洗净液を合わせ減圧濃縮した残渣を酢酸ェチル
40 ml で溶解した後、 水 150 ml と n-へキサン 120 ml を加えて抽出す る。 有機層を、 水 、 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥 した後、 減圧濃縮する。 残渣に n-へキサン 80 ml を加え不溶物を濾別し た後、 減圧濃縮し、 更に攪拌しながら 40 。C で 30 分間'减圧乾燥を行なつ て、 目的とする化合物 III- a の粗生成物を油状物質として 21. 6 g (84. 6
%, 化合物 7a より) 得る。 このものは一晚?令蔵庫で保存することにより 低融点の結晶となるが、 精製することなく次の反応に用いる。
融点: 28 — 29 °C (メタノール)
】H-霞: <5 (CDC13) 3. 92 (3H, s) 7. 80 (2H, d, J = 8. 2Hz) 8. 24 (2H, d, J = 8. 2Hz).
参考例 4 ク口口フエニル) -4-ォキソ -2-ブチン酸メチル: III-bの合成 参考例 3 と同様に反応を行ない、 4-クロ口べンズアルデヒ ド.(化合物 7b) より目的とする化合物 III-b を得る。
融点: 49 - 50 °C
Ή-NMR: 0 (CDCls) 3. 90 (3H, s) 7. 50 (2H, d, J = 8. 8Hz) 8. 05 (2H, d, J = 8. 8Hz).
参考例 5
4-(3-ク口口フヱニル) -4-ォキソ -2 -プチン酸メチル: III-cの合成 参考例 3 と同様に反応を行ない、 3-クロ口べンズアルデヒ ド (化合物 7c) より目的とする化合物 III-c を得る。
融点: 73 — 75 °C
' Η-麵: (5 (CDC13) 3. 91 (3H, s) 7. 48 (1H, t, J = 8. 0 Hz) 7. 62 - 7. 68 (1H, m) 7. 97 - 8. 09 (2H, m).
参考例 6
4-(2-クロロフ ニル) -4-ォキソ -2-ブチン酸メチル: III-dの合成
参考例 3 と同様に反応を行ない、 2-クロ口べンズアルデヒ ド (化合物 7d)より目的とする化合物 III-d を得る。
油状物質
Ή-NMR: 0 (CDC13) 3. 89 (3H, s) 7. 38 - 7. 59 (3H, m) 8. 01 一 8. 09 (1 H, m).
参考例 Ί
4-ォキソ -4-フユニル -2-ブチン酸メチル: III-eの合成
参考例 3 と同様に反応を行ない、 ベンズアルデヒ ド (化合物 7e) より 目的とする化合物 ΠΙ-e を得る。
融点: 31 — 35 °C Ή-N R: o (CDCls) 3. 90 (3H, s) 7. 47 一 7. 58 (2H, m) 7. 63 - 7. 73 (1 H, m) 8. 09 - 8. 17 (2H, m).
参考例 8
4-(4-メ トキシフェニル)-4-ォキソ -2-ブチン酸メチル: III- fの合成 参考例 3 と同様に反応を行ない、 4-メ トキシベンズアルデヒ ド (化合 物 7f) より目的とする化合物 ΠΙ-f を得る。
融点: 67 — 68 。C
Ή-NMR: 0 (CDC13) 3. 89 (3H, s) 3. 91 (3H, s) 6. 98 (2H, d, J = 9. 0 Hz) 8. 09 (2H, d, J = 9. 0 Hz).
参考例 9
4-(3-メ トキシフヱニル) -4-ォキソ -2-ブチン酸メチル: ΙΠ-gの合成 参考例 3 と同様に反応を行ない、 3-メ トキシベンズアルデヒ ド (化合 物 7g) より目的とする化合物 ΠΙ-g を得る。
融点: 32 — 34 °C
-證: 0 (CDCl s) 3. 87 (3H, s) 3. 90 (3H, s) 7. 18 一 7. 25 (1H, m)
7. 48 (1H, t, J = 8. 0 Hz) 7. 56 - 7. 61 (1H, m) 7. 70 - 7. 77 (1H, m). 参考例 10
4- (2-メ トキシフヱニル)-4 -ォキソ -2 -ブチン酸メチル: ΙΙΙ-hの台成 参考例 3 と同様に反応を行ない、 3-メ トキシベンズアルデヒ ド (化合 物 7h) より目的とする化合物 III- h を得る。
油状物質
' Η-匿: 0 (CDCl s) 3. 87 (3H, s) 3. 95 (3H, s) 6. 98 - 7. 10 (211. m) 7. 53 一 7. 64 (1H, m) 7. 97 (1H, dd, J = 7. 8 Hz, 1. 8 Hz),
参考例 11
4-(2-メチルフヱニル) -4-ォキソ -2-ブチン酸メチル: III- iの合成 参考例 3 と同様に反応を行ない、 2 -メチルベンズアルデヒ ド (化合物 7i) より目的とする化合物 III- i を得る。
融点: 43 — 45 °C
!H-NMR: (5(CDC13) 2.63 (3H, s) 3.89 (3H, s) 7.25 - 7.56 (3H, m) 8.18 (1H, d, J = 7.8 Hz).
上記参考例 3〜参考例 11および下記参考例 15〜17までの反応は以 下の反応式によって表される。
Figure imgf000022_0001
a; Y=4-CF3 8a - i b; Y=4-CI 及び c; Y=3-CI 8n-p d; Y=2-CI
e; Y=H
f; Y=4-0Me
g; Y=3-OMe > > - -
II II
h; Y=2-OMe 寸
1
i; Y=2-Me ϋ
n; Y=3- e
o; Y=4-Me
p; Y=3,4-diCI
Jones' Cr03 ァセ卜ン
Figure imgf000022_0002
参考例 3: III- a; Y = 4 - CF,
参考例 4:
参考例 5: c; Υ = 3— CI
参考例 6:
参考例 7: e; Υ = Η
参考例 8: f; Y=4-OMe
参考例 9: g; Y = 3-OMe
参考例 10 : h; Y = 2-OMe
参考例 11 : i ; Y = 2 - Me
参考例 15 : n; Y=3-Me
参考例 16 : o; Y=4-Me
参考例 17 : p; Y=3,4-diCI 参考例 12
4-シクロへキシル -4-ォキソ -2-ブチン酸メチル: ΙΠ-kの合成
ェ稈 1 (4-シクロへキシル -4-ヒ ドロキシ -2 -ブチン酸メチル : 10k の 合成)
窒素気流下、 1M LiN(TMS) 2 - THF 溶液 20. 0 ml (20. 0 mmol) の乾燥 T HF 40 ml 溶液に、 -78 °C でプロピオール酸メチル (化合物 6) 1. 68 g (2 0. 0 mmol) の乾燥 THF 4 ml 溶液を滴下する。 滴下終了後 1 時間攪拌し た反応液に、 シクロへキサンカルボキサアルデ七 ド (化合物 9k) 2. 24 g (20. 0 mmol) の乾燥 THF 5 ml 溶液を滴下する。 更に 1 時間攪拌した反 応液に、 飽和塩化アンモニゥム水溶液を加え、 酢酸ェチルで抽出する。 抽 出液を、 水、 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧濃縮して目的とするアルコール 10k の粗生成物を油状物質として得 る。 このものは精製することなく次の反応に用いる。
工程 2 (化合物 : Ill-k の合成)
氷冷下、 前記アルコール 10k の粗生成物のァセトン 30 ml 溶液に、 8 N ジョ一ンズ試薬 10 ml を 7 分間で滴下する。 滴下終了後、 35 分間攪 拌した反応液に 2-プロパノール 5 ml を加え、 室温に戻しながら 1. 5 時 間攪拌する。 反応液を濾過し、 残渣の硫酸クロムをアセ トンで洗浄する。 反応液と洗浄液を合わせ減圧濃縮した残渣に水と酢酸ェチルを加える。 有 機層を、 水 、 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 減圧濃縮した残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィ一精製 (Si02 ; 60 g, 酢酸ェチル - n- へキサン = 1 : 10) して、 目的とする化合物 II I-k を油状物質として 3. 26 g (84 %, 化合物 9k より) 得る。
1 H-NMR: 0 (CDC13) 1. 10 ― 2. 03 (10H, m) 2. 40 - 2. 54 (1H, m) 3. 85 (3H, s). 参考例 13
5-ェチル -4-ォキソ -2-ヘプチン酸メチノレ: III- 1 の合成
参考例 12 と同様に反応を行ない、 (2-ェチル)ブチルアルデヒ ド (化合 物 91) より目的とする化合物 ΠΙ-1 を油状物質として得る。
1 H-NMR: 0 (CDCls) 0. 91 (6H, t, J = 7· 4 Hz) 1. 49 一 1. 87 (4H, m) 2. 36 - 2. 51 (1H, m) 3. 85 (3H, s).
参考例 14
6 -ェチル -4-ォキソ -2-ォクチン酸メチル: Ill-m の合成
参考例 12 と同様に反応を行ない、 (3-ェチル)バレルアルデヒ ド (化合 物 9m) より目的とする化合物 III-Di を油状物質として得る。
】H-匿: 0 (CDC13) 0. 88 (6H, t, J = 7. 2 Hz) 1. 20 - 1. 50 (4H, m) 1. 93 - 2. 01 (1H, m) 2. 55 (2H, d, J = 7. 0 Hz) 3. 85 (3H, s).
上記参考例 1 2〜参考例 1 4の反応は以下の反応式で表される。
Figure imgf000025_0001
9 k ; R1 = ·~ ( 10 k ~ m I ; R1 = - CHEt2
m ; R1 = - CH2CHEt2
Jones' Cr03 アセトン
Figure imgf000025_0002
参考例 12: in- k;R1= -"" ^ > 参考例 13 : I ; R1 = - CHEt2
参考例 14: m ; R = - CH2CHEt2 参考例 15
4一 (3—メ^フエニル) 一 一ォキソ一 2—ブチン酸メチル: III 一 nの合成
参考例 3と同様に反応を行い、 3—メチルベンズアルデヒ ドより目的と する化合物を得る。
融点: 36〜 38 C
1 H-NMR: 0 (CDC13)2.44(3H, s), 3.90(3H, s), 7.36 ― 7.52(2H. m), 7.89 ― 7.96(2H, m) 参考例 1 6
4一 (4一メチルフニニル) 一 4一ォキソ一 2—ブチン酸メチル: ΙΠ 一 0の合成
参考例 3と同様に反応を行い、 4—メチルベンズアルデヒ ドょり目的と する化合物を得る。
融点: 4 4〜4 7 °C
Ή-NMR: 0 (CDC13)2. 45(3H, s), 3. 89(3H, s), 7. 32(2H, d, J=8. 2Hz), 8. 01 (2 H, d, J=8. 2Hz)
参考例 1 7
4 - ( 3 , 4_ージクロロフエニル) 一 4一ォキソ一 2—ブチン酸メチル : III一 ρの合成
参考例 3と同様に反応を行い、 3, 4ージクロ口べンズアルデヒ ドより 目的とする化合物を得る。
融点: 5 8〜5 9 °C
' H-N : δ (CDC13)3. 92(3H, s), 7. 63(2H, d, J=8. 4Hz), 7. 95(1H, dd, J=8. 4H z, 2. 0Hz), 8. 18C2H, d, J=2. 0Hz)
化合物 ( I ) の実施例
実施例 1
1- (3, 4-ジメ トキシフユ二ル) -4-ヒ ドロキシ -2- (メ トキシカルボニル) -3 - [4-(トリフルォロメチル)ベンゾィル ]-6, 7, 8-トリメ トキシナフタレン : I - a の合成
工程 1 (卜(3, 4-ジメ トキシフエニル) -1, 4-ジヒ ドロ- 2- (メ トキシカル ボニル)-3 - [4- (トリフルォロメチノレ)ベンゾィル] -6, 7, 8-トリメ トキシ- 4- (トリメチルシリルォキシ)-1, 4-エポキシナフタレン : IV-a の台成) 窒素気流下、 (TMS) 2NH 15. δ ml (73. 5 mmol) の乾燥 THF 90 ml 溶液に, -20から- 30 °C で 1. 64 n-BuLi - n-へキサン 溶液 44. 8 ml (73. δ 關 ο 1) を滴下する。 ドライアイス一アセトン浴で冷却した反応液に.、 化合物 Π- 1 (参考例 1) 25. 2 g (70. 0 mmol) の乾燥塩化メチレン 50 ml 溶液を 25 分間で滴下する。 滴下終了後 30 分間攪拌した反応液に、 塩化トリメ チルシラン 10. 3 ml (81 mmol) を 5 分間で加え、 更に 1 時間攪拌する。 反応液に、 t-ブチルアルコール 1. 48 g (14 mmol) の乾燥 THF 3 ml を加 え、 15 分間攪拌する。 最後に、 化合物 ΙΠ-a (参考例 3) の粗生成物 21. 6 g の乾燥 THF 50 ml 溶液を 25 分間で滴下した後、 更に 25 分間攪拌 する。 反応液に 1 N 塩酸 75 ml を加え、 酢酸ェチルで抽出する。 抽出液 を、 水、 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧 濃縮して目的とするシリルエーテル IV-a の粗生成物を油状物質として得 る。 このものは精製することなく次の反応に用いる。
工程 2 (4-(3,4-ジメ トキシフエニル) -4-ヒドロキシ -3- (メ トキシカル ボニル)-2- [4- (トリフルォロメチル)ベンゾィル] -5, 6, 7-トリメ トキシ- 1 (4H)-ナフタレノ ン : V-a の合成)
前記シリルエーテル IV-a の粗生成物のジォキサン 250 ml 溶液に、 10 % 硫酸 15 ml を加え 1 時間 40 分攪拌する。 減圧下ジォキサンを留去し た残渣に水 100 ml を加え、 酢酸ェチルで抽出する。 抽出液を、 水、 飽和 食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 減圧濃縮した残渣を、 メタノール 300 ml より結晶化して融点 161 - 163 °C のジケトン V-a を 37. 1 g (86. 0 %, 化合物 Π-1 より) 得る。
! H-NMR : 0 (CDC13) 3. 26 (3H, s) 3. 47 (3H, s) 3. 87 (3H, s) 3. 88 (3H, s) 3. 92 (3H, s) 3. 93 (3H, s) 5. 39 (1H, s, -OH) 6. 82 (211, s) 7. 10
(1H, s) 7. 44 (lH,s) 7. 71 (2H, d, J = 8. 4 Hz) 7. 94 (2H, d, J = 8. 4
Hz). 工程 3 (化合物 : I- a の合成)
窒素気流下、 前記ジケトン V-a 32. 8 g (53. 2 mmol) のジォキサン 160 ml 溶液に、 三塩化チタン塩酸溶液 75 ml とメタノ一ル 55 ml を加え、 50 °C で 1 時間攪拌する。 減圧下ジォキサンを留去した残渣に、 酢酸ェ チルと水を加え、 抽出する。 抽出液を、 1 N 塩酸、 水、 飽和食塩水で洗浄 し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 減圧濃縮した残渣を 99% ェタノ ールより結晶化を行ない目的とする化合物 I-a を 23. 1 g (72. 4%)得る。 融点 : 114 一 117 °C
) H-臓: <5 (CDC13) 2. 69 (3H, s) 3. 24 (3H, s) 3. 83 (3H, s) 3. 89 (3 H, s) 3. 92 (3H, s) 4. 07 (3H, s) 6. 76一 6. 84 (3H, m) 7. 62 - 7. 73 (4 H, m) 7. 76 (1H, s) 12. 57 (1H, s).
IR: v (CHCl s) 1737, 1711, 1605, 1580, 1511, 1488, 1461, 1433, 14 10, 1373, 1323. 1171, 1135, 1064, 1017 cm" 1.
兀素方析: (C3 1 H 27F3O9 )
計算値; C 62. 00%, H 4. 53%, F 9. 49%
測定値; C 61. 80%, H 4. 57%, F 9. 46%
実施例 2
3- (4-クロ口ベンゾィル)-1-(3,4-ジメ トキシフエ二ル) -4-ヒ ドロキシ -2 -(メ トキシカルボニル) -6, 7, 8 -トリメ トキシナフタレン : I-b の台成
工程 1 (2-(4-クロ口ベンゾィル)-4- (3, 4-ジメ トキシフユニル) -4-ヒ ド 口キン- 3- (メ トキシカルボニル) - 5, 6, 7-トリメ トキシ- 1 (4H)-ナフタレノ ン : V-b の合成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行ない、 化台物 II- 1 (参考例 1 ) と 化合物 III- b (参考例 4) より目的とするジケトン V- b を得る。
融点: 133 一 134 °C (メタノール) 讓: o (CDCls) 3. 26 (3H, s) 3. 45 (3H, s) 3. 86 (3H, s) 3. 87 (3 H, s) 3. 92 (3H, s) 3. 93 (3H, s) 5. 39 (1H, br. s) 6. 81 (2H,. br. s) 7. 07 (1H, s) 7. 41 (2H, d, J = 8. 4 Hz) 7. 45 (1H, s) 7. 76 (2H, d, J = 8. 4 Hz).
工程 2 (化合物 : I-b の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V-b より目的 とする化合物 I-b を得る。
融点: 167 ― 169 °C (メタノール)
] H-NMR: 5 (CDC13) 2. 79 (3H, s) 3. 24 (3H, s) 3. 83 (3H, s) 3. 90 (3 H, s) 3. 92 (3H, s) 4. 06 (3H, s) 6. 78 - 6. 86 (3H, m) 7. 38 (2H, d, J = 8. 8 Hz) 7. 58 (2H, d, J = 8. 8 Hz) 7. 73 (1H, s) 12. 30 (1H, s).
IR: v (CHCls) 1739, 1712, 1602, 1583, 1512, 1489, 1462, 1411, 11 31, 1090, 1056 cnr 1
元素分析: (C3 DH2 7C10g )
計算値; C 63. 55%, H 4. 80%, C1 6. 25%
測定値; C 63. 65¾, H 4. 84%, C1 6. 54%
実施例 3
3-(3-クロ口ベンゾィル)-1-(3, 4-ジメ トキシフユニル) -4-ヒ ドロキシ- 2 -(メ トキシカルボニル) -6, 7, 8-トリメ トキシナフタレン : I-c の合成
工程 1 (2-(3-クロ口ベンゾィル)-4-(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ド ロキシ -3- (メ トキシカルボニル) - 5, 6, 7-トリメ トキシ -1 (4H)-ナフタレノ ン : V-c の合成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行ない、 化合物 II-1 (参考例 1) と 化合物 III-c (参考例 5) より目的とするジケトン V-c を得る。
融点: 135 - 136 °C (メタノール) -匪: o (CDCls) 3. 26 (3H, s) 3. 47 (3H, s) 3. 86 (3H, s) 3. 87 (3 H, s) 3. 92 (3H, s) 3. 94 (3H, s) 5. 39 (1H, s) 6. 78 - 6. 90 (2H, m) 7. 07 (1H, d, J = 1. 6 Hz) 7. 37 (1H, t, J = 7. 6 Hz) 7. 45 (1H, s) 7. 50 - 7. 56 (ΙΗ' m) 7. 68 (1H, d J = 7. 6 Hz, 1. 4 Hz) 7. 81 (1H, t, J = 1. 6 Hz).
工程 2 (化合物 : I-c の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V-c より目的 とする化合物 I-c を得る。
融点: 141 一 142 °C (メタノール)
] H-NMR: 5 (CDCls) 2. 78 (3H, s) 3. 24 (3H, s) 3. 84 (3H, s) 3. 89 (3 H, s) 3. 91 (3H, s) 4. 06 (3H, s) 6. 76 - 6. 86 (3H, m) 7. 29 - 7. 64 (4 H, m) 7. 74 (1H, s) 12. 45 (1H, s).
IR: υ (CHC13) 1735, 1711, 1603, 1581, 1514, 1487, 1461, 1434, 14 13, 1371, 1220, 1133, 1055 cm" 1.
元素分析: (C3。H27C109)
計算値; C 63. 55%, H 4. 80% C1 6. 25%
測定値; C 63. 38%, H 4. 86¾, C1 6. 46%
実施例 4
3- (2-クロ口ベンゾィル)-1-(3, 4-ジメ トキシフユニル) -4 -ヒ ドロキシ -2 - (メ トキシカルボニル) - 6, 7, 8-トリメ トキシナフタレン : I-d の合成 工程 1 (2-(2-クロ口ベンゾィル )-4-(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ド 口キシ- 3- (メ トキシカルボニル) -5, 6, 7-トリメ トキシ- 1 1H)-ナフタレノ ン : V- d の合成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行ない、 化合物 Π-1 (参考例 1) と 化合物 III- d (参考例 6) より目的とするジケトン V-d を得る。 油状物質
' Η-丽: 5 (CDC13) 3. 23 (3H, s) 3. 54 (3H, s) 3. 84 (3H, s) 3. 86 (3 H, s) 3. 90 (3H, s) 3. 92 (3H, s) 5. 31 (1H, s) 6. 76 - 6. 86 (2H, m) 7. 00 (1H, br. s) 7. 30 - 7. 54 (4H, m) 7. 70 一 7. 81 (1H, s).
工程 2 (化合物 : I-d の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V- d より目的 とする化合物 I- d を得る。
融点: 157 - 158 °C (メタノール)
匿: (5 (CDC13) 2. 74 (3H, s) 3. 23 (3H, s) 3. 80 (3H, s) 3. 87 (3 H, s) 3. 91 (3H, s) 4. 06 (3H, s) 6. 77 (3H, s) 7. 21 一 7. 44 (4H, in) 7. 79 (1H, s) 13. 70 (1H, s).
IE : u (CHCl3) 1735, 1713, 1601, 1513, 1487, 1461, 1437. 1412, 1 375, 1306, 1283. 1238, 1133, 1065, 1047, 1028cm- 1.
元素分析: (C3oH27C109)
計算値; C 63. 55%, H 4. 80%, C1 6. 25%
測定値; C 63. 35%, H 4. 84%, C1 16. 13¾
実施例 5
3-ベ—ンゾィル十(3, 4-ジメ トキシフエニル) -4-ヒ ドロキシ- 2 -(メ トキシ カルボニル) -6, 7, 8-ト リメ トキシナフタレン : I-e の合成
工程 1 (2-ベンゾィル -4-(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4 -ヒ ドロキン- 3 -(メ トキシカルボニル) -5, 6, 7-ト リメ トキシ- 1 (4H) -ナフタレノン : V-e の合 成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行ない、 化合物 II- 1 (参考例 1) と化合物 III_e (参考例 7) より目的とするジケトン V'_e を得る。
融点: 152 - 153 V (メタノール) ! H-霞: o (CDC13) 3. 26 (3H, s) 3. 41 (3H, s) 3. 86 (3H, s) 3. 87 (3 H, s) 3. 91 (3H, s) 3. 93 (3H, s) 5. 44 (1H, br. s) 6. 87 - 6. 90 (2H, m) 7. 08 (2H, d, J = 0. 4 Hz) 7. 38 - 7. 63 (4H, m) 7. 83 (2H, d, J = 7. 0 Hz).
工程 2 (化合物 : I-e の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V- e より目的 とする化合物 I-e を得る。
融点: 139 — 140 °C (酢酸ェチル -イソプロピルエーテル)
Ή-N R: ό (CDC13) 2. 71 (3H, s) 3. 24 (3H, s) 3. 83 (3H, s) 3. 89 (3 H, s) 3. 91 (3H, s) 4. 06 (3H, s) 6. 78 - 6. 83 (3H, m) 7. 34 - 7. 68 (5 H, m) 7. 41 (1H, s) 12. 44 (1H, s).
IR: υ (nujol) 1727, 1598, 1573, 1509, I486, 1409, 1213, 1125, 10 49, 1022 cm- 1.
元素分析: (C3 oH2809) '
計算値; C 67. 66%, H 5. 30%
測定値; C 67. 62%, H 5. 39%
実施例 6
1-(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ド口キン -3-C4-メ _上キンべンゾィル) -2- (メ トキシカルボニル) -6, 7, 8-トリメ トキシナフタレン : I-f の合成 工程 1 (4-(3, 4-ジメ トキシフユ二ル)- 4-ヒ ドロキシ- 2-(4 -メ トキシべ ンゾィル) - 3 -(メ トキシカルボニル) - 5, 6, 7-トリメ トキシ -1 (4H)-ナフタレ ノ ン : V - f の合成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行ない、 化合物 II-1 (参考例 1) と化台物 III- ί (参考例 8) より目的とするジケトン V- ί を得る。
融点: 134 — 136 °C (メタノール) 1 H-NMR: o (CDCls) 3. 26 (3H, s) 3. 41 (3H, s) 3. 85 (3H, s) 3. 86 (6 H, s) 3. 91 (3H, s) 3. 93 (3H, s) 5. 44 (1H, s) 6. 78 - 6. 95 (4H, m) 7. 06 (1H, d, J = 1. 8 Hz) 7. 47 (1H, s) 7. 80 (2H, d, J = 8. 8 Hz).
工程 2 (化合物 : I- f の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V-f より目的 とする化合物 I-f を得る。
融点: 151 — 152 °C (塩化メチレン一イソプロピルエーテル)
Ή-NMR: 0 (CDCls) 2. 83 (3H, s) 3. 24 (3H, s) 3. 83 (6H, s) 3. 90 (3
H, s) 3. 91 (3H, s) 4. 05 (3H, s) 6. 80 - 6. 93 (5H, m) 7. 66 (2H, d, J = 6. 9 Hz) 7. 71 (1H, s) 11. 97 (1H, s).
IR: リ(CHC13) 1738, 1713, 1600, 1510, 1461, 1412, 1168, 1055, 10 28 cm' 1.
元素分析: (C3 1 H3 ()01 ())
計算値; C 66. 19%, H 5. 38¾
測定値; C 66. 46%, H 5. 48%
実施例 7
1 -(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ドロキシ -3-(3-メ トキシベンゾィル) -2- (メ トキシカルボニル) -6, 7, 8-ト リメ トキシナフタレン : I-g の合成 工程 1 (4-(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4 -ヒ ドロキン- 2-(3-メ トキシべ ンゾィル) -3- (メ トキシカルボニル)-5, 6, 7 -トリメ トキシ -1 (4H)-ナフタレ ノン : V-g の合成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行ない、 化合物 Π-1 (参考例 1) と化合物 ΠΙ-g (参考例 9) より目的とするジケトン V- g を得る。
融点: 146 — 148 °C (メタノール)
Ή-NMR : 0 (CDC13) 3. 26 (3H, s) 3. 42 (3H, s) 3. 81 (3H. s) 3. 86 (3H. s) 3. 87 (3H, s) 3. 91 (3H, s) 3. 93 (3H, s) 5. 43 (1H, br. s) 6. 77 - 6. 91 (2H( m) 7. 06一 7. 14 (2H, m) 7. 25 - 7. 44 (3H, m) 7. 47 (1H, s). 工程 2 (化合物 : I-g の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V-g より目的 とする化合物 I- g を得る。
融点: 119 一 121 °C (イソプロピルエーテル)
-隱: (5 (CDC13) 2. 77 (3H, s) 3. 24 (3H, s) 3. 83 (6H, s) 3. 89 (3 H, s) 3. 91 (3H, s) 4. 06 (3H, s) 6. 77 - 6. 85 (3H, m) 7. 00 - 7. 07 (1 H, m) 7. 16 - 7. 34 (3H, m) 7. 74 (1H, s) 12. 41 (1H, s).
IR: リ(CHC13) 1738, 1711, 1598, 1581, 1511, 1487, 1460, 1410, 11 30, 1055 cm—
兀素分析: (C3 1 H3 0O1 o )
計算値; C 66. 19% H 5. 38%
測定値; C 66. 14%, H 5. 40¾
実施例 8
卜(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ドロキン- 3- (2-メ トキシベンゾィル) - 2- (メ トキシカルボニル) -6, 7, 8 -トリメ トキシナフタレン : I-h の合^ 工程 1 (4-(3,4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ドロキシ -2-(4-メ トキシべ ンゾィル) -3- (メ トキシカルボニル) - 5, 6, 7-トリメ トキシ- 1 (4H)-ナフタレ ノン : V-h の合成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行ない、 化合物 II-1 (参考例 1 ) と化合物 III- h (参考例 10) より目的とするジケトン V- h を得る。
融点: 168 — 169 。C (メタノール)
^-NMR: 0 (CDC13) 3. 24 (3H, s) 3. 45 (3H, s) 3. 63 (3H, s) 3. 84 (3 H, s) 3. 86 (3H, s) 3. 91 (3H, s) 3. 94 (3H, s) 5. 36 (1H, s) 6. 72 - 6. 84 (2H, m) 6.92 (1H, d, J = 8.0 Hz) 7.01 - 7.14 (2H, m) 7.48 (1H, s) 7.46 - 7.56 (1H, m) 7.9δ (1H, dd, J = 7.8 Hz, 1.8 Hz).
工程 (化合物 : I-h の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V- h より目的 とする化合物 I- h を得る。
融点: 183 — 184 °C (塩化メチレン一イソプロピルエーテル)
'Η-鍾: 5(CDC13) 2.70 (3H, s) 3.23 (3H, s) 3.78 (3H, s) 3.80 (3 H, s) 3.87 (3H, s) 3.91 (3H, s) 4.06 (3H, s) 6.76 (3H, br. s) 6.84 - 7.00 (2H, m) 7.27 - 7.43 (2H, m) 7.78 (1H, s) 13.68 (1H, s),
IR: v (CKlz) 1738, 1714, 1601, 1582, 1514, 1490, 1463, 1412, 11 35, 1058 cm-1.
元素分析: (C3iH3o010)
計算値; C 66.19%, H 5.38¾
測定値; C 66.30%, H 5.44%
実施例 9
1-(3,4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ドロキシ -2- (メ トキシカルボニル) - 3 -(2 -メチルベンゾィル)-6, 7,8-ト リメ トキシナフタレン : I- i の合成 工程 1 (4- (3, 4-ジメ トキシフエ二ル) -4-ヒ ドロキシ -3- (メ トキシカル ボニル) - 2-(2-メチルベンゾィル)-5, 6.7-トリメ トキシ- 1(4H)-ナフタレノ ン : V- i の合成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行ない、 化合物 II- 1 (参考例 1) と化合物 III_i (参考例 11) より目的とするジケトン V-i を得る。
融点: 137 - 140 °C (メタノール)
I-NMR: 0 (CDCls) 2.63 (3H, s) 3.25 (3H, s) 3.47 (3H, s) 3.70 (3 H, s) 3.86 (6H, s) 3.90 (3H, s) 3.91 (3H, s) 5.39 (1H. br. s) 6.77 一 6. 87 (2H, m) 6. 99 - 7. 54 (6H, m).
工程 2 (化合物 : I- i の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V-i より目的 とする化合物 I- i を得る。
融点: 159 - 160 °C (塩化メチレン-イソプロピルエーテル)
' Η -鍾: 0 (CDC13) 2. 40 (3H, s) 2. 65 (3H, s) 3. 23 (3H, s) 3. 81 (3 H, s) 3. 87 (3H, s) 3. 91 (3H, s) 4. 06 (3H, s) 6. 77 (3H, br. s) 7. 08 - 7. 35 (4H, m) 7. 77 (1H, s) 13. 57 (1H, s).
IR : リ(CHC13) 1740, 1712, 1604, 1583, 1514, 1489, 1462, 1411, 11 38, 1056 cm- 1.
元素分析: (C3 1 H3 C09)
計算値; C 68. 12%, H 5. 53%
測定値; C 68. 03%, H 5. 52%.
実施例 10
1 -(3, 4-ジメ トキシフェニル)-4-ヒ ドロキシ -2- (メ トキシカルボニル) -6, 7-メチレンジォキシ -3 - [4- (ト リフルォロメチル)ベンゾィル] ナフタレ ン : I- j の合成
工程 1 (4- (3, 4-ジメ トキシフエニル) - 4-ヒ ドロキシ -3- (メ トキシカル ボニル)-6, 7-メチレンジォキシ - 2- [4-(トリフルォロメチル)ベンゾィル]
-1 (4H)-ナフタレノ ン : V-j の合成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行ない、 化合物 Π-2 (参考例 2) と化合物 III- a (参考例 3) より目的とするジケトン V- j を得る。
1 H-NMR: 0 (CDC13) 3. 43 (3H, s) 3. 86 (3H, s) 3. 90 (3H, s) 5. 35 (1
H, s) 6. 00 (1H, s) 6. 04 (1H, s) 6. 82 ― 6. 99 (3H, m) 7. 03 (1H, s) 7.
41 (1H, s) 7. 75 (2H, d. J = 8. 2 Hz) 8. 00 (2H, d, J = 8. 2 Hz). 【005 "
工程 2 (化合物 : I- j の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V-j より目的 とする化合物 I-j を得る。
融点: 208 - 209 °C (塩化メチレン-メタノール)
'H-NMR: o(CDCl3) 2.76 (3H, s) 3.83 (3H, s) 3.93 (3H, s) 6.11 (2 H, s) 6.72 (1H, d, J = 1.8 Hz) 6.79 (1H, dd, J = 8.2 Hz, 1.8 Hz) 6. 88 (1H, s) 6.92 (1H, d, J = 8.2 Hz) 7.66 (1H, d, J = 8.4 Hz) 7.74 (1H, d, J = 8.4 Hz) 7.84 (1H, s) 12.40 (1H, s).
IE : v (CHCls) 1732, 1713, 1620, 1586, 1515, 1460, 1321, 1240, 11 73, 1135, 細 cm'1.
兀素分析: (C29H21F3O8)
計算値; C 62.82%, H 3.82%, F 10.28¾
測定値; C 62.53%, H 3.93%, F 10.20%
実施例 11
3- (シクロへキサンカルボニル) -1-(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ドロ キシ -2- (メ トキシカルボニル) -6, 7,8-トリメ トキシナフタレン : I-k の合 座
工程 1 (2- (シクロへキサンカルボニル) -4- (3,4-ジメ トキシフヱニル) - 4-ヒ ドロキシ -3- (メ トキシカルボニル)-5,6,7-ト リメ トキシ -1(4H) -ナフ 夕レノ ン : V - k の合成)
実施例 1 の工程 1, 2 と同様に反応を行なったのちシリカゲルクロマ トグラフィー精製及び結晶化を行なって、 化合物 II- 1 (参考例 1) と化 合物 ΠΙ-k (参考例 12) より目的とするジケトン V-k を得る。
融点: 173 ― 174 °C (塩化メチレン -メタノール) 1 H-N R: o (CDC13) 1.04 - 2.08 (10H, ID) 2.63 一 2.82 (1H, ni) 3.22 (3H, s) 3.66 (3H, s) 3.82 (3H, s) 3.84 (3H, s) 3.89 (3H, s) 3.97 (3 H, s) 5.29 (1H, s) 6.77 (2H, br. s) 6.93 (1H, s) 7.49 (1H, s).
工程 2 (化合物 : I- k の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V-k より目的 とする化合物 Ι-k を得る。
融点 : 150 - 151 °C (塩化メチレン-メタノール)
】H-画: 0 (CDCls) 1.15 一 1.90 (風 m) 2.70 - 2.90 (1H, m) 3.24 (3H, s) 3.44 (3H, s) 3.86 (3H, s) 3.89 (3H, s) 3.93 (3H, s) 4.03 (3 H, s) 6.81 - 6.87 (3H, m) 7.71 (1H, s) 13.99 (1H, s).
IR: υ (Nujol) 1714, 1606, 1580, 1516, 1489, 1410, 1240, 1197, 11 42, 1107, 1063, 1027, 1004 cm'1.
元素分析: (C30H34O9)
計算値; C 66.90%, H 6.36%
測定値; C 66.82%, H 6.38¾
実施例 12
1-(3,4-ジメ トキシフヱニル) -3- (2-ェチル -1-ォキソブチル)-4 -ヒ ド _ロ キシ -2- (メ トキシカルボニル)-6, 7, 8- >リメ トキシナフタレン : 1-1 の合 工程 1 (4- (3, 4-ジメ トキシフエ二ル) -2- (2-ェチル -1-ォキソブチル )-4 -ヒ ドロキシ -3- (メ トキシカルボ二ル)- 5, 6, 7-トリメ トキシ- 1(4H)-ナフタ レノン : V- 1 の合成)
実施例 11 の工程 1 と同様に反応を行ない、 化合物 II- 1 (参考例 1) と化合物 ΙΠ-1 (参考例 13) より目的とするジケトン V- 1 を得る。
融点 : 115 - 116 °C (塩化メチレン一メ タノール) !H-N R: o (CDCls) 0.91 (3H, t, J = 7.4 Hz) 0.93 (3H, t, J = 7.4 Hz) 1.40 ― 1.82 (4H, m) 2.85 一 2.99 (1H. m) 3.22 (3H, s) 3.68 (3H, s) 3.82 (3H, s) 3.85 (3H, s) 3.90 (3H, s) 3.97 (3H, s) δ.29 (1H, br. s) 6.70 - 6.82 (2H, m) 6.91 (1H, d, J = 1.6 Hz) 7.50 (1H, s). 工程 2 (化合物 : 1-1 の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V-1 より目的 とする化合物 1-1 を得る。
融点 : 113 - 115 °C (ァセトン— n-へキサン)
•fi-NMR: 0 (CDCls) 0.82 (3H, t, J = 8 Hz) 0.83 (3H, t, J = 8 Hz) 1.42 一 1.60 (2H, m) 1.6 一 1.81 (2H, m) 2.78 - 2.90 (1H, m) 3.24 (3H, s) 3. 2 (3H, s) 3.86 (3H, s) 3.89 (3H, s) 3.93 (3H, s) 4.03 (3 H, s) 6.81 一 6.87 (3H, m) 7.72 (1H, s) 14.18 (1H, s)
IR : リ(CHC13) 1730, 1606, 1575, 1523, 1490, 1463, 1412, 1137, 10 62, 1029 cm"1
兀素: 7J析: (C29H34O9)
計算値; C 66.14%, H 6.51%
測定値; C 66.11%, H 6.60¾
実施例 13
1-(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -3-(3 -ェチル-; ί-ォキソペンチル) - 4-ヒ ド ロキシ -2- (メ 卜キシカルボニル) -6, 7, 8-トリメ トキシナフタレン : I-m の— 合成
工程 1 (4 -(3, 4-ジメ トキシフヱ二ル)- 2-(3-ェチル - 1-ォキソペンチル) -4-ヒ ドロキシ -3- (メ トキシカルボニル) - 5, 6, 7-トリメ トキシ- 1(4H)-ナフ 夕レノ ン : V-m の台成)
実施例 11 の工程 1 と同様に反応を行ない、 化合物 11-1 (参考例 1) と化合物 III- m (参考例 14) より目的とするジケトン V- m を得る。
融点 : 141 - 142 。C (塩化メチレン一メタノール)
】H -瞧: 5(CDC13) 0.86 (3H, t, J = 7.4 Hz) 0.88 (3H, t, J = 7.4 Hz) 1.28 - 1.44 (4H, m) 1.82 - 1.99 (1H, in) 2.62 - 2.83 (2H, m) 3. 22 (3H, s) 3.67 (3H, s) 3.83 (3H, s) 3.84 (3H, s) 3.89 (3H, s) 3.9 6 (3H, s) 5.29 (1H, s) 6.68 - 6.80 (2H, m) 6.96 (1H, d, J = 1.8 Hz) 7.49 (1H, s).
工程 2 (化合物 : I- m の合成)
実施例 1 の工程 3 と同様に反応を行ない、 前記化合物 V- m より目的 とする化合物 を得る。
融点 : 128.5 - 129.5 °C (塩化メチレン一メタノール)
1 H-NMR: 0 (CDCls) 0.83 (6H, t, J = 7 Hz) 1.20 - 1.42 (4H, m) 1.9
6 - 2.12 (1H, DI) 2.73 (2H, d, J = 6Hz) 3.25 (3H, s) 3.44 (3H, s) 3.
86 (3H, s) 3.89 (3H, s) 3.93 (3H, s) 4.04 (3H, s) 6.78 - 6.90 (3H, m) 7.73 (1H, s) 14.38 (1H, s)
I : リ(CHC13) 2968, 1729, 1606, 1576, 1514, 1489, 1464, 1412, 11 39, 1064, 1028 cm-1
兀素;J†斤: (C30H36O9)
計算値; C 66.65%, H 6.71%
測定値; C 66.62%, H 6.71%
実施例 14
実施例 1 にて製造される化合物 I-a を化合物 IV- a より直接得る合成 工程 1 (1- (3, 4-ジメ トキシフヱ二ル)- 1,4-ジヒ ドロ- 2- (メ トキシカル ボニル) - 3- [4- (トリフルォロメチル)ベンゾィル] -6, 7, 8-ト リメ トキシ- 4- (トリメチルシリルォキシ)- 1, 4-エポキシナフタレン : IV- a の合成) 実施例 1 の工程 1 と同様に反応を行ない、 化合物 Π- 1 (参考例 1) 9.
00 g (25. 0 mmol) と化合物 III- a (参考例 3) 7. 04 g (27. 5 闘 ol) より 目的とする化合物 IV-a の粗生成物を得る。 このものは精製ずることなく 次の反応に用いる。
工程 2 (化合物 : I- a の合成)
窒素気流下、 前記化合物 IV-a の粗生成物のジォキサン 100 ml 溶液に、 三塩化チタン塩酸溶液 30. 8 ml とメタノール 30 ml を加え、 50 °C で 3 時間攪拌する。 減圧下ジォキサンを留去した残渣に、 酢酸ェチルと水を
3 9
加え、 抽出する。 抽出液を、 1 N 塩酸、 水、 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫 酸マグネシウムで乾燥する。 減圧濃縮した残渣を 99% エタノールより結 晶化を行ない目的とする化合物 I-a を 9. 25 g (61. 5%) 得る。
ここで得た化合物の物性は、 実施例 1 で得た化合物の物性と完全に一 致した。
実施例 15
1-(3, 4-ジメ トキシフ 二ル)一 4-ヒ ドロキシ -2 -(メ トキシ力ルポニル) -3 一(3-メチルベンゾィル)-6, 7, 8-トリメ トキシナフタレン : I一 nの合成 工程 1 (4 -(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ドロキシ- 3- (メ トキシカル ボニル)-2-(3-メチルベンゾィル)-5, 6, 7-トリメ トキシー 1(4H)-ナフタレ ノ ン : V— nの合成)
実施例 1の工程 1, 2と同様に反応を行い、 化合物 II一 1 (参考例 1 ) と化合物 III一 π (参考例 1 5 ) より目的とするジケトン V— nを得る。
融点: 1 4 3〜1 4 4 °C (メ夕ノール)
】H-腿: δ (CDC13)2. 37(3H, s), 3. 26(3H, s), 3. 42 (3H, s). 3. 86(311, s), 3. 8 7(3H, s), 3. 9K3H, s), 3. 93(3H, s), 5. 45(1H, br. s), 6. 77 一 6. 90(2H, m), 7. 08 (1H, d, J=2. 0Hz), 7. 27 - 7. 40(2H, m), 7. 46(1H, s), 7. 57 - 7. 69(2H, πι) 工程 2 (化合物 I一 nの合成)
実施例 1の工程 3と同様に反応を行い、 前記化合物 V— nより目的とす る化合物 I一 πを得る。
融点: 1 2 5〜1 2 6 °C (塩化メチレン一イソプロピルエーテル)
-隱: 0 (CDC13)2. 36(3H, s), 2. 72(3H, s), 3. 23(3H, s), 3. 83(3H, s), 3. 8 9(3H, s), 3. 9K3H, s), 4. 06(3H, s), 6. 77 - 6. 84(3H, m), 7. 25 - 7. 47(4H, m), 7. 74(1H, s), 12. 47(lH, s)
IR: υ (CHC13)1739, 1713, 1601, 1583, 1514, 1488, 1462, 1411, 1130, 1057, 1 027cm- 1
元素分析: (C3 1 H3 D09)
計算値; C: 68. 12%, Η: δ. 53¾
測定値; C: 67. 93%, H : 5. 52¾
実施例 16
1-(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ドロキシ- 2- (メ トキシカルボニル) -3 一(4-メチルベンゾィル)-6, 7, 8-トリメ トキシナフタレン : I— 0の合成 工程 1 (4 -(3, 4-ジメ トキシフユニル) -4-ヒ ドロキシ -3- (メ トキシカル ボニル)-2 -(4 -メチルベンゾィル)-5, 6, 7-ト リメ トキシ- 1 (4H)-ナフタレノ ン : V— 0の合成)
実施例 1の工程 1 , 2と同様に反応を行い、 化合物 II一 1 (参考例 1 ) と化合物 III一 0 (参考例 1 6 ) より目的とするジケトン V— 0を得る。 融点: 1 0 7 ~ 1 1 0 °C (メタノール)
' Η -靈: 0 (CDC13)2. 40(3H, s), 3, 27(3H, s), 3. 42(3H, s), 3. 87(6H, s). 3. 9 2(3H, s), 3. 94 (3H, s), 5. 4δ(1Η, br. s), 6. 78一 6. 92(2H, m), 7. 07(1H, d, J=l. 6 Hz), 7. 2 (2H, d, J=8. 0Hz), 7. 48(1H, s), 7. 73(2H, d, J=8. 0Hz) 工程 2 (化合物 I— oの合成)
実施例 1の工程 3と同様に反応を行い、 前記化合物 V— 0より目的とす る化合物 I一 0を得る。
融点: 165〜167。C (塩化メチレン一メタノール)
'H-NMR: δ (CDC13)2.37(3H, s), 2, 76C3H, s), 3.2 (3H, s), 3.83(3H, s), 3.8 9(3H, s), 3.9K3H, s), 4.06(3H, s), 6.78 - 6.86(3H, m), 7.20(2H, d, J=8. OHz), 7.55C2H, d, J=8. OHz), 7.73(1H, s), 12.26(1H, s)
IR: υ (CHC13)1739, 1713, 1605, 1585, 1514, 1489, 1464, 1411, 1131, 1056cm 元素分析: (C31H3o09)
計算値; C:68.12%, H: 5.53%
測定値; C:68.31% H: 5.61%
実施例 17
3-(3.4-ジクロロベンゾィル) -; L-(3, 4-ジメ トキシフヱニル) -4-ヒ ドロキ シ -2- (メ トキシカルボニル)-6, 7, 8-卜リメ トキシナフタレン : I一 pの合 座
工程 1 (2-(3.4-ジクロロべンゾィル)-4-(3,4-ジメ トキシフユ二ル) -4 -ヒ ドロキシ -3- (メ トキシカルボニル) -5, 6, 7-ト リメ トキシ- 1(4H)-ナフタ レノン : V— pの合成)
実施例 1の工程 1, 2と同様に反応を行い、 化合物 II一 1 (参考例 1.) と化合物 III一 p (参考例 1 7) より目的とするジケトン V— pを得る。
融点: 160〜161 °C (メタノール)
Ή-N R: 6 (CDC13)3.2δ(3Η, s), 3. δΟ(3Η, s), 3.86 (3Η, s), 3.87(3H, s), 3.9 2(3H, s).3.94(3H, s), 5.38(1H, br. s), 6.81 (2H, s), 7.07(1H, s), 7.44(1H, s), 7.52 (1H, d, J=8.2Hz), 7.63(1H, dd, J=8.2Hz, 2. OHz), 7.90(1H, d, 1=2. OHz) 工程 2 (化合物 I一 pの合成)
実施例 1の工程 3と同様に反応を行い、 前記化合物 V— P り目的とす る化合物 I— pを得る。
融点: 139〜141°C (メタノール)
Ή-NMR: 0 (CDC13)2.82(3H, s), 3.27(3H, s), 3.84C3H, s), 3.90(3H, s), 3.9 2(3H, s), 4.06C3H, s), 6.74 - 6.86C3H, m), 7.48(2H, s), 7.73(2H, s)
IR: υ (CHC13)1735, 1710, 1603, 1583, 1513, 1487, 1461, 1434, 1412, 1372, 1 306, 1283, 1237, 1131,1056, 1029cm-1
元素分析: (C30H26C1209)
計算値; C:59.91%,H:4.36%, CI :11.79%
測定値; C:59.88%, H: 4.43%, CI :11.66%
上記実施例によって得られた化合物を以下の表にまとめる。
(実施例 1 ) a;
(実施例 2 ) b; (実施例 3) c;
(実施例 4) d;
Figure imgf000045_0001
(実施例 5) e:Rl=~ (実施例 12) I; R = - CHEt2 (実施例 6)
Figure imgf000045_0002
(実施例 16) o; R1 = -~ ^ 》一 Me
(実施例 17) p; R1
Figure imgf000045_0003
表 2
Figure imgf000046_0001
(実施例 1 0) l-j 発明の効果
本発明方法により、 リグナン類縁体を効率よく合成できる。 特にァリー ルケトン鎖を有するリグナン類縁体を合成する場合には、 位置選択性良く 反応が進み、 工業的製法としても有用である。
次に、 各試験例を示す。 実施例 1及び実施例 2により得られた化合物に ついて試験した。
試験例 1
LDLの酸化変性に対する抑制作用
(試験および評価方法)
プロシ一ディングス ォブ ザ ナショナル アカデミー ォブ サイェンシ ズ ュ一エスエイ (Proc. Natl. Acad, S ci, U S A)の第 84卷、 59 28頁(1987年)に記載の北らの方法に従って、 以下のように行った。 まず、 0.5%コレステロール含有飼料を 3週間摂取させたニュージー ランドホワイ トゥサギの血液より LDLを分離し、 リン酸緩衝化生理食塩 水溶液(最終 LDL濃度 0.2mg蛋白質 ml)を調製した。 これに、 各被験 化合物のエタノール溶液を加えた後、 更に硫酸銅 (最終 Cu 濃度 0.5 u M)を加えて 37 °Cで 24時間インキュベートした。
ィンキュベーション後の各溶液について、 過酸化脂質含量をチォバルビ ツール酸反応物質(T B A反応物質)として測定し、 化合物濃度と L D L酸 化変性抑制率の回帰直線から 50%抑制濃度( I C 5Q)を求めた。 尚、 TB A反応物質の定量は、 インキュべ一ション後の溶液からタンパク質を除い た上澄み液中の T B A反応物質を、 T B A法により測定した。
結果を以下の表 3に示す。
本発明の方法によって得られる化合物の I C5oは 10 M以下であり、 従って LDLに対して強い抗酸化作用を有していると言える。
試験例 2
コレステロール低下作用
(試験および評価方法)
I CR系雄性マウス(体重 30〜40g)に、 被験化合物を 0. 12%添加 (対照群は無添加)した 1 %コレステロール及び 0.5%コール酸ナトリゥ ム含有飼料を 7日間自由摂取させた後、 採血し、 血清の総コレステロール 量をクリニカル ケミス トリー(Clin. Chem. )の第 20巻、 第 470頁(19 74年)に記載のァライン(Allain)の方法により測定した。
また、 VLDLコレステロールおよび LDLコレステロールの総量は、 総コレステロール量から、 HDLコレステロール量を差し引いて算出した c HD Lコレステロール量は、 ク リニカル ケミス ト リー(Clin. Chem. )の第 24巻、 第 21 80頁(1 978年)に記載のァッシュ(Ash)とヘンツシ ル(Hentschel)らの方法に従って測定した。
被験化合物のコレステロール低下作用は、 次式により求めたコレステロ ール低下率により評価した。 総コレステロール低下率
(被験化合物投与群の総コレステロール量) ,
1 X 100
(対照群の総コレステロール量)
(VLDL + LDL) コレステロール低下率
(被験化合物投与群の(VLDL+LDL)コレステロ一ル量)
X 100 (対照群の(VLDL+LDL)コ レステロール量)
結果を以下の表 3に示す。
表 3
実施例 L D L酸化抑制 総コレステロール (VLDL+LDL)コレステロ 番号 I C5()( C M) —低下率(%) —ル低下率(%)
1 1. 52 22 61
2 1. 42 28 7J
いずれの化合物も、 (VLDL + LDL)コレステロールの優れた低下作 用を有しかつ HDLコレステロールの減少を示さなかったことから、 本発 明により得られる化合物は強力な選択的コレステロール低下作用を有する

Claims

• 式 (π):
Figure imgf000049_0001
(ID の
[式中、 R2 及び R3 は個別に低級アルコキシ基である力、、 又は R2 及び 囲
R3 は一緒になってアルキレンジォキシ基を形成するものであり、
R は低級アルコキシ基又は水素であり、
R5 及び R6 は個別に低級アルキル基である]
で示されるラク トン化合物を塩基の存在下に式:
R7C 1
[式中、 R 7 はトリ低級アルキルシリル基である]
で示される化合物と反応させ、 次に得られた化合物に式(ΠΙ):
Figure imgf000049_0002
(III)
[式中、 R1 はアルキル基、 シクロアルキル基、 シクロアルキル低級アル キル基、 ァラルキル基.、 又は置換基を有してもよいァリール基である] で示されるアセチレン化合物を付加させて式(IV):
Figure imgf000050_0001
(IV)
[式中、 R R2、 R3、 R4、 R5、 R6及び R7は前記と同意義である] で示される化合物を得、 これを還元して式(I) :
Figure imgf000050_0002
(I)
[式中、 R]、 R2、 R3、 R4、 R5 及び R6は前記と同意義である] で示される化合物を製造する方法。
2. 式(IV)で示される化合物中のトリ低級アルキルンリルォキシ基: 0 R7 を脱保護し、 次いで得られた化合物を還元して式( I )で示される化合 物を製造することを特徴とする請求項 1に記載の方法。
3. 該還元を酸の存在下、 金属又は金属塩を用いて行うことを特徴とす る請求項 1又は請求項 2に記載の方法。
4. R1 が( d— C6アルキル、 (2)C5—じ7シクロアルキル、 (3)C5 一 C7シクロアルキル 一 C6アルキル、 又は(4)ハロゲン、 トリハロメチ ル、 低級アルコキシもしくは低級アルキルによって一置換又は二置換され ていてもよいフ ニル基である請求項 1又は請求項 2に記載の方法。
5. R1 力くノヽロゲン、 トリハロメチル、 低級アルコキシもしくは低級ァ ルキルによって一置換されているフヱニル基である請求項 4に記載の方法 c
6. R2、 R3 及び R4 がメ トキシ基である請求項 1から請求項 5まで のいずれかに記載の方法。
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