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TW201840490A - 形成成型玻璃物件之方法以及系統 - Google Patents

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TW201840490A
TW201840490A TW107113011A TW107113011A TW201840490A TW 201840490 A TW201840490 A TW 201840490A TW 107113011 A TW107113011 A TW 107113011A TW 107113011 A TW107113011 A TW 107113011A TW 201840490 A TW201840490 A TW 201840490A
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伊莫爾曼雅各
吉勒湯瑪斯Ａ
索特澤約翰羅伯特二世
烏蘭札克杰卡
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美商康寧公司
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Abstract

一種形成成型玻璃物件之方法，該方法包括以下步驟：將玻璃片置放在模具上以使得該玻璃片之第一玻璃區域對應於該模具之第一模具表面區域且該玻璃片之第二玻璃區域對應於該模具之第二模具表面區域。第一玻璃區域及第二玻璃區域經加熱以使得第二玻璃區域之黏度比第一玻璃區域之黏度低8泊或更多。施加力至玻璃片以使玻璃片貼合(conform)模具表面。在加熱第二玻璃區域期間，第一模具表面區域經局部冷卻以在模具上引起熱梯度。

Description

形成成型玻璃物件之方法以及系統
本揭示案係關於用作電子裝置之蓋玻璃之成型玻璃物件的生產。
工業設計促進對用於攜帶型電子裝置(諸如智慧手機及平板電腦)的成型蓋玻璃的需求。感興趣之典型成型蓋玻璃具有用於覆蓋電子裝置之前側的大平坦區段及用於包裹在電子裝置之一或多個邊緣周圍的一或多個彎曲區段的組合。該等彎曲區段包括彎曲部及邊角，該等彎曲區段在彎曲部及邊角處與平坦區段相交。平坦電子裝置將需要小彎曲半徑(例如，小於20 mm)以允許彎曲區段包裹在裝置之邊緣周圍並同時維持裝置之平坦外觀。
具有小半徑彎曲部及邊角的成型玻璃物件使用玻璃加工難以製造且昂貴。玻璃加工涉及大的材料移除量，如此大大增加成本。憑藉拋光總體移除加工痕跡是困難的甚至不可能的。達成彎曲區段上之均勻拋光而不在玻璃物件中引起光畸變亦為十分困難的。
使用模具熱重組可避免玻璃加工固有的一些挑戰。然而，尤其當玻璃具有高軟化點且需要相對高的溫度來形成彎曲部及邊角時，對於使用此方法精密形成小半徑彎曲部及邊角而言亦存在挑戰。在高形成溫度下，玻璃與模具之間的相互作用成為關注。
當使用熱重組及模具形成成型玻璃物件時，玻璃片之平坦區域及彎曲區域一般經加熱，且力一般施加至平坦區域及彎曲區域兩者以便使玻璃片之平坦區域及彎曲區域貼合(conform)模具之平坦區域及彎曲區域。為形成具有小半徑(例如，小於20 mm)之彎曲部而不在玻璃片中引起高應力，當將力施加至玻璃片時，玻璃黏度需要處於109.9 泊或109.9 泊之下。
一般地，直至快結束施加力之前，玻璃片才會完全接觸模具中的彎曲部及邊角。若模具為母模，則玻璃片之平坦區域將在加熱之早期階段期間自由下垂至模腔中且接觸模具之平坦區域。因此，相比玻璃片之彎曲部區域，玻璃片之平坦區域與模具相互作用的時間將長得多。就公模而言，玻璃片之平坦區域將在整個加熱週期期間接觸模具之平坦區域。
若在玻璃片之平坦區域與模具之平坦區域之間的長時間接觸期間，玻璃片之平坦區域處於109.9 泊之下或模具之平坦區域處於與模具之彎曲部區域相同之溫度下，則玻璃表面可由於與模具相互作用而在平坦區域中具有不良凹痕和沾染。若玻璃在相對高的溫度下與模具接觸相對長的週期，則亦將縮短模具壽命。
根據本揭示案，理想的是在彎曲部形成製程期間將模具之平坦區域的溫度保持為低於模具之彎曲部區域。亦理想的是在彎曲部區域中局部加熱玻璃片及模具，以使得彎曲部及邊角可精確地形成於玻璃片中。進一步理想的是保持玻璃片及模具在平坦區域相對低溫同時保持玻璃片及模具在彎曲部區域高溫，以使得可避免玻璃表面之平坦區域中的不良凹痕及沾染。
在一個態樣中，一種形成成型玻璃物件之方法包含將玻璃片置放在具有模具表面之模具上，該模具表面具有所選成型玻璃物件輪廓(profile)。該置放使得玻璃片之第一玻璃區域對應於模具表面之第一模具表面區域且玻璃片之第二玻璃區域對應於模具表面之第二模具表面區域。第一玻璃區域及第二玻璃區域經加熱至介於1010.1 泊與109 泊之間的玻璃黏度。隨後，第二玻璃區域經局部加熱至109.9 泊或109.9 泊之下之玻璃黏度，以使得第二玻璃區域中之玻璃黏度比第一玻璃區域中之黏度低8泊或更多。當第二玻璃區域處於109.9 泊或109.9 泊之下之玻璃黏度時，施加力至玻璃片以使玻璃片貼合模具表面。在第二玻璃區域之局部加熱期間，第一模具表面區域經局部冷卻以在模具表面上引起熱梯度，該熱梯度導致第一玻璃區域中之玻璃黏度維持在109.9 泊之上。
在一個實施例中，第一模具表面區域之局部冷卻使得第一玻璃區域中之玻璃黏度在第二玻璃區域之局部加熱之至少一部分期間維持在1010.9 泊或之上。
在一個實施例中，第一模具表面區域之局部冷卻導致在局部冷卻期間橫跨第一模具表面區域之小於20℃的最大熱梯度。
在一個實施例中，第一模具表面區域之局部冷卻使得第一模具表面區域之溫度低於對應於1011.3 泊之玻璃黏度的溫度。
在一個實施例中，當力經施加至玻璃片時，第二模具表面區域之溫度高於對應於1011.7 泊之玻璃黏度的溫度。
在一個實施例中，第一模具表面區域為大體上平坦的，且第二模具表面區域包含具有小於20 mm之半徑的彎曲部。
在一個實施例中，力藉由經由位於彎曲部中之至少一個真空開口在第二玻璃區域處產生真空而施加至玻璃片。
在一個實施例中，產生真空包括：產生具有第一真空壓力之真空、持續第一時間段，接著產生具有第二真空壓力之真空、持續第二時間段，其中第二真空壓力相較於第一真空壓力降低。
在一個實施例中，該方法進一步包括：將貼合玻璃片冷卻至1013 泊之上之玻璃黏度。
在另一態樣中，一種用於形成成型玻璃物件之系統包含具有第一模具表面區域及第二模具表面區域之模具。第一模具表面區域包括大體平坦區域，且第二模具表面區域包括至少一個彎曲部及至少一個開口。該系統進一步包括冷卻裝置，該冷卻裝置耦接至模具且經配置用於主動冷卻第一模具表面區域。該系統亦包括真空充氣室，該真空充氣室耦接至模具且經由至少一個開口與第二模具表面區域連通。該系統包括加熱器總成，該加熱器總成相對於第二模具表面區域設置以提供局部熱量至第二模具表面區域。
在一個實施例中，系統進一步包括爐，其中模具、冷卻裝置、真空充氣室及加熱器總成設置於該爐中。
在一個實施例中，至少一個開口位於至少一個彎曲部中。
在一個實施例中，至少一個彎曲部具有小於20 mm之半徑。
在一個實施例中，加熱器總成包括至少一個輻射加熱器，該輻射加熱器具有1000℃至1450℃之範圍中的加熱器溫度。
在一個實施例中，加熱器總成包括至少一個輻射加熱器，該輻射加熱器具有2.0 μm至2.7 μm之範圍中的峰值波長。
在一個實施例中，加熱器總成包括環形設置的加熱器。
在一個實施例中，加熱器總成包括平行設置的加熱器。
在一個實施例中，加熱器總成包括至少一個輻射加熱器及反射器，該反射器經設置以將來自該至少一個輻射加熱器之熱量聚集至第二模具表面區域。
在另一態樣中，藉由上述方法形成適合於電子裝置蓋玻璃之具有光學品質表面區域的成型玻璃物件。
在另一態樣中，成型玻璃物件包含玻璃主體，該玻璃主體具有三維形狀，其中玻璃主體之至少一個表面在15 mm x 25 mm的量測區域內具有小於30 nm之波高及小於1 nm之平均粗糙度。
在一個實施例中，玻璃主體具有在25 mm x 25 mm之量測區域內平坦度達100 μm以內的平坦區域。
在一個實施例中，玻璃主體具有至少一個彎曲部區域，該彎曲部區域具有小於10 mm之彎曲半徑。
在一個實施例中，玻璃主體具有在400 nm至800 nm之波長範圍下大於85%之光透射。
在一個實施例中，玻璃主體具有大於300 MPa之壓縮強度。
在一個實施例中，玻璃主體具有以莫氏硬度(Mohs scale)計大於7之硬度。
在一個實施例中，玻璃主體由鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃製成。
在一個實施例中，玻璃主體適用於覆蓋具有平坦顯示器之電子裝置。
應理解，以上一般描述與以下詳細描述兩者僅為示例性的，且意欲提供用於理解實施例之本質與特徵的概覽或框架。包括隨附圖式以提供進一步理解，且隨附圖式倂入本說明書中並構成本說明書之一部分。圖式圖示各種實施例且與描述一起用以解釋本文所描述之原理。
在以下詳細描述中，可闡述眾多具體細節以便提供對實施例之透徹理解。然而，熟悉此項技術者將明確何時可在無需一些或所有該等具體細節之情況下實踐實施例。在其他實例中，可不詳細描述熟知特徵或製程以免不必要地模糊描述。另外，類似或相同元件符號可用以識別共有或類似元件。
第1圖圖示成型玻璃物件10，該成型玻璃物件10具有玻璃物件平坦區段12及玻璃物件彎曲區段14。當用以描述玻璃物件或模具之形狀時，術語「平坦」將涵蓋完全平坦(亦即，具有無窮大之曲率半徑)及大體平坦(亦即，具有大於300 mm之曲率半徑)兩者。玻璃物件彎曲區段14在玻璃物件平坦區段12之周邊13周圍延行且與玻璃物件平坦區段12相連。玻璃物件彎曲區段14包括彎曲部16及邊角17，該玻璃物件彎曲區段14在彎曲部16及邊角17處與玻璃物件平坦區段12相交，從而為玻璃物件10提供碟形形狀。在特定實施例中，成型玻璃物件10之壁厚度為均勻的。典型地，壁厚度將為1.5 mm或更小。具有適當尺寸之成型玻璃物件10可用作攜帶型電子裝置之蓋玻璃，其中玻璃物件平坦區段12將覆蓋電子裝置之平坦側且玻璃物件彎曲區段14將包裹在電子裝置之邊緣及邊角周圍。
每一彎曲部16具有彎曲角α1及彎曲半徑r1。如第2圖中所示，彎曲角α1為相對於玻璃物件平坦區段12之平面量測之彎曲部16的外部角，且彎曲半徑r1為在彎曲部16內部量測之局部曲率半徑。彎曲半徑r1沿彎曲部16可為或可不為恆定的，因此對於「曲率半徑」使用術語「局部」。在一些實施例中，彎曲角α1在大於0°至90°之範圍內。若α1接近0°，則玻璃物件彎曲區段14將幾乎平行於玻璃物件平坦區段12。若α1接近90°，則玻璃物件彎曲區段14將幾乎垂直於玻璃物件平坦區段12。在一些特定實施例中，彎曲角α1在30°至90°之範圍內。彎曲半徑r1一般將為小的，以允許成型玻璃物件在電子裝置之邊緣及邊角或待覆蓋之其他物體周圍適貼配合。在一個實施例中，彎曲半徑r1小於20 mm。在另一實施例中，彎曲半徑r1小於15 mm。在又一實施例中，彎曲半徑r1小於10 mm。
第3圖圖示成型玻璃物件10a，該成型玻璃物件10a具有玻璃物件平坦區段12a及玻璃物件彎曲區段14a、14b。術語「平坦」如上文解釋。玻璃物件彎曲區段14a、14b沿玻璃物件平坦區段12a之相對邊緣13a、13b延行且與該等邊緣相連。玻璃物件彎曲區段14a、14b包括彎曲部16a、16b，該等玻璃物件彎曲區段14a、14b在彎曲部16a、16b處與玻璃物件平坦區段12a相交，從而為玻璃物件10a提供雪橇形狀。典型地，玻璃物件平坦區段12a及玻璃物件彎曲區段14a、14b將具有相同壁厚度，以使得成型玻璃物件10a之厚度為均勻的。典型地，該壁厚度將為1.5 mm或更小。具有適當尺寸之成型玻璃物件10a可用作攜帶型電子裝置之蓋玻璃，其中玻璃物件平坦區段12a將覆蓋電子裝置之平坦側且玻璃物件彎曲區段14a、14b將包裹在電子裝置之相對邊緣周圍。
彎曲部16a、16b分別具有彎曲角α1a、α1b及彎曲半徑r1a、r1b。如第4圖中所示，彎曲角α1a為相對於玻璃物件平坦區段12a之平面量測之彎曲部16a的外部角，且彎曲半徑r1a為在彎曲部16a內部量測之局部曲率半徑。類似地，彎曲角α1b為相對於玻璃物件平坦區段12a之平面量測之彎曲部16b的外部角，且彎曲半徑r1b為在彎曲部16b內部量測之局部曲率半徑。彎曲角α1a、α1b可為相同的或不同的。類似地，彎曲半徑r1a、r1b可為相同的或不同的。在一些實施例中，彎曲角α1a、α1b中之每一者在大於0°至90°之範圍內。在一些特定實施例中，彎曲角α1a、α1b中之每一者在30°至90°之範圍內。彎曲半徑r1a、r1b一般將為小的，以允許成型玻璃物件在電子裝置之邊緣及邊角或待覆蓋之其他物體周圍適貼配合。在一個實施例中，彎曲半徑r1a、r1b中之每一者小於20 mm。在另一實施例中，彎曲半徑r1a、r1b中之每一者小於15 mm。在又一實施例中，彎曲半徑r1a、r1b中之每一者小於10 mm。
適合於電子裝置蓋玻璃之具有光學表面區域之成型玻璃物件(例如，第1圖中之成型玻璃物件10或第3圖中之成型玻璃物件10a)可使用熱重組及具有模具表面(該模具表面具有必需形狀輪廓)之模具由平坦玻璃片形成。玻璃片可由任何適合玻璃組成物製成。在特定實施例中，玻璃片為典型地含有相對小的鹼金屬或鹼土金屬離子之可離子交換玻璃，該等鹼金屬或鹼土金屬離子可與相對大的鹼金屬或鹼土金屬離子交換。可離子交換玻璃之實例可在專利文獻中找到，例如美國專利第7,666,511號(Ellison等人；2010年2月23日)、美國專利第4,483,700號(Forker, Jr.等人；1984年11月20日)及美國專利第5,674,790號(Araujo；1997年10月7日)，所有專利文獻全部以引用方式倂入，且該等實例亦可以商標名GORILLA® 玻璃自Corning公司獲得。典型地，該等可離子交換玻璃為鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃或鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃。可離子交換玻璃將允許在形成製程後藉由離子交換化學強化成型玻璃物件。
第5圖圖示用於形成成型玻璃物件10 (第1圖中)之模具20。模具20具有模具主體22，該模具主體22具有上表面24。在上表面24下方延伸之模具表面30在模具主體22內界定模腔26。上表面24上之對準銷28用於將玻璃片精確定位在模具20上或模腔26上方。模具表面30具有用於形成玻璃物件平坦區段12 (第1圖中)之模具表面平坦區域32及用於形成玻璃物件彎曲區段14 (第1圖中)之模具表面彎曲區域34。模具表面彎曲區域34在模具表面平坦區域32之周邊33周圍延行且包括彎曲部36及邊角37，模具表面彎曲區域34在彎曲部36及邊角37處與模具表面平坦區域32相交。彎曲部36及邊角37之特徵將藉由成型玻璃物件10或待由模具20形成之任何其他物件指定。
第6圖圖示位於模具表面彎曲區域34下方之真空充氣室38。真空充氣室38可形成於模具主體22中或可提供於獨立主體中，該獨立主體經螺栓連接或以其他方式附接至模具主體22之底部。在一個實施例中，真空開口40形成於模具表面彎曲區域34中且自模具表面彎曲區域34延伸穿過模具主體22到達真空充氣室38。真空開口40可直線向下延伸或可以一角度延伸至真空充氣室38。舉例而言，真空開口40可以大體上與模具表面彎曲區域34垂直之方向延伸至真空充氣室38。
在特定實施例中，如第5圖中所示，真空開口40位於彎曲部36及邊角37中且可十分靠近模具表面平坦區域32之周邊33，例如在模具表面平坦區域32之周邊33之5 mm內。真空開口40可為狹槽或孔洞或狹槽與孔洞之組合。狹槽具有以下優點：允許模具表面彎曲區域34之較寬區域上之連續及高真空流。典型地，真空開口40將具有小的寬度或直徑，例如近似1 mm。然而，真空開口40之數目、大小及設置不限於第5圖中所示或上文所論述且可經最佳化以達成橫跨模具表面彎曲區域34之所要真空分佈。
返回第6圖，真空泵可(例如)經由埠42連接至真空充氣室38且經操作以在模具表面彎曲區域34或更特定而言在模具表面彎曲區域34之彎曲部區域處產生真空壓力，真空開口40位於該彎曲部區域處。所得真空力可用以抵靠模具表面彎曲區域34拉動模具20上或下垂至模腔26中之玻璃片，以便使玻璃片貼合模具。
冷卻裝置44經提供用於主動冷卻模具表面平坦區域32。藉由主動冷卻，意謂冷卻裝置之參數經控制及調整以維持模具表面平坦區域32在模具表面平坦區域32處之預定熱輪廓。在一個實施例中，冷卻裝置44包括形成於模具表面平坦區域32下方之冷卻腔室46。冷卻腔室46可形成於模具主體22中或獨立主體中，該獨立主體經螺栓連接或以其他方式附接至模具主體22之底部。冷卻腔室46之設置使得冷卻腔室46之相對末端48a、48b大體上與模具表面平坦區域32之周邊對準。在特定實施例中，冷卻腔室46不延伸至模具表面彎曲區域34之下方，以使得主動冷卻實質上限於模具表面平坦區域32。冷卻裝置44包括連接至冷卻腔室46之埠50、埠52、埠54。在一個實施例中，埠50、埠52為入口埠且位於冷卻腔室46之相對末端48a、48b附近。在一個實施例中，埠54為出口埠且位於冷卻腔室46之相對末端48a、48b之間的大體中部。
冷卻流體56經由埠50、埠52供應至冷卻腔室46。在一些實施例中，冷卻流體為惰性氣體，諸如氮氣、氦氣或氬氣。空氣亦可用作冷卻流體，但在一些實施例中，可能由於空氣在高溫下之氧化特性而不使用空氣。進入埠50、埠52之流體將在靠近模具表面平坦區域32之周邊之位置處衝擊冷卻腔室46之壁。衝擊流體隨後將朝向冷卻腔室46之中心移動，同時攜帶在模具表面平坦區域32之周邊附近吸收之熱量。最後，冷卻流體將經由出口埠54離開冷卻腔室46，如58處所示。
冷卻裝置44工作以均化橫跨模具表面平坦區域32之溫度分佈。若模具表面平坦區域32之周邊溫度高於模具表面平坦區域32之中心，則冷卻裝置44將使熱量自模具表面平坦區域32之周邊移至模具表面平坦區域32之中心，從而降低橫跨模具表面平坦區域32之熱梯度。在一些實施例中，冷卻裝置44之作用導致小於20℃的橫跨模具表面平坦區域32之最大熱梯度。在特定實施例中，冷卻裝置44之作用導致小於15℃的橫跨模具表面平坦區域32之最大熱梯度。除了工作以均化橫跨模具表面平坦區域32之溫度分佈以外，冷卻裝置44可經操作以將橫跨模具表面平坦區域32之溫度維持在所要溫度範圍內，同時模具表面30之其他區域中(諸如，模具表面彎曲區域34處)之溫度在不同溫度範圍內。進入入口埠50、入口埠52之冷卻流體之壓力及流動速率用以控制藉由冷卻裝置44自模具表面平坦區域32移除的熱量的多少。壓力及流動速率可回應於溫度監控元件(諸如，熱電偶)之輸出，該等元件安裝於模具表面平坦區域32附近。
第7圖圖示用於形成成型玻璃物件10a (第3圖中)之模具20a。模具20a與模具20 (第5圖中)之間的主要差異在於模具表面之特定細節及真空充氣室之置放。在第5圖中，模具表面30a在模具主體22a內界定模腔26a。模具表面30a具有用於形成成型玻璃物件之平坦區段12a (第3圖中)之模具表面平坦區域32a及用於形成成型玻璃物件之彎曲區段14a、14b (第3圖中)之彎曲模具表面區域34a、34b。彎曲模具表面區域34a、34b位於模具表面平坦區域32a之相對邊緣33a、33b且包括彎曲部36a、36b，彎曲模具表面區域34a、34b在彎曲部36a、36b處與模具表面平坦區域32a相交。彎曲部之彎曲角及彎曲半徑將藉由成型玻璃物件之彎曲部之彎曲角及彎曲半徑指定。
在第8圖中，真空充氣室38a、38b設置在模具表面彎曲區域34a、34b下方。真空充氣室38a、38b可形成於模具主體22a中或提供為附接至模具主體22a之獨立主體。位於模具表面彎曲區域34a、34b中之真空開口40a、40b自模具表面彎曲區域34a、34b延伸穿過模具主體22a到達真空充氣室38a、38b。真空開口40a、40b可直線向下延伸至真空充氣室38a、38b或可傾斜。在特定實施例中，真空開口40a、40b位於彎曲部36a、36b中且可十分靠近模具表面平坦區域32a之相對邊緣33a、33b (第7圖中)。真空開口及充氣室允許產生真空力，該真空力可用以使玻璃片貼合模具表面彎曲區域34a、34b。應注意，使玻璃片貼合模具表面彎曲區域34a、34b亦將導致玻璃片貼合模具表面平坦區域32a。同樣在第8圖中，冷卻裝置44a位於模具表面平坦區域32a下方以主動冷卻模具表面平坦區域32a。冷卻裝置44a類似於上文描述之冷卻裝置44 (第6圖中)工作。
第9圖圖示用於使用模具20 (第5圖中)形成成型玻璃物件10 (第1圖中)之裝備。該裝備包括玻璃片60，該玻璃片60置放於模具20上以使得玻璃片60在模腔26上方。模具20及玻璃片60設置於爐64內部。爐加熱器總成包括一或多個主要加熱器66，該等主要加熱器66提供於爐64內部以加熱玻璃片60及模具20。主要加熱器66可為適合於在製程腔室中使用之任何加熱器，在該等製程腔室中，必需在低污染的情況下快速加熱至高溫。在特定實施例中，主要加熱器66為輻射加熱器且設置在模具20上方，例如靠近爐64之頂部。來自主要加熱器66之輻射將導向模具20上之玻璃片60。一些輻射將由玻璃片60吸收，而一些輻射將通過玻璃片60到達模具表面30。在特定實施例中，玻璃片60在中紅外範圍內具有高吸收率，且主要加熱器66為具有峰值波長之中波紅外加熱器，玻璃片在該峰值波長下具有高吸收率。舉例而言，中波紅外加熱器可具有2.0 μm至2.7 μm之範圍內的峰值波長。
玻璃片60具有玻璃平坦區域70及玻璃彎曲區域72，該玻璃平坦區域70在用模具20成型後將變成玻璃物件平坦區段12 (第1圖中)，該玻璃彎曲區域72在用模具20成型之後將變成玻璃物件彎曲區段14 (第1圖中)。玻璃彎曲區域72包括玻璃彎曲部區域74，該玻璃彎曲部區域74在用模具20成型之後將包括玻璃物件之彎曲部16 (第1圖中)及邊角17 (第1圖中)。輔助加熱器總成包括一或多個輔助加熱器75，輔助加熱器75設置在模具20上方以局部加熱玻璃彎曲區域72 (或更特定而言玻璃彎曲部區域74)至不同於玻璃片60之剩餘部分(例如，玻璃平坦區域70)之玻璃黏度的玻璃黏度。隨著輻射通過玻璃彎曲區域72到達模具表面30，模具20在玻璃彎曲區域72或玻璃彎曲部區域74下方之區域亦將經局部加熱。
輔助加熱器75可為適合於用於製程腔室中之任何加熱器，在該等製程腔室中，需要在低污染的情況下快速加熱至高溫。對於所有類型之輔助加熱器，加熱器溫度在1000℃至1450℃之範圍內。在特定實施例中，輔助加熱器75為輻射加熱器。在一個實施例中，輔助加熱器75為具有峰值波長之中波紅外加熱器，玻璃片60在該峰值波長下具有高吸收率。加熱器類型可為石英管中之KANTHAL®鐵鉻鋁合金線或鎢線圈、碳化矽加熱元件或其他類型之小形數電阻式加熱元件。
輔助加熱器總成可進一步包括反射器78 (例如鏡子)用於將來自輔助加熱器75之熱量聚集到模具表面彎曲區域34。當玻璃片60在模具20上之適當位置時，反射器78將相對於玻璃片之待加熱之局部區域且將藉由將來自輔助加熱器75之輻射聚集到局部區域來增加加熱局部區域之效率。反射器78亦可有效地為不欲局部加熱之玻璃區域(諸如玻璃平坦區域72)屏蔽來自輔助加熱器75之輻射。用於輔助加熱器75中之任一者之適合輻射加熱器為來自Heraeus Noblelight之具有奈米反射器(nano-reflector)之QRC® 紅外發射器。就QRC® 紅外發射器而言，反射器為封裝燈絲之石英管之部分。
輔助加熱器75經設置十分靠近待局部加熱之玻璃區域。在特定實施例中，輔助加熱器75設置於待局部加熱之玻璃區域上方小於10 mm之高度處。在輔助加熱器75為輻射加熱器之情況下，輔助加熱器75之大小經選擇使得輔助加熱器75發射之輻射大體上局限於待局部加熱之玻璃區域。典型地，輔助加熱器75之直徑或寬度將小於25 mm。在一些實施例中，輔助加熱器75經設置以形成遵照待局部加熱之玻璃區域之輪廓的形狀，該形狀亦應用以將來自輔助加熱器75之輻射大體上局限於待局部加熱之玻璃區域。第10圖圖示環形設置之輔助加熱器75，該環形設置沿玻璃片60及彎曲區域或彎曲部區域中之模具20之輪廓形成。該設置可用以製成第1圖中之玻璃物件10，該玻璃物件10具有環形形狀之彎曲區段或彎曲部區段。
為製成成型玻璃物件10，玻璃片60及模具20使用主要加熱器66在爐64內部經加熱。隨著玻璃片60及模具20接近玻璃片60可貼合模具20之溫度，典型地在用主要加熱器66加熱1分鐘至3分鐘後，打開輔助加熱器75。一旦玻璃片60及模具表面30已達到所要溫度，就施加真空以使玻璃彎曲區域72貼合模具表面彎曲區域34。使玻璃彎曲區域72貼合模具表面彎曲區域34包括使玻璃彎曲部區域74貼合模具表面之彎曲部及邊角。又，在拉動玻璃至模具之彎曲部及邊角時，亦將抵靠模具表面平坦區域32拉動玻璃平坦區域70，從而使玻璃完全貼合至模具表面30。因為輔助加熱器75需要時間預熱，所以在施加真空前打開輔助加熱器75。預熱時間將取決於加熱器類型。舉例而言，相比KANTHAL® 加熱器，鎢加熱器具有較短預熱時間。典型地，預熱時間將在5秒至60秒之範圍內。
在施加真空以使玻璃彎曲區域72貼合至模具表面彎曲區域34之前，玻璃片60可下垂至模腔26中且玻璃平坦區域70可接觸模具表面平坦區域32。在玻璃平坦區域70與模具表面平坦區域32接觸的同時，為防止模具表面平坦區域32與玻璃平坦區域70之間的不良相互作用，玻璃平坦區域70保持相對低溫，例如在1010.1 泊與109 泊之間的玻璃黏度下。一旦玻璃平坦區域70接觸模具表面平坦區域32，模具表面平坦區域32之主動冷卻即可用以控制玻璃平坦區域70之溫度。主動冷卻可在打開輔助加熱器75之前(亦即，在玻璃平坦區域70於玻璃片60及模具表面30已達到可施加真空之所要溫度之前接觸模具表面平坦區域32的情況下)開始。在特定實施例中，玻璃片60及模具20一經加載至爐64中，冷卻裝置44便開始操作，該冷卻裝置44用於模具表面平坦區域32之主動冷卻。在一些實施例中，冷卻裝置44操作以使得橫跨模具表面平坦區域32之熱梯度在20℃之下。在特定實施例中，冷卻裝置44操作以使得橫跨模具表面平坦區域32之熱梯度在15℃之下。
在一或多個實施例中，玻璃片60之局部加熱及冷卻使得在施加真空以使玻璃片模具60貼合模具表面70時，玻璃彎曲部區域74中之玻璃黏度比玻璃平坦區域70中之玻璃黏度低8泊或更多。在特定實施例中，在施加真空以使玻璃片60貼合模具表面30時，以下條件為合理的：(1)玻璃平坦區域70之玻璃黏度處於或高於1010.1 泊，(2)模具表面平坦區域32處於低於T11.3 之溫度，其中T11.3 為玻璃黏度為1011.3 泊時之溫度，(3)玻璃彎曲部區域74中之玻璃黏度處於或低於109.9 泊，(4)模具表面彎曲區域36或模具表面彎曲區域36之包括彎曲部及邊角之部分處於T11.7 之上之溫度，其中T11.7 為玻璃黏度為1011.7 泊時之溫度。術語「玻璃黏度」基於玻璃片60之玻璃組成物。上述溫度之實際值因此將由於玻璃組成物不同而不同。
在特定實施例中，以多個階段施加真空。在第一階段中，施加之真空足以使玻璃片60在彎曲部區域貼合模具表面30。對於第二階段，將施加之真空降低至剛好足以將玻璃片60保持為在彎曲部區域中抵靠模具表面30之位準。舉例而言，真空壓力在第一階段可高於20 kPa且在第二階段可降低至10 kPa之下。與第二階段相比，第一階段將具有較短持續時間。舉例而言，第一階段可具有小於20秒之持續時間，而第二階段可具有40秒或之上之持續時間。多階段真空允許玻璃在較低真空位準下堅固，該較低真空位準對模具壽命及玻璃外觀具有較小損害。可根據需要添加真空降低之額外步驟以在將玻璃保持為抵靠模具所需之力與模具壽命之間產生最佳平衡。又，多階段真空以及彎曲部區域之反復加熱與冷卻可用以減輕應力及減少折回(snap back)。應力減輕及折回之減少亦可藉由在冷卻模具上之玻璃時保持真空來達成。然而，在一些實施例中，可不進行此舉，因為玻璃表面可由於在冷卻期間收縮的同時經真空保持為抵靠模具而受損。
在玻璃片已貼合模具之後，允許所得成型玻璃物件冷卻至1013 泊之上之玻璃黏度，同時仍在模具中。隨後，自模具移除冷卻之成型玻璃物件。可在將成型玻璃物件與模具分離後執行任何數目之製程，諸如藉由離子交換化學強化成型玻璃物件。
在上文論述了首先使用主要加熱器66加熱玻璃片及模具，隨後使用輔助加熱器75局部加熱玻璃片。該等加熱均在同一爐64中發生。在替代性實施例中，可在獨立爐或連續爐之多個區中發生該等加熱。藉由主要加熱器66之加熱可在第一爐或連續爐中之第一加熱區集合中發生，之後，玻璃片及模具可運輸至第二爐或第二爐區集合，在該第二爐或第二爐區集合將發生玻璃之局部加熱以便使玻璃片在彎曲部區域貼合至模具表面。若輔助加熱器75在第二爐或第二爐區集合中保持打開，則在可施加真空以使玻璃貼合至模具表面之前將不需要加熱器預熱時間。此替代性實施例可用以在連續製造裝備中增加產出率。製造中之爐區之數目視所需產出率而定。輔助加熱器亦可設置在非連貫爐中，以便可在如上所述之多階段真空製程期間交替加熱及冷卻玻璃與模具之彎曲部區域。
上文所描述之方法亦可用以製造第3圖中之成型玻璃物件10a，不同之處在於將需要稍微修改第9圖之裝備。為形成成型玻璃物件10a，第9圖之裝備中之模具20可替換為第7圖之模具20a。又，輔助加熱器75之設置及配置可替換為第11圖中所示之設置及配置。在第11圖中，長輔助加熱器75a之平行設置可用以局部加熱玻璃片及模具表面之彎曲部區域。上文所述之條件(1)至條件(4)將在使用真空以使玻璃片貼合至模具時適用。就成型玻璃物件10a而言，條件(3)將適用於玻璃片之兩個彎曲部區域，而條件(4)將適用於模具之兩個彎曲部區域。
具有3D形狀之成型玻璃物件使用上文所描述之方法形成。成型玻璃物件具有平坦區域及至少一個彎曲部區域。在一個實施例中，成型玻璃物件經配置以用作具有平坦顯示器之電子裝置之蓋玻璃物件。
在一個實施例中，成型玻璃物件之平坦區域在25 mm x 25 mm之區域內平坦度達100 μm以內，如藉由自Corning公司獲得之Tropel® FlatMaster® 表面量測工具量測。平坦度經量測作為參考平面與成型玻璃物件之平坦區域之間的比較高度差。「平坦度達100 μm以內」意謂參考平面與平坦區域之間的高度差之任何變化在100 μm以內。
成型玻璃物件之表面紋理可藉由兩個參數特徵化：表面粗糙度及波紋。粗糙度為細間隔表面不規則之量度。波紋為具有大於表面粗糙度之間隔的間隔之表面不規則之量度。
在一個實施例中，成型玻璃物件之表面中之至少一者具有小於1 nm之平均粗糙度(Ra)。在另一實施例中，成型玻璃物件之表面中之至少一者具有小於0.7 nm之平均粗糙度。在又一實施例中，成型玻璃物件之表面中之至少一者具有小於0.3 nm之平均粗糙度。
在一個實施例中，成型玻璃物件之表面在15 mm x 25 mm之3D區域中各自具有小於30 nm之波高，如藉由Zygo® Newview 3D光學表面輪廓儀量測。波高為表面輪廓之峰谷(peak to valley)距離。量測之表面不規則之間隔典型地在3 mm至5 mm之範圍內。
在一個實施例中，成型玻璃物件之彎曲部區域具有小於10 mm之彎曲半徑。使用模具之主動冷卻及/或玻璃片之彎曲部區域之局部加熱與使玻璃片貼合(藉由在模具之彎曲部區域及邊角中經由一或多個狹槽或一或多個開口施加真空)之組合(如在上文之一或多個實施例中所描述)，可實現小彎曲半徑。
在一個實施例中，成型玻璃物件之壁厚度在0.3 mm至3 mm之範圍內。在一個實施例中，壁厚度為均勻的，例如成型玻璃物件之壁厚度變化在100 μm以內。
在一個實施例中，成型玻璃物件為透明的且具有在400 nm至800 nm之波長範圍下大於85%之光透射。
在一個實施例中，成型玻璃物件具有大於300 MPa之壓縮強度及以莫氏硬度計大於7之硬度。在一個實施例中，成型玻璃物件具有至少一個表面壓縮應力區，且壓縮應力區之層深度為至少25 μm。壓縮強度及/或壓縮應力區可藉由使成型玻璃物件經受強化製程而達成，該強化製程可為化學的或熱的。在一些實施例中，壓縮強度及/或壓縮應力區可藉由使成型玻璃物件經受離子交換製程而達成。
在一個實施例中，成型玻璃物件由鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物製成，該鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物包含約60莫耳%至約70莫耳%之SiO2 、約6莫耳%至約14莫耳%之Al2 O3 、0莫耳%至約15莫耳%之B2 O3 、0莫耳%至約15莫耳%之Li2 O、0莫耳%至約20莫耳%之Na2 O、0莫耳%至約10莫耳%之K2 O、0莫耳%至約8莫耳%之MgO、0莫耳%至約10莫耳%之CaO、0莫耳%至約5莫耳%之ZrO2 、0莫耳%至約1莫耳%之SnO2 、0莫耳%至約1莫耳%之CeO2 、小於約50 ppm之As2 O3 及小於約50 ppm之Sb2 O3 ，其中12莫耳% ≤ Li2 O + Na2 O + K2 O ≤ 20莫耳%且0莫耳% ≤ MgO + CaO ≤ 10莫耳%。該玻璃組成物及其他玻璃組成物可在美國專利第8,158,543號(Dejneka等人，「Fining Agents for Silicate Glasses」)中找到。
在另一實施例中，成型玻璃物件由鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物製成，該鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物包含至少約50莫耳%之SiO2 及至少約11莫耳%之Na2 O，且壓縮應力為至少約900 MPa。在一些實施例中，玻璃組成物進一步包含Al2 O3 以及B2 O3 、K2 O、MgO及ZnO中之至少一者，其中-340 + 27.1·Al2 O3 – 28.7·B2 O3 + 15.6·Na2 O – 61.4·K2 O + 8.1·(MgO + ZnO) ≥ 0莫耳%。在特定實施例中，玻璃組成物包含約7莫耳%至約26莫耳%之Al2 O3 、0莫耳%至約9莫耳%之B2 O3 、約11莫耳%至約25莫耳%之Na2 O、0莫耳%至約2.5莫耳%之K2 O、0莫耳%至約8.5莫耳%之MgO及0莫耳%至約1.5莫耳%之CaO。該等玻璃組成物及其他玻璃組成物可在2011年7月1日申請的美國公開案第2013/0004758號(Dejneka等人，「Ion Exchangeable Glass with High Compressive Stress」)中找到，該公開案之內容全部以引用之方式倂入本文。
實例1-成型玻璃物件使用具有碟形模腔之模具製成。形成製程包括彎曲部區域之局部加熱而不包括模具表面平坦區域之主動冷卻。第12圖中圖示特徵化該製程之各種輪廓。模具表面平坦區域之中心處之熱輪廓圖示於100處。模具表面彎曲區域上之彎曲部處之熱輪廓圖示於102處。模具表面彎曲區域上之邊角處之熱輪廓圖示於104處。真空輪廓圖示於106處。爐功率輪廓圖示於108處。爐溫度輪廓圖示於110處。爐打開之時間指示於112處。模具表面平坦區域(由熱輪廓100表示)與模具表面彎曲區域(由熱輪廓102或熱輪廓104表示)之間的溫度差相對較小。模具表面平坦區域與模具表面彎曲區域之間的溫度差在施加真空時約25℃下達到峰值。
實例2-成型玻璃物件使用具有碟形模腔之模具製成。形成製程包括彎曲部區域之局部加熱及模具表面平坦區域之主動冷卻。第13圖中圖示特徵化製程之各種輪廓。模具表面平坦區域之中心處的熱輪廓圖示於114處。模具表面彎曲區域上之點處的熱輪廓圖示於116處。玻璃平坦區段之中心處的熱輪廓圖示於118處。玻璃彎曲區段上之點處的熱輪廓圖示於120處。真空輪廓圖示於122處。爐功率輪廓圖示於124處。爐溫度輪廓圖示於126處。主動冷卻輪廓圖示於128處。氮用作冷卻流體。爐打開之時間指示於130處。模具表面平坦區域(由熱輪廓114表示)與模具表面彎曲區域(由熱輪廓116表示)之間的溫度差在施加真空時約80℃下達到峰值。此顯示在模具表面彎曲區域或彎曲部區域經局部加熱時，主動冷卻有效保持模具表面平坦區域相對低溫。
實例3-各種碟形玻璃物件使用具有碟形模腔之模具製成。在製程中使用模具表面區域之局部加熱及模具表面平坦區域之主動冷卻。玻璃物件由可自Corning公司獲得之編號2317 GORILLA® 玻璃製成。用於製成玻璃物件之玻璃片具有0.8 mm之厚度。碟形具有10 mm之彎曲半徑。藉由改變模具表面彎曲部區域中之溫度研究模具邊角溫度對形成之形狀與理想形狀之邊角偏差的影響。第14圖中圖示結果。在第14圖中，菱形標記140表示DOE (「實驗設計(design of experiments)」)資料，且方形標記141表示最終製程資料。資料顯示增加之模具彎曲部溫度導致與理想形狀之偏差減小，由此證明增加邊緣與邊角溫度之重要性。針對特定玻璃組成物及研究之碟形形狀，若模具之邊角溫度低於約710℃，則邊角偏差超過0.1 mm。在此情況下，因為模具表面彎曲部區域溫度過低以致不允許待達成彎曲半徑，故偏差較高。另一方面，若模具之邊角溫度過高，則形成之形狀之邊角偏差惡化，因為玻璃平坦區域扭曲且扭曲之玻璃平坦區域引起玻璃邊角由於玻璃邊角因扭曲被拉離模具邊角而具有高偏差。
實例4-碟形玻璃物件使用具有碟形模腔之模具製成。在製程中使用模具表面彎曲部區域之局部加熱及模具表面平坦區域之主動冷卻。第15A圖圖示在形成成型玻璃物件之製程期間模具上所監控之點150至點158。第15B圖圖示第15A圖中指示之點處的熱輪廓。相同元件符號用於點與熱輪廓以使得更容易將模具上之點繪製成熱輪廓。熱輪廓164表示在模具表面下方大約0.5吋處的模具之側面之溫度。爐功率輪廓圖示於160處。真空輪廓圖示於162處。
第15B圖圖示主動冷卻可使模具表面平坦區域(由熱輪廓150、熱輪廓152表示)之熱梯度變平，而模具表面平坦區域(由熱輪廓150、熱輪廓152表示)與模具表面彎曲區域(由熱輪廓154、熱輪廓156、熱輪廓158表示)之間仍存在十分高之溫度差。第15B圖亦圖示主動冷卻可降低模具表面平坦區域(由熱輪廓152表示)之邊緣附近的溫度，以便即使在模具表面彎曲區域經局部加熱時，橫跨模具表面平坦區域之溫度分佈更均勻。當玻璃片處於模具上時，模具表面平坦區域中之溫度梯度維持在15℃之下。
實例5-第16A圖及第16B圖圖示與分別在不主動冷卻模具之平坦區域及主動冷卻該平坦區域之情況下製成的碟形玻璃物件之理想形狀的偏差。在不主動冷卻之情況下(第16A)，邊角未適當形成，且偏差顯著超過± 0.1 mm之目標。在主動冷卻之情況下(第16B圖)，形狀適宜地處於± 0.1 mm之目標內。
實例6-第17圖圖示在於平坦區域中主動冷卻的情況下使用在彎曲部區域中之局部加熱形成的雪橇形玻璃物件的偏差。物件具有6 mm之彎曲半徑及120 mm x 70 mm x 3 mm之總體尺寸以及0.7 mm之玻璃厚度。與理想形狀之絕對偏差小於100 μm。
實例7-下表1顯示在由玻璃片形成具有10 mm之彎曲半徑之碟形玻璃物件之兩個獨立製程期間的玻璃溫度以及玻璃溫度與模具溫度之間的差。在製程編號1中，碟形玻璃物件在不主動冷卻模具並且不在彎曲部區域中局部加熱玻璃片的情況下形成。在製程編號2中，如本揭示案中所描述，在主動冷卻模具及/或在彎曲部區域中局部加熱玻璃片的情況下形成碟形玻璃物件。兩個製程涉及藉由經由位於模具之彎曲部區域及邊角中之一或多個狹槽或一或多個開口施加真空完成的真空貼合。 表1
實例8-研究玻璃溫度/黏度對「橘皮狀（orange peel）」之影響。該研究涉及在不主動冷卻平坦區域但局部加熱彎曲部區域之情況下由第一玻璃片形成第一碟形玻璃物件及在主動冷卻平坦區域及/或局部加熱彎曲部區域之情況下由第二玻璃片形成第二碟形玻璃物件。在主動冷卻及/或局部加熱彎曲部區域之情況下，平坦區域處之玻璃黏度可高於可引起玻璃再沸之位準，該玻璃再沸可產生「橘皮狀」。在主動冷卻及/或局部加熱彎曲部區域之情況下，發現平坦區域處之玻璃黏度可保持為比不主動冷卻及局部加熱之情況高1.5量級。平坦區域之較高玻璃黏度允許表面粗糙度之峰谷提高大約10倍。在一個特定實例中，根據實例7之製程編號2（亦即，在主動冷卻及/或局部加熱的情況下）製成的玻璃物件之兩個表面在15 mm x 25 mm之區域內各自具有小於30 nm之波高，如藉由Zygo® Newview 3D光學表面輪廓儀量測。相比之下，根據實例7之製程編號1（亦即，在不主動冷卻及局部加熱的情況下）製成的玻璃物件之兩個表面在相同量測區域內具有200 nm之波高。
實例9-根據此揭示案（亦即，在主動冷卻模具及/或在彎曲部區域中局部加熱玻璃片且使玻璃片真空貼合至模具之情況下）形成的碟形玻璃物件與藉由將玻璃片按壓在兩個模具之間形成的碟形玻璃物件相比較。發現就按壓而言，小模具誤差可產生過約束狀況，該狀況導致橫跨形成之物件之不均勻應變及形成之物件之平坦區域中的扭曲。在按壓情況下觀察之不均勻應變及扭曲之類型未在真空貼合製程中觀察到。在真空貼合製程中，僅存在一個模具。進一步，平坦玻璃區域藉由經由彎曲部區域附近之一或多個狹槽施加真空而在模具上均勻伸展。
10、10a‧‧‧成型玻璃物件
12、12a‧‧‧玻璃物件平坦區段
13‧‧‧周邊
13a、13b‧‧‧邊緣
14、14a、14b‧‧‧玻璃物件彎曲區段
16、16a、16b‧‧‧彎曲部
17‧‧‧邊角
20、20a‧‧‧模具
22、22a‧‧‧模具主體
24‧‧‧上表面
26、26a‧‧‧模腔
28‧‧‧對準銷
30、30a‧‧‧模具表面
32、32a‧‧‧模具表面平坦區域
33‧‧‧周邊
33a、33b‧‧‧邊緣
34、34a、34b‧‧‧模具表面彎曲區域
36、36a、36b‧‧‧彎曲部
37‧‧‧邊角
38、38a、38b‧‧‧真空充氣室
40、40a、40b‧‧‧真空開口
42‧‧‧埠
44、44a‧‧‧冷卻裝置
46‧‧‧冷卻腔室
48a、48b‧‧‧末端
50、52、54‧‧‧埠
56‧‧‧冷卻流體
60‧‧‧玻璃片
64‧‧‧爐
66‧‧‧主要加熱器
70‧‧‧玻璃平坦區域
72‧‧‧玻璃彎曲區域
74‧‧‧玻璃彎曲部區域
75‧‧‧輔助加熱器
75a、75b‧‧‧長輔助加熱器
78‧‧‧反射器
100、102、104‧‧‧熱輪廓
106‧‧‧真空輪廓
108‧‧‧爐功率輪廓
110‧‧‧爐溫度輪廓
112‧‧‧爐打開之時間
114、116、118、120‧‧‧熱輪廓
122‧‧‧真空輪廓
124‧‧‧爐功率輪廓
126‧‧‧爐溫度輪廓
128‧‧‧主動冷卻輪廓
130‧‧‧爐打開之時間
140‧‧‧菱形標記
141‧‧‧方形標記
150、152、154、156、158‧‧‧點
160‧‧‧爐功率輪廓
162‧‧‧真空輪廓
164‧‧‧熱輪廓
α1、α1a、α1b‧‧‧彎曲角
r1、r1a、r1b‧‧‧彎曲半徑
下文為對隨附圖式中之圖式的描述。圖式不必按比例繪製，且圖式之某些特徵及某些視圖可為清晰與簡潔起見按比例誇示或示意性地圖示。
第1圖圖示碟形玻璃物件。
第2圖為第1圖之玻璃物件之輪廓。
第3圖圖示雪橇形玻璃物件。
第4圖為第3圖之玻璃物件之輪廓。
第5圖為用於形成第1圖之玻璃物件之模具。
第6圖為第5圖之模具之橫截面視圖。
第7圖為用於形成第3圖之玻璃物件之模具。
第8圖為第7圖之模具之橫截面視圖。
第9圖為用於形成成型玻璃物件之裝備。
第10圖圖示環形輔助加熱器設置。
第11圖圖示線性輔助加熱器設置。
第12圖圖示在不主動冷卻模具表面平坦區域的情況下形成成型玻璃物件之製程期間的溫度與真空輪廓。
第13圖圖示在主動冷卻模具表面平坦區域的情況下形成成型玻璃物件之製程期間的溫度與真空輪廓。
第14圖為成型玻璃物件與理想形狀之邊角偏差隨模具邊角溫度變化的繪圖。
第15A圖圖示模具表面上的各種監控點。
第15B圖圖示對應於圖15A中之監控點的熱輪廓。
第16A圖圖示在不主動冷卻模具的情況下形成的碟形玻璃物件與理想形狀之偏差。
第16B圖圖示在主動冷卻模具的情況下形成的碟形玻璃物件與理想形狀之偏差。
第17圖圖示在主動冷卻模具的情況下形成的雪橇形玻璃物件與理想形狀之偏差。
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國外寄存資訊 (請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無

Claims (8)

  1. 一種成型玻璃物件，包含： 一玻璃主體，具有一三維形狀，該玻璃主體的至少一個表面在15 mm x 25 mm的量測區域內具有小於30 nm之一波高及小於1 nm之一平均粗糙度。
  2. 如請求項1所述之成型玻璃物件，其中該玻璃主體具有一平坦區域，該平坦區域在25 mm x 25 mm之一區域內之平坦度達100 μm以內。
  3. 如請求項2所述之成型玻璃物件，其中該玻璃主體具有至少一個彎曲部區域，該彎曲部區域具有小於10 mm之一彎曲半徑。
  4. 如請求項2所述之成型玻璃物件，其中在400 nm至800 nm之一波長範圍中，該玻璃主體具有大於85%之一光學透射度。
  5. 如請求項2所述之成型玻璃物件，其中該玻璃主體具有大於300 MPa之一壓縮強度。
  6. 如請求項2所述之成型玻璃物件，其中該玻璃主體具有以莫氏硬度(Mohs scale)計大於7之硬度。
  7. 如請求項2所述之成型玻璃物件，其中該成型玻璃物件係以一鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃製成。
  8. 如請求項2所述之成型玻璃物件，其中該玻璃主體適用於覆蓋具有一平坦顯示器之一電子裝置。
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