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KR960000818A - 지르코니아 수성 졸 및 그 제조방법 - Google Patents

지르코니아 수성 졸 및 그 제조방법 Download PDF

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KR960000818A
KR960000818A KR1019950015876A KR19950015876A KR960000818A KR 960000818 A KR960000818 A KR 960000818A KR 1019950015876 A KR1019950015876 A KR 1019950015876A KR 19950015876 A KR19950015876 A KR 19950015876A KR 960000818 A KR960000818 A KR 960000818A
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zirconia
colloidal zirconia
aqueous sol
acid
sol
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다까오 가가
유다까 기무라
후미오 사이또오
히로아끼 다나까
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도꾸시마 슈우이찌
닛상 가가꾸 고오교오 가부시기가이샤
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G25/00—Compounds of zirconium
    • C01G25/02—Oxides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons

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Abstract

낮은 표면 활성을 가지며 반도체 연마 등에 사용되는 콜로라이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸은, 비표면적 10∼400㎡/g, 입자크기 20∼500nm 및 탈수성 수분 함유량 4∼15중량%인 콜로이드상 지르코니아를 400∼1,000℃에서 소성하여 탈수성 수분 함유량 0.1∼2중량%의 소성 지르코니아를 제조하고, 수드한 소성 지르코니아를 물속에서 수용성 산 또는 수용성 알칼리 존재하에 미분쇄하여 비표면적 5∼200㎡/g, 입자크기 2∼1,500nm 및 탈수성 수분 함유량 0.1∼3중량%의 콜로이드상 지르코니아의 안정한 졸을 생성시키는 방법으로 제조된다. 콜로이드상 지르코니아의 안정한 졸은 ZrO2농도가 5∼80중량%이다.

Description

지르코니아 수성 졸 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (16)

  1. 비표면적이 5∼200㎡/g, 입자크기 2∼1,500nm이며, 탈수성 수분 함유량이 0.1∼3중량%이고, ZrO2로서 5∼80중량%와 수용성 산을 콜로이드상 지르코니아의 ZrO21몰에 대해 0.01∼100밀리 당량을 함유하는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸.
  2. 제1항에 있어서, 수용성 산은 염산, 질산, 황산, 포름산, 아세트산, 옥살산, 타르타르산, 시트르산, 락트산 및 위에 나온 수용성 산의 선성염으로 된 군으로부터 선택되는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸.
  3. 제1항에 있어서, 졸은 크산탄 검, 로우커스트콩 검, 구아르 검, 카르복시메틸 셀룰로오스, 메틸 셀룰로오스, 히드록시에틸 셀룰로오스, 폴리비닐 알코올, 폴리아크릴산 나트륨, 폴리에틸렌 옥사이드, 글리세린, 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜로 된 군으로 부터 선택되는 수용성 폴리머를 추가로 함유하는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸.
  4. (가) 비표면적이 10∼400㎡/g, 입자크기가 20∼50nm이며 탈수성 수분 함유량이 4∼15중량%인 수성 지르코니아 졸의 콜로이드상 지르코니아를 400℃∼1,000℃에서 0.05∼50시간 소성하여 탈수성 수분 함유량이 0.1∼2중량%인 소성 지르코니아를 생성시키는 공정, 및 (나) 소성 지르코니아의 ZrO2농도가 5∼80중량%인 물 속에서 소성 지르코니아의 ZrO21몰당 0.01∼100밀리 당량의 수용성 산 존재하에 소성 지르코니아를 미분쇄하여 소성전의 입자크기의 1∼3배 되는 입자 크기를 가진 콜로이드상 지르코니아를 함유하는 수성 졸을 생성시키는 공정으로 된 제1항 기재의 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
  5. 제4항에 있어서, 수용성 산은 염산, 질산, 황산, 포름산, 아세트산, 옥살산, 타르타르산, 시트르산, 락트산 및 위에 나온 수용성 산의 산성염으로 된 군으로 부터 선택되는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
  6. 제4항에 있어서, 콜로이드상 지르코니아의 소성전에 출발물질인 수성 졸을 80∼200℃에서 건조하여 콜로이드상 지르코니아 분말을 생성시킴으로써 출발물질인 수성 졸의 콜로이드상 지르코니아를 분말상태로 제조하는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
  7. 제4항에 있어서, 소성온도가 500℃∼950℃인 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
  8. 제4항에 있어서, 미분쇄에 의해 생성된 수성 졸의 콜로이드상 지르코니아는 비표면적 5∼200㎡/g, 입자크기 20∼1,500nm 및 탈수성 수분 함유량 0.1∼3중량%인 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
  9. 비표면적 5∼200㎡/g, 입자크기 20∼1,500nm 및 탈수성 수분 함유량 0.1∼3중량%인 콜로이드상 지르코니아를 ZrO2로서 5∼80중량%를 함유하고, 또한 콜로이드상 지르코니아의 ZrO21몰에 대해 1∼100밀리 당량의 양으로 수용성 알칼리를 함유하는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸.
  10. 제9항에 있어서, 수용성 알칼리는 암모니아, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 수산화 리튬, 테트라에탈올 암모늄 히드록시드, 모노메틸트리에탄올 암모늄 히드록시드, 테트라메틸 암모늄 히드록시드, 트리메틸벤질 암모늄 히드록시드, 모노에탄올 아민, 디에탄올 아민, 트리에탄올 아민, 아미노에틸에탄올 아민, N,N-디메틸에탄올 아민, N-(β-아미노메틸)에탄올 아민, N-메틸에탄올 아민, 모노프로판올 아민 및 모르폴린으로 된 군으로 부터 선택되는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸.
  11. 제9항에 있어서, 졸은 크산탄 검, 로우커스트콩 검, 구아르 검, 카르복시메틸 셀룰로오스, 메틸셀룰로오스, 히드록시에틸 셀룰로오스, 폴리비닐 알코올, 폴리아크릴산 나트륨, 폴리에틸렌 옥사이드, 글리세린, 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜로 된 군으로 부터 선택되는 수용성 폴리머를 추가로 함유하는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸.
  12. (가) 비표면적이 10∼400㎡/g이고 입자크기가 20∼500nm이며 탈수성 수분 함유량이 4∼15중량%인 수성 지르코니아 졸의 콜로이드상 지르코니아를 400℃∼1,000℃에서 0.05∼50시간 소성하여 탈수성 수분 함유량이 0.1∼2중량%인 소성 지르코니아를 생성시키는 공정, 및 (나) 소성 지르코니아의 ZrO2농도가 5∼80중량%인 물 속에서 소성 지르코니아의 ZrO21몰당 1∼100밀리 당량의 수용성 알칼리 존재하에 소성 지르코니아를 미분쇄하여 소성전의 입자크기의 1∼3배 되는 입자크기를 가진 콜로이드상 지르코니아를 함유하는 수성 졸을 생성시키는 공정으로 된 제9항 기재의 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 수용성 알칼리는 암모니아, 수산화 나트륨, 수산화칼륨, 수산화 리튬, 테트라에탄올 암모늄 히드록시드, 모노메틸트리에탄올 암모늄 히드록시드, 테트라메틸 암모늄 히드록시드, 트리메틸벤질 암모늄 히드록시드, 모노에탄올 아민, 디에탄올 아민, 트리에탄올 아민, 아미노에틸에탄올 아민, N,N-디메틸 에탄올 아민, N-(β-아미노메틸)에탄올 아민, N-메틸에탄올 아민, 모노프로판올 아민 및 모르폴린으로 된 군으로 부터 선택되는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서, 콜로이드상 지르코니아의 소성전에 출발물질인 수성 졸을 80∼200℃에서 건조하여 콜로이드상 지르코니아 분말을 생성시킴으로써 출발물질인 수성 졸의 콜로이드상 지르코니아를 분말상태로 제조하는 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
  15. 제12항에 있어서, 소성온도가 500∼950℃인 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
  16. 제12항에 있어서, 미분쇄에 의해 생성된 수성 졸의 콜로이드상 지르코니아는 비표면적 5∼200㎡/g, 입자크기 20∼1,500nm 및 탈수성 수분 함유량 0.1∼3중량%인 콜로이드상 지르코니아의 안정한 수성 졸의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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