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KR20180135156A - Metal composite and metal tape for shielding electromagnetic wave and electromagnetic radiation - Google Patents

Metal composite and metal tape for shielding electromagnetic wave and electromagnetic radiation Download PDF

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Publication number
KR20180135156A
KR20180135156A KR1020170072739A KR20170072739A KR20180135156A KR 20180135156 A KR20180135156 A KR 20180135156A KR 1020170072739 A KR1020170072739 A KR 1020170072739A KR 20170072739 A KR20170072739 A KR 20170072739A KR 20180135156 A KR20180135156 A KR 20180135156A
Authority
KR
South Korea
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metal
layer
base layer
thickness
metal layer
Prior art date
Application number
KR1020170072739A
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Korean (ko)
Inventor
류종호
이재규
정성헌
박종현
Original Assignee
일진머티리얼즈 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 일진머티리얼즈 주식회사 filed Critical 일진머티리얼즈 주식회사
Priority to KR1020170072739A priority Critical patent/KR20180135156A/en
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Abstract

The present invention relates to a metal composite for shielding an electromagnetic wave and radiating heat and a metal tape, and more particularly, to a metal composite for shielding an electromagnetic wave and radiating heat, a composite sheet, a composite film or a metal tape using the same, and an electric and electronic component and an electric electronic product using the same, wherein the metal composite comprises a copper foil base layer and a metal layer made of at least one of nickel, cobalt, and tin on one side or both sides of the base layer, wherein the metal layer is provided on the base layer.

Description

전자파 차폐와 방열용 금속복합체 및 금속테이프{METAL COMPOSITE AND METAL TAPE FOR SHIELDING ELECTROMAGNETIC WAVE AND ELECTROMAGNETIC RADIATION}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a metal composite for electromagnetic wave shielding and heat dissipation,

본 발명은 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체 및 금속테이프에 대한 것으로, 보다 상세하게는 전자기기에 구비되어 효과적으로 전자파를 차폐하고 방열특성을 갖는 박형화된 신규한 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체 및 금속테이프에 대한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a metal composite for electromagnetic shielding and heat radiation and a metal tape and more particularly to a thin metal shielding and heat radiation metal composite material and a metal tape which are provided in electronic equipment and effectively shield electromagnetic waves, It is about.

최근 전자기기 및 전자부품의 소형화, 슬림화 및 다기능화의 경향에 따라 전자소자에 대한 집적도가 높아지고, 전기에너지에 의하여 작동하는 전자소자의 발열량도 크게 증가하고 있다. 전자소자에서 발생하는 열은 전자소자에 축적되어 전자기기의 작동수명을 감소시키므로, 전자기기 내부에서 발생하는 열을 효과적으로 분산하고 발산시키는 방열특성에 대한 요구가 증가되고 있다. 또한, 전자소자의 직접도가 높아짐에 따라서 발생되는 전자기파도 증가하고, 이와 같은 전자기파는 전자기기의 접합부, 점착부 등을 통하여 외부로 누출되고 다른 전자소자 또는 전자부품의 오작동을 유발하거나, 심한 경우 인체 면역 기능의 약화 등의 유해작용이 있음이 보고되어 왔다. In recent years, electronic devices and electronic components have become more compact, slimmer, and multifunctional, and the degree of integration of electronic devices has increased, and the amount of heat generated by electronic devices operating by electrical energy has also increased. BACKGROUND ART [0002] Heat generated in electronic devices is accumulated in electronic devices to reduce the operating life of electronic devices. Therefore, there is a growing demand for heat dissipating properties that effectively dissipate and dissipate heat generated in electronic devices. In addition, electromagnetic waves generated as the directivity of the electronic device increases, and such electromagnetic waves leak to the outside through joints, adhesive portions, and the like of the electronic device and cause malfunction of other electronic devices or electronic components, It has been reported that there are harmful effects such as weakening of human immune function.

종래의 전자파 차폐재는 플라스틱에 금속류(철, 구리, 니켈, 코발트 등)를 첨가하여 도전성 메쉬와 도전성 섬유, 도전성 고무 등의 형태로 제작되는데, 이는 전자파를 차폐 또는 반사시켜 전자파로부터의 직접적인 영향을 피할 수는 있는 반면, 전자파 환경이 지속되는 경우 차폐능이 저하되는 문제가 있다. 또한, 이러한 전자파 차폐재는 전자파의 차폐 및 흡수에 대한 성능만을 구비할 뿐으로, 전자파 차폐재 자체에서 발생하는 열을 효율적으로 발산시키지 못한다는 단점이 있다. Conventional electromagnetic shielding materials are made of conductive mesh, conductive fibers, conductive rubber or the like by adding metals (iron, copper, nickel, cobalt, etc.) to plastics. This shields or reflects electromagnetic waves to avoid direct influence from electromagnetic waves However, there is a problem that the shielding ability is deteriorated when the electromagnetic environment is maintained. In addition, the electromagnetic wave shielding material has a merit only for shielding and absorbing electromagnetic waves, and has a drawback in that heat generated from the electromagnetic shielding material itself can not be efficiently dissipated.

한편, 한국 등록특허공보 제10-1034456호에는 유기폴리머로 코팅된 공극형 실리카 및 유기폴리머를 포함하는 전자파 차폐 및 단열용 테이프가 개시되어 있으나, 이는 공극형 실리카를 포함하고 있으므로 두께를 얇게 만드는데 한계가 있고 또한 시트형태로 제작한 경우 실리카에 의하여 부분적인 물성차를 가지므로 문제가 된다. On the other hand, Korean Patent Registration No. 10-1034456 discloses an electromagnetic wave shielding and heat insulating tape comprising pore-forming silica and organic polymer coated with an organic polymer. However, since it contains pore-forming silica, And when it is made into a sheet form, it is a problem because it has a partial physical property difference due to silica.

이에 따라, 전자소자로부터 발생하는 열을 효과적으로 분산하여 발산시키는 방열특성과 함께, 전자소자에서 발생하는 전자파를 효과적으로 차폐 및 흡수할 수 있는 특성을 구비하는 물질에 대한 다양한 연구가 진행되고 있다.As a result, various studies have been made on materials having properties of effectively dissipating and dissipating heat generated from electronic devices and dissipating them, as well as effectively shielding and absorbing electromagnetic waves generated in electronic devices.

본 발명의 목적은 부식이 적어 환경친화적(eco-friendly)이며 향상된 열전도율을 보이는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체와 이를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프를 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an electromagnetic shielding and heat-dissipating metal complex exhibiting eco-friendly and improved thermal conductivity with little corrosion and a composite sheet, a composite film or a metal tape using the same.

본 발명의 다른 목적은 상기 금속복합체와 이를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프를 포함하는 전기부품을 제공하는 것이고, 본 발명의 또 다른 목적은 금속복합체와 이를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프를 포함하여 얻어진 전자제품을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an electrical component comprising the metal composite and a composite sheet, a composite film or a metal tape using the metal composite, and a further object of the present invention is to provide a metal composite and a composite sheet, And to provide the obtained electronic product.

본 발명의 또 다른 목적은 종래의 문제점을 해결하고자 부식이 적은 금속을 사용하여 전자파 차폐 특성에 대한 장기적인 안정성을 부여하고, 바람직한 금속층의 두께 범위를 제공하여 열전도율을 향상시키며, 이에 우수한 전자파 차폐 특성 및 방열 특성을 구비한 금속복합체와 이를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프를 제공하기 위한 것이다.It is a further object of the present invention to provide a method for improving the thermal conductivity by providing a long-term stability to the electromagnetic wave shielding property using a metal having low corrosion and providing a thickness range of a preferable metal layer, And a composite sheet, a composite film or a metal tape using the metal composite.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 동박 베이스층 및 상기 베이스층 일면 또는 양면상에 니켈, 코발트 및 주석 중 하나 이상으로 이루어진 금속층을 포함하고, 상기 금속층은 상기 베이스층 상에 직접 접촉하여 구비되는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체 및 금속테이프를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor device comprising a copper foil base layer and a metal layer composed of at least one of nickel, cobalt and tin on one or both surfaces of the base layer, A metal composite for electromagnetic wave shielding and heat radiation and a metal tape are provided.

본 발명은, 상기 베이스층의 일면 또는 양면상에 금속층이 구비되고, 상기 금속층의 일면 또는 양면에는 점접착제층을 더 포함하는 것일 수 있다.In the present invention, a metal layer may be provided on one side or both sides of the base layer, and a point-adhesive layer may be further formed on one or both sides of the metal layer.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 금속복합체의 열전도율은 300W/mK 내지 400W/mK일 수 있고, 상기 베이스층의 두께는 5㎛ 내지 300㎛일 수 있으며, 상기 금속층의 두께는 0.03㎛ 내지 10㎛인 것일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the thermal conductivity of the metal complex may be between 300 W / mK and 400 W / mK, the thickness of the base layer may be between 5 μm and 300 μm, and the thickness of the metal layer may be between 0.03 μm and 10 Mu m.

본 발명은 또한, 상기 금속복합체의 전체 두께에 대한 금속층의 두께는 0.5% 내지 25%인 것이고, 상기 베이스층은 전해 동박 또는 압연 동박인 것을 제공한다.The present invention also provides that the thickness of the metal layer with respect to the total thickness of the metal composite is 0.5% to 25%, and the base layer is an electrolytic copper foil or rolled copper foil.

상기 베이스층의 양면에서 상기 베이스층의 상부로 돌출되는 복수개의 돌출부를 포함하고, 상기 금속층은 상기 돌출부를 덮도록 구비되는 것일 수 있다.And a plurality of protrusions protruding from the both surfaces of the base layer to the upper portion of the base layer, wherein the metal layer is provided to cover the protrusions.

본 발명의 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프는 동박 베이스층; 상기 베이스층 일면 또는 양면상에 구비되고 니켈, 코발트 및 주석 중 하나 이상으로 이루어진 금속층; 및 상기 금속층의 일면 또는 양면상에 구비되는 점접착제층;을 포함하고, 상기 금속층은 상기 베이스층 상에 직접 접촉하여 구비되고, 상기 점접착제층은 아크릴계, 실리콘계, 에폭시계, 우레탄계, 폴리에스터계, 및 폴리이미드계 중 선택되는 적어도 어느 하나 이상인 것일 수 있다.The electromagnetic wave shielding and heat radiation metal tape of the present invention comprises: a copper foil base layer; A metal layer provided on one or both surfaces of the base layer and made of at least one of nickel, cobalt and tin; And a pressure-sensitive adhesive layer provided on one side or both sides of the metal layer, wherein the metal layer is provided in direct contact with the base layer, and the pressure-sensitive adhesive layer is made of an acrylic type, a silicone type, an epoxy type, a urethane type, , And a polyimide-based one.

상기 점접착제층은 전도성 파우더를 더 포함하고, 상기 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프는 50W/mK 내지 350W/mK의 열전도율을 갖되, 상기 금속층의 두께와 점접착제층의 두께에 따라 상이한 열전도율을 갖는 것일 수 있다.Wherein the point adhesive layer further comprises a conductive powder, The electromagnetic wave shielding and heat radiation metal tape has a thermal conductivity of 50 W / mK to 350 W / mK, and may have a different thermal conductivity depending on the thickness of the metal layer and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer.

또한, 상기 전도성 점접착제에 포함하고 있는 전도성 파우더는 Ni, Cu, Ag 및 Ag-코팅된Cu 중 선택되는 어느 하나 이상을 포함하고, 상기 전도성 파우더는 전도성 점접착제 내 0.1중량% 내지 20중량%를 포함한다.Also, the conductive powder contained in the conductive point adhesive includes at least one selected from the group consisting of Ni, Cu, Ag and Ag-coated Cu, and the conductive powder contains 0.1 to 20% by weight in the conductive point- .

상기 베이스층의 두께는 5㎛ 내지 300㎛이고, 상기 금속층의 두께는 0.03㎛ 내지 10㎛이며, 상기 금속테이프의 전체 두께에 대한 금속층의 두께는 0.5% 내지 25%인 것일 수 있다.The base layer may have a thickness of 5 to 300 탆, the metal layer may have a thickness of 0.03 to 10 탆, and the metal layer may have a thickness of 0.5 to 25% with respect to the total thickness of the metal tape.

본 발명은 또한, 상기 금속복합체와 이를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프를 포함하는 전자파 차폐와 방열용 금속복합체 및 금속테이프 및 이를 이용한 전기전자부품 및 전기전자제품의 형태로 구비될 수 있다.The present invention may also be embodied in the form of a metal composite for electronic shielding and heat dissipation including the metal composite, a composite sheet using the same, a composite film or a metal tape, a metal tape, and electric and electronic parts using the same.

이상 살펴본 바와 같은 본 발명에 따르면, 부식이 적어 환경친화적(eco-friendly)이며 향상된 열전도율을 보이는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체와 이를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프를 제공할 수 있다.As described above, according to the present invention, it is possible to provide an electromagnetic shielding and heat-dissipating metal complex exhibiting eco-friendly and improved thermal conductivity with little corrosion, and a composite sheet, a composite film or a metal tape using the same.

또한, 본 발명에 따르면 금속복합체와 이를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프를 포함하는 전기부품을 제공하는 것이고, 본 발명의 또 다른 목적은 금속복합체와 이를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프를 포함하여 얻어진 전자제품을 제공할 수 있다. Another object of the present invention is to provide a metal composite and a composite sheet, a composite film or a metal tape using the metal composite and a composite sheet using the metal composite, Can be obtained.

또한, 본 발명에 따르면 부식이 적은 금속을 사용하여 전자파 차폐 특성에 대한 장기적인 안정성을 부여하고, 바람직한 금속층의 두께 범위를 제공하여 열전도율을 향상시키며, 이에 우수한 전자파 차폐 특성 및 방열 특성을 구비한 금속복합체와 이를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프를 제공할 수 있다.Further, according to the present invention, it is possible to provide a metal complex having excellent electromagnetic wave shielding property and heat dissipation property by providing a long-term stability against electromagnetic wave shielding property by using a metal with low corrosion, And a composite sheet, a composite film or a metal tape using the same.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체의 구조를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 따른 베이스층의 단면도를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 구현예에 따른 돌출부의 앵커링(Anchoring, 정박 효과)을 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 일 구현예에 따른 돌출부의 에칭(Etching, 식각)을 도시한 것이다.
도 5는 본 발명의 일 구현예에 따른 핫디스크(Hot disk)방법을 이용한 열확산성을 구현한 것을 도시한 것이다.
도 6은 본 발명의 일 구현예에 따른 표면저항을 측정하기 위해 Sn/Cu/Sn 시편 측정 중에 찍은 사진인 것이다.
1 shows a structure of a metal complex for electromagnetic wave shielding and heat radiation according to an embodiment of the present invention.
2 illustrates a cross-sectional view of a base layer in accordance with one embodiment of the present invention.
FIG. 3 illustrates anchoring of a protrusion according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG.
FIG. 4 illustrates etching of a protrusion according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG.
FIG. 5 illustrates the implementation of thermal diffusivity using a hot disk method according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG.
Figure 6 is a photograph taken during Sn / Cu / Sn specimen measurement to measure the surface resistance according to one embodiment of the present invention.

본 발명은 방열목적으로 하는 동박 베이스층 및 상기 베이스층 일면 또는 양면상에 니켈, 코발트 및 주석 중 하나 이상으로 이루어진 금속층을 포함하고, 상기 금속층은 상기 베이스층 상에 직접 접촉하여 구비되는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체를 제공한다.The present invention provides a semiconductor device comprising a copper foil base layer for heat dissipation and a metal layer composed of at least one of nickel, cobalt and tin on one surface or both surfaces of the base layer, wherein the metal layer is provided in direct contact with the base layer, A heat-dissipating metal complex is provided.

본 발명은, 상기 베이스층의 일면 또는 양면상에 금속층이 구비되고, 상기 금속층의 일면 또는 양면에는 점접착제층을 더 포함하는 것일 수 있다.In the present invention, a metal layer may be provided on one side or both sides of the base layer, and a point-adhesive layer may be further formed on one or both sides of the metal layer.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 금속복합체의 열전도율은 300W/mK 내지 400W/mK인 것을 특징으로 하고, 상기 베이스층의 두께는 특별히 제한이 없고, 필요에 따라서 그 두께를 달리하는 것이 가능하나, 바람직하게는 상기 베이스층의 두께는 5㎛ 내지 300㎛인 것을 특징으로 하며, 상기 금속층의 두께는 0.03㎛ 내지 10㎛인 것일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the metal composite has a thermal conductivity of 300 W / mK to 400 W / mK, and the thickness of the base layer is not particularly limited and may be varied according to need Preferably, the base layer has a thickness of 5 to 300 탆, and the thickness of the metal layer may be 0.0 to 10 탆.

본 발명에서 금속층을 베이스층에 도금하는 방법에 있어서 롤투롤(roll-to-roll) 방식에 의하여 연속된 제조방법을 사용하기 위해서 동박의 두께는 300 ㎛ 미만인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 동박은 시트형태 및 롤투롤로 제작이 가능하나, 상기 동박을 효율적으로 대량생산하기 위하여 롤투롤 장비를 이용하여 생산할 수 있다. 상기 동박을 제조시 롤투롤 장비를 이용하는 과정에서, 상기 동박의 두께가 300㎛ 초과이면 장비의 구동성이 저하되어 생산성이 감소되며, 상기 동박에 컬 (curl) 등이 발생되어 품질이 저하될 수 있다. 또한, 상기 동박의 두께가 5㎛ 미만이면 롤투롤 장비에 의하여 상기 동박이 찢어지거나 혹은 주름 등이 불량이 발생하고 작업성이 저하되어 문제될 수 있다.In the present invention, in order to use a continuous manufacturing method by a roll-to-roll method in a method of plating a metal layer on a base layer, it is preferable to use a copper foil having a thickness of less than 300 μm. The copper foil can be produced in the form of a sheet and roll roll, but can be produced using a roll-to-roll equipment in order to efficiently mass-produce the copper foil. When the thickness of the copper foil is more than 300 탆 in the course of using the roll-to-roll equipment in manufacturing the copper foil, the driving property of the equipment is lowered and the productivity is decreased, and curl or the like is generated in the copper foil, have. If the thickness of the copper foil is less than 5 mu m, the copper foil may be torn or wrinkled due to roll-to-roll equipment, resulting in poor workability.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 금속복합체의 전체 두께에 대한 금속층의 두께는 0.5% 내지 25%일 수 있고, 상기 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체는 300W/mK 내지 400W/mK의 열전도율을 갖되, 상기 열전도율은 상기 금속층의 두께에 따라 다양한 값으로 구현될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the thickness of the metal layer with respect to the total thickness of the metal complex may be 0.5% to 25%, and the metal complex for electromagnetic wave shielding and heat radiation has a thermal conductivity of 300W / mK to 400W / mK , And the thermal conductivity may be varied according to the thickness of the metal layer.

상기 니켈, 코발트 및 주석의 도금층을 포함하는 동박 또는 금속복합체의 제조방법은 다음과 같다. 준비된 동박 또는 금속복합체 일면 또는 양면상에 니켈 또는 코발트 또는 주석 중 하나 또는 두 개 이상의 물질을 포함함으로써 제조하는 것이 가능하며, 바람직하게는 전해 또는 무전해 도금함으로써 제조할 수 있다.A method for producing a copper foil or a metal composite including the plating layer of nickel, cobalt and tin is as follows. The prepared copper foil or metal composite can be produced by including one or more of nickel, cobalt or tin on one surface or both surfaces, preferably by electrolytic or electroless plating.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 니켈, 코발트 및 주석의 도금방법은 알려진 모든 니켈, 코발트 및 주석 도금방법을 이용하는 것이 가능하다. 전해도금, 무전해도금, 용융도금 등과 같은 방식이 가능하다. 별법으로 상기 니켈, 코발트 및 주석 중 어느 하나 이상은 증착 또는 스퍼터링에 의하여 상기 동박 또는 금속복착체의 일면 또는 양면상에 구비될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the invention, the plating method of nickel, cobalt and tin is possible using all known nickel, cobalt and tin plating methods. Electrolytic plating, electroless plating, and hot-dip plating. Alternatively, at least one of the nickel, cobalt, and tin may be provided on one side or both sides of the copper foil or the metal complex by vapor deposition or sputtering, but is not limited thereto.

보다 상세하게는 본 발명에 따른 새로운 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체는 동박을 베이스층으로 하면서, 상기 동박 일면 또는 양면상에 금속층이 도금된 구조를 가지며, 상기 금속층은 니켈, 주석 및 코발트 중 하나 이상의 물질을 포함하는 것을 특징으로 한다.More specifically, the novel electromagnetic wave shielding and heat-radiating metal composite according to the present invention has a structure in which a metal layer is plated on one side or both sides of the copper foil while the copper foil is used as a base layer, and the metal layer is made of at least one of nickel, tin and cobalt And the like.

본 발명에 따른 금속층은 추가적으로 표면처리될 수 있다. 예를 들면, 상기 표면처리는 실란 커플링 처리를 포함할 수 있으며, 상기 실란 커플링 처리를 수행하는 경우에는 서로 이질적인 재료로 이루어진 계면, 예컨대 금속층과 상기 금속층의 상부에 구비되는 점접착제층과의 접착력이 향상될 수 있다.The metal layer according to the present invention can be further surface treated. For example, the surface treatment may include a silane coupling treatment. When the silane coupling treatment is performed, the interface between the metal layer and the adhesive layer provided on the metal layer and the interface made of dissimilar materials The adhesion can be improved.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 베이스층은 전해 동박 또는 압연 동박을 포함하고, 상기 베이스층의 일면 또는 양면에서 상기 베이스층의 상부로 돌출되는 복수개의 돌출부를 포함할 수 있다. 또한, 상기 금속층은 상기 돌출부가 외측으로 노출되지 않도록 상기 돌출부를 전체적으로 덮도록 구비되는 것일 수 있다. 상기 돌출부는 앵커링(Anchoring) 또는 에칭(Etching)일 수 있다. 상기 돌출부는 베이스층에서 접촉부분의 표면적을 증가시켜 표면저항은 감소시킬 수 있고, 또한 전기전도율은 증가시킬 수 있는 특징이 있다. 전술한 금속복합체는 다양한 형태로 구현이 가능하며, 예컨대 상기 금속복합체를 이용한 복합시트, 복합필름 또는 금속테이프 등을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the base layer may include an electrolytic copper foil or a rolled copper foil, and may include a plurality of protrusions protruding from the one side or both sides of the base layer to the top of the base layer. The metal layer may be formed to cover the protrusion entirely so that the protrusion is not exposed to the outside. The protrusion may be anchoring or etching. The protrusions can increase the surface area of the contact portion in the base layer, thereby reducing the surface resistance and increasing the electrical conductivity. The metal complex may be implemented in various forms, for example, a composite sheet using the metal complex, a composite film, a metal tape, or the like.

본 발명의 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프는 동박 베이스층; 상기 베이스층 일면 또는 양면상에 니켈, 코발트 및 주석 중 하나 이상으로 이루어진 금속층; 및 상기 금속층의 일면 또는 양면상에 구비되는 점접착제층;을 포함하고, 상기 금속층은 상기 베이스층 상에 직접 접촉하여 구비되고, 상기 점접착제층은 아크릴계, 실리콘계, 에폭시계, 우레탄계, 폴리에스터계, 및 폴리이미드계 중 선택되는 적어도 어느 하나 이상이며, 상기 점접착제층에 전도성 점접착제를 포함하며, 상기 전도성 점접착제에 전도성 파우더를 더 포함한다.The electromagnetic wave shielding and heat radiation metal tape of the present invention comprises: a copper foil base layer; A metal layer made of one or more of nickel, cobalt, and tin on one surface or both surfaces of the base layer; And a pressure-sensitive adhesive layer provided on one side or both sides of the metal layer, wherein the metal layer is provided in direct contact with the base layer, and the pressure-sensitive adhesive layer is made of an acrylic type, a silicone type, an epoxy type, a urethane type, , And a polyimide-based adhesive, wherein the adhesive layer comprises a conductive adhesive, and the conductive adhesive includes a conductive powder.

상기 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프는 50W/mK 내지 350W/mK의 열전도율을 갖되, 상기 금속층의 두께와 점접착제층의 두께에 따라 상이한 열전도율을 갖는 것일 수 있다.The electromagnetic wave shielding and heat radiation metal tape has a thermal conductivity of 50 W / mK to 350 W / mK, and may have a different thermal conductivity depending on the thickness of the metal layer and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer.

또한, 상기 전도성 점접착제에 포함하고 있는 전도성 파우더는 Ni, Cu, Ag 및 Ag-코팅된Cu 중 선택되는 어느 하나 이상을 포함하고, 상기 전도성 파우더는 전도성 점접착제 내 0.1중량% 내지 20중량%를 포함한다.Also, the conductive powder contained in the conductive point adhesive includes at least one selected from the group consisting of Ni, Cu, Ag and Ag-coated Cu, and the conductive powder contains 0.1 to 20% by weight in the conductive point- .

상기 베이스층의 두께는 5㎛ 내지 300㎛이고, 상기 금속층의 두께는 0.03㎛ 내지 10㎛이며, 상기 금속테이프의 전체 두께에 대한 금속층의 두께는 0.5% 내지 25%인 것일 수 있다.The base layer may have a thickness of 5 to 300 탆, the metal layer may have a thickness of 0.03 to 10 탆, and the metal layer may have a thickness of 0.5 to 25% with respect to the total thickness of the metal tape.

구체적으로, 상기 금속복합체 및 금속테이프는 전기전자부품 중 일부이거나 혹은 전기전자제품에 사용될 수 있다.Specifically, the metal complex and the metal tape can be used as part of electric / electronic parts or in electric / electronic products.

보다 구체적으로, 상기 금속복합체 및 금속테이프는 상기 베이스층과 금속층을 포함하여 구비되고, 상기 금속복합체 및 금속테이프는 전기전자부품 중 일부이거나 혹은 전기전자제품에 사용될 수 있다.More specifically, the metal complex and the metal tape include the base layer and the metal layer, and the metal complex and the metal tape may be part of the electric / electronic part or used in the electric / electronic product.

본 발명의 전기전자부품은 배터리, 모터, IC 칩 등일 수 있으나 이들로 한정되지 않으며, 당해 기술분야에서 방열이 필요한 것이라면 모두 가능하다.The electric / electronic part of the present invention may be a battery, a motor, an IC chip, or the like, but the present invention is not limited thereto, and any type of heat dissipation may be used in the art.

본 발명의 전자제품은 또한, 평판 TV와 같은 박막 평판표시장치, 스마트폰, 스마트패드와 같은 휴대용 전자기기 등 일수 있으나 이들로 한정되지 않으며 당해 기술분야에서 방열이 필요한 것이라면 모두 가능하다.The electronic product of the present invention may also be a thin film flat panel display device such as a flat panel TV, a portable electronic device such as a smart phone, a smart pad, and the like, but is not limited thereto and may be any device that requires heat dissipation in the related art.

예를 들어, 상기 전자제품은 유연성 TV와 같은 유연성 표시장치(flexible display device)일 수 있다. 상기 금속테이프는 우수한 유연성을 가짐에 의하여 유연성이 요구되는 전자제품에 광범위하게 사용될 수 있다.For example, the electronic product may be a flexible display device such as a flexible television. The metal tape has excellent flexibility and can be widely used in electronic products requiring flexibility.

이하, 본 발명을 실시예를 통하여 구체적으로 설명한다. 그러나, 아래의 실시예는 오로지 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 요지에 따라 본 발명의 범위가 아래의 실시예에 국한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. It will be apparent, however, to one skilled in the art that the scope of the present invention is not limited to the following embodiments in accordance with the gist of the present invention.

금속복합체 및 금속테이프의 형성Formation of metal composites and metal tapes

실시예Example 1. One.

동박 표면에 아래의 조건으로 금속층의 도금처리를 실시하였다. 두께 35㎛인 압연 동박(C1100계)을 100g/l 황산에서 5초동안 침지하고 산세처리 후 증류수로 세척한 후에, 동박 양면의 표면에 NiSO4 · 6H2O 농도 300g/l, HBO3 농도 30g/l, 온도 30°C, 전류밀도 5 A/dm2, pH 3.5에서 일정 시간 동안 도금하여 양면에 각각 0.5㎛ 도금하였다. The surface of the copper foil was plated with a metal layer under the following conditions. A 35 탆 thick rolled copper foil (C1100 type) was immersed in 100 g / l sulfuric acid for 5 seconds, pickled, washed with distilled water, and then coated with NiSO 4 .6H 2 O 300 g / l and HBO 3 30 g / l, a temperature of 30 ° C, a current density of 5 A / dm 2 , and a pH of 3.5.

실시예Example 2. 2.

동박 표면에 아래의 조건으로 금속층의 도금처리를 실시하였다. 두께 35㎛인 압연 동박(C1100계)을 100g/l 황산에서 5초동안 침지하고 산세처리 후 증류수로 세척한 후에, 동박 양면의 표면에, (CH3SO3)2Sn 농도가 100g/l, SH3 농도가 3g/l, CH3SO3H 농도가 30g/l 온도 30°C, 전류밀도 10 A/dm2, pH 3.5에서 일정 시간 동안 도금하여 양면에 각각 0.5㎛ 도금하였다. The surface of the copper foil was plated with a metal layer under the following conditions. (CH 3 SO 3 ) 2 Sn concentration of 100 g / l on the surface of both surfaces of the copper foil after immersing the copper foil (C1100 series) having a thickness of 35 탆 in 100 g / l sulfuric acid for 5 seconds, pickling treatment, A SH 3 concentration of 3 g / l, a CH 3 SO 3 H concentration of 30 g / l, a temperature of 30 ° C, a current density of 10 A / dm 2 and a pH of 3.5.

실시예Example 3. 3.

도금된 금속이 CoSO4 · 5H2O인 것을 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 제조하였다.And is, were prepared in the same manner as in Example 1, except that the zinc-coated metal used in that CoSO 4 · 5H 2 O.

실시예Example 4. 4.

40wt중량%인 Acryl계 점착제(에이케이켐텍 P-120H) 110g에 에틸아세테이트(삼전화학) 50g, Ni 파우더 1.5wt중량%, 경화제(에이케이켐텍 X300) 1중량% 계량 후 기계식 교반기를 사용하여 500rpm으로 30분간 분산하였으며, 이 때 고형분의 함량으로 약 25wt중량%을 사용하였다. 그 다음으로, 50㎛ 이형 PET필름(SKC SG31)에 어플리케이터를 사용하여 60㎛ 두께로 도포 후, 110°C 오븐에서 2분간 건조하고, 건조 후 약 15㎛의 전도성 점착제 층을 수득하였다. 마지막으로, 36㎛ Ni/Cu/Ni 압연 동박에 전사코팅을 수행하여 총 두께 51um인 금속테이프 제조하였다.50 g of ethyl acetate (Samcheon Chemical), 1.5 wt% of Ni powder and 1 wt% of a curing agent (ACKEMECHT X300) were weighed and mixed with 110 g of a 40 wt% acrylic adhesive (ACKEMECHTEK P-120H) For 30 minutes, and about 25 wt% by weight was used as the solid content. Next, a 50 탆 -thick releasable PET film (SKC SG31) was applied to a thickness of 60 탆 by using an applicator, and then dried in an oven at 110 캜 for 2 minutes to obtain a conductive pressure-sensitive adhesive layer of about 15 탆 after drying. Lastly, a 36 占 퐉 Ni / Cu / Ni rolled copper foil was transferred to a metal tape having a total thickness of 51 占 퐉.

실시예Example 5. 5.

압연동박이 Sn/Cu/Sn인 것을 제외하고는, 실시예 4와 동일하게 제조하였다.The procedure of Example 4 was repeated except that the rolled copper foil was Sn / Cu / Sn.

실시예Example 6. 6.

압연동박이 Co/Cu/Co인 것을 제외하고는, 실시예 4와 동일하게 제조하였다.The procedure of Example 4 was repeated except that the rolled copper foil was Co / Cu / Co.

비교예Comparative Example 1. One.

압연동박이 미도금된 Cu를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게제조하였다.A copper foil was prepared in the same manner as in Example 1, except that the rolled copper foil was made of unplated Cu.

비교예Comparative Example 2. 2.

압연동박이 미도금된 Cu를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 4와 동일하게 제조하였다.A copper foil was prepared in the same manner as in Example 4, except that uncoated Cu was used as the rolled copper foil.

본 발명의 실시예를 통해 금속테이프를 제조하였으며, 각 시트의 도금을 하기 위한 조건을 하기 [표 1]에 나타내었다. (도 1 참고)Metal tapes were prepared through the examples of the present invention, and conditions for plating each sheet were shown in Table 1 below. (See FIG. 1)

금속metal 도금액Plating solution 도금액농도(g/l)Plating solution concentration (g / l) HBO3 농도 (g/l) HBO 3 concentration (g / l) 온도(℃)Temperature (℃) 전류밀도(A/dm2)Current density (A / dm2) 두께(㎛)Thickness (㎛) SHSH 33 농도(g/l) Concentration (g / l) 니켈nickel NiSO4· 6H2ONiSO 4 .6H 2 O 300300 3030 3030 55 0.50.5 -- 코발트cobalt CoSO4· 5H2OCoSO 4 · 5H 2 O 300300 3030 3030 55 0.50.5 -- 주석Remark (CH3SO3)2Sn(CH 3 SO 3 ) 2 Sn 100100 CH3SO3H농도(g/l)CH 3 SO 3 H concentration (g / l) 3030 1010 0.50.5 33 3030

본 발명의 니켈의 도금 목적은 동박(copper foil) 부식을 방지하는 것이고, 주석의 도금 목적은 표면의 낮은 저항값을 도출하는 것이며, 코발트의 도금 목적은 표면의 흑화를 처리하기 위함이나 이에 국한되지는 않는다. The purpose of plating the nickel of the present invention is to prevent copper foil corrosion and the purpose of tin plating is to derive the low resistance value of the surface and the purpose of plating the cobalt is to treat the blackening of the surface, .

이에, 확보된 26개의 금속층을 [표 2]에 나타내었으며, 이를 금속테이프로 제작하였다.The 26 metal layers thus obtained are shown in Table 2, and they were made of metal tape.

번호number 금속metal 번호number 금속metal 1One CuCu 1414 Ni/Co/Cu/NiNi / Co / Cu / Ni 22 Ni/Cu Ni / Cu 1515 Ni/Co/Cu/CoNi / Co / Cu / Co 33 Sn/Cu Sn / Cu 1616 Ni/Co/Cu/SnNi / Co / Cu / Sn 44 Co/Cu Co / Cu 1717 Sn/Co/Cu/SnSn / Co / Cu / Sn 55 Ni/Cu/NiNi / Cu / Ni 1818 Sn/Co/Cu/CoSn / Co / Cu / Co 66 Sn/Cu/SnSn / Cu / Sn 1919 Sn/Co/Cu/NiSn / Co / Cu / Ni 77 Co/Cu/CoCo / Cu / Co 2020 Ni/Sn/Co/Cu/NiNi / Sn / Co / Cu / Ni 88 Ni/Cu/SnNi / Cu / Sn 2121 Ni/Sn/Co/Cu/SnNi / Sn / Co / Cu / Sn 99 Ni/Cu/CoNi / Cu / Co 2222 Ni/Sn/Co/Cu/CoNi / Sn / Co / Cu / Co 1010 Sn/Cu/CoSn / Cu / Co 2323 Ni/Sn/Co/Cu/Ni/SnNi / Sn / Co / Cu / Ni / Sn 1111 Ni/Sn/Cu/NiNi / Sn / Cu / Ni 2424 Ni/Sn/Co/Cu/Ni/CoNi / Sn / Co / Cu / Ni / Co 1212 Ni/Sn/Cu/SnNi / Sn / Cu / Sn 2525 Ni/Sn/Co/Cu/Sn/CoNi / Sn / Co / Cu / Sn / Co 1313 Ni/Sn/Cu/CoNi / Sn / Cu / Co 2626 Ni/Sn/Co/Cu/Ni/Sn/CoNi / Sn / Co / Cu / Ni / Sn / Co /: 베이스층과 금속층의 일면 또는 양면상을 구분하기 위함 / : To distinguish one side or both sides of base layer and metal layer

평가예Evaluation example 1.  One. 열확산성Thermal diffusivity 평가 evaluation

실시예에서 제조된 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프의 열확산성을 ISO 22007-2 측정규격에 따라 핫디스크(Hot Disk)법으로 평가하였다. 사용된 측정기기는 TPS 2500S(스웨덴, Hot Disk 제품)이었다. The thermal diffusivity of the electromagnetic wave shielding and heat-radiating metallic tape manufactured in the examples was evaluated by the hot disk method according to the measurement standard of ISO 22007-2. The measuring instrument used was the TPS 2500S (Hot Disk, Sweden).

핫디스크 방법은 분석시편을 70 x 70(mm)으로 준비하고, 히터(Heater)가 포함된 7577 타입 센서에 시료를 직접 접촉시켜 화력/발열량(Heating power)은 0.1W, 측정시간은 2초의 시간에 따른 열확산 속도 및 열전도도를 산출하였다. 이 때, 샘플 사이즈는 70 x 70(mm) 72㎛이상(두께 낮은 경우 시편 겹쳐서 측정)의 것을 사용하였으며, 슬랩모드(Slap mode)로 실시하여 측정결과의 일부를 하기 [표 3]에 나타내었다.In the hot disk method, the analytical specimen is prepared at 70 x 70 (mm), the sample is directly contacted to the 7577 type sensor including the heater, the heating power is 0.1 W, the measuring time is 2 seconds And the thermal conductivity and thermal conductivity were calculated. In this case, a sample size of 70 x 70 (mm) 72 μm or more (measured with a specimen in the case of a lower thickness) was used, and a slab mode was used to measure a part of the measurement results as shown in Table 3 below .

번호number 금속metal 열전도도(W/Thermal conductivity (W / mKmK )) 번호number 금속metal 열전도도(W/Thermal conductivity (W / mKmK )) 1One CuCu 400.0400.0 1414 Ni/Co/Cu/NiNi / Co / Cu / Ni 386.9386.9 22 Ni/Cu Ni / Cu 395.4395.4 1515 Ni/Co/Cu/CoNi / Co / Cu / Co 386.8386.8 33 Sn/Cu Sn / Cu 395.2395.2 1616 Ni/Co/Cu/SnNi / Co / Cu / Sn 386.7386.7 44 Co/Cu Co / Cu 395.3395.3 1717 Sn/Co/Cu/SnSn / Co / Cu / Sn 386.3386.3 55 Ni/Cu/NiNi / Cu / Ni 391.2391.2 1818 Sn/Co/Cu/CoSn / Co / Cu / Co 386.3386.3 66 Sn/Cu/SnSn / Cu / Sn 390.7390.7 1919 Sn/Co/Cu/NiSn / Co / Cu / Ni 386.7386.7 77 Co/Cu/CoCo / Cu / Co 390.8390.8 2020 Ni/Sn/Co/Cu/NiNi / Sn / Co / Cu / Ni 382.4382.4 88 Ni/Cu/SnNi / Cu / Sn 390.9390.9 2121 Ni/Sn/Co/Cu/SnNi / Sn / Co / Cu / Sn 382.2382.2 99 Ni/Cu/CoNi / Cu / Co 391.0391.0 2222 Ni/Sn/Co/Cu/CoNi / Sn / Co / Cu / Co 382.2382.2 1010 Sn/Cu/CoSn / Cu / Co 390.7390.7 2323 Ni/Sn/Co/Cu/Ni/SnNi / Sn / Co / Cu / Ni / Sn 378.2378.2 1111 Ni/Sn/Cu/NiNi / Sn / Cu / Ni 386.7386.7 2424 Ni/Sn/Co/Cu/Ni/CoNi / Sn / Co / Cu / Ni / Co 378.3378.3 1212 Ni/Sn/Cu/SnNi / Sn / Cu / Sn 386.4386.4 2525 Ni/Sn/Co/Cu/Sn/CoNi / Sn / Co / Cu / Sn / Co 378.0378.0 1313 Ni/Sn/Cu/CoNi / Sn / Cu / Co 386.7386.7 2626 Ni/Sn/Co/Cu/Ni/Sn/CoNi / Sn / Co / Cu / Ni / Sn / Co 374.1374.1 /: 베이스층과 금속층의 일면 또는 양면상을 구분하기 위함 / : To distinguish one side or both sides of base layer and metal layer

평가예 2.Evaluation example 2.

(( 1)전자파1) Electromagnetic waves 차폐 특성 평가 Evaluation of shielding property

실시예에서 제조된 전자파 차폐와 방열용 금속복합체 및 금속테이프에 대하여 금속테이프의 전자파 차폐 특성을 네트워크 어낼라이저(Network analyzer, Agilent, E8364A)를 사용하여 측정하였다. 상기 금속테이프에 가해지는 소정의 전기적 신호의 값과 금속테이프로부터 반사되는 전기적 신호의 값을 측정하여, 이들의 비율로부터 차폐율을 계산하였다. 예를 들어, 가해지는 신호가 전부 반사되면 차폐율은 100%이다. 본 발명의 가능한 금속테이프 구성은 실시예에 나타내었으며, 비교예에는 전도성 점접착제층을 단독으로 사용한 것과 베이스층 및 전도성 점접착제층을 혼합하여 제조한 것을 하기 [표 4]에 나타내었다. The electromagnetic wave shielding characteristics of the metal tape on the electromagnetic wave shielding and heat dissipating metal composite and the metal tape manufactured in the examples were measured using a network analyzer (Agilent, E8364A). The value of a predetermined electrical signal applied to the metal tape and the value of an electrical signal reflected from the metal tape were measured and the shielding ratio was calculated from the ratio. For example, if the applied signal is fully reflected, the shielding rate is 100%. The possible metal tapes according to the present invention are shown in the examples, and the comparative examples are shown in Table 4 in which the conductive point adhesive layer alone was used, and the base layer and the conductive point adhesive layer were mixed.

번호number 금속metal 표면저항(Ω/sq)Surface resistance (Ω / sq) 번호number 금속metal 표면저항(Ω/sq)Surface resistance (Ω / sq) 1One CuCu 0.0020.002 1414 Ni/Co/Cu/NiNi / Co / Cu / Ni 0.0020.002 22 Ni/Cu Ni / Cu 0.0020.002 1515 Ni/Co/Cu/CoNi / Co / Cu / Co 0.0030.003 33 Sn/Cu Sn / Cu 0.0010.001 1616 Ni/Co/Cu/SnNi / Co / Cu / Sn 0.0020.002 44 Co/Cu Co / Cu 0.0030.003 1717 Sn/Co/Cu/SnSn / Co / Cu / Sn 0.0010.001 55 Ni/Cu/NiNi / Cu / Ni 0.0020.002 1818 Sn/Co/Cu/CoSn / Co / Cu / Co 0.0030.003 66 Sn/Cu/SnSn / Cu / Sn 0.0010.001 1919 Sn/Co/Cu/NiSn / Co / Cu / Ni 0.0020.002 77 Co/Cu/CoCo / Cu / Co 0.0030.003 2020 Ni/Sn/Co/Cu/NiNi / Sn / Co / Cu / Ni 0.0020.002 88 Ni/Cu/SnNi / Cu / Sn 0.0020.002 2121 Ni/Sn/Co/Cu/SnNi / Sn / Co / Cu / Sn 0.0020.002 99 Ni/Cu/CoNi / Cu / Co 0.0020.002 2222 Ni/Sn/Co/Cu/CoNi / Sn / Co / Cu / Co 0.0030.003 1010 Sn/Cu/CoSn / Cu / Co 0.0020.002 2323 Ni/Sn/Co/Cu/Ni/SnNi / Sn / Co / Cu / Ni / Sn 0.0020.002 1111 Ni/Sn/Cu/NiNi / Sn / Cu / Ni 0.0020.002 2424 Ni/Sn/Co/Cu/Ni/CoNi / Sn / Co / Cu / Ni / Co 0.0030.003 1212 Ni/Sn/Cu/SnNi / Sn / Cu / Sn 0.0010.001 2525 Ni/Sn/Co/Cu/Sn/CoNi / Sn / Co / Cu / Sn / Co 0.0020.002 1313 Ni/Sn/Cu/CoNi / Sn / Cu / Co 0.0020.002 2626 Ni/Sn/Co/Cu/Ni/Sn/CoNi / Sn / Co / Cu / Ni / Sn / Co 0.0040.004 /: 베이스층과 금속층의 일면 또는 양면상을 구분하기 위함 / : To distinguish one side or both sides of base layer and metal layer

상기 [표 4]와 관련하여, 본 발명의 금속테이프는 도금 전 후 상온에서 동박 표면에 산화가 발생하기 전의 표면저항을 30회 측정한 후, 이에 대한 평균값을 나타내었다.With respect to Table 4, the surface resistance of the metal tape before and after the plating was measured at room temperature before the occurrence of oxidation on the surface of the copper foil was measured 30 times, and the average value thereof was shown.

결과적으로, 0.001Ω 내지 0.004Ω로 나타난 값은 표면저항이 낮은 수준인 것으로, 표면저항이 낮을 때 전기전도도가 높아지므로 높은 차폐율을 제공하는 것을 알 수 있었다.As a result, it has been found that the value represented by 0.001? To 0.004? Is a low level of surface resistance, and a high shielding ratio is obtained because the electrical conductivity is increased when the surface resistance is low.

(( 2)열확산성2) Thermal diffusivity 및 전자파 차폐의  And electromagnetic shielding 실시예Example // 비교예Comparative Example 비교분석 평가 Comparative Analysis and Evaluation

실시예Example // 비교예Comparative Example   금속metal 열전도도(W/Thermal conductivity (W / mKmK )) 표면저항(Ω)Surface Resistance (Ω) Shielding Effectiveness(dB)Shielding Effectiveness (dB) AA BB AA BB AA BB 실시예 1Example 1 Ni/Cu/NiNi / Cu / Ni 391.2391.2 391.0391.0 0.0020.002 0.0030.003 82.9582.95 81.1281.12 실시예 2Example 2 Sn/Cu/SnSn / Cu / Sn 390.7390.7 390.5390.5 0.0010.001 0.0010.001 83.6483.64 83.0583.05 실시예 3Example 3 Co/Cu/CoCo / Cu / Co 390.8390.8 390.7390.7 0.0030.003 0.0050.005 81.7781.77 80.1080.10 비교예 1Comparative Example 1 CuCu 400.0400.0 399.8 399.8 0.0020.002 0.0100.010 82.0182.01 79.9279.92 A: 상온 B: 온도 50°C, 습도 95% 120시간 신뢰성 평가 후 분석A: room temperature B: temperature 50 ° C, humidity 95% 120 hours

본 발명에서 A(상온) 상태 실시예 1 내지 3의 열전도도 값은 비교예 1의 열전도도의 값과 대조하였을 때, 약 2.5% 감소되는 것을 확인할 수 있었다.In the present invention, A (normal temperature) state The thermal conductivity values of Examples 1 to 3 were confirmed to be about 2.5% when they were compared with the thermal conductivity values of Comparative Example 1.

이와 같은 결과는 니켈(Ni), 주석(Sn), 코발트(Co)의 경우, 열전도도 값이 100W/mk 이하로 낮은 것으로, Cu에 상기 금속으로 도금하여 복합체를 형성하였을 때 보다 단일 Cu의 열전도도 값이 높게 형성되기 때문인 것으로 보여진다.These results show that the thermal conductivity of Ni, Sn and Co is as low as 100 W / mk or less, which is lower than that of the composite of Cu with the metal, This is due to the fact that the value is high.

또한, B(온도 50°C) 상태 실시예 1 내지 3의 열전도도 값과 비교예 1의 열전도도 값의 변화는 크게 나타나지 않았으므로, 원소재 자체의 열전도도 값은 표면 산화와 관계없이 값이 유지되는 것을 확인할 수 있었다. 더 나아가, 표면저항에 있어서는 B 상태 비교예 1의 경우 산화 방지층이 없으므로, Cu 표면 산화가 발생되어 실시예 1 내지 3 대비 표면저항 값의 변화가 큰 것을 확인하였다.The thermal conductivity values of Examples 1 to 3 and the thermal conductivity values of Comparative Example 1 were not greatly changed, so that the thermal conductivity values of the raw materials themselves were not affected by surface oxidation It can be confirmed that it is maintained. Furthermore, in the case of the B state Comparative Example 1, there was no oxidation preventing layer in the surface resistance, so that the Cu surface oxidation occurred, and it was confirmed that the surface resistance value of Examples 1 to 3 was largely changed.

아울러, EMI 차폐성능은 동박 자체의 차폐성능이 뛰어나므로 A상태 및 B상태 모두 높은 수치로 확인되며, 표면 산화에 따른 변화율은 미미한 것으로 나타났다. 구체적으로, 실시예 1 내지 3 및 비교예 1의 수치는 99% 이상 EMI 차폐되는 수치인 것을 확인할 수 있었다.In addition, the shielding performance of the copper foil is superior to that of the copper foil, so both A and B states are found to be high values, and the rate of change due to surface oxidation is small. Specifically, the numerical values of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were found to be EMI shielding values of 99% or more.

따라서, 실시예 1 내지 3의 경우 Cu 표면에 니켈(Ni), 주석(Sn), 코발트(Co)층이 형성되어 Cu 표면의 산화를 방지하므로, 표면저항 값의 변화율이 적은 것을 확인하였다. 이에, 방열성능 감소폭 대비 표면저항 값의 증가가 되는 것을 억제할 수 있으므로, 도금 효과가 우수하게 나타남을 확인 할 수 있었다.Therefore, in Examples 1 to 3, nickel (Ni), tin (Sn), and cobalt (Co) layers were formed on the Cu surface to prevent oxidation of the Cu surface. As a result, it is possible to suppress the increase of the surface resistance value compared to the heat radiation performance reduction width, and it is confirmed that the plating effect is excellent.

평가예Evaluation example 3. 전도성 점착제 적용 금속테이프의 표면저항 값 변화 평가 3. Evaluation of change of surface resistance value of metal tape applied with conductive adhesive

실시예Example // 비교예Comparative Example   상세구조Detailed structure A(Ω)A (Ω) BB 실시예 4Example 4 Ni/Cu/ Ni + 전도성 점착제 Ni / Cu / Ni + conductive adhesive 0.0150.015 OO 실시예 5Example 5 Sn/Cu/ Sn + 전도성 점착제 Sn / Cu / Sn + conductive adhesive 0.0070.007 OO 실시예 6Example 6 Co/Cu/Co + 전도성 점착제 Co / Cu / Co + Conductive Adhesive 0.0210.021 XX 비교예 2Comparative Example 2 Cu + 전도성 점착제Cu + conductive adhesive 0.0220.022 XX A: 상온 B: 온도 50°C, 습도 95중량% 120시간 신뢰성 평가 후 분석
O: A 상태 표면저항 대비 50%미만 증가인 경우
X: B 상태 표면저항 대비 100 %이상 증가인 경우
A: room temperature B: temperature 50 ° C, humidity 95%
O: Less than 50% increase in A state surface resistance
X: B state In case of more than 100% increase in surface resistance

본 발명은 실시예 4 내지 6 및 비교예 2의 방법으로 금속테이프의 층 내 전도성 점착제를 코팅하여 A 상태 및 B 상태에서 표면저항 값의 변화를 나타내었다. 보다 구체적으로, 실시예 4 내지 5에서는 A 상태와 대비하여 B 상태에서도 안정적인 저항값을 나타내는 반면, 실시예 6에서는 저항값이 높게 측정되고 있으므로, Co의 도금효과가 미비한 것을 확인하였다. 또한, 비교예 2의 경우 실시예 6과 마찬가지로 B상태에서 Cu 표면에 발생한 산화로 인해 전도성 점착제와 Cu 계면에 발생한 산화피막과 반응하여 전도성 점착제의 경시변화가 발생하였다. 따라서 비교예 2의 경우 표면저항 값의 변화율이 크게 증가되어 전도성 점착제를 적용하기 어려운 것을 확인하였다.The present invention shows the change of the surface resistance value in the state A and the state B by coating the conductive adhesive in the layer of the metal tape by the methods of Examples 4 to 6 and Comparative Example 2. More specifically, in Examples 4 to 5, the resistance value was stable even in the state B as compared to the state A, whereas in Example 6, the resistance value was measured to be high, so that Co plating effect was insufficient. In the case of Comparative Example 2, the conductive adhesive was reacted with the oxide film formed on the Cu interface due to oxidation on the Cu surface in the state B as in Example 6, and the conductive adhesive gradually changed with time. Therefore, in the case of Comparative Example 2, it was confirmed that the rate of change of the surface resistance value was greatly increased, making it difficult to apply the conductive adhesive.

따라서, 본 발명의 결과를 토대로 산화 방지 성능을 비교하여 보면, Ni > Sn > Co > Cu의 순서대로 나타났으며, 표면저항의 성능은 Sn ≥ Ni > Co > Cu의 순서대로 나타나는 것임을 확인하였다.Therefore, it was confirmed that Ni> Sn> Co> Cu in the order of Ni> Sn> Co> Cu in the order of Sn> Ni> Co> Cu.

실시예의 금속테이프 제조시에 압연 동박 대신에 동일한 두께의 전해 동박을 사용한 경우에도 실질적으로 동일한 전자파 차폐 특성 결과를 보여주었다. 상기 압연 동박은 상업적으로 입수가능한 것이라면 특별히 한정되지 않는다.Substantially the same electromagnetic wave shielding property was obtained even when an electrolytic copper foil of the same thickness was used in place of the rolled copper foil in the production of the metal tape of the examples. The rolled copper foil is not particularly limited as long as it is commercially available.

10: 돌출부
20: 앵커링(Anchoring)
30: 에칭(Etching)
100: 베이스층.
200: 금속층
10:
20: Anchoring
30: Etching
100: base layer.
200: metal layer

Claims (20)

동박 베이스층; 및
상기 베이스층 일면 또는 양면상에 니켈, 코발트 및 주석 중 하나 이상으로 이루어진 금속층;을 포함하고,
상기 금속층은 상기 베이스층 상에 직접 접촉하여 구비되는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체.
A copper foil base layer; And
And a metal layer made of one or more of nickel, cobalt, and tin on one side or both sides of the base layer,
Wherein the metal layer is in direct contact with the base layer.
제 1항에 있어서,
상기 베이스층의 일면 또는 양면상에 금속층이 구비되고, 상기 금속층의 일면 또는 양면에는 점접착제층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체.
The method according to claim 1,
The metal complex for electromagnetic wave shielding and heat dissipation according to claim 1, further comprising a metal layer on one side or both sides of the base layer, and a point adhesive layer on one or both sides of the metal layer.
제 1항에 있어서,
상기 금속복합체의 열전도율은 300W/mK 내지 400W/mK인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체.
The method according to claim 1,
Wherein the metal composite has a thermal conductivity of 300 W / mK to 400 W / mK.
제 1항에 있어서,
상기 베이스층의 두께는 5㎛ 내지 300㎛인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체.
The method according to claim 1,
Wherein the base layer has a thickness of 5 to 300 占 퐉.
제 1항에 있어서,
상기 금속층의 두께는 0.03㎛ 내지 10㎛인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체.
The method according to claim 1,
Wherein the metal layer has a thickness of 0.03 탆 to 10 탆.
제 1항에 있어서,
상기 금속복합체의 전체 두께에 대한 금속층의 두께는 0.5% 내지 25%인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the metal layer with respect to the total thickness of the metal composite body is 0.5% to 25%.
제 1항에 있어서,
상기 베이스층은 전해 동박 또는 압연 동박인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체.
The method according to claim 1,
Wherein the base layer is an electrolytic copper foil or a rolled copper foil.
제 1항에 있어서,
상기 베이스층의 양면에서 상기 베이스층의 상부로 돌출되는 복수개의 돌출부를 포함하고, 상기 금속층은 상기 돌출부를 덮도록 구비되는 전자파 차폐 및 방열용 금속복합체.
The method according to claim 1,
And a plurality of protrusions protruding from the both sides of the base layer to an upper portion of the base layer, wherein the metal layer covers the protrusions.
제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 금속복합체를 포함하는 전자파 차폐 및 방열용 전기전자부품.9. An electric and electronic device for shielding and heat-dissipating electromagnetic waves comprising a metal composite according to any one of claims 1 to 8. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 금속복합체를 채용한 전자제품.An electronic product employing the metal composite according to any one of claims 1 to 8. 동박 베이스층;
상기 베이스층 일면 또는 양면상에 니켈, 코발트 및 주석 중 하나 이상으로 이루어진 금속층; 및
상기 금속층의 일면 또는 양면상에 구비되는 점접착제층;을 포함하고,
상기 금속층은 상기 베이스층 상에 직접 접촉하여 구비되고,
상기 점접착제층은 아크릴계, 실리콘계, 에폭시계, 우레탄계, 폴리에스터계, 및 폴리이미드계 중 선택되는 적어도 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프.
A copper foil base layer;
A metal layer made of one or more of nickel, cobalt, and tin on one surface or both surfaces of the base layer; And
And a pressure-sensitive adhesive layer provided on one or both surfaces of the metal layer,
Wherein the metal layer is provided in direct contact with the base layer,
Wherein the point adhesive layer is at least one selected from acrylic, silicone, epoxy, urethane, polyester, and polyimide.
제 11항에 있어서,
상기 점접착제층은 전도성 파우더를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프.
12. The method of claim 11,
Wherein the pressure-sensitive adhesive layer further comprises a conductive powder.
제 11항에 있어서,
상기 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프는 50W/mK 내지 350W/mK의 열전도율을 갖되,
상기 금속층의 두께와 점접착제층의 두께에 따라 상이한 열전도율을 갖는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프.
12. The method of claim 11,
The electromagnetic wave shielding and heat radiation metal tape has a thermal conductivity of 50 W / mK to 350 W / mK,
Wherein the metal layer has a different thermal conductivity depending on the thickness of the metal layer and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer.
제 11항에 있어서,
상기 전도성 점접착제에 포함하고 있는 전도성 파우더는 Ni, Cu, Ag 및 Ag-코팅된Cu 중 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프.
12. The method of claim 11,
Wherein the conductive paste contained in the conductive point adhesive includes at least one selected from the group consisting of Ni, Cu, Ag and Ag-coated Cu.
제 11항에 있어서,
상기 전도성 파우더는 전도성 점접착제 내 0.1중량% 내지 20중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프.
12. The method of claim 11,
Wherein the conductive powder comprises 0.1 wt% to 20 wt% in the conductive point adhesive.
제 11항에 있어서,
상기 베이스층의 두께는 5㎛ 내지 300㎛인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프.
12. The method of claim 11,
Wherein the base layer has a thickness of 5 to 300 占 퐉.
제 11항에 있어서,
상기 금속층의 두께는 0.03㎛ 내지 10㎛인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프.
12. The method of claim 11,
Wherein the metal layer has a thickness of 0.03 mu m to 10 mu m.
제 11항에 있어서,
상기 금속테이프의 전체 두께에 대한 금속층의 두께는 0.5% 내지 25%인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 및 방열용 금속테이프.
12. The method of claim 11,
Wherein the thickness of the metal layer with respect to the total thickness of the metal tape is 0.5% to 25%.
제 11항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 따른 금속테이프를 포함하는 전자파 차폐 및 방열용 전기전자부품.An electric and electronic device for shielding and radiating electromagnetic waves, comprising the metal tape according to any one of claims 11 to 18. 제 11항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 따른 금속테이프를 채용한 전자제품.



An electronic product employing the metal tape according to any one of claims 11 to 18.



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KR20210030667A (en) * 2019-09-10 2021-03-18 대한민국(농촌진흥청장) Steamed Astragali Radix Production Method for Increase the Active Ingredient in Astragali Radix Extract
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WO2023027546A1 (en) * 2021-08-27 2023-03-02 주식회사 아모센스 Electromagnetic wave- and magnetic field-absorbing-and-shielding sheet, and electronic device comprising same

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