KR20150097493A

KR20150097493A - 4 염기성 아연 아미노산 할로겐화물 착물과 시스테인을 함유하는 2 성분 조성물

Info

Publication number: KR20150097493A
Application number: KR1020157015476A
Authority: KR
Inventors: 쯔치앙 리우; 롱 판; 조셉 콘베리; 샤오탕 유안; 하쉬 엠. 트리베디
Original assignee: 콜게이트-파아므올리브캄파니
Priority date: 2012-12-19
Filing date: 2013-11-07
Publication date: 2015-08-26
Also published as: TW201429497A; PH12015501344A1; IN2015DN04226A; KR20150097505A; MX368896B; WO2014099166A2; EP2934449A2; PH12015501337A1; RU2629086C2; BR112015014300A2; AU2013364204A1; BR112015014566A2; MX2015007674A; RU2015123675A; CL2015001694A1; PH12015501342A1; RU2015123649A; MX2015007672A; IL239124A0; RU2015123715A

Abstract

(i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 트리알킬 글리신 할로겐화물 착물, 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는 조성물, 예를 들어 구강 및 개인 관리 용품이 이를 제조하고, 사용하는 방법과 함께 제공된다.

Description

4 염기성 아연 아미노산 할로겐화물 착물과 시스테인을 함유하는 2 성분 조성물{TWO COMPONENT COMPOSITIONS CONTAINING TETRABASIC ZINC-AMINO ACID HALIDE COMPLEXES AND CYSTEINE}

관련 출원의 상호 참조

본 출원은 2013. 6. 18자 출원된 국제특허출원 PCT/US2013/46268호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70489호 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70492호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70498호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70506호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70513호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70505호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70501호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70521호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70534호; 및 2013. 7. 17자 출원된 국제특허출원 PCT/US2013/50845호의 일부 계속 출원이며, 이들 모두 본원에서 참조로서 원용한다.

알루미늄 또는 알루미늄/지르코늄의 염을 포함하는 종래의 발한억제제는 알려져 있다. 이들 염은 구멍을 메울 수 있는 중합체 착물을 형성함으로써 발한억제제로서 작용하며, 이로써 발한을 차단한다. 구멍을 메워 땀을 차단할 수 있는 크기의 착물을 제공하고, 탈취/항균 효능을 제공하며, 종래의 발한억제제에서 산성염보다 피부에 자극이 적은 추가의 발한억제 활성제가 필요하다. 또한 액체 핸드 소프(hand soap) 및 바디 워시(body wash)에 사용하기 위한 대체 항균 및 피부 보호제가 필요하다. 끝으로, 치아를 희게 하고, 강화할 수 있으며, 침식(erosion)을 지연할 수 있고, 세균과 치석을 억제할 수 있는 구강 관리 용품에서 제제가 필요하다.

그러나 일부 4 염기성 아연 아미노산 착물은 침전 반응 속도가 가장 바람직하지는 않다. 환언하면, 희석시 이들의 침전 속도는 전형적인 응용 분야를 위해 너무 느리거나 너무 빠를 수 있다. 예를 들어, 구강 관리를 위해 전형적인 추천 솔질 시간은 1분 내지 3분 범위이지만, 일반인은 상당히 더 짧은 기간 동안 솔질한다. 구강 린스제에 의한 전형적인 추천 헹굼 시간은 약 1분이지만, 일반인은 훨씬 짧은 시간을 소비한다.

따라서 4 염기성 할로겐화아연 아미노산 착물의 침전 시간을 최적화할 필요가 있다. 특히, 4 염기성 할로겐화아연 아미노산 착물과 관련한 침전 시간을 줄이거나 지연시킬 필요가 있다.

신체에 아연 침전물을 전달하는 2 성분 조성물로서, (i) 4 염기성 할로겐화아연("TBZH"), 예를 들어 4 염기성 염화아연("TBZC"), 및 아미노산 또는 트리글리세린(TAG)의 착물(각각, "TBZH-AA", "TBZC-AA", "TBZH-TAG" 및 "TBZC-TAG"), 및 임의로 글리세롤을 포함하는 제1 성분 및 (ii) 임의로 글리세롤과 산성화 시스테인을 수용액으로 포함하는 제2 성분을 포함하며, 제1 및 제2 성분은 신체에 적용을 위해 분배되고, 배합될 때까지 서로 분리하여 유지되는 2 성분 조성물이 제공된다.

이러한 물질의 예외적이고, 예상하지 못한 특성은 2 성분이 혼합될 때 신체, 특히 피부 또는 구강에 아연 함유 착물의 전달을 가능하게 하며, 개인 관리 용품, 예를 들어 발한억제 제품과 액체 핸드 및 바디 소프에서, 및 구강 관리 용품, 예를 들어 구강 세정제(mouthwash) 또는 치약에서 유용하게 하는 급속한(순간 또는 의도적으로 지연된) 침전을 제공한다는 것이다.

일반적으로, 안정한 4 염기성 할로겐화아연 아미노산 착물이기 위해, 알칼리성 pH가 필요하다. 이러한 pH는 사용자에게, 특히 구강 응용 분야에서 문제점일 수 있다. 본 발명은 성분들이 혼합될 때, 얻어진 pH가 사용자에게 더 허용가능한 2 성분 조성물을 제공함으로써 이러한 문제점을 해결한다.

본 발명의 적용성에 대한 추가 영역은 이후 제공되는 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다. 상세한 설명과 구체적인 실시예는 본 발명의 바람직한 실시형태를 나타내지만, 당연히 예시 목적만을 위한 것이며, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 의도되지 않는다.

바람직한 실시형태(들)의 하기 설명은 특성상 단지 예시적이며, 어느 식으로든 본 발명, 그의 응용 분야, 또는 용도를 한정하는 것으로 의도되지 않는다.

전체에 사용되는 바와 같이, 범위는 범위 내에 있는 각각의 값과 모든 값을 기재하기 위해 축소한 표현으로서 사용된다. 범위 내의 임의 값은 범위의 한계로서 선택될 수 있다. 추가로, 본원에서 인용한 모든 문헌은 본 문서로서 이들 전체를 참조로서 원용한다. 본 개시 내용에서 정의 및 인용 문헌의 정의에서 대립의 경우, 본 개시 내용이 통제한다.

달리 규정되지 않는 한, 본원에서 및 명세서 중 다른 곳에서 표시한 모든 퍼센트와 양은 당연히 중량 퍼센트를 의미한다. 제시한 양은 물질의 활성 중량을 기준으로 한다.

4 염기성 염화아연(TBZC) 또는 아연 클로라이드 히드록시드 일수화물은 또한 염기성 염화아연, 아연 히드록시클로라이드, 또는 아연 옥시클로라이드로 언급되는, 화학식 Zn₅(OH)₈Cl₂·H₂O인 아연 히드록시 화합물이다. 이것은 수 불용성인 무색 결정 고체이다. TBZC가 실질적으로 수 불용성이지만, 이 물질은 아미노산의 존재 하에 수용성으로 알려져 있으며, 추가 음이온(즉, HCl)을 사용하지 않고 아연 이온 원을 제공한다. TBZC가 본 발명의 조성물과 방법에서 바람직하지만, 다른 4 염기성 할로겐화아연, 예를 들어 4 염기성 불화아연 또는 4 염기성 브롬화아연이 사용될 수 있다.

TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물은 염화물과 같은 할로겐화물을 함유한다. 일 실시형태에서, TBZH-AA는 TBZH를 아미노산의 유리 염기와 반응시켜 형성되며, 이러한 경우에 착물에 대한 할로겐화물(예, 염화물) 기여는 주로 TBZH에서 유래할 것이다. 또 다른 실시형태에서, TBZH-AA는 TBZH와 염기성 아미노산의 히드로할라이드 염(예, 염산염)을 반응시켜 TBZH, 염기성 아미노산 및 할로겐화물을 함유한 착물을 얻음으로써 형성되며, 이러한 경우 착물에 대한 할로겐화물 기여는 TBZH와 아미노산의 히드로할라이드 염에서 유래할 것이다. 다른 실시형태에서, 아미노산의 유리 염기와 히드로할라이드 염의 조합은 출발 물질로서 사용되며, 다른 실시형태에서, 추가 할로겐화물은 상이한 할로겐화물 함유 화합물 예컨대 염산, 브롬화수소산, 등의 첨가를 통해 제공될 수 있다. 할로겐화물 원의 형태와 양은 원하는 pH를 달성하도록 조작될 수 있다. 또 다른 실시형태에서, TBZH-AA는 TBZH와 트리알킬글리신, 예컨대 트리메틸글리신을 반응시킴으로써 형성된다.

일 실시형태에서, TBZH-AA는 예를 들어 TBZC와 리신 및/또는 리신 염산염의 혼합물로부터 형성되는 TBZC 리신 착물이다. 이러한 특정 아연 리신 염화물 착물은 때로 본원에서 "TBZC-Lys"로서 언급된다.

4 염기성 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물, 예를 들어 TBZC-Lys는 이것을 시판 발한억제제 염과 경합하게 하는 주요 특징(예, 전도도, 가수분해 반응 및 단백질 응집)이 있다. 종래의 알루미늄 또는 알루미늄 지르코늄 발한억제제 염과 같이, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG는 발한 조건 하에 구멍을 메워 발한을 차단할 수 있는 침전물을 형성한다. 메커니즘은 예외적이다. 물의 양이 증가할 때, 용액이 더 묽어짐에 따라 용액에 유입되거나 용액에 남기보다는, 전형적으로 이온성 착물에 대한 경우이듯이, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG는 가수분해하여, 비교적 불용성인 아연 함유 침전물, 예를 들어 산화아연을 제공하며, 이에 의해 피부 상에 구멍의 충전 및/또는 아연 화합물의 제어된 침착을 추가로 허용한다. 아연은 더구나 항균성이 있으며, 따라서 구멍으로부터 발한을 차단하는 침전물을 제공하는 것 외에, 냄새 유발 세균을 줄임으로써 탈취 이점을 제공한다.

본 발명의 착물로부터 형성되는 침전물은 전형적으로 산화아연, 및 다른 화합물 및/또는 착물로 이루어진다. 그러나 침전물 중 한 구성 물질인, 산화아연은 산성 pH에서 가용성이며, 땀의 pH가 5-6이므로, 땀은 침전 수준을 중성 이상의 pH에서 침전 수준과 비교하여 줄일 수 있다. 더구나, 땀은 퇴적물을 점차 용해시킬 수 있어서, 제제의 작용 지속 기간을 줄일 수 있다. 또한, 침전 속도가 너무 느리거나 너무 빠를 수 있다. 이들 문제점은 생성물을 시스테인과 공 배합함으로써(co-formulating) 개선될 수 있다. 시스테인과 아연 착물은 함께 사용 시 그리고 땀에 의한 희석 시 침전물을 형성하며, 이 침전물은 내산성이 있을 수 있다. 따라서 시스테인과 함께 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 포함하는 제제는 발한억제제로서 효능이 향상된다. 더구나, 시스테인은 투여 전에 제제에서 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 안정화하는데 도움이 된다.

물의 양이 증가함에 따라, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG는 가수분해하여 비교적 불용성인 아연 함유 침전물을 분배한다. 침전물은 전형적으로 산화아연, 아연 시스테인, 수산화아연, 또는 다른 아연 함유 화합물 중 1 이상을 함유한다. 이러한 침전물은 피부 상의 구멍의 충전을 가능하게 할 것이라는 점에서 유일하다. 또한, 이러한 반응은 예외적이며, 그 이유는 대부분의 경우 희석이 이온성 착물의 용해도를 증가시킬 것이기 때문이다. 추가로, 아연은 항균성이어서, 이것은 또한 냄새 유발 세균을 줄임으로써 탈취 이점을 제공하면서 구멍으로부터 발한을 차단하는 침전물을 제공한다.

산화아연은 낮은 pH에서 가용성이며, 땀은 pH가 5-6이므로, 땀은 중성 pH에서 침전 수준과 비교하여 산화아연의 침전 수준을 줄일 수 있다는 사실에 주목하는 것은 중요하다. 더구나, 땀은 퇴적물을 점차 용해시킬 수 있어서, 제제의 작용 지속 기간을 줄일 수 있다. 이들 문제점은 생성물을 시스테인과 공 배합함으로써(co-formulating) 개선될 수 있다. 시스테인과 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG는 함께 침전물을 형성한다. 사용 시 그리고 땀에 의한 희석 시, 침전물은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 단독보다 더 내산성이 있다. 따라서 시스테인과 함께 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 포함하는 제제는 발한억제제로서 효능이 향상된다.

본 발명자들은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물과 함께 시스테인의 사용이 땀에 더 저항성인 침전물을 형성한다는 사실을 알아냈지만, 본 발명자들은 또한 시스테인의 사용으로 침전물의 형성을 지연하거나, 어떤 조건 하에서는 심지어 침전물의 형성을 억제한다는 사실을 발견하였다. 시스테인의 양과 pH는 침전물 형성 정도와 속도에 영향을 미친다.

본 발명자들은 시스테인을 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG와 특정 pH에서 배합할 때, 급속 침전은 그 결과라는 사실을 밝혀냈다. 침전은 구강 관리 또는 개인 관리 용품에서 저장 안정성 문제를 초래하는 희석되지 않은 포뮬라(formula)에서조차 현저하다. 또한, 급속 침전은 원하는 신체 부위에 침착되는 아연 이온을 더 적게 생성할 수 있다. 본 발명자들은 이러한 급속 침전 문제가 사용 또는 적용까지 높은 pH에서 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 낮은 pH에서 산성화 시스테인과 물리적으로 분리함으로써 해결될 수 있다는 사실을 알아냈다.

본 발명의 2 성분 조성물은 희석되지 않거나 약간 희석된 형태에서조차 2 성분을 혼합한 후 1초 내지 약 20초 미만에 가시적인 침전물을 형성한다. 시스테인의 존재로 아연 착물의 침전을 지연시킬 수 있지만, 침전물 형성의 지연 또는 가속은 또한 다른 요인에 의존한다. 침전의 반응 속도 또는 속도는 pH, 시스테인 농도, 및 희석의 양(있는 경우)과 같은 요인에 따라 달라질 수 있다. 일부 실시형태에서 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물의 순간 침전은 2 성분을 혼합할 때 관찰된다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "급속 침전"은 아연 침전물을 3분 이하에 형성하는 것을 의미하며, "순간 침전" 또는 "순간적인 침전"은 아연 침전물을 1초 이하에 형성하는 것을 의미하고, "지연 침전"은 아연 침전물을 1초 내지 3분 이하에 형성하는 것을 의미한다.

본 발명의 조성물 중 2 성분을 제조하는데 있어서, 전형적으로 2종의 저장 용액을 제조하며, 각 저장 용액은 각각 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 및 산성화 시스테인을 함유한다. 2종의 저장 용액을 제조하기 위해, 몇몇 시약이 필요하다. 저장 용액 중 제1 성분은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 제조하기 위한 표준 합성 과정의 사용에 의해 제조될 수 있다. 예를 들어, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 저장 용액을 제조하는 것은 4 염기성 할로겐화아연, 예를 들어 4 염기성 염화아연을 아미노산 히드로할라이드 염, 예를 들어 리신-HCl과 물 위에서 반응시키는 것을 포함한다. 그 후, 과량의 불용성 아연 물질을 걸러 내어 궁극적으로 맑은 용액으로 만든다. 그 후 이 용액은 TBZC-AA의 원료이며, 성분 1에서 주요 활성 성분일 수 있다. 글리세롤은 성분 1에서 또한 공용매로서 사용될 수 있다. 제2 성분에서, 산성화 시스테인 저장 용액은 시스테인 염을 묽은 수성 무기산, 예를 들어 염산에 용해시키거나, 시스테인 히드로할라이드, 예컨대 시스테인-HCl에 의해 제조될 수 있으며, 물에 용해될 수 있다. 글리세롤은 또한 성분 2에서 공용매로서 사용될 수 있다.

2 성분 전달 시스템은 아연 착물 침전 시간의 조절을 가능하게 한다고 밝혀졌다. 제1 성분은 TBZH-AA, 예를 들어 TBZC-lys를 포함한다. 제1 성분의 pH는 알칼리성, 예를 들어 약 7 내지 11, 또는 약 8 내지 약 10 또는 약 9 내지 약 10.5 또는 약 9 내지 10이다. 제2 성분의 pH는 산성, 예를 들어 약 2 내지 약 6 또는 약 2 내지 약 5 또는 약 3 내지 약 6 또는 약 4 내지 약 5 또는 약 4.5 내지 약 5이다. 제2 성분의 pH는 전형적으로 시스테인을 산, 예를 들어 무기산 예컨대 히드로할라이드, 예, 염산에 용해시킴으로써 달성되며/되거나, 산성화는 시스테인 모노히드로할라이드, 예를 들어 일염산염을 물, 바람직하게는 탈이온수에 용해시킴으로써 달성될 수 있다.

아연 착물의 급속 침전은 심지어 희석 없이도 특정 pH에서 일어난다고 밝혀졌다. 따라서 2 성분의 pH는 혼합될 때 약 4 내지 약 8, 또 다른 실시형태에서 약 5 내지 8, 또 다른 실시형태에서 약 5 내지 약 7, 또 다른 실시형태에서 약 5.5 내지 약 7, 및 또 다른 실시형태에서 약 5.5 내지 약 6.5이다. 각 성분의 pH는 혼합 시 원하는 pH를 달성하여 원하는 침전 급속도를 얻도록 조정된다.

제1 및 제2 성분은 수성 조성물이다. 전형적으로 제1 성분은 약 10 내지 약 85%의 물, 또 다른 실시형태에서 약 20 내지 약 85%의 물, 또 다른 실시형태에서 약 20 내지 약 25%의 물, 및 또한 또 다른 실시형태에서 약 30 내지 약 33%의 물을 함유할 것이다. 제2 성분은 전형적으로 약 10% 내지 약 95%의 물, 또 다른 실시형태에서 약 20 내지 약 30%의 물, 또 다른 실시형태에서 약 90% 내지 약 95%의 물을 함유할 것이다. 각 성분 중 물의 양은 성분들이 혼합될 때 원하는 농도를 달성하기 위해 최종 생성물 형태에 따라 달라질 것이다. 예를 들어, 치약은 전형적으로 10 내지 25%의 전체 물을 함유하며, 구강 세정제는 전형적으로 50 내지 90%의 전체 물을 함유하고, 발한억제제와 같은 개인 관리 용품은 전형적으로 10 내지 20%의 전체 물을 함유한다. 혼합물의 침전 시간과 pH 값은 예를 들어 물 농도를 포함하여, 많은 요인에 의해 영향을 받는다. 일반적으로 물이 많을수록 더 급속한 침전과 혼합물의 더 높은 pH 값을 유도한다.

신체에 아연 침전물을 전달하는 2 성분 조성물로서, (i) 아연 4 염기성 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물(TBZH-AA 또는 TBZH-TAG) 예, TBZC-lys를 포함하는 제1 성분 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상(cosmetically) 허용가능한 염 형태로 포함하는 제2 성분을 포함하며, 제1 및 제2 성분은 신체에 적용을 위해 분배되고, 배합될 때까지 서로 분리하여 유지되는 2 성분 조성물이 제공된다. 용어 "신체"는 아연 이온을 침착하는데 바람직한 신체상의 임의 부위, 예를 들어 피부, 특히 땀샘의 구멍, 및 구강, 특히 연질 및 경질(치아) 조직을 포함한다. 조성물은 구강 관리 용품, 예를 들어 치약 또는 구강 린스제, 또는 개인 관리 용품, 예컨대 발한억제제, 액체 핸드 소프(liquid hand soap) 또는 바디 워시(body wash), 및 피부 로션, 크림 및 컨디셔너(conditioner)일 수 있다.

본 발명의 조성물의 적용 시, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 함유하는 제1 성분, 또는 성분 1은 산성화 시스테인을 함유하는 제2 성분, 또는 성분 2와 혼합된다. 혼합 후 성분 1:성분 2의 중량비는 전형적으로 약 1:1이지만, 사용된 특정 성분의 조성과 특정 분배 수단에 따라 약간 달라질 수 있으며, 예를 들면 약 5:1 내지 약 1:5, 또 다른 실시형태에서 약 1:2 내지 약 2:1일 수 있다.

2 성분 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG/시스테인 조합은 구강 관리 용품, 예를 들어 치약 또는 구강 린스제에 유용하다. TBZH-AA 또는 TBZH-TAG/시스테인 조합을 포함하는 2 성분 제제는 유효 농도의 아연 이온을 에나멜에 제공하며, 이에 의해 침식에 대해 보호하고, 세균 정착과 생체막 발생을 줄이며, 치아의 광택을 향상시킨다. 더구나, 혼합과 사용 시, 제제는 희석되어 상아질 세관을 메우는 안정화된 침전물을 제공하며, 이에 의해 치아의 감도를 줄인다. 불용성 아연 염이 있는 제제와 비교하여 아연의 효과적인 전달을 제공하지만, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG/시스테인 조합을 포함하는 제제는 가용성 아연 염을 사용하는 종래의 아연계 구강 관리 용품과 관련된, 좋지 않은 맛과 구강 촉감, 좋지 않은 불화물 전달, 및 좋지 않은 발포 및 세정을 나타내지 않는다.

이러한 조성물을 사용하는 방법, 예를 들어 조성물을 피부에 적용하는 것을 포함하는 땀을 줄이는 방법, 세균을 조성물과 접촉시키는 것을 포함하는 살균하는 방법, 및 조성물을 치아에 적용하는 것을 포함하는, 치아 과민증, 침식, 및 치석을 치료하거나 줄이는 방법, 그 외에 이러한 조성물을 제조하는 방법이 추가로 제공된다. 본 발명의 방법에서 본 발명의 조성물 중 2 성분을 혼합하여 신체, 예를 들어 피부 또는 구강에 적용한다. 혼합은 전형적으로 신체에 적용 바로 전 또는 동안에 실시되어 신체에 적용 시 침전물이 원하는 부위에, 예를 들어 땀샘의 구멍에 또는 상아질 세관의 개구부에 형성된다. 일 실시형태에서 2 성분을 적용, 예를 들어 솔질 중에 혼합되는 칫솔에 2 성분을 도포하는 치약에 의한 솔질 중에 혼합한다. 본 발명의 방법은 혼합 후 3 분 이하에 형성되어 원하는 신체 부위에 아연의 최대량을 전달하는 침전물의 특성을 이용한다.

일 실시형태에서, 글리세롤을 제1 성분, 제2 성분 또는 둘 다에 첨가하여 글리세롤이 없는 조절 제제와 비교하여, 침전물 형성을 지연시키며, 전형적으로 약 1 내지 20초 지연, 일 실시형태에서 약 1 내지 10초, 또 다른 실시형태에서 약 1 내지 5초, 및 또 다른 실시형태에서 약 1 내지 3초 지연시킨다. 침전을 지연시키는 것 외에, 글리세롤은 또한 보습제로서 작용할 수 있다.

혼합으로 희석 없이 침전시킬 수 있지만; 물 또는 침 또는 땀과 같은 수성 유체에 의한 희석은 일반적으로 침전을 향상시킨다. 특정 실시형태에서, 2 성분 시스템으로서, 제1 성분은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 포함하고, 제2 성분은 시스테인을 포함하는 2 성분 시스템이 제공된다. 2 성분 시스템에서, 각 성분을 함유하는 2개의 용기 또는 챔버가 제공된다. 시스테인은 2 성분들이 함께 혼합될 때 급속 침전(순간 또는 지연)을 일으키는데 유효한 양으로 존재한다. 지연 침전 실시형태에서, 사용과 적용 바로 전 또는 동안, 2 성분을 혼합함으로써 침전물은 혼합하는 동안 형성되지 않지만, 적용 시 원하는 신체 위치에서 형성된다. 2 성분 시스템은 사용 중 원하는 부위에, 예를 들어 상아질 세관, 치아 표면, 땀샘의 구멍, 등에서 침전의 양을 최대화하는데 특히 유리하다.

본 발명의 2 성분 조성물, 예를 들어 치약, 바디 워시 또는 구강 린스제는 성분들이 물리적으로 분리되어 있고, 분리된 성분들이 동시에, 예를 들어 칫솔에 적용을 위한 조합된 리본(ribbon)으로서 분배될 수 있는 적합한 분배 용기에 포장된다. 이러한 용기는 본 기술에서 알려져 있다. 이러한 용기의 일예는 미국특허 제4,487,757호 및 제4,687,663호에 개시된 바와 같이, 접이식 측벽이 있는 2 구획 분배 용기, 예컨대 펌프 또는 튜브이며; 여기서 튜브 본체는 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌과 같은 접이식 플라스틱 웨브(web)로부터 형성되고, 물리적으로 분리된 성분들이 저장되고, 이들이 적합한 분배 출구를 통해 분배되는 분리 구획을 한정하는 용기 본체 내에 칸막이가 구비되어 있다. 구강 세정제 또는 구강 린스제에 대해, 2 성분은 병의 2개 분리 챔버에 의해 혼합 컵으로 전달될 수 있다. 혼합 시, 인간의 입에 혼합물을 이동시킬 수 있고, 헹굼을 실시할 수 있다. 성분들이 분배될 때, 이들은 혼합 컵에서 혼합되어 모든 침전 형태가 구강 내에서 보장되도록 적절한 반응 속도로서 반응할 약간 지연된 침전물을 형성할 것이다.

제1 실시형태에서, (i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물을 포함하는 제1 성분 및 (ii) 산성화 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는 제2 성분을 포함하는 2 성분 조성물(조성물 1)이 제공되며, 여기서 2 성분은 신체에 적용을 위해 분배되고, 배합될 때까지 서로 분리되어 유지되며, 예를 들면 하기 조성물이다:

1.1. 4 염기성 할로겐화아연이 TBZC인 조성물 1.

1.2. 아미노산 원은 염기성 아미노산, 리신, 아르기닌, 및 글리신 중 하나 이상인 조성물 1 또는 1.1.

1.3. 트리알킬 글리신은 C₁-C₄ 알킬 글리신 또는 트리메틸 글리신인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.4. 제1 성분의 pH가 7 내지 11 또는 8 내지 10 또는 9 내지 10이며; 제2 성분의 pH가 4 내지 8 또는 5.5 내지 7 또는 5.5 내지 6.5인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.5. 2 성분이 혼합되고, 생성된 혼합물의 pH가 5 내지 8 또는 5.5 내지 7인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.6. 제1 성분은 0 내지 50% 또는 20 내지 40%의 글리세롤을 함유하거나; 제2 성분은 0 내지 50% 또는 20 내지 40%의 글리세롤을 함유하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.7. 제1 성분은 0 내지 50% 또는 20 내지 40%의 글리세롤을 함유하고; 제2 성분은 0 내지 50% 또는 20 내지 40%의 글리세롤을 함유하는 것인 조성물 1.-1.6 중 어느 하나.

1.8. 아연 아미노산 할로겐화물이 TBZX를 아미노산과 배합함으로써 제조되는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.9. 물에 의한 희석 시, 시스테인과 착물로 산화아연을 포함하고, 임의로 산화아연, 탄산아연, 및 이들의 혼합물을 추가로 포함하는 침전물을 제공하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.10. 2 성분이 혼합될 때 조성물에 존재하는 아연의 총량이 전체 조성물의 약 0.2 내지 약 9 중량%, 또는 약 0.6 내지 약 1 중량% 또는 약 2 내지 약 3 중량%인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.11. 제1 성분에 존재하는 아연의 양이 제1 성분의 약 0.6 중량% 내지 약 2 중량%, 또는 약 0.8 중량% 내지 약 1.5 중량% 또는 약 1 중량% 내지 약 1.2 중량%인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.12. 아연 대 시스테인의 중량비는 약 5:1 내지 약 10:1인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.13. 시스테인은 시스테인 히드로할라이드, 임의로 시스테인 염산염인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.14. 아연 침전물이 2 성분을 혼합한 후 30초, 또는 1초 내지 30초, 또는 1 내지 15초 또는 1 내지 3초 내에 형성되는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.15. 제1 성분, 제2 성분 또는 둘 다에 추가로 경구로 또는 미용상 허용가능한 담체(carrier)를 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.16. 추가로 경구로 또는 미용상 허용가능한 담체를 포함하며, 치약 또는 구강 세정제로부터 선택되는 구강 관리 용품, 또는 발한억제제, 탈취제, 액체 핸드 소프, 바디 워시, 피부 로션, 피부 크림, 및 피부 컨디셔너로부터 선택되는 개인 관리 용품인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.17. 제1 성분은 약 10% 내지 약 85%의 물, 또는 약 20 내지 약 85%의 물, 또는 약 20 내지 약 25%의 물, 또는 약 30 내지 약 33%의 물을 함유하고; 제2 성분은 약 10% 내지 약 95%의 물 또는 약 20 내지 약 30%의 물, 또는 약 40% 내지 약 50%의 물을 함유하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

(i) 아연 이온 원, 아미노산 또는 TAG 원, 할로겐화물 원(여기서 할로겐화물 원은 할로겐산, 아미노산 또는 TAG 원, 또는 아연 이온 원의 부분일 수 있다)을 임의로 글리세롤을 함유하는 유체(예, 수성) 매질에서 배합하는 단계, 임의로 이와 같이 형성된 착물을 고체형을 분리하는 단계 및 이와 같이 형성된 물질을 제1 용기에 넣는 단계, (ii) 임의로 글리세롤과 함께, 그리고 임의로 히드로할라이드와 함께 시스테인을 제1 용기와 물질적으로 분리되어 있는 제2 용기에 넣는 단계를 포함하는 조성물 1(및 이하 참조)의 제조 방법에 제공된다. 분리 용기에서 물질들의 하나 또는 둘 다는 임의로 미용상 또는 경구로 허용가능한 담체와 배합될 수 있다.

예를 들어 조성물 1(및 이하 참조)의 범위 중 어느 것에 따라, (i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물을 포함하는 제1 성분 및 (ii) 산성화 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는 제2 성분을 포함하는 발한억제제 또는 탈취제 제품인 조성물(조성물 2)이 제공되며, 여기서 2 성분은 신체에 적용을 위해 분배되고, 배합될 때까지 서로 분리되어 유지되며, 성분들 하나 또는 둘 다 미용상 허용가능한 담체를 포함하고, 예를 들면 하기 조성물이다:

2.1. 혼합 및 사용 시, 피부에 침전물을 제공하는 조성물 2로서, 시스테인과 착물로 산화아연을 포함하고, 임의로 산화아연, 탄산아연, 및 이들의 혼합물을 추가로 포함하는 조성물 2.

2.2. 4 염기성 할로겐화아연 착물이 임의로 수화물 형태로 TBZC인 조성물 2 또는 2.1.

2.3. 미용상 허용가능한 담체가 수용성 알코올(예컨대 에탄올을 포함하여 C₂ _-8 알코올); 글리콜(프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜 및 이들의 혼합물을 포함하여); 글리세라이드(모노-, 디- 및 트리글리세라이드를 포함하여); 중쇄 내지 장쇄 유기산, 알코올 및 에스테르; 계면활성제(유화제 및 분산제를 포함하여); 추가 아미노산; 구조화제(structurant)(증점제와 겔화제, 예를 들어 중합체, 규산염 및 이산화규소를 포함하여); 피부 연화제; 향료; 및 착색제(염료와 안료를 포함하여)로부터 선택되는 1 이상의 성분을 포함하는 조성물 2 또는 2.1.

2.4. 에어로졸 발한억제제 스프레이의 형태인 조성물 2, 2.1, 또는 2.2.

또한 두 성분 모두를 혼합하고, 피부에 조성물 2(및 이하 참조) 중 어느 하나의 발한억제 유효량을 적용하는 것을 포함하는 발한의 감소 방법, 두 성분 모두를 혼합하고, 피부에 조성물 2(및 이하 참조) 중 어느 하나의 탈취 유효량을 적용하는 것을 포함하는 체취의 감소 방법, 및 두 성분 모두를 혼합하고, 조성물 2((및 이하 참조) 중 어느 하나와 접촉시킴으로써 세균을 접촉시키는 것을 포함하는 살균 방법이 제공된다. 예를 들어, (i) 피부에 본원에서 포함되거나 구체적으로 기재되는 임의 실시형태, 예를 들어 두 성분 모두를 혼합하고, 임의의 조성물 2(및 이하 참조)의 제제의 발한억제 유효량을 적용하는 것을 포함하는 발한 억제 방법; 및 (ii) 피부에 본원에서 포함되거나 구체적으로 기재되는 임의 실시형태, 예를 들어 두 성분 모두를 혼합하고, 임의의 조성물 2(및 이하 참조)의 제제의 탈취 유효량을 적용하는 것을 포함하는 발한으로부터 냄새 또는 피부 상의 세균을 억제하는 방법이 제공된다.

미용상 허용가능한 담체, 및 임의로 글리세롤을 제1 성분에서 아연 아미노산 할로겐화물과, 및/또는 제2 성분에서 시스테인과 배합하는 것을 포함하는, (i) 4 염기성 할로겐화아연을 포함하는 제1 성분 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는, 제1 성분과 물리적으로 분리되어 제2 성분을 포함하는 발한억제제 또는 탈취제, 예를 들어 임의의 조성물 2(및 이하 참조)의 제조 방법이 제공된다.

또한 (i) 살균하고, 발한을 줄이고/줄이거나 체취를 줄이는 임의 조성물 2(및 이하 참조)의 용도; 및 (iii) 살균하며, 발한을 줄이고/줄이거나 체취를 줄이는데 사용하는 임의의 조성물 2(및 이하 참조)가 제공된다.

또한 발한억제 또는 탈취 제제, 예를 들어 임의의 조성물 2(및 이하 참조)에 따른 제제의 제조에서 시스테인의 용도가 제공된다.

조성물 2(및 이하 참조)를 제조하는데 있어서, 겨드랑이에 적용을 위해 4 염기성 아연 아미노산 할로겐화물 및 시스테인을 유리되거나 미용상 허용가능한 염 형태로 적합한, 미용상 허용가능한 베이스(base), 예를 들어 스프레이, 에어로졸, 스틱, 또는 롤 온(roll-on)에 혼입할 수 있으며, 여기서 제1 및 제2 성분은 에어로졸을 형성할 때 또는 노즐 또는 다른 분배 수단을 통해 접촉될 때 혼합된다. 적용 후, 피부 상에서 발견되는 단백질과 같은 충전 분자의 존재 하에, 염은 응집하여, 발한을 차단하는 충전재(plug)를 형성한다. 땀 유래의 추가 물은 더구나 제제를 희석하여, 착물이 분해되게 하고, 시스테인과 함께 착물 중 산화아연으로 이루어진 침전물을 생성할 수 있으며, 이는 상기에 기재한 바와 같이 땀과 냄새를 줄일 수 있다.

본원에서 사용되는 바와 같이, 용어 발한억제제는 총칭으로 미국 식품의약국에 의해 규정(21 CFR part 350) 하에 발한억제제로서 분류되는 재료를 포함하여, 구멍에 충전재를 형성하여 발한을 줄일 수 있는 임의 제품을 의미할 수 있다. 아연은 항균 특성이 있고, 따라서 피부 상에 냄새 원인 세균을 억제하므로, 발한억제제는 또한 특히 기재한 조성물의 경우에 당연히 탈취제일 수 있다.

예를 들어 조성물 1(및 이하 참조)의 범위 중 어느 것에 따라, (i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물을 포함하는 제1 성분 및 (ii) 산성화 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는 제2 성분을 포함하는 액체 핸드 소프, 바디 워시, 피부 로션, 피부 크림, 및 피부 컨디셔너로부터 선택되는 개인 관리 용품인 조성물(조성물 3)이 제공되며, 여기서 2 성분은 신체에 적용을 위해 분배되고, 배합될 때까지 서로 분리되어 유지되며, 성분들 하나 또는 둘 다 미용상 허용가능한 담체를 포함하고, 예를 들면 하기 조성물이다:

3.1. 두 성분 모두의 혼합 및 사용 시, 피부에 침전물을 제공하는 조성물 3으로서, 시스테인과 착물로 산화아연을 포함하고, 임의로 산화아연, 탄산아연, 및 이들의 혼합물을 추가로 포함하는 조성물 3.

3.2. 4 염기성 할로겐화아연 착물을 전체 조성물의 1 내지 10 중량%의 양으로 포함하는 조성물 3 또는 3.1.

3.3. 전체 조성물에 존재하는 아연의 총량이 0.1 내지 8 중량%, 또는 0.1 내지 2 또는 0.1 내지 1 중량%인 상기 조성물 중 어느 하나.

3.4. 시스테인이 시스테인 히드로할라이드, 임의로 시스테인 염산염인 상기 조성물 중 어느 하나.

3.5. 미용상 허용가능한 담체가 수용성 알코올(예컨대 에탄올을 포함하여 C₂ _-8 알코올); 글리콜(프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜 및 이들의 혼합물을 포함하여); 글리세라이드(모노-, 디- 및 트리글리세라이드를 포함하여); 중쇄 내지 장쇄 유기산, 알코올 및 에스테르; 계면활성제(유화제 및 분산제를 포함하여); 추가 아미노산; 구조화제(증점제와 겔화제, 예를 들어 중합체, 규산염 및 이산화규소를 포함하여); 피부 연화제; 향료; 및 착색제(염료와 안료를 포함하여)로부터 선택되는 1 이상의 성분을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

3.6. 미용상 허용가능한 담체가 1 이상의 비이온성 계면활성제, 예를 들어 아민 옥사이드 계면활성제(예, 알킬아민의 지방산 아미드, 예컨대 라우르아미도프로필디메틸아민 옥사이드, 미리스트아미도프로필아민 옥사이드 및 이들의 혼합물), 알코올 아미드 계면활성제(예, 알코올 아민의 지방산 아미드, 예컨대 코카미드 MEA(코코모노에탄올아미드)), 폴리에톡실화 계면활성제(예 지방산과 폴리올(예를 들어 글리콜, 글리세롤, 사카라이드 또는 당 알코올)의 폴리에톡실화 유도체, 예를 들어 폴리소르베이트 또는 PEG-120 메틸 글루코스 디올레에이트), 및 이들의 조합으로부터 선택되는 비이온성 계면활성제를 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

3.7. 미용상 허용가능한 담체가 예를 들어 소듐 라우릴 설페이트와 소듐 에테르 라우릴 설페이트로부터 선택되는 음이온성 계면활성제를 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

3.8. 미용상 허용가능한 담체가 물, 음이온성 계면활성제, 예를 들어 소듐 라우릴 설페이트, 점도 조절제, 예를 들어 아크릴레이트 공중합체, 및 양성 이온성 계면활성제, 예를 들어 코카미도프로필 베타인을 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

3.9. 미용상 허용가능한 담체가 실질적으로 음이온성 계면활성제를 포함하지 않는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

3.10. 미용상 허용가능한 담체가 물, 사차 암모늄제(예, 염화세트리모늄), 보습제(예, 글리세린), 및 비이온성 계면활성제(예, 아민 옥사이드 계면활성제(예, 라우르아미도프로필디메틸아민 옥사이드, 미리스트아미도프로필아민 옥사이드 및 이들의 혼합물), 알코올 아미드 계면활성제(예, 코타미드 MEA(코코모노에탄올아미드)), 폴리에톡실레이트 계면활성제(예, PEG-120 메틸 글루코스 디올레에이트), 및 이들의 조합으로부터 선택됨)를 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

3.11. 미용상 허용가능한 담체가 항균 유효량의 비아연 항균제, 예를 들어 트리클로산, 트리클로카르반, 클로로크실레놀, 허브 추출물 및 에센셜 오일(예, 로즈메리 추출물, 차 추출물, 목련 추출물, 티몰, 멘톨, 유칼립톨, 게라니올, 카르바크롤, 시트랄, 히노키톨, 카테콜, 살리실산메틸, 에피갈로카테킨갈레이트, 에피갈로카테킨, 갈산), 비스구아니드 소독제(예, 클로르헥시딘, 알렉시딘 또는 옥테니딘), 및 사차 암모늄 화합물(예, 세틸피리디늄 클로라이드(CPC), 염화벤즈알코늄, 염화테트라데실피리디늄(TPC), N-테트라데실-4-에틸피리디늄 클로라이드(TDEPC); 및 이들의 조합으로부터 선택되는 항균제; 예를 들어 항균 유효량의 염화벤즈알코늄을 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

3.12. 2 성분이 혼합될 때, pH가 약 5 내지 약 8, 또는 5 내지 7인 상기 조성물 중 어느 하나.

3.13. 성분을 다음과 같이 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나:

물질 중량%

물 80-90%

예를 들어 세트리모늄클로라이드(세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드), C_12-18 알킬디메틸벤질암모늄 클로라이드(BKC), 및 이들의 조합으로부터 선택되는 사차 암모늄 항균제 0.1-4%

보습제, 예 글리세린 1-3%

예를 들어 아민 옥사이드 계면활성제(예, 라우르아미도프로필디메틸아민 옥사이드, 미리스트아미도프로필아민 옥사이드 및 이들의 혼합물), 알코올 아미드 계면활성제(예, 코카미드 MEA(코코모노에탄올아미드)), 폴리에톡실레이트 계면활성제(예, PEG-120 메틸 글루코스 디올레에이트), 및 이들의 조합으로부터 선택되는 비이온성 계면활성제 1-5%

완충제 및 pH 조정제 1-3%

보존제 및/또는 킬레이터 0.1-2%

향료 및 착색제 0.1-2%

TBZC-lys 1-5%, 예를 들어 3-4%

시스테인 0.1-1%, 예를 들어 0.5%

여기서 제제는 분할 챔버가 있는 용기에 있으며; 한 챔버는 시스테인과 함께 상기 염기를 함유하고, 다른 하나는 TBZC-lys와 상기 염기를 함유한다.

또한 두 성분을 모두 혼합하고, 세균을 항균 유효량의 혼합물과, 예를 들어 임의의 조성물 3(및 이하 참조)과 접촉시키는 것을 포함하는 살균 방법, 예를 들어 피부를 항균 유효량의 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 및 시스테인, 예 임의의 조성물 3(및 이하 참조), 및 물로 씻는 것을 포함하는, 국소 피부 감염, 예를 들어 스타필로코쿠스 아우레우스(Staphylococcus aureus) 및/또는 스트렙토코쿠스 피요게네스(Streptococcus pyogenes)에 의한 감염의 발병을 치료하거나 감소시키는, 및 여드름의 발병을 치료하거나 감소시키는 방법이 제공된다.

미용상 허용가능한 담체, 및 임의로 글리세롤을 제1 성분에서 4 염기성 아연 아미노산 할로겐화물과, 및/또는 제2 성분에서 시스테인과 배합하는 것을 포함하는, (i) 4 염기성 할로겐화아연을 포함하는 제1 성분 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는, 제1 성분과 물리적으로 분리되어 제2 성분을 포함하는 개인 관리 용품, 예를 들어 임의의 조성물 3(및 이하 참조)의 제조 방법이 제공된다.

또한 살균하거나, 피부를 예를 들어 세균으로부터 보호하거나 씻을 때 시각 신호(visual signal)를 제공하는 (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물과 시스테인을 포함하는 2 성분 조성물, 예를 들어 임의의 조성물 1(및 이하 참조)의 용도; (ii) 살균하거나, 피부를 보호하거나, 씻을 때 시각 신호를 제공하는, 조성물, 임의의 조성물 1(및 이하 참조)의 제조에서 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 및 시스테인의 용도; 및 (iii) 살균하거나, 피부를 보호하거나, 씻을 때 시각 신호를 제공하는데 사용하기 위한 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG와 시스테인, 예를 들어 임의의 조성물 1(및 이하 참조)이 제공된다.

예를 들어, 일 실시형태에서, 4 염기성 할로겐화아연 아미노산 착물을 포함하는 제1 성분 또는 시스테인을 포함하는 제2 성분, 또는 둘 다는 계면활성제와 임의로 염화벤즈알코늄을 포함하는 종래의 시판 액체 핸드 소프 제제 성분과 혼합된다. 두 성분 모두의 혼합과 희석 시 백색 침전물이 순간적으로 형성된다. 따라서 본 발명의 조성물은 세정 공정을 위해 시각적/감각적 자극(trigger)을 제공할 수 있다. 시스테인에 의해 안정화된 ZnO로 이루어진 침전물은 피부에 침착되고, 따라서 LHS의 항균 효과를 향상시킨다.

예를 들어 조성물 1(및 이하 참조)의 범위 중 어느 것에 따라, (i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물을 포함하는 제1 성분 및 (ii) 산성화 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는 제2 성분을 포함하는 구강 관리 용품, 예를 들어 치약 또는 구강 린스제인 조성물(조성물 4)이 제공되며, 여기서 2 성분은 구강에 적용을 위해 분배되고, 배합될 때까지 서로 분리되어 유지되며, 성분들 하나 또는 둘 다 경구로 허용가능한 담체를 포함하고, 예를 들면 하기 조성물이다:

4.1. 혼합 및 치아에 적용 시, 치아에 침전물을 제공하는 조성물 4로서, 시스테인과 착물로 산화아연을 포함하고, 임의로 산화아연, 탄산아연, 및 이들의 혼합물을 추가로 포함하는 조성물 4.

4.2. 4 염기성 아연 아미노산 할로겐화물 착물이 유효량으로, 예를 들어 전체 조성물의 0.5-4 중량%의 아연, 예를 들어 1-3 중량%의 아연의 양으로 존재하고, 경구로 허용가능한 담체가 치약 베이스인 조성물 4 또는 4.1.

4.3. 경구로 허용가능한 담체가 연마제, 예를 들어 유효량의 실리카 연마제, 예를 들어 10-30%, 예를 들어 20%를 포함하는 치약 베이스인 치약 형태로 상기 조성물 4-4.3 중 어느 하나.

4.4. 4 염기성 아연 아미노산 할로겐화물 착물이 유효량으로, 예를 들어 전체 조성물의 0.1-3 중량% 아연의 양, 예를 들어 0.2-1 중량%의 아연으로 존재하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.

4.5. 시스테인이 시스테인 히드로할라이드, 임의로 시스테인 염산염인 상기 조성물 중 어느 하나.

4.6. 유효량의 불화물 이온 원을 추가로 포함하는, 예를 들어 전체 조성물을 기준으로 500 내지 3000 ppm의 불화물을 제공하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.7. 유효량의 불화물을 추가로 포함하고, 예를 들어 블화물이 불화주석, 불화나트륨, 불화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 불화물(예, N'-옥타데실트리메틸렌디아민-N,N,N'-트리스(2-에탄올)-디히드로플루오라이드), 불화암모늄, 불화티탄, 헥사플루오로설페이트, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 염인 상기 조성물 중 어느 하나.

4.8. 예를 들어 알칼리 이염기성 인산염 및 알칼리피로인산염으로부터 선택되는 1 이상의 알칼리 인산염, 예를 들어 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염, 예를 들어 제2 인산나트륨, 제2 인산칼륨, 인산이칼슘 이수화물, 피로인산칼슘, 피로인산사나트륨, 피로인산사칼륨, 트리폴리인산나트륨, 및 이들 중 임의의 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 알칼리 인산염의 유효량, 예를 들어 조성물의 1-20 중량%, 예를 들어 2-8 중량%, 예를 들어 약 5 중량%의 양으로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.9. 완충제, 예를 들어 인산나트륨 완충액(예, 제1 인산나트륨 및 인산이나트륨)을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.10. 예를 들어 소르비톨, 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 크실리톨, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 보습제를 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나. 예를 들어 음이온성, 양이온성, 양성 이온성, 및 비이온성 계면활성제, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 1 이상의 계면활성제를 포함하는, 예를 들어 음이온성 계면활성제, 예를 들어 소듐 라우릴 설페이트, 소듐 에테르 라우릴 설페이트, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 계면활성제 예를 들어 0.3 중량% 내지 4.5 중량%, 예를 들어 1-2 중량% 소듐 라우릴 설페이트(SLS)의 양으로; 및/또는 양성 이온성 계면활성제, 예를 들어 베타인 계면활성제, 예를 들어 코카미도프로필베타인, 예를 들어 전체 조성물의 0.1 중량% 내지 4.5 중량%, 예를 들어 0.5-2 중량% 코카미도프로필베타인의 양으로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.11. 점도 조절량의 1 이상의 폴리사카라이드 검, 예를 들어 크산탄 검 또는 카라기난, 실리카 증점제, 및 이들의 조합을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.12. 향미제, 항료 및/또는 착색제를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.13. 유효량의 1 이상의 항균제를 포함하는, 예를 들어 할로겐화 디페닐 에테르(예, 트리클로산), 허브 추출물 및 에센셜 오일(예, 로즈메리 추출물, 차 추출물, 목련 추출물, 티몰, 멘톨, 유칼립톨, 게라니올, 카르바크롤, 시트랄, 히노키톨, 카테콜, 살리실산메틸, 에피갈로카테킨갈레이트, 에피갈로카테킨, 갈산, 미스왁(miswak) 추출물, 산자 나무 추출물), 비스구아니드 소독제(예, 클로르헥시딘, 알렉시딘 또는 옥테니딘), 및 사차 암모늄 화합물(예, 세틸피리디늄 클로라이드(CPC), 염화벤즈알코늄, 염화테트라데실피리디늄(TPC), N-테트라데실-4-에틸피리디늄 클로라이드(TDEPC), 페놀계 소독제, 헥세티딘, 옥테니딘, 상귀나린, 포비돈 요드, 델모피놀, 살리플루오르, 금속 이온(예, 아연염, 예를 들어 시트르산아연, 주석염, 구리염, 철염), 상귀나린, 프로폴리스 및 산소화제(예, 과산화수소, 완충 퍼옥시붕산 또는 퍼옥시탄산나트륨), 프탈산 및 그의 염, 모노퍼탈산(monoperthalic acid) 및 그의 염과 에스테르, 스테아르산아스코르빌, 올레오일 사르코신, 알킬 설페이트, 디옥틸 설포숙시네이트, 살리실아닐리드, 도미펜 브로마이드, 델모피놀, 옥타피놀 및 다른 피페리디노 유도체, 니신 제제, 아염소산염; 및 상기 중 어느 하나의 혼합물로부터 선택되는 항균제를 포함하는; 예를 들어, 트리클로산 또는 염화세틸피리디늄을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.14. 항균 유효량의 트리클로산, 예를 들어 전체 조성물의 0.1-0.5 중량%, 예를 들어 0.3 중량%를 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.15. 예를 들어 과산화물, 금속 아염소산염, 과붕산염, 과탄산염, 과산, 하이포아염소산염, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 미백제를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.16. 과산화수소 또는 과산화수소 원, 예를 들어 과산화우레아 또는 과산화물 염 또는 착물(예, 예컨대 퍼옥시인산염, 퍼옥시탄산염, 과붕산염, 퍼옥시규산염, 또는 과황산염; 예를 들어 퍼옥시인산칼슘, 과붕산나트륨, 과산화탄산나트륨, 퍼옥시인산나트륨, 및 과황산칼륨)을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.17. 세균 부착을 방해하거나 방지하는 제제, 예를 들어 소르비톨 또는 키토산을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.18. (i) 칼슘 유리 착물, 예를 들어 칼슘 소듐 포스포실리케이트, 및 (ii) 칼슘 단백질 착물, 예를 들어 카제인 포스포펩티드 비정질 인산칼슘으로부터 선택되는 칼슘과 인산염의 원을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.19. 예를 들어 황산칼슘, 염화칼슘, 질산칼슘, 아세트산칼슘, 락트산칼슘, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 가용성 칼슘염을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.20. 생리적으로 또는 경구로 허용가능한 칼륨염, 예를 들어 질산칼륨 또는 염화칼륨을 상아질 감도를 줄이는데 유효한 양으로 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.21. 음이온성 중합체, 예를 들어 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트를 추가로 포함하며, 예를 들어 음이온성 중합체가 또 다른 중합가능한 에틸렌 불포화 단량체와 말레산 무수물 또는 말레산의 1:4 내지 4:1 공중합체로부터 선택되고; 예를 들어 음이온성 중합체는 평균 분자량(M.W.)이 30,000 내지 1,000,000, 예를 들어 300,000 내지 800,000인 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물(PVM/MA) 공중합체이며, 예를 들어 음이온성 중합체가 전체 조성물 중량의 1-5%, 예를 들어 2%인 상기 조성물 중 어느 하나.

4.22. 호흡 청량제(breath freshener), 향료 또는 향미제를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

4.23. 혼합 후 전체 조성물의 pH가 대략 4 내지 8 또는 5 내지 7인 상기 조성물 중 어느 하나.

4.24. 아미노산이 리신이고, 할로겐화물이 염화물이며, 추가로 보습제, 예를 들어 소르비톨, 프로필렌 글리콜 및 이들의 혼합물 예를 들어 45-65%, 예를 들어 50-60%의 양으로, 예를 들어 카르복시메틸 셀룰로스(CMC), 트리메틸 셀룰로스(TMC) 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 증점제, 예를 들어 셀룰로스 유도체 0.1-2%의 양으로, 감미제 및/또는 향미제, 및 물을 추가로 포함하고, 예를 들어 구강 겔은 하기 성분을 포함하는, 0.1-8 중량%, 예를 들어 0.5 중량%의 아연을 제공하는 양으로, 구강 겔의 형태로 상기 조성물 중 어느 하나:

성분 %

소르비톨 40-60%, 예를 들어 50-55%

TBZC 0.1-2% Zn, 예를 들어 0.5% Zn을 제공하도록

시스테인 0.02-0.5%, 예를 들어 0.1%

카르복시메틸 셀룰로스(CMC) 및 트리메틸 셀룰로스(TMC) 0.5-1%, 예를 들어 0.7%

향미제 및/또는 감미제 0.01-1%

프로필렌 글리콜 1-5%, 예를 들어 3.00%.

여기서 제제는 한쪽이 다른 쪽과 분리되는 이중 챔버 시스템을 가진 튜브에 있거나, 시스템은 2종의 원료 또는 성분의 거의 완전한 분리를 가능하게 하는 충분히 높은 밀도 차를 갖는다.

4.25. 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍(cavity) 형성을 억제하며, 상아질 과민증을 줄이는데 사용하기 위한 상기 조성물 중 어느 하나.

본 발명의 치약을 이중 챔버 튜브에 넣을 수 있으며, 각 챔버는 각 성분들 중 하나를 함유한다. 각 성분은 치약 베이스, 예를 들어 겔 베이스, 및 시스테인 또는 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 함유할 수 있다. 튜브를 짤 때 두 시약은 모두 동시에 나올 것이며, 혼합은 치약 베이스의 도움으로 솔질 중 생체 밖에서 일어날 것이다.

또한 두 성분 모두를 혼합하는 단계 및 유효량의 조성물, 예를 들어 임의의 조성물 4(및 이하 참조)를 치아에 적용하는 단계, 및 임의로 그 후 조성물로부터 시스테인과 착물에서 산화아연의 침전을 향상시키는데 충분한 물 또는 수용액으로 헹구는 단계를 포함하는, 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍 형성을 억제하며, 상아질 과민증을 줄이는 방법이 제공된다.

경구로 허용가능한 담체, 및 임의로 글리세롤을 제1 성분에서 아연 아미노산 할로겐화물과, 및/또는 제2 성분에서 시스테인과 배합하는 것을 포함하는, (i) 4 염기성 아연 아미노산 할로겐화물을 포함하는 제1 성분 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는, 제1 성분과 물리적으로 분리되어 제2 성분을 포함하는 구강 관리 용품, 예, 치약 또는 구강 린스제, 예를 들어 임의의 조성물 4(및 이하 참조)의 제조 방법이 제공된다.

예를 들어, 다양한 실시형태에서, (i) 치아의 과민증을 줄이고, (ii) 치석 축적을 줄이며, (iii) 치아의 탈회를 줄이거나 억제하며, 치아의 재석회화를 촉진하고, (iv) 구강에서 미생물 생체막 형성을 억제하며, (v) 치은염을 줄이거나 억제하고, (vi) 구내 헌데 또는 베인 상처의 치유를 촉진하며, (vii) 산 생성 세균의 수준을 줄이고, (viii) 비우식성 및/또는 비치석 형성 세균의 상대 수준을 증가시키며, (ix) 충치의 형성을 줄이거나 억제하고, (x) 예를 들어 정량 광유도 형광(QLF, quantitative light-induced fluorescence) 또는 전기 충치 측정(ECM, electrical caries measurement)에 의해 검측된 바와 같이, 에나멜의 전충치 병변을 줄이거나, 회복하거나 억제하며, (xi) 구강 건조를 치료하거나, 완화하거나 줄이고, (xii) 치아와 구강을 청소하며, (xiii) 침식을 줄이고, (xiv) 치아를 미백하며; (xv) 치석 축적을 줄이고/이거나; (xvi) 예를 들어 구강 조직을 통한 전신 감염에 대한 가능성을 낮춤으로써, 심혈관 건강을 포함하여, 전신 건강을 촉진하는 방법으로서, 두 성분 모두를 혼합하고, 상기에 기재한 임의의 조성물 4(및 이하 참조)를 이러한 처리가 필요한 인간의 구강에 1일 1회 이상 적용하는 것을 포함하는 방법이 제공된다. 또한 임의의 이들 방법에 사용하기 위한 조성물 4(및 이하 참조)가 제공된다.

또한 임의의 조성물 4(및 이하 참조)에 따라, 구강 관리 조성물의 제조에서 (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물, 및 (ii) 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태로 시스테인의 용도가 제공된다.

또한 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍 형성을 억제하며/하거나, 상아질 과민증을 줄이기 위해, (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물, 및 (ii) 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태로 시스테인의 용도가 제공된다.

일 실시형태에서, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물은 실온에서 수용액 중에 전구체들을 혼합함으로써 제조된다. 계 내 형성은 제제화의 용이성을 제공한다. 전구체는 처음에 염을 형성해야 하는 것 대신에 사용될 수 있다. 또 다른 실시형태에서, 전구체로부터 염의 형성을 가능하게 하는 물은 사용 과정에서 조성물과 접촉하는 물(예를 들어, 응용 분야에 따라 헹굼 물, 침 또는 땀)에서 나온다.

일부 실시형태에서, 조성물 중 아연의 총량은 전체 조성물의 0.05 내지 8 중량%이다. 다른 실시형태에서, 아연의 총량은 전체 조성물의 적어도 0.1, 적어도 0.2, 적어도 0.3, 적어도 0.4, 적어도 0.5, 또는 적어도 1 내지 8 중량% 이하이다. 다른 실시형태에서, 조성물 중 아연의 총량은 전체 조성물의 5 미만, 4 미만, 3 미만, 2 미만, 또는 1 미만 내지 0.05 중량%이다. 예를 들어, 아연 함량은 2-3%일 수 있다.

특정 실시형태에서, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물은 10 중량% 미만의 물을 함유하는 치약 조성물에 대해 무수이다. 무수란, 5 중량% 미만의 물, 임의로 4 미만, 3 미만, 2 미만, 1 미만, 0.5 미만, 0.1 미만 내지 0 중량%에 이르기까지의 물이다. 무수 조성물로 제공될 때, 4 염기성 아미노산 할로겐화물 착물의 전구체, 예를 들어 TBZC와 리신 염산염은 현저하게 반응하지 않을 것이다. 충분한 양의 물과 접촉될 때, 그러면 전구체는 반응하여 원하는 염을 형성할 것이며, 사용에 따라 추가 희석 시 피부 또는 치아에 원하는 침전물을 형성한다.

아미노산: TBZH-AA 착물에서 아미노산은 염기성 아미노산일 수 있다. "염기성 아미노산"이란 분자 중에 카르복실기와 아미노기를 가진 임의의 염기성 아미노산뿐만 아니라 천연 염기성 아미노산, 예컨대 아르기닌, 리신, 및 히스티딘을 의미하며, 이는 수용성이고, pH 7 이상인 수용액을 제공한다. 따라서 염기성 아미노산은 아르기닌, 리신, 시트룰린, 오르니틴, 크레아틴, 히스티딘, 디아미노부탄산, 디아미노프로피온산, 이들의 염 또는 이들의 조합을 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 특정 실시형태에서, 염기성 아미노산은 리신이다. 아연 아미노산 할로겐화물 착물을 제조하는데 사용하기 위한 염기성 아미노산은 일반적으로 할로겐화물산 부가염, 예를 들어 염산염의 형태로 제공된다. 조성물은 또한 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함한다. "경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태"란 제공된 농도에서 구강 또는 피부에 각각 투여를 위해 안전하며, 아연의 생물학적 활성을 방해하지 않는 염 형태를 의미한다. 특정 실시형태에서, 시스테인은 유리 형태로 투여된다. 본원에서 제제 중 아미노산의 양에 대해 중량이 제공되는 곳에서는 어디든, 중량은 일반적으로 달리 지시되지 않는 한 유리산의 중량을 사용하여 제공된다.

일반적으로, 본원에서 기재한 임의 성분은 제1 성분, 제2 성분 또는 둘 다에 존재할 수 있다.

글리세롤

글리세롤 또는 글리세린은 조성물의 제1 및/또는 제2 성분에서 임의 성분이다. 글리세롤의 존재가 2 성분이 혼합될 때 TBZH-AA 착물의 침전을 지연시킬 수 있다고 알려졌다. 글리세롤은 또한 보습제로서 작용할 수 있다.

시스테인

조성물은 또한 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함한다. "경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태"란 제공된 농도에서 구강 또는 피부에 각각 투여를 위해 안전하며, 아연의 생물학적 활성을 방해하지 않는 염 형태를 의미한다. 특정 실시형태에서, 시스테인은 유리 형태로 투여된다. 본원에서 제제 중 아미노산의 양에 대해 중량이 제공되는 곳에서는 어디든, 중량은 일반적으로 달리 지시되지 않는 한 유리산의 중량을 사용하여 제공된다. 특정 실시형태에서, 시스테인은 시스테인 히드로할라이드, 예를 들어, 시스테인 염산염일 수 있다.

경구로 또는 미용상 허용가능한 담체를 포함하는 조성물에서, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물(전구체를 포함하여)과 시스테인 이외의 조성물 중 모든 다른 물질을 나타낸다. 따라서 담체의 양은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물(전구체를 포함하여) 및 단백질의 중량에 더함으로써 100%에 도달하는 양이다. "경구로 허용가능한 담체"란 예를 들어, 치약 또는 구강 린스제에 제공되는 양과 농도에서 사용하는데 안전한 것으로서 일반적으로 인정되는 성분을 함유하는, 구강 관리 용품에서 사용하는데 적합한 담체를 의미한다. "미용상 허용가능한 담체"란 예를 들어, 액체 핸드 소프 또는 바디 워시에, 또는 발한억제제 제품에 제공되는 양과 농도에서 사용하는데 안전한 것으로서 일반적으로 인정되는 성분으로 이루어지는, 피부에 국소 사용을 위한 제품에서 사용하는데 적합한 담체를 의미한다. 따라서 조성물에 사용하기 위한 부형제는 예를 들어 미국 식품의약국에 의해 "일반적으로 안전한 것으로서 인정되는"(GRAS, Generally Recognized as Safe) 부형제를 포함할 수 있다.

개인 관리 제제:

따라서 용어 "미용상 허용가능한 담체"는 본원에서 정의된 착물의 유효량에 대한 적절한 전달을 제공하고, 아연의 생물학적 활성의 효과를 방해하지 않으며, 피부에 국소 투여를 위해 적합하고, 비독성인 임의의 제제 또는 담체 매질을 의미한다. 대표적인 담체는 물, 식물성 및 광물 둘 다의 오일, 소프 베이스, 크림 베이스, 로션 베이스, 연고 베이스 등, 특히 수성 세제 담체, 예를 들어 액체 핸드 소프 또는 바디 워시를 포함한다. 일 실시형태에서, 수성 소프 베이스는 음이온성 계면활성제가 없거나 음이온성 계면활성제를 1% 미만 함유한다. 또 다른 실시형태에서, 미용상 허용가능한 담체는 국소로 허용가능한 사차 암모늄 화합물을 함유한다. 이들은 추가로 약물 제제화의 분야에서 공지되거나 사용되며, 활성제의 생물학적 활성의 효과를 적절치 않게 방해하지 않고, 숙주 또는 환자에게 충분히 비독성인, 완충제, 보존제, 항산화제, 향료, 유화제, 염료 및 부형제를 포함할 수 있다. 국소 제제용 첨가제는 본 기술에서 잘 알려져 있으며, 이들이 약학적으로 허용가능하며, 상피 세포나 이들의 기능에 해롭지 않은 한, 국소 조성물에 첨가될 수 있다. 추가로, 이들은 조성물의 안정성에 대한 악화를 야기하지 않아야 한다. 예를 들어, 불활성 충전제, 항자극제, 점성 부여제, 부형제, 향료, 유백제, 항산화제, 겔화제, 안정화제, 계면활성제, 피부 연화제, 착색제, 보존제, 완충제, 및 본 기술에서 공지되어 있는 국소 제제의 다른 종래 성분이다.

일부 경우에, 개인 관리 조성물은 오일 또는 피부 보습제를 포함하며, 이들은 수용성이 아닐 수 있고, 에멀션 시스템으로 전달될 수 있으며, 여기서 아연 리신 착물은 에멀션의 수상에 존재할 것이다. 에멀션 제제용 계면활성제는 비이온성 계면활성제의 조합, 예를 들어, (i) 예를 들어, HLB 값이 8 이하인 친유성 계면활성제, 예 소르비탄 지방산 에스테르, 예컨대 소르비탄 올레에이트, 예, 소르비탄 세스퀴올레에이트; 및 (ii) 예를 들어, HLB가 8 초과인 친수성 계면활성제, 특히 a. 디- 또는 트리-알칸올 아민, 예컨대 트리에탄올 아민; b. 폴리에톡실화 계면활성제, 예를 들어 폴리에톡실화 알코올(특히, 폴리에톡실화 폴리올), 폴리에톡실화 식물성유, 및 폴리에톡실화 실리콘, 예, 폴리소르베이트 80, 디메티콘 폴리에틸렌 옥사이드, 및 디메틸메틸(폴리에틸렌 옥사이드) 실록산으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 계면활성제를 포함할 수 있다. 유중수형 에멀션에 대해, 계면활성제 혼합물의 전체 HLB는 바람직하게는 2-8이며, 즉 전형적으로 더 높은 비율의 친유성 계면활성제이고; 반면에 수중유형 에멀션에 대해, 계면활성제 혼합물의 전체 HLB는 바람직하게는 8-16이다.

개인 관리 조성물은 또한 산화를 억제한다고 알려진 물질인, 적합한 항산화제를 포함할 수 있다. 조성물에서 사용하는데 적합한 항산화제는 부틸화 히드록시톨루엔, 아스코르브산, 아스코르브산나트륨, 아스코르브산칼슘, 팔미트산아스코르빌, 부틸화 히드록시아니솔, 2,4,5-트리히드록시부티로페놀, 4-히드록시메틸-2,6-디-tert-부틸페놀, 에리소르브산, 과이액 검, 갈산프로필, 티오디프로피온산, 티오디프로피온산디라우릴, tert-부틸히드로퀴논 및 토코페롤 예컨대 비타민 E, 등을 이들 화합물의 약학적으로 허용가능한 염 및 에스테르를 포함하여, 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 바람직하게는, 항산화제는 부틸화 히드록시톨루엔, 부틸화 히드록시아니솔, 갈산프로필, 아스코르브산, 이들의 약학적으로 허용가능한 염 또는 에스테르, 또는 이들의 혼합물이다. 가장 바람직하게는, 항산화제는 부틸화 히드록시톨루엔이다. 이들 물질은 루거 케미칼사(Ruger Chemical Co.)(뉴저지 어빙턴)로부터 입수가능하다. 국소 제제가 하나 이상의 항산화를 함유하는 경우, 존재한 항산화제의 총량은 0.001 내지 0.5 중량%, 바람직하게는 0.05 내지 0.5 중량%, 더 바람직하게는 0.1%이다.

개인 관리 조성물은 또한 적합한 보존제를 포함할 수 있다. 보존제는 항미생물제로서 작용하도록 제제에 첨가되는 화합물이다. 비경구 제제에서 효과적이고 허용가능한 것으로서 본 기술에서 알려진 보존제 중에 염화벤즈알코늄, 벤제토늄, 클로로헥시딘, 페놀, m-크레졸, 벤질 알코올, 메틸파라벤, 프로필파라벤, 클로로부탄올, o-크로졸, 클로로크레졸, 질산페닐수은, 티메로살, 벤조산, 및 이들의 다양한 혼합물이 있다. 예를 들어, 문헌[Wallhausser, K.-H,, Develop. Biol. Standard, 24:9-28 (1974)(S. Krager, Basel)]을 참조한다. 바람직하게는, 보존제는 메틸파라벤, 프로필파라벤 및 이들의 혼합물로부터 선택된다. 이들 물질은 이놀렉스 케미칼사(Inolex Chemical Co(팬실배니아 필라델피아)) 또는 스펙트럼 케미칼즈사(Spectrum Chemicals)로부터 입수가능하다. 국소 제제가 하나 이상의 보존제를 함유하는 경우, 존재한 보존제의 총량은 0.01 내지 0.5 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 0.5 중량%, 더 바람직하게는 0.03 내지 0.15 중량%이다. 바람직하게는 보존제는 메틸파라벤과 프로필파라벤의 5/1 비 혼합물이다. 알코올이 보존제로서 사용되는 경우, 그 양은 통상적으로 15 내지 20%이다.

개인 관리 조성물은 또한 지질 이중층을 횡단하지 않는 금속 양이온과 착물을 형성하는 적합한 킬레이트화제를 포함할 수 있다. 적합한 킬레이트화제의 일예는 에틸렌 디아민 테트라아세트산(EDTA), 에틸렌 글리콜-비스(베타-아미노에틸에테르)-N,N,N',N'-테트라아세트산(EGTA) 및 8-아미노-2-[(2-아미노-5-메틸페녹시)메틸]-6-메톡시퀴놀린-N,N,N',N'-테트라아세트산, 사칼륨염(QUIN-2)을 포함한다. 이들 물질은 스펙트럼 케미칼즈(Spectrum Chemicals)로부터 입수가능하다. 국소 제제가 하나 이상의 킬레이트화제를 함유하는 경우, 존재한 킬레이트화제의 총량은 0.005 중량% 내지 2.0 중량%, 바람직하게는 0.05 중량% 내지 0.5 중량%, 더 바람직하게는 0.1 중량%이다. 예를 들어 아연을 결합함으로써 킬레이터가 아연 착물을 방해하지 않도록 주의해야 하지만, 시험한 제제에서, 예를 들어 낮은 수준의 EDTA는 문제를 나타내지 않았다.

개인 관리 조성물은 또한 적합한 점도 증가제를 포함할 수 있다. 이들 성분은 중합체와 제제의 상호작용을 통해 중합체 함유 용액의 점도를 증가시킬 수 있는 확산성 화합물이다. CARBOPOL ULTREZ 10이 점도 증가제로서 사용될 수 있다. 이들 물질은 노베온사(Noveon)(오하이오 클리블랜드)로부터 입수가능하다. 국소 제제가 하나 이상의 점도 증가제를 함유하는 경우, 존재한 점도 증가제의 총량은 0.25 중량% 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.25 중량% 내지 1.0 중량%, 및 더 바람직하게는 0.4 중량% 내지 0.6 중량%이다.

액체 형태, 예컨대 국소 투여에 적합하거나 화장 응용 분야에 적합한 로션은 완충제, 현탁 및 분산제, 증점제, 침투 촉진제, 등과 함께 적합한 수성 또는 비수성 부형제를 포함할 수 있다. 고체 형태 예컨대 크림 또는 페이스트 등은 예를 들어 하기 성분, 물, 오일, 계면활성제에 의한 기질(substrate)로서 그리스 또는 알코올, 폴리에틸렌 글리콜과 같은 중합체, 증점제, 고체 등 중 임의 성분을 포함할 수 있다. 액체 또는 고체 제제는 리포솜, 마이크로솜, 마이크로스폰지 등과 같은 향상된 전달 기술을 포함할 수 있다.

국소 치료 요법은 조성물을 피부에 적접 적용 부위에 1일 1회 내지 다수 회 적용하는 단계, 및 피부 상에 산화아연의 침전을 자극하도록 물로 씻는 단계를 포함할 수 있다.

제제는 세균 감염, 여드름, 염증 등과 관련한 증상 또는 증후를 치료하거나, 완화하거나 방지하는데 사용될 수 있다.

구강 관리 제제:

구강 관리 조성물, 예를 들어 조성물 4(및 이하 참조)는 아연 아미노산 할로겐화물 착물을 포함하거나 이에 더해, 에나멜과 치아 구조의 강도 및 완전성을 보호하며, 향상시키고/거나 세균 및 관련 충치 및/또는 치주질환을 줄이는데 활성이 있는 다양한 제제를 포함할 수 있다. 본원에서 사용되는 활성 성분의 유효 농도는 사용되는 특정 제제와 전달 시스템에 좌우될 것이다. 치약은 예를 들어 전형적으로 사용 시 물에 의해 희석될 것이지만, 구강 린스제는 전형적으로 그렇지 않을 것으로 이해된다. 따라서 치약에서 활성제의 유효 농도는 통상적으로 구강 린스제에 필요한 것보다 5-15배 더 클 것이다. 농도는 또한 선택되는 정확한 염 또는 중합체에 좌우될 것이다. 예를 들어, 활성제가 염 형태로 제공되는 경우, 짝 이온이 염의 중량에 영향을 미칠 것이며, 그 결과 짝 이온이 더 무거운 경우, 최종 생성물에서 활성 이온의 동일한 농도를 제공하는데 더 많은 염이 중량으로 필요할 것이다. 아르기닌은, 존재하는 경우, 예를 들어 0.1 내지 20 중량%(유리 염기의 중량으로서 표시됨), 예를 들어 소비용 치약에 대해 1 내지 10 중량% 또는 전문 또는 처방 치료 제품에 대해 7 내지 20 중량%의 수준으로 존재할 수 있다. 불화물은 존재하는 경우 예를 들어 25 내지 25,000 ppm, 예를 들어 소비용 치약에 대해 750 내지 2,000 ppm, 또는 전문 또는 처방 치료 제품에 대해 2,000 내지 25,000 ppm의 수준으로 존재할 수 있다. 항균제의 수준은 유사하게 달라질 것이며, 치약에 사용되는 수준은 예를 들어 구강 린스제에 사용되는 것보다 5 내지 15배 더 크다. 예를 들어, 트리클로산 치약은 0.3 중량%의 트리클로산을 함유할 수 있다.

구강 관리 조성물은 추가로 1 이상의 불화물 이온 원, 예를 들어 가용성 불화물 염을 포함할 수 있다. 광범위한 불화물 이온 생성 물질이 본 조성물에서 가용성 불화물의 원으로서 사용될 수 있다. 적합한 불화물 이온 생성 물질의 일예는 브리너(Briner) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,535,421호; 파란 주니어(Parran, Jr.) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제4,885,155호 및 위더(Widder) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,678,154호에 알려져 있다. 대표적인 불화물 이온 원은 불화주석, 불화나트륨, 불화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 불화물, 불화암모늄, 및 이들의 조합을 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 특정 실시형태에서, 불화물 이온 원은 불화주석, 불화나트륨, 모노플루오로인산나트륨 및 이들의 혼합물을 포함한다. 특정 실시형태에서, 구강 관리 조성물은 또한 불화물 이온 또는 불소 제공 성분의 원을 25 ppm 내지 25,000 ppm의 불화물 이온을 제공하는데 충분한 양으로, 일반적으로 적어도 500 pm, 예를 들어 500 내지 2000 ppm, 예를 들어 1000 내지 1600 ppm, 예를 들어 1450 ppm으로 함유할 수 있다. 불화물의 적합한 수준은 특정 응용 분야에 좌우될 것이다. 일반적인 소비 용도를 위한 치약은 전형적으로 1000 내지 1500 ppm이며, 소아용 치약은 약간 적다. 전문 응용 분야를 위한 치약 또는 코팅은 5,000 ppm 만큼 또는 심지어 25,000 ppm의 불화물을 가질 수 있다. 불화물 이온 원은 조성물에 일 실시형태에서 조성물의 0.01 중량% 내지 10 중량% 또는 0.03 중량% 내지 5 중량%, 및 또 다른 실시형태에서 조성물의 0.1 중량% 내지 1 중량% 의 수준으로 첨가될 수 있다. 불화물 이온의 적합한 수준을 제공하는 불화물 염의 중량은 명백히 염에서 짝 이온의 중량에 기초하여 달라질 것이다.

연마제 : 구강 관리 조성물, 예를 들어 조성물 4(및 이하 참조)는 실리카 연마제를 포함할 수 있으며, 추가의 연마제, 예를 들어 인산칼슘 연마제, 예, 인산삼칼슘(Ca₃(PO₄)₂), 히드록시아파타이트(Ca₁₀(PO₄)₆(OH)₂), 또는 인산이칼슘 이수화물(CaHPO₄·2H₂O, 또한 때로 본원에서 DiCal로 언급됨) 또는 피로인산칼슘; 탄산칼슘 연마제; 또는 메타인산나트륨, 메타인산칼륨, 규산알루미늄, 하소 알루미나, 벤토나이트 또는 다른 규질 물질 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.

본원에서 유용한 다른 실리카 연마 연삭 물질, 및 다른 연마제는 일반적으로 평균 입자 크기가 0.1 내지 30 마이크론, 5 내지 15 마이크론 범위이다. 실리카 연마제는 침강 실리카 또는 실리카 겔, 예컨대 파더(Pater) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,538,230호 및 디기울리오(Digiulio)의 미국특허 제3,862,307호에 기재되어 있는 실리카 크세로젤로부터 유래할 수 있다. 특정 실리카 크세로젤은 더블유 알 그레이스사(W. R. Grace & Co.)의 데이비슨(Davison) 화학부에 의해 상품명 Syloid® 하에 시판되고 있다. 침강 실리카 물질은 제이 엠 후버사(J. M. Huber Corp.)에 의해 명칭 Zeodent 115 및 119를 지닌 실리카를 포함하여, 상품명 Zeodent® 하에 시판되는 것들을 포함한다. 이들 실리카 연마제는 와슨(Wason)의 미국특허 제4,340,583호에 기재되어 있다. 특정 실시형태에서, 구강 관리 조성물의 실시에 유용한 연마제 재료는 흡유량이 100 cc/100 g(실리카) 미만 및 45 cc/100 g(실리카) 내지 70 cc/100 g(실리카) 범위인 실리카 겔 및 침강 비정질 실리카를 포함한다. 흡유량은 ASTA Rub-Out Method D281을 사용하여 측정된다. 특정 실시형태에서, 실리카는 평균 입자 크기가 3 마이크론 내지 12 마이크론, 및 5 내지 10 마이크론인 콜로이드 입자이다. 조성물에서 특히 유용한 낮은 흡유 실리카 연마제는 상품명 Sylodent XWA® 하에 더블유 알 그레이스사(21203 매릴랜드 볼티모어)의 데이비슨 화학부에 의해 시판되고 있다. 함수량이 29 중량%이고, 직경이 평균 7 내지 10 마이크론이며, 흡유량이 70 cc/100 g(실리카) 미만인 콜로이드 실리카의 입자로 이루어진 실리카 히드로겔인, Sylodent 650 XWA®이 조성물에 유용한 낮은 흡유 실리카 연마제의 일예이다.

발포제: 구강 관리 조성물은 또한 구강을 닦을 때 생성되는 거품의 양을 증가시키는 제제를 포함할 수 있다. 거품의 양을 증가시키는 제제의 예시적인 일예는 폴리옥시에틸렌을 포함하나, 이에 한정되지 않으며, 특정 중합체는 알긴산염 중합체를 포함하나, 이에 한정되지 않는다. 폴리옥시에틸렌은 조성물의 구강 관리 담체 성분에 의해 생성되는 거품의 양과 두께를 증가시킬 수 있다. 폴리옥시에틸렌은 또한 통상적으로 폴리에틸렌 글리콜("PEG") 또는 폴리에틸렌 옥사이드로 알려져 있다. 이 조성물에 적합한 폴리옥시에틸렌은 분자량이 200,000 내지 7,000,000일 것이다. 일 실시형태에서, 분자량은 600,000 내지 2,000,000일 것이며, 또 다른 실시형태에서 800,000 내지 1,000,000일 것이다. Polyox®은 유니온 카바이드사(Union Carbide)가 제조한 고분자량 폴리옥시에틸렌에 대한 상품명이다. 폴리옥시에틸렌은 구강 관리 조성물 중 구강 관리 담체 성분의 1 중량% 내지 90 중량%, 일 실시형태에서 5 중량% 내지 50 중량% 및 또 다른 실시형태에서 10 중량% 내지 20 중량%의 양으로 존재할 수 있다. 존재하는 경우, 구강 관리 조성물에서 발포제의 양(즉, 1회량)은 0.01 내지 0.9 중량%, 0.05 내지 0.5 중량%, 및 또 다른 실시형태에서 0.1 내지 0.2 중량%이다.

계면활성제 : 조성물은 음이온성, 양이온성, 비이온성 및/또는 양성 이온성 계면활성제를 함유할 수 있으며, 예를 들면 하기 물질이다:

i. 고급 지방산 모노글리세라이드 일황산염의 수용성 염, 예컨대 소듐 N-메틸 N-코코일 타우레이트, 소듐 코코모노글리세라이드 설페이트와 같은 수소화 코코넛 오일 지방산의 일황산화 모노글리세라이드의 나트륨염,

ii. 고급 알킬 설페이트, 예컨대 소듐 라우릴 설페이트,

iii. 예를 들어 화학식 CH₃(CH₂)_mCH₂(OCH₂CH₂)_nOSO₃X의 고급 알킬 에테르 설페이트(여기서 m은 6-16, 예, 10이며, n은 1-6, 예, 2, 3 또는 4이고, X는 Na 또는 K이다), 예를 들어 소듐 라우레트-2 설페이트(CH₃(CH₂)₁₀CH₂(OCH₂CH₂)₂OSO₃Na),

iv. 고급 알킬 아릴 설포네이트 예컨대 소듐 도데실 벤젠 설포네이트(소듐 라우릴 벤젠 설포네이트),

v. 고급 알킬 설포아세테이트, 예컨대 소듐 라우릴 설포아세테이트(도데실 소듐 설포아세테이트), 1,2 디히드록시 프로판 설포네이트의 고급 지방산 에스테르, 설포코라우레이트(N-2-에틸 라우레이트 칼륨 설포아세트아미드) 및 소듐 라우릴 사르코시네이트.

"고급 알킬"이란 예를 들어 C₆ _-30 알킬을 의미한다. 특정 실시형태에서, 음이온성 계면활성제는 소듐 라우릴 설페이트 및 소듐 에테르 라우릴 설페이트로부터 선택된다. 음이온성 계면활성제는 유효량, 예를 들어 제제의 >0.01 중량%로 존재할 수 있지만, 구강 조직에 자극적일 농도, 예를 들어 <10 중량%로 존재하지 않고, 최적 농도는 특정 제제와 특정 계면활성제에 좌우된다. 예를 들어, 사용되는 농도 또는 구강 세정제는 전형적으로 치약에 사용되는 농도의 십분의 일 정도이다. 일 실시형태에서, 음이온성 계면활성제는 치약에서 0.3 중량% 내지 4.5 중량%, 예를 들어 1.5 중량%로 존재한다. 조성물은 임의로 예를 들어 음이온성 계면활성제와 음이온성, 양이온성, 양성 이온성 또는 비이온성일 수 있는 다른 계면활성제를 포함하는, 계면활성제의 혼합물을 함유할 수 있다. 일반적으로, 계면활성제는 광범위한 pH 범위 전체에 걸쳐 합리적으로 안정한 것들이다. 계면활성제는 예를 들어 아그리콜라(Agricola) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,959,458호; 헤펠(Haefele)의 미국특허 제3,937,807호; 및 기스케(Gieske) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제4,051,234호에 더 완전하게 기재되어 있다. 특정 실시형태에서, 본원에서 유용한 음이온성 계면활성제는 알킬 라디칼에서 탄소 원자 수가 10 내지 18개인 알킬 황산염의 수용성 염 및 탄소 원자 수가 10 내지 18개인 지방산의 설폰화 모노글리세라이드의 수용성 염을 포함한다. 소듐 라우릴 설페이트, 소듐 라우로일 사르코시네이트 및 소듐 코코넛 모노글리세라이드 설포네이트가 이러한 형태의 음이온성 계면활성제의 일예이다. 특정 실시형태에서, 조성물, 예를 들어 조성물 4(및 이하 참조)는 소듐 라우릴 설페이트를 포함한다.

계면활성제 또는 양립가능한 계면활성제의 혼합물은 조성물에서 0.1 중량% 내지 5 중량%, 또 다른 실시형태에서 0.3 중량% 내지 3 중량% 및 또 다른 실시형태에서 전체 조성물의 0.5 중량% 내지 2 중량%로 존재할 수 있다.

음이온성 계면활성제는 아연 아미노산 할로겐화물 착물 또는 아연의 활성을 방해하지 않도록 주의를 기울어야만 한다는 사실에 유의한다. 비교적 낮은 수준에서 그리고 비교적 낮은 수 제제에서, 계면활성제는 일반적으로 중요한 영향을 미치지 않을 것이지만, 더 높은 수준의 음이온성 계면활성제, 특히 수성 제제에서, 음이온성 계면활성제는 배제될 수 있다. 양이온성 및/또는 비이온성 계면활성제가 대신 사용될 수 있다.

치석 제거제: 다양한 실시형태에서, 조성물은 항결석(치석 조절)제를 포함한다. 적합한 항결석제는 제한 없이 인산염과 폴리인산염(예를 들어 피로인산염), 폴리아미노프로판설폰산(AMPS), 헥사메타인산염, 시트르산아연 삼수화물, 폴리펩티드, 폴리올레핀 설폰산염, 폴리올레핀 인산염, 디포스포네이트를 포함한다. 따라서 조성물은 인산염을 포함할 수 있다. 특정 실시형태에서, 이들 염은 알칼리 인산염, 즉 알칼리 금속 수산화물 또는 알칼리 토류 수산화물의 염, 예를 들어 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염이다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "인산염"은 경구로 허용가능한 모노- 및 폴리인산염, 예를 들어 P₁ _-6 인산염, 예를 들어 단량체 인산염 예컨대 제1, 제2 또는 제3 인산염; 이량체 인산염 예컨대 피로인산염; 및 다량체 인산염, 예를 들어 헥사메타인산나트륨을 포함한다. 특정 일예에서, 선택된 인산염은 예를 들어 제2 인산나트륨, 제2 인산칼륨, 인산이칼슘 이수화물, 피로인산칼슘, 피로인산사나트륨, 피로인산사칼륨, 트리폴리인산나트륨, 및 이들 중 임의의 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 알칼리 이염기성 인산염 및 알칼리 피로인산염으로부터 선택된다. 특정 실시형태에서, 예를 들어 조성물은 피로인산사나트륨(Na₄P₂O₇), 피로인산칼슘(Ca₂P₂O₇), 및 제2 인산나트륨(Na₂HPO₄)의 혼합물을 예를 들어 약 3-4%의 제2 인산나트륨 및 약 0.2-1%의 각 피로인산염의 양으로 포함한다. 또 다른 실시형태에서, 조성물은 피로인산사나트륨(TSPP)과 트리폴리인산나트륨(STPP)(Na₅P₃O₁₀)의 혼합물을 예를 들어 TSPP 1-2% 및 STPP 7% 내지 10%의 비율로 포함한다. 이러한 인산염은 에나멜의 침식을 줄이며, 치아 청소에 도움이 되고/되거나 치아에 치석 축적을 줄이는데 유효한 양으로, 예를 들어 조성물의 2-20 중량%, 예를 들어 약 5-15 중량%의 양으로 제공된다.

향미제 : 구강 관리 조성물은 또한 향미제를 포함할 수 있다. 조성물에서 사용될 수 있는 향미제는 에센셜 오일 및 다양한 향미 알데히드, 에스테르, 알코올, 및 유사물질을 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 에센셜 오일의 일예는 스피어민트, 페퍼민트, 노루발풀(wintergree), 사사프라스, 정향(clove), 세이지, 유칼립투스, 마조람, 계피, 레몬, 라임, 자몽, 및 오렌지의 오일을 포함한다. 멘톨, 카르본, 및 아네톨과 같은 화학제품이 또한 유용하다. 특정 실시형태는 페퍼민트와 스피어민트의 오일을 사용한다. 향미제는 구강 조성물에 0.1 내지 5 중량%, 예를 들어 0.5 내지 1.5 중량%의 농도로 혼입될 수 있다.

중합체 : 구강 관리 조성물은 또한 제제의 점도를 조정하거나 다른 성분의 용해도를 향상시키는 추가 중합체를 포함할 수 있다. 이러한 추가 중합체는 폴리에틸렌 글리콜, 폴리사카라이드(예, 셀룰로스 유도체, 예컨대 카르복시메틸 셀룰로스, 또는 폴리사카라이드 검, 예를 들어 크산탄 검 또는 카라기난 검)를 포함한다. 산성 중합체, 예를 들어 폴리아크릴레이트 겔은 이들의 유리산 또는 부분적으로 또는 완전히 중화된 수용성 알칼리 금속(예, 칼륨 및 나트륨) 또는 암모늄염의 형태로 제공될 수 있다.

수성 매질에서 중합체 구조 또는 겔을 형성하는 실리카 증점제가 존재할 수 있다. 이들 실리카 증점제는 물리적으로 및 기능적으로 조성물에 또한 존재하는 미립자 실리카 연마제와 상이하며, 그 이유는 실리카 증점제가 매우 미세하게 분할되어서, 연마 작용을 거의 또는 전혀 제공하지 못하기 때문이라는 사실에 주의한다. 다른 증점제는 카르복시비닐 중합체, 카라기난, 히드록시에틸 셀룰로스 및 셀룰로스 에테르의 수용성 염 예컨대 소듐 카르복시메틸 셀룰로스 및 소듐 카르복시메틸 히드록시에틸 셀룰로스이다. 천연 검 예컨대 카라야, 아라비아 검, 및 트라가칸트 검이 또한 혼입될 수 있다. 콜로이드 규산 알루미늄 마그네슘이 또한 조성물의 텍스처를 추가로 개선하기 위해 증점 조성물의 성분으로서 사용될 수 있다. 특정 실시형태에서, 전체 조성물의 0.5 중량% 내지 5.0 중량%의 양으로 증점제가 사용된다.

조성물은 음이온성 중합체를 예를 들어 0.05 내지 5%의 양으로 포함할 수 있다. 이러한 제제는 일반적으로 치약에서의 용도에 대해 알려져 있으며, 이러한 특정 용용 분야에 대해서는 아니지만, 미국특허 제5,188,821호 및 제5,192,531호에 조성에서 유용하다고 개시되어 있고; 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트, 예컨대 분자량(M.W)이 30,000 내지 1,000,000, 가장 바람직하게는 300,000 내지 800,000인, 또 다른 중합가능한 에틸렌계 불포화 단량체와 무수 말레산 또는 말레산, 바람직하게는 메틸 비닐 에테르/무수 말레산의 1:4 내지 4:1 공중합체를 포함한다. 이들 공중합체는 예를 들어 아이에스피 테크놀로지스사(ISP Technologies, Inc.)(08805 뉴저지 바운드 브룩)로부터 입수가능한, Grantrez, 예, AN 139(M.W. 500,000), AN 119(M.W. 250,000) 및 바람직하게는 S-97 의약품 등급(M.W. 700,000)으로서 이용될 수 있다. 촉진제(enhancing agent)가 존재하는 경우 0.05 내지 3 중량% 범위의 양으로 존재한다. 다른 유효 중합체는 에틸 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈, 또는 에틸렌과 무수 말레산의 1:1 공중합체로서, 후자는 예를 들어 Monsanto EMA No. 1103, M.W. 10,000 및 EMA Grade 61로서 이용가능한 공중합체, 및 메틸 또는 히드록시에틸 메타크릴레이트, 메틸 또는 에틸 아크릴레이트, 이소부틸 비닐 에테르 또는 N-비닐-2-피롤리돈과 아크릴산의 1:1 공중합체와 같은 것들을 포함한다. 활성화 탄소 대 탄소 올레핀 이중 결합과 하나 이상의 카르복실기를 함유하는 중합된 올레핀계 또는 에틸렌계 불포화 카르복실산, 즉 카르복실기에 관해 알파 베타 위치에서 또는 말단 메틸렌 그룹(grouping)의 일부로서 단량체 분자 내에 올레핀 이중 결합의 존재 때문에 중합에서 쉽게 작용하는 올레핀 이중 결합을 함유하는 산이 일반적으로 적합하다. 이러한 산의 예시는 아크릴산, 메타크릴산, 에타크릴산, 알파-클로로아크릴산, 크로톤산, 베타-아크릴옥시 프로피온산, 소르브산, 알파-클로르소르브산, 신남산, 베타-스티릴아크릴산, 무콘산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 글루타콘산, 아코니트산, 알파-페닐아크릴산, 2-벤질 아크릴산, 2-시클로헥실아크릴산, 앙겔산, 움벨산, 푸마르산, 말레산 및 무수물이다. 이러한 카르복실산 단량체와 공중합가능한 다른 상이한 올레핀 단량체는 비닐아세테이트, 비닐 클로라이드, 디메틸 말레에이트 등을 포함한다. 공중합체는 수용해도를 위해 충분한 카르복실산염 기들을 함유한다. 추가 부류의 고분자제는 치환된 아크릴아미드의 단독 중합체 및/또는 불포화 설폰산 및 이들의 염의 단독 중합체를 함유하는 조성물을 포함하며, 특히 여기서 중합체는 자히드(Zahid)의 1989. 6. 27자 미국특허 제4,842,847호에 기재된, 분자량이 1,000 내지 2,000,000인 2-아크릴아미드 2-메틸프로판 설폰산과 같은 아크릴아미도알칸 설폰산으로부터 선택되는 불포화 설폰산을 기초로 한다. 또 다른 유용한 부류의 고분자제는, 예를 들어 시케스(Sikes) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제4,866,161호에 기재된 바와 같이, 아스파르트산, 글루탐산 및 포스포세린과 같은 음이온성 표면 활성 아미노산의 부분을 함유하는 폴리아미노산을 포함한다.

물 : 구강 조성물은 상당 수준의 물을 포함할 수 있다. 시판 구강 조성물의 제제에서 사용되는 물은 탈이온수이어야 하며, 유기 불순물이 없어야 한다. 조성물에서 물의 양은 첨가되는 자유수 플러스 다른 물질과 함께 도입되는 양을 포함한다.

보습제 : 구강 조성물의 특정 실시형태 내에서, 조성물이 공기에 노출 시 경화되는 것을 방지하는 보습제를 혼입하는 것이 또한 바람직하다. 특정 보습제는 또한 치약 조성물에 바람직한 단맛 또는 향미를 부여할 수 있다. 적합한 보습제는 식용 다가 알코올 예컨대 글리세린, 소르비톨, 자일리톨, 프로필렌 글리콜 및 다른 폴리올과 이들 보습제의 혼합물을 포함한다. 일 실시형태에서, 주요 보습제는 글리세린이며, 이는 25% 초과, 예를 들어 25-35%, 30%의 수준에서 존재할 수 있고, 다른 보습제는 5% 이하이다.

다른 임의 성분 : 상기에 기재한 성분 외에, 구강 관리 실시형태는 다양한 임의 치약 성분을 함유할 수 있으며, 이들 중 일부는 하기에 기재된다. 임의 성분은 예를 들어 접착제, 거품제(sudsing agent), 향미제, 감미제, 추가의 항치석제, 연마제, 및 착색제를 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 이들 및 다른 임의 성분은 추가로 마제티(Majeti)의 미국특허 제5,004,597호; 아그리콜라 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,959,458호 및 헤펠의 미국특허 제3,937,807호에 기재되어 있으며, 모두 본원에서 참조로서 원용한다.

임의 형태

2 성분 시스템의 형태는 이중 챔버 형태 또는 비드, 캡슐, 및 필름을 포함하나, 이들에 한정되지 않는 성분을 분리하는 임의의 다른 수단의 형태를 취할 수 있다.

달리 언급되지 않는 한, 본 명세서에서 제시된 조성물 성분의 모든 퍼센트는 100%의 전체 조성물 또는 제제를 기준으로 중량에 의한 것이다. 용어 "전체 조성물" 또는 바로 "조성물"은 전체 최종 생성물 형태, 즉 제1 및 제2 성분의 조합을 의미한다.

본원에서 제공되는 조성물과 제제는 본 기술에서 통상적이듯이, 이들의 성분과 관련하여 기재되고, 청구된다. 당업자에게 명백하듯이, 성분들은 일부 일예에서 서로 반응할 수 있어서, 최종 제제의 실제 조성은 열거한 성분들과 정확히 상응하지 않을 수 있다. 따라서 조성물은 당연히 열거한 성분들의 조합 제품으로 연장된다.

본 발명의 실시형태가 하기 실시예에서 추가로 기재된다. 실시예는 예시적일 뿐이며, 기재되고, 청구하는 본 발명의 범위를 어느 방식으로든 제한하지 않는다.

실시예

2종의 저장 용액을 제조하여 시험하였다. 2종의 원료 시스템은 하기로 이루어졌다:

원료 1: 4.375 mL 물 + 1M HCl + 0.005 g 시스테인(HCl 양은 실험마다 달라짐)

원료 2: 0.1250 mL TBZC-리신 원료

TBZC-리신 원료 - 14.6190 g(0.1 몰)의 L-리신을 100 ml의 탈이온수에 실온에서 교반 하에 용해시킨다. 모든 L-리신이 용해된 후, 5.5740 g(0.0101 몰)의 TBZC를 용액에 교반 하에 천천히 첨가한다. 현탁액을 실온에서 적어도 30분 내지 24 시간 동안 계속 혼합한다. 그 후, 현탁액을 7000 rpm에서 20분간 원심분리하고, 0.45 ㎛ 세공 크기의 여과막으로 여과시켜 미반응 TBZC를 제고한다. 황색의 맑은 상층액을 저장 용액으로서 회수한다.

최종 생성물은 물과 산에 의해 TBZC-리신의 36배 희석액을 형성하였다. 또한 시스테인의 0.1% 용액을 제조하였다. 첨가된 산의 양을 바꿈으로써, 다음과 같이 상이한 결과를 얻었다:

실시예 1:

원료 1 중 10 μL 1M HCl

pH 원료 1: 3.096

pH 원료 2: 10.024

pH 최종: 8.249

반응 지연: 관찰될 수 있는 반응 없음

10 μL의 HCl 사용으로 최종 용액 내에 침전 생성하는데 충분하지 않았다.

실시예 2:

원료 1 중 20 μL 1M HCl

pH 원료 1: 2.906

pH 원료 2: 10.024

pH 최종: 7.376

반응 지연: 관찰될 수 있는 반응 없음

20 μL의 HCl 사용으로 최종 용액 내에 침전 생성하는데 충분하지 않았다.

실시예 3:

원료 1 중 30 μL 1M HCl

pH 원료 1: 2.681

pH 원료 2: 10.024

pH 최종: 7.141

반응 지연: 3초

pH를 7.141로 낮춤으로써 용액은 혼합 약 3초 후 침전을 효과적으로 생성하였다.

실시예 4:

원료 1 중 40 μL 1M HCl

pH 원료 1: 2.441

pH 원료 2: 10.024

pH 최종: 6.430

반응 지연: 3초

용액의 pH를 더 낮춤으로써, 혼합 약 3초 후 여전히 침전을 달성하였다.

추가 실시예에서, 시스테인 HCl 사용이 산성화 수성 시스테인과 비교하여 유사한 효과가 있을 수 있다는 사실을 확인할 수 있다.

실시예 5:

원료 1: 4.375 mL 탈이온수 + 0.0225 g 시스테인 HCl

원료 2: 0.1250 mL TBZC-리신

원료 1의 pH: 2.104

원료 2의 pH: 10.456

최종 생성물의 pH: 5.002

관찰가능한 침전: 순간적으로 존재

상기 실시예에서, 0.5 중량%의 시스테인 HCl이 산성화 수성 시스테인이 생성할 수 있는 방식과 유사하게 침전을 생성할 수 있다는 사실이 확인된다. 최종 결과는 더 낮은 pH와 침전이 달성되는 pH 값의 상이한 범위이다. 이 반응을 소비용으로 느리게 하기 위해, 공용매가 바람직할 수 있다.

수성 산성화 시스테인과 TBZC-리신 용액 내 관찰가능한 침전의 최대량이 pH 6.3 주위에서 달성되었음을 알았다. 관찰가능한 침전은 그 후 없어지기 시작하는 대략 6.0까지 짙게 "뿌연" 상태로서 유지될 것이다. 용액은 pH 5.7 주위에서 꾸준히 깨끗해지기 시작했고, pH 5.3 가까이에서 완전히 투명해졌다.

실시예 6

반응 지연은 특히 구강 관리 응용 분야에 대해 중요할 수 있다. 글리세린을 제2 원료(TBZC-리신)에 첨가함으로써 반응 지연을 원하는 양으로 효과적으로 늘일 수 있다. 예를 들어:

원료 1: 0.005 g 시스테인 + 30 μL 1M HCl + 4.375 mL 탈이온수

원료 2: 8.750 g 글리세린 + 0.1250 mL TBZC-리신

(글리세린은 최종 용액의 대략 66 중량%이다)

pH 원료 1: 2.681

pH 원료 2: 판별할 수 없음

최종 pH: 6.927

시간 지연: 10+ 초

글리세린을 최종 용액의 대략 66 중량%를 포함하는 양으로 첨가함으로써, 반응 지연을 10초를 넘어서 증가시킬 수 있다. 원료 2의 pH는 점성 액체로 인한 pH 탐침의 부적합성으로 인해 판별할 수 없었음을 유의한다. 또한 시간 지연은 격렬한 혼합에 대해 대략 10초이었음에 유의한다. 실제 응용 분야에서 지연은 덜 격렬한 혼합 방법으로 인해 아마도 더 길 것이다.

결론

요약하면, 본 발명은 2종의 저장 용액으로 이루어진다. 제1 원료는 산성화 시스테인 또는 시스테인-HCl의 수용액을 함유한다. 제2 원료는 글리세린의 양이 가변적인 TBZC-리신을 함유한다. 2개의 원료 시스템을 사용함으로써, 반응 속도는 소비자가 구강 내에서 완전한 혜택을 누리도록 변경될 수 있다. 또한, 2개의 원료 시스템은 구강 관리 분야 내에서 사용을 가능하게 할 더 안전한 pH를 나타낸다.

실시예 7 - TBZC - lys 와 시스테인이 있는 액체 핸드 소프

실시예 5의 TBZC-lys("저장" 용액을 형성하는 희석 전) 1 g을 표 1에 제시한 배합식을 가진 시판 액체 핸드 소프(LHS) 4 g과 배합하여 0.7% 아연을 가진 제제를 제공한다.

물질	중량%
염화세트리모늄(세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드)	2.4
글리세린	2
라우르아미도프로필디메틸아민 옥사이드	1.2
코카미드 MEA(코코모노에탄올아미드)	1
PEG-12- 메틸 글루코스 디올레에이트	0.6
미리스트아미도프로필아민 옥사이드	0.4
C₁₂ _-18 알킬디메틸벤젠 암모늄 클로라이드(BKC)	0.13
물 및 미량 성분	Q.S.

소프 용기에서, 병을 격벽으로 분할한다. 격벽의 양면은 바로 위 표에서 표준 소프 베이스를 함유한다. 한 면은 적당량의 시스테인을 함유하고, 다른 면은 적당량의 TBZC-lys를 함유한다. 분배될 때, 2종의 원료는 노즐에서 혼합되어 모든 원하는 혜택을 소비할 수 있는 병 내에서 반응이 일어나지 않으면서 피부 표면에 직접 순간적인 침전을 형성할 것이다.

실시예 8 - 아연- 리신을 포함하는 겔 제제

활성 성분으로서 TBZC-lys/시스테인을 가진 구강 겔 치약을 표 2에 제시한 성분으로 제제화한다.

성분들을 튜브에 넣는다. 튜브를 물리적 분할기에 의해 분리하여 2개의 첨버를 얻고, 한 챔버는 시스테인을 함유하고, 나머지는 TBZC-lys를 함유한다. 분배될 때, 제제는 적절히 원하는 지연으로 인해 반응하지 않는다. 혼합과 솔질 시 침전물이 형성되어 세관을 폐색하고, 구강 표면에 아연 이온 이점을 제공한다.

Claims

신체에 아연을 전달하는 2 성분 조성물로서, (i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 트리알킬 글리신 할로겐화물 착물을 포함하는 제1 성분 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상(cosmetically) 허용가능한 염 형태로 포함하는 제2 성분을 포함하며, 제1 및 제2 성분은 신체에 적용을 위해 분배되고, 배합될 때까지 서로 분리되어 유지되는 2 성분 조성물.
제1항에 있어서, 글리세롤을 제1 성분, 제2 성분 또는 두 성분 모두에서 추가로 포함하는 2 성분 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 제1 성분의 pH는 7 내지 11, 8 내지 10 또는 9 내지 10이며, 제2 성분의 pH는 2 내지 6, 2 내지 5, 3 내지 6 또는 4.5 내지 5.5인 2 성분 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 4 염기성 아연 아미노산 또는 트리알킬 글리신 할로겐화물은 전구체로부터 형성되며, 전구체는 아연 이온 원, 아미노산 원, 및 할로겐화물 원이고, 할로겐화물 원은 할로겐산, 아미노산 원, 또는 아연 이온 원의 부분일 수 있는 것인 조성물.
제4항에 있어서, 아연 이온 원은 4 염기성 염화아연인 조성물.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 아미노산 원은 염기성 아미노산, 리신, 아르기닌, 및 글리신 중 하나 이상인 조성물.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 트리알킬 글리신은 C₁-C₄ 알킬 글리신 또는 트리메틸 글리신인 조성물.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 4 염기성 아연 아미노산 할로겐화물이 4 염기성 아연을 아미노산 히드로할라이드와 배합함으로써 제조되는 것인 조성물.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 2 성분의 혼합 시, 시스테인과 착물로 산화아연을 포함하고, 임의로 산화아연, 탄산아연, 및 이들의 혼합물을 추가로 포함하는 침전물을 제공하는 조성물.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 2 성분의 혼합 시, pH가 4 내지 8, 5 내지 8, 5 내지 7이고, 혼합 후 1 내지 20초에 침전물을 형성하는 조성물.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물에 존재하는 아연의 총량이 전체 조성물의 0.2 내지 8 중량% 인 조성물.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 시스테인의 양은 0.1% 내지 1%인 조성물.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 시스테인은 시스테인 히드로할라이드, 임의로, 시스테인 염산염인 조성물.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 2 성분의 혼합 시 침전물을 형성할 수 있으며, 침전물은 적어도 5.5의 pH에서 내산성인 조성물.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 2 성분은 이중 챔버, 비드, 캡슐, 및 필름으로 이루어진 군에서 선택되는 것인 조성물.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 추가로 미용상 허용가능한 담체(carrier)를 포함하는, 발한억제제 또는 탈취제 제품인 조성물.
살균하며, 발한을 줄이고/줄이거나, 체취를 줄이는 방법으로서, 제16항의 2 성분을 혼합하는 단계 및 혼합된 성분의 유효량을 피부에 적용하는 단계를 포함하는 방법.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 성분, 제2 성분 또는 이 두 성분 모두에 추가로 미용상 허용가능한 담체를 포함하는, 액체 핸드 소프, 바디 워시, 피부 로션, 피부 크림, 및 피부 컨디셔너로부터 선택되는 개인 관리 용품인 조성물.
살균하며, 여드름 또는 국소 피부 감염의 발병을 치료하거나 감소시키고, 또는 씻을 때 시각 신호(visual signal)를 제공하는 방법으로서, 제18항의 2 성분을 혼합하는 단계 및 피부를 물과 혼합된 성분의 유효량으로 씻는 단계를 포함하는 방법.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 추가로 경구로 허용가능한 담체를 제1 성분, 제2 성분, 또는 두 성분 모두에서 포함하는, 구강 관리 용품인 조성물.
에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치(tooth decay)와 충치 구멍(cavity) 형성을 억제하며/하거나, 상아질 과민증을 줄이는 방법으로서, 제20항의 성분을 혼합하는 단계 및 혼합된 성분의 유효량을 이를 필요로 하는 인간의 구강에 적용하는 단계를 포함하는 방법.
제17항, 제19항, 또는 제21항의 방법 중 어느 하나에서 사용하기 위한 조성물의 제조에 사용되는, 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태의 시스테인과 함께 4 염기성 아연 아미노산 또는 트리알킬 글리신 할로겐화물 착물의 용도.