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KR20130022055A - Light emitting package and light emitting apparatus having the same - Google Patents

Light emitting package and light emitting apparatus having the same Download PDF

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KR20130022055A
KR20130022055A KR1020110084720A KR20110084720A KR20130022055A KR 20130022055 A KR20130022055 A KR 20130022055A KR 1020110084720 A KR1020110084720 A KR 1020110084720A KR 20110084720 A KR20110084720 A KR 20110084720A KR 20130022055 A KR20130022055 A KR 20130022055A
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South Korea
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light emitting
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layer
lead
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KR1020110084720A
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Korean (ko)
Inventor
김다미
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엘지이노텍 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A light emitting element package and a light emitting device including the same are provided to prevent moisture and an interlayer short of a light emitting structure by forming an insulation layer on the surface of a light emitting device. CONSTITUTION: A body(11) includes a cavity(15). A first lead frame(30) and a second lead frame(40) are arranged in the cavity of the body. A heat radiation frame(20) is arranged between the first lead frame and the second lead frame. A light emitting device(101) is formed on the first lead frame and the second lead frame. A first lead part(33) and a second lead part(43) are arranged on the side of the body. A first heat radiation unit(24) is bent from the heat radiation frame.

Description

발광 소자 패키지 및 이를 포함하는 발광 장치{LIGHT EMITTING PACKAGE AND LIGHT EMITTING APPARATUS HAVING THE SAME}LIGHT EMITTING PACKAGE AND LIGHT EMITTING APPARATUS HAVING THE SAME}

실시 예는 발광 장치에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting device.

발광 다이오드(LED: Light Emitting Diode)는 GaAs 계열, AlGaAs 계열, GaN 계열, InGaN 계열 및 InGaAlP 계열 등의 화합물 반도체 재료를 이용하여 발광 원을 구성할 수 있다. A light emitting diode (LED) may form a light emitting source using compound semiconductor materials such as GaAs series, AlGaAs series, GaN series, InGaN series, and InGaAlP series.

이러한 발광 다이오드는 패키지화되어 다양한 색을 방출하는 발광소자 패키지로 이용되고 있으며, 발광소자 패키지는 칼라를 표시하는 점등 표시기, 문자 표시기 및 영상 표시기 등의 다양한 분야에 광원으로 사용되고 있다.Such a light emitting diode is packaged and used as a light emitting device package that emits various colors, and the light emitting device package is used as a light source in various fields such as a lighting indicator, a color display, and an image display for displaying a color.

실시예는 새로운 구조를 가지는 발광소자 패키지를 제공한다.The embodiment provides a light emitting device package having a new structure.

실시 예는 발광 소자 패키지의 상면에 배치된 무극성의 방열부에 방열 플레이트를 접촉시켜 방열할 수 있는 발광 장치를 제공한다.The embodiment provides a light emitting device capable of dissipating heat by contacting a heat dissipation plate on a non-polar heat dissipation portion disposed on an upper surface of a light emitting device package.

실시예는 캐비티를 갖는 몸체; 상기 몸체의 캐비티에 배치된 제1리드 프레임 및 제2리드 프레임; 상기 캐비티에 배치된 상기 제1리드 프레임과 상기 제2리드 프레임 사이에 배치된 방열 프레임; 상기 제1리드 프레임 및 제2리드 프레임 위에 적어도 하나의 발광 소자; 상기 몸체의 측면부에 배치된 제1리드부 및 제2리드부; 및 상기 몸체의 제1리드부와 제2리드부 사이에 상기 방열 프레임으로부터 절곡된 제1 방열부를 포함하는 발광소자 패키지를 제공한다.An embodiment includes a body having a cavity; A first lead frame and a second lead frame disposed in the cavity of the body; A heat dissipation frame disposed between the first lead frame and the second lead frame disposed in the cavity; At least one light emitting device on the first lead frame and the second lead frame; A first lead portion and a second lead portion disposed on the side portion of the body; And a first heat dissipation part bent from the heat dissipation frame between the first lead part and the second lead part of the body.

본 발명에 따르면, 실시 예는 발광 소자 패키지의 방열 효율을 개선시켜 줄 수 있다.According to the present invention, the embodiment can improve the heat radiation efficiency of the light emitting device package.

실시 예는 사이드 뷰 타입의 발광 소자 패키지에서 방열 효율을 개선시켜 줄 수 있다.The embodiment can improve heat dissipation efficiency in the side view type light emitting device package.

실시 예는 발광 소자 패키지 및 이를 구비한 발광 장치의 신뢰성을 개선시켜 줄 수 있다.The embodiment can improve the reliability of the light emitting device package and the light emitting device having the same.

도 1은 실시 예에 따른 발광 소자 패키지를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 발광 소자 패키지의 A-A 측 단면도이다.
도 3은 도 1의 발광 소자 패키지의 B-B 측 단면도이다.
도 4는 도 1의 발광 소자 패키지의 제2 측면부에서 바라본 도면이다.
도 5는 도 1의 발광 소자 패키지의 제1 측면부에서 바라본 도면이다.
도 6은 도 1의 리드 프레임의 전개도이다.
도 7은 도 1의 리드 프레임의 다른 실시예에 대한 전개도이다.
도 8은 도 1의 발광 소자 패키지의 발광 소자를 나타낸 도면이다.
도 9는 실시 예에 따른 발광 소자 패키지를 갖는 표시 장치를 나타낸 도면이다.
1 is a view showing a light emitting device package according to an embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the AA side of the light emitting device package of FIG. 1.
3 is a cross-sectional view taken along the BB side of the light emitting device package of FIG. 1.
FIG. 4 is a view of the second side surface of the light emitting device package of FIG. 1.
FIG. 5 is a view of the first side surface of the light emitting device package of FIG. 1.
6 is an exploded view of the lead frame of FIG. 1.
FIG. 7 is an exploded view of another embodiment of the lead frame of FIG. 1. FIG.
8 is a view illustrating a light emitting device of the light emitting device package of FIG. 1.
9 is a diagram illustrating a display device having a light emitting device package according to an exemplary embodiment.

이하, 실시 예들은 첨부된 도면 및 실시 예들에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. 실시 예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "위(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "위(on)"와 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 위 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), region, pattern or structure is formed "on" or "under" a substrate, each layer The terms " on "and " under " encompass both being formed" directly "or" indirectly " In addition, the criteria for above or below each layer will be described with reference to the drawings.

도면에서 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. 또한 동일한 참조번호는 도면의 설명을 통하여 동일한 요소를 나타낸다. In the drawings, dimensions are exaggerated, omitted, or schematically illustrated for convenience and clarity of illustration. In addition, the size of each component does not necessarily reflect the actual size. The same reference numerals denote the same elements throughout the description of the drawings.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시 예에 따른 발광 소자 패키지를 설명한다.Hereinafter, a light emitting device package according to an embodiment will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 실시 예에 따른 발광 소자 패키지를 나타낸 도면이며, 도 2는 도 1의 발광 소자 패키지의 A-A 측 단면도이며, 도 3은 도 1의 발광 소자 패키지의 B-B 측 단면도이고, 도 4는 도 1의 발광 소자 패키지의 제2측면부에서 바라본 도면이며, 도 5는 도 1의 발광 소자 패키지의 제1측면부에서 바라본 도면이며, 도 6은 도 1의 리드 프레임의 전개도이다.1 is a view showing a light emitting device package according to an embodiment, FIG. 2 is a sectional view taken along the AA side of the light emitting device package of FIG. 1, FIG. 3 is a sectional view taken along the BB side of the light emitting device package of FIG. FIG. 5 is a view from the second side of the light emitting device package of FIG. 5, and FIG. 5 is a view from the first side of the light emitting device package of FIG. 1, and FIG. 6 is an exploded view of the lead frame of FIG. 1.

도 1 내지 도 6을 참조하면, 발광 소자 패키지(100)는 측면 발광형 패키지로 구현될 수 있으며, 휴대 전화기와 휴대 컴퓨터 등의 액정표시장치의 광원, 조명 분야 등의 발광 장치로서 다양하게 적용될 수 있다. 1 to 6, the light emitting device package 100 may be implemented as a side light emitting package, and may be variously applied as a light source such as a light source and an illumination field of a liquid crystal display such as a mobile phone and a portable computer. have.

상기 발광 소자 패키지(100)는 캐비티(15)를 갖는 몸체(11), 상기 캐비티(15) 내에 제1 및 제2리드 프레임(30, 40), 상기 제1 및 제2리드 프레임(30, 40) 사이에 방열 프레임(20), 상기 제1 및 제2리드 프레임(30, 40) 위에 발광 소자(101), 상기 제1 및 제2리드 프레임(30, 40) 및 방열 프레임(20)으로부터 절곡되어 상기 몸체(11)의 제2측면부(S2) 상에 배치된 제1리드부(33) 및 제2리드부(43), 상기 방열 프레임(20)으로부터 절곡되어 상기 몸체(11)의 제2측면부(S2) 상에 배치된 제1방열부(24)를 포함한다. The light emitting device package 100 includes a body 11 having a cavity 15, first and second lead frames 30 and 40 in the cavity 15, and first and second lead frames 30 and 40. Bent from the light emitting element 101, the first and second lead frames 30 and 40 and the heat dissipation frame 20 on the heat dissipation frame 20, the first and second lead frames 30 and 40. And bent from the first lead portion 33 and the second lead portion 43 and the heat dissipation frame 20 disposed on the second side surface portion S2 of the body 11 to form a second portion of the body 11. It includes a first heat dissipation portion 24 disposed on the side surface portion (S2).

상기 몸체(11)는 인쇄회로기판(PCB), 실리콘(silicon), 실리콘 카바이드(silicon carbide : SiC), 질화 알루미늄(aluminum nitride ; AlN), 폴리프탈아마이드(poly phthalamide : PPA), 고분자액정(Liquid Crystal Polymer) 등에서 적어도 하나로 형성될 수 있으며, 이러한 재질로 한정하지는 않는다. 또한 상기 몸체(11)는 폴리프탈아마이드(PPA)와 같은 재질을 사출 구조물로 사출 성형되거나, 에칭 방식을 이용하여 형성하거나, 인쇄회로기판으로 제조될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The body 11 includes a printed circuit board (PCB), silicon, silicon carbide (SiC), aluminum nitride (AlN), poly phthalamide (PPA), and polymer liquid crystal (Liquid). Crystal Polymer) may be formed in at least one, and the like, but is not limited thereto. In addition, the body 11 may be formed by injection molding a material such as polyphthalamide (PPA) into an injection structure, using an etching method, or may be manufactured as a printed circuit board, but is not limited thereto.

상기 몸체(11)는 도 2 내지 도5와 같이, 반사부(12) 및 지지부(13)를 포함하며, 상기 반사부(12)는 상부가 개방된 캐비티(15)를 포함하며, 상기 지지부(13)는 상기 반사부(12)의 아래에서 상기 반사부(12)와 일체로 형성된다. 상기 반사부(12)와 지지부(13) 사이에는 상기 캐비티(15)의 바닥에 배치된 제1리드 프레임(30), 방열 프레임(20) 및 제2리드 프레임(40)이 배치된다.2 to 5, the body 11 includes a reflector 12 and a support 13, and the reflector 12 includes a cavity 15 having an open upper portion. 13 is formed integrally with the reflector 12 under the reflector 12. The first lead frame 30, the heat dissipation frame 20, and the second lead frame 40 disposed on the bottom of the cavity 15 are disposed between the reflective part 12 and the support part 13.

상기 몸체(11)의 전면부(S0)에는 개방된 캐비티(15)가 형성되며, 상기 캐비티(15)는 소정 깊이 및 소정 형상으로 형성될 수 있으며, 그 상측은 광 출사 영역이 될 수 있다. 상기 캐비티(15)의 둘레는 도 2 및 도 3과 같이, 상기 캐비티(15)의 바닥에 대해 경사지거나 수직하게 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. An open cavity 15 is formed in the front portion S0 of the body 11, and the cavity 15 may be formed at a predetermined depth and a predetermined shape, and an upper side thereof may be a light emission area. 2 and 3, the circumference of the cavity 15 may be inclined or perpendicular to the bottom of the cavity 15, but is not limited thereto.

상기 몸체(11)의 제2측면부(S2)는 상기 캐비티(15)가 형성된 면과 직교하는 면으로서 기판에 탑재될 영역이며, 제1측면부(S1)는 상기 제2측면부(S2)의 반대측 영역이다. 제3측면부(S3)와 제4측면부(S4)는 상기 캐비티(15)의 길이 방향에 배치된 측면부로서 서로 반대측에 배치된다. 상기 캐비티(15)는 제3측면부(S3) 및 제4측면부(S4) 사이에 배치된 영역의 길이가 제2측면부(S2)와 제1측면부(S1) 사이에 배치된 영역의 길이보다 더 길게 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The second side surface portion S2 of the body 11 is a surface orthogonal to the surface on which the cavity 15 is formed, and is a region to be mounted on the substrate, and the first side surface portion S1 is an area opposite to the second side surface portion S2. to be. The third side portion S3 and the fourth side portion S4 are side portions disposed in the longitudinal direction of the cavity 15 and disposed on opposite sides thereof. The cavity 15 has a length longer than the length of the region disposed between the third side portion S3 and the fourth side portion S4, the length of the region disposed between the second side portion S2 and the first side portion S1. It may be formed, but not limited thereto.

상기 캐비티(15)의 바닥 중앙에는 상기 제1 및 제2리드 프레임(31,41) 사이에 방열 프레임(20)이 배치되고, 상기 제1 및 제2리드 프레임(31,41)은 상기 캐비티(15) 바닥 양측에 배치된다.A heat dissipation frame 20 is disposed between the first and second lead frames 31 and 41 at the center of the bottom of the cavity 15, and the first and second lead frames 31 and 41 are formed in the cavity ( 15) are placed on both sides of the floor.

상기 제1, 제2리드 프레임(30, 40) 및 방열 프레임(20)은 금속 재질, 예를 들어, 티타늄(Ti), 구리(Cu), 니켈(Ni), 금(Au), 크롬(Cr), 탄탈늄(Ta), 백금(Pt), 주석(Sn), 은(Ag), 인(P) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 단일 금속층 또는 다층 금속층으로 형성될 수 있다.The first and second lead frames 30 and 40 and the heat dissipation frame 20 are made of a metal material, for example, titanium (Ti), copper (Cu), nickel (Ni), gold (Au), and chromium (Cr). ), Tantalum (Ta), platinum (Pt), tin (Sn), silver (Ag), phosphorus (P) may include at least one, and may be formed of a single metal layer or a multilayer metal layer.

상기 제1리드 프레임(30)은 상기 캐비티(15)의 일측에 상기 방열 프레임(20)과 이격되게 배치되며, 상기 제2리드 프레임(40)은 상기 캐비티(15)의 타측에 상기 방열 프레임(20)과 이격되게 배치된다. The first lead frame 30 is spaced apart from the heat dissipation frame 20 on one side of the cavity 15, and the second lead frame 40 is disposed on the other side of the cavity 15. 20) and spaced apart.

상기 제1리드 프레임(30)은 발광칩(101)이 배치되는 상면부(31), 도 6과 같이 제1리드부(33)를 포함하며, 상기 제1리드부(33)는 상기 제1리드 프레임(30)으로부터 상기 몸체(11)를 관통하여 상기 몸체(11)의 제2측면부(S2)로 절곡되고, 상기 몸체(11)의 제2측면부(S2)와 거의 평행하게 배치된다. 상기 제1리드부(33)는 상기 몸체(11)의 지지부(13)의 일 측면 상에 밀착될 수 있다. 또한, 상기 제1 리드 프레임(30)은 도 6과 같이 제1 리드부(33)와 이격하여 상기 제2 측면부(S2)로 절곡하는 제2 방열부(34)를 더 포함하며, 상기 제2 방열부(34)와 제1 리드부(33)는 상기 상면부(31)로부터 서로 분리되어 절곡되는 편일 수 있다. 한편, 상기 상면부(31)와 상기 제1 리드부(33) 및 상기 제2 방열부(34)의 절곡 영역(32)은 상기 제1 리드부(33) 및 제2 방열부(34)의 폭보다 작은 폭을 가질 수 있다. The first lead frame 30 includes an upper surface portion 31 on which the light emitting chip 101 is disposed, and a first lead portion 33 as shown in FIG. 6, and the first lead portion 33 includes the first lead portion 33. It is bent from the lead frame 30 to the second side portion S2 of the body 11 through the body 11 and disposed substantially parallel to the second side portion S2 of the body 11. The first lead part 33 may be in close contact with one side of the support part 13 of the body 11. In addition, the first lead frame 30 further includes a second heat dissipation part 34 that is bent into the second side part S2 by being spaced apart from the first lead part 33 as illustrated in FIG. 6. The heat dissipation part 34 and the first lead part 33 may be bent separately from each other from the upper surface part 31. Meanwhile, the bent area 32 of the upper surface portion 31, the first lead portion 33, and the second heat dissipation portion 34 may be formed by the first lead portion 33 and the second heat dissipation portion 34. It may have a width smaller than the width.

상기 제2리드 프레임(40)은 도 6과 같이 제2리드부(43)를 포함하며, 상기 제2리드부(43)는 상기 제2리드 프레임(40)으로부터 상기 몸체(11)를 관통하여 상기 몸체(11)의 제2측면부(S2)로 절곡되고, 상기 몸체(11)의 제2측면부(S2)와 거의 평행하게 배치된다. 상기 제2리드부(43)는 상기 몸체(11)의 지지부(13)의 일 측면 상에 밀착될 수 있다. 또한, 상기 제2 리드 프레임(40)은 제2 리드부(43)와 이격하여 상기 제2 측면부(S2)로 절곡하는 제3 방열부(44)를 더 포함하며, 상기 제3 방열부(44)와 제2 리드부(43)는 상기 상면부(41)로부터 서로 분리되어 절곡되는 편일 수 있다. 한편, 상기 상면부(41)와 상기 제2 리드부(43) 및 상기 제3 방열부(44)의 절곡 영역(42)은 상기 제2 리드부(43) 및 제3 방열부(44)의 폭보다 작은 폭을 가질 수 있다. The second lead frame 40 includes a second lead portion 43 as shown in FIG. 6, and the second lead portion 43 penetrates the body 11 from the second lead frame 40. The second side portion S2 of the body 11 is bent and disposed in parallel with the second side portion S2 of the body 11. The second lead part 43 may be in close contact with one side of the support part 13 of the body 11. In addition, the second lead frame 40 further includes a third heat dissipation part 44 bent to the second side part S2 by being spaced apart from the second lead part 43, and the third heat dissipation part 44. ) And the second lead portion 43 may be bent separately from each other from the upper surface portion (41). Meanwhile, the bent region 42 of the upper surface portion 41, the second lead portion 43, and the third heat dissipation portion 44 may be formed by the second lead portion 43 and the third heat dissipation portion 44. It may have a width smaller than the width.

방열 프레임(20)은 캐비티(15) 바닥면의 상면부(21) 및 제1방열부(24)를 포함하며, 상기 캐비티(15)의 바닥에서 몸체(11)의 제2측면부(S2)를 통해 관통된다. 상기 제1방열부(24)는 상기 방열 프레임(20)으로부터 상기 몸체(11)의 제2측면부(S2)로 절곡되어, 상기 제2측면부(S2) 상에 상기 제2측면부(S2)와 거의 평행하게 배치된다. The heat dissipation frame 20 includes an upper surface portion 21 and a first heat dissipation portion 24 of the bottom surface of the cavity 15, and the second side surface portion S2 of the body 11 at the bottom of the cavity 15. Penetrates through. The first heat dissipation part 24 is bent from the heat dissipation frame 20 to the second side part S2 of the body 11, and is substantially on the second side part S2 with the second side part S2. Arranged in parallel.

상기 방열 프레임(20)의 제1방열부(21)는 상기 몸체(11)의 제2측면부(S2)인 지지부(13) 상에 밀착되고, 상기 지지부(13)의 면적과 거의 동일한 면적으로 형성될 수 있다. 상기 방열 프레임의 제1 방열부(24)와 상면부(21)의 절곡 영역(22)은 상기 제1 방열부(24)의 폭보다 작은 폭을 가질 수 있다. The first heat dissipation part 21 of the heat dissipation frame 20 is in close contact with the support part 13 which is the second side part S2 of the body 11 and is formed with an area substantially equal to the area of the support part 13. Can be. The first heat dissipation part 24 and the bent region 22 of the upper surface part 21 of the heat dissipation frame may have a width smaller than the width of the first heat dissipation part 24.

상기 제1 내지 제3 방열부(24, 34, 44)는 상기 제1리드부(33) 및 제2리드부(43)와 서로 동일 평면에 배치된다. 따라서, 기판과 접착되는 제2 측면부(S2)에 복수의 방열부(24, 34, 44)가 배치됨으로써 방열성이 확보된다. The first to third heat dissipation parts 24, 34, and 44 are disposed on the same plane as the first lead part 33 and the second lead part 43. Accordingly, the plurality of heat dissipation parts 24, 34, and 44 are disposed on the second side surface part S2 bonded to the substrate to ensure heat dissipation.

상기 방열 프레임(20)은 무 극성의 단자로서, 전원 경로가 아니기 때문에 방열을 더 효과적으로 수행할 수 있다.The heat dissipation frame 20 is a terminal having a non-polarity, and since the heat dissipation frame 20 is not a power path, heat dissipation may be more effectively performed.

한편, 도 7과 같이, 방열 프레임(20)의 상면부(21)는 측면에 복수의 요철부를 더 포함할 수 있으며, 각 프레임(20, 30, 40)의 절곡 영역(22, 32, 42)에 복수의 구멍(26, 36, 46)이 형성될 수 있다. On the other hand, as shown in Figure 7, the upper surface portion 21 of the heat dissipation frame 20 may further include a plurality of uneven parts on the side, bent region (22, 32, 42) of each frame (20, 30, 40) A plurality of holes 26, 36, 46 may be formed in the hole.

상기 구멍(26, 36, 46)에 상기 몸체(11)의 일부가 배치된다. 따라서, 요철 구조와 구멍(26, 36, 46)에 따라 방열 프레임(20)과 상기 몸체(11)와의 접착력은 개선될 수 있다.A portion of the body 11 is disposed in the holes 26, 36, 46. Therefore, the adhesion between the heat dissipation frame 20 and the body 11 may be improved according to the uneven structure and the holes 26, 36, and 46.

발광 소자(101)는 상기 제1, 제2리드 프레임(30, 40) 상에 각각 배치되며, 상기 방열 프레임(20)과 와이어(105)로 연결될 수 있다. 상기 발광 소자(101)는 제1리드 프레임(30)과 제2리드 프레임(40)로부터 공급된 전원에 의해 구동되고, 상기 방열 프레임(20)에 의해 효과적으로 방열이 이루어질 수 있다. The light emitting device 101 may be disposed on the first and second lead frames 30 and 40, respectively, and may be connected to the heat dissipation frame 20 by a wire 105. The light emitting device 101 may be driven by power supplied from the first lead frame 30 and the second lead frame 40, and may be effectively radiated by the heat radiating frame 20.

상기 발광 소자(101)는 가시광선 대역부터 자외선 대역의 범위 중에서 선택적으로 발광할 수 있으며, 예컨대 레드 LED 칩, 블루 LED 칩, 그린 LED 칩, 엘로우 그린(yellow green) LED 칩 등과 같은 유색 LED 칩을 선택적으로 포함할 수 있다. 또한 상기 캐비티(15) 내에는 하나 또는 복수의 발광 소자(101)가 배치될 수 있으며, 또한 발광 소자(101)는 와이어(105)로 서로 연결된 예를 도시하였으나, 각 리드 프레임(30, 40)에 와이어로 각각 연결될 수 있다. 상기 발광 소자(101)는 II족 내지 VI족 원소의 화합물 반도체층 예컨대, III족-V족 화합물 반도체층을 포함할 수 있다. The light emitting device 101 may selectively emit light in a range of visible light to ultraviolet light, for example, a colored LED chip such as a red LED chip, a blue LED chip, a green LED chip, a yellow green LED chip, or the like. It may optionally include. In addition, one or a plurality of light emitting devices 101 may be disposed in the cavity 15, and the light emitting devices 101 are connected to each other by a wire 105, but the lead frames 30 and 40 are respectively illustrated. Can be connected with wires respectively. The light emitting device 101 may include a compound semiconductor layer of Group II to Group VI elements, for example, a Group III-V compound semiconductor layer.

도 2 및 도 3과 같이, 상기 몸체(11)의 캐비티(15)에는 몰딩 부재(61)가 배치되며, 상기 몰딩 부재(61)는 실리콘 또는 에폭시와 같은 투광성 수지층을 포함하며, 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. 상기 몰딩 부재(61) 또는 상기 발광 소자(101) 상에는 방출되는 빛의 파장을 변화하기 위한 형광체를 포함할 수 있으며, 상기 형광체는 발광 소자(101)에서 방출되는 빛의 일부를 여기시켜 다른 파장의 빛으로 방출하게 된다. 상기 형광체는 YAG, TAG, Silicate, Nitride, Oxy-nitride 계 물질 중에서 선택적으로 형성될 수 있다. 상기 형광체는 적색 형광체, 황색 형광체, 녹색 형광체 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 몰딩 부재(61)의 표면은 플랫한 형상, 오목한 형상, 볼록한 형상 등으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.2 and 3, a molding member 61 is disposed in the cavity 15 of the body 11, and the molding member 61 includes a light transmissive resin layer such as silicon or epoxy, and is formed in a single layer or a multilayer. It can be formed as. The molding member 61 or the light emitting device 101 may include a phosphor for changing the wavelength of the light emitted, and the phosphor excites a portion of the light emitted from the light emitting device 101 to It will emit light. The phosphor may be selectively formed from YAG, TAG, Silicate, Nitride, and Oxy-nitride based materials. The phosphor may include at least one of a red phosphor, a yellow phosphor, and a green phosphor, but the present invention is not limited thereto. The surface of the molding member 61 may be formed in a flat shape, concave shape, convex shape and the like, but is not limited thereto.

상기 몸체(11)의 상부에는 렌즈가 더 형성될 수 있으며, 상기 렌즈는 오목 또는/및 볼록 렌즈의 구조를 포함할 수 있으며, 발광 소자 패키지(100)가 방출하는 빛의 배광(light distribution)을 조절할 수 있다.A lens may be further formed on an upper portion of the body 11, and the lens may include a concave or / and convex lens structure, and may provide a light distribution of light emitted from the light emitting device package 100. I can regulate it.

상기 몸체(11) 또는 어느 하나의 리드 프레임 상에는 수광 소자, 보호 소자 등의 반도체 소자가 탑재될 수 있으며, 상기 보호 소자는 싸이리스터, 제너 다이오드, 또는 TVS(Transient voltage suppression)로 구현될 수 있으며, 상기 제너 다이오드는 상기 발광 소자를 ESD(electro static discharge)로 부터 보호하게 된다.A semiconductor device such as a light receiving device or a protection device may be mounted on the body 11 or any one lead frame, and the protection device may be implemented as a thyristor, a zener diode, or a transient voltage suppression (TVS). The zener diode protects the light emitting device from electro static discharge (ESD).

도 8은 도 1의 발광 소자 패키지의 발광 소자를 나타낸 도면이다.8 is a view illustrating a light emitting device of the light emitting device package of FIG. 1.

도 8을 참조하면, 발광 소자(101)는 성장 기판(111), 버퍼층(113), 저전도층(115), 제1도전형 반도체층(117), 활성층(119), 제2클래드층(121), 및 제2도전형 반도체층(123)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 8, the light emitting device 101 includes a growth substrate 111, a buffer layer 113, a low conductive layer 115, a first conductive semiconductor layer 117, an active layer 119, and a second cladding layer ( 121, and a second conductive semiconductor layer 123.

상기 성장 기판(111)은 투광성, 절연성 또는 도전성 기판을 이용할 수 있으며, 예컨대, 사파이어(Al2O3), SiC, Si, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge, Ga2O3, LiGaO3 중 적어도 하나를 이용할 수 있다. 상기 성장 기판(111)의 상면에는 복수의 돌출부(112)가 형성될 수 있으며, 상기의 복수의 돌출부(112)는 상기 성장 기판(111)의 식각을 통해 형성하거나, 별도의 러프니스와 같은 광 추출 구조로 형성될 수 있다. 상기 돌출부(112)는 스트라이프 형상, 반구형상, 또는 돔(dome) 형상을 포함할 수 있다. 상기 성장 기판(111)의 두께는 30㎛~150㎛ 범위로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The growth substrate 111 may use a translucent, insulating or conductive substrate, and for example, at least one of sapphire (Al 2 O 3), SiC, Si, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge, Ga 2 O 3, and LiGaO 3. It is available. A plurality of protrusions 112 may be formed on an upper surface of the growth substrate 111, and the plurality of protrusions 112 may be formed through etching of the growth substrate 111, or may include light such as a separate roughness. It may be formed into an extraction structure. The protrusion 112 may include a stripe shape, a hemispherical shape, or a dome shape. The growth substrate 111 may have a thickness in the range of 30 μm to 150 μm, but is not limited thereto.

상기 성장 기판(111) 위에는 복수의 화합물 반도체층이 성장될 수 있으며, 상기 복수의 화합물 반도체층의 성장 장비는 전자빔 증착기, PVD(physical vapor deposition), CVD(chemical vapor deposition), PLD(plasma laser deposition), 이중형의 열증착기(dual-type thermal evaporator) 스퍼터링(sputtering), MOCVD(metal organic chemical vapor deposition) 등에 의해 형성할 수 있으며, 이러한 장비로 한정하지는 않는다. A plurality of compound semiconductor layers may be grown on the growth substrate 111, and the growth equipment of the plurality of compound semiconductor layers may be an electron beam evaporator, a physical vapor deposition (PVD), a chemical vapor deposition (CVD), or a plasma laser deposition (PLD). Can be formed by dual-type thermal evaporator sputtering, metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), and the like, but is not limited thereto.

상기 성장 기판(111) 위에는 버퍼층(113)이 형성될 수 있으며, 상기 버퍼층(113)은 II족 내지 VI족 화합물 반도체를 이용하여 적어도 한 층으로 형성될 수 있다. 상기 버퍼층(113)은 III족-V족 화합물 반도체를 이용한 반도체층을 포함하며, 예컨대, InxAlyGa1-x-yN (0=x=1, 0=y=1, 0=x+y=1)의 조성식을 갖는 반도체로서, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN 등과 같은 화합물 반도체 중 적어도 하나를 포함한다. 상기 버퍼층(113)은 서로 다른 반도체층을 교대로 배치하여 초 격자 구조로 형성될 수 있다.A buffer layer 113 may be formed on the growth substrate 111, and the buffer layer 113 may be formed of at least one layer using a group II to group VI compound semiconductor. The buffer layer 113 includes a semiconductor layer using a group III-V group compound semiconductor, for example, InxAlyGa1-x-yN (0 = x = 1, 0 = y = 1, 0 = x + y = 1). The semiconductor having a compositional formula includes at least one of compound semiconductors such as GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN and the like. The buffer layer 113 may be formed in a super lattice structure by alternately arranging different semiconductor layers.

상기 버퍼층(113)은 상기 성장 기판(111)과 질화물 계열의 반도체층과의 격자 상수의 차이를 완화시켜 주기 위해 형성될 수 있으며, 결함 제어층으로 정의될 수 있다. 상기 버퍼층(113)은 상기 성장 기판(111)과 질화물 계열의 반도체층 사이의 격자 상수 사이의 값을 가질 수 있다. 상기 버퍼층(113)은 ZnO 층과 같은 산화물로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 버퍼층(113)은 30~500nm 범위로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The buffer layer 113 may be formed to alleviate the difference in lattice constant between the growth substrate 111 and the nitride-based semiconductor layer, and may be defined as a defect control layer. The buffer layer 113 may have a value between lattice constants between the growth substrate 111 and the nitride-based semiconductor layer. The buffer layer 113 may be formed of an oxide such as a ZnO layer, but is not limited thereto. The buffer layer 113 may be formed in the range of 30 to 500 nm, but is not limited thereto.

상기 버퍼층(113) 위에 저 전도층(115)이 형성되며, 상기 저 전도층(115)은 언도프드 반도체층으로서, 제1도전형 반도체층(117)보다 낮은 전기 전도성을 가진다. 상기 저 전도층(115)은 3족-5족 화합물 반도체를 이용한 GaN계 반도체로 구현될 수 있으며, 이러한 언도프드 반도체층은 의도적으로 도전형 도펀트를 도핑하지 않더라도 제1도전형 특성을 가지게 된다. 상기 언도프드 반도체층은 형성하지 않을 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 저 전도층(115)은 복수의 제1도전형 반도체층(117) 사이에 형성될 수 있다.A low conductive layer 115 is formed on the buffer layer 113, and the low conductive layer 115 is an undoped semiconductor layer and has a lower electrical conductivity than the first conductive semiconductor layer 117. The low conductive layer 115 may be implemented as a GaN-based semiconductor using a group III-V compound semiconductor, and the undoped semiconductor layer may have a first conductivity type even without intentionally doping a conductive dopant. The undoped semiconductor layer may not be formed, but is not limited thereto. The low conductive layer 115 may be formed between the plurality of first conductive semiconductor layers 117.

상기 저 전도층(115) 위에는 제1도전형 반도체층(117)이 형성될 수 있다. 상기 제1도전형 반도체층(117)은 제1도전형 도펀트가 도핑된 III족-V족 화합물 반도체로 구현되며, 예컨대 InxAlyGa1-x-yN (0=x=1, 0=y=1, 0=x+y=1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 상기 제1도전형 반도체층(117)이 n형 반도체층인 경우, 상기 제1도전형의 도펀트는 n형 도펀트로서, Si, Ge, Sn, Se, Te를 포함한다. The first conductive semiconductor layer 117 may be formed on the low conductive layer 115. The first conductive semiconductor layer 117 is formed of a group III-V group compound semiconductor doped with a first conductive dopant, for example, InxAlyGa1-x-yN (0 = x = 1, 0 = y = 1, 0). = x + y = 1) can be formed of a semiconductor material having a composition formula. When the first conductive semiconductor layer 117 is an n-type semiconductor layer, the dopant of the first conductive type is an n-type dopant and includes Si, Ge, Sn, Se, and Te.

상기 저 전도층(115)와 상기 제1도전형 반도체층(117) 중 적어도 한 층에는 서로 다른 제1층과 제2층이 교대로 배치된 초격자 구조로 형성될 수 있으며, 상기 제1층과 제2층의 두께는 수 Å이상으로 형성될 수 있다.At least one of the low conductive layer 115 and the first conductive semiconductor layer 117 may have a superlattice structure in which different first and second layers are alternately arranged, and the first layer And the thickness of the second layer may be formed in several degrees or more.

상기 제1도전형 반도체층(117)과 상기 활성층(119) 사이에는 제1클래드층(미도시)이 형성될 수 있으며, 상기 제1클래드층은 GaN계 반도체로 형성될 수 있다. 이러한 제1클래드층은 캐리어를 구속시켜 주는 역할을 한다. 다른 예로서, 상기 제1 클래드층(미도시)은 InGaN층 또는 InGaN/GaN 초격자 구조로 형성될 수 있으며, 이에 한정하지 않는다. 상기 제1 클래드층은 n형 또는/및 p형 도펀트를 포함할 수 있으며, 예컨대 제1도전형 또는 저 전도성의 반도체층으로 형성될 수 있다.A first cladding layer (not shown) may be formed between the first conductive semiconductor layer 117 and the active layer 119, and the first cladding layer may be formed of a GaN-based semiconductor. The first cladding layer serves to restrain the carrier. As another example, the first cladding layer (not shown) may be formed of an InGaN layer or an InGaN / GaN superlattice structure, but is not limited thereto. The first cladding layer may include an n-type and / or p-type dopant, and may be formed of, for example, a first conductive type or low conductivity semiconductor layer.

상기 제1도전형 반도체층(117) 위에는 활성층(119)이 형성된다. 상기 활성층(119)은 단일 우물, 단일 양자 우물, 다중 우물, 다중 양자 우물(MQW), 양자 선, 양자 점 구조 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. 상기 활성층(119)은 우물층과 장벽층이 교대로 배치되며, 상기 우물층은 에너지 준위가 연속적인 우물층일 수 있다. 또한 상기 우물층은 에너지 준위가 양자화된 양자 우물(Quantum Well)일 수 있다. 상기의 우물층은 양자 우물층으로 정의될 수 있으며, 상기 장벽층은 양자 장벽층으로 정의될 수 있다. 상기 우물층과 상기 장벽층의 페어는 2~30주기로 형성될 수 있다. 상기 우물층은 예컨대, InxAlyGa1-x-yN (0=x=1, 0=y=1, 0=x+y=1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 상기 장벽층은 상기 우물층의 밴드 갭보다 더 넓은 밴드 갭을 갖는 반도체층으로 예컨대, InxAlyGa1-x-yN (0=x=1, 0=y=1, 0=x+y=1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 상기 우물층과 장벽층의 페어는 예컨대, InGaN/GaN, AlGaN/GaN, InGaN/AlGaN, InGaN/InGaN 중 적어도 하나를 포함한다. An active layer 119 is formed on the first conductive semiconductor layer 117. The active layer 119 may be formed of at least one of a single well, a single quantum well, a multi well, a multi quantum well (MQW), a quantum line, and a quantum dot structure. In the active layer 119, a well layer and a barrier layer are alternately disposed, and the well layer may be a well layer having a continuous energy level. In addition, the well layer may be a quantum well in which the energy level is quantized. The well layer may be defined as a quantum well layer, and the barrier layer may be defined as a quantum barrier layer. The pair of the well layer and the barrier layer may be formed in 2 to 30 cycles. The well layer may be formed of, for example, a semiconductor material having a composition formula of InxAlyGa1-x-yN (0 = x = 1, 0 = y = 1, 0 = x + y = 1). The barrier layer is a semiconductor layer having a band gap wider than the band gap of the well layer, for example, a composition formula of InxAlyGa1-x-yN (0 = x = 1, 0 = y = 1, 0 = x + y = 1). It can be formed of a semiconductor material having a. The pair of the well layer and the barrier layer includes, for example, at least one of InGaN / GaN, AlGaN / GaN, InGaN / AlGaN, InGaN / InGaN.

상기 활성층(119)은 자외선 대역부터 가시광선 대역의 파장 범위 내에서 선택적으로 발광할 수 있으며, 예컨대 420nm~450nm 범위의 피크 파장을 발광할 수 있다.The active layer 119 may selectively emit light in the wavelength range of the ultraviolet band to the visible light band, for example, may emit a peak wavelength in the range of 420nm to 450nm.

상기 활성층(119) 위에는 제2클래드층(121)이 형성되며, 상기 제2클래드층(121)은 상기 활성층(119)의 장벽층의 밴드 갭보다 더 높은 밴드 갭을 가지며, III족-V족 화합물 반도체 예컨대, GaN 계 반도체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 클래드층(121)은 GaN, AlGaN, InAlGaN, InAlGaN 초격자 구조 등을 포함할 수 있다. 상기 제2 클래드층(121)은 n형 또는/및 p형 도펀트를 포함할 수 있으며, 예컨대 제2도전형 또는 저 전도성의 반도체층으로 형성될 수 있다.The second clad layer 121 is formed on the active layer 119, and the second clad layer 121 has a higher band gap than the band gap of the barrier layer of the active layer 119. The compound semiconductor may be formed of, for example, a GaN-based semiconductor. For example, the second clad layer 121 may include GaN, AlGaN, InAlGaN, InAlGaN superlattice structure, or the like. The second clad layer 121 may include an n-type and / or p-type dopant, and may be formed of, for example, a second conductive or low conductivity semiconductor layer.

상기 제2클래드층(121) 위에는 제2도전형 반도체층(123)이 형성되며, 상기 제2도전형 반도체층(123)은 제2도전형의 도펀트를 포함한다. 상기 제2도전형 반도체층(123)은 III족-V족 화합물 반도체 예컨대, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN 등과 같은 화합물 반도체 중 적어도 하나로 이루어질 수 있으며, 단층 또는 다층을 포함한다. 상기 제2도전형 반도체층(123)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제2도전형 도펀트는 p형 도펀트로서, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있다. A second conductive semiconductor layer 123 is formed on the second cladding layer 121, and the second conductive semiconductor layer 123 includes a dopant of a second conductive type. The second conductive semiconductor layer 123 may be formed of at least one of a group III-V compound semiconductor, for example, a compound semiconductor such as GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, etc., and may include a single layer or a multilayer. . When the second conductive semiconductor layer 123 is a p-type semiconductor layer, the second conductive dopant may be a p-type dopant and may include Mg, Zn, Ca, Sr, and Ba.

발광 구조물(150)의 층들의 전도성 타입은 반대로 형성될 수 있으며, 예컨대 상기 제2도전형의 반도체층(123)은 n형 반도체층, 상기 제1도전형 반도체층(117)은 p형 반도체층으로 구현될 수 있다. 또한 상기 제2도전형 반도체층(123) 위에는 상기 제2도전형과 반대의 극성을 갖는 제3도전형 반도체층인 n형 반도체층이 더 형성할 수도 있다. 상기 발광 소자(101)는 상기 제1도전형 반도체층(117), 활성층(119) 및 상기 제2도전형 반도체층(123)을 발광 구조물(150)로 정의될 수 있으며, 상기 발광 구조물(150)은 n-p 접합 구조, p-n 접합 구조, n-p-n 접합 구조, p-n-p 접합 구조 중 적어도 한 구조를 포함할 수 있다. 상기 n-p 및 p-n 접합은 2개의 층 사이에 활성층이 배치되며, n-p-n 접합 또는 p-n-p 접합은 3개의 층 사이에 적어도 하나의 활성층을 포함하게 된다.The conductive types of the layers of the light emitting structure 150 may be formed to be opposite to each other. For example, the second conductive semiconductor layer 123 may be an n-type semiconductor layer, and the first conductive semiconductor layer 117 may be a p-type semiconductor layer. It can be implemented as. An n-type semiconductor layer, which is a third conductive semiconductor layer having a polarity opposite to that of the second conductive type, may be further formed on the second conductive semiconductor layer 123. The light emitting device 101 may define the first conductive semiconductor layer 117, the active layer 119, and the second conductive semiconductor layer 123 as a light emitting structure 150. ) May include at least one of an np junction structure, a pn junction structure, an npn junction structure, and a pnp junction structure. In the n-p and p-n junctions, an active layer is disposed between two layers, and an n-p-n junction or a p-n-p junction includes at least one active layer between three layers.

발광 구조물(150) 위에 전극층(141) 및 제2전극(145)이 형성되며, 상기 제1도전형 반도체층(117) 위에 제1전극(143)이 형성된다.An electrode layer 141 and a second electrode 145 are formed on the light emitting structure 150, and a first electrode 143 is formed on the first conductive semiconductor layer 117.

상기 전극층(141)은 전류 확산층으로서, 투과성 및 전기 전도성을 가지는 물질로 형성될 수 있다. 상기 전극층(141)은 화합물 반도체층의 굴절률보다 낮은 굴절률로 형성될 수 있다. The electrode layer 141 is a current diffusion layer and may be formed of a material having transparency and electrical conductivity. The electrode layer 141 may be formed to have a refractive index lower than that of the compound semiconductor layer.

상기 전극층(141)은 제2도전형 반도체층(123)의 상면에 형성되며, 그 물질은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), ZnO, IrOx, RuOx, NiO 등 중에서 선택되며, 적어도 한 층으로 형성될 수 있다. 상기 전극층(141)은 반사 전극층으로 형성될 수 있으며, 그 물질은 예컨대, Al, Ag, Pd, Rh, Pt, Ir 및 이들 중 2이상의 합금 중에서 선택적으로 형성될 수 있다. The electrode layer 141 is formed on an upper surface of the second conductive semiconductor layer 123, and the material may be indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO), or indium aluminum (AZO). zinc oxide (IGZO), indium gallium zinc oxide (IGZO), indium gallium tin oxide (IGTO), aluminum zinc oxide (AZO), antimony tin oxide (ATO), gallium zinc oxide (GZO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, etc. Selected, and may be formed of at least one layer. The electrode layer 141 may be formed as a reflective electrode layer, and the material may be selectively formed among, for example, Al, Ag, Pd, Rh, Pt, Ir, and two or more alloys thereof.

상기 제2전극(145)은 상기 제2도전형 반도체층(123) 및/또는 상기 전극층(141) 위에 형성될 수 있으며, 전극 패드를 포함할 수 있다. 상기 제2전극(145)은 암(arm) 구조 또는 핑거(finger) 구조의 전류 확산 패턴이 더 형성될 수 있다. 상기 제2전극(145)은 오믹 접촉, 접착층, 본딩층의 특성을 갖는 금속으로 비 투광성으로 이루어질 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The second electrode 145 may be formed on the second conductive semiconductor layer 123 and / or the electrode layer 141, and may include an electrode pad. The second electrode 145 may further include a current spreading pattern having an arm structure or a finger structure. The second electrode 145 may be made of a metal having the characteristics of an ohmic contact, an adhesive layer, and a bonding layer, but is not limited thereto.

상기 제1도전형 반도체층(117)의 일부에는 제1전극(143)이 형성된다. 상기 제1전극(143)과 상기 제2전극(145)은 Ti, Ru, Rh, Ir, Mg, Zn, Al, In, Ta, Pd, Co, Ni, Si, Ge, Ag 및 Au와 이들의 선택적인 합금 중에서 선택될 수 있다.A first electrode 143 is formed on a portion of the first conductive semiconductor layer 117. The first electrode 143 and the second electrode 145 are Ti, Ru, Rh, Ir, Mg, Zn, Al, In, Ta, Pd, Co, Ni, Si, Ge, Ag, Au and Au It can be chosen from the optional alloys.

상기 발광 소자(101)의 표면에 절연층이 더 형성될 수 있으며, 상기 절연층은 발광 구조물(150)의 층간 쇼트(short)를 방지하고, 습기 침투를 방지할 수 있다.An insulating layer may be further formed on the surface of the light emitting device 101, and the insulating layer may prevent an interlayer short of the light emitting structure 150 and prevent moisture penetration.

상기에 개시된 실시예(들)에 따른 발광 모듈 또는 기판은 라이트 유닛에 적용될 수 있다. 상기 라이트 유닛은 복수의 발광 소자 또는 발광 소자 패키지가 어레이된 구조를 포함하며, 도 9에 도시된 표시 장치, 다른 조명등, 신호등, 차량 전조등, 전광판 등이 포함될 수 있다.The light emitting module or substrate according to the embodiment (s) disclosed above may be applied to a light unit. The light unit includes a structure in which a plurality of light emitting devices or light emitting device packages are arranged, and may include a display device, another lighting lamp, a traffic light, a vehicle headlight, an electronic signboard, and the like shown in FIG. 9.

도 9는 실시 예에 따른 표시 장치의 분해 사시도이다. 9 is an exploded perspective view of a display device according to an exemplary embodiment.

도 9를 참조하면, 표시 장치(1000)는 도광판(1041)과, 상기 도광판(1041)에 빛을 제공하는 발광 모듈(300)와, 상기 도광판(1041) 아래에 반사 부재(1022)와, 상기 도광판(1041) 위에 광학 시트(1051)와, 상기 광학 시트(1051) 위에 표시 패널(1061)과, 상기 도광판(1041), 발광 모듈(300) 및 반사 부재(1022)를 수납하는 바텀 커버(1011)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.Referring to FIG. 9, the display device 1000 includes a light guide plate 1041, a light emitting module 300 that provides light to the light guide plate 1041, a reflective member 1022 under the light guide plate 1041, and the light guide plate 1041. A bottom cover 1011 that houses an optical sheet 1051 on the light guide plate 1041, a display panel 1061 on the optical sheet 1051, the light guide plate 1041, a light emitting module 300, and a reflective member 1022. ), But is not limited thereto.

상기 바텀 커버(1011), 반사시트(1022), 도광판(1041), 광학 시트(1051)는 라이트 유닛(1050)으로 정의될 수 있다.The bottom cover 1011, the reflective sheet 1022, the light guide plate 1041, and the optical sheet 1051 can be defined as a light unit 1050.

상기 도광판(1041)은 상기 발광 모듈(300)로부터 제공된 빛을 확산시켜 면광원화 시키는 역할을 한다. 상기 도광판(1041)은 투명한 재질로 이루어지며, 예를 들어, PMMA(polymethyl metaacrylate)와 같은 아크릴 수지 계열, PET(polyethylene terephthlate), PC(poly carbonate), COC(cycloolefin copolymer) 및 PEN(polyethylene naphthalate) 수지 중 하나를 포함할 수 있다. The light guide plate 1041 serves to diffuse surface light provided from the light emitting module 300 to make a surface light source. The light guide plate 1041 is made of a transparent material, for example, acrylic resin-based such as polymethyl metaacrylate (PMMA), polyethylene terephthlate (PET), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymer (COC), and polyethylene naphthalate (PEN). It may include one of the resins.

상기 발광모듈(300)은 상기 도광판(1041)의 적어도 일 측면에 배치되어 상기 도광판(1041)의 적어도 일 측면에 빛을 제공하며, 궁극적으로는 표시 장치의 광원으로써 작용하게 된다.The light emitting module 300 is disposed on at least one side of the light guide plate 1041 to provide light to at least one side of the light guide plate 1041, and ultimately serves as a light source of the display device.

상기 발광모듈(300)은 상기 바텀 커버(1011) 내에 적어도 하나가 배치되며, 상기 도광판(1041)의 일 측면에서 직접 또는 간접적으로 광을 제공할 수 있다. 상기 발광 모듈(300)은 기판(200)과 상기에 개시된 실시 예에 따른 발광 소자 패키지(100)를 포함하며, 상기 발광 소자 패키지(200)는 상기 기판(200) 상에 소정 간격으로 어레이될 수 있다. At least one light emitting module 300 is disposed in the bottom cover 1011, and may provide light directly or indirectly at one side of the light guide plate 1041. The light emitting module 300 may include a substrate 200 and a light emitting device package 100 according to the embodiment disclosed above, and the light emitting device package 200 may be arranged on the substrate 200 at predetermined intervals. have.

상기 기판(200)는 절연층 상에 회로 패턴이 인쇄된 보드를 포함하며, 예를 들어, 수지 계열의 인쇄회로기판(PCB: Printed Circuit Board), 메탈 코아(Metal Core) PCB, 연성(Flexible) PCB, 세라믹 PCB, FR-4 기판을 포함할 수 있다. The substrate 200 may include a board on which a circuit pattern is printed on an insulating layer. For example, a resin-based printed circuit board (PCB), a metal core PCB, and a flexible board may be used. PCB, ceramic PCB, FR-4 substrates.

상기 기판(200)은 예컨대, 메탈 코아 PCB이며, 상기 메탈 코아 PCB는 다른 수지 계열의 기판보다 방열 효율이 좋은 금속층을 더 구비하게 된다. 예컨대, 메탈 코아 PCB는 금속층, 상기 금속층 상에 절연층, 상기 절연층 상에 배선층을 갖는 적층 구조를 포함하며, 상기 금속층은 열 전도성이 좋은 금속의 두께를 0.3mm 이상 두껍게 형성하여 방열 효율을 증대시켜 주게 된다. The substrate 200 is, for example, a metal core PCB, and the metal core PCB further includes a metal layer having better heat dissipation efficiency than other resin-based substrates. For example, the metal core PCB includes a metal layer, an insulating layer on the metal layer, and a laminated structure having a wiring layer on the insulating layer, wherein the metal layer forms a heat conductive metal having a thickness of 0.3 mm or more to increase heat dissipation efficiency. Will let you.

상기 기판(200) 상에는 적어도 하나의 발광 소자 패키지(100)이 탑재되며, 상기 발광 소자 패키지(100)는 제2측면부(S2)에 배치된 제1리드부(33)와 제2리드부(43)가 상기 기판(200) 상에 솔더 본딩되어 연결된다. At least one light emitting device package 100 is mounted on the substrate 200, and the light emitting device package 100 includes a first lead part 33 and a second lead part 43 disposed on the second side surface part S2. ) Is solder bonded to the substrate 200.

상기 복수의 발광 소자 패키지(100)는 상기 기판(200) 상에 빛이 방출되는 출사면이 상기 도광판(1041)과 소정 거리 이격되도록 탑재될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 발광 모듈(300)은 상기 도광판(1041)의 일측면인 입광부에 광을 직접 또는 간접적으로 제공할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The plurality of light emitting device packages 100 may be mounted on the substrate 200 such that an emission surface from which light is emitted is spaced apart from the light guide plate 1041 by a predetermined distance, but is not limited thereto. The light emitting module 300 may directly or indirectly provide light to a light incident portion, which is one side of the light guide plate 1041, but is not limited thereto.

상기 도광판(1041) 아래에는 상기 반사 부재(1022)가 배치될 수 있다. 상기 반사 부재(1022)는 상기 도광판(1041)의 하면으로 입사된 빛을 반사시켜 상기 표시 패널(1061)로 공급함으로써, 상기 표시 패널(1061)의 휘도를 향상시킬 수 있다. 상기 반사 부재(1022)는 예를 들어, PET, PC, PVC 레진 등으로 형성될 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 반사 부재(1022)는 상기 바텀 커버(1011)의 상면일 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The reflective member 1022 may be disposed under the light guide plate 1041. The reflective member 1022 reflects the light incident on the lower surface of the light guide plate 1041 and supplies the reflected light to the display panel 1061 to improve the brightness of the display panel 1061. The reflective member 1022 may be formed of, for example, PET, PC, or PVC resin, but is not limited thereto. The reflective member 1022 may be an upper surface of the bottom cover 1011, but is not limited thereto.

상기 바텀 커버(1011)는 상기 도광판(1041), 발광모듈(300) 및 반사 부재(1022) 등을 수납할 수 있다. 이를 위해, 상기 바텀 커버(1011)는 상면이 개구된 박스(box) 형상을 갖는 수납부(1012)가 구비될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 바텀 커버(1011)는 탑 커버(미도시)와 결합될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The bottom cover 1011 may accommodate the light guide plate 1041, the light emitting module 300, the reflective member 1022, and the like. To this end, the bottom cover 1011 may be provided with a housing portion 1012 having a box-like shape with an opened upper surface, but the present invention is not limited thereto. The bottom cover 1011 may be coupled to a top cover (not shown), but is not limited thereto.

상기 바텀 커버(1011)는 금속 재질 또는 수지 재질로 형성될 수 있으며, 프레스 성형 또는 압출 성형 등의 공정을 이용하여 제조될 수 있다. 또한 상기 바텀 커버(1011)는 열 전도성이 좋은 금속 또는 비 금속 재료를 포함할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The bottom cover 1011 may be formed of a metal material or a resin material, and may be manufactured using a process such as press molding or extrusion molding. In addition, the bottom cover 1011 may include a metal or a non-metal material having good thermal conductivity, but the present invention is not limited thereto.

상기 표시 패널(1061)은 예컨대, LCD 패널로서, 서로 대향되는 투명한 재질의 제 1 및 제 2기판, 그리고 제 1 및 제 2기판 사이에 개재된 액정층을 포함한다. 상기 표시 패널(1061)의 적어도 일면에는 편광판이 부착될 수 있으며, 이러한 편광판의 부착 구조로 한정하지는 않는다. 상기 표시 패널(1061)은 상기 발광 모듈(300)로부터 제공된 광을 투과 또는 차단시켜 정보를 표시하게 된다. 이러한 표시 장치(1000)는 각 종 휴대 단말기, 노트북 컴퓨터의 모니터, 랩탑 컴퓨터의 모니터, 텔레비전과 같은 영상 표시 장치에 적용될 수 있다. The display panel 1061 is, for example, an LCD panel, and includes a first and second substrates of transparent materials facing each other, and a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates. A polarizing plate may be attached to at least one surface of the display panel 1061, but the present invention is not limited thereto. The display panel 1061 transmits or blocks light provided from the light emitting module 300 to display information. The display device 1000 can be applied to video display devices such as portable terminals, monitors of notebook computers, monitors of laptop computers, and televisions.

상기 광학 시트(1051)는 상기 표시 패널(1061)과 상기 도광판(1041) 사이에 배치되며, 적어도 한 장 이상의 투광성 시트를 포함한다. 상기 광학 시트(1051)는 예컨대 확산 시트(diffusion sheet), 수평 및 수직 프리즘 시트(horizontal/vertical prism sheet), 및 휘도 강화 시트(brightness enhanced sheet) 등과 같은 시트 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 확산 시트는 입사되는 광을 확산시켜 주고, 상기 수평 또는/및 수직 프리즘 시트는 입사되는 광을 상기 표시 패널(1061)로 집광시켜 주며, 상기 휘도 강화 시트는 손실되는 광을 재사용하여 휘도를 향상시켜 준다. 또한 상기 표시 패널(1061) 위에는 보호 시트가 배치될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The optical sheet 1051 is disposed between the display panel 1061 and the light guide plate 1041 and includes at least one light-transmitting sheet. The optical sheet 1051 may include at least one of a sheet such as a diffusion sheet, a horizontal / vertical prism sheet, a brightness enhanced sheet, and the like. The diffusion sheet diffuses incident light, and the horizontal and / or vertical prism sheet concentrates incident light on the display panel 1061. The brightness enhancing sheet reuses the lost light to improve the brightness I will. A protective sheet may be disposed on the display panel 1061, but the present invention is not limited thereto.

상기 발광 모듈(300)의 광 경로 상에는 광학 부재로서, 상기 도광판(1041), 및 광학 시트(1051)를 포함할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The light guide plate 1041 and the optical sheet 1051 may be included as an optical member on the optical path of the light emitting module 300, but are not limited thereto.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, and the like described in the above embodiments are included in at least one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, and the like illustrated in each embodiment may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of illustration, It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments can be modified and implemented. It is to be understood that all changes and modifications that come within the meaning and range of equivalency of the claims are therefore intended to be embraced therein.

100: 발광 소자 패키지 11: 몸체
12: 지지부 13: 반사부
15: 캐비티 20: 방열 프레임
30,40: 리드 프레임 101: 발광 소자
200: 기판 300: 발광 모듈
100: light emitting device package 11: body
12: support portion 13: reflecting portion
15: cavity 20: heat dissipation frame
30, 40: lead frame 101: light emitting element
200: substrate 300: light emitting module

Claims (11)

캐비티를 갖는 몸체;
상기 몸체의 캐비티에 배치된 제1리드 프레임 및 제2리드 프레임;
상기 캐비티에 배치된 상기 제1리드 프레임과 상기 제2리드 프레임 사이에 배치된 방열 프레임;
상기 제1리드 프레임 및 제2리드 프레임 위에 적어도 하나의 발광 소자;
상기 몸체의 측면부에 배치된 제1리드부 및 제2리드부; 및
상기 방열 프레임으로부터 절곡된 제1 방열부
를 포함하는 발광소자 패키지.
A body having a cavity;
A first lead frame and a second lead frame disposed in the cavity of the body;
A heat dissipation frame disposed between the first lead frame and the second lead frame disposed in the cavity;
At least one light emitting device on the first lead frame and the second lead frame;
A first lead portion and a second lead portion disposed on the side portion of the body; And
A first heat dissipation part bent from the heat dissipation frame
Light emitting device package comprising a.
제1항에 있어서,
상기 방열 프레임은 상기 캐비티의 바닥면에 배치되는 상면부를 더 포함하며, 상기 상면부와 상기 제1 방열부 사이에 절곡 영역을 가지는 발광소자 패키지.
The method of claim 1,
The heat dissipation frame further includes an upper surface portion disposed on the bottom surface of the cavity, the light emitting device package having a bent region between the upper surface portion and the first heat dissipation portion.
제1항에 있어서,
상기 절곡 영역의 폭은 상기 제1 방열부의 폭 보다 작은 발광소자 패키지.
The method of claim 1,
The width of the bent region is smaller than the light emitting device package width of the first heat radiating portion.
제2항에 있어서,
상기 제1리드 프레임은 상기 캐비티 내에 배치되는 상면부, 상기 측면부에 배치되는 상기 제1 리드부를 포함하며,
상기 제2리드 프레임은 상기 캐비티 내에 배치되는 상면부, 상기 측면부에 배치되는 상기 제2 리드부를 발광소자 패키지.
The method of claim 2,
The first lead frame includes an upper surface portion disposed in the cavity, the first lead portion disposed on the side surface portion,
The second lead frame may include an upper surface portion disposed in the cavity and the second lead portion disposed on the side portion.
제4항에 있어서,
상기 제1 리드 프레임은 상기 제1 리드부와 상기 제1 방열부 사이에 상기 상면부로부터 절곡되는 제2 방열부를 더 포함하고,
상기 제2 리드 프레임은 상기 제2 리드부와 상기 제1 방열부 사이에 상기 상면부로부터 절곡되는 제3 방열부를 더 포함하는 발광소자 패키지.
5. The method of claim 4,
The first lead frame further includes a second heat dissipation portion bent from the upper surface portion between the first lead portion and the first heat dissipation portion,
The second lead frame further includes a third heat dissipation portion bent from the upper surface portion between the second lead portion and the first heat dissipation portion.
제5항에 있어서,
상기 방열 프레임은 상기 발광 소자와 와이어를 통해 연결되어 잇는 발광소자 패키지.
The method of claim 5,
The heat dissipation frame is a light emitting device package is connected to the light emitting device via a wire.
제5항에 있어서,
상기 방열 프레임은 상면부의 측면으로 요철부를 가지는 발광소자 패키지.
The method of claim 5,
The heat dissipation frame is a light emitting device package having an uneven portion on the side of the upper surface.
제5항에 있어서,
상기 방열 프레임의 절곡 영역, 상기 제1 및 제2 리드 프레임의 상면부와 상기 제2 및 제3 방열부 사이의 절곡 영역에 적어도 하나 이상의 구멍이 형성되어 있는 발광소자 패키지.
The method of claim 5,
At least one hole is formed in the bent region of the heat dissipation frame, the bent region between the upper surface portion of the first and second lead frame and the second and third heat dissipation portion.
제8항에 있어서,
상기 구멍은 원형, 타원형, 다각형 중 어느 하나를 포함하는 발광소자 패키지.
9. The method of claim 8,
The hole is a light emitting device package including any one of a circle, an ellipse, a polygon.
제4항에 있어서,
상기 방열 프레임은 무 극성 단자인 발광소자 패키지.
5. The method of claim 4,
The heat dissipation frame is a light emitting device package is a non-polar terminal.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 발광소자 패키지를 포함하는 조명 시스템.An illumination system comprising the light emitting device package of any one of claims 1 to 10.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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