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KR101804608B1 - 고도로 가교된 매트릭스 중합체를 갖는 홀로그래픽 매체의 제조를 위한 광중합체 배합물 - Google Patents

고도로 가교된 매트릭스 중합체를 갖는 홀로그래픽 매체의 제조를 위한 광중합체 배합물 Download PDF

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KR101804608B1
KR101804608B1 KR1020137011800A KR20137011800A KR101804608B1 KR 101804608 B1 KR101804608 B1 KR 101804608B1 KR 1020137011800 A KR1020137011800 A KR 1020137011800A KR 20137011800 A KR20137011800 A KR 20137011800A KR 101804608 B1 KR101804608 B1 KR 101804608B1
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토마스 뢸레
프리드리히-카를 브루더
토마스 팩케
마르크-스테판 바이저
덴니스 회넬
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바이엘 인텔렉쳐 프로퍼티 게엠베하
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Abstract

본 발명은 폴리올 성분, 폴리이소시아네이트 성분, 기록 단량체, 및 공개시제 및 화학식 F+An-의 염료 (식 중, F+는 양이온성 염료를 나타내고, An-는 음이온을 나타냄)를 함유하는 광개시제를 포함하며, 여기서 화학식 F+An-의 염료는 ≤ 5%의 수팽윤도를 갖는 것인 광중합체 배합물에 관한 것이다. 본 발명은 추가로 본 발명에 따른 광중합체 배합물을 함유하는, 특히 필름 형태인 홀로그래픽 매체, 홀로그램 기록을 위한 이러한 매체의 용도, 및 본 발명에 따른 광중합체 배합물에 사용가능한 특정한 염료에 관한 것이다.

Description

고도로 가교된 매트릭스 중합체를 갖는 홀로그래픽 매체의 제조를 위한 광중합체 배합물 {PHOTOPOLYMER FORMULATION FOR PRODUCING HOLOGRAPHIC MEDIA HAVING HIGHLY CROSS-LINKED MATRIX POLYMERS}
본 발명은 폴리올 성분, 폴리이소시아네이트 성분, 기록 단량체, 및 공개시제 및 화학식 F+An-의 염료 (식 중, F+는 양이온성 염료를 나타내고, An-는 음이온을 나타냄)를 함유하는 광개시제를 포함하는 광중합체 배합물에 관한 것이다.
본 발명은 추가로 본 발명에 따른 광중합체 배합물을 함유하는, 특히 필름 형태인 홀로그래픽 매체, 홀로그램의 기록을 위한 이러한 매체의 용도, 및 또한 본 발명에 따른 광중합체 배합물에 사용가능한 특정한 염료에 관한 것이다.
서두에 언급된 유형의 광중합체 배합물은 선행 기술에 공지되어 있다. WO 2008/125229 A1은 예를 들어 폴리올 성분, 폴리이소시아네이트 성분, 아크릴레이트 기재의 기록 단량체, 및 또한 공개시제 및 염료를 함유하는 광개시제를 포함하는 광중합체 배합물을 기재하고 있다. 경화된 상태에서, 기록 단량체 및 광개시제는 폴리올 및 폴리이소시아네이트 성분으로부터 형성된 폴리우레탄 매트릭스에 함입된 공간적 등방성 분포를 형성한다.
광중합체 배합물의 사용은 결정적으로 홀로그래픽 노출에 의해 광중합체에서 생성되는 굴절률 변조 Δn에 의해 결정된다. 홀로그래픽 노출에서, 신호 광 빔 및 참조 광 빔의 간섭장 (가장 간단한 경우, 2개의 평면파의 간섭장)은 간섭장 내 고강도 부위에서의 고굴절률 아크릴레이트의 국소적 광중합에 의해 굴절률 격자 내로 맵핑된다. 광중합체에서의 굴절률 격자 (홀로그램)는 신호 광 빔의 모든 정보를 함유한다. 이어서, 홀로그램을 참조 광 빔만으로 조명하는 것은 신호를 재구성할 것이다. 이에 따라 재구성된 신호의 강도는 입사 참조 광의 강도에 비해 회절 효율 (이하, DE)이다.
2개 평면파의 중첩으로부터 생성되는 홀로그램의 가장 간단한 경우에서, DE는 재구성시 회절되는 광의 강도 대 입사 참조 광 및 회절 광의 강도의 총 합의 비이다. DE가 더 높을수록, 고정 밝기를 갖는 신호를 가시화하는데 필요한 참조 광의 양과 관련된 홀로그램의 효율이 더 커진다.
홀로그램이 백색광으로 조명되는 경우에, 예를 들어, 홀로그램을 재구성하는데 기여할 할 수 있는 스펙트럼 범위의 폭은 또한 단지 층 두께 d에 따라서만 좌우된다. d가 더 작을수록 특정한 수용 폭이 더 커진다는 관계가 유지된다. 따라서, 밝고 용이하게 가시적인 홀로그램을 제조하기 위해, 일반적으로 DE를 최대화하면서 높은 Δn 및 낮은 두께 d를 구하는 것이 바람직하다. 즉, Δn을 증가시키는 것은 밝은 홀로그램을 위해 DE의 손실 없이 층 두께 d의 조작에 대한 자유를 증가시킨다. 따라서, Δn의 최적화는 광중합체 배합물의 최적화에 있어서 매우 중요하다 (문헌 [P. Hariharan, Optical Holography, 2nd Edition, Cambridge University Press, 1996]).
매우 높은 Δn 및 DE가 홀로그램에 대해 실현될 수 있기 위해, 광중합체 배합물의 매트릭스 중합체 및 기록 단량체는 원칙적으로 그의 굴절률에서 매우 큰 차이가 있도록 선택되어야 한다. 하나의 가능한 실현 방법은 매우 저굴절률을 갖는 매트릭스 중합체 및 매우 고굴절률을 갖는 기록 단량체를 사용하는 것이다. 적합한 저굴절률의 매트릭스 중합체는 예를 들어 폴리올 성분과 폴리이소시아네이트 성분과의 반응에 의해 수득가능한 폴리우레탄이다.
그러나, 높은 DE 및 Δn 값 이외에, 광중합체 배합물로부터의 홀로그래픽 매체에 대한 또 다른 중요한 요건은 매트릭스 중합체가 최종 매체에서 고도로 가교되어 있다는 것이다. 가교 정도가 너무 낮은 경우에, 매체는 적절한 안정성이 결핍될 것이다. 이에 따른 하나의 결과는 매체 내에 새겨진 홀로그램의 품질을 상당히 감소시킨다는 것이다. 최악의 경우에, 홀로그램은 그 후에 심지어 폐기될 수도 있다.
추가로, 광중합체 배합물로부터의 홀로그래픽 매체의 대규모 산업적 제조를 위해 특히 매트릭스 중합체가 빠르게 가교되는 것이 매우 중요하다. 여기서 내블로킹성을 위해 짧은 경화 시간이 매우 중요하며, 이는 이 파라미터가 필요한 임의의 경화 섹터의 가공 속도 및/또는 길이를 결정하기 때문이다.
그러나, 공지된 광중합체 배합물로부터 수득된 매체는 빈번하게 적절한 가교가 전혀 없는 것으로 결정되었다. 게다가, 심지어 적절한 가교 밀도에 도달하는 것도 많은 경우에 긴 경화 시간을 요구한다. 이것은 공지된 광중합체 배합물로부터 수득된 매체가 품질 문제를 가질 수 있고, 연장된 경화 시간이 대규모 산업 제조에 있어서 상당한 비용 및 불편과 연관된다는 것을 의미한다.
따라서, 본 발명에서 다루는 문제점은 밝은 홀로그램을 위한 안정한 홀로그래픽 매체가 신속하게 및 저비용 및 저불편으로 수득가능하게 함으로써 서두에서 언급된 유형의 광중합체 배합물을 제공하는 것이다.
이러한 문제점은 염료가 ≤ 5%의 수팽윤도를 갖는 경우에 본 발명에 따른 광중합체 배합물에 의해 해결된다.
수팽윤도는 하기 식 F-1으로부터 확인된다.
<식 F-1>
Figure 112013040113401-pct00001
상기 식에서, mf는 수분 포화 후 염료의 질량이고, mt는 건조 염료의 질량이다. mt는 특정한 양의 염료를 예를 들어 진공 하의 승온에서 일정한 질량까지 건조시킴으로써 확인된다. mf는 특정한 양의 염료를 공기 중에 한정된 습도에서 정치시켜 일정한 중량이 되도록 함으로써 측정된다.
놀랍게도, 고속-경화 홀로그래픽 매체는 ≤ 5%의 수팽윤도를 갖는 화학식 F+An-의 염료를 함유하는 광중합체 배합물로부터 수득가능한 것으로 밝혀졌다. 상기 매체는 매트릭스 중합체의 고속 및 높은 가교를 나타내고, 이는 밝은 홀로그램이 이들에 노출되는 것을 가능하게 만든다.
본 발명의 제1의 바람직한 실시양태에서, 염료는 ≤ 3%, 바람직하게는 ≤ 2%의 수팽윤도를 갖는다. 임의의 경우에, 염료가 단지 미량의 물을 흡수하는 것이 매우 특히 바람직하다.
화학식 F+의 양이온성 염료는 본 발명의 문맥에서, 예를 들어 문헌 [H. Berneth in Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Cationic Dyes, Wiley-VCH Verlag, 2008]에 기재된 바와 같은 염료를 지칭하는 것으로 이해된다.
화학식 F+의 양이온성 염료는 하기 부류의 양이온성 염료를 의미하는 것으로 이해된다: 아크리딘 염료, 크산텐 염료, 티오크산텐 염료, 페나진 염료, 페녹사진 염료, 페노티아진 염료, 트리(헤트)아릴메탄 염료, 특히 디아미노- 및 트리아미노(헤트)아릴메탄 염료, 모노-, 디- 및 트리메틴시아닌 염료, 헤미시아닌 염료, 외부 양이온성 메로시아닌 염료, 외부 양이온성 뉴트로시아닌 염료, 눌메틴 염료 - 특히 나프토락탐 염료, 스트렙토시아닌 염료. 이러한 유형의 염료는 예를 들어 문헌 [H. Berneth in Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Azine Dyes, Wiley-VCH Verlag, 2008, H. Berneth in Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Methine Dyes and Pigments, Wiley-VCH Verlag, 2008, T. Gessner, U. Mayer in Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Triarylmethane and Diarylmethane Dyes, Wiley-VCH Verlag, 2000]에 기재되어 있다.
염료의 음이온 An-가 1 내지 30의 범위, 바람직하게는 1 내지 12의 범위, 보다 바람직하게는 1 내지 6.5의 범위, 보다 더 바람직하게는 1 내지 4의 범위의 AClogP를 갖는 것이 또한 바람직하다.
AClogP는 문헌 [J. Comput. Aid. Mol. Des. 2005, 19, 453; Virtual Computational Chemistry Laboratory], http://www.vcclab.org에 따라 계산된다.
본 발명의 추가의 바람직한 실시양태에서, 음이온 An-는 > 150 g/mol, 보다 더 바람직하게는 > 250 g/mol의 몰 질량을 갖는다.
화학식 An-의 음이온은 적어도 인, 붕소 또는 황 원자, 바람직하게는 적어도 붕소 또는 황 원자, 보다 바람직하게는 적어도 황 원자, 특히 SO3 모이어티에서의 황 원자를 포함할 수 있다.
또한 음이온 An-가 1개 또는 1개 초과의 선형 또는 분지형 지방족 모이어티 및 바람직하게는 1개의 선형 또는 분지형 지방족 C8 내지 C18 모이어티를 갖는 것이 바람직하다. 음이온이 1개 초과의 선형 또는 분지형 지방족 모이어티를 함유하는 경우에, 이들은 함께 8 내지 36개 및 바람직하게는 8 내지 24개의 탄소 원자를 함유한다. 이 지방족 모이어티는 치환기, 예컨대 플루오린, 메톡시 또는 에톡시를 보유할 수 있다.
따라서, 매우 바람직한 화학식 An-의 음이온은 > 250 g/mol의 몰 질량을 갖고, SO3- 기, 및 또한 8개 이상의 탄소 원자의 알킬 기를 1개 이상 함유하고, 1 내지 6.5 범위의 AClogP를 갖는다.
본 발명에 따른 화학식 An- 음이온은 또한 특히 하기를 포함한다:
C8- 내지 C25-알칸술포네이트, 바람직하게는 C13- 내지 C25-알칸술포네이트, C3- 내지 C18-퍼플루오로알칸술포네이트, 바람직하게는 C4- 내지 C18-퍼플루오로알칸술포네이트, C9- 내지 C25-알카노에이트, C9- 내지 C25-알케노에이트, C8- 내지 C25-알킬 술페이트, 바람직하게는 C13- 내지 C25-알킬 술페이트, C8- 내지 C25-알케닐 술페이트, 바람직하게는 C13- 내지 C25-알케닐 술페이트, C3- 내지 C18-퍼플루오로알킬 술페이트, 바람직하게는 C4- 내지 C18-퍼플루오로알킬 술페이트, 폴리에테르 술페이트 (4 당량 이상의 에틸렌 옥시드 및/또는 프로필렌 옥시드를 기재로 함), 비스-C4- 내지 C25-알킬, C5- 내지 C7-시클로알킬, C3- 내지 C8-알케닐 또는 C7- 내지 C11-아르알킬 술포숙시네이트, 비스-C2- 내지 C10-알킬 술포숙시네이트 (8개 이상의 플루오린 원자에 의해 치환됨), C8- 내지 C25-알킬 술포아세테이트, 벤젠술포네이트 (할로겐, C4- 내지 C25-알킬, 퍼플루오로-C1- 내지 C8-알킬 및/또는 C1- 내지 C12-알콕시카르보닐의 군으로부터의 1개 이상의 모이어티에 의해 치환됨), 임의로 니트로-, 시아노-, 히드록실-, C1- 내지 C25-알킬-, C1- 내지 C12-알콕시-, 아미노-, C1- 내지 C12-알콕시카르보닐- 또는 염소-치환된 나프탈렌- 또는 비페닐술포네이트, 임의로 니트로-, 시아노-, 히드록실-, C1- 내지 C25-알킬-, C1- 내지 C12-알콕시-, C1- 내지 C12-알콕시카르보닐- 또는 염소-치환된 벤젠-, 나프탈렌- 또는 비페닐디술포네이트, 디니트로-, C6- 내지 C25-알킬-, C4- 내지 C12-알콕시카르보닐-, 벤조일-, 클로로벤조일- 또는 톨루오일-치환된 벤조에이트, 나프탈렌디카르복실산의 음이온, 디페닐 에테르 디술포네이트, 지방족 C1- 내지 C8-알콜 또는 글리세롤의 술폰화 또는 황산화된 임의로 단일불포화 또는 다중불포화된 C8- 내지 C25-지방산 에스테르, 비스(술포-C2- 내지 C6-알킬) C3- 내지 C12-알칸디카르복실산 에스테르, 비스(술포-C2- 내지 C6-알킬) 이타콘산 에스테르, (술포-C2- 내지 C6-알킬) C6- 내지 C18-알칸카르복실산 에스테르, (술포-C2- 내지 C6-알킬) 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르, 트리스카테콜 포스페이트 (12개 이하의 할로겐 모이어티에 의해 임의로 치환됨); 테트라페닐 보레이트, 시아노트리페닐 보레이트, 테트라페녹시보레이트, C4- 내지 C12-알킬트리페닐 보레이트 (여기서, 페닐 또는 페녹시 모이어티는 할로겐, C1- 내지 C4-알킬 및/또는 C1- 내지 C4-알콕시 치환될 수 있음), C4- 내지 C12-알킬트리나프틸 보레이트, 테트라-C1- 내지 C20-알콕시보레이트, 7,8- 또는 7,9-디카르바니도운데카보레이트(1-) 또는 (2-) (이는 B 및/또는 C 원자 상에서 1 또는 2개의 C1- 내지 C12-알킬 또는 페닐 치환기를 임의로 보유함), 도데카히드로디카르바도데카보레이트(2-) 또는 B-C1- 내지 C12-알킬-C-페닐도데카히드로디카르바도데카보레이트(1-)의 군으로부터의 음이온 (여기서, 다가 음이온, 예컨대 나프탈렌디술포네이트에서의 An-는 1 당량의 상기 음이온을 나타내고, 알칸 및 알킬 기는 분지될 수 있고/있거나 할로겐, 시아노, 메톡시, 에톡시, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐 치환될 수 있음).
특히 바람직한 것은 하기에 주어진다:
sec-C11- 내지 C18-알칸술포네이트, C13- 내지 C25-알킬 술페이트, 분지형 C8- 내지 C25-알킬 술페이트, 임의로 분지형 비스-C6- 내지 C25-알킬 술포숙시네이트, sec- 또는 tert-C4- 내지 C25-알킬벤젠술포네이트, 지방족 C1- 내지 C8-알콜 또는 글리세롤의 술폰화 또는 황산화된 임의로 단일불포화 또는 다중불포화된 C8- 내지 C25-지방산 에스테르, 비스(술포-C2- 내지 C6-알킬) C3- 내지 C12-알칸디카르복실산 에스테르, (술포-C2- 내지 C6-알킬) C6- 내지 C18-알칸카르복실산 에스테르, 트리스카테콜 포스페이트 (12개 이하의 할로겐 모이어티에 의해 치환됨), 시아노트리페닐 보레이트, 테트라페녹시보레이트.
그 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00002
다양한 음이온의 AClogP 값은 하기 표 1에 수집되어 있다:
표 1: 선택된 음이온의 AClogP 값
Figure 112013040113401-pct00003
Figure 112013040113401-pct00004
Figure 112013040113401-pct00005
또한, An-가 하기 화학식 LI의 4-(sec-알킬)벤젠술포네이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LI>
Figure 112013040113401-pct00006
상기 식에서,
a 및 b는 서로 독립적으로 0 내지 20의 정수를 나타내며, 단, a + b는 ≥ 3이다.
여기서 a + b는 바람직하게는 ≥ 5, 보다 바람직하게는 ≥ 7, 보다 더 바람직하게는 ≥ 9이다.
화학식 LI는 또한 a + b가 상기와 동일한 경우에 다양한 값의 a 및 b를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다. 그러나, 화학식 LI는 또한 상이한 값의 a 및 b를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다.
화학식 LI의 음이온의 예는
Figure 112013040113401-pct00007
및 또한 모든 5가지 가능한 이성질체의 혼합물이다.
또한, An-가 하기 화학식 LII의 sec-알킬술포네이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LII>
Figure 112013040113401-pct00008
상기 식에서,
c 및 d는 서로 독립적으로 0 내지 20의 정수를 나타내며, 단, c + d는 ≥ 5이다.
c + d는 바람직하게는 ≥ 7, 보다 바람직하게는 ≥ 9, 보다 더 바람직하게는 ≥ 11이다.
화학식 LII는 c + d가 상기와 동일한 경우에 다양한 값의 c 및 d를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다. 그러나, 화학식 LII는 또한 상이한 값의 c 및 d를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다.
화학식 LII의 음이온의 예는
Figure 112013040113401-pct00009
및 또한 모든 가능한 이성질체의 혼합물이다.
또한, An-가 하기 화학식 LIII의 2급 또는 분지형 알킬 술페이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LIII>
Figure 112013040113401-pct00010
상기 식에서,
e는 0 내지 5의 정수를 나타내고,
f 및 g는 서로 독립적으로 0 내지 15의 정수를 나타내며, 단, e + f + g는 ≥ 5이고,
CH2 기는 추가의 메틸 또는 에틸 기에 의해 추가로 치환될 수 있다.
e + f + g는 바람직하게는 ≥ 7, 보다 바람직하게는 ≥ 9, 보다 더 바람직하게는 ≥ 11이다.
e는 바람직하게는 0 또는 1을 나타낸다.
2개의 CH2 기가, 치환된 메틸 및/또는 에틸인 것이 바람직하다.
화학식 LIII는 또한 e + f + g가 상기와 동일한 경우에 다양한 값의 e, f 및 g를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다. 그러나, 화학식 LIII는 또한 상이한 값의 e, f 및 g를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다.
화학식 LIII의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00011
또한, An-가 하기 화학식 LIV의 분지형 포스페이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LIV>
Figure 112013040113401-pct00012
상기 식에서,
R200은 수소 또는 할로겐을 나타내고,
h는 1 내지 4의 정수를 나타낸다.
바람직하게는, R200은 염소 또는 브로민을 나타내고, h는 4를 나타낸다.
화학식 LIV의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00013
또한, An-가 하기 화학식 LV의 알킬 술페이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LV>
Figure 112013040113401-pct00014
상기 식에서,
i는 12 내지 25의 정수를 나타낸다.
바람직하게는, i는 18 내지 25의 정수를 나타낸다.
화학식 LV의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00015
또한, An-가 하기 화학식 LVI의 술포숙시네이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LVI>
Figure 112013040113401-pct00016
상기 식에서,
R201 및 R202는 서로 독립적으로 C4- 내지 C16-알킬 모이어티를 나타내고, 이는 분지형 C2- 내지 C12-알킬 모이어티 (4개 이상의 플루오린 원자에 의해 치환됨), C5- 내지 C7-시클로알킬 모이어티 또는 C7- 내지 C10-아르알킬 모이어티일 수 있다.
바람직하게는 R201 및 R202는 동일하다.
R201 및 R202가 C6- 내지 C12-알킬 모이어티를 나타내는 것이 특히 바람직하고, 이는 분지형 C4- 내지 C8-알킬 모이어티 (6개 이상의 플루오린 원자에 의해 치환됨), 시클로헥실 또는 벤질일 수 있다. R201 및 R202가 n-헥실, n-옥틸, 2-에틸헥실 또는 1H,1H,7H-도데카플루오로헵틸을 나타내는 것이 매우 특히 바람직하다.
화학식 LVI의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00017
또한, An-가 하기 화학식 LVII의 에스테르 술포네이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LVII>
Figure 112013040113401-pct00018
상기 식에서,
R203은 C2- 내지 C22-알킬 또는 알케닐 모이어티를 나타내고, 이는 분지되거나 또는 치환될 수 있고,
u는 2 내지 4의 정수를 나타낸다.
바람직하게는, R203은 분지형 또는 비분지형 C6- 내지 C17-알킬 또는 알케닐 라디칼을 나타내거나, 또는 -CH=CH2 또는 -C(CH3)=CH2를 나타내고, 보다 바람직하게는 분지형 또는 비분지형 C6- 내지 C17-알킬 또는 알케닐 라디칼을 나타낸다.
바람직하게는, u는 3 또는 4를 나타낸다.
화학식 LVII의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00019
또한, An-가 하기 화학식 LVIII의 에스테르 술포네이트 또는 에스테르 술페이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LVIII>
Figure 112013040113401-pct00020
상기 식에서,
v는 0 또는 1을 나타내고,
R204는 C1- 내지 C18-알킬을 나타내고, 이는 분지되고/거나 치환될 수 있고,
R205는 수소 또는 C1- 내지 C8-알킬을 나타내고,
Y201은 직접 결합, 지방족 C1 내지 C22 가교 또는 올레핀계 C2 내지 C22 가교를 나타내며,
단, Y201 및 R204는 함께 7개 이상의 탄소 원자를 갖는다.
화학식 LVIII의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00021
또한, An-가 하기 화학식 LIX의 보레이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LIX>
Figure 112013040113401-pct00022
상기 식에서,
R206은 시아노, C1- 내지 C12-알킬, C7- 내지 C10-아르알킬, 또는 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
Figure 112013040113401-pct00023
R207 및 R208은 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로를 나타내거나, 또는
2개의 인접한 R207 및 R208은 -CH=CH-CH=CH- 가교를 형성한다.
R206이 시아노, 부틸, 펜틸, 헥실, 벤질, 또는 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
Figure 112013040113401-pct00024
R207 및 R208이 서로 독립적으로 수소, 메틸, 메톡시, 플루오린, 염소 또는 시아노를 나타내거나, 또는
2개의 인접한 R207 및 R208이 -CH=CH-CH=CH- 가교를 형성하는 것
이 특히 바람직하다.
화학식 LIX의 음이온의 예의 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00025
또한, An-가 하기 화학식 LX의 플루오린화 알킬 술페이트를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
<화학식 LX>
Figure 112013040113401-pct00026
상기 식에서,
R209는 4개 이상의 플루오린 원자를 보유하는 C4- 내지 C18-알킬 라디칼을 나타낸다.
바람직하게는, R209는 6개 이상의 플루오린 원자를 보유하는 C8- 내지 C18-알킬 모이어티를 나타낸다. R209가 퍼플루오린화 C6- 내지 C12-알킬 모이어티를 나타내는 것이 또한 바람직하다.
화학식 LX의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00027
양이온성 염료 및 음이온은 공지되어 있거나, 또는 공지된 방법과 유사하게 수득가능하다.
화학식 F+의 양이온성 염료는 바람직하게는 하기 화학식의 것들이다:
<화학식 I>
Figure 112013040113401-pct00028
상기 식에서,
X1은 O, S, N-R6 또는 CR6aR6b를 나타내고,
X2는 N 또는 C-R5를 나타내고,
R5는 수소, 시아노, C1- 내지 C4-알킬, C4- 내지 C7-시클로알킬, 임의로 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐- 또는 NR7R8-치환된 C6- 내지 C10-아릴 또는 헤테로시클릭 모이어티를 나타내고,
R6은 수소, C1- 내지 C16-알킬, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤테로시클릭 라디칼을 나타내고,
R6a 및 R6b는 동일하고, 메틸, 에틸을 나타내거나, 또는 연결되어 -CH2-CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-CH2- 가교를 나타내고,
R1 내지 R4, R7 및 R8은 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤테로시클릭 모이어티를 나타내거나, 또는
NR1R2, NR3R4 및 NR7R8은 서로 독립적으로 5- 또는 6-원 포화 고리를 나타내고, 이는 N을 통해 부착되고, N 또는 O를 추가로 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있거나, 또는
R1 내지 R4, R7 및 R8은 서로 독립적으로 질소 원자에 인접한 벤젠 고리 탄소 원자과 조합되어 2- 또는 3-원 가교를 형성하고, 이는 O 또는 N을 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R9, R9a, R9b, R10, R10a 및 R10b는 서로 독립적으로 수소, 할로겐 또는 C1- 내지 C4-알킬을 나타내고,
<화학식 II>
Figure 112013040113401-pct00029
상기 식에서,
R15는 수소, 할로겐, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시 또는 NR18R19를 나타내고,
R11 내지 R14, R18 및 R19는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤테로시클릭 모이어티를 나타내거나, 또는
NR11R12, NR13R14 및 NR18R19는 서로 독립적으로 5- 또는 6-원 포화 고리를 나타내고, 이는 N을 통해 부착되고, N 또는 O를 추가로 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있거나, 또는
R12; R17b, R13; R17c 및 R18; R17a는 서로 독립적으로 2- 또는 3-원 가교를 형성하고, 이는 O 또는 N을 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R16은 수소, 염소, 메틸, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐을 나타내고,
R16a는 수소, 염소 또는 메틸을 나타내고,
R17a, R17b 및 R17c는 서로 독립적으로 수소, 염소, 메틸 또는 메톡시를 나타내고,
<화학식 III>
Figure 112013040113401-pct00030
상기 식에서,
A 및 B는 X21 내지 X24 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 서로 독립적으로 5- 또는 6-원 방향족 또는 준방향족 또는 부분 수소화 헤테로시클릭 고리를 나타내고, 이는 각각 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고/거나 벤조- 또는 나프토-융합되고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고, 상기 경우에 쇄는 각각 X21 및 X22에 대해 위치 2 또는 4에서 각각의 고리에 부착되고,
X21 및 X22는 질소를 나타내거나, 또는
X21-R21 및 X22-R22는 서로 독립적으로 O 또는 S를 나타내고,
X23 및 X24는 서로 독립적으로 O, S, N-R23, CR24 또는 CR25R26을 나타내고,
Y21은 N 또는 C-R27을 나타내고,
w는 0 또는 1을 나타내고,
R21, R22 및 R23은 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬을 나타내고,
R27, R28 및 R29는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬 또는 시아노를 나타내고,
R24는 수소 또는 C1- 내지 C4-알킬을 나타내고,
R25 및 R26은 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬 또는 C7- 내지 C10-아르알킬을 나타내거나, 또는 연결되어 -CH2-CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-CH2-가교를 형성하고,
<화학식 IV>
Figure 112013040113401-pct00031
상기 식에서,
C는 X31 및 X32 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 서로 독립적으로 5- 또는 6-원 방향족 또는 준방향족 또는 부분 수소화 헤테로시클릭 고리를 나타내고, 이는 각각 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고/거나 벤조- 또는 나프토-융합되고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고, 상기 경우에 쇄는 X31에 대해 위치 2 또는 4에서 고리에 부착되고,
X31은 질소를 나타내거나, 또는
X31-R31은 O 또는 S를 나타내고,
X32는 O, S, N-R37, CR38 또는 CR39R40을 나타내고,
R31 및 R37은 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬을 나타내고,
R38은 수소 또는 C1- 내지 C4-알킬을 나타내고,
R39 및 R40은 서로 독립적으로 C1- 내지 C4-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C4- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C10-아르알킬을 나타내거나, 또는 연결되어 -CH2-CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-CH2- 가교를 형성하고,
R32 및 R33은 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤테로시클릭 모이어티를 나타내거나, 또는
NR32R33은 5- 또는 6-원 포화 고리를 나타내고, 이는 N을 통해 부착되고, 이는 N 또는 O를 추가로 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R34는 수소, C1- 내지 C16-알킬, C1- 내지 C16-알콕시 또는 할로겐을 나타내거나, 또는
R34는 R32와 조합되어 2- 또는 3-원 가교를 형성하고, 이는 O 또는 N을 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R35는 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, C1- 내지 C4-알콕시카르보닐, O-CO-C1- 내지 C4-알킬, NH-CO-C1- 내지 C4-알킬, O-SO2-C1- 내지 C4-알킬 또는 NH-SO2-C1- 내지 C4-알킬을 나타내고,
R36은 수소, C1- 내지 C4-알킬 또는 시아노를 나타내고,
x는 0 또는 1을 나타내고,
<화학식 V>
Figure 112013040113401-pct00032
상기 식에서,
Y42는 하기 화학식 Va 또는 Vb의 모이어티를 나타내고,
<화학식 Va>
Figure 112013040113401-pct00033
<화학식 Vb>
Figure 112013040113401-pct00034
R41, R41a 및 R41b는 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
R42 및 R42a는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤타릴을 나타내고,
R43 및 R43a는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐을 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R43 또는 R43a는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내고,
n 및 o는 서로 독립적으로 0 내지 4의 정수를 나타내고,
Y41은 CR44, =CR45a-CR46=CR45b- 또는 N을 나타내고,
Y43은 CH 또는 N을 나타내고,
R44, R45a, R45b 및 R46은 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C4-알킬, C5- 내지 C6-시클로알킬, C6-아릴, 헤타릴, 할로겐 또는 시아노를 나타내고,
D는 X41, X42 및 이들 사이를 연결하는 탄소 원자와 함께 5- 또는 6-원 방향족 또는 준방향족 또는 부분 수소화 헤테로시클릭 고리를 나타내고, 이는 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고/거나 벤조- 또는 나프토-융합되고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고, 상기 경우에 쇄는 X41에 대해 위치 2 또는 4에서 고리에 부착되고,
X41은 N을 나타내거나, 또는
X41-R41b는 O 또는 S를 나타내고,
X42는 O, S, CR47R48 또는 -CH=CH-를 나타내고,
R47 및 R48은 서로 독립적으로 C1- 내지 C4-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C10-아르알킬 또는 C6-아릴을 나타내거나, 또는 연결되어 -CH2-CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-CH2- 가교를 형성하고,
<화학식 VI>
Figure 112013040113401-pct00035
상기 식에서,
Y52는 하기 화학식 VIa, VIb 또는 VIc의 라디칼을 나타내고,
<화학식 VIa>
Figure 112013040113401-pct00036
<화학식 VIb>
Figure 112013040113401-pct00037
<화학식 VIc>
Figure 112013040113401-pct00038
R51, R51a, R51b 및 R51c는 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
R52 및 R52a는 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
R53 및 R53a는 서로 독립적으로 C1- 내지 C4-알킬, 할로겐, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐을 나타내고,
R53d는 수소, C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤타릴을 나타내고,
R53b는 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐을 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R53b 또는 R53c는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내고,
m은 0 내지 4의 정수를 나타내고,
Y51은 CR54, =CR55a-CR56=CR55b- 또는 N을 나타내고,
Y53은 CH 또는 N을 나타내고,
R54, R55a, R55b 및 R56은 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C4-알킬, C5- 내지 C6-시클로알킬, C6-아릴, 헤타릴, 할로겐 또는 시아노를 나타내고,
E는 X51, X52 및 이들 사이를 연결하는 탄소 원자와 함께 5- 또는 6-원 방향족 또는 준방향족 또는 부분 수소화 헤테로시클릭 고리를 나타내고, 이는 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고/거나 벤조- 또는 나프토-융합되고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고, 상기 경우에 쇄는 X51에 대해 위치 2 또는 4에서 고리에 부착되고,
X51은 N을 나타내거나, 또는
X51-R51c는 O 또는 S를 나타내고,
X52는 O, S, CR57R58 또는 -CH=CH-를 나타내고,
R57 및 R58은 서로 독립적으로 C1- 내지 C4-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C10-아르알킬 또는 C6-아릴을 나타내거나, 또는 연결되어 -CH2-CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-CH2- 가교를 형성하고,
<화학식 VII>
Figure 112013040113401-pct00039
상기 식에서,
Y62는 하기 화학식의 라디칼을 나타내고,
<화학식 VIIa>
Figure 112013040113401-pct00040
<화학식 VIIb>
Figure 112013040113401-pct00041
또는
<화학식 VIIc>
Figure 112013040113401-pct00042
X61 및 X61a는 서로 독립적으로 O 또는 S를 나타내고,
X62 및 X62a는 서로 독립적으로 CR66 또는 N을 나타내고,
R63 및 R63a는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C6-알킬, 할로겐, 히드록실, C6- 내지 C10-아릴 또는 NR64R65를 나타내거나, 또는 Y61이 CH를 나타내고, Y62가 화학식 VIIa의 모이어티를 나타내는 경우에 R63 및 R63a는 함께 -C(CH3)2- 가교를 나타내고,
R61, R61a, R62, R62a, R64 및 R65는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C6-알킬, C5- 내지 C7-시클로알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 C7- 내지 C15-아르알킬을 나타내거나, 또는
NR61R62 및 NR64R65는 서로 독립적으로 피롤리디노, 모르폴리노, 피페라지노 또는 피페리디노를 나타내고,
R66은 수소, 시아노, C1- 내지 C6-알킬, 할로겐 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
Y61은 =Y63-(Y64=Y65)p-를 나타내고,
Y63 내지 Y65는 서로 독립적으로 N 또는 C-R67을 나타내고,
p는 0 또는 1을 나타내고,
R67은 수소, 시아노 또는 C1- 내지 C3-알킬을 나타내거나, 또는
p가 1을 나타내는 경우에 R67은 화학식 VIIa의 라디칼을 나타내고,
G는 X63, X64 및 이들 사이를 연결하는 탄소 원자와 함께 5- 또는 6-원 방향족 또는 준방향족 또는 부분 수소화 헤테로시클릭 고리를 나타내고, 이는 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고/거나 벤조- 또는 나프토-융합되고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고, 상기 경우에 쇄는 X63에 대해 위치 2 또는 4에서 고리에 부착되고,
X63은 질소를 나타내거나, 또는
X63-R68은 O 또는 S를 나타내고,
X64는 O, S, N-R69 또는 CR70R71을 나타내고,
X65는 N 또는 C-R67을 나타내고,
R68 및 R69는 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬을 나타내고,
R70 및 R71은 서로 독립적으로 C1- 내지 C4-알킬 또는 C7- 내지 C10-아르알킬을 나타내거나, 또는 연결되어 -CH2-CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-CH2- 가교를 형성하고,
R72 및 R73은 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤테로시클릭 라디칼을 나타내거나, 또는
NR72R73은 N을 통해 부착되어 있는 5- 또는 6-원 포화 고리를 나타내고, 이는 N 또는 O를 추가로 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R74 및 R74a는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시 또는 할로겐을 나타내거나, 또는
R74; R73 및/또는 R74a; R72는 2- 또는 3-원 가교를 형성하고, 이는 O 또는 N을 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R75는 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, C1- 내지 C4-알콕시카르보닐, O-CO-C1- 내지 C4-알킬, NH-CO-C1- 내지 C4-알킬, O-SO2-C1- 내지 C4-알킬 또는 NH-SO2-C1- 내지 C4-알킬을 나타내고,
<화학식 VIII>
Figure 112013040113401-pct00043
상기 식에서,
R81 및 R82는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
R83 및 R84는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐을 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R83 또는 R84는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내거나, 또는
R83; R81 및/또는 R84; R82는 2- 또는 3-원 가교를 형성하고, 이는 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
q 및 r은 서로 독립적으로 0 내지 4의 정수를 나타내고,
<화학식 IX>
Figure 112013040113401-pct00044
상기 식에서,
Y91은 하기 화학식 IXa 또는 IXb의 모이어티를 나타내고,
<화학식 IXa>
Figure 112013040113401-pct00045
<화학식 IXb>
Figure 112013040113401-pct00046
R91은 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬을 나타내고,
R92 및 R93은 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤테로시클릭 라디칼을 나타내거나, 또는
NR92R93은 5- 또는 6-원 포화 고리를 나타내고, 이는 질소를 통해 부착되고, N 또는 O를 추가로 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R94 및 R94a는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시 또는 할로겐을 나타내거나, 또는
R94; R93 및/또는 R94a; R92는 2- 또는 3-원 가교를 형성하고, 이는 O 또는 N을 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R95는 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, C1- 내지 C4-알콕시카르보닐, O-CO-C1- 내지 C4-알킬, NH-CO-C1- 내지 C4-알킬, O-SO2-C1- 내지 C4-알킬 또는 NH-SO2-C1- 내지 C4-알킬을 나타내고,
R96은 수소, 할로겐, O-C1- 내지 C4-알킬 또는 S-C1- 내지 C4-알킬을 나타내고,
j는 0 또는 1을 나타내고,
R97은 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
R98은 수소, C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤타릴을 나타내고,
R99는 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐을 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R99는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내고,
l은 0 내지 4의 정수를 나타내고,
<화학식 X>
Figure 112013040113401-pct00047
상기 식에서,
Y101은 하기 화학식의 라디칼을 나타내고,
<화학식 Xa>
Figure 112013040113401-pct00048
<화학식 Xb>
Figure 112013040113401-pct00049
또는
<화학식 Xc>
Figure 112013040113401-pct00050
X101은 O 또는 S를 나타내고,
X102는 CR107 또는 N을 나타내고,
R103은 수소, C1- 내지 C6-알킬, 할로겐, 히드록실, C6- 내지 C10-아릴 또는 NR101aR102a를 나타내고,
R101, R102, R101a 및 R102a 는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C6-알킬, C5- 내지 C7-시클로알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 C7- 내지 C15-아르알킬을 나타내거나, 또는
NR101R102 및/또는 NR101aR102a는 피롤리디노, 모르폴리노, 피페라지노 또는 피페리디노를 나타내고,
R107은 수소, 시아노, C1- 내지 C6-알킬, 할로겐 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
H는 X103, X104 및 이들 사이를 연결하는 탄소 원자와 함께 5- 또는 6-원 방향족 또는 준방향족 또는 부분 수소화 헤테로시클릭 고리를 나타내고, 이는 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고/거나 벤조- 또는 나프토-융합되고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고, 상기 경우에 쇄는 X103에 대해 위치 2 또는 4에서 고리에 부착되고,
X103은 N을 나타내거나, 또는
X103-R104는 O 또는 S를 나타내고,
X104는 O, S, CR115R116 또는 -CH=CH-를 나타내고,
R115 및 R116은 서로 독립적으로 C1- 내지 C4-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C10-아르알킬 또는 C6-아릴을 나타내거나, 또는 연결되어 -CH2-CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-CH2- 가교를 형성하고,
R104는 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
R105 및 R106은 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤테로시클릭 모이어티를 나타내거나, 또는
NR105R106은 5- 또는 6-원 포화 고리를 나타내고, 이는 N을 통해 부착되고, 이는 N 또는 O를 추가로 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
Y102 및 Y105는 서로 독립적으로 N 또는 CR108을 나타내고,
R108은 수소, 시아노 또는 C1- 내지 C4-알킬을 나타내고,
Y103은 CN, CO-R109, COO-R110, CONHR110 또는 CONR110R111을 나타내고,
Y104는 하기 화학식의 양이온 모이어티를 나타내거나,
Figure 112013040113401-pct00051
또는
CY103Y104는 함께 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
Figure 112013040113401-pct00052
여기서, 별표 (*)는 이중 결합이 발생하는 고리 원자를 나타내고,
R109 내지 R112는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C6-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 C7- 내지 C15-아르알킬을 나타내고,
R113은 수소, 시아노, COO-R110 또는 C1- 내지 C4-알킬을 나타내고,
J, K 및 L은 서로 독립적으로 질소 원자와 조합되어 5- 또는 6-원 방향족 또는 준방향족 또는 부분 수소화 헤테로시클릭 고리를 나타내고, 이는 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고/거나 벤조- 또는 나프토-융합되고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
M은 질소 원자와 조합되어 5- 또는 6-원 방향족 또는 준방향족 또는 부분 수소화 헤테로시클릭 고리를 나타내고, 이는 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고/거나 벤조- 또는 나프토-융합되고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고, 상기 경우에 쇄는 N 원자에 대해 위치 2 또는 4에서 고리에 부착되고,
R114는 C1- 내지 C6-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 C7- 내지 C15-아르알킬을 나타내고,
여기서 이러한 염료 화학식 I 내지 X 중 2개 이상은 가교를 통해 연결될 수 있고, 이러한 가교는 R21, R22, R31, R32, R41, R41a, R41b, R51b, R51c, R61, R61a, R66, R72, R91, R92, R101, R104 및/또는 R105에서 발생한다.
화학식 F+의 양이온성 염료는 바람직하게는 또한 하기 화학식의 것들을 포함한다:
<화학식 VII>
Figure 112013040113401-pct00053
상기 식에서,
Y62는 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
<화학식 VIIa>
Figure 112013040113401-pct00054
<화학식 VIIb>
Figure 112013040113401-pct00055
<화학식 VIIc>
Figure 112013040113401-pct00056
<화학식 VIId>
Figure 112013040113401-pct00057
또는
<화학식 VIIe>
Figure 112013040113401-pct00058
X61 및 X61a는 서로 독립적으로 O 또는 S를 나타내고,
X62 및 X62a는 서로 독립적으로 CR66 또는 N을 나타내고,
R63 및 R63a는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C6-알킬, 할로겐, 히드록실, C6- 내지 C10-아릴 또는 NR64R65를 나타내거나, 또는 Y61이 CH를 나타내고, Y62가 화학식 VIIa의 모이어티를 나타내는 경우에 R63 및 R63a는 함께 -C(CH3)2 가교를 나타내고,
R61, R61a, R62, R62a, R64 및 R65는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C6-알킬, C5- 내지 C7-시클로알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 C7- 내지 C15-아르알킬을 나타내거나, 또는
NR61R62 및 NR64R65는 서로 독립적으로 피롤리디노, 모르폴리노, 피페라지노 또는 피페리디노를 나타내고,
R66은 수소, 시아노, C1- 내지 C6-알킬, 할로겐 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
Y61은 =Y63-(Y64=Y65)p-를 나타내고,
Y63 내지 Y65는 서로 독립적으로 N 또는 C-R67을 나타내고,
p는 0 또는 1을 나타내고,
R67은 수소, 시아노 또는 C1- 내지 C3-알킬을 나타내거나, 또는
R67은 화학식 VIIa, VIIc의 모이어티를 나타내거나, 또는 p가 1을 나타내는 경우에 하나 이상의 C1- 내지 C4-알킬, 할로겐, C1- 내지 C4-알콕시, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐에 의해 임의로 치환된 페닐 모이어티를 나타내고,
G는 X63, X64 및 이들 사이에 결합된 탄소 원자와 함께 5- 또는 6-원 방향족 또는 준방향족 또는 부분 수소화 헤테로시클릭 고리를 나타내고, 이는 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고/거나 벤조- 또는 나프토-융합되고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고, 상기 경우에 쇄는 X63에 대해 위치 2 또는 4에서 고리에 부착되고,
X63은 질소를 나타내거나, 또는
X63-R68은 O 또는 S를 나타내고,
X64는 O, S, N-R69 또는 CR70R71을 나타내고,
X65는 N 또는 C-R67을 나타내고,
R68 및 R69는 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬을 나타내고,
R70 및 R71은 서로 독립적으로 C1- 내지 C4-알킬 또는 C7- 내지 C10-아르알킬을 나타내거나, 또는 함께 -CH2-CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-CH2- 가교를 형성하고,
R72 및 R73은 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C16-알킬, C4- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤테로시클릭 모이어티를 나타내거나, 또는
NR72R73은 5- 또는 6-원 포화 고리를 나타내고, 이는 N을 통해 부착되고, 이는 N 또는 O를 추가로 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R74 및 R74a는 서로 독립적으로 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시 또는 할로겐을 나타내거나, 또는
R74; R73 및/또는 R74a; R72는 2- 또는 3-원 가교를 형성하고, 이는 O 또는 N을 함유할 수 있고/거나 비이온성 모이어티에 의해 치환될 수 있고,
R76a, R76b 및 R79는 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
R77a는 수소, C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤타릴을 나타내고,
R77b는 C1- 내지 C4-알킬, 할로겐, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐을 나타내고,
R78은 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐을 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R78 모이어티는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내고,
m1은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
화학식 F+의 양이온성 염료는 바람직하게는 또한 하기 화학식의 것들을 포함한다:
<화학식 IX>
Figure 112013040113401-pct00059
상기 식에서,
Y91은 하기 화학식 IXc의 모이어티를 나타내고,
<화학식 IXc>
Figure 112013040113401-pct00060
R91은 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬을 나타내고,
j는 0 또는 1을 나타내고,
R97a 및 R97b는 서로 독립적으로 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬, C7- 내지 C16-아르알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
R98a는 C1- 내지 C4-알킬, 할로겐, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐을 나타낸다.
적합한 가교는 예를 들어 하기 화학식의 것들이다:
-CH2-CH2-CH2-, -CH2-CH2-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-CH2-CH2-,
Figure 112013040113401-pct00061
비이온성 모이어티는 C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, 니트로, C1- 내지 C4-알콕시카르보닐, C1- 내지 C4-알킬티오, C1- 내지 C4-알카노일아미노, 벤조일아미노, 모노- 또는 디-C1- 내지 C4-알킬아미노이다.
알킬, 알콕시, 시클로알킬, 아릴 및 헤테로시클릭 모이어티는 추가의 모이어티, 예컨대 알킬, 할로겐, 니트로, 시아노, CO-NH2, 알콕시, 트리알킬실릴, 트리알킬실록시 또는 페닐를 임의로 보유할 수 있고, 알킬 및 알콕시 모이어티는 직쇄 또는 분지될 수 있고, 알킬 모이어티는 부분 할로겐화 또는 퍼할로겐화될 수 있고, 알킬 및 알콕시 모이어티는 에톡실화 또는 프로폴실화, 또는 실릴화될 수 있고, 아릴 또는 헤테로시클릭 모이어티 상의 인접한 알킬 및/또는 알콕시 모이어티는 공동으로 3- 또는 4-원 가교를 형성할 수 있고, 헤테로시클릭 모이어티는 벤조-융합되고/거나 4급화될 수 있다.
할로겐은 플루오린, 염소, 브로민 또는 아이오딘, 바람직하게는 플루오린, 염소 또는 브로민을 의미하는 것으로 이해된다.
치환된 알킬 모이어티의 예는 트리플루오로메틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸이다. 분지형 알킬 모이어티의 예는 이소프로필, tert-부틸, 2-부틸, 네오펜틸이다. 알콕시 모이어티의 예는 메톡시, 에톡시, 메톡시에톡시이다.
바람직한 임의로 치환된 C1- 내지 C4-알킬 모이어티는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2-부틸, 이소부틸, tert-부틸, 퍼플루오린화 메틸, 퍼플루오린화 에틸, 2,2-트리플루오로에틸, 3,3,3-트리플루오로에틸, 퍼플루오로부틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 클로로에틸이다.
바람직한 아르알킬은 예를 들어 벤질, 페네틸 또는 페닐프로필일 수 있다.
C6- 내지 C10-아릴의 예는 페닐 및 나프틸이다. 치환된 아릴 모이어티의 예는 톨릴, 클로로페닐, 디클로로페닐, 메톡시페닐, 니트로페닐, 시아노페닐, 디메틸아미노페닐, 디에틸아미노페닐이다.
헤타릴 모이어티, 특히 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 모이어티의 예는 인돌릴, 피리딜, 퀴놀릴, 벤조티아졸릴이다. 치환된 헤테로시클릭 모이어티의 예는 1,2-디메틸인돌-3-일, 1-메틸-2-페닐인돌-3-일이다.
각각의 화학식
Figure 112013040113401-pct00062
의 고리 A 및 C의 예는 2- 또는 4-피리딜, 2- 또는 4-퀴놀릴, 2- 또는 4-피리미딜, 피리미드-2-온-4-일, 2-피라지닐, 1,3-티아졸-2-일, 1,3-티아졸린-2-일, 벤조티아졸-2-일, 1,3-옥사졸-2-일, 1,3-옥사졸린-2-일, 벤족사졸-2-일, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일, 벤즈이미다졸-2-일, 피롤린-2-일, 피롤-2-일, 3-H-인돌-2-일, 3-H-벤즈인돌-2-일, 1,3,4-티아디아졸-2-일, 1,2,4-티아디아졸-3-일, 벤즈-1,4-티아진-3-일, 퀴녹살린-2-일 또는 퀴녹살린-3-온-2-일이고, 이는 각각 C1- 내지 C6-알킬, C1- 내지 C6-알콕시, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 시아노, 니트로, C1- 내지 C6-알콕시카르보닐, C1- 내지 C6-알킬티오, C1- 내지 C6-아실아미노, C6- 내지 C10-아릴, C6- 내지 C10-아릴옥시, C6- 내지 C10-아릴카르보닐아미노, 모노- 또는 디-C1- 내지 C6-알킬아미노, N-C1- 내지 C6-알킬-N-C6- 내지 C10-아릴아미노, 피롤리디노, 모르폴리노, 피페리디노 또는 피페라지노에 의해 치환될 수 있다.
3-H-인돌-2-일은 특히 3,3-디알킬 유도체, 예를 들어 하기 화학식의 것들을 의미하는 것으로 이해된다.
Figure 112013040113401-pct00063
각각의 화학식
Figure 112013040113401-pct00064
의 고리 A 및 C의 예는 피릴륨-2- 또는 -4-일, 티오피릴륨-2- 또는 -4-일이고, 이는 각각 C1- 내지 C6-알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴에 의해 치환될 수 있다.
각각의 화학식
Figure 112013040113401-pct00065
의 고리 B, D, E, G 및 H의 예는 피리딘-2- 또는 -4-일렌, 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 피리미딘-2- 또는 -4-일렌, 피리미드-2-온-4-일렌, 피라진-2-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 1,3-티아졸린-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 1,3-옥사졸-2-일렌, 1,3-옥사졸린-2-일렌, 벤족사졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌, 피롤-2-일렌, 3-H-인돌-2-일렌, 3-H-벤즈인돌-2-일렌, 벤즈[c,d]인돌-2-일렌, 1,3,4-티아디아졸-2-일렌, 1,2,4-티아디아졸-3-일렌, 벤즈-1,4-티아진-3-일렌, 퀴녹살린-2-일렌 또는 퀴녹살린-3-온-2-일렌이고, 이는 각각 C1- 내지 C6-알킬, C1- 내지 C6-알콕시, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 시아노, 니트로, C1- 내지 C6-알콕시카르보닐, C1- 내지 C6-알킬티오, C1- 내지 C6-아실아미노, C6- 내지 C10-아릴, C6- 내지 C10-아릴옥시, C6- 내지 C10-아릴카르보닐아미노, 모노- 또는 디-C1- 내지 C6-알킬아미노, N-C1- 내지 C6-알킬-N-C6- 내지 C10-아릴아미노, 피롤리디노, 모르폴리노, 피페리디노 또는 피페라지노에 의해 치환될 수 있다.
3-H-인돌-2-일렌은 특히 3,3-디알킬 유도체, 예를 들어, 하기 화학식의 것들을 의미하는 것으로 이해된다.
Figure 112013040113401-pct00066
각각의 화학식
Figure 112013040113401-pct00067
의 고리 B, D, E, G 및 H의 예는 2H-피란-2-일렌, 4H-피란-4-일렌, 2H-티오피란-2-일렌, 4H-티오피란-4-일렌이고, 이는 각각 C1- 내지 C6-알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴에 의해 치환될 수 있다.
화학식 I 내지 X의 2종 이상, 바람직하게는 2종의 염료가 가교를 통해 연결되는 것이 또한 가능하다. 바람직하게는, 2종의 동일한 염료는 서로 연결된다. 이러한 가교는 예를 들어 화학식
-CH2-[CH2]k-CH2- 또는
Figure 112013040113401-pct00068
중 하나를 가질 수 있고,
상기 식에서,
k는 0 내지 4의 정수를 나타내고,
벤젠 고리 상의 2개의 메틸렌 기는 서로에 대해 o-, m- 또는 p-위치에 배치된다.
하기 화학식 I의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 I>
Figure 112013040113401-pct00069
상기 식에서,
X1은 O, S 또는 CR6aR6b를 나타내고,
X2는 C-R5를 나타내고,
R5는 수소, 시아노, 메틸, 에틸, 시클로헥실, 페닐, 2-메톡시카르보닐페닐, 2-에톡시카르보닐페닐 또는 4-(R7R8N)-페닐을 나타내고,
R6a 및 R6b는 메틸을 나타내고,
R1 내지 R4, R7 및 R8은 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내거나, 또는
NR1R2, NR3R4 및 NR7R8은 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내고,
R9, R9a, R9b, R10, R10a 및 R10b는 수소를 나타내거나, 또는 각각의 경우에 R9, R9a, R9b 중 1개 및/또는 R10, R10a 및 R10b 중 1개는 메틸을 나타내거나, 또는
R1; R9, R2; R9a, R3; R10 및 R4; R10a는 서로 독립적으로 -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2-O- 가교를 형성하고, 이는 3개 이하의 메틸 기를 보유할 수 있다.
X1이 O, S 또는 CR6aR6b를 나타내고,
X2가 C-R5를 나타내고,
R5가 수소, 시아노, 페닐, 2-메톡시카르보닐페닐, 2-에톡시카르보닐페닐 또는 4-(R7R8N)-페닐을 나타내고,
R6a 및 R6b가 메틸을 나타내고,
R1 내지 R4, R7 및 R8가 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 시아노에틸, 벤질 또는 페닐을 나타내고,
R1, R3 및 R7이 추가로 수소를 나타낼 수 있거나, 또는
NR1R2, NR3R4 및 NR7R8이 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노를 나타내고,
R9, R9a, R9b, R10, R10a 및 R10b가 수소를 나타내거나, 또는 각각의 경우에 R9, R9a, R9b 중 1개 및/또는 R10, R10a 및 R10b 중 1개가 메틸을 나타내는 것인
하기 화학식 I의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한 하기 화학식 I의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 I>
Figure 112013040113401-pct00070
상기 식에서,
X1은 O, S 또는 N-R6을 나타내고,
X2는 N을 나타내고,
R6은 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 시클로헥실, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R1 내지 R4는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내거나, 또는
NR1R2 및 NR3R4는 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내고,
R9, R9a, R9b, R10, R10a 및 R10b는 수소를 나타내거나, 또는 각각의 경우에 R9, R9a, R9b 중 1개 및/또는 R10, R10a 및 R10b 중 1개는 메틸을 나타내거나, 또는
R1; R9, R2; R9a, R3; R10 및 R4; R10a는 서로 독립적으로 -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2-O- 가교를 형성하고, 이는 3개 이하의 메틸 기를 보유할 수 있다.
X1이 O, S 또는 N-R6을 나타내고,
X2가 N을 나타내고,
R6이 페닐을 나타내고,
R1 내지 R4가 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 시아노에틸 또는 페닐을 나타내고,
R9, R9a, R9b, R10, R10a 및 R10b가 수소를 나타내거나, 또는 각각의 경우에 R9, R9a, R9b 중 1개 및/또는 R10, R10a 및 R10b 중 1개가 메틸을 나타내는 것인
화학식 I의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한,
X1이 O를 나타내고,
X2가 N을 나타내고,
NR1R2가 디메틸아미노 또는 디에틸아미노를 나타내고,
NR3R4가 디메틸아미노, 디에틸아미노, N-메틸-N-(2-시아노에틸)아미노, 비스(2-시아노에틸)아미노 또는 아닐리노를 나타내고,
R9가 수소 또는 메틸을 나타내고,
R9a, R9b, R10, R10a 및 R10b가 수소를 나타내는 것인
화학식 I의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한 X2가 N을 나타내는 것인 화학식 I의 염료의 혼합물이 바람직하다.
X1이 S 또는 N-R6을 나타내고,
X2가 N을 나타내고,
R6이 페닐 또는 톨릴을 나타내고,
R1 내지 R4가 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 시아노에틸 또는 페닐을 나타내거나, 또는
NR1R2 및 NR3R4가 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내고,
각각의 경우에 기 R9, R9a, R9b, 및 R10, R10a, R10b의 모이어티 중 1개가 메틸을 나타내고, 다른 2개가 수소를 나타내는 것인
화학식 I의 염료의 혼합물이 특히 바람직하다.
또한,
X1이 S 또는 N-R6을 나타내고,
X2가 N을 나타내고,
R6이 페닐 또는 톨릴을 나타내고,
R1 및 R3이 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 시아노에틸 또는 페닐을 나타내고,
R2 및 R4가 서로 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸을 나타내고,
R9 및 R10이 수소 또는 메틸을 나타내고, 서로 동일하고,
R9a, R9b, R10a 및 R10b가 수소를 나타내는 것인
화학식 I의 염료의 혼합물이 특히 바람직하다.
이러한 혼합물의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00071
또한 하기 화학식 II의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 II>
Figure 112013040113401-pct00072
상기 식에서,
R15는 수소, 염소, 메틸, 메톡시, NR18R19 또는 N+R18R19N20An-를 나타내고,
R11 내지 R14, R18, R19 및 R20은 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내거나, 또는
NR11R12, NR13R14 및 NR18R19는 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내거나, 또는
R12; R17b, R13; R17c 및 R18; R17a는 서로 독립적으로 -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2-O- 가교를 형성하고, 이는 3개 이하의 메틸 기를 보유할 수 있고,
An-는 음이온을 나타내고,
R16은 수소, 염소, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐을 나타내고,
R16a는 수소 또는 염소를 나타내고,
R17a, R17b 및 R17c는 서로 독립적으로 수소 또는 메틸을 나타낸다.
R15가 수소 또는 NR18R19를 나타내고,
NR11R12, NR13R14 및 NR18R19가 서로 독립적으로 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 시아노에틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 비스(2-시아노에틸)아미노 또는 아닐리노를 나타내고,
R16 및 R16a가 수소를 나타내거나, 또는
R15가 수소를 나타내는 경우에 R16이 추가로 염소를 나타낼 수 있고,
R17a, R17b 및 R17c가 수소를 나타내거나, 또는
R17a, R17b 및 R17c가 서로 독립적으로 각각의 인접한 기 NR11R12, NR13R14 또는 NR18R19가 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노 또는 시아노에틸아미노를 나타내는 경우에 추가로 메틸을 나타낼 수 있는 것인
화학식 II의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한 하기 화학식 III의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 III>
Figure 112013040113401-pct00073
상기 식에서,
A는 X21 및 X23 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2- 또는 4-퀴놀릴, 1,3-티아졸-2-일, 1,3-티아졸린-2-일, 벤조티아졸-2-일, 1,3-옥사졸린-2-일, 벤족사졸-2-일, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일, 벤즈이미다졸-2-일, 피롤린-2-일, 3H-인돌-2-일 또는 퀴녹살린-2-일을 나타내고, 이는 각각 메틸, 에틸, 벤질, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일 및 벤즈이미다졸-2-일의 경우에 질소 원자는 둘 다 R21에 의해 치환되거나, 또는
A는 X21-R21 및 X23 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피릴륨-2- 또는 -4-일, 티오피릴륨-2- 또는 -4-일을 나타내고, 이는 기 페닐, 톨릴 또는 아니실로부터의 2개의 모이어티에 의해 치환되고,
B는 X22 및 X24 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피리딘-2- 또는 -4-일렌, 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 1,3-티아졸린-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 1,3-옥사졸린-2-일렌, 벤족사졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌, 3-H-인돌-2-일렌, 1,3,4-티아디아졸-2-일렌, 1,2,4-티아디아졸-3-일렌 또는 퀴녹살린-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 에틸, 벤질, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로, 메톡시카르보닐, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, 피롤리디노, 모르폴리노 또는 피페리디노에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자는 둘 다 R22에 의해 치환되고,
Y21은 N 또는 C-R27을 나타내고,
w는 0 또는 1을 나타내고,
R21 및 R22는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고,
R27 및 R28은 서로 독립적으로 수소 또는 시아노를 나타내고,
R29는 수소를 나타낸다.
A가 X21 및 X23 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2- 또는 4-퀴놀릴, 1,3-티아졸-2-일, 1,3-티아졸린-2-일, 벤조티아졸-2-일, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일, 벤즈이미다졸-2-일, 피롤린-2-일 또는 3H-인돌-2-일을 나타내고, 이는 각각 메틸, 메톡시, 염소, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일 및 벤즈이미다졸-2-일의 경우에 질소 원자가 둘 다 R21에 의해 치환되고,
B가 X22 및 X24 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 1,3-티아졸린-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌 또는 3-H-인돌-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 메톡시, 염소, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자가 둘 다 R22에 의해 치환되고,
Y21이 C-R27을 나타내고,
w가 0 또는 1을 나타내고, 바람직하게는 1을 나타내고,
R21 및 R22가 서로 독립적으로 메틸, 에틸 또는 벤질을 나타내고,
R27이 수소 또는 시아노를 나타내고,
R28 및 R29가 수소를 나타내는 것인
화학식 III의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한,
A가 X21 및 X23 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2- 또는 4-퀴놀릴, 1,3-티아졸-2-일, 1,3-티아졸린-2-일, 벤조티아졸-2-일, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일, 벤즈이미다졸-2-일, 피롤린-2-일 또는 3H-인돌-2-일을 나타내고, 이는 각각 메틸, 메톡시, 염소, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일 및 벤즈이미다졸-2-일의 경우에 질소 원자가 둘 다 R21에 의해 치환되고,
B가 X22 및 X24 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 1,3-티아졸-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌 (이는 각각 메틸, 에틸, 메톡시, 염소, 시아노, 페닐, 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있음)을 나타내거나, 1,3,4-티아디아졸-2-일렌 (이는 메틸, 메톡시, 메틸티오, 브로민, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, N-메틸-N-(2-시아노에틸)아미노, N-메틸아닐리노, 피롤리디노, 모르폴리노 또는 피페리디노에 의해 치환될 수 있음)을 나타내거나, 또는 1,2,4-티아디아졸-3-일렌 (이는 메틸, 에틸, 메틸티오 또는 페닐에 의해 치환될 수 있음)을 나타내는 한편, 이미다졸-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자가 둘 다 R22에 의해 치환되고,
Y21이 N을 나타내고,
w가 1을 나타내고,
R21 및 R22가 서로 독립적으로 메틸, 에틸 또는 벤질을 나타내고,
R28 및 R29가 수소를 나타내는 것인
화학식 III의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한 하기 화학식 IV의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 IV>
Figure 112013040113401-pct00074
상기 식에서,
C는 X31 및 X32 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2- 또는 4-피리딜, 2- 또는 4-퀴놀릴, 1,3-티아졸-2-일, 1,3-티아졸린-2-일, 벤조티아졸-2-일, 1,3-옥사졸린-2-일, 벤족사졸-2-일, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일, 벤즈이미다졸-2-일, 피롤린-2-일, 3H-인돌-2-일 또는 퀴녹살린-2-일을 나타내고, 이는 각각 메틸, 에틸, 벤질, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일 및 벤즈이미다졸-2-일의 경우에 질소 원자는 둘 다 R31에 의해 치환되거나, 또는
C는 X31-R31 및 X32 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피릴륨-2- 또는 -4-일, 티오피릴륨-2- 또는 -4-일을 나타내고, 이는 기 페닐, 톨릴 또는 아니실로부터의 2개의 모이어티에 의해 치환되고,
R31은 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고,
R32 및 R33은 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실, 4-에톡시페닐 또는 클로로페닐을 나타내고,
R32는 추가로 수소를 나타낼 수 있거나, 또는
NR32R33은 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내고,
R34는 수소, 염소, 메틸 또는 메톡시를 나타내거나, 또는
R34는 R32와 조합되어 -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2-O- 가교를 형성하고, 여기서 3개 이하의 수소 원자는 메틸 기에 의해 대체될 수 있고,
R35는 수소, 염소, 메틸, 메톡시, 아세트아미노, 프로피오닐아미노 또는 메탄술포닐아미노를 나타내고,
R36은 수소 또는 시아노를 나타내고,
x는 1을 나타내고,
x는 C가 1,3-티아졸-2-일, 1,3-티아졸린-2-일, 벤조티아졸-2-일, 1,3-옥사졸린-2-일, 벤족사졸-2-일, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일 또는 벤즈이미다졸-2-일을 나타내는 경우에 추가로 0을 나타낼 수 있다.
C가 X31 및 X32 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2- 또는 4-퀴놀릴, 1,3-티아졸-2-일, 1,3-티아졸린-2-일, 벤조티아졸-2-일, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일, 벤즈이미다졸-2-일, 피롤린-2-일 또는 3H-인돌-2-일을 나타내고, 이는 각각 메틸, 메톡시, 염소, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일 및 벤즈이미다졸-2-일의 경우에 질소 원자가 둘 다 R21에 의해 치환되거나, 또는
C가 X31-R31 및 X32 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피릴륨-2-일, 티오피릴류밀을 나타내고, 이는 2개의 페닐 모이어티에 의해 치환되고,
R31이 메틸, 에틸 또는 벤질을 나타내고,
R32 및 R33이 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 벤질, 페닐, 아니실 또는 4-에톡시페닐을 나타내거나, 또는
NR32R33이 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노를 나타내고,
R34가 수소를 나타내고,
R35가 수소 또는 메틸을 나타내고,
R36이 수소 또는 시아노를 나타내고,
x가 1을 나타내는 것인
화학식 IV의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한, 하기 화학식 V의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 V>
Figure 112013040113401-pct00075
상기 식에서,
Y42는 하기 화학식 Va 또는 Vb의 라디칼을 나타내고,
<화학식 Va>
Figure 112013040113401-pct00076
<화학식 Vb>
Figure 112013040113401-pct00077
R41, R41a 및 R41b는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고, R41 및 R41a는 추가로 수소를 나타낼 수 있고,
R42 및 R42a는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 시클로헥실, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R43 및 R43a는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 메톡시 또는 염소를 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R43 또는 R43a는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내고,
n 및 o는 서로 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타내고,
Y42가 화학식 Va의 모이어티를 나타내는 경우에 Y41은 CR44 또는 =CR45a-CR46=CR45b-를 나타내거나, 또는
Y42가 화학식 Vb의 모이어티를 나타내는 경우에 Y41은 CR44를 나타내고,
Y43은 CH를 나타내거나, 또는
Y41 및 Y43은 둘 다 N을 나타내고,
R44, R45a, R45b 및 R46은 수소를 나타내고,
D는 X41 및 X42 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피리딘-2- 또는 -4-일렌, 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 1,3-티아졸린-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 1,3,4-티아디아졸-2-일렌, 1,3-옥사졸린-2-일렌, 벤족사졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌, 1,3,4-트리아졸-2-일렌, 3-H-인돌-2-일렌 또는 퀴녹살린-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 에틸, 벤질, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자는 둘 다 R41b에 의해 치환되고, 1,3,4-티아디아졸-2-일렌의 경우에 가능한 추가의 치환기는 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, N-메틸,N-시아노에틸아미노, 비스(시아노에틸)아미노, N-메틸-N-페닐아미노, 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노이거나, 또는
D는 X41-R41b 및 X42 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2H-피란-2-일렌, 4H-피란-4-일렌, 2H-티오피란-2-일렌, 4H-티오피란-4-일렌을 나타내고, 이는 기 페닐, 톨릴 또는 아니실로부터의 2개의 모이어티에 의해 치환된다.
Y42가 하기 화학식 Va 또는 Vb의 모이어티를 나타내고,
<화학식 Va>
Figure 112013040113401-pct00078
<화학식 Vb>
Figure 112013040113401-pct00079
R41, R41a 및 R41b가 서로 독립적으로 메틸, 에틸 또는 벤질을 나타내고,
R42 및 R42a가 서로 독립적으로 수소, 메틸 또는 페닐을 나타내고,
R43 및 R43a가 수소를 나타내고,
n 및 o가 서로 독립적으로 1을 나타내고,
Y42가 화학식 Va의 모이어티를 나타내는 경우에 Y41이 CR44 또는 =CR45a-CR46=CR45b-를 나타내거나, 또는
Y42가 화학식 Vb의 모이어티를 나타내는 경우에 Y41이 CR44를 나타내고,
Y43이 CH를 나타내고,
R44, R45a, R45b 및 R46이 수소를 나타내고,
D가 X41 및 X42 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌 또는 3-H-인돌-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자는 둘 다 R41b에 의해 치환되거나, 또는
D가 X41-R41b 및 X42 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2H-피란-2-일렌, 4H-피란-4-일렌, 2H-티오피란-2-일렌, 4H-티오피란-4-일렌을 나타내고, 이는 2개의 페닐 모이어티에 의해 치환되는 것인
화학식 V의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한, R41과 R41a, R42와 R42a, R43과 R43a의 쌍 및 또한 n과 o가 각각의 경우에 동일한 의미를 갖는 것인 화학식 V의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한, 하기 화학식 VI의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 VI>
Figure 112013040113401-pct00080
상기 식에서,
Y52는 하기 화학식 VIa, VIb 또는 VIc의 모이어티를 나타내고,
<화학식 VIa>
Figure 112013040113401-pct00081
<화학식 VIb>
Figure 112013040113401-pct00082
<화학식 VIc>
Figure 112013040113401-pct00083
R51, R51a, R51b 및 R51c는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고,
R52 및 R52a는 서로 독립적으로 시클로헥실, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R53 및 R53a는 서로 독립적으로 메틸, 시아노, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐을 나타내고,
R53d는 메틸, 에틸, 시클로헥실, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R53b는 수소, 메틸, 메톡시 또는 염소를 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R53b는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내고,
m은 0 내지 2의 정수를 나타내고,
Y52가 화학식 VIa 또는 VIc의 모이어티를 나타내는 경우에 Y51은 CR54 또는 =CR55a-CR56=CR55b-를 나타내거나, 또는
Y52가 화학식 VIb의 모이어티를 나타내는 경우에 Y51은 CR54를 나타내고,
Y53은 CH를 나타내거나, 또는
Y51 및 Y53은 둘 다 N을 나타내고,
R54, R55a, R55b 및 R56은 수소를 나타내고,
E는 X51 및 X52 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피리딘-2- 또는 -4-일렌, 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 1,3-티아졸린-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 1,3,4-티아디아졸-2-일렌, 1,3-옥사졸린-2-일렌, 벤족사졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌, 1,3,4-트리아졸-2-일렌, 3-H-인돌-2-일렌 또는 퀴녹살린-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 에틸, 벤질, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자는 둘 다 R51c에 의해 치환되고, 1,3,4-티아디아졸-2-일렌의 경우에 가능한 추가의 치환기는 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, N-메틸,N-시아노에틸아미노, 비스(시아노에틸)아미노, N-메틸-N-페닐아미노, 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노이거나, 또는
E는 X51-R51c 및 X52 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2H-피란-2-일렌, 4H-피란-4-일렌, 2H-티오피란-2-일렌, 4H-티오피란-4-일렌을 나타내고, 이는 기 페닐, 톨릴 또는 아니실로부터의 2개의 모이어티에 의해 치환된다.
쌍 R51과 R51a, R52와 R52a 및 또한 R53과 R53a가 각각의 경우에 동일한 의미를 갖는 것인
화학식 VI의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
Y52가 하기 화학식 VIa, VIb 또는 VIc의 모이어티를 나타내고,
<화학식 VIa>
Figure 112013040113401-pct00084
<화학식 VIb>
Figure 112013040113401-pct00085
<화학식 VIc>
Figure 112013040113401-pct00086
R51, R51a, R51b 및 R51c가 서로 독립적으로 메틸, 에틸 또는 벤질을 나타내고,
R52 및 R52a가 서로 독립적으로 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R53 및 R53a가 서로 독립적으로 메틸 또는 메톡시카르보닐을 나타내고,
R53d가 메틸 또는 페닐을 나타내고,
R53b가 수소를 나타내고,
m이 1을 나타내고,
Y52가 화학식 VIa 또는 VIc의 모이어티를 나타내는 경우에 Y51이 CR54 또는 =CR55a-CR56=CR55b-를 나타내거나, 또는
Y52가 화학식 VIb의 모이어티를 나타내는 경우에 Y51이 CR54를 나타내고,
Y53이 CH를 나타내고,
R54, R55a, R55b 및 R56이 수소를 나타내고,
E가 X51 및 X52 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌 또는 3-H-인돌-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자는 둘 다 R41b에 의해 치환되거나, 또는
E가 X51-R51c 및 X52 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2H-피란-2-일렌, 4H-피란-4-일렌, 2H-티오피란-2-일렌, 4H-티오피란-4-일렌을 나타내고, 이는 2개의 페닐 모이어티에 의해 치환되는 것인
화학식 VI의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한, 하기 화학식 VII의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 VII>
Figure 112013040113401-pct00087
상기 식에서,
Y62는 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
<화학식 VIIa>
Figure 112013040113401-pct00088
<화학식 VIIb>
Figure 112013040113401-pct00089
또는
<화학식 VIIc>
Figure 112013040113401-pct00090
X61 및 X61a는 서로 독립적으로 O 또는 S를 나타내고,
X62 및 X62a는 서로 독립적으로 CR66 또는 N을 나타내고,
R63 및 R63a는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 2-프로필, tert-부틸, 염소, 페닐, 톨릴, 아니실, 클로로페닐 또는 NR64R65를 나타내고,
R61, R61a, R62, R62a, R64 및 R65는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내거나, 또는
NR61R62 및 NR64R65는 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내고,
Y61은 =CR67- 또는 N을 나타내고,
R67은 수소 또는 화학식 VIIa의 모이어티를 나타내고,
G는 X63 및 X64 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피리딘-2- 또는 -4-일렌, 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 1,3-티아졸린-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 1,3-옥사졸린-2-일렌, 벤족사졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌, 3-H-인돌-2-일렌 또는 퀴녹살린-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 에틸, 벤질, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자는 둘 다 R68에 의해 치환되고,
R68은 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고,
X65는 N 또는 C-R67을 나타내고,
R66 및 R67은 서로 독립적으로 수소 또는 시아노를 나타내고,
R72 및 R73은 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R72는 추가로 수소를 나타낼 수 있거나, 또는
NR72R73은 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내고,
R74a는 수소를 나타내고,
R74는 수소, 메틸, 메톡시 또는 염소를 나타내거나, 또는
R74; R73은 -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2-O- 가교를 형성하고, 여기서 3개 이하의 수소 원자는 메틸 기에 의해 대체될 수 있고,
R75는 수소, 염소, 메틸, 메톡시, 아세트아미노, 프로피오닐아미노 또는 메탄술포닐아미노를 나타낸다.
Y62가 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
<화학식 VIIa>
Figure 112013040113401-pct00091
<화학식 VIIb>
Figure 112013040113401-pct00092
또는
<화학식 VIIc>
Figure 112013040113401-pct00093
X61 및 X61a가 서로 독립적으로 S를 나타내고,
X62 및 X62a가 서로 독립적으로 CR66 또는 N을 나타내고,
R63 및 R63a가 서로 독립적으로 수소, 메틸, 페닐 또는 NR64R65를 나타내고,
R61, R61a, R62, R62a, R64 및 R65가 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 시아노에틸, 벤질 또는 페닐을 나타내거나, 또는
NR61R62 및 NR64R65가 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노를 나타내고,
Y61이 =CR67-을 나타내고,
R67이 수소 또는 화학식 VIIa의 모이어티를 나타내고,
G가 X63 및 X64 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌 또는 3-H-인돌-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자가 둘 다 R41b에 의해 치환되고,
R68이 메틸, 에틸 또는 벤질을 나타내고,
X65가 C-R67을 나타내고,
R66 및 R67이 수소를 나타내고,
R72 및 R73이 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 벤질 또는 페닐을 나타내거나, 또는
NR72R73이 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노를 나타내고,
R74 및 R74a가 수소를 나타내고,
R75가 수소 또는 메틸을 나타내는 것인
화학식 VII의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한, X61과 X61a, X62와 X62a, R61과 R61a, R62와 R62a, R63과 R63a가 각각의 경우에 쌍으로 동일한 것인 화학식 VII의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한, 하기 화학식 VIII의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 VIII>
Figure 112013040113401-pct00094
상기 식에서,
R81 및 R82는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R83 및 R84는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐을 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R83 또는 R84는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내거나, 또는
R83; R81 및/또는 R84; R82는 -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2-O- 가교를 형성하고, 여기서 3개 이하의 수소 원자는 메틸 기에 의해 대체될 수 있고,
q 및 r은 서로 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타낸다.
R81 및 R82가 서로 독립적으로 메틸 또는 에틸을 나타내고,
R83 및 R84가 서로 독립적으로 수소, 메틸, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐을 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R83 또는 R84가 -CH=CH-CH=CH-를 나타내거나, 또는
R83; R81 및/또는 R84; R82가 -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2- 가교를 형성하고,
q 및 r이 1을 나타내는 것인
화학식 VIII의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한,
쌍 R81과 R82, R83과 R84 및 또한 q와 r이 동일한 것인
화학식 VIII의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다
또한, 하기 화학식 IX의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 IX>
Figure 112013040113401-pct00095
상기 식에서,
Y91은 하기 화학식 IXa 또는 IXb의 모이어티를 나타내고,
<화학식 IXa>
Figure 112013040113401-pct00096
<화학식 IXb>
Figure 112013040113401-pct00097
R91은 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 시아노에틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고,
R92 및 R93은 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실, 4-에톡시페닐 또는 클로로페닐을 나타내거나, 또는
NR92R93은 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내고,
R94a는 수소를 나타내고,
R94는 수소, 메틸, 메톡시 또는 염소를 나타내거나, 또는
R94; R93은 -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2- 가교를 형성하고, 여기서 3개 이하의 수소 원자는 메틸 기에 의해 대체될 수 있고,
R95는 수소, 염소, 메틸, 메톡시, 아세트아미노, 프로피오닐아미노 또는 메탄술포닐아미노를 나타내고,
R96은 수소 또는 브로민을 나타내고,
R97은 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고,
R98은 수소, 메틸, 에틸, 시클로헥실, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R99는 수소, 메틸, 메톡시 또는 염소를 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R99는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내고,
l은 0 내지 2의 정수를 나타내고,
j는 0 또는 1을 나타낸다.
R91이 메틸 또는 에틸을 나타내고,
R92 및 R93이 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 클로로에틸, 시아노에틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 4-에톡시페닐을 나타내거나, 또는
NR92R93이 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노를 나타내고,
R94 및 R94a가 수소를 나타내거나, 또는
R94; R93이 -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2- 가교를 형성하고, 여기서 3개 이하의 수소 원자는 메틸 기에 의해 대체될 수 있고,
R95가 수소 또는 메틸을 나타내고,
R96이 수소 또는 브로민을 나타내고,
R97이 메틸, 에틸 또는 벤질을 나타내고,
R98이 수소, 메틸 또는 페닐을 나타내고,
R99가 수소를 나타내고,
l이 1을 나타내고,
j가 0 또는 1을 나타내는 것인
화학식 IX의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
또한, 하기 화학식 X의 양이온성 염료가 매우 특히 바람직하다.
<화학식 X>
Figure 112013040113401-pct00098
상기 식에서,
Y101은 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
<화학식 Xa>
Figure 112013040113401-pct00099
<화학식 Xb>
Figure 112013040113401-pct00100
또는
<화학식 Xc>
Figure 112013040113401-pct00101
X101은 O 또는 S를 나타내고,
X102는 CR107 또는 N을 나타내고,
R103은 수소, 메틸, 2-프로필, tert-부틸, 염소, 페닐, 톨릴, 아니실, 클로로페닐 또는 NR101aR102a를 나타내고,
R101, R102, R101a, R102a, R105 및 R106은 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내거나, 또는
NR101R102 및/또는 NR101aR102a 및/또는 NR105R106은 피롤리디노, 모르폴리노, 피페라지노 또는 피페리디노를 나타내고,
R107은 수소 또는 시아노를 나타내고,
H는 X103 및 X104 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피리딘-2- 또는 -4-일렌, 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 1,3-티아졸린-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 1,3-옥사졸린-2-일렌, 벤족사졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌, 3-H-인돌-2-일렌 또는 퀴녹살린-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 에틸, 벤질, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자는 둘 다 R104에 의해 치환되고,
R104 및 R114는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고,
Y102는 CH를 나타내고,
Y105는 N 또는 CH를 나타내고,
Y103은 CN을 나타내고,
Y104는 하기 화학식의 양이온성 모이어티를 나타내거나,
Figure 112013040113401-pct00102
또는
CY103Y104는 함께 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
Figure 112013040113401-pct00103
여기서, 별표 (*)는 이중 결합이 발생하는 고리 원자를 나타내고,
R112는 수소, 메틸, 에틸, 시아노에틸, 벤질 또는 페닐을 나타내고,
R113은 메틸, 시아노, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐을 나타내고,
J, K 및 L는 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
Figure 112013040113401-pct00104
M은 하기 화학식의 모이어티를 나타낸다.
Figure 112013040113401-pct00105
Y101이 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
<화학식 Xa>
Figure 112013040113401-pct00106
<화학식 Xb>
Figure 112013040113401-pct00107
또는
<화학식 Xc>
Figure 112013040113401-pct00108
X101이 S를 나타내고,
X102가 CR107 또는 N을 나타내고,
R103이 수소, 메틸, 페닐 또는 NR101aR102a를 나타내고,
R101, R102, R101a, R102a, R105 및 R106이 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 시아노에틸, 벤질 또는 페닐을 나타내거나, 또는
NR101R102 및/또는 NR101aR102a 및/또는 NR105R106이 피롤리디노, 모르폴리노 또는 피페라지노를 나타내고,
R107이 수소 또는 시아노를 나타내고,
H가 X103 및 X104 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌 또는 3-H-인돌-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자는 둘 다 R104에 의해 치환되고,
R104 및 R114가 서로 독립적으로 메틸, 에틸 또는 벤질을 나타내고,
Y102가 CH를 나타내고,
Y105가 CH를 나타내고,
Y103이 CN을 나타내고,
Y104가 하기 화학식의 양이온성 모이어티를 나타내거나,
Figure 112013040113401-pct00109
또는
CY103Y104가 함께 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
Figure 112013040113401-pct00110
여기서, 별표 (*)가 이중 결합이 발생하는 고리 원자를 나타내고,
R112가 메틸, 에틸, 시아노에틸 또는 벤질을 나타내고,
R113이 메틸, 시아노 또는 메톡시카르보닐을 나타내고,
J, K 및 L이 하기 화학식의 모이어티를 나타내고,
Figure 112013040113401-pct00111
M이 하기 화학식의 모이어티를 나타는 것인
Figure 112013040113401-pct00112
화학식 X의 양이온성 염료가 탁월하게 바람직하다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LI의 4-(sec-알킬)벤젠술포네이트를 나타내고,
<화학식 LI>
Figure 112013040113401-pct00113
a 및 b는 서로 독립적으로 0 내지 20의 정수를 나타내며, 단, a + b는 ≥ 3이다.
a + b는 바람직하게는 ≥ 5, 보다 바람직하게는 ≥ 7, 보다 더 바람직하게는 ≥ 9이다.
화학식 LI는 또한 a + b가 상기와 동일한 경우에 다양한 값의 a 및 b를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다. 그러나, 화학식 LI는 또한 상이한 값의 a 및 b를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다.
화학식 LI의 음이온의 예는
Figure 112013040113401-pct00114
및 또한 모든 5가지 가능한 이성질체의 혼합물이다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LII의 sec-알킬술포네이트를 나타내고,
<화학식 LII>
Figure 112013040113401-pct00115
c 및 d는 서로 독립적으로 0 내지 20의 정수를 나타내며, 단, c + d는 ≥ 5이다.
c + d는 바람직하게는 ≥ 7, 보다 바람직하게는 ≥ 9, 보다 더 바람직하게는 ≥ 11이다.
화학식 LII는 또한 c + d가 상기와 동일한 경우에 다양한 값의 c 및 d를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다. 그러나, 화학식 LII는 또한 상이한 값의 c 및 d를 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다.
화학식 LII의 음이온의 예는
Figure 112013040113401-pct00116
및 또한 모든 가능한 이성질체의 혼합물로서 존재한다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LIII의 분지형 알킬 술페이트를 나타내고,
<화학식 LIII>
Figure 112013040113401-pct00117
e는 0 내지 5의 정수를 나타내고,
f 및 g는 서로 독립적으로 0 내지 15의 정수를 나타내며, 단, e + f + g는 ≥ 5이고,
CH2 기는 추가의 메틸 또는 에틸 기에 의해 추가로 치환될 수 있다.
e + f + g는 바람직하게는 ≥ 7, 보다 바람직하게는 ≥ 9, 보다 더 바람직하게는 ≥ 11이다.
e는 바람직하게는 0 또는 1을 나타낸다.
바람직하게는 2개의 CH2 기는 메틸 및/또는 에틸 치환된다.
화학식 LIII은 또한 e + f + g가 동일한 경우에 다양한 값의 e, f 및 g을 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다. 그러나, 화학식 LIII은 또한 상이한 값의 e, f 및 g을 갖는 음이온의 혼합물을 포함한다.
화학식 LIII의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00118
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LIV의 시클릭 인산 에스테르를 나타내고,
<화학식 LIV>
Figure 112013040113401-pct00119
R200은 수소 또는 할로겐을 나타내고,
h는 1 내지 4의 정수를 나타낸다.
바람직하게는 R200은 염소 또는 브로민을 나타내고, h는 4를 나타낸다.
화학식 LIV의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00120
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 III 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LV의 알킬 술페이트를 나타내고,
<화학식 LV>
Figure 112013040113401-pct00121
i는 8 내지 25의 정수를 나타낸다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 및 II에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LV의 알킬 술페이트를 나타내고,
<화학식 LV>
Figure 112013040113401-pct00122
i는 12 내지 25의 정수를 나타내거나, 또는
F+가 화학식 I을 나타내고, X2가 N을 나타내고, X1이 O 또는 S를 나타내고, R1 내지 R4가 동일하고, 메틸 또는 에틸을 나타내는 경우에, 또는
F+가 화학식 II를 나타내고, NR11R12, NR13R14 및 R18R19가 동일하고 디메틸아미노를 나타내는 경우에
i는 18 내지 25의 정수를 나타내고,
모든 다른 모이어티는 나타낸 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖는다.
바람직하게는 i는 18 내지 25의 정수를 나타낸다.
화학식 LV의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00123
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LVI의 술포숙시네이트를 나타내고,
<화학식 LVI>
Figure 112013040113401-pct00124
R201 및 R202는 서로 독립적으로 비분지형 C4- 내지 C16-알킬 모이어티를 나타낸다.
바람직하게는 R201 및 R202는 동일한 것이다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LVI의 술포숙시네이트를 나타내고,
<화학식 LVI>
Figure 112013040113401-pct00125
R201 및 R202는 서로 독립적으로 4개 이상의 플루오린 원자에 의해 치환된 C2- 내지 C12-알킬 모이어티, C5- 내지 C7-시클로알킬 모이어티 또는 C7- 내지 C10-아르알킬 모이어티를 나타낸다.
바람직하게는 R201 및 R202는 동일한 것이다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I (여기서, X2 = C-R5임), 및 III, VI 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LVI의 술포숙시네이트를 나타내고,
<화학식 LVI>
Figure 112013040113401-pct00126
R201 및 R202는 서로 독립적으로 분지형일 수 있는 C4- 내지 C16-알킬 모이어티, 4개 이상의 플루오린 원자에 의해 치환된 분지형 C2- 내지 C12-알킬 모이어티, C5- 내지 C7-시클로알킬 모이어티 또는 C7- 내지 C10-아르알킬 모이어티를 나타낸다.
바람직하게는 R201 및 R202는 동일한 것이다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I (여기서, X2 = N임) 및 II를 나타내고, 여기서
X1은 O, S, N-R6 또는 CR6aR6b를 나타내고,
R6은 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 시클로헥실, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R6a 및 R6b는 동일한 것이고, 메틸, 에틸, 또는 연결되어 -CH2-CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-CH2- 가교를 나타내고,
R1 내지 R4는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내지만, X1가 S를 나타내는 경우에 R1 내지 R4 중 적어도 1개는 메틸을 나타내지 않거나, 또는 X1이 O를 나타내는 경우에 NR1R2는 디에틸아미노를 나타내지 않고,
NR1R2 및 NR3R4는 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내고,
R9, R9a, R9b, R10, R10a 및 R10b는 수소를 나타내거나, 또는 각각의 경우에 R9, R9a, R9b 중 1개 및/또는 R10, R10a 및 R10b 중 1개는 메틸을 나타내거나, 또는
R1; R9, R2; R9a, R3; R10 및 R4; R10a는 서로 독립적으로 -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2- 가교를 형성하고,
R15는 수소, 염소, 메틸, 메톡시 또는 NR18R19를 나타내고,
R11 내지 R14, R18 및 R19는 서로 독립적으로 수소, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R13, R14, R18 및 R19는 추가로 메틸을 나타낼 수 있거나, 또는
NR11R12, NR13R14 및 NR18R19는 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내거나, 또는
R12; R17b, R13; R17c 및 R18; R17a는 서로 독립적으로 -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2-O- 가교를 형성하고, 여기서 3개 이하의 수소 원자는 메틸 기에 의해 대체될 수 있고,
R16은 수소, 염소, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐을 나타내고,
R16a는 수소를 나타내고,
R17a, R17b 및 R17c는 서로 독립적으로 수소 또는 메틸을 나타내고,
An-는 하기 화학식 LVI의 술포숙시네이트를 나타내고,
<화학식 LVI>
Figure 112013040113401-pct00127
R201 및 R202는 서로 독립적으로 분지형일 수 있는 C4- 내지 C16-알킬 모이어티, 4개 이상의 플루오린 원자에 의해 치환된 C2- 내지 C12-알킬 모이어티, C5- 내지 C7-시클로알킬 모이어티 또는 C7- 내지 C10-아르알킬 모이어티를 나타낸다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 II를 나타내고,
R15는 수소, 염소, 메틸, 메톡시 또는 NR18R19를 나타내고,
R11 내지 R14, R18, R19 및 R20은 서로 독립적으로 수소, 에틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 시아노에틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내거나, 또는
NR11R12, NR13R14 및 NR18R19는 서로 독립적으로 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내거나, 또는
R12; R17b, R13; R17c 및 R18; R17a는 서로 독립적으로 -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2-O- 가교를 형성하고, 이는 3개 이하의 메틸 기를 보유할 수 있고,
R16은 수소, 염소, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐을 나타내고,
R16a는 수소를 나타내고,
R17a, R17b 및 R17c는 서로 독립적으로 수소 또는 메틸을 나타내고,
An-는 하기 화학식 LVI의 술포숙시네이트를 나타내고,
<화학식 LVI>
Figure 112013040113401-pct00128
R201 및 R202는 서로 독립적으로 분지형일 수 있는 C4- 내지 C16-알킬 모이어티, 4개 이상의 플루오린 원자에 의해 치환된 C2- 내지 C12-알킬 모이어티, C5- 내지 C7-시클로알킬 모이어티 또는 C7- 내지 C10-아르알킬 모이어티를 나타낸다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 IV 및 V를 나타내고, 여기서
C는 X31 및 X32 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2- 또는 4-피리딜, 2- 또는 4-퀴놀릴, 1,3-티아졸-2-일, 1,3-티아졸린-2-일, 벤조티아졸-2-일, 1,3-옥사졸린-2-일, 벤족사졸-2-일, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일, 벤즈이미다졸-2-일, 피롤린-2-일, 3H-인돌-2-일 또는 퀴녹살린-2-일을 나타내고, 이는 각각 메틸, 에틸, 벤질, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일, 이미다졸린-2-일 및 벤즈이미다졸-2-일의 경우에 질소 원자는 둘 다 R31에 의해 치환되거나, 또는
C는 X31-R31 및 X32 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피릴륨-2- 또는 -4-일, 티오피릴륨-2- 또는 -4-일을 나타내고, 이는 기 페닐, 톨릴 또는 아니실로부터의 2개의 모이어티에 의해 치환되고,
R31은 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고,
R32 및 R33은 서로 독립적으로 메틸, 프로필, 부틸, 클로로에틸, 시아노메틸, 메톡시에틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 벤질, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R32는 추가로 수소 또는 에틸을 나타낼 수 있거나, 또는
NR32R33은 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노 또는 N-메틸피페라지노를 나타내고,
R34는 수소, 염소, 메틸 또는 메톡시를 나타내거나, 또는
R34는 R32와 조합되어 -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2-O- 가교를 형성하고, 여기서 3개 이하의 수소 원자는 메틸 기에 의해 대체될 수 있고,
R35는 수소, 염소, 메틸, 메톡시, 아세트아미노, 프로피오닐아미노 또는 메탄술포닐아미노를 나타내고,
R36은 수소 또는 시아노를 나타내고,
Y42는 하기 화학식 Va 또는 Vb의 모이어티를 나타내고,
<화학식 Va>
Figure 112013040113401-pct00129
<화학식 Vb>
Figure 112013040113401-pct00130
R41, R41a 및 R41b는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질 또는 페네틸을 나타내고, R41 및 R41a는 추가로 수소를 나타낼 수 있고,
R42 및 R42a는 서로 독립적으로 수소, 에틸, 시클로헥실, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R43 및 R43a는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 메톡시 또는 염소를 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R43 또는 R43a는 -CH=CH-CH=CH-를 나타내고,
n 및 o는 서로 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타내고,
Y42가 화학식 Va의 모이어티를 나타내는 경우에 Y41은 CR44 또는 =CR45a-CR46=CR45b-를 나타내거나, 또는
Y42가 화학식 Vb의 모이어티를 나타내는 경우에 Y41은 CR44를 나타내고,
Y43은 CH를 나타내거나, 또는
Y41 및 Y43은 둘 다 N을 나타내고,
R44, R45a, R45b 및 R46은 수소를 나타내고,
D는 X41 및 X42 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 피리딘-2- 또는 -4-일렌, 퀴놀린-2- 또는 -4-일렌, 1,3-티아졸-2-일렌, 1,3-티아졸린-2-일렌, 벤조티아졸-2-일렌, 1,3,4-티아디아졸-2-일렌, 1,3-옥사졸린-2-일렌, 벤족사졸-2-일렌, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌, 벤즈이미다졸-2-일렌, 피롤린-2-일렌, 1,3,4-트리아졸-2-일렌, 3-H-인돌-2-일렌 또는 퀴녹살린-2-일렌을 나타내고, 이는 각각 메틸, 에틸, 벤질, 메톡시, 염소, 시아노, 니트로 또는 메톡시카르보닐에 의해 치환될 수 있는 한편, 이미다졸-2-일렌, 이미다졸린-2-일렌 및 벤즈이미다졸-2-일렌의 경우에 질소 원자는 둘 다 R41b에 의해 치환되고, 1,3,4-티아디아졸-2-일렌의 경우에 가능한 추가의 치환기는 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, N-메틸,N-시아노에틸아미노, 비스(시아노에틸)아미노, N-메틸-N-페닐아미노, 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노이거나, 또는
D는 X41-R41b 및 X42 및 이들이 연결되어 있는 원자와 함께 2H-피란-2-일렌, 4H-피란-4-일렌, 2H-티오피란-2-일렌, 4H-티오피란-4-일렌을 나타내고, 이는 기 페닐, 톨릴 또는 아니실로부터의 2개의 모이어티에 의해 치환되고,
An-는 하기 화학식 LVI의 술포숙시네이트를 나타내고,
<화학식 LVI>
Figure 112013040113401-pct00131
R201 및 R202는 서로 독립적으로 분지형일 수 있는 C4- 내지 C16-알킬 모이어티, 4개 이상의 플루오린 원자에 의해 치환된 C2- 내지 C12-알킬 모이어티, C5- 내지 C7-시클로알킬 모이어티 또는 C7- 내지 C10-아르알킬 모이어티를 나타낸다.
R201 및 R202는 분지형일 수 있는 C6- 내지 C12-알킬 모이어티를 나타내거나, 또는 시클로헥실 또는 벤질을 나타내는 것이 특히 바람직하다. R201 및 R202가 n-헥실, n-옥틸 또는 2-에틸헥실을 나타내는 것이 매우 특히 바람직하다. 또한, R201 및 R202가 2,2,3,3-테트라플루오로프로필, 1H,1H-헵타플루오로부틸, 퍼플루오로옥틸, 1H,1H,7H-도데카플루오로헵틸, 1H,1H,2H,2H-트리데카플루오로옥틸을 나타내는 것이 매우 특히 바람직하다.
화학식 LVI의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00132
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LVII의 에스테르 술포네이트를 나타내고,
<화학식 LVII>
Figure 112013040113401-pct00133
R203은 C2- 내지 C22-알킬 또는 알케닐 모이어티를 나타내고, 이는 분지되거나 또는 치환될 수 있고,
u는 2 내지 4의 정수를 나타낸다.
화학식 LVII의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00134
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LVIII의 에스테르 술포네이트 또는 에스테르 술페이트를 나타내고,
<화학식 LVIII>
Figure 112013040113401-pct00135
v는 0 또는 1을 나타내고,
R204는 분지되고/거나 치환될 수 있는 C1- 내지 C18-알킬을 나타내고,
R205는 수소 또는 C1- 내지 C8-알킬을 나타내고,
Y201은 직접 결합, 지방족 C1 내지 C22 가교 또는 올레핀계 C2 내지 C22 가교를 나타내고,
여기서 Y201 및 R204는 함께 7개 이상의 탄소 원자를 갖는다.
본 발명은 또한 화학식 F+An-의 염료를 제공하며,
여기서
F+는 화학식 I 내지 X에 대해 나타낸 상기 언급된 일반적인 또는 바람직한 의미, 특히 일반적인 내지 탁월하게 바람직한 의미를 갖고,
An-는 하기 화학식 LX의 플루오린화 알킬 술페이트를 나타내고,
<화학식 LX>
Figure 112013040113401-pct00136
상기 식에서,
R209는 4개 이상의 플루오린 원자를 보유하는 C4- 내지 C18-알킬 모이어티를 나타낸다.
화학식 LX의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00137
화학식 LVIII의 음이온의 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00138
본 발명은 추가로 본 발명에 따른 화학식 F+An-의 염료의 용액을 제공한다.
에스테르 및 케톤 및 또한 그의 혼합물 중의 이러한 용액이 바람직하다. 적합한 에스테르는 포름산, 아세트산 및 프로피온산의 에틸, 프로필 및 부틸 에스테르이다. 프로필은 1-프로필 및 2-프로필을 의미하는 것으로 이해되고, 부틸은 1-부틸, 2-부틸 및 또한 2-메틸-1-프로필을 의미하는 것으로 이해된다. 바람직한 에스테르는 에틸 아세테이트 및 1-부틸 아세테이트이다. 적합한 케톤은 아세톤, 부타논 및 펜타논이다. 부타논은 바람직한 케톤이다. 바람직한 혼합물은 에틸 아세테이트 및/또는 1-부틸 아세테이트 및/또는 부타논으로 이루어진다. 이러한 혼합물의 부타논 분율은 바람직하게는 ≤ 50%, 보다 바람직하게는 ≤ 20%이다.
본 발명에 따른 염료의 이러한 용액 중의 농도는 1 중량% 내지 50 중량% 범위, 바람직하게는 5 중량% 내지 40 중량% 범위, 보다 바람직하게는 10 중량% 내지 30 중량% 범위이다.
수분 함량 <0.3%, 보다 바람직하게는 <0.2%, 보다 더 바람직하게는 <0.1%를 갖는 이러한 용액이 바람직하다.
본 발명은 추가로 화학식 I의 염료가 현탁액으로부터 단리되는 것을 특징으로 하는, 그의 제조 방법을 제공한다.
이 방법에서, 화학식 F+An'-의 염료 (여기서, F+는 상기 정의된 바와 같고, An'-는 염료의 합성 또는 단리로부터 생성되는 음이온을 나타냄)는 적합한 용매 또는 용매 혼합물 중에 용해 또는 현탁된다. 본 발명에 따른 음이온의 염 M+An- (여기서, M+는 양이온 또는 1 당량의 양이온을 나타내고, An-는 상기 언급된 음이온의 의미를 가짐)는 또한 용매 또는 용매 혼합물 중에 용해되어 있으며, 염료 및 염을 위한 용매가 동일한 것일 필요는 없지만, 혼화성이어야 한다. 이어서, 염 M+An-의 이러한 용액을 실온 또는 승온에서 염료 F+An'-의 용액 또는 현탁액에 첨가하여, 본 발명에 따른 화학식 F+An-의 염료를 침전시킨다. 이것을 여과하고, 세척하고, 필요한 경우에 용매로 연화처리할 수 있으며, 여기서 이것은 만일 가용성이라 해도 단지 최소로만 가용성이거나 또는 이러한 용매로부터 재결정화된다. 이로써 화학식 F+An-의 염료 (여기서, F+ 및 An-는 상기 언급된 의미를 가짐)가 제공된다.
음이온 An'-의 예는 클로라이드, 브로마이드, 술페이트, 히드로겐술페이트, 니트레이트, 메토술페이트이다.
양이온 M+의 예는 Na+, K+, NH4 +이다.
온도는 실온 내지 혼합물 비점일 수 있다. 실온 내지 50℃가 특히 바람직하다.
적합한 용매는 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 니트릴, 예컨대 아세토니트릴, 산, 예컨대 빙초산, 이중극성 용매, 예컨대 N-에틸피롤리돈, 에테르, 예컨대 테트라히드로푸란 또는 물이다.
연화처리에 적합한 용매의 예는 디에틸 에테르 및 tert-부틸 메틸 에테르이다. 재결정화에 적합한 용매의 예는 빙초산 및 아세토니트릴이다. 예를 들어 메탄올 또는 물의 첨가에 의해 침전이 개선될 수 있는 경우가 존재할 수 있다.
이 방법의 또 다른 버전은 화학식 F-OH의 무수 염기 또는 카르비놀 염기로 탈양성자화가능한 화학식 F+An'-의 염료가 형성되는 경우에 가능하다. 탈양성자화가능한 화학식 F+An'-의 염료는 화학식 F'-H+An'-의 염료 (여기서, F'-H+는 F+와 동일한 의미를 가짐)이다. 이러한 염료는 염기를 사용하여 중성 무수 염기 F'로 전환될 수 있고, 이것은 산 H+An-를 사용하여 본 발명의 염료 F'-H+An- = F+An-로 전환된다.
그 예는 다음과 같다:
Figure 112013040113401-pct00139
본 발명은 추가로 물과 수혼화성 용매의 2-상 혼합물을 사용하는 것을 특징으로 하는, 화학식 I의 염료의 제조 방법을 제공한다.
이 방법에서, 화학식 F+An'-의 염료 (여기서, F+는 상기 정의된 바와 같고, An'-는 염료의 합성 또는 단리로부터 생성되는 음이온을 나타냄)는 본 발명에 따른 음이온의 염 M+An- (여기서, M+는 양이온 또는 1 당량의 양이온이고, An-는 상기 언급된 술포숙시네이트의 의미를 가짐)와 함께 물과 수혼화성 용매의 혼합물 중에서 실온 또는 더 높은 온도에서 교반한다. 수성 상을 분리한다. 이것은 실온 또는 더 높은 온도에서 수행될 수 있다. 유리하게는, 화학식 F+An-의 염료를 함유하는 유기 상을 새로운 물과 함께 1회 이상 교반한다. 수성 상을 매회 분리한다. 유기 상을 적합하게 건조시키고, 최종적으로 증발시킨다. 필요한 경우에, 건조 잔류물을 추가적으로 용매로 연화처리할 수 있으며, 여기서 이것은 만약 가용성이라 해도 단지 최소로만 가용성이거나 또는 이러한 용매로부터 재결정화된다. 이로써 화학식 F+An-의 염료 (여기서, F+ 및 An-는 상기 언급된 의미를 가짐)가 제공된다.
음이온 An'-의 예는 클로라이드, 브로마이드, 술페이트, 히드로겐술페이트, 니트레이트, 메토술페이트이다.
양이온 M+의 예는 Na+, K+ 및 NH4 +이다.
온도는 실온 내지 혼합물의 비점일 수 있다. 실온 및 40 내지 50℃가 특히 바람직하다.
적합한 수불혼화성 용매는 할로겐화 알칸, 예컨대 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 테트라클로로에탄 및 또한 방향족, 예컨대 톨루엔 또는 클로로벤젠이다.
연화처리에 적합한 용매의 예는 디에틸 에테르 및 tert-부틸 메틸 에테르이다. 재결정화에 적합한 용매의 예는 빙초산 및 아세토니트릴이다.
본 발명은 추가로 물과 에스테르의 2-상 혼합물을 사용하는 것을 특징으로 하는, 술포숙시네이트의 제조 방법을 제공한다.
이 방법에서, 화학식 F+An'-의 염료 (여기서, F+는 상기 정의된 바와 같고, An'-는 염료의 합성 또는 단리로부터 생성되는 음이온을 나타냄)는 본 발명에 따른 음이온의 염 M+An- (여기서, M+는 양이온 또는 1 당량의 양이온이고, An-는 상기 언급된 술포숙시네이트의 의미를 가짐)와 함께 물과 에스테르의 혼합물 중에서 실온 또는 더 높은 온도에서 교반한다. 수성 상을 분리한다. 이것은 실온 또는 더 높은 온도에서 수행될 수 있다. 유리하게는, 화학식 F+An-의 염료를 함유하는 에스테르 상을 새로운 물과 함께 1회 이상 교반한다. 수성 상을 매회 분리한다. 에스테르 상을 적합하게 건조시킨다. 이로써 화학식 F+An-의 염료 (여기서, F+ 및 An- 는 상기 언급된 의미를 가짐)가 제공된다.
음이온 An'-의 예는 클로라이드, 브로마이드, 술페이트, 히드로겐술페이트, 니트레이트, 메토술페이트이다.
에스테르는 포름산, 아세트산, 프로피온산 및 부티르산의 에스테르, 바람직하게는 아세트산 및 프로피온산의 에스테르를 지칭한다.
에스테르의 예는 프로필 포르메이트, 부틸 포르메이트, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 메톡시프로필 아세테이트, 에톡시프로필 아세테이트, 메틸 프로피오네이트, 에틸 프로피오네이트, 메틸 부티레이트이다. 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트가 바람직하다.
양이온 M+의 예는 Na+, K+ 및 NH4 +이다.
온도는 실온 내지 혼합물의 비점일 수 있다. 실온 내지 50℃가 특히 바람직하다.
에스테르 상을 건조시키는 것은 연행수 및/또는 용존수를 제거하는 것으로 이해된다. 연행수는 예를 들어 적합한 막 또는 소수화된 여과지를 통한 여과에 의해 제거될 수 있다. 적합한 건조 방법은 무수 염, 예컨대 황산나트륨 또는 황산마그네슘 상에서 또는 분자체 상에서 건조시키는 것이다. 추가의 건조 방법은 공비혼합물로서의 물의 증류 제거이다. 유리하게는, 이러한 다양한 방법은 연속적으로 수행된다.
본 발명은 추가로 물의 부재 하에 에스테르를 사용하는 것을 특징으로 하는, 술포숙시네이트를 제조하는 방법을 제공한다.
이 방법에서, 화학식 F+An'-의 염료 (여기서, F+는 상기 정의된 바와 같고, An'-는 염료의 합성 또는 단리로부터 생성되는 음이온을 나타냄)는 본 발명에 따른 음이온의 염 M+An- (여기서, M+는 양이온 또는 1 당량의 양이온이고, An-는 상기 언급된 술포숙시네이트의 의미를 가짐)와 함께 에스테르 중에서 실온 또는 더 높은 온도에서 교반하고, 불용 물질을 여과한다. 이것은 추가의 건조 없이도 유용한, 화학식 F+An-의 염료 (여기서, F+ 및 An- 는 상기 언급된 의미를 가짐)의 용액을 제공한다. 그러나, 개개의 경우에 - 예를 들어 사용된 출발 물질이 완전히 물-무함유가 아닌 경우에 - 추가의 건조가 또한 필요할 수 있으며, 이것은 상기 기재된 바와 같이 수행된다.
음이온 An'-의 예는 클로라이드, 브로마이드, 술페이트, 히드로겐술페이트, 니트레이트, 메토술페이트이다.
에스테르는 상기 언급된 에스테르를 지칭한다.
바람직한 에스테르는 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트이다.
양이온 M+의 예는 Na+, K+ 및 NH4 +이다.
온도는 실온 내지 아세트산 에스테르의 비점일 수 있다. 실온 내지 60℃가 특히 바람직하다.
불용 물질은 조성 M+An'-의 염을 주로 포함한다.
본 발명은 또한 하기 화학식 Vc 및 Vd의 염료를 제공한다.
<화학식 Vc>
Figure 112013040113401-pct00140
<화학식 Vd>
Figure 112013040113401-pct00141
상기 식에서,
R49a 및 R49b는 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 시아노 또는 할로겐을 나타내고, 바람직하게는 동일한 것이고,
R41은 수소, C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬 또는 C6- 내지 C10-아릴을 나타내고,
R42는 C1- 내지 C16-알킬, C3- 내지 C6-알케닐, C5- 내지 C7-시클로알킬 또는 C7- 내지 C16-아르알킬, C6- 내지 C10-아릴 또는 헤타릴을 나타내고,
R43은 수소, C1- 내지 C4-알킬, C1- 내지 C4-알콕시, 할로겐, 시아노, 니트로 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐을 나타내거나, 또는 2개의 인접한 R43은 -CH=CH-CH=CH-를 나타내고,
n은 0 내지 2의 정수를 나타내고,
An-는 음이온, 바람직하게는 본 발명에 따른 음이온을 나타낸다.
R49a 및 R49b가 수소를 나타내고,
R41이 수소, 메틸, 에틸, 시아노에틸, 알릴 또는 벤질을 나타내고,
R42가 메틸, 에틸, 시클로헥실, 페닐, 톨릴, 아니실 또는 클로로페닐을 나타내고,
R43이 수소, 염소, 시아노, 메틸, 메톡시, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐을 나타내고,
n이 1을 나타내고,
An-가 음이온, 바람직하게는 본 발명에 따른 음이온을 나타내는 것인
화학식 Vc 및 Vd의 염료가 바람직하다.
폴리이소시아네이트 성분 a)로서, 분자 당 평균 2개 이상의 NCO 관능기를 함유하는, 그 자체로 당업자에게 공지된 임의의 화합물 또는 그의 혼합물이 사용될 수 있다. 이들은 방향족, 아르지방족, 지방족 또는 시클로지방족을 기재로 할 수 있다. 모노이소시아네이트 및/또는 불포화-함유 폴리이소시아네이트가 또한 소량으로 사용될 수 있다.
적합한 예는 부틸렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 (HDI), 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 1,8-디이소시아네이토-4-(이소시아네이토메틸)옥탄, 2,2,4- 및/또는 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이성질체 비스(4,4'-이소시아네이토시클로헥실)메탄 및 임의의 목적하는 이성질체 함량을 갖는 그의 혼합물, 이소시아네이토메틸-1,8-옥탄 디이소시아네이트, 1,4-시클로헥실렌 디이소시아네이트, 이성질체 시클로헥산디메틸렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및/또는 2,6-톨릴렌 디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌 디이소시아네이트, 2,4'- 또는 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트 및/또는 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트이다.
또한, 우레탄, 우레아, 카르보디이미드, 아실우레아, 이소시아누레이트, 알로파네이트, 뷰렛, 옥사디아진트리온, 우레트디온 및/또는 이미노옥사디아진디온 구조를 갖는 단량체 디- 또는 트리이소시아네이트의 유도체를 사용하는 것이 가능하다.
지방족 및/또는 시클로지방족 디- 또는 트리이소시아네이트 기재의 폴리이소시아네이트를 사용하는 것이 바람직하다.
성분 a)의 폴리이소시아네이트가 이량체화 또는 올리고머화된 지방족 및/또는 시클로지방족 디- 또는 트리이소시아네이트를 포함하는 것이 특히 바람직하다.
HDI 기재의 이소시아누레이트, 우레트디온 및/또는 이미노옥사디아진디온, 및 또한 1,8-디이소시아네이토-4-(이소시아네이토메틸)옥탄 또는 그의 혼합물이 특히 매우 바람직하다.
또한, 성분 a)로서 우레탄, 알로파네이트, 뷰렛 및/또는 아미드 기를 갖는 NCO-관능성 예비중합체가 유용하다. 성분 a)의 예비중합체는 널리 공지된 통상적인 방식으로 단량체 또는 올리고머 또는 폴리이소시아네이트 a1)을 촉매 및 용매의 존재 또는 부재 하에서 적합한 화학양론으로 이소시아네이트-반응성 화합물 a2)와 반응시킴으로써 수득된다.
유용한 폴리이소시아네이트 a1)은 그 자체로 당업자에게 공지된 모든 지방족, 시클로지방족, 방향족 또는 아르지방족 디- 및 트리이소시아네이트를 포함하고, 이들이 포스겐화 또는 포스겐-무함유 공정에 의해 얻어졌는지의 여부는 중요하지 않다. 또한, 우레탄, 우레아, 카르보디이미드, 아실우레아, 이소시아누레이트, 알로파네이트, 뷰렛, 옥사디아진트리온, 우레트디온 또는 이미노옥사디아진디온 구조를 갖는 단량체 디- 및/또는 트리이소시아네이트의 널리 공지된 통상적인 더욱 높은 분자량의 유래 생성물을 각각 개별적으로 또는 서로 중에서 임의의 목적하는 혼합물로 사용하는 것이 또한 가능하다.
성분 a1)로서 유용한 적합한 단량체 디- 또는 트리이소시아네이트의 예는 부틸렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 (HDI), 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트 (TMDI), 1,8-디이소시아네이토-4-(이소시아네이토메틸)옥탄, 이소시아네이토메틸-1,8-옥탄 디이소시아네이트 (TIN), 2,4- 및/또는 2,6-톨루엔 디이소시아네이트이다.
예비중합체를 구성하기 위한 이소시아네이트-반응성 화합물 a2)는 바람직하게는 OH-관능성 화합물이다. 이들은 성분 b)에 대해 하기에 기재되어 있는 OH-관능성 화합물과 유사하다.
예비중합체 제조를 위해 아민을 사용하는 것이 또한 가능하다. 예를 들어, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 프로필렌디아민, 디아미노시클로헥산, 디아미노벤젠, 디아미노비스페닐, 이관능성 폴리아민, 예컨대 예를 들어 10,000g/mol 이하의 수 평균 몰 질량을 갖는 제파민(Jeffamine)® 아민-말단 중합체, 및 그의 서로와의 임의의 목적하는 혼합물이 적합하다.
뷰렛 기를 함유하는 예비중합체의 제조의 경우, 이소시아네이트가 과량으로 아민과 반응하여 뷰렛 기를 형성한다. 상기 언급된 유형의 모든 올리고머 또는 중합체성 1급 또는 2급 이관능성 아민이, 언급된 디-, 트리- 및 폴리이소시아네이트와의 반응을 위한 이러한 경우에 아민으로서 적합하다.
바람직한 예비중합체는 지방족 이소시아네이트-관능성 화합물로부터 수득된 우레탄, 알로파네이트 또는 뷰렛, 및 200 내지 10,000g/mol의 수 평균 몰 질량을 갖는 올리고머 또는 중합체성 이소시아네이트-반응성 화합물이고; 지방족 이소시아네이트-관능성 화합물로부터 수득된 우레탄, 알로파네이트 또는 뷰렛, 및 500 내지 8500 g/mol의 수 평균 몰 질량을 갖는 올리고머 또는 중합체성 폴리올 또는 폴리아민이 특히 바람직하다. HDI 또는 TMDI로부터 형성된 알로파네이트, 및 1000 내지 8200 g/mol의 수 평균 몰 질량을 갖는 이관능성 폴리에테르폴리올이 매우 특히 바람직하다.
바람직하게는, 상기 기재된 예비중합체는 1 중량% 미만, 특히 바람직하게는 0.5 중량% 미만, 매우 특히 바람직하게는 0.2 중량% 미만의 유리 단량체 이소시아네이트의 잔류 함량을 갖는다.
기재된 예비중합체 이외에도, 폴리이소시아네이트 성분은 물론 추가의 이소시아네이트 성분을 비례적으로 함유할 수 있다. 방향족, 아르지방족, 지방족 및 시클로지방족 디-, 트리- 또는 폴리이소시아네이트가 이러한 목적에 적합하다. 이러한 디-, 트리- 또는 폴리이소시아네이트의 혼합물을 사용하는 것이 또한 가능하다. 적합한 디-, 트리- 또는 폴리이소시아네이트의 예는 부틸렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 (HDI), 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 1,8-디이소시아네이토-4-(이소시아네이토메틸)옥탄, 2,2,4- 및/또는 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트 (TMDI), 이성질체 비스(4,4'-이소시아네이토시클로헥실)메탄 및 임의의 목적하는 이성질체 함량을 갖는 그의 혼합물, 이소시아네이토메틸-1,8-옥탄 디이소시아네이트, 1,4-시클로헥실렌 디이소시아네이트, 이성질체 시클로헥산디메틸렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및/또는 2,6-톨릴렌 디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌 디이소시아네이트, 2,4'- 또는 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트, 또는 우레탄, 우레아, 카르보디이미드, 아실우레아, 이소시아누레이트, 알로파네이트, 뷰렛, 옥사디아진트리온, 우레트디온 또는 이미노옥사디아진디온 구조를 갖는 그의 유도체, 및 그의 혼합물이다. 적합한 방법에 의해 과량의 디이소시아네이트를 제거한, 올리고머화된 및/또는 유도체화된 디이소시아네이트 기재의 폴리이소시아네이트가 바람직하다. HDI의 올리고머 이소시아누레이트, 우레트디온 및 이미노옥사디아진디온, 및 그의 혼합물이 특히 바람직하다.
임의로, 폴리이소시아네이트 성분 a)가 이소시아네이트-반응성 에틸렌계 불포화 화합물과 부분적으로 반응하는 이소시아네이트를 비례적으로 함유하는 것이 또한 가능하다. α,β-불포화 카르복실산 유도체, 예컨대 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레이트, 푸마레이트, 말레이미드, 아크릴아미드, 및 비닐 에테르, 프로페닐 에테르, 알릴 에테르, 및 디시클로펜타디에닐 단위를 함유하고 이소시아네이트에 대해 반응성인 1개 이상의 기를 갖는 화합물이, 바람직하게는 여기서 이소시아네이트-반응성 에틸렌계 불포화 화합물로서 사용되고; 이들은 특히 바람직하게는 1개 이상의 이소시아네이트-반응성 기를 갖는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트이다. 적합한 히드록시-관능성 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트는 예를 들어 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리알킬렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리(ε-카프로락톤) 모노(메트)아크릴레이트, 예컨대 예를 들어 톤(Tone)® M100 (다우(Dow), 미국), 2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 3-히드록시-2,2-디메틸프로필 (메트)아크릴레이트, 다가 알콜의 히드록시-관능성 모노-, 디- 또는 테트라(메트)아크릴레이트, 예컨대 트리메틸올프로판, 글리세롤, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 에톡실화, 프로폭실화 또는 알콕실화 트리메틸올프로판, 글리세롤, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨과 같은 화합물, 또는 그의 산업용 혼합물이다. 또한, 단독의 또는 상기 언급된 단량체 화합물과 조합된 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트 기를 함유하는 이소시아네이트-반응성 올리고머 또는 중합체성 불포화 화합물이 적합하다. 이소시아네이트-반응성 에틸렌계 불포화 화합물과 부분적으로 반응하는 이소시아네이트의 비율은, 이소시아네이트 성분 a)를 기준으로, 0 내지 99%, 바람직하게는 0 내지 50%, 특히 바람직하게는 0 내지 25%, 및 매우 특히 바람직하게는 0 내지 15%이다.
상기 언급된 폴리이소시아네이트 성분 a)가, 코팅 기술의 당업자에게 공지된 블로킹제와 완전히 또는 부분적으로 반응하는 이소시아네이트를 전체적으로 또는 비례적으로 또한 함유하는 것이 가능할 수 있다. 블로킹제의 예로서, 알콜, 락탐, 옥심, 말론산 에스테르, 알킬 아세토아세테이트, 트리아졸, 페놀, 이미다졸, 피라졸 및 아민, 예컨대 예를 들어 부타논 옥심, 디이소프로필아민, 1,2,4-트리아졸, 디메틸-1,2,4-트리아졸, 이미다졸, 디에틸 말로네이트, 에틸 아세토아세테이트, 아세톤 옥심, 3,5-디메틸피라졸, ε-카프로락탐, N-tert-부틸벤질아민, 시클로펜타논 카르복시에틸 에스테르 또는 이들 블로킹제의 임의의 목적하는 혼합물이 언급될 수 있다.
폴리이소시아네이트 성분이 지방족 폴리이소시아네이트 또는 지방족 예비중합체, 바람직하게는 1급 NCO 기를 갖는 지방족 폴리이소시아네이트 또는 예비중합체인 것이 특히 바람직하다.
분자 당 평균 적어도 1.5개의 이소시아네이트-반응성 기를 갖는 모든 다관능성 이소시아네이트-반응성 화합물이 폴리올 성분 b)로서 사용될 수 있다.
본 발명의 문맥에서, 이소시아네이트-반응성 기는 바람직하게는 히드록실, 아미노 또는 티오 기이며, 히드록시 화합물이 특히 바람직하다.
적합한 다관능성 이소시아네이트-반응성 화합물은 예를 들어 폴리에스테르-, 폴리에테르-, 폴리카르보네이트-, 폴리(메트)아크릴레이트- 및/또는 폴리우레탄폴리올이다.
적합한 폴리에스테르폴리올은 예를 들어 ≥ 2의 OH 관능가를 갖는 다가 알콜과 지방족, 시클로지방족 또는 방향족 디- 또는 폴리카르복실산 또는 그의 무수물로부터 공지된 방식으로 얻어지는 것과 같은 선형 폴리에스테르디올 또는 분지형 폴리에스테르폴리올이다.
이러한 디- 또는 폴리카르복실산 또는 무수물의 예는 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 노난디카르복실산, 데칸디카르복실산, 테레프탈산, 이소프탈산, o-프탈산, 테트라히드로프탈산, 헥사히드로프탈산 또는 트리멜리트산 및 산 무수물, 예컨대 o-프탈산, 트리멜리트산 또는 숙신산 무수물 또는 그의 서로와의 임의의 목적하는 혼합물이다.
적합한 알콜의 예는 에탄디올, 디-, 트리- 및 테트라에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 디-, 트리- 및 테트라프로필렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,3-부탄디올, 2,3-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 1,4-디히드록시시클로헥산, 1,4-디메틸올시클로헥산, 1,8-옥탄디올, 1,10-데칸디올, 1,12-도데칸디올, 트리메틸올프로판, 글리세롤, 또는 그의 서로와의 임의의 목적하는 혼합물이다.
폴리에스테르폴리올은 또한 천연 원료, 예컨대 피마자 오일을 기재로 할 수 있다. 또한, 폴리에스테르폴리올이 락톤의 단독중합체 또는 공중합체를 기재로 하는 것이 가능하며, 이는 바람직하게는 락톤 또는 락톤 혼합물, 예컨대 부티로락톤, ε-카프로락톤 및/또는 메틸-ε-카프로락톤과 히드록실-관능성 화합물, 예컨대 ≥ 2의 OH 관능가를 갖는 다가 알콜, 예를 들어 상기 언급된 유형의 화합물과의 부가 반응에 의해 수득될 수 있다.
이러한 폴리에스테르폴리올은 바람직하게는 400 내지 4000 g/mol, 특히 바람직하게는 500 내지 2000 g/mol의 수 평균 몰 질량을 갖는다. 그의 OH 관능가는 바람직하게는 1.5 내지 3.5, 특히 바람직하게는 1.8 내지 3.0이다.
적합한 폴리카르보네이트폴리올은 그 자체로 공지된 방식으로 유기 카르보네이트 또는 포스겐을 디올 또는 디올 혼합물과 반응시킴으로써 수득가능하다.
적합한 유기 카르보네이트는 디메틸, 디에틸 및 디페닐 카르보네이트이다.
적합한 디올 또는 혼합물은 폴리에스테르 부분과 관련하여 언급된, ≥ 2의 OH 관능가를 갖는 다가 알콜, 바람직하게는 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올 및/또는 3-메틸펜탄디올을 포함하거나, 또는 폴리에스테르폴리올이 폴리카르보네이트폴리올로 전환될 수 있다.
이러한 폴리카르보네이트폴리올은 바람직하게는 400 내지 4000 g/mol, 특히 바람직하게는 500 내지 2000 g/mol의 수 평균 몰 질량을 갖는다. 이러한 폴리올의 OH 관능가는 바람직하게는 1.8 내지 3.2, 특히 바람직하게는 1.9 내지 3.0이다.
적합한 폴리에테르폴리올은 시클릭 에테르와 OH- 또는 NH-관능성 스타터 분자와의 다중부가물이며, 상기 다중부가물은 임의로 블록 구조를 갖는다.
적합한 시클릭 에테르는, 예를 들어 스티렌 옥시드, 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드, 테트라히드로푸란, 부틸렌 옥시드, 에피클로로히드린 및 그의 임의의 목적하는 혼합물이다.
사용될 수 있는 스타터는 폴리에스테르폴리올과 관련하여 언급된, ≥ 2의 OH 관능가를 갖는 다가 알콜, 및 1급 또는 2급 아민 및 아미노 알콜이다.
바람직한 폴리에테르폴리올은 전적으로 프로필렌 옥시드를 기재로 하는 상기 언급된 유형의 것들, 또는 추가의 1-알킬렌 옥시드를 포함하며 상기 1-알킬렌 옥시드의 비율이 80 중량% 이하인 프로필렌 옥시드 기재의 랜덤 또는 블록 공중합체이다. 프로필렌 옥시드 단독중합체, 및 옥시에틸렌, 옥시프로필렌 및/또는 옥시부틸렌 단위를 갖는 랜덤 또는 블록 공중합체가 특히 바람직하며, 여기서 옥시프로필렌 단위의 비율은 모든 옥시에틸렌, 옥시프로필렌 및 옥시부틸렌 단위의 총량을 기준으로 20 중량% 이상, 바람직하게는 45 중량% 이상을 차지한다. 여기서, 옥시프로필렌 및 옥시부틸렌은 각각의 모든 선형 및 분지형 C3- 및 C4-이성질체를 포함한다.
상기 폴리에테르폴리올은 바람직하게는 250 내지 10,000 g/mol, 특히 바람직하게는 500 내지 8500 g/mol, 및 매우 특히 바람직하게는 600 내지 4500 g/mol의 수 평균 몰 질량을 갖는다. OH 관능가는 바람직하게는 1.5 내지 4.0, 특히 바람직하게는 1.8 내지 3.1이다.
또한, 500 g/mol 미만의 분자량을 갖고 2 내지 20개의 탄소 원자를 함유하는 지방족, 아르지방족 또는 시클로지방족 이관능성, 삼관능성 또는 다관능성 알콜은 폴리올 성분 b)의 구성성분으로서의 다관능성 이소시아네이트-반응성 화합물로서 유용하다.
이들은 예를 들어 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 네오펜틸 글리콜, 2-에틸-2-부틸프로판디올, 트리메틸펜탄디올, 위치 이성질체 디에틸옥탄디올, 1,3-부틸렌 글리콜, 시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,6-헥산디올, 1,2- 및 1,4-시클로헥산디올, 수소화 비스페놀 A (2,2-비스(4-히드록시시클로헥실)프로판), (2,2-디메틸-3-히드록시프로필) 2,2-디메틸-3-히드록시프로피오네이트일 수 있다. 적합한 트리올의 예는 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판 또는 글리세롤이다. 적합한 고관능성 알콜은 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 또는 소르비톨이다.
폴리올 성분이 이관능성 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리에테르-폴리에스테르 블록 코폴리에스테르, 또는 1급 OH 관능기를 갖는 폴리에테르-폴리에스테르 블록 공중합체인 것이 특히 바람직하다.
관능가 1.8 내지 3.1을 갖고 수 평균 몰 질량 200 내지 4000 g/mol을 갖는 폴리에테르폴리올 상의 부티로락톤, e-카프로락톤 및/또는 메틸 e-카프로락톤과, HDI 기재의 이소시아누레이트, 우레트디온, 이미노옥사디아진디온 및/또는 다른 올리고머와의 부가 생성물로 이루어진 매트릭스 중합체의 제조에 있어서 성분 a) 및 b)의 조합물이 특히 바람직하다. 관능가 1.9 내지 2.2 및 수 평균 몰 질량 500 내지 2000 g/mol (특히 600 내지 1400 g/mol)을 갖는 폴리(테트라히드로푸란) 상의 e-카프로락톤과, HDI 기재의 올리고머, 이소시아누레이트 및/또는 이미노옥사디아진디온과의 부가 생성물이 매우 특히 바람직하며, 이의 수 평균 총 몰 질량이 800 내지 4500 g/mol, 특히 1000 내지 3000 g/mol이다.
사용된 광개시제는 전형적으로, 화학 방사선에 의해 활성화가능하고 상응하는 중합성 기의 중합을 촉발하는 개시제이다. 광개시제는 그 자체로 공지된 상업적으로 입수가능한 화합물이며, 이것은 단분자 (유형 I) 및 이분자 (유형 II)로 분류된다. 유형 II 광개시제는 보다 특히 양이온성 염료 및 공개시제를 포함할 수 있다. 유용한 공개시제는 예를 들어 EP-A 0223587에 기재된 바와 같은 암모늄 아릴보레이트를 포함한다. 적합한 암모늄 아릴보레이트의 예는 테트라부틸암모늄 트리페닐헥실보레이트, 테트라부틸암모늄 트리페닐부틸보레이트, 테트라부틸암모늄 트리나프틸헥실보레이트, 테트라부틸암모늄 트리스(4-tert-부틸)페닐부틸보레이트, 테트라부틸암모늄 트리스(3-플루오로페닐)헥실보레이트, 테트라메틸암모늄 트리페닐벤질보레이트, 테트라(n-헥실)암모늄 (sec-부틸)트리페닐보레이트, 1-메틸-3-옥틸이미다졸륨 디펜틸디페닐보레이트 및 테트라부틸암모늄 트리스(3-클로로-4-메틸페닐)헥실보레이트이다 (문헌 [Cunningham et al, RadTech'98 North America UV/EB Conference Proceedings, Chicago, Apr. 19-22, 1998).
이들 화합물의 혼합물을 사용하는 것은 유리할 수 있다. 경화를 위해 사용되는 방사선 공급원에 따라, 유형 및 농도는 당업자에게 공지된 방식으로 광개시제에 대해 적합화되어야 한다. 추가의 상세사항은, 예를 들어 문헌 [P.K.T. Oldring (Ed.), Chemistry & Technology of UV & EB Formulations For Coatings, Inks & Paints, Vol. 3, 1991, SITA Technology, London, pp. 61 - 328]으로부터 입수가능하다.
바람직한 광개시제는 테트라부틸암모늄 테트라헥실보레이트, 테트라부틸암모늄 트리페닐헥실보레이트, 테트라부틸암모늄 트리스(3-플루오로페닐)헥실보레이트 ([191726-69-9], CGI 7460, 바스프 에스이(BASF SE; 바젤)로부터의 제품) 및 테트라부틸암모늄 트리스(3-클로로-4-메틸페닐)헥실보레이트 ([1147315-11-4], CGI 909, 바스프 에스이 (바젤)로부터의 제품)와 본 발명에 따른 화학식 F+An-의 염료와의 혼합물이다.
추가의 한 바람직한 실시양태에서, 광중합체 배합물은 추가로 우레탄을 가소제로서 함유하며, 여기서 우레탄은 보다 특히 1개 이상의 플루오린 원자로 치환될 수 있다.
우레탄은 바람직하게는 하기 화학식 CI를 갖는다.
<화학식 CI>
Figure 112013040113401-pct00142
상기 식에서, s는 ≥1 및 ≤8이고, R300, R301, R302는 서로 독립적으로 수소, 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭 비치환 또는 다르게는 임의로 헤테로원자-치환된 유기 모이어티이고, 여기서 바람직하게는 R300, R301, R302 중 적어도 1개는 적어도 플루오린 원자로 치환되고, 보다 바람직하게는 R300은 1개 이상의 플루오린 원자를 갖는 유기 모이어티이다. R302이 예를 들어 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭 비치환된 또는 다르게는 임의로 헤테로원자, 예컨대 플루오린으로 치환된 유기 라디칼인 것이 특히 바람직하다.
추가의 한 바람직한 실시양태에서, 기록 단량체는 적어도 일관능성 및/또는 다관능성 기록 단량체를 포함하며, 이는 보다 특히 일관능성 및 다관능성 아크릴레이트 기록 단량체를 포함할 수 있다. 기록 단량체가 적어도 일관능성 및 다관능성 우레탄 (메트)아크릴레이트를 포함하는 것이 특히 바람직하다.
아크릴레이트 기록 단량체는 보다 특히 하기 화학식 CII의 화합물일 수 있다.
<화학식 CII>
Figure 112013040113401-pct00143
상기 식에서, 각각의 경우에 t는 ≥1 및 t ≤4이고, R303, R304는 서로 독립적으로 수소, 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭 비치환 또는 다르게는 임의로 헤테로원자-치환된 유기 라디칼이다. R304가 수소 또는 메틸이고/거나 R303이 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭 비치환 또는 다르게는 임의로 헤테로원자-치환된 유기 라디칼인 것이 특히 바람직하다.
유사하게, 추가의 불포화 화합물, 예컨대 α,β-불포화 카르복실산 유도체, 예컨대 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레에이트, 푸마레이트, 말레이미드, 아크릴아미드, 또한 비닐 에테르, 프로페닐 에테르, 알릴 에테르 및 디시클로펜타디에닐-함유 화합물 및 또한 올레핀계 불포화 화합물, 예컨대, 예를 들어, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 올레핀, 예를 들어 1-옥텐 및/또는 1-데센, 비닐 에스테르, (메트)아크릴로니트릴, (메트)아크릴아미드, 메타크릴산, 아크릴산을 첨가하는 것이 가능하다. 그러나, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트가 바람직하다.
일반적으로, 아크릴산 또는 메타크릴산의 에스테르는 각각 아크릴레이트 및 메타크릴레이트로 지칭된다. 사용될 수 있는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 예는 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 에톡시에틸 아크릴레이트, 에톡시에틸 메타크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, tert-부틸 아크릴레이트, tert-부틸 메타크릴레이트, 헥실 아크릴레이트, 헥실 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 부톡시에틸 아크릴레이트, 부톡시에틸 메타크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 라우릴 메타크릴레이트, 이소보르닐 아크릴레이트, 이소보르닐 메타크릴레이트, 페닐 아크릴레이트, 페닐 메타크릴레이트, p-클로로페닐 아크릴레이트, p-클로로페닐 메타크릴레이트, p-브로모페닐 아크릴레이트, p-브로모페닐 메타크릴레이트, 2,4,6-트리클로로페닐 아크릴레이트, 2,4,6-트리클로로페닐 메타크릴레이트, 2,4,6-트리브로모페닐 아크릴레이트, 2,4,6-트리브로모페닐 메타크릴레이트, 펜타클로로페닐 아크릴레이트, 펜타클로로페닐 메타크릴레이트, 펜타브로모페닐 아크릴레이트, 펜타브로모페닐 메타크릴레이트, 펜타브로모벤질 아크릴레이트, 펜타브로모벤질 메타크릴레이트, 페녹시에틸 아크릴레이트, 페녹시에틸 메타크릴레이트, 페녹시에톡시에틸 아크릴레이트, 페녹시에톡시에틸 메타크릴레이트, 페닐티오에틸 아크릴레이트, 페닐티오에틸 메타크릴레이트, 2-나프틸 아크릴레이트, 2-나프틸 메타크릴레이트, 1,4-비스(2-티오나프틸)-2-부틸 아크릴레이트, 1,4-비스(2-티오나프틸)-2-부틸 메타크릴레이트, 프로판-2,2-디일비스[(2,6-디브로모-4,1-페닐렌)옥시(2-{[3,3,3-트리스(4-클로로페닐)프로파노일]옥시}프로판-3,1-디일)옥시에탄-2,1-디일] 디아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 비스페놀 A 디메타크릴레이트, 테트라브로모비스페놀 A 디아크릴레이트, 테트라브로모비스페놀 A 디메타크릴레이트 및 그의 에톡실화 유사체 화합물 (사용될 수 있는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 선택을 단지 언급하자면 N-카르바졸릴 아크릴레이트)이다.
또한, 우레탄 아크릴레이트가 물론 사용될 수 있다. 우레탄 아크릴레이트는 1개 이상의 아크릴산 에스테르 기를 갖고 1개 이상의 우레탄 결합을 추가로 갖는 화합물을 의미하는 것으로 이해된다. 이러한 화합물은 히드록시-관능성 아크릴산 에스테르를 이소시아네이트-관능성 화합물과 반응시킴으로써 수득될 수 있는 것으로 공지되어 있다.
이와 같은 목적으로 사용될 수 있는 이소시아네이트-관능성 화합물의 예는 방향족, 아르지방족, 지방족 및 시클로지방족 디-, 트리- 또는 폴리이소시아네이트이다. 이러한 디-, 트리- 또는 폴리이소시아네이트의 혼합물을 사용하는 것이 또한 가능하다. 적합한 디-, 트리- 또는 폴리이소시아네이트의 예는 부틸렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 (HDI), 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 1,8-디이소시아네이토-4-(이소시아네이토메틸)옥탄, 2,2,4- 및/또는 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이성질체 비스(4,4'-이소시아네이토시클로헥실)메탄 및 임의의 목적하는 이성질체 함량을 갖는 그의 혼합물, 이소시아네이토메틸-1,8-옥탄 디이소시아네이트, 1,4-시클로헥실렌 디이소시아네이트, 이성질체 시클로헥산디메틸렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및/또는 2,6-톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌 디이소시아네이트, 2,4'- 또는 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌 디이소시아네이트, m-메틸티오페닐 이소시아네이트, 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트 및 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트, 또는 우레탄, 우레아, 카르보디이미드, 아실우레아, 이소시아누레이트, 알로파네이트, 뷰렛, 옥사디아진트리온, 우레트디온 또는 이미노옥사디아진디온 구조를 갖는 그의 유도체, 및 그의 혼합물이다. 방향족 또는 아르지방족 디-, 트리- 또는 폴리이소시아네이트가 바람직하다.
우레탄 아크릴레이트의 제조에 적합한 히드록시-관능성 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트는 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리알킬렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리(ε-카프로락톤) 모노(메트)아크릴레이트, 예컨대 예를 들어 톤® M100 (다우, 독일 슈발바흐), 2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 3-히드록시-2,2-디메틸프로필 (메트)아크릴레이트, 히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트, 다가 알콜의 히드록시-관능성 모노-, 디- 또는 테트라아크릴레이트, 예컨대 트리메틸올프로판, 글리세롤, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 에톡실화, 프로폭실화 또는 알콕실화 트리메틸올프로판, 글리세롤, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨과 같은 화합물, 또는 그의 산업용 혼합물이다. 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 히드록시프로필 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트 및 폴리(ε-카프로락톤) 모노(메트)아크릴레이트가 바람직하다. 또한, 단독의 또는 상기 언급된 단량체 화합물과 조합된 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트 기를 함유하는 이소시아네이트-반응성 올리고머 또는 중합체성 불포화 화합물이 적합하다. 히드록실 기를 함유하고 20 내지 300 mg KOH/g의 OH 함량을 갖는 그 자체가 공지된 에폭시 (메트)아크릴레이트, 또는 히드록실 기를 함유하고 20 내지 300 mg KOH/g의 OH 함량을 갖는 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트, 또는 20 내지 300 mg KOH/g의 OH 함량을 갖는 아크릴레이트화 폴리아크릴레이트, 또는 또 다른 것과의 그의 혼합물, 및 히드록실 기를 함유하는 불포화 폴리에스테르와의 혼합물, 및 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트와의 혼합물, 또는 히드록실 기를 함유하는 불포화 폴리에스테르와 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트의 혼합물이 또한 사용될 수 있다.
트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트 및 m-메틸티오페닐 이소시아네이트와 알콜-관능성 아크릴레이트, 예컨대 히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 히드록시프로필 (메트)아크릴레이트 및 히드록시부틸 (메트)아크릴레이트와의 반응으로부터 수득가능한 우레탄 아크릴레이트가 특히 바람직히다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 광중합체 배합물을 함유하거나 또는 본 발명에 따른 광중합체 배합물을 사용하여 수득가능한 홀로그래픽 매체를 제공한다. 본 발명은 추가로 홀로그래픽 매체의 제조를 위한 본 발명에 따른 광중합체 배합물의 용도를 제공한다.
본 발명의 홀로그래픽 매체는 광학 용품에 대한 적절한 노출 방법에 의해 전체 가시 영역 및 근 UV 영역 (300-800 nm)에서 홀로그램으로 가공될 수 있다. 가시 홀로그램은 당업자를 공지된 방법에 의해 기록가능한 임의의 홀로그램을 포함한다. 이 정의는 특히 인-라인 (가보(Gabor)) 홀로그램, 오프-액시스 홀로그램, 완전-구경 전사 홀로그램, 백색광 투과 홀로그램 ("레인보우 홀로그램"), 데니슈크 홀로그램, 오프-액시스 반사 홀로그램, 에지-릿 홀로그램 및 또한 홀로그래픽 스테레오그램을 포함한다. 반사 홀로그램, 데니슈크 홀로그램, 투과 홀로그램이 바람직하다.
본 발명의 광중합체 배합물을 사용하여 수득가능한 홀로그램의 가능한 광학적 기능은 광 소자, 예컨대 렌즈, 거울, 편향 거울, 필터, 확산 스크린, 회절 소자, 광도체, 도파관, 투사 스크린 및/또는 마스크의 광학 기능에 해당된다. 종종, 이들 광학 소자는 홀로그램이 노출되는 방법 및 홀로그램의 차원에 따라 좌우되는 주파수 선택성을 나타낸다.
추가로, 또한 본 발명의 광중합체 배합물은, 예를 들어 개인 초상, 보안 문서의 생체인식 표현을 위한 홀로그래픽 그림 또는 화상, 또는 일반적으로 광고, 보안 표지, 상표 보호, 상표명, 표지, 디자인 요소, 장식, 삽화, 복수-여행 티켓, 화상 등을 위한 화상 또는 화상 구조물, 또는 특히 또한 상기 기재된 제품과 조합한 디지털 데이터를 나타낼 수 있는 화상을 제조하기 위해 사용될 수 있다. 홀로그래픽 화상은 3차원 화상의 인상을 생성할 수 있으나, 이들은 또한 이들이 조명되는 각도, 이들을 조명하는 광원 (이동 광원 포함) 등에 의존하여, 화상 시퀀스, 단편 영화 또는 다수의 상이한 물체를 나타낼 수 있다. 그것은 홀로그램, 더 특히 체적 홀로그램이 상기 언급된 사용을 위한 매력적인 기술적 해결책을 구성한다는 이러한 다양한 설계 가능성 때문이다.
광중합체 배합물은 보다 특히 필름 형태인 홀로그래픽 매체를 제조하기 위해 사용될 수 있다. 가시 스펙트럼에서 광에 투과성인 (400 내지 780 nm의 파장 범위 내에서 85% 초과의 투과율) 지지체로서의 물질 또는 물질 어셈블리의 층을 단면 또는 양면 코팅하고, 임의로 커버 층을 광중합체 층 또는 층들 상부에 적용한다.
지지체를 위한 바람직한 물질 또는 물질 어셈블리는 폴리카르보네이트 (PC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 셀룰로스 아세테이트, 셀룰로스 수화물, 셀룰로스 니트레이트, 시클로올레핀 중합체, 폴리스티렌, 폴리에폭시드, 폴리술폰, 셀룰로스 트리아세테이트 (CTA), 폴리아미드, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐 부티랄 또는 폴리디시클로펜타디엔, 또는 그의 혼합물을 기재로 한다. 이들은 보다 바람직하게는 PC, PET 및 CTA를 기재로 한다. 물질 어셈블리는 자가-지지되는 중합체 시트의 라미네이트, 또는 공압출물일 수 있다. 바람직한 물질 어셈블리는 구조 A/B, A/B/A 또는 A/B/C 중 하나에 따라 구성된 이중 및 삼중 필름이다. PC/PET, PET/PC/PET 및 PC/TPU (TPU=열가소성 폴리우레탄)가 특히 바람직하다.
상기 언급된 플라스틱 지지체에 대한 대안으로서, 평면 유리 플레이트를 사용하는 것이 또한 가능하며, 이는 특히 예를 들어 홀로그래픽 리소그래피를 위해 넓은 영역에 대한 정확한 영상화 노출을 위해 사용된다. 문헌 [Holographic interference lithography for integrated optics. IEEE Transactions on Electron Devices (1978), ED-25(10), 1193-1200, ISSN:0018-9383].
지지체의 물질 또는 물질 어셈블리는 한면 또는 양면에 점착방지성, 대전방지성, 소수성 또는 친수성 마감재를 가질 수 있다. 광중합체 층을 대면하는 면에 대하여, 언급된 변형은 지지체로부터 광중합체 층을 비파괴적으로 제거하는 것을 가능하게 하기 위한 목적을 지지한다. 광중합체 층으로부터 대면하지 않는 지지체의 다른 면의 변형은 본 발명의 매체가 예를 들어 롤 라미네이터에서의 가공, 보다 특히 롤-투-롤 방법에서의 가공과 관련한 특정한 기계적 요건을 충족하는지 확인하기 위해 작용한다.
본 발명은 추가로 화학식 F+An-의 염료를 제공하며, 여기서 F+는 양이온성 염료를 나타내고, An-는 음이온을 나타내며, 상기 음이온 An-는 sec-알킬벤젠술포네이트, 분지형 알킬 술페이트, n-알킬 술페이트, sec-알킬술포네이트, 술포숙시네이트, 에스테르 술페이트 및 에스테르 술포네이트의 군으로부터 선택된다. 본원에서 양이온성 염료 F+가 아크리딘, 크산텐, 티오크산텐, 페나진, 페녹사진, 페노티아진, 트리(헤트)아릴메탄, 특히 디아미노- 및 트리아미노(헤트)아릴메탄, 모노-, 디- 및 트리메틴시아닌, 헤미시아닌, 외부 양이온성 메로시아닌, 외부 양이온성 뉴트로시아닌, 눌메틴, 특히 나프토락탐 및 스트렙토시아닌 염료의 군으로부터 선택되는 경우가 특히 바람직하다.
실시예
하기 실시예는 본 발명을 설명한다.
측정 방법:
보고된 OH 가는 DIN 53240-2에 따라 측정하였다.
보고된 NCO 값 (이소시아네이트 함량)은 DIN EN ISO 11909에 따라 측정하였다.
용액으로부터의 보고된 수분 함량 (KF)은 DIN 51777에 따라 측정하였다.
2-히드록시에틸 아크릴레이트 (HEA) 함량은 DIN/ISO 10283 (2007)의 라인 상에서 측정하였다. 내부 표준 물질로서의 안트라센 (보정 물질) 1.41 g을 1 리터 부피의 플라스크 내에 칭량하고, 표시까지 에틸 아세테이트를 채웠다. 샘플 약 1 g을 칭량하고, 상기 기재된 내부 기준 물질 용액 10 mL 및 에틸 아세테이트 10 mL와 혼합하고, 이 중 2.0 μL를 기체 크로마토그래피에 의해 분리하고, HEA 함량은 영역-보정 중량%로 계산하였다.
실시예의 수팽윤도는 초기에 각각의 경우에 개방 유리 디쉬 내에 있는 염료 5-10 g을 압력 200 mbar 및 온도 50℃에서 일정한 중량까지 건조시킴으로써 측정하였다. 이들을 수분 부재 하에서 60분 동안 실온으로 냉각시킨 후에, 샘플을 진공 건조 캐비넷으로부터 제거한 후 칭량하였다. 칭량 전 수분 부재를 확실하게 하기 위해, 유리 디쉬를 파라필름(Parafilm) M® (페치니 플라스틱 패키징(Pechiney Plastic Packaging), 미국 60631 일리노이주 시카고, www.parafilm.com)로 기밀 밀봉하고, 이어서 칭량하였다. 이 후에, 실온 (22℃) 및 상태 습도 90%에서 7일 동안 일정한 질량으로 공기 중에 정치시키고 칭량하였다. 이어서, 수팽윤도를 하기 식 F-1로부터 계산하였다.
<식 F-1>
Figure 112013040113401-pct00144
상기 식에서, mf는 수분 포화 후 염료의 질량이고, mt는 건조된 염료의 질량이다.
본 발명과 관련하여 진동 레오미터를 이용한, 광중합체의 매트릭스 네트워크의 고원 탄성률 G0의 측정
매트릭스 네트워크의 고원 탄성률 G0의 측정을 위한 광중합체 배합물을 제조하기 위해, 기록 단량체 및 또한 첨가제, 이소시아네이트-반응성 성분 및 염료 용액을 함께 첨가하고, 스피드믹서에서 5분 동안 혼합하였다. 염료를 미리 N-에틸피롤리돈 중에 용해시켰다. 이어서, 이소시아네이트를 첨가한 다음, 스피드믹서에서 1분 동안 혼합하였다. 그 후에, N-에틸피롤리돈 중 촉매의 용액을 첨가하고, 이어서 이것을 다시 스피드믹서에서 1분 동안 혼합하였다. N-에틸피롤리돈 중 촉매의 농도는 10 중량%이다.
이어서, 여전히 액체인 배합물을 레오미터 (80℃로 예열된 오븐 모델 CTD 450이 설비된 안톤 파르 피지카(Anton Paar Physica) 모델 MCR 301)의 플레이트-플레이트 측정 시스템에 도입하였다. 이어서, 시간 경과에 대한 광중합체 배합물의 매트릭스의 경화를 하기 조건 하에서 측정하였다:
· 플레이트 간격 250 μm.
· 일정한 각 주파수 ω0 10 rad/초 및 조절된 변형 진폭 1%에서의 진동 측정 모드.
· 온도 80℃, 0 뉴턴으로 설정된 수직 항력 조절
· 최대 2시간 또는 G'의 일정한 값 Gmax에 도달할 때까지의 측정 시간에 대한 저장 탄성률 G' 기록. 이어서, 이 값을 광중합체의 매트릭스 네트워크의 고원 탄성률 G0로서 취하였다.
도 3은 경화 시간에 대한 저장 탄성률 G'의 플롯으로서 매트릭스 네트워크의 경화 과정을 나타낸다.
문헌 [M. Doi, S.F. Edwards, The Theory of Polymer Dynamics, Oxford Science Publications, 1986]에 따르면, 다음과 같이 고원 탄성률 G0는 두 중합체 가닥을 가교시키는 절편의 평균 분자량 MC와 관련될 수 있다.
Figure 112013040113401-pct00145
R은 아보가드로 상수이고, T는 절대 온도 (켈빈)이고, ρ는 질량 밀도이다. 낮은 고원 탄성률 G0 또는 두 중합체 가닥을 가교시키는 절편에 대한 높은 평균 분자량 MC는 낮은 가교 밀도의 네트워크를 특징으로 한다.
따라서, 광중합체 배합물을 위해 고체 조성물이 주어지는 경우, 감소된 고원 탄성률 G0은 매트릭스 중합체의 미완료 가교를 나타낸다.
반사 배열에서 2-빔 간섭을 통한 홀로그래픽 매체의 홀로그래픽 특성 DE 및 Δn의 측정.
도 1에 도시된 바와 같은 실험 홀로그래픽 설정을 이용하여 매체의 회절 효율 (DE)을 측정하였다. He-Ne 레이저 (방출 파장 633 nm)의 빔을 공간 필터 (SF)를 통해서 및 시준 렌즈 (CL)와 함께 평행한 균일 빔으로 변환시켰다. 신호 및 참조 빔의 최종 단면적은 아이리스 조리개 (I)에 의해 고정되었다. 아이리스 조리개 개구의 직경은 0.4 cm이다. 편광-의존성 빔 스플리터 (PBS)는 레이저 빔을 2개의 결집 동일 편광 빔으로 분할하였다. λ/2 플레이트를 통하여, 참조 빔의 출력을 0.5 mW로 조정하고, 신호 빔의 출력을 0.65 mW로 조정하였다. 출력은, 샘플을 제거하면서 반도체 검출기 (D)를 이용하여 측정하였다. 참조 빔의 입사각 (α0)은 -21.8 °였으며, 신호 빔의 입사각 (β0)은 41.8 °였다. 상기 각도는 샘플 법선으로부터 빔 방향까지 측정하였다. 따라서, 도 1에 따르면, α0는 음의 부호를 가지며, β0는 양의 부호를 갖는다. 샘플 (매체)의 위치에서, 2개의 중첩하는 빔들의 간섭장은 샘플 상에 입사하는 2개의 빔의 각이등분선에 수직인 밝고 어두운 스트립의 격자 (반사 홀로그램)를 생성하였다. 매체에서 스트립 간격 Λ (또한 격자 주기로도 지칭됨)는 약 225 nm였다 (매체의 굴절률은 ~1.504로 추정됨).
도 1은 λ = 633 nm (He-Ne 레이저)에서의 홀로그래픽 매체 시험기 (HMT)의 기하학적 구조를 나타낸다: M = 거울, S = 셔터, SF = 공간 필터, CL = 시준 렌즈, λ/2 = λ/2 플레이트, PBS = 편광-민감성 빔 스플리터, D = 검출기, I = 아이리스 조리개, α0 = -21.8°, β0 = 41.8° (이는 샘플의 외부 (매체의 외부)의 간섭성 빔의 입사각임). RD = 회전반의 참조 방향.
홀로그램은 하기 방식으로 매체에 기록하였다:
· 양쪽 셔터 (S)를 노출 시간 t 동안 개방하였다.
· 그 후에, 셔터 (S)를 폐쇄한 채로, 여전히 중합되지 않은 기록 단량체의 확산을 위해 매체를 5분 허용하였다.
이어서, 기록된 홀로그램을 하기 방식으로 판독하였다. 신호 빔의 셔터는 폐쇄한 채로 유지하였다. 참조 빔의 셔터를 개방하였다. 참조 빔의 아이리스 조리개는 < 1 mm의 직경으로 폐쇄시켰다. 이는 빔이 항상 완전히 매체의 모든 회전각 (Ω)에 대하여 이전에 기록된 홀로그램 내에 있도록 보장하였다. 컴퓨터 제어 하의 회전반은 각도 스텝 폭 0.05°로 Ωmin 내지 Ωmax의 각도 범위를 포괄하였다. Ω는 샘플 법선으로부터 회전반의 참조 방향까지 측정하였다. 회전반의 참조 방향은, 홀로그램의 기록 동안 참조 빔 및 신호 빔의 입사각이 동일한 크기를 갖는 경우에, 즉 α0 = -31.8° 및 β0 = 31.8°인 경우 얻어진다. 이때, Ω기록은 0°이다. 따라서, α0 = -21.8° 및 β0 = 41.8°의 경우에, Ω기록은 10°이다. 일반적으로, 홀로그램의 기록 ("기록") 동안 간섭장은 하기와 같다.
Figure 112013040113401-pct00146
θ0은 매체의 외부에서 실험실 시스템 내에서의 반각이며, 홀로그램의 기록 동안 하기와 같다.
Figure 112013040113401-pct00147
이 경우에, 따라서 θ0은 -31.8°이다. 접근되는 각각의 회전각 Ω에서, 0차로 투과된 빔의 출력을 상응하는 검출기 D에 의해 측정하고, 1차로 투과된 빔의 출력을 검출기 D에 의해 측정하였다. 회절 효율은 접근되는 각각의 각도 Ω에서 하기의 몫으로서 얻었다.
Figure 112013040113401-pct00148
PD는 회절 빔의 검출기에서의 출력이며, PT는 투과된 빔의 검출기에서의 출력이다.
상기 기재된 방법에 의해, 기록된 홀로그램의 브래그(Bragg) 곡선 (이는 기록된 홀로그램의 회전각 Ω의 함수로서 회절 효율 η를 설명함)을 측정하고, 컴퓨터에 저장하였다. 0차로 투과된 강도는 또한 회전 각도 Ω에 대하여 기록하고, 컴퓨터에 저장하였다.
홀로그램의 최대 회절 효율 (DE = ηmax), 즉 그의 피크 값은 Ω재구성에서 측정하였다. 이러한 목적을 위해서, 상기 최대 값을 측정하기 위해, 필요한 경우, 굴절된 빔의 검출기 위치를 변경하였다.
이제, 광중합체 층의 비굴절률차 Δn 및 두께 d를 측정된 브래그 곡선 및 투과된 강도의 각도 변화로부터 결합파 이론 (문헌 [H. Kogelnik, The Bell System Technical Journal, Volume 48, November 1969, Number 9, page 2909 - page 2947] 참조)에 의해 측정하였다. 광중합의 결과로서 발생하는 두께 수축으로 인하여, 홀로그램의 스트립 간격 Λ' 및 스트립 배향 (편향))이 간섭 패턴의 스트립 간격 Λ 및 그의 배향으로부터 벗어날 수 있다는 것에 유의해야 한다. 따라서, 최대 회절 효율이 달성되는 각도 α0' 또는 회전반의 상응하는 각도 Ω재구성은 또한 각각 α0 또는 상응하는 Ω기록으로부터 벗어날 것이다. 그 결과, 브래그 조건이 변화한다. 이러한 변화는 평가 방법에서 고려되었다. 평가 방법을 하기에 기재한다:
간섭 패턴이 아니라 기록된 홀로그램과 관련된 모든 기하학적 양은 파선에 의해 나타내어지는 양으로 표시하였다.
코겔닉(Kogelnik)에 따르면, 반사 홀로그램의 브래그 곡선 η(Ω)는 하기와 같다.
Figure 112013040113401-pct00149
여기서,
Figure 112013040113401-pct00150
홀로그램 ("재구성")의 판독시, 조건은 상기에 기재한 것과 유사하다.
Figure 112013040113401-pct00151
브래그 조건 하에, "탈위상화" DP는 0이다. 따라서 하기와 같다.
Figure 112013040113401-pct00152
단지 두께 수축만이 발생한다는 가정 하에, 홀로그램 기록 동안의 간섭장의 브래그 조건 및 홀로그램 판독 동안의 브래그 조건을 비교하여, 아직 알려지지 않은 각도 β'를 측정할 수 있다. 따라서, 하기와 같다.
Figure 112013040113401-pct00153
ν는 격자 두께이며, ξ는 비동조 파라미터이고, ψ'는 기록된 굴절률 격자의 배향 (편향)이다. α' 및 β'는 홀로그램의 기록 동안의 간섭장의 각도 α0 및 β0에 해당하지만, 매체에서 측정되고, (두께 수축 후에) 홀로그램의 격자에 적용가능하다. n은 광중합체의 평균 굴절률이고, 1.504에서 설정되었다. λ는 진공에서의 레이저 광의 파장이다.
이어서, ξ=0인 경우에 최대 회절 효율 (DE = η최대)은 하기와 같다.
Figure 112013040113401-pct00154
도 1은 각도 비동조 ΔΩ에 대하여 측정 투과 출력 PT (우측 y축)를 실선 플롯으로서, 각도 비동조 ΔΩ에 대하여 측정된 회절 효율 η (좌측 y축)를 충실 원 플롯으로서 (검출기의 한정된 크기에서 허용되는 경우), 및 코겔닉 이론의 적용을 점선 (좌측 y축)으로서 나타낸다.
회절 효율의 측정 데이터, 이론적 브래그 곡선 및 투과 강도를, 도 2에 나타낸 바와 같이, 또한 각도 비동조로서 지칭되는 회전 중심각 (
Figure 112013040113401-pct00155
)에 대하여 플롯팅하였다.
DE가 공지되어 있기 때문에, 코겔닉에 따른 이론적 브래그 곡선의 형상은 단지 광중합체 층의 두께 d'에 의해서만 결정되었다. Δn을 주어진 두께 d'에 대해 DE를 통해 보정하여, DE의 측정치 및 이론치가 항상 일치하게 하였다. 여기서, 이론적 브래그 곡선의 첫번째 2차 최소값의 각 위치가 투과 강도의 첫번째 2차 최대값의 각 위치에 일치하고, 추가로 이론적 브래그 곡선 및 투과 강도에 대한 반치 전폭 (FWHM)이 일치할 때까지 d'를 조정하였다.
반사 홀로그램이 Ω 스캔에 의해 재구성시 회전하지만, 회절된 광의 검출기가 한정된 각도 범위만을 검출할 수 있는 방향으로 인하여, 넓은 홀로그램의 브래그 곡선 (작은 d')은 Ω 스캔시 완전히 등록되지 않고, 적합한 검출기 위치 설정에 따라 중앙 영역만이 등록된다. 따라서, 브래그 곡선에 대하여 상보적인 투과 강도의 형상이 층 두께 d'를 조정하는데 추가로 사용된다.
도 2는 결합 파동 이론에 따른 브래그 곡선 η (점선), 각도 비동조 ΔΩ에 대한 측정된 회절 효율 (충실 원) 및 투과 출력 (흑색 실선)의 플롯을 도시한다.
하나의 배합물에 대하여, 이 절차를 상이한 매체 상에서 상이한 노출 시간 t에 대해 가능하게는 수회 반복하여, 홀로그램 기록 동안 DE가 포화값에 도달하는 입사 레이저 빔의 평균 에너지 선량을 측정하였다. 평균 에너지 선량 E는 α0 및 β0의 각도와 좌표화된 2개 부분 빔의 출력 (참조 빔은 Pr = 0.50 mW이며, 신호 빔은 Ps = 0.63 mW임), 노출 시간 t 및 아이리스 조리개 직경 (0.4 cm)으로부터 하기와 같이 수득된다.
Figure 112013040113401-pct00156
부분 빔의 출력은 사용된 각도 α0 및 β0에서 동일한 출력 밀도가 매체에서 달성되도록 조정되었다.
대안 I로서, 실례 1에 도시된 설정에 대해 등가인 시험은 또한 진공 하의 방출 파장 λ 532 nm의 녹색 레이저를 이용하여 수행하였다. 이 경우에, α0 = -11.5 ° 및 β0 = 33.5 °이며, Pr = 1.84 mW 및 Ps = 2.16 mW이다.
대안 II로서, 실례 1에 도시된 설정에 대해 등가인 시험은 또한 진공 하의 방출 파장 λ 473 nm의 청색 레이저를 이용하여 수행하였다. 이 경우에, α0 = -22.0° 및 β0 = 42.0°이며, Pr = 1.78 mW 및 Ps = 2.22 mW이다.
물질:
사용된 염료 및 염 뿐만 아니라 용매 및 시약은 상업적으로 입수가능하였다.
CGI-909 테트라부틸암모늄 트리스(3-클로로-4-메틸페닐)(헥실)보레이트 [1147315-11-4]는 바스프 에스이 (BASF SE; 스위스 바젤)에 의해 제조된 제품이다.
데스모라피드(Desmorapid) Z 디부틸주석 디라우레이트 [77-58-7], 바이엘 머티리얼사이언스 아게 (Bayer MaterialScience AG; 독일 레버쿠젠)로부터의 제품.
데스모두르(Desmodur)® N 3900 바이엘 머티리얼사이언스 아게 (독일 레버쿠젠)로부터의 제품, 헥산 디이소시아네이트-기재 폴리이소시아네이트, 이미노옥사디아진디온 비율 30% 이상, NCO 함량: 23.5%.
폼레즈(Fomrez) UL 28 우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스(Momentive Performance Chemicals; 미국 코네티컷주 윌튼)의 상업용 제품.
사프라닌(Safranin) O/T 상업적 사프라닌 O/T가 6가지 착색된 성분으로 구성된다는 것이 발견되었다. 3가지는 하기에 설명될 수 있다:
Figure 112013040113401-pct00157
4번째 것은 2개의 메틸 기를 갖는 추가의 이성질체이다. 다른 2가지에 대해, 질량 분광분석법은 하기 구조
Figure 112013040113401-pct00158
또는 타당한 그의 이성질체를 제안한다. 간단성을 위해, 사프라닌 O가 사용되는 경우에 단지 주요 성분의 화학식만을 하기에 나타낸다. 그러나, 이것은 항상 - 본 발명의 음이온과의 조합을 비롯한 - 모든 6가지 성분의 혼합물을 의미하는 것으로서 이해되어야 한다.
실시예 1
주성분으로서 하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00159
의 염료를 갖는 혼합물에 해당하는 사프라닌 O (케모스 게엠베하(Chemos GmbH; 독일)로부터 2010년에 입수함, 물품 번호 1308) 3.00 g을 메탄올 20 ml 및 물 30 ml의 혼합물 중에 용해시켰다. 나트륨 4-(sec-도데실)벤젠술포네이트 (5가지 상이한 sec-도데실 모이어티를 갖는 혼합물) 2.98 g의 용액을 90 % 순도의 4-(sec-도데실)벤젠술폰산 (플루카(Fluka)로부터 2010년에 입수함, 물품 번호 44198) 3.10 g으로부터 1M 수성 수산화나트륨 용액을 갖는 물 50 ml 중의 용액을 중성화함으로써 제조하였다. 이 용액을 효율적인 교반 하에 30분 동안 실온에서 염료 용액에 적가하였다. 30분 동안, 물 100 ml를 적가하였다. 적색 현탁액을 5시간 동안 실온에서 교반하고, 흡인 여과하고, 물 200 ml로 조금씩 세척하고, 감압 하에 50℃에서 건조시켜 혼합물 5.99 g (이론치의 91.2%)을 적색 분말로서 수득하였고, 이는 하기에 해당하는 하나의 화학식 (염료: 주 성분, 음이온: 이상적인 것)이다.
Figure 112013040113401-pct00160
메탄올 중 λmax: 528 nm.
적합한 레이저 파장: 532 nm.
실시예 2
하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00161
의 염료 (뉴 메틸렌 블루, 2008년에 TCI 유럽 b.v.(TCI Europe b.v.)로부터 입수함) 5.00 g을 물 60 ml 및 빙초산 10 ml의 혼합물 중에 용해시켰다. 이 용액을 물 100 ml 및 메탄올 20 ml로 희석하였다. 나트륨 2-에틸헥실술페이트 (2009년에 알드리치(Aldrich)로부터 입수함)의 50 % 용액 5.44 g을 물 17 ml로 희석하였다. 이 용액을 효율적 교반 하에 60분 동안 실온에서 염료 용액에 적가하여 현탁액을 수득하고, 이를 후속적으로 2시간 동안 교반하였다. 이것을 이어서 흡인 여과시킨 다음, 물 200 ml로 조금씩 세척하였다. 감압 하 50℃에서 건조시켜 하기 화학식의 청색 분말 4.85 g (이론치의 79.4%)을 수득하였다.
Figure 112013040113401-pct00162
메탄올 중 λmax: 625 nm.
적합한 레이저 파장: 633 nm.
실시예 3
하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00163
의 염료 (푸크신(Fuchsin), 2009년에 알파-에이사(Alfa-Aesar)로부터 입수함) 3.00 g을 메탄올 70 ml 중에 용해시켰다. 나트륨 도데실술페이트 (2009년에 어플리켐(Applichem)으로부터 입수함) 2.56 g을 물 25 ml 중에 용해시켰다. 이 용액을 효율적 교반 하에 30분 동안 실온에서 염료 용액에 적가하여 진적색-보라색 용액을 수득하고, 5시간 동안 물 40 ml를 점진적으로 첨가하여 침전시켰다. 침전물을 흡인 여과하고, 1:1 물/메탄올 60 ml 및 마지막으로 물 150 ml로 세척하고, 감압 하에 50℃에서 건조시켜 하기 화학식의 보라색 분말 3.38 g (이론치의 67.0%)을 수득하였다.
Figure 112013040113401-pct00164
메탄올 중 λmax: 551 nm.
적합한 레이저 파장: 532 nm.
실시예 4
주 성분으로서 하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00165
의 염료를 갖는 혼합물에 해당되는 사프라닌 O (공급원: 실시예 1 참조) 2.00 g을 50℃에서 아세토니트릴 60 ml 중에 용해시켰다. 문헌 [J. Org. Chem. 2004, 69, 8521-8524]에 따라 제조된 바와 같은, 하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00166
의 트리에틸암모늄 염 4.96 g을 50℃에서 아세토니트릴 30 ml 중에 용해시켰다. 이 용액을 효율적 교반 하에 10분 동안 50℃에서 염료 용액에 적가하였다. 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 물 150 ml로 침전시켰다. 적색 현탁액을 흡인 여과하고, 물 150 ml로 조금씩 세척하고, 감압 하에 50℃에서 건조시켜 하기 화학식의 적색 분말 5.34 g (이론치의 86.3%)을 수득하였다.
Figure 112013040113401-pct00167
메탄올 중 λmax: 528 nm.
적합한 레이저 파장: 532 nm.
실시예 5
주 성분으로서 하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00168
의 염료를 갖는 혼합물에 해당되는 사프라닌 O (공급원: 실시예 1 참조) 2.00 g을 물 20 ml 중에 부분 용해시켰다. 올레산나트륨 (1982년에 라이델-드-핸(Riedel-de-Haen)으로부터 입수함) 1.74 g을 물 30 ml 중에 용해시켰다. 이 용액을 염료의 부분 용액에 첨가한 다음, 24시간 동안 실온에서 교반하였다. 수지성 적색 생성물이 형성되었고, 수성 상을 그것으로부터 따라냈다. 수지를 24시간 동안 담수 30 ml와 함께 교반하였다. 추가로 따라내었다. 적색 수지를 감압 하에 50℃에서 건조시키고, 마지막으로 tert-부틸 메틸 에테르 30 ml와 함께 교반하였다. 형성된 현탁액을 흡인 여과하고, tert-부틸 메틸 에테르 5 ml로 세척하고, 감압 하에 50℃에서 건조시켜 하기 화학식의 적색 분말 2.72 g (이론치의 79.9%)을 수득하였다.
Figure 112013040113401-pct00169
메탄올 중 λmax: 528 nm.
적합한 레이저 파장: 532 nm.
실시예 6
하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00170
의 염료 2.00 g을 비등열에서 교반함으로써 메탄올 45 ml 중에 용해시켰다. 나트륨 테트라페닐보레이트 (2010년에 ABCR로부터 입수함) 1.78 g을 첨가하였다. 생성된 현탁액을 15분 동안 비등시키고, 냉각시키고, 흡인 여과하고, 메탄올 20 ml 및 물 100 ml로 세척하고, 감압 하에 50℃에서 건조시켰다. 정제를 위해, 조 염료를 필요한 최소량의 N-에틸피롤리돈 중에 실온에서 용해시키고, 5배량의 메탄올로 희석하고, 마지막으로 물로 연한 색 모액의 지점까지 침전시켰다. 침전물을 흡인 여과하고, 메탄올 50 ml로 조금씩 세척하고, 감압 하에 50℃에서 건조시켜 하기 화학식의 적색의 다소 녹색빛 진주빛 분말 2.45 g (이론치의 75.5%)을 수득하였다.
Figure 112013040113401-pct00171
메탄올 중 λmax: 486 nm.
적합한 레이저 파장: 473 nm.
출발 염료는 다음과 같이 기존 방법과 유사하게 제조하였다:
2-메틸피리딘 5.78 g 및 α,α'-디브로모-o-크실렌 8.20 g을 2시간 동안 80℃에서 γ-부티로락톤 60 ml 중에서 교반하였다. 혼합물을 냉각시키고, 흡인 여과하고, 여과 잔류물을 건조시켰다. 이 물질 12.0 g을 빙초산 27 ml 및 모르폴린 27 ml의 혼합물에 넣고, 4-디에틸아미노벤즈알데히드 9.45 g과 점차 혼합한 후에, 2시간 동안 80℃에서 교반하였다. 냉각한 후에, 혼합물에서 물을 제거하고, 생성물을 단리하고 건조시켰다.
실시예 7
하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00172
의 염료 (C. I. 베이직 바이올렛 7) 2.00 g을 에탄올 30 ml 중에 용해시켰다. 광이 없는 경우에, 리튬 부틸 트리페닐보레이트 (2009년에 호꼬 케미칼 인더스트리(Hokko Chemical Ind.; 일본)으로부터 입수함)의 20 % 수용액 6.39 g을 교반 하에 실온에서 적가하였다. 농후한 적색 현탁액을 4시간 동안 교반하고, 흡인 여과하고, 에탄올 15 ml 및 물 100 ml로 조금씩 세척하고, 광의 부재 하에 감압 하에 50℃에서 건조시켜 하기 화학식의 자주색 분말 2.78 g (이론치 97.7%)을 수득하였다.
Figure 112013040113401-pct00173
메탄올 중 λmax: 549 nm.
적합한 레이저 파장: 532 nm.
실시예 8
독일 특허 1 158 646에 기재된 바와 같이 제조된 하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00174
의 염료 3.00 g을 메탄올 50 ml 중에 부분 용해시켰다. 나트륨 테트라페닐보레이트 (2010년에 ABCR로부터 입수함) 1.90 g을 메탄올 15 ml 중에 용해시켰다. 이 용액을 교반 하에 30분 동안 실온에서 염료 현탁액에 적가하였다. 이 과정에서, 적색 현탁액이 오렌지색 현탁액으로 바뀌었다. 2시간 교반 후에, 이를 흡인 여과하고, 메탄올 10 ml 및 물 100 ml로 조금씩 세척하고, 감압 하에 50℃에서 건조시켜 하기 화학식의 적색빛 오렌지색 분말 2.00 g (이론치 28.2%)을 수득하였다.
Figure 112013040113401-pct00175
메탄올 중 λmax: 467 nm.
적합한 레이저 파장: 473 nm.
실시예 9
나트륨 비스(2-에틸헥실)술포숙시네이트 (2010년에 알드리치로부터 입수함) 15.0 g을 50℃에서 물 350 ml 중에 용해시켰다. 53 중량% 물질로서의 하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00176
의 염료 (베이직 블루 3) 24.5 g 및 부틸 아세테이트 220 ml를 첨가하고, 4시간 동안 50℃에서 교반하였다. 수성 상을 분리하고, 유기 상을 50℃에서 담수 50 ml로 3회 교반하였다. 마지막으로, 수성 상을 매회 분리하고, 마지막 회차는 실온에서 분리하였다. 진청색 유기 상을 무수 황산마그네슘을 사용하여 건조시키고, 여과하고, 150 mbar에서 공비 증류에 의해 잔류하는 물을 제거하였다. 무수 부틸 아세테이트를 첨가하여 진청색 용액 250 g을 최종적으로 수득하였고, 이는 하기 화학식의 염료에 대하여 9.68 중량%였다 (이론치의 96.4%).
Figure 112013040113401-pct00177
수분 함량 (KF): 0.1%
메탄올 중 λmax: 643 nm.
적합한 레이저 파장: 633 nm.
용액을 증발시켜 진청색 유리 24.2 g을 수득하였고, 이것은 점차 금색빛 광택 프리즘의 형태로 결정화되었다. 이들은 결국 예를 들어 부타논 중 20 중량% 용액 또는 7:3 에틸 아세테이트/부타논을 제조하기 위해 사용될 수 있다.
실시예 10
무수 나트륨 비스(2-에틸헥실)술포숙시네이트 (2010년에 알드리치로부터 입수함) 3.71 g을 무수 에틸 아세테이트 50 ml 중에 용해시켰다. 하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00178
의 무수 염료 (베이직 바이올렛 7) 4.00 g을 첨가하였다. 진적색 혼합물을 3시간 동안 실온에서 교반하고, 플루티드 필터를 통해 여과하여 루비-적색 용액 49.3 g을 수득하였고, 이것은 하기 화학식의 염료에 대하여 13.5 중량%였다 (이론치의 99.2%).
Figure 112013040113401-pct00179
수분 함량 (KF): 0.08%
메탄올 중 λmax: 549 nm.
적합한 레이저 파장: 532 nm.
실시예 11
문헌 [Phys. Chem. Chem. Phys. 1999, 1, 4395]에 기재된 바와 같이 제조된 나트륨 디-n-옥틸술포숙시네이트 2.78 g을 에틸 아세테이트 20 ml 중에 용해시켰다. 하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00180
의 염료 (베이직 오렌지 21) 2.20 g을 첨가하였다. 진오렌지색 혼합물을 8시간 동안 45℃에서 교반하고, 실온으로 냉각시키고, 플루티드 필터를 통해 여과하여 진오렌지색 용액을 수득하고, 이를 처음에 대기압에서의 공비 증류에 의해 연행수를 제거하고, 이어서 무수 에틸 아세테이트의 첨가에 의해 23.0 g 질량으로 조정하였다. 용액은 하기 화학식의 염료에 대하여 20.0 중량%였다 (이론치의 99.5%).
Figure 112013040113401-pct00181
수분 함량 (KF): 0.04%
메탄올 중 λmax: 492 nm.
적합한 레이저 파장: 473 nm.
실시예 12
하기 화학식
Figure 112013040113401-pct00182
의 염료 (메틸렌 블루, 2010년에 어플리켐(Applichem)으로부터 입수함, 90% 순도) 3.33 g을 물 72 ml 및 메탄올 9 ml의 혼합물 중에 용해시키고, 여과하여 소량의 불용물을 제거하였다. 광이 없을 경우에, 리튬 n-부틸트리페닐보레이트 (2009년에 호꼬 케미칼 인더스트리 (일본)로부터 입수함)의 20 중량% 수용액의 14.36 g을 교반하면서 적가하였다. 1시간 동안 교반한 후에, 광의 부재 하에 흡인 여과하고, 물 50 ml로 세척하고, 감압 하에 50℃에서 건조시켜 하기 화학식의 청색 분말 4.73 g (이론치의 86.4%)을 수득하였다.
Figure 112013040113401-pct00183
메탄올 중 λmax: 653 nm, 612 (sh) nm.
적합한 레이저 파장: 633 nm.
하기 표 2의 염료는 유사한 방식으로 수득가능하다.
표 2: 본 발명의 염료
Figure 112013040113401-pct00184
Figure 112013040113401-pct00185
Figure 112013040113401-pct00186
Figure 112013040113401-pct00187
Figure 112013040113401-pct00188
Figure 112013040113401-pct00189
Figure 112013040113401-pct00190
Figure 112013040113401-pct00191
Figure 112013040113401-pct00192
Figure 112013040113401-pct00193
Figure 112013040113401-pct00194
Figure 112013040113401-pct00195
Figure 112013040113401-pct00196
Figure 112013040113401-pct00197
Figure 112013040113401-pct00198
Figure 112013040113401-pct00199
Figure 112013040113401-pct00200
Figure 112013040113401-pct00201
하기 표 3은 선택된 예에 대한 관찰된 수팽윤도 W를 요약한다.
표 3: 선택된 예의 수팽윤도
Figure 112013040113401-pct00202
Figure 112013040113401-pct00203
비교 실시예 V 1-2는 시판 염료 사프라닌 O/T 및 메틸렌 블루이다. 비교 실시예 V 3은 문헌 [H. Berneth in Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Methine Dyes and Pigments, Wiley-VCH Verlag, 2008]로부터의 방법에 의해 제조된 베이직 오렌지 21이다. V-4는 하기 기재된 바와 같은 메틸렌 블루 및 과염소산리튬으로부터 수득되었다. 표 4는 비교 실시예 V 1-4의 관찰된 수팽윤도 W를 요약한다.
표 4: 선택된 비교 실시예의 수팽윤도
Figure 112013040113401-pct00204
비교 실시예 V4의 제조
메틸렌 블루 수화물 (90 % 순도, 2010년에 플루카(Fluka)로부터 입수함) 5.55 g을 물 90 ml 중에 부분 용해시켰다. 이 부분 용액에, 물 15 ml 중 과염소산리튬 (2009년에 아크로스(Acros)로부터 입수함) 1.66 g의 용액을 효율적 교반 하에 1시간 동안 실온에서 적가하였다. 이 후에 3시간 동안 교반하고, 흡인 여과하고, 물 2 x 25 ml로 세척하였다. 감압 하에 50℃에서 건조시켜 하기 화학식의 청색 분말 5.97 g (99.5%)을 수득하였다.
Figure 112013040113401-pct00205
성분의 제조
폴리올 1의 제조:
1 L 플라스크에서, 주석 옥토에이트 0.18 g, ε-카프로락톤 374.8 g 및 이관능성 폴리테트라히드로푸란 폴리에테르폴리올 (당량 500 g/OH의 mol) 374.8 g을 처음에 충전시키고, 120℃ 이하까지 가열하고, 고체 함량 (비휘발성 구성성분의 비율)이 99.5 중량% 이상이 될 때까지 이 온도에 유지하였다. 이 후에 냉각시켜 생성물을 왁스상 고체로서 수득하였다.
아크릴레이트 1 (인 티오일트리스(옥시-4,1-페닐렌이미노카르보닐옥시에탄-2,1-디일) 트리아크릴레이트)의 제조:
500 mL 둥근 바닥 플라스크에서, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.1 g, 디부틸주석 디라우레이트 (데스모라피드® Z, 바이엘 머티리얼사이언스 아게, 독일 레버쿠젠) 0.05 g, 및 또한 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27% 용액 (데스모두르® RFE, 바이엘 머티리얼사이언스 아게 (독일 레버쿠젠)로부터의 제품) 213.07 g을 처음에 충전시키고, 60℃로 가열하였다. 그 후에, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 42.37 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1% 미만으로 떨어질 때까지 혼합물을 60℃에서 추가로 유지하였다. 이 후에 이를 냉각시키고, 감압 하에 에틸 아세테이트를 완전히 제거하여 생성물을 부분 결정질 고체로서 수득하였다.
아크릴레이트 2 2-({[3-(메틸술파닐)페닐]카르바모일}옥시)에틸 프로프-2-에노에이트)의 제조:
100 mL 둥근 바닥 플라스크에서, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.02 g, 데스모라피드® Z 0.01 g, 3-(메틸티오)페닐 이소시아네이트 11.7 g을 처음에 충전시키고, 60℃로 가열하였다. 그 후에, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 8.2 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1% 미만으로 떨어질 때까지 혼합물을 60℃에서 추가로 유지하였다. 이 후에 이것을 냉각시켜 생성물을 연황색 액체로서 수득하였다.
첨가제 1 (비스 (2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-도데카플루오로헵틸) 2,2,4-트리메틸헥산-1,6-디일 비스카르바메이트)의 제조:
둥근 바닥 플라스크에서, 데스모라피드 Z 0.02 g 및 2,4,4-트리메틸헥산 1,6-디이소시아네이트 3.6 g을 처음에 충전시키고, 70℃로 가열하였다. 이 후에 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-도데카플루오로헵탄-1-올 11.39 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1% 미만으로 떨어질 때까지 혼합물을 70℃에서 추가로 유지하였다. 이 후에 이것을 냉각시켜 생성물을 무색 오일로서 수득하였다.
탄성률 증가 및 고원 탄성률 G0의 측정을 위한 배합물의 제조.
실시예 배합물 1
아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 2의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g을 폴리올 1의 3.465 g, 및 N-에틸피롤리돈 0.512 g 중 실시예 25로부터의 염료 0.026 g의 용액과 함께 스피드믹서에서 5분 동안 혼합하여 균질 용액을 수득하였다. 이어서, 상기 기재된 폴리올 용액을 스피드믹서에서 추가 몇 분 동안 혼합함으로써 데스모두르® N 3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게 (독일 레버쿠젠)으로부터의 제품) 0.667 g과 혼합하였다. 이 후에, N-에틸피롤리돈 중 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤)의 10 중량% 용액 0.01 g을 첨가하고, 다시 스피드믹서에서 1분 동안 혼합하였다. 수득된 액체 물질을 진동 레오미터의 플레이트-플레이트 측정 시스템에 도입하였다.
비교 배합물 1:
아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 2의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g을 폴리올 1의 3.471 g, 및 N-에틸피롤리돈 0.512 g 중 비교 실시예 V-2로부터의 염료 0.015 g의 용액과 함께 스피드믹서에서 5분 동안 혼합하여 균질 용액을 수득하였다. 이어서, 상기 기재된 폴리올 용액을 스피드믹서에서 추가 몇 분 동안 혼합함으로써 데스모두르® N 3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게, 레버쿠젠, 독일로부터의 생성물) 0.668 g과 혼합하였다. 이 후에, N-에틸피롤리돈 중 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤)의 10 중량% 용액 0.01 g을 첨가하고, 다시 스피드믹서에서 1분 동안 혼합하였다. 수득된 액체 물질을 진동 레오미터의 플레이트-플레이트 측정 시스템에 도입하였다.
실시예 배합물 2
아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 2의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g을 폴리올 1의 3.465 g, 및 N-에틸피롤리돈 0.512 g 중 실시예 41로부터의 염료 0.026 g의 용액과 함께 스피드믹서에서 5분 동안 혼합하여 균질 용액을 수득하였다. 이어서, 상기 기재된 폴리올 용액을 스피드믹서에서 추가 몇 분 동안 혼합함으로써 데스모두르® N 3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게, 레버쿠젠, 독일로부터의 생성물) 0.667 g과 혼합하였다. 이 후에, N-에틸피롤리돈 중 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤)의 10 중량% 용액 0.01 g을 첨가하고, 다시 스피드믹서에서 1분 동안 혼합하였다. 수득된 액체 물질을 진동 레오미터의 플레이트-플레이트 측정 시스템에 도입하였다.
비교 배합물 2:
아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 2의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g을 폴리올 1의 3.471 g, 및 N-에틸피롤리돈 0.512 g 중 비교 실시예 V-3으로부터의 염료 0.015 g의 용액과 함께 스피드믹서에서 5분 동안 혼합하여 균질 용액을 수득하였다. 이어서, 상기 기재된 폴리올 용액을 스피드믹서에서 추가 몇 분 동안 혼합함으로써 데스모두르® N 3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게, 레버쿠젠, 독일로부터의 생성물) 0.668 g과 혼합하였다. 이 후에, N-에틸피롤리돈 중 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤)의 10 중량% 용액 0.01 g을 첨가하고, 다시 스피드믹서에서 1분 동안 혼합하였다. 수득된 액체 물질을 진동 레오미터의 플레이트-플레이트 측정 시스템에 도입하였다.
실시예 배합물 3
아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 2의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g을 폴리올 1의 3.465 g, N-에틸피롤리돈 0.512 g, 및 부틸 아세테이트와 2-부타논 (부틸 아세테이트 80 중량%, 2-부타논 20 중량%) 중 실시예 30으로부터의 염료의 20.7 (중량%) 용액 0.125 g과 함께 스피드믹서에서 5분 동안 혼합하여 균질 용액을 수득하였다. 이어서, 상기 기재된 폴리올 용액을 스피드믹서에서 추가 몇 분 동안 혼합함으로써 데스모두르® N 3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게, 레버쿠젠, 독일로부터의 생성물) 0.667 g과 혼합하였다. 이 후에, N-에틸피롤리돈 중 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤)의 10 중량% 용액 0.01 g을 첨가하고, 다시 스피드믹서에서 1분 동안 혼합하였다. 수득된 액체 물질을 진동 레오미터의 플레이트-플레이트 측정 시스템에 도입하였다.
비교 배합물 3:
아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 2의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g을 폴리올 1의 3.471 g, 및 N-에틸피롤리돈 0.512 g 중 비교 실시예 V-1로부터의 염료 0.015 g의 용액과 함께 스피드믹서에서 5분 동안 혼합하여 균질 용액을 수득하였다. 이어서, 상기 기재된 폴리올 용액을 스피드믹서에서 추가 몇 분 동안 혼합함으로써 데스모두르® N 3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게, 레버쿠젠, 독일로부터의 생성물) 0.668 g과 혼합하였다. 이 후에, N-에틸피롤리돈 중 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤)의 10 중량% 용액 0.01 g을 첨가하고, 다시 스피드믹서에서 1분 동안 혼합하였다. 수득된 액체 물질을 진동 레오미터의 플레이트-플레이트 측정 시스템에 도입하였다.
실시예 배합물 4
아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 2의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g을 폴리올 1의 3.465 g, 및 부틸 아세테이트와 2-부타논 (부틸 아세테이트 80 중량%, 2-부타논 20 중량%) 중 실시예 30으로부터의 염료의 20.7 (중량%) 용액 0.125 g과 함께 스피드믹서에서 5분 동안 혼합하여 균질 용액을 수득하였다. 이어서, 상기 기재된 폴리올 용액을 스피드믹서에서 추가 몇 분 동안 혼합함으로써 데스모두르® N 3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게, 레버쿠젠, 독일로부터의 생성물) 0.667 g과 혼합하였다. 이 후에, N-에틸피롤리돈 중 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤)의 10 중량% 용액 0.01 g을 첨가하고, 다시 스피드믹서에서 1분 동안 혼합하였다. 수득된 액체 물질을 진동 레오미터의 플레이트-플레이트 측정 시스템에 도입하였다.
고원 탄성률 G0 및 탄성률 증가:
기재된 바와 같이 수득된 배합물을 후속적으로 상기 기재된 방식으로 레올로지 특성에 대하여 시험하였다. 측정에 따라 고원 탄성률 G0를 수득하였다:
표 5: 선택된 예의 고원 탄성률 G0
Figure 112013040113401-pct00206
표 5에서 인용된 실시예 배합물은 이들의 고원 탄성률이 항상 상응하는 비교 배합물의 그것보다 크다는 것을 입증한다. 따라서, 본 발명에 따라 선택된 염료는 높은 수팽윤도를 갖는 염료보다 더 양호한 중합체 매트릭스 가교를 제공한다. 매트릭스 중합체의 불완전 가교는 그 안에 기록되는 홀로그램의 안정성에 대해 역효과를 갖는다.
도 4는 실시예 배합물 1과 비교 배합물 1 사이의 경화 시간에 따른 탄성률 증가의 비교를 나타낸다. 도 5는 실시예 배합물 2와 비교 배합물 2 사이에 경화 시간에 따른 탄성률 증가의 비교를 나타낸다. 도 6은 실시예 배합물 3과 비교 배합물 3 및 실시예 배합물 4 사이의 경화 시간에 따른 탄성률 증가의 비교를 나타낸다. 실시예 배합물이 일반적으로 상응하는 비교 배합물보다 더 빠른 탄성률 증가를 나타내며, 즉 고정된 경화 시간 후에 더 높은 저장 탄성률 G'에 도달한다는 것이 분명하다. 본 발명의 광중합체 배합물이 내블로킹성에 도달하기 위한 더 짧은 경화 시간을 실현하는 것을 가능하게 하기 때문에 (즉, 광중합체 배합물은 코팅된 매체가 추가로 가공, 일반적으로 연속적 롤-투-롤에서 권취될 수 있도록 하는 내블록성에 도달시 기계적으로 매우 안정함), 이것은 예를 들어 홀로그래픽 필름의 제조를 위한 광중합체 배합물을 갖는 기판 호일의 더 효율적 코팅에 유리하다. 실시예 배합물 4에 의해 증명된 바와 같이, 본 발명의 광중합체 배합물은 또한 N-에틸피롤리돈을 생략하는 것을 가능하게 하며, 그로 인해 고원 탄성률에서의 추가적 증가 및 경화 시간에 따른 그의 증가를 제공한다.
홀로그래픽 특성을 측정하기 위해 매체의 제조
실시예 매체 1
폴리올 성분 1의 3.38 g을 아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 1의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g, CGI 909 (바스프 에스이 (스위스 바젤)로부터의 제품) 0.10 g, 실시예 25로부터의 염료 0.017 g 및 N-에틸피롤리돈 0.35 g과 함께 60℃에서 혼합하여 투명한 용액을 수득하였다. 이어서, 용액을 30℃로 냉각시키고, 데스모두르® N3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게 (독일 레버쿠젠)로부터의 상업용 제품, 헥산 디이소시아네이트-기재 폴리이소시아네이트, 이미노옥사디아진디온에 대한 비율 적어도 30%, NCO 함량: 23.5%) 0.65 g을 첨가한 후에, 혼합을 재개하였다. 마지막으로, 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤) 0.01 g을 첨가하고, 다시 간단히 혼합하였다. 이어서, 수득된 액체 물질을 유리 플레이트에 적용하고, 그 위에 제2 유리 플레이트로 덮었다. 이 샘플 시편을 경화시키기 위해 12시간 동안 실온에서 그대로 두었다.
실시예 매체 2
폴리올 성분 1의 3.38 g을 아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 1의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g, 에틸 아세테이트 중 CGI 909 (바스프 에스이 (스위스 바젤)로부터의 제품) 0.10 g의 30 중량% 용액의 혼합물, 및 실시예 9로부터의 9.68 중량% 염료 용액 0.103 g과 함께 60℃에서 혼합하여 투명한 용액을 수득하였다. 이어서, 용액을 30℃로 냉각시키고, 데스모두르® N3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게 (독일 레버쿠젠)로부터의 상업용 제품, 헥산 디이소시아네이트-기재 폴리이소시아네이트, 이미노옥사디아진디온에 대한 비율 적어도 30%, NCO 함량: 23.5%) 0.65 g을 첨가한 후에, 혼합을 재개하였다. 마지막으로, 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤) 0.01 g을 첨가하고, 다시 간단히 혼합하였다. 이어서, 수득된 액체 물질을 유리 플레이트에 적용하고, 그 위에 제2 유리 플레이트로 덮었다. 이 샘플 시편을 경화시키기 위해 12시간 동안 실온에서 그대로 두었다.
실시예 매체 3
실시예 25로부터의 염료 0.017 g 대신 실시예 13으로부터의 염료 0.01 g을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 매체 1을 반복하였다.
실시예 매체 4
실시예 25로부터의 염료 0.017 g 대신에 실시예 31로부터의 염료 0.01 g을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 매체 1을 반복하였다.
비교 매체 1
폴리올 성분 1의 3.38 g을 아크릴레이트 1의 2.00 g, 아크릴레이트 1의 2.00 g, 첨가제 1의 1.50 g, CGI 909 (바스프 에스이 (스위스 바젤)로부터의 제품) 0.10 g, 비교 실시예 V-2로부터의 염료 0.010 g 및 N-에틸피롤리돈 0.35 g과 함께 60℃에서 혼합하여 투명한 용액을 수득하였다. 이어서, 용액을 30℃로 냉각시키고, 데스모두르® N3900 (바이엘 머티리얼사이언스 아게 (독일 레버쿠젠)로부터의 상업용 제품, 헥산 디이소시아네이트-기재 폴리이소시아네이트, 이미노옥사디아진디온에 대한 비율 적어도 30%, NCO 함량: 23.5%) 0.65 g을 첨가한 후에, 혼합을 재개하였다. 마지막으로, 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스의 상업용 제품, 미국 코네티컷주 윌톤) 0.01 g을 첨가하고, 다시 간단히 혼합하였다. 이어서, 수득된 액체 물질을 유리 플레이트에 적용하고, 그 위에 제2 유리 플레이트로 덮었다. 이 샘플 시편을 경화시키기 위해 12시간 동안 실온에서 그대로 두었다.
홀로그래픽 시험:
기재된 바와 같이 수득된 매체를 후속적으로 상기 기재된 방식으로 도 1에 따른 측정 배열을 이용하여 그의 홀로그래픽 특성에 대해서 시험하였다. 하기 측정치는 선량 E [mJ/cm2]에서의 Δnsat에 대해서 수득되었다.
표 6: 선택된 예의 홀로그래픽 평가
Figure 112013040113401-pct00207
밝혀진 값은 광중합체 배합물에 사용된 본 발명의 염료가 높은 Δnsat 값으로 인하여 홀로그래픽 매체에 매우 유용하고, 매트릭스 네트워크의 경화시 더 신속한 탄성률 증가를 제공하고, 이들을 사용하여 더 높은 고원 탄성률 G0를 제공하며, 이에 따라 매트릭스 중합체의 더 완전한 가교가 달성된다는 것을 나타낸다.
더욱이, 본 발명의 광중합체 배합물은 또한 홀로그래픽 매체에서 더 높은 감광성을 나타내었다. 달성된 Δn 대 노출 선량 E를 플롯팅한 도 7에 의해 나타내어지는 바와 같이, 홀로그래픽 기록은 실시예 매체 1에서 비교 매체 1보다 더 낮은 선량 E에서 발생한다.
실시예 매체 1-4와 유사한 방식으로, 실시예 1-8, 10-12, 14-24, 26-30 및 32-106의 본 발명의 염료는 필적하는 홀로그래픽 데이터를 갖는 홀로그래픽 매체를 수득하는 것을 가능하게 한다.

Claims (18)

  1. 폴리올 성분, 폴리이소시아네이트 성분, 기록 단량체, 및 공개시제와 화학식 F+An-의 염료 (식 중, F+는 양이온성 염료를 나타내고, An-는 음이온을 나타냄)를 함유하는 광개시제를 포함하며, 여기서 화학식 F+An-의 염료는 5% 이하의 수팽윤도를 갖는 것을 특징으로 하고,
    수팽윤도 W는 하기 식 F-1로부터 계산되고,
    <식 F-1>
    Figure 112017071117920-pct00216

    (식 중, mf는 수분 포화 후 염료의 질량이고, mt는 건조 염료의 질량임)
    음이온 An-가 1 내지 6.5의 범위의 AClogP를 갖는 광중합체 배합물.
  2. 제1항에 있어서, 염료가 3% 이하의 수팽윤도를 갖는 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 음이온 An-가 1-4의 범위의 AClogP를 갖는 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 음이온 An-가 150 g/mol 초과의 몰 질량을 갖는 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 음이온 An-가 적어도 인, 붕소 또는 황 원자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 음이온 An-가 1개 또는 1개 초과의 선형 또는 분지형 지방족 모이어티를 갖거나, 또는 1개 초과의 선형 또는 분지형 지방족 모이어티를 갖는 경우에, 이들이 함께 8 내지 36개의 탄소 원자를 갖는 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 음이온 An-가 C8- 내지 C25-알칸술포네이트, C3- 내지 C18-퍼플루오로알칸술포네이트, C9- 내지 C25-알카노에이트, C9- 내지 C25-알케노에이트, C8- 내지 C25-알킬 술페이트, C8- 내지 C25-알케닐 술페이트, C3- 내지 C18-퍼플루오로알킬 술페이트, 폴리에테르 술페이트 (4 당량 이상의 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드 또는 둘 다를 기재로 함), 비스-C4- 내지 C25-알킬, C5- 내지 C7-시클로알킬, C3- 내지 C8-알케닐 또는 C7- 내지 C11-아르알킬 술포숙시네이트, 비스-C2- 내지 C10-알킬 술포숙시네이트 (8개 이상의 플루오린 원자에 의해 치환됨), C8- 내지 C25-알킬 술포아세테이트, 벤젠술포네이트 (할로겐, C4- 내지 C25-알킬, 퍼플루오로-C1- 내지 C8-알킬 및 C1- 내지 C12-알콕시카르보닐로 이루어진 군으로부터의 1개 이상의 모이어티에 의해 치환됨), 임의로 니트로-, 시아노-, 히드록실-, C1- 내지 C25-알킬-, C1- 내지 C12-알콕시-, 아미노-, C1- 내지 C12-알콕시카르보닐- 또는 염소-치환된 나프탈렌- 또는 비페닐술포네이트, 임의로 니트로-, 시아노-, 히드록실-, C1- 내지 C25-알킬-, C1- 내지 C12-알콕시-, C1- 내지 C12-알콕시카르보닐- 또는 염소-치환된 벤젠-, 나프탈렌- 또는 비페닐디술포네이트, 디니트로-, C6- 내지 C25-알킬-, C4- 내지 C12-알콕시카르보닐-, 벤조일-, 클로로벤조일- 또는 톨루오일-치환된 벤조에이트, 나프탈렌디카르복실산의 음이온, 디페닐 에테르 디술포네이트, 지방족 C1- 내지 C8-알콜 또는 글리세롤의 술폰화 또는 황산화된 임의로 단일불포화 또는 다중불포화된 C8- 내지 C25-지방산 에스테르, 비스(술포-C2- 내지 C6-알킬) C3- 내지 C12-알칸디카르복실산 에스테르, 비스(술포-C2- 내지 C6-알킬) 이타콘산 에스테르, (술포-C2- 내지 C6-알킬) C6- 내지 C18-알칸카르복실산 에스테르, 및 (술포-C2- 내지 C6-알킬) 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르로 이루어지는 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 음이온 An-가 sec-C11- 내지 C18-알칸술포네이트, C13- 내지 C25-알킬 술페이트, 분지형 C8- 내지 C25-알킬 술페이트, 임의로 분지형 비스-C6- 내지 C25-알킬 술포숙시네이트, sec- 또는 tert-C4- 내지 C25-알킬벤젠술포네이트, 지방족 C1- 내지 C8-알콜 또는 글리세롤의 술폰화 또는 황산화된 임의로 단일불포화 또는 다중불포화된 C8- 내지 C25-지방산 에스테르, 비스(술포-C2- 내지 C6-알킬) C3- 내지 C12-알칸디카르복실산 에스테르, 및 (술포-C2- 내지 C6-알킬) C6- 내지 C18-알칸카르복실산 에스테르로 이루어지는 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 양이온성 염료 F+가 아크리딘, 크산텐, 티오크산텐, 페나진, 페녹사진, 페노티아진, 트리(헤트)아릴메탄, 모노-, 디- 및 트리메틴시아닌, 헤미시아닌, 외부 양이온성 메로시아닌, 외부 양이온성 뉴트로시아닌, 눌메틴, 및 스트렙토시아닌 염료로 이루어지는 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 폴리이소시아네이트 성분이 1급 NCO 기를 갖는 지방족 폴리이소시아네이트 또는 예비중합체인 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서, 폴리올 성분이 1급 OH 관능기를 갖는, 이관능성 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리에테르-폴리에스테르 블록 코폴리에스테르인 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  12. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기록 단량체가 적어도 일관능성 및 다관능성 우레탄 (메트)아크릴레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
  13. 제1항 또는 제2항에 있어서, 하기 화학식 CI에 따른 가소제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 광중합체 배합물.
    <화학식 CI>
    Figure 112017071117920-pct00217

    상기 식에서, s는 1 이상 8 이하이고, R300, R301, R302는 서로 독립적으로 수소, 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭 비치환 또는 헤테로원자-치환된 유기 모이어티이고, 여기서 R300, R301, R302 중 적어도 1개는 적어도 플루오린 원자로 치환된다.
  14. 제1항 또는 제2항에 따른 광중합체 배합물을 함유하는 홀로그래픽 매체.
  15. 제14항에 있어서, 인-라인, 오프-액시스, 완전-구경 전사, 백색광 투과, 데니슈크, 오프-액시스 반사 또는 에지-릿 홀로그램 또는 홀로그래픽 스테레오그램의 기록을 위해 사용되는 홀로그래픽 매체.
  16. 제15항에 있어서, 광학 소자, 영상 또는 영상 프리젠테이션의 제조를 위해 사용되는 홀로그래픽 매체.
  17. 하기 화학식의 염료.
    F+An-
    상기 식에서,
    F+는 양이온성 염료를 나타내고,
    An-는 음이온을 나타내며,
    상기 음이온 An-는 sec-알킬벤젠술포네이트, 2급화 및 분지형 알킬 술페이트, n-알킬 술페이트, sec-알킬술포네이트, 술포숙시네이트, 에스테르 술페이트 및 에스테르 술포네이트의 군으로부터 선택되고,
    여기서 화학식 F+An-의 염료는 5% 이하의 수팽윤도를 갖고,
    수팽윤도 W는 하기 식 F-1로부터 계산되고,
    <식 F-1>
    Figure 112017071117920-pct00218

    (식 중, mf는 수분 포화 후 염료의 질량이고, mt는 건조 염료의 질량임)
    음이온 An-가 1 내지 6.5의 범위의 AClogP를 갖는 것을 특징으로 한다.
  18. 제17항에 있어서, 양이온성 염료 F+가 아크리딘, 크산텐, 티오크산텐, 페나진, 페녹사진, 페노티아진, 트리(헤트)아릴메탄, 모노-, 디- 및 트리메틴시아닌, 헤미시아닌, 외부 양이온성 메로시아닌, 외부 양이온성 뉴트로시아닌, 눌메틴 및 스트렙토시아닌 염료의 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 염료.
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WO (1) WO2012062655A2 (ko)

Families Citing this family (101)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0522968D0 (en) 2005-11-11 2005-12-21 Popovich Milan M Holographic illumination device
GB0718706D0 (en) 2007-09-25 2007-11-07 Creative Physics Ltd Method and apparatus for reducing laser speckle
US9335604B2 (en) 2013-12-11 2016-05-10 Milan Momcilo Popovich Holographic waveguide display
US11726332B2 (en) 2009-04-27 2023-08-15 Digilens Inc. Diffractive projection apparatus
US9341846B2 (en) 2012-04-25 2016-05-17 Rockwell Collins Inc. Holographic wide angle display
PL2317511T3 (pl) * 2009-11-03 2012-08-31 Bayer Materialscience Ag Formulacje fotopolimerowe z nastawialnym mechanicznym modułem Guv
US8771904B2 (en) * 2009-11-03 2014-07-08 Bayer Materialscience Ag Method for producing holographic media
US8808946B2 (en) * 2009-11-03 2014-08-19 Bayer Materialscience Ag Urethane acrylate having a high refractive index and reduced double bond density
KR101746883B1 (ko) * 2009-11-03 2017-06-27 코베스트로 도이칠란드 아게 홀로그래피 필름의 제조 방법
WO2011067057A1 (de) * 2009-11-03 2011-06-09 Bayer Materialscience Ag Verfahren zur herstellung eines holographischen films
ES2535950T3 (es) * 2009-11-03 2015-05-19 Bayer Intellectual Property Gmbh Uretanos como aditivos en una formulación de fotopolímeros
KR101782182B1 (ko) * 2009-11-03 2017-09-26 코베스트로 도이칠란드 아게 상이한 기록 공단량체를 갖는 광중합체 제제
WO2011095442A1 (de) * 2010-02-02 2011-08-11 Bayer Materialscience Ag Photopolymer-formulierung mit ester-basierten schreibmonomeren
JP6023592B2 (ja) * 2010-02-02 2016-11-09 バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングＢａｙｅｒ Ｉｎｔｅｌｌｅｃｔｕａｌ Ｐｒｏｐｅｒｔｙ ＧｍｂＨ トリアジン系書込モノマー含有感光性ポリマー組成物
EP2450893A1 (de) * 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren
US9274349B2 (en) 2011-04-07 2016-03-01 Digilens Inc. Laser despeckler based on angular diversity
WO2016020630A2 (en) 2014-08-08 2016-02-11 Milan Momcilo Popovich Waveguide laser illuminator incorporating a despeckler
EP2748670B1 (en) 2011-08-24 2015-11-18 Rockwell Collins, Inc. Wearable data display
US10670876B2 (en) 2011-08-24 2020-06-02 Digilens Inc. Waveguide laser illuminator incorporating a despeckler
WO2013102759A2 (en) 2012-01-06 2013-07-11 Milan Momcilo Popovich Contact image sensor using switchable bragg gratings
TWI557187B (zh) * 2012-05-03 2016-11-11 拜耳材料科學股份有限公司 用於光聚合物之新穎光起始劑
WO2013167864A1 (en) 2012-05-11 2013-11-14 Milan Momcilo Popovich Apparatus for eye tracking
US9933684B2 (en) * 2012-11-16 2018-04-03 Rockwell Collins, Inc. Transparent waveguide display providing upper and lower fields of view having a specific light output aperture configuration
JP6334876B2 (ja) * 2012-12-26 2018-05-30 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP6539760B2 (ja) * 2012-12-26 2019-07-03 東京応化工業株式会社 化合物
WO2014188149A1 (en) 2013-05-20 2014-11-27 Milan Momcilo Popovich Holographic waveguide eye tracker
WO2015015138A1 (en) 2013-07-31 2015-02-05 Milan Momcilo Popovich Method and apparatus for contact image sensing
JP6446446B2 (ja) * 2013-10-17 2018-12-26 コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ Ａｇ 低Ｔｇを持つボラートを含むホログラフィック媒体の製造のためのフォトポリマー配合物
WO2015063064A1 (de) 2013-10-30 2015-05-07 Bayer Materialscience Ag Verbund umfassend ein substrat und einen photopolymerfilm
US9804490B2 (en) 2013-12-20 2017-10-31 Covestro Deutschland Ag Holographic media with improved light sensitivity
JP6256037B2 (ja) * 2014-01-22 2018-01-10 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 着色組成物、カラーフィルタ用着色組成物、および、カラーフィルタ
KR102382218B1 (ko) 2014-04-25 2022-04-05 코베스트로 도이칠란트 아게 홀로그래픽 광중합체 배합물에서의 기록 단량체로서의 방향족 글리콜 에테르
US10359736B2 (en) 2014-08-08 2019-07-23 Digilens Inc. Method for holographic mastering and replication
WO2016042283A1 (en) 2014-09-19 2016-03-24 Milan Momcilo Popovich Method and apparatus for generating input images for holographic waveguide displays
US10423222B2 (en) 2014-09-26 2019-09-24 Digilens Inc. Holographic waveguide optical tracker
WO2016091965A1 (de) 2014-12-12 2016-06-16 Covestro Deutschland Ag Naphthylacrylate als schreibmonomere für photopolymere
WO2016096639A1 (en) * 2014-12-17 2016-06-23 Covestro Deutschland Ag Photopolymer comprising a new class of photo initiator
KR102498092B1 (ko) 2014-12-19 2023-02-09 코베스트로 도이칠란트 아게 수분-안정성 홀로그래픽 매체
EP3245551B1 (en) 2015-01-12 2019-09-18 DigiLens Inc. Waveguide light field displays
CN111323867A (zh) 2015-01-12 2020-06-23 迪吉伦斯公司 环境隔离的波导显示器
TWI698326B (zh) 2015-01-14 2020-07-11 德商科思創德意志股份有限公司 以全相光學元件製備光學鑄件之方法及光學鑄件
CN107533137A (zh) 2015-01-20 2018-01-02 迪吉伦斯公司 全息波导激光雷达
US9632226B2 (en) 2015-02-12 2017-04-25 Digilens Inc. Waveguide grating device
JP6770534B2 (ja) 2015-02-17 2020-10-21 アリゾナ ボード オブ リージェンツ オン ビハーフ オブ アリゾナ ステート ユニバーシティ 治療用化合物
CA2976776C (en) * 2015-02-17 2023-06-20 Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University Phenothiazine analogues as mitochondrial therapeutic agents
US10459145B2 (en) 2015-03-16 2019-10-29 Digilens Inc. Waveguide device incorporating a light pipe
US10591756B2 (en) 2015-03-31 2020-03-17 Digilens Inc. Method and apparatus for contact image sensing
TW201718525A (zh) 2015-06-23 2017-06-01 科思創德意志股份有限公司 新穎之經取代三
JP2018526475A (ja) * 2015-06-23 2018-09-13 コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ Ａｇ 鎖置換されたシアニン色素を含むホログラフィック媒体
CN113759555B (zh) 2015-10-05 2024-09-20 迪吉伦斯公司 波导显示器
EP3166109A1 (de) 2015-11-09 2017-05-10 Covestro Deutschland AG Kit-of-parts enthaltend versiegellungsschicht und photopolymer
US10983340B2 (en) 2016-02-04 2021-04-20 Digilens Inc. Holographic waveguide optical tracker
JP2017149805A (ja) * 2016-02-22 2017-08-31 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット用インク、及び捺染方法
CN108780224B (zh) 2016-03-24 2021-08-03 迪吉伦斯公司 用于提供偏振选择性全息波导装置的方法和设备
US10890707B2 (en) 2016-04-11 2021-01-12 Digilens Inc. Holographic waveguide apparatus for structured light projection
WO2018039077A1 (en) 2016-08-25 2018-03-01 Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University Therapeutic compounds
CN109890830A (zh) 2016-11-09 2019-06-14 科思创德国股份有限公司 制造三芳基-有机-硼酸盐的方法
US11098066B2 (en) 2016-11-09 2021-08-24 Covestro Deutschland Ag Method for producing triarylorganoborates
CN110177797B (zh) 2016-11-09 2022-09-23 科思创德国股份有限公司 制备三芳基有机硼酸盐的方法
US11513350B2 (en) 2016-12-02 2022-11-29 Digilens Inc. Waveguide device with uniform output illumination
WO2018129398A1 (en) 2017-01-05 2018-07-12 Digilens, Inc. Wearable heads up displays
TW201906882A (zh) 2017-05-09 2019-02-16 德商科思創德意志股份有限公司 含有用於全像照射的光聚合物層及高度耐性漆層之薄膜結構
TW201906729A (zh) 2017-05-09 2019-02-16 德商科思創德意志股份有限公司 用於保護光聚合物薄膜複合物中的全像圖之由兩層可乾燥施用之ｕｖ固化漆層構成的系統
EP3622511B1 (de) 2017-05-09 2022-04-27 Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit
EP3401909A1 (de) 2017-05-09 2018-11-14 Covestro Deutschland AG Folienaufbau enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit
TW201906730A (zh) 2017-05-09 2019-02-16 德商科思創德意志股份有限公司 用於保護光聚合物膜複合物中之全像圖之含ｕｖ硬化性黏著層的塑膠膜
EP3401910A1 (de) 2017-05-09 2018-11-14 Covestro Deutschland AG Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit
EP3435156A1 (de) 2017-07-26 2019-01-30 Covestro Deutschland AG Schutzschicht für photopolymer
US10942430B2 (en) 2017-10-16 2021-03-09 Digilens Inc. Systems and methods for multiplying the image resolution of a pixelated display
KR102268129B1 (ko) * 2017-10-16 2021-06-22 주식회사 엘지화학 비반응성 불소계 화합물 및 이를 포함하는 광중합성 조성물
EP3495886A1 (de) 2017-12-06 2019-06-12 Covestro Deutschland AG Klebstofffreier photopolymerschichtaufbau
KR102244648B1 (ko) * 2017-12-08 2021-04-26 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
KR20200108030A (ko) 2018-01-08 2020-09-16 디지렌즈 인코포레이티드. 도파관 셀 내의 홀로그래픽 격자의 높은 처리능력의 레코딩을 위한 시스템 및 방법
WO2019136476A1 (en) 2018-01-08 2019-07-11 Digilens, Inc. Waveguide architectures and related methods of manufacturing
WO2019135837A1 (en) 2018-01-08 2019-07-11 Digilens, Inc. Systems and methods for manufacturing waveguide cells
US10690851B2 (en) 2018-03-16 2020-06-23 Digilens Inc. Holographic waveguides incorporating birefringence control and methods for their fabrication
KR102228538B1 (ko) 2018-06-01 2021-03-15 주식회사 엘지화학 염료 화합물 및 포토폴리머 조성물
US11402801B2 (en) 2018-07-25 2022-08-02 Digilens Inc. Systems and methods for fabricating a multilayer optical structure
TWI833785B (zh) * 2018-08-09 2024-03-01 日商三菱化學股份有限公司 全像記錄媒體用組合物及全像記錄媒體
KR102239212B1 (ko) * 2018-12-14 2021-04-12 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
WO2020122678A1 (ko) * 2018-12-14 2020-06-18 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
JP2022520472A (ja) 2019-02-15 2022-03-30 ディジレンズ インコーポレイテッド 統合された格子を使用してホログラフィック導波管ディスプレイを提供するための方法および装置
KR20210134763A (ko) 2019-03-12 2021-11-10 디지렌즈 인코포레이티드. 홀로그래픽 도파관 백라이트 및 관련된 제조 방법
CN113316572A (zh) * 2019-04-26 2021-08-27 株式会社艾迪科 多次甲基化合物
CN114207492A (zh) 2019-06-07 2022-03-18 迪吉伦斯公司 带透射光栅和反射光栅的波导及其生产方法
KR20220038452A (ko) 2019-07-29 2022-03-28 디지렌즈 인코포레이티드. 픽셀화된 디스플레이의 이미지 해상도와 시야를 증배하는 방법 및 장치
EP3772671A1 (de) 2019-08-06 2021-02-10 Covestro Deutschland AG Schichtaufbau für die belichtung von hologrammen
KR20220054386A (ko) 2019-08-29 2022-05-02 디지렌즈 인코포레이티드. 진공 브래그 격자 및 이의 제조 방법
JP7457577B2 (ja) * 2020-05-27 2024-03-28 住友化学株式会社 フェノチアジン系化合物及びそれを含む硬化性樹脂組成物
ES2963992T3 (es) 2021-02-11 2024-04-03 Xetos Ag Sistema 2K
EP4043502B1 (de) 2021-02-11 2023-10-04 Xetos AG Photopolymerisierbare hoe-zusammensetzung
EP4043962B1 (de) 2021-02-11 2023-06-07 Xetos AG Photopolymerisierbare zusammensetzung
EP4043963B1 (de) 2021-02-11 2023-07-05 Xetos AG Verbessertes ausbleichen
CN115386046A (zh) * 2021-05-24 2022-11-25 华为技术有限公司 全息记录介质、全息高分子材料及其制备方法、显示设备
KR20240153983A (ko) 2022-02-21 2024-10-24 코베스트로 도이칠란트 아게 Nir 광중합체 조성물의 공개시제로서의 트리아릴알킬 보레이트 염
CN118742959A (zh) * 2022-02-21 2024-10-01 科思创德国股份有限公司 可见光谱范围内的热稳定光聚合物和包含其的光聚合物组合物
CN118742960A (zh) 2022-02-21 2024-10-01 科思创德国股份有限公司 可见光谱范围内的热稳定光聚合物的光聚合物组合物
WO2023239529A2 (en) * 2022-06-09 2023-12-14 Ventana Medical Systems, Inc. On-slide synthesis of a schiff reagent
WO2024052256A1 (de) 2022-09-07 2024-03-14 Covestro Deutschland Ag Spezielle benzopyryliumsalze als farbstoffe für photopolymerzusammensetzungen
CN116789573A (zh) * 2023-06-09 2023-09-22 东莞安川新材料技术有限公司 环氧菜籽油改性分散剂及制备方法、结构胶及制备方法
CN117603246A (zh) * 2024-01-18 2024-02-27 山东海化集团有限公司 一种四苯基硼酸钠的制备方法及其在钠电中的应用

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001527565A (ja) * 1997-05-23 2001-12-25 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 光重合のためのポリボラート共開始剤
JP2005107359A (ja) * 2003-10-01 2005-04-21 Konica Minolta Medical & Graphic Inc ホログラフィック記録用組成物、ホログラフィック記録メディア、ホログラフィック記録方法およびホログラフィック情報メディア
JP2010111858A (ja) * 2008-10-01 2010-05-20 Bayer Materialscience Ag 低架橋密度を有するフォトポリマー配合物

Family Cites Families (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1158646B (de) 1959-04-25 1963-12-05 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von basischen Farbstoffen
US3619105A (en) * 1967-09-22 1971-11-09 Eastman Kodak Co Cellulose ester fiber with d,hexyl sodium sulfosuccinate therein and dyeing thereof
US3660008A (en) * 1968-04-25 1972-05-02 Du Pont Dyeing sulfonated anionic polymeric fibers with an aqueous dispersion of a salt of a cationic dye and an arylsulfonate
FR2044181A5 (ko) * 1969-05-12 1971-02-19 Pechiney Saint Gobain
US3925077A (en) * 1974-03-01 1975-12-09 Horizons Inc Photoresist for holography and laser recording with bleachout dyes
US4063889A (en) * 1975-11-24 1977-12-20 E. I. Du Pont De Nemours And Company Halosolvent dyeing process for polyester with cationic dyes having sulfosuccinate anions
US4343891A (en) * 1980-05-23 1982-08-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fixing of tetra (hydrocarbyl) borate salt imaging systems
EP0389067B1 (en) 1985-11-20 1994-10-19 The Mead Corporation Ionic dye compounds
US5057393A (en) * 1989-07-10 1991-10-15 The Mead Corporation Dye branched-alkyl borate photoinitiators
US5250391A (en) * 1990-05-10 1993-10-05 Hughes Aircraft Company Photopolymer composition and its use
JP2729701B2 (ja) * 1990-10-08 1998-03-18 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真乳剤および該乳剤を含むフルカラー記録材料
JPH04174886A (ja) * 1990-11-08 1992-06-23 Canon Inc 染料ボレート錯体を含有するホログラム記録媒体及び記録方法
US5143818A (en) * 1991-02-01 1992-09-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Borate coinitiators for photopolymerizable compositions
US5698490A (en) * 1993-07-22 1997-12-16 Sony Corporation Thermal transfer ink ribbons using the same
MY132867A (en) * 1995-11-24 2007-10-31 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc Acid-stable borates for photopolymerization
CH691684A5 (de) * 1995-11-24 2001-09-14 Ciba Sc Holding Ag Säurestabile Borate für die Photopolymerisation.
JP2002258471A (ja) * 2001-03-06 2002-09-11 Mitsubishi Paper Mills Ltd 重合性組成物及び光記録材料
US6743552B2 (en) * 2001-08-07 2004-06-01 Inphase Technologies, Inc. Process and composition for rapid mass production of holographic recording article
US6765061B2 (en) * 2001-09-13 2004-07-20 Inphase Technologies, Inc. Environmentally durable, self-sealing optical articles
ATE331288T1 (de) * 2002-05-29 2006-07-15 Inphase Tech Inc Holographische datenspeichermedien mit einer aluminiumsalzverbindung und einer asymmetrischen acrylatverbindung
JP2004287138A (ja) * 2003-03-24 2004-10-14 Konica Minolta Holdings Inc ホログラフィック記録用組成物、ホログラフィック記録メディア及びその記録方法
JP4466141B2 (ja) * 2003-09-17 2010-05-26 コニカミノルタエムジー株式会社 ホログラフィック記録用組成物、ホログラフィック記録メディア、ホログラフィック記録方法及びホログラフィック情報メディア
US20050058911A1 (en) * 2003-09-17 2005-03-17 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Holographic recording medium, holographic recording method and holographic information medium
DE102004058584A1 (de) * 2004-12-03 2006-06-08 Basf Ag Strahlungshärtbare Beschichtungsmassen
US7736818B2 (en) * 2004-12-27 2010-06-15 Inphase Technologies, Inc. Holographic recording medium and method of making it
JP2006235386A (ja) * 2005-02-25 2006-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd ホログラム記録材料およびこれを用いた光記録媒体
JP2007224229A (ja) * 2006-02-27 2007-09-06 Fujifilm Corp 放射線感応性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
JP4874689B2 (ja) * 2006-03-31 2012-02-15 富士フイルム株式会社 ホログラフィック記録用組成物及びこれを用いた光記録媒体
CA2683905A1 (en) * 2007-04-11 2008-10-23 Bayer Materialscience Ag Advantageous recording media for holographic applications
JP2009048066A (ja) * 2007-08-22 2009-03-05 Fujifilm Corp ホログラフィック記録媒体およびホログラフィック記録装置
TW200920785A (en) * 2007-09-06 2009-05-16 Nippon Paint Co Ltd Resin composition for hologram recording material, hologram recording material, and method for producing hologram recording medium
IL200997A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Special polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media
IL200722A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Photopolymer compositions for optical elements and visual displays
IL200995A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media
EP2356182B1 (de) * 2008-11-12 2015-05-06 Basf Se Strahlungshärtbare beschichtungsmassen
EP2218743A1 (de) * 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Prepolymerbasierte Polyurethanformulierungen zur Herstellung holographischer Filme
EP2219073B1 (de) * 2009-02-17 2020-06-03 Covestro Deutschland AG Holografische Medien und Photopolymerzusammensetzungen
US8808946B2 (en) * 2009-11-03 2014-08-19 Bayer Materialscience Ag Urethane acrylate having a high refractive index and reduced double bond density
WO2011067057A1 (de) * 2009-11-03 2011-06-09 Bayer Materialscience Ag Verfahren zur herstellung eines holographischen films
KR101746883B1 (ko) * 2009-11-03 2017-06-27 코베스트로 도이칠란드 아게 홀로그래피 필름의 제조 방법
EP2372454A1 (de) * 2010-03-29 2011-10-05 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung sichtbarer Hologramme
EP2450893A1 (de) * 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren
EP2450387A1 (de) * 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung für die Herstellung holographischer Medien
KR20140082692A (ko) * 2011-10-12 2014-07-02 바이엘 인텔렉쳐 프로퍼티 게엠베하 폴리우레탄-기재 광중합체 제제에서의 사슬 전달 시약
KR20140082784A (ko) * 2011-10-12 2014-07-02 바이엘 인텔렉쳐 프로퍼티 게엠베하 폴리우레탄-기재 광중합체 제제의 황-함유 사슬 전달 시약

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001527565A (ja) * 1997-05-23 2001-12-25 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 光重合のためのポリボラート共開始剤
JP2005107359A (ja) * 2003-10-01 2005-04-21 Konica Minolta Medical & Graphic Inc ホログラフィック記録用組成物、ホログラフィック記録メディア、ホログラフィック記録方法およびホログラフィック情報メディア
JP2010111858A (ja) * 2008-10-01 2010-05-20 Bayer Materialscience Ag 低架橋密度を有するフォトポリマー配合物

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