KR101739199B1 - 워크 흡착판, 워크 절단 장치, 워크 절단 방법 및 워크 흡착판의 제조 방법 - Google Patents
워크 흡착판, 워크 절단 장치, 워크 절단 방법 및 워크 흡착판의 제조 방법 Download PDFInfo
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Abstract
상기 흡착면부(32)를, 면 방향 내측의 내부 영역(32a)과 면 방향 외측의 외부 영역(32b)으로 나누고, 내부 영역(32a)의 경도를 외부 영역(32b)의 경도보다 낮게 한다.
Description
도 2는 본 발명의 실시 형태의 절단 유닛의 개략 구성을 도시하는 평면도.
도 3은 본 발명의 실시 형태의 절단 유닛의 주요부를 도시하는 사시도.
도 4는 본 발명의 실시 형태의 절단 유닛의 주요부를 도시하는 단면도.
도 5는 절단 도중의 성형 완료 기판의 제1 상태를 도시하는 평면도.
도 6은 절단 도중의 성형 완료 기판의 제2 상태를 도시하는 평면도.
도 7은 절단 도중의 성형 완료 기판(제품 영역)의 제3 상태를 도시하는 평면도.
도 8은 절단 도중의 성형 완료 기판(제품 영역)의 제4 상태를 도시하는 평면도.
도 9는 본 발명의 워크 절단 장치를 사용한 성형 완료 기판의 절단 방법의 각 공정을 나타내는 흐름도.
도 10의 (a)는 본 발명의 실시 형태의 워크 절단 장치에서 절단 처리되는 성형 완료 기판의 개략 구성을 도시하는 사시도, (b)는 성형 완료 기판으로부터 잘라내어지는 패키지 형상 전자 부품(패키지)의 개략 구성을 도시하는 사시도.
도 11은 성형 완료 기판의 구성을 더 도시하는 평면도.
도 12는 본 발명의 실시 형태의 워크 흡착판의 구성을 도시하는 단면도.
도 13은 실시 형태의 워크 흡착판의 구성을 도시하는 사시도.
도 14는 성형 완료 기판의 휨의 상태를 각각 도시하는 측면도.
도 15는 실시 형태의 워크 흡착판을 사용한 성형 완료 기판의 보유 지지 상태를 도시하는 단면도.
도 16은 실시 형태의 워크 흡착판을 제조할 때 사용하는 외형과 내형의 구성을 각각 도시하는 일부를 절단한 사시도.
도 17은 실시 형태의 워크 흡착판을 제조하는 방법의 전기 공정의 각각을 도시하는 단면도.
도 18은 실시 형태의 워크 흡착판을 제조하는 방법의 후기 공정의 각각을 도시하는 단면도.
도 19는 본 발명의 변형예의 워크 흡착판의 구성을 도시하는 단면도.
도 20은 변형예의 워크 흡착판을 제조하는 방법의 주요부 공정을 각각 도시하는 단면도.
도 21은 성형 완료 기판에 있어서의 제품 영역과, 흡착면부에 있어서의 내부 영역과 외부 영역의 경계와의 위치 관계의 설명에 제공하는 도면으로, (a)는 성형 완료 기판을 흡착면부에 흡착시키기 직전의 상태를 도시하는 도면, (b)는 흡착 후의 상태를 도시하는 도면.
1a : 기판면
1b : 수지면
1c : 블록 영역
1c' : 제품 영역
1d : 단부재 영역
1e : 얼라인먼트 마크
1f : 성형 완료 기판의 외주연(단부재 영역의 외주연)
1g : 단부재 영역의 내주연(블록 영역의 외주연)
2 : 기판
2a : 기판면
2b : 몰드면
3 : 수지 성형체
4a : 가상 절단선(긴 변 방향)
4b : 가상 절단선(짧은 변 방향)
5 : 패키지 형상 전자 부품(패키지)
5a : 기판면
5b : 몰드면
6 : 기판부
7 : 수지부
9 : 워크 절단 장치
9a : 장치 전방면
9b : 장치 후방면
10 : 연결구
11 : 기판 정렬 기구부
12 기판 절단 기구부
13 : 기판 공급대
14 : 기판 회전 정렬 수단
15a : 제1 기판 적재 수단
15b : 제2 기판 적재 수단
16a : 제1 왕복 이동 수단
16b : 제2 왕복 이동 수단
17a : 제1 절단 테이블
17b : 제2 절단 테이블
18 : 회전 기구
19 : 테이블 장착대
20 : 적재면
21 : 워크 흡착판
21' : 워크 흡착판
21a : 관통 구멍
22 : 가이드 레일 부재
23 : 미끄럼 이동 부재
24 : 기판 적재 위치
25 : 기판 절단 위치
26a : 제1 절단 테이블(17a)의 이동 영역
26b : 제2 절단 테이블(17b)의 이동 영역
27a : 얼라인먼트 기구
27b : 얼라인먼트 기구
28 : 제1 절단 수단
29 : 제2 절단 수단
30 : 세정부
31 : 베이스판
31a : 기부
31b : 적재부
32 : 흡착면부
32' : 흡착면부
32a : 내부 영역
32b : 외부 영역
32c : 하층 영역
32d : 상층 영역
33a : 외부 영역의 외주연
33b : 외부 영역의 내주연(내부 영역의 외주연)
34 : 흡인 기구
34a : 흡인 구멍부
34b : 흡인 장치
41 : 기판 장전부
42 : 압출 부재
43 : 패키지 공급부
44 : 패키지 검사부
45 : 검사용 카메라
46 : 패키지 선별 수단
47 : 양품 트레이
48 : 불량품 트레이
50 : 외형
50' : 금형
50a : 외부 영역 형성 영역
50b : 내부 영역 형성 영역
51 : 내형
52 : 캐비티
60A : 제1 수지 재료
60B : 제2 수지 재료
60C : 제3 수지 재료
60D : 제4 수지 재료
61 : 진공 데시케이터
62 : 기포
63 : 오븐
64 : 경계
A : 기판 장전 유닛
B : 절단 유닛
C : 패키지 검사 유닛
D : 패키지 수납 유닛
E : 제어부
H : 캐비티의 깊이 치수
r : 적재부의 높이 치수
r' : 제1, 제2 수지 재료의 충전 높이 치수
s : 내형의 높이 치수
t : 흡착면부의 높이 치수
t' : 제1, 제2 수지 재료의 충전 높이 치수
u : 상층 영역의 높이 치수
u' : 제3 수지 재료의 충전 높이 치수
v : 하층 영역의 높이 치수
v' : 제4 수지 재료의 충전 높이 치수
w : 외부 영역의 프레임 폭
Claims (10)
- 평판 형상 워크를 절단하여 개편화할 때, 상기 평판 형상 워크를 흡착 지지하는 워크 흡착판이며,
상기 평판 형상 워크를 흡착하는 흡착면부와,
상기 흡착면부를 지지하는 베이스판을 구비하고,
상기 흡착면부는, 면 방향 내측의 내부 영역과, 상기 내부 영역을 면 방향 외측에서 둘러싸는 외부 영역으로 나누어짐과 함께,
상기 내부 영역과 상기 외부 영역은 상기 면 방향 전체에 걸쳐 상기 면 방향 내측으로부터 상기 면 방향 외측을 향하여 동일면을 이루어 연속하고,
상기 내부 영역 및 상기 외부 영역 모두 상기 흡착면부를 관통하는 하나 또는 복수의 관통 구멍이 형성되고,
상기 내부 영역의 경도가 상기 외부 영역의 경도보다 낮고,
상기 평판 형상 워크는, 상기 내부 영역의 위와 상기 외부 영역의 위에 걸쳐서 흡착 지지되고,
상기 베이스판의 상면에 상기 흡착면부의 하면이 상기 흡착면부의 하면의 전체 면에 걸쳐서 적층 배치되고,
상기 평판 형상 워크가 상기 흡착면부에 흡착되는 때에, 상기 베이스판에 의해 지지된 상기 흡착면부의 표면 형상이 상기 평판 형상 워크의 형상에 추종하여 변형되고,
상기 내부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도가, 상기 외부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도보다도 크고,
상기 내부 영역을 제1 영역으로 하고, 상기 외부 영역을 제2 영역으로 하는 것을 특징으로 하는, 워크 흡착판. - 평판 형상 워크를 절단하여 개편화할 때, 상기 평판 형상 워크를 흡착 지지하는 워크 흡착판이며,
상기 평판 형상 워크를 흡착하는 흡착면부와, 상기 흡착면부를 지지하는 베이스판을 구비하고,
상기 흡착면부는, 면 방향 내측의 내부 영역과, 상기 내부 영역을 면 방향 외측에서 둘러싸는 외부 영역으로 나누어짐과 함께,
상기 내부 영역과 상기 외부 영역은 상기 면 방향 전체에 걸쳐 상기 면 방향 내측으로부터 상기 면 방향 외측을 향하여 동일면을 이루어 연속하고,
상기 내부 영역 및 상기 외부 영역 모두 상기 흡착면부를 관통하는 하나 또는 복수의 관통 구멍이 형성되고,
상기 외부 영역의 경도가 상기 내부 영역의 경도보다 낮고,
상기 평판 형상 워크는, 상기 내부 영역의 위와 상기 외부 영역의 위에 걸쳐서 흡착 지지되고,
상기 베이스판의 상면에 상기 흡착면부의 하면이 상기 흡착면부의 하면의 전체 면에 걸쳐서 적층 배치되고,
상기 평판 형상 워크가 상기 흡착면부에 흡착되는 때에, 상기 베이스판에 의해 지지된 상기 흡착면부의 표면 형상이 상기 평판 형상 워크의 형상에 추종하여 변형되고,
상기 외부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도가, 상기 내부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도보다도 크고,
상기 외부 영역을 제1 영역으로 하고, 상기 내부 영역을 제2 영역으로 하는 것을 특징으로 하는, 워크 흡착판. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1 영역을 쇼어 A 경도 50∼40의 저경도 러버재로 구성하고,
상기 제2 영역을 쇼어 A 경도 70∼60의 고경도 러버재로 구성하는 것을 특징으로 하는, 워크 흡착판. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 평판 형상 워크는, 복수의 제품이 형성된 제품 영역과, 상기 제품 영역의 주위에 설치된 단부재 영역을 구비한 성형 완료 기판이고,
상기 외부 영역은, 상기 평판 형상 워크가 당해 흡착판에 흡착 보유 지지될 때, 적어도 상기 단부재 영역에 대향하는 영역이고,
상기 내부 영역은, 상기 평판 형상 워크가 당해 흡착판에 흡착 보유 지지될 때, 적어도 상기 제품 영역에 대향하는 영역인 것을 특징으로 하는, 워크 흡착판. - 제1항 또는 제2항에 기재된 워크 흡착판과,
상기 흡착판에 흡착된 상기 평판 형상 워크를 절단하여 개편화하는 절단 수단을 구비하는, 워크 절단 장치. - 내부 영역과 상기 내부 영역을 면 방향 외측에서 둘러싸는 외부 영역을 갖는 흡착면부와, 상기 흡착면부를 지지하는 베이스판을 구비하고, 상기 내부 영역과 상기 외부 영역은 상기 면 방향 전체에 걸쳐 상기 면 방향 내측으로부터 상기 면 방향 외측을 향하여 동일면을 이루어 연속하고, 상기 내부 영역 및 상기 외부 영역 모두 상기 흡착면부를 관통하는 하나 또는 복수의 관통 구멍이 형성되고, 상기 내부 영역의 경도가 상기 외부 영역의 경도보다 낮은, 워크 흡착판을 준비하는 준비 공정과,
제품 영역과 상기 제품 영역의 외주가 단부재 영역으로 둘러싸이고 또한 상기 제품 영역에 있어서의 한쪽 면의 중앙부가 볼록 형상으로 휘는 평판 형상 워크를, 상기 흡착면부의 상기 내부 영역 상에는 상기 평판 형상 워크의 상기 한쪽 면측의 제품 영역을 배치하고, 상기 외부 영역 상에는 상기 단부재 영역을 배치하는 배치 공정과,
상기 내부 영역에 형성한 상기 관통 구멍을 통한 진공 흡인에 의해 상기 제품 영역을 흡착하여 보유 지지하고, 상기 외부 영역에 형성한 상기 관통 구멍을 통한 진공 흡인에 의해 상기 단부재 영역을 흡착하여 보유 지지하는 보유 지지 공정과,
상기 워크 흡착판에 흡착 보유 지지시킨 상기 평판 형상 워크에 있어서의 상기 제품 영역을 복수의 블록 영역으로 절단하여 분리함과 함께 상기 제품 영역과 상기 단부재 영역을 절단하여 분리하는 절단 공정을 포함하고,
상기 보유 지지 공정에서는, 상기 흡착면부의 상기 내부 영역과 상기 외부 영역에 의해 구성되는 상기 동일면에 있어서의 상기 관통 구멍 이외의 부분에 상기 평판 형상 워크의 상기 한쪽 면을 밀착시키고,
상기 평판 형상 워크는, 상기 내부 영역의 위와 상기 외부 영역의 위에 걸쳐서 흡착 지지되고,
상기 베이스판의 상면에 상기 흡착면부의 하면이 상기 흡착면부의 하면의 전체 면에 걸쳐서 적층 배치되고,
상기 평판 형상 워크가 상기 흡착면부에 흡착되는 때에, 상기 베이스판에 의해 지지된 상기 흡착면부의 표면 형상이 상기 평판 형상 워크의 형상에 추종하여 변형되고,
상기 내부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도가, 상기 외부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도보다도 크고,
상기 내부 영역을 제1 영역으로 하고, 상기 외부 영역을 제2 영역으로 하는 것을 특징으로 하는, 워크 절단 방법. - 내부 영역과 상기 내부 영역을 면 방향 외측에서 둘러싸는 외부 영역을 갖는 흡착면부와, 상기 흡착면부를 지지하는 베이스판을 구비하고, 상기 내부 영역과 상기 외부 영역은 상기 면 방향 전체에 걸쳐 상기 면 방향 내측으로부터 상기 면 방향 외측을 향하여 동일면을 이루어 연속하고, 상기 내부 영역 및 상기 외부 영역 모두 상기 흡착면부를 관통하는 하나 또는 복수의 관통 구멍이 형성되고, 상기 외부 영역의 경도가 상기 내부 영역의 경도보다 낮은, 워크 흡착판을 준비하는 준비 공정과,
제품 영역과 상기 제품 영역의 외주가 단부재 영역으로 둘러싸이고 또한 상기 제품 영역에 있어서의 한쪽 면의 중앙부가 오목 형상으로 휘는 평판 형상 워크를, 상기 흡착면부의 상기 내부 영역 상에는 상기 평판 형상 워크의 상기 한쪽 면측의 제품 영역을 배치하고, 상기 외부 영역 상에는 상기 단부재 영역을 배치하는 배치 공정과,
상기 내부 영역에 형성한 상기 관통 구멍을 통한 진공 흡인에 의해 상기 제품 영역을 흡착하여 보유 지지하고, 상기 외부 영역에 형성한 상기 관통 구멍을 통한 진공 흡인에 의해 상기 단부재 영역을 흡착하여 보유 지지하는 보유 지지 공정과,
상기 워크 흡착판에 흡착 보유 지지시킨 상기 평판 형상 워크에 있어서의 상기 제품 영역을 복수의 블록 영역으로 절단하여 분리함과 함께 상기 제품 영역과 상기 단부재 영역을 절단하여 분리하는 절단 공정을 포함하고,
상기 보유 지지 공정에서는, 상기 흡착면부의 상기 내부 영역과 상기 외부 영역에 의해 구성되는 상기 동일면에 있어서의 상기 관통 구멍 이외의 부분에 상기 평판 형상 워크의 상기 한쪽 면을 밀착시키고,
상기 평판 형상 워크는, 상기 내부 영역의 위와 상기 외부 영역의 위에 걸쳐서 흡착 지지되고,
상기 베이스판의 상면에 상기 흡착면부의 하면이 상기 흡착면부의 하면의 전체 면에 걸쳐서 적층 배치되고,
상기 평판 형상 워크가 상기 흡착면부에 흡착되는 때에, 상기 베이스판에 의해 지지된 상기 흡착면부의 표면 형상이 상기 평판 형상 워크의 형상에 추종하여 변형되고,
상기 외부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도가, 상기 내부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도보다도 크고,
상기 외부 영역을 제1 영역으로 하고, 상기 내부 영역을 제2 영역으로 하는 것을 특징으로 하는, 워크 절단 방법. - 제6항 또는 제7항에 있어서,
상기 준비 공정에서는, 상기 워크 흡착판으로서, 상기 제1 영역이 쇼어 A 경도 50∼40의 저경도 러버재로 구성되고, 상기 제2 영역이 쇼어 A 경도 70∼60의 고경도 러버재로 구성된 워크 흡착판을 준비하는 것을 특징으로 하는, 워크 절단 방법. - 평판 형상 워크를 절단하여 개편화할 때, 상기 평판 형상 워크를 흡착 지지하는 흡착면부와, 상기 흡착면부에 접착되어 상기 흡착면부를 지지하는 베이스판을 구비하고, 상기 흡착면부의 면 방향 내측의 내부 영역의 경도를, 상기 내부 영역을 면 방향 외측에서 둘러싸는 상기 흡착면부의 외부 영역의 경도보다 낮게 하여 이루어지는 워크 흡착판의 제조 방법이며,
상기 흡착면부에 따른 형상의 형 내면을 갖는 외형과, 상기 내부 영역의 외주 형상에 따른 외주 형상을 갖는 프레임체로 이루어지는 내형을 준비하는 준비 공정과,
상기 외형의 내부 영역 형성 영역의 주연을 따라 상기 내형을 상기 외형에 끼움 삽입 배치한 상태에서, 외형 내주와 내형 외주의 사이에 있는 상기 외형의 외부 영역 형성 영역에, 경화 후에 상기 외부 영역으로 되는 제1 수지 재료를 상기 흡착면부의 높이 치수와 동등한 높이 치수로 충전함과 함께, 상기 외형의 상기 내부 영역 형성 영역에, 상기 제1 수지 재료보다 경화 후의 경도가 낮고 경화 후에 상기 내부 영역으로 되는 제2 수지 재료를 상기 흡착면부의 높이 치수와 동등한 높이 치수로 충전하는 수지 충전 공정과,
상기 제1, 제2 수지 재료가 서로 혼합되지 않을 정도로 경화된 시점에서, 상기 외형으로부터 상기 내형을 뽑아내어 상기 제1 수지 재료와 상기 제2 수지 재료를 밀착시키는 내형 제거 공정과,
상기 내형을 뽑아낸 상기 외형 내에서 상기 제1, 제2 수지 재료에 상기 베이스판을 접촉시켜 접착하는 베이스판 접착 공정을 포함하고,
상기 평판 형상 워크는, 상기 내부 영역의 위와 상기 외부 영역의 위에 걸쳐서 흡착 지지되고,
상기 베이스판의 상면에 상기 흡착면부의 하면이 상기 흡착면부의 하면의 전체 면에 걸쳐서 적층 배치되고,
상기 평판 형상 워크가 상기 흡착면부에 흡착되는 때에, 상기 베이스판에 의해 지지된 상기 흡착면부의 표면 형상이 상기 평판 형상 워크의 형상에 추종하여 변형되고,
상기 내부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도가, 상기 외부 영역에 있어서 상기 흡착면부의 표면 형상이 변경되는 정도보다도 큰 것을 특징으로 하는, 워크 흡착판의 제조 방법. - 제9항에 있어서,
상기 수지 충전 공정에서는, 상기 제1 수지 재료로서, 경화 후에 쇼어 A 경도 70∼60으로 되는 고경도 러버 재료를 상기 외부 영역 형성 영역에 충전하고, 상기 제2 수지 재료로서, 경화 후에 쇼어 A 경도 50∼40으로 되는 저경도 러버 재료를 상기 내부 영역 형성 영역에 충전하는 것을 특징으로 하는, 워크 흡착판의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2014-217101 | 2014-10-24 | ||
JP2014217101A JP5897686B1 (ja) | 2014-10-24 | 2014-10-24 | ワーク吸着板、ワーク切断装置、ワーク切断方法、およびワーク吸着板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160048659A KR20160048659A (ko) | 2016-05-04 |
KR101739199B1 true KR101739199B1 (ko) | 2017-05-23 |
Family
ID=55628663
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150145372A Active KR101739199B1 (ko) | 2014-10-24 | 2015-10-19 | 워크 흡착판, 워크 절단 장치, 워크 절단 방법 및 워크 흡착판의 제조 방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5897686B1 (ko) |
KR (1) | KR101739199B1 (ko) |
CN (1) | CN105538519B (ko) |
MY (1) | MY185297A (ko) |
TW (1) | TWI577516B (ko) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6815138B2 (ja) * | 2016-09-06 | 2021-01-20 | 株式会社ディスコ | 吸引保持システム |
JP6284996B1 (ja) * | 2016-11-04 | 2018-02-28 | Towa株式会社 | 検査方法、樹脂封止装置、樹脂封止方法及び樹脂封止品の製造方法 |
EP3403782B1 (de) * | 2017-05-16 | 2022-11-02 | Mayr-Melnhof Karton AG | Werkzeug sowie verfahren zur herstellung eines nutzens aus einem kartonbogen |
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JP7068409B2 (ja) * | 2020-09-23 | 2022-05-16 | Towa株式会社 | 切断装置及び切断品の製造方法 |
JP7084519B1 (ja) | 2021-03-04 | 2022-06-14 | Towa株式会社 | 加工装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01165166U (ko) * | 1988-04-29 | 1989-11-17 | ||
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-
2014
- 2014-10-24 JP JP2014217101A patent/JP5897686B1/ja active Active
-
2015
- 2015-10-13 TW TW104133452A patent/TWI577516B/zh active
- 2015-10-16 CN CN201510673407.5A patent/CN105538519B/zh active Active
- 2015-10-19 KR KR1020150145372A patent/KR101739199B1/ko active Active
- 2015-10-22 MY MYPI2015002612A patent/MY185297A/en unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008221391A (ja) | 2007-03-13 | 2008-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板吸着固定機構 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MY185297A (en) | 2021-04-30 |
JP5897686B1 (ja) | 2016-03-30 |
TWI577516B (zh) | 2017-04-11 |
CN105538519B (zh) | 2017-07-28 |
KR20160048659A (ko) | 2016-05-04 |
CN105538519A (zh) | 2016-05-04 |
JP2016083717A (ja) | 2016-05-19 |
TW201628812A (zh) | 2016-08-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20151019 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
AMND | Amendment | ||
PA0302 | Request for accelerated examination |
Patent event date: 20160530 Patent event code: PA03022R01D Comment text: Request for Accelerated Examination Patent event date: 20151019 Patent event code: PA03021R01I Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20160707 Patent event code: PE09021S01D |
|
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20161128 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20160707 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |
|
AMND | Amendment | ||
PX0901 | Re-examination |
Patent event code: PX09011S01I Patent event date: 20161128 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PX09012R01I Patent event date: 20160906 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX09012R01I Patent event date: 20160530 Comment text: Amendment to Specification, etc. |
|
PX0701 | Decision of registration after re-examination |
Patent event date: 20170331 Comment text: Decision to Grant Registration Patent event code: PX07013S01D Patent event date: 20170227 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX07012R01I Patent event date: 20161128 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PX07011S01I Patent event date: 20160906 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX07012R01I Patent event date: 20160530 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX07012R01I |
|
X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20170517 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20170517 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200508 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210507 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220506 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20230508 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240513 Start annual number: 8 End annual number: 8 |