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JP6746756B1 - 吸着プレート、切断装置および切断方法 - Google Patents

吸着プレート、切断装置および切断方法 Download PDF

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Abstract

【課題】応力を受けたとしても撓み等の変形が発生しにくい吸着プレートを得る。【解決手段】吸着プレート10は、枠部16と複数のリブ部17A,17Bとを有するベース部15と、複数のリブ部17A,17Bに重なるように配置され複数の吸着孔12Hが形成された載置部12とを備え、複数のリブ部17A,17B同士が交差している部分の一部は、基台21が配置される側に向かって突出している。【選択図】図5

Description

本発明は、吸着プレート、切断装置および切断方法に関する。
下記の特許文献1に開示されているように、吸着冶具上に封止済基板を吸着させた状態で切断する切断装置が知られている。封止済基板は、例えばプリント基板やリードフレームなどからなる基板であり、個々の電子部品に対応する複数の領域が格子状に仮想的に区画されている。切断装置により封止済基板をそれぞれの領域単位に切断して個片化したものが電子部品となる。
特開2016−040060号公報
近年、電子部品のサイズはますます小さくなる傾向にある。電子部品を吸着する吸着プレート(特許文献1の吸着冶具およびハニカムプレート(支持部)に相当)の電子部品との接触面積も小さくなってきており、これに伴って電子部品を吸着する吸着孔の大きさも小さくなってきており、個々の電子部品に吸着力を作用させることが難しくなってきている。より大きな吸着力を得るためには、吸着プレート内に設けた吸引通路を拡大することが考えられるが、吸引通路を拡大することは吸着プレートの剛性低下を招く。
吸着プレートの剛性が低下すると、切断加工の際に切断に伴う応力を受けて吸着プレートに撓み等の変形が発生しやすくなる。吸着プレートに撓み等の変形が発生すると、切断対象物が高い精度で切断されにくくなり、製品化された電子部品に高い品質を得ることが難しくなる。
本発明は、上述のような実情に鑑みて創作されたものであって、応力を受けたとしても撓み等の変形が発生しにくい構成を備えた吸着プレート、そのような吸着プレートを備えた切断装置、およびそのような吸着プレートを用いて切断を行なう切断方法を提供することを目的とする。
本発明に基づく吸着プレートは、吸引機構が設けられた切断装置の基台上に配置される枠部と、上記枠部の内側に設けられた複数のリブ部とを有し、複数の上記リブ部同士が交差するように格子状に配置されたベース部と、上記複数のリブ部に重なるように配置され、表面側から裏面側に貫通する複数の吸着孔が形成された載置部と、を備え、上記複数のリブ部により、上記吸引機構と上記複数の吸着孔とを連通させる複数の吸気経路が上記枠部の上記内側に形成されており、上記載置部の上記裏面が上記複数の吸気経路を覆うように配置された状態で、上記表面上に載置された切断対象物は上記吸着孔に発生した負圧によって上記表面上に吸着され、複数の上記リブ部同士が交差している部分の一部は、上記基台が配置される側に向かって突出している。
本発明に基づく切断装置は、吸引機構が設けられた基台と、上記基台上に配置される、本発明に基づく上記の吸着プレートと、を備える。
本発明に基づく切断方法は、本発明に基づく上記の吸着プレート上に切断対象物を吸着させる工程と、上記切断対象物を上記吸着プレート上に吸着させた状態で切断する工程とを備える。
上記構成によれば、応力を受けたとしても撓み等の変形が発生しにくい構成を備えた吸着プレート、そのような吸着プレートを備えた切断装置、およびそのような吸着プレートを用いて切断を行なう切断方法を得ることができる。
実施の形態における切断装置50を模式的に示す図である。 封止済基板1と、吸着プレート10と、切断装置50の基台21とを示す斜視図である。 吸着プレート10の分解した状態の上面側から見た様子を示す斜視図である。 吸着プレート10の分解した状態の底面側から見た様子を示す斜視図である。 切断装置50の基台21上に吸着プレート10が配置されている状態を示す断面図である。
発明を実施するための形態について、以下、図面を参照しながら説明する。以下の説明において同一の部品および相当部品には同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。
[切断装置50(切断方法)]
図1は、実施の形態における切断装置50を模式的に示す図である。切断装置50は、供給ユニットA、切断ユニットB、検査ユニットC、および収容ユニットDを備える。供給ユニットAはマガジンを備え、複数の封止済基板1を収容している。供給ユニットAは供給機構30を有し、切断対象物としての封止済基板1が供給機構30から切断ユニットBに搬送される。
切断ユニットBには切断用テーブル2が設けられる。切断用テーブル2は、移動機構31、回転機構32および吸着プレート10を備える。吸着プレート10は封止済基板1の基板面を吸着保持した状態で、移動機構31および回転機構32によって移動および回動可能である。切断ユニットBは、搬送部33と切断部34とを有する。搬送部33にはカメラ35が設けられ、カメラ35の撮像結果に基づき封止済基板1上に複数の切断線L(図2参照)が格子状に設定される。吸着プレート10上の封止済基板1は切断部34に移送される。吸着プレート10上の封止済基板1は、切断部34で切断された後、第1のクリーナ36を介して切断前の元の位置に戻される。なお、図1の切断用テーブル2は、移送前の位置と移送後の切断位置との両方を図示している。吸着プレート10は、切断前の位置に図示しているが、切断部34の切断位置には図示していない。
切断部34には、回転刃37が取り付けられたスピンドル3が設けられる。吸着プレート10上に切断対象物としての封止済基板1の封止面が吸着され、この状態で吸着プレート10とスピンドルとを相対的に移動させながら、回転刃37によって封止済基板1が切断される。封止済基板1は切断によって複数の電子部品Pに個片化され、第1のクリーナ36によって水を用いて洗浄され、空気を用いて乾燥される。複数の電子部品Pは、吸着プレート10上からアンローダ38に一括して受け渡され、アンローダ38に吸着されて持ち上げられた状態で第2のクリーナ39によって封止面を洗浄および乾燥される。
検査ユニットCには検査カメラ40および検査用ステージ41が設けられる。複数の電子部品Pはアンローダ38から検査用ステージ41に一括して受け渡され、検査カメラ40によって外観検査が行なわれる。複数の電子部品Pは良品と不良品とに選別され、その後、インデックステーブル42に一括して移送される。複数の電子部品Pは移送機構43によって収容ユニットDの良品用トレイ45および不良品用トレイ46にそれぞれ収容され、収容部47に移送される。トレイ供給部48から新たなトレイが良品用トレイ45および不良品用トレイ46として供給される。
(切断装置50の基台21)
図2は、封止済基板1と、吸着プレート10と、切断装置50の基台21とを示す斜視図である。吸着プレート10は、上述のとおりここでは切断用テーブルとして機能する。切断装置50は、吸引機構20が設けられた基台21と、吸着プレート10とをその構成要素として含んでいる。
切断装置50の基台21は、吸着プレート10の枠部16(図3参照)を下方側から支持する枠状支持部21Aと、枠状支持部21Aの内側に設けられた複数の凸状支持部22とを含む。枠状支持部21Aの内側には凹状の吸引空間23が形成されており、複数の凸状支持部22は、基台21のうちの吸引空間23の下方に位置する底面21Bから起立するように設けられている。吸引空間23は、基台21の底面21Bに設けられた開口部24を通して吸引機構20に接続されている。
[吸着プレート10]
図3は、吸着プレート10の分解した状態の上面側から見た様子を示す斜視図であり、図4は、吸着プレート10の分解した状態の底面側から見た様子を示す斜視図である。図5は、切断装置50の基台21上に吸着プレート10が配置されている状態を示す断面図である。
図3〜図5に示すように、吸着プレート10は、カバー11と、封止済基板1がその表面上に載置される載置部12と、吸着プレート10を切断装置50の基台21上に固定するためのベース部15を備える。吸着プレート10は、吸引機構20(図2,図5)が設けられた切断装置50の基台21上に配置される。
(ベース部15)
図3を主として参照して、ベース部15は、枠部16と複数のリブ部17A,17Bとを有する。枠部16は略同一の厚みを有し、矩形状を有する。枠部16の底面の形状は、基台21に設けられた枠状支持部21A(図2)の形状に対応し、枠部16は枠状支持部21Aにより支持される。
複数のリブ部17A,17Bは、枠部16の内側に設けられる。複数のリブ部17Aは、第1の方向に延びて互いに平行となるように配置されており、複数のリブ部17Bは、第1の方向と交差する第2の方向に互いに平行となるように配置されている。枠部16が枠状支持部21A上に配置された状態では、複数のリブ部17A,17Bは凸状支持部22(図2)の頂面22Aに接触し、複数のリブ部17A,17Bは凸状支持部22によって支持される。
枠部16の内側では、複数のリブ部17Aと複数のリブ部17Bとが交差する、すなわち複数のリブ部同士が交差するように格子状に配置されており、複数のリブ部17A,17Bにより、複数の吸気経路18が枠部16の内側に形成されている。複数のリブ部17A,17Bの上端(載置部12が配置される側の端部)は、段差が無く(所謂面一に)形成されている(図3参照)。
一方で図4に示すように、複数のリブ部17A,17Bの下端(基台21が位置する側の端部)側においては、複数のリブ部17A,17Bが交差している部分の一部は、基台21が配置される側に向かって突出している。換言すると、複数のリブ部17A,17Bが交差している部分を交差部分とすると、複数のうちの一部の交差部分は、当該交差部分に隣接するリブ部17A,17Bに対して基台21が配置される側(ここでは下方側)に向かって突出している。
本実施の形態においては、複数のリブ部17A,17Bが交差している部分に、後退部17Cおよび突出部17Dが形成されている。複数のリブ部17A,17Bが交差している部分(交差部分)のいくつかは後退部17Cを構成しており、複数のリブ部17A,17Bが交差している部分(交差部分)の他のいくつかは突出部17Dを構成している。後退部17Cは、突出部17Dが設けられている交差部分に隣接するリブ部17A,17Bに形成される。
複数の突出部17Dにおいては、各々の突出部17Dの突出方向における端面17DS(図5)が、枠部16の底面16S(図5)と面一となる。複数の後退部17Cにおいては、各々の後退部17Cの端面17CS(図5)が、枠部16の底面16Sから載置部12が配置される側に向かって後退した(オフセットした)位置にある。
ベース部15の枠部16には環状溝15G(図3,図5)が設けられている。環状溝15Gは、ベース部15のうちの複数のリブ部17A,17Bが設けられている領域を取り囲む。環状溝15Gには、後述するシール部材の一例としてOリング11S(図4,図5)が収容される。シール部材の他の例として、パッキンやガスケットが採用されてもよい。パッキンやガスケットが用いられる場合には、環状溝15Gは適宜省略可能な構成である。
以上のような構成を有する枠部16および複数のリブ部17A,17Bを備えたベース部15は、例えば樹脂から形成することができる。射出成型法が好適に利用可能である。ベース部15は、アルミやステンレスなどの金属製であってもよい。
(カバー11)
図2〜図4を参照して、カバー11は、枠状の形状を有する。カバー11は樹脂製であってもよく、アルミやステンレスなどの金属製であってもよい。カバー11は、ベース部15の枠部16に対応した形状を有しており、カバー11の内側には開口部11Hが設けられる。カバー11は、不図示の締結部材または接着部材などを用いてベース部15に固定される。カバー11とベース部15との間に嵌合構造を設け、この嵌合構造によりカバー11をベース部15に固定してもよい。また、超音波溶着によりカバー11をベース部15に固定してもよい。
(載置部12)
図3,図4に示すように、載置部12は、全体として薄板状に形成され、表面12Aと、表面12Aの反対側に位置する裏面12Bとを有している。載置部12の裏面12Bは、複数のリブ部17A,17Bの上端に重なるように配置される。載置部12は、表面12A側から裏面12B側に貫通する複数の吸着孔12Hを形成している。この吸着孔は個片化された夫々の電子部品を吸着する。
本実施の形態の載置部12は、その構成要素としてラバー部13および金属製板状部14を含んでいる。ラバー部13は、載置部12の表面12A側の構成要素であり、金属製板状部14は、載置部12の裏面12B側の構成要素である。金属製板状部14は、アルミやステンレスなどの金属製の薄板から構成可能である。
ラバー部13のうちの金属製板状部14とは反対側の表面が「載置部12の表面12A」を構成している。ラバー部13の裏面が、金属製板状部14の表面に接合されている。金属製板状部14の裏面が、「載置部12の裏面12B」を構成している。ラバー部13は金属製板状部14に、接着剤などによって接合可能である。
金属製板状部14はラバー部13よりも平面方向に大きい。金属製板状部14とラバー部13が接合された状態において、ラバー部13の外縁から外側にはみ出す金属製板状部14の周囲部分が生じる(図3)。当該周囲部分は、環状の形状を有するカバー11によって覆われる(図2)。カバー11は、載置部12の当該周囲部分をベース部15に固定する。
カバー11と枠部16との間に、ベース部15のうちの複数のリブ部17A,17Bが設けられている領域を取り囲むシール部材が設けられる。本実施の形態においては、ベース部15(枠部16)に設けられた環状溝15G内にはOリング11S(図4,図5)が配置され、Oリング11Sは、ベース部15のうちの複数のリブ部17A,17Bが設けられている領域を取り囲む。Oリング11Sは、カバー11と枠部16との間で挟み込まれるとよい(図5)。パッキンやガスケットをシール部材として採用する場合にも、パッキン等はベース部15のうちの複数のリブ部17A,17Bが設けられている領域を取り囲む。パッキン等は、カバー11と枠部16との間で挟み込まれるとよい。この場合には環状溝15Gは適宜省略可能な構成である。
ラバー部13には複数の貫通孔13Hが形成されており、金属製板状部14にも複数の貫通孔14Hが形成されている。貫通孔13H,14Hは互いに略一致するように同軸状に形成されており、ラバー部13が金属製板状部14に接合された状態では、貫通孔13H,14Hにより、表面12A側から裏面12B側に貫通する吸着孔12Hが構成される。すなわち本実施の形態では、吸着孔12Hが貫通孔13Hと貫通孔14Hとから形成されている(図5)。
図5に示すように、載置部12の裏面12Bが複数の吸気経路18を覆うように配置される。複数の吸気経路18は、吸引空間23に連通するとともに、基台21に設けられた吸引機構20と複数の吸着孔12Hとを連通させている。この状態で、載置部12の表面12A上に載置された封止済基板1は、吸着孔12Hに発生した負圧によって表面12A上に吸着される。
(作用および効果)
図5を参照して、ベース部15が基台21上に配置された状態では、複数のリブ部17A,17Bの各々の突出部17Dの突出方向における端面17DS(図5)が、凸状支持部22の頂面22Aに接触し、これによって複数のリブ部17A,17Bは凸状支持部22によって支持される。したがって切断加工の際に切断に伴う応力を吸着プレート10が受けたとしても、吸着プレート10に撓み等の変形が発生することは効果的に抑制可能である。一方で、後退部17Cの端面17CSは凸状支持部22の頂面22Aから離れており、後退部17Cの端面17CSと凸状支持部22の頂面22Aとの間の隙間を通して空気は通流することができる。
仮に、複数のリブ部17A,17Bのすべてについて、基台21側の端面が後退部17Cの端面17CSと同一高さで面一となるように形成されているとする。この場合には、複数のリブ部17A,17Bと凸状支持部22の頂面22Aとの間の隙間を通して空気の通流を得ることができるが、上述の実施の形態の場合に比べて複数のリブ部17A,17Bの高さが低く、複数のリブ部17A,17Bそのものの剛性が低い。
仮に、複数のリブ部17A,17Bのすべてについて、基台21側の端面が突出部17Dの端面17DSと同一高さで面一となるように形成されているとする。この場合には、上述の実施の形態の場合に比べて複数のリブ部17A,17Bそのものの剛性が高くなるが、複数のリブ部17A,17Bと凸状支持部22の頂面22Aとの間に十分な隙間が形成されにくく、空気の通流、すなわち十分な吸引力を得ることが難しくなる。
上記2つの仮の構成に比べて実施の形態の吸着プレート10によれば、複数のリブ部17A,17Bが交差している部分を交差部分とすると、複数のうちの一部の交差部分は、当該交差部分に隣接するリブ部17A,17Bに対して基台21が配置される側に向かって突出している。このような構成が採用されていることで、吸着プレート10の全体としての高い剛性と、封止済基板1に対する高い吸引力とを得ることが可能となっている。
ベース部15が樹脂から形成される場合には、射出成型によってベース部15を高い生産性で容易に作製することができる。吸着プレート10全体としての軽量化も図ることができ、ベース部15が金属の場合に比べて吸着プレート10の生産性および取扱い性も向上し、コストメリットも得られる。ベース部15が樹脂から形成される場合に、吸着プレート10の剛性に配慮した上述のような構成を採用することがより好ましい。上記の構成を備えた吸着プレート10によれば、吸着プレート10を作製するにあたり、載置部12については吸着対象物である電子部品の仕様に応じて設計し、ベース部15については種々の構成を有する載置部12に共通して汎用的に用いることが可能である。
上述の吸着プレート10においては、載置部12の周囲部分をベース部15に固定するカバー11が用いられている。カバー11により載置部12を安定してベース部15に固定でき、吸着プレート10のデザイン性の向上も図ることができる。
上述の吸着プレート10においては、Oリング11Sは、ベース部15のうちの複数のリブ部17A,17Bが設けられている領域を取り囲み、カバー11と枠部16との間で挟み込まれる(図5)。Oリング11Sの存在は、カバー11とベース部15との間の隙間から空気が漏れて吸引力が低下することを抑制する。
図5に示すように、Oリング11Sと同様な構成が、ベース部15の枠部16と基台21の枠状支持部21Aとの間に実現されていてもよい。図5に示す例では、枠状支持部21Aに環状溝25Gが設けられており、環状溝25Gの内側にOリング25Sが配置されている。Oリング25Sは、吸引空間23を取り囲み、ベース部15の枠部16と基台21の枠状支持部21Aとの間で挟み込まれる。Oリング25Sの存在は、ベース部15の枠部16と基台21の枠状支持部21Aとの間の隙間から空気が漏れて吸引力が低下することを抑制する。
(他の構成1)
図2を参照して、吸着プレート10は、載置部12およびベース部15を貫通する導通部材19をさらに備えていてもよい。図2に示す例においては、載置部12およびベース部15を厚み方向に貫通する貫通孔12Jが形成されており、貫通孔12Jの中に導通部材19が収容されている。導通部材19は、例えば軸方向に弾性的に伸縮可能なボールプランジャーから構成される。
導通部材19は、載置部12上に配置された封止済基板1と基台21とを電気的に接続する。ベース部15が樹脂から形成される場合には、載置部12上の封止済基板1が帯電しやすくなる。導通部材19によればこのような帯電を防止可能である。ボールプランジャーによれば、押圧されることで軸方向に収縮するため、封止済基板1と基台21との間で不要な応力を発生させることはほとんどなく、切断加工時に封止済基板1に位置ずれを発生させるようなこともほとんどない。なお、ボールプランジャーとして、一端側のみにボールが配置されたボールプランジャー、両端側のそれぞれにボールが配置されたダブルボールプランジャーのいずれも使用可能であるが、両端側で収縮可能なダブルボールプランジャーの方が好ましい。
(他の構成2)
図4,図5を参照して、金属製板状部14の載置部12側の面(ここでは載置部12の裏面12B)には溝部14Gが形成されていることが好ましい。溝部14Gは、金属製板状部14に形成された複数のうちの隣り合う貫通孔14Hを連通させる。溝部14Gは、全体的に金属製板状部14を貫通するものではなく、貫通孔14Hを含めば貫通孔14Hの形成位置において金属製板状部14を貫通し、貫通孔14Hが形成されない位置において金属製板状部14を貫通しないことになる。
図5を参照して、仮に溝部14Gが形成されていない場合には、吸着孔12Hがリブ部17A,17Bにより塞がれる面積が大きくなるにつれて、吸気経路18が吸着孔12Hと、より連通しにくくなる。溝部14Gが形成されていれば、吸着孔12Hがリブ部17A,17Bにより塞がれたとしても、吸気経路18は溝部14Gを介して溝部14Gに連通可能であり、吸引力を得ることができる。
なお、溝部14Gを有する金属製板状部14としては、複数の金属製板状部材が接合された積層体を用いることができる。この積層体は、例えば、1枚の金属製板状部材に溝部の形状に対応する貫通孔をエッチング加工や打ち抜き加工により形成し、他の1枚の金属製板所部材に吸着孔12Hの形状に対応する貫通孔をエッチング加工や打ち抜き加工により形成し、これらの金属製板状部材を重ね合わせ、導電性接着剤等を用いて接合することにより、作製することができる。このような積層体であれば、比較的厚さの薄い金属製薄板を用いても容易に作製することができる。
(他の構成3)
図3〜図5を参照して、複数のリブ部17A,17Bが交差している部分には、貫通孔17Hが形成されていてもよい。貫通孔17Hは、吸引機構20と複数の吸着孔12Hとを連通させることができ、より大きな吸引力を得ることが可能となる。貫通孔17Hの構成は、上記他の構成2における溝部14Gと組み合わせて実施されることでより大きな吸引力を得ることが可能となる。
(他の構成4)
上記の吸着プレート10においては、複数のリブ部17A,17Bは、枠部16の内側に設けられる。複数のリブ部17Aは、第1の方向に延びて互いに平行となるように配置されており、複数のリブ部17Bは、第1の方向と交差する第2の方向に互いに平行となるように配置されている。これにより略四角形状を有する吸気経路18が枠部16の内側に形成されている。複数のリブ部は、互いに交差するように格子状に形成されていれば、例えば吸気経路18が平面視で三角形や六角形などの多角形状を有するように構成されていてもよく、円形状などであってもよい。
(他の構成5)
上述の実施の形態では、吸着プレート10が切断ユニットBの切断用テーブルとして用いられる例に基づいて説明した。吸着プレート10と同一の構成を有する吸着プレートが、切断ユニットBにおけるアンローダ38として用いられてもよく、検査ユニットCにおける検査用ステージ41および/またはインデックステーブル42として用いられてもよい。
以上、実施の形態について説明したが、上記の開示内容はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 封止済基板、2 切断用テーブル、3 スピンドル、10 吸着プレート、11 カバー、11H,24 開口部、11S,25S Oリング、12 載置部、12A 表面、12B 裏面、12H 吸着孔、12J,13H,14H,17H 貫通孔、13 ラバー部、14 金属製板状部、14G 溝部、15 ベース部、15G,25G 環状溝、16 枠部、16S,21B 底面、17A,17B リブ部、17C 後退部、17CS,17DS 端面、17D 突出部、18 吸気経路、19 導通部材、20 吸引機構、21 基台、21A 枠状支持部、22 凸状支持部、22A 頂面、23 空間、30 供給機構、31 移動機構、32 回転機構、33 搬送部、34 切断部、35 カメラ、36 第1のクリーナ、37 回転刃、38 アンローダ、39 第2のクリーナ、40 検査カメラ、41 検査用ステージ、42 インデックステーブル、43 移送機構、45 良品用トレイ、46 不良品用トレイ、47 収容部、48 トレイ供給部、50 切断装置、A 供給ユニット、B 切断ユニット、C 検査ユニット、D 収容ユニット、L 切断線、P 電子部品。

Claims (10)

  1. 吸引機構が設けられた切断装置の基台上に配置される枠部と、前記枠部の内側に設けられた複数のリブ部とを有し、複数の前記リブ部同士が交差するように格子状に配置されたベース部と、
    前記複数のリブ部に重なるように配置され、表面側から裏面側に貫通する複数の吸着孔が形成された載置部と、を備え、
    前記複数のリブ部により、前記吸引機構と前記複数の吸着孔とを連通させる複数の吸気経路が前記枠部の前記内側に形成されており、
    前記載置部の前記裏面が前記複数の吸気経路を覆うように配置された状態で、前記表面上に載置された切断対象物は前記吸着孔に発生した負圧によって前記表面上に吸着され、
    複数の前記リブ部同士が交差している部分の一部は、前記基台が配置される側に向かって突出している、
    吸着プレート。
  2. 前記ベース部は、樹脂から形成されている、
    請求項1に記載の吸着プレート。
  3. 前記載置部および前記ベース部を貫通し、前記載置部上に配置された切断対象物と前記基台とを電気的に接続するための導通部材をさらに備える、
    請求項2に記載の吸着プレート。
  4. 複数の前記リブ部同士が交差している部分に、前記吸引機構と前記複数の吸着孔とを連通させる貫通孔が形成されている、
    請求項1から3のいずれか1項に記載の吸着プレート。
  5. 枠状の形状を有し、前記載置部の周囲部分を前記ベース部に固定するカバーをさらに備える、
    請求項1から4のいずれか1項に記載の吸着プレート。
  6. 前記カバーと前記枠部との間に、前記ベース部のうちの前記複数のリブ部が設けられている領域を取り囲むシール部材をさらに備える、
    請求項5に記載の吸着プレート。
  7. 前記載置部は、前記載置部の前記表面側の構成要素であるラバー部と、前記載置部の前記裏面側の構成要素である金属製板状部と、を含み、
    前記金属製板状部の前記ベース部側の面には、前記金属製板状部に形成された前記吸着孔の複数を連通させるための溝部が形成されている、
    請求項1から6のいずれか1項に記載の吸着プレート。
  8. 吸引機構が設けられた基台と、
    前記基台上に配置される、請求項1から7のいずれか1項に記載の吸着プレートと、を備える、
    切断装置。
  9. 前記基台は、前記枠部を支持する枠状支持部と、前記枠状支持部の内側に設けられ、前記複数のリブ部を支持する複数の凸状支持部と、を含む、
    請求項8に記載の切断装置。
  10. 請求項1から7のいずれか1項に記載の吸着プレート上に切断対象物を吸着させる工程と、
    前記切断対象物を前記吸着プレート上に吸着させた状態で切断する工程とを備える、切断方法。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023050926A (ja) * 2021-09-30 2023-04-11 Towa株式会社 加工装置、及び加工品の製造方法
CN117198971B (zh) * 2023-11-07 2024-01-30 沈阳和研科技股份有限公司 一种晶圆卡盘台

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6321739B1 (en) * 1999-04-16 2001-11-27 Micron Technology, Inc. Film frame substrate fixture
EP1602444B1 (en) * 2000-01-31 2008-03-12 Shin-Etsu Handotai Company Limited Polishing method
TWM334600U (en) * 2007-12-07 2008-06-11 Shenq Fang Yuan Technology Co Ltd Vacuum sucking device used in cutting printed circuit board
JP2010232603A (ja) * 2009-03-30 2010-10-14 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 基板固定装置
JP5666947B2 (ja) * 2011-03-09 2015-02-12 アピックヤマダ株式会社 ワーク吸引治具及びワーク把持方法
JP5627618B2 (ja) * 2012-02-23 2014-11-19 Towa株式会社 固定治具の製造方法及び固定治具
JP5918003B2 (ja) * 2012-04-27 2016-05-18 Towa株式会社 個片化装置用真空吸着シート及びそれを用いた固定治具の製造方法
JP6218511B2 (ja) * 2013-09-02 2017-10-25 Towa株式会社 切断装置及び切断方法
JP6235391B2 (ja) * 2014-03-27 2017-11-22 Towa株式会社 検査用治具、切断装置及び切断方法
JP6338478B2 (ja) * 2014-07-18 2018-06-06 Towa株式会社 切断方法及び製品の製造方法
JP6430170B2 (ja) * 2014-08-12 2018-11-28 Towa株式会社 切断装置及び切断方法並びに吸着機構及びこれを用いる装置
TWM493142U (zh) * 2014-09-03 2015-01-01 Wecon Automation Corp 可產生負壓吸附料片及晶粒之固晶裝置
JP6382039B2 (ja) * 2014-09-04 2018-08-29 Towa株式会社 切断装置並びに吸着機構及びこれを用いる装置
JP5897686B1 (ja) * 2014-10-24 2016-03-30 Towa株式会社 ワーク吸着板、ワーク切断装置、ワーク切断方法、およびワーク吸着板の製造方法
JP6338555B2 (ja) * 2015-07-10 2018-06-06 Towa株式会社 吸着機構及び吸着方法並びに製造装置及び製造方法
TW201801227A (zh) * 2016-06-20 2018-01-01 舒語科技股份有限公司 真空吸附裝置
JP6696851B2 (ja) * 2016-07-13 2020-05-20 株式会社ディスコ チャックテーブル機構

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