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KR101009809B1 - 아조 화합물 - Google Patents

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KR101009809B1
KR101009809B1 KR1020057006563A KR20057006563A KR101009809B1 KR 101009809 B1 KR101009809 B1 KR 101009809B1 KR 1020057006563 A KR1020057006563 A KR 1020057006563A KR 20057006563 A KR20057006563 A KR 20057006563A KR 101009809 B1 KR101009809 B1 KR 101009809B1
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클라리언트 파이넌스 (비브이아이)리미티드
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Abstract

본 발명은 하기 화학식 I의 신규한 염료, 이 염료의 제조방법 및 용도, 및 이 염료에 의해 염색 또는 날염된 물질에 관한 것이다:
화학식 I
Figure 112005019692196-pct00019
상기 식에서,
X, Y 및 K는 청구의 범위에 정의된 바와 같다.

Description

아조 화합물{AZO COMPOUNDS}
본 발명은 신규한 분산 염료, 이의 제조방법, 및 재생 또는 합성 소수성 물질 및/또는 재생 또는 합성 소수성 물질을 포함하는 배합물을 염색 및 날염하기 위한 상기 분산 염료의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 하기 화학식 I의 신규한 염료에 관한 것이다:
Figure 112005019692196-pct00001
상기 식에서,
X는 수소; 할로겐, 바람직하게는 Cl 또는 Br; -CN; -SO2CH3; -OH; -OCH3; 또는 -NO2이고;
삭제
Y는 수소; 할로겐, 바람직하게는 Cl 또는 Br; 또는 -CN이고;
K는 6-하이드록시피리돈-2; 아닐린; α-나프틸아민; 5-아미노피라졸; 5-하이드록시피라졸; 인돌; 테트라하이드로키놀린; 2-아미노싸이아졸; 2-아미노싸이오펜; 3,5-다이메틸로 치환되지 않고 제 3 위치 및 제 5 위치의 치환기가 제 2 고리의 구성원이 아닌 페놀; 2-나프톨; 벤조모르폴린; 또는 2,6-다이아미노피리딘 계열의 커플링 성분 라디칼이다.
화학식 I에서, 바람직하게는,
X는 수소, 할로겐(바람직하게는 Cl 또는 Br), -CN 또는 -NO2이고;
Y는 수소, 할로겐(바람직하게는 Cl 또는 Br) 또는 -CN이고;
K는 6-하이드록시피리돈-2, 아닐린, α-나프틸아민, 5-아미노피라졸, 5-하이드록시피라졸, 인돌, 테트라하이드로키놀린, 2-아미노싸이아졸, 2-아미노싸이오펜, 2-나프톨, 벤조모르폴린 또는 2,6-다이아미노피리딘 계열의 커플링 성분 라디칼이다.
보다 바람직한 커플링 성분 라디칼 K는 5-하이드록시피라졸, 6-하이드록시피리돈-2 또는 아닐린계이다.
보다 바람직한 커플링 성분 라디칼 K는 6-하이드록시피리돈-2 또는 아닐린계이다.
가장 바람직한 커플링 성분 라디칼 K는 5-하이드록시피라졸계이다.
특히 바람직한 염료는 하기 화학식 IA의 화합물 및 이의 혼합물이다:
Figure 112005019692196-pct00002
상기 식에서,
X는 수소; 할로겐, 바람직하게는 Cl 또는 Br; -CN; -OH; -OCH3; 또는 -NO2이고;
Y는 수소; 할로겐, 바람직하게는 Cl 또는 Br; 또는 -CN이고;
R1은 C1-6-알킬; 바람직하게는 할로겐, -CN, -SCN-OC1-4-알킬, -OCOC1-3-알킬, -OCHO, -OC6H5 및 -C6H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된, 치환된 C2-4-알킬; C3-4-알켄일; 바람직하게는 -Cl 또는 -Br로 치환된, 치환된 C3-4-알켄일; C3-4-알카이닐, 바람직하게는 프로파질; C2-4-알킬렌-OCO-C1-3-알킬; C2-4-알킬렌-O(CO)O-C1-3-알킬; C1-3-알킬렌-COO-R5; -C1-3-알킬렌-COO-C2-3-알킬렌-N-프탈이미드; C1-3-알킬렌-COOCH2COOR5; 또는 C1-3-알킬렌-COOCH2COR6이고;
R2는 수소; C1-6-알킬; 바람직하게는 할로겐, -CN, -OH, -OC1-4-알킬, -OCOC1-3-알킬, -OC6H5 및 -C6H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된, 치환 된 C2-4-알킬; C3-4-알켄일; 바람직하게는 -Cl 또는 -Br로 치환된, 치환된 C3-4-알켄일; C3-4-알카이닐, 바람직하게는 프로파질; C2-4-알킬렌-OCO-C1-3-알킬; 또는 C1-3-알킬렌-COO-R5이고;
R3은 수소; CH3; -NHCO-A1 또는 -NHCOO-A2이고;
A1은 수소; C1-4-알킬; C2-3-알켄일; 페닐; -NH2; 또는 바람직하게는 -OH, -Cl, -OCH3, -OC2H5 및 -C6H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된, 치환된 C1-2-알킬이고;
A2는 C1-4-알킬; 또는 바람직하게는 -Cl, -OCH3 및 -OC2H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 치환기로 치환된, 치환된 C2-4-알킬이고;
R4는 수소; 할로겐; 또는 C1-4-알콕시이고;
R5는 C1-4-알킬; C1-2-알콕시에틸; C3-4-알켄일; C3-4-알카이닐; 신나밀; 페녹시에틸; 페닐-C1-3-알킬; 테트라하이드로퍼퓨릴-2; 페닐; 또는 -CH3, -OCH3, -COOCH3 또는 -COOC2H5로 치환된 페닐이고;
R6은 C1-4-알킬; 페닐; 또는 바람직하게는 -CH3, -OCH3, -OC2H5, 할로겐 및 -OH로 이 루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된 페닐이다.
특히 바람직한 추가의 염료는 하기 화학식 IB의 화합물 및 이의 혼합물이다:
Figure 112005019692196-pct00003
상기 식에서,
X는 수소; 할로겐, 바람직하게는 Cl 또는 Br; -OH; -OCH3; 또는 NO2이고;
Y는 수소이고;
R7은 수소; 벤질; 페닐; C1-6-알킬; 바람직하게는 할로겐, -CN, -OH, -OC1-4-알킬, -OCOC1-2-알킬, -OC6H5 및 -C6H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 치환기로 치환된, 치환된 C2-4-알킬; -C1-2-알킬렌-COOC1-2-알킬; -NHC6H5; 또는 -NH2이다.
특히 바람직한 추가의 염료는 하기 화학식 IC의 화합물 및 이의 혼합물이다:
Figure 112005019692196-pct00004
상기 식에서,
X는 수소; 할로겐(바람직하게는 Cl 또는 Br); -OH; -OCH3 또는 NO2이고;
Y는 수소이고;
R8은 수소; C1-6-알킬; 사이클로헥실; 페닐; 또는 치환된 페닐(바람직하게는 할로겐, -CH3, -CN, -OH, -OC1-4-알킬, -OCOC1-2-알킬, -COC1-2-알킬, -COOH, -SO2C2H4OH 및 -NO2로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 치환기로 치환된다)이고;
R9는 C1-4-알킬; 페닐 또는 -CF3이다.
임의의 존재하는 "알킬"은 달리 표시되지 않는 한 선형 또는 분지형이다.
임의의 존재하는 "치환된 알킬"은 동일하거나 상이한 하나 이상의 치환기로 임의적으로 치환될 수 있다.
할로겐 원자는 바람직하게는 염소 또는 브롬이다.
전술한 신규한 화합물 및 이의 혼합물은 매우 유용한 분산 염료이다.
이들 염료는, 하기 화학식 II의 다이아조화 아민을 하기 화학식 III의 아민과 커플링시킴으로써 제조된다:
Figure 112005019692196-pct00005
H-K
상기 식에서,
모든 치환기는 전술한 바와 같다.
상기 화학식 I의 사이아노 유도체의 제조를 위해서는, 화학식 I(여기서, X 및/또는 Y는 -Br이다)의 화합물의 브로모 유도체를 부분적 또는 완전 사이안화시키는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
다이아조화 및 커플링은 일반적으로 공지된 방법에 따라 수행된다.
다이아조화는, 예를 들어 산 수성 매질중의 나트륨 나이트라이트를 사용하여 수행된다. 또한, 다이아조화는 다른 다이아조화제, 예를 들어 나이트로실 황산을 사용하여 수행될 수도 있다. 다이아조화 도중 반응 매질 중에는 추가의 산, 예를 들어 인산, 황산, 아세트산, 프로피온산, 염산 또는 이들 산의 혼합물(예를 들어, 인산 및 아세트산의 혼합물)이 존재할 수도 있다. 다이아조화는 -10 내지 10℃, 바람직하게는 0 내지 5℃의 온도 내에서 용이하게 수행된다.
화학식 II의 다이아조화 화합물을 화학식 III의 커플링 성분에 커플링시키는 것은, 예를 들어 바람직하게는 0 내지 50℃, 보다 바람직하게는 10 내지 20℃의 온 도에서 산, 수성 또는 수성 유기 매질 중에서 공지된 방식으로 수행된다. 사용되는 산은, 예를 들어 염산, 아세트산, 황산 또는 인산이다. 예를 들어, 다이아조화 및 커플링은 동일한 반응 매질중에서 수행될 수 있다.
고체형이거나 수성 용액으로서 또는 나이트로실 황산 중의 알칼리 금속 나이트라이트, 예를 들어 나트륨 나이트라이트가 나이트로소화제로서 사용된다.
전형적으로, 저온에서 과량의 아질산 등, 예를 들어 나이트로실 황산을 통해 친전자성 이온 아릴-N2 +를 형성하는 다이아조늄 이온의 제조는 문헌(예를 들어, 문헌[Advanced Organic Chemistry, Fieser&Fieser, pages 736-740] 또는 [Organische Chemie, K.Peter C.Vollhardt, pages 1154-1157, 1. Auflage 1998])에 개시되어 있다.
X 및 Y가 수소인 화학식 II의 화합물은 공지된 화합물이고(문헌[V.F. Pozdnev, Khim Geterosikl. Soedin. 1990, 3, 312]) 및 화학식 III의 화합물은 당분야의 숙련자에게 익숙한 방식으로 용이하게 제조될 수 있다.
X 및/또는 Y가 브롬 기인 화학식 II의 화합물은 DE 196 43 769 A1의 실시예 1과 유사하게 합성된다. X 및/또는 Y가 사이아노 기인 화학식 I의 염료는 브롬을 -CN 기로 치환시키는 EP 554 695 A1의 실시예 1과 유사하게 제조된다.
화학식 I의 신규한 염료 및 이의 혼합물은 반-합성, 바람직하게는 합성 소수성 섬유 물질, 특히 텍스타일 물질을 염색 및 날염하는데 사용될 수 있다. 이러한 반-합성 소수성 섬유 물질을 함유하는 혼합 직물로 구성된 텍스타일 물질 또한 본 발명의 염료를 통해 염색되거나 날염될 수 있다.
적당한 반-합성 텍스타일 물질은 주로 셀룰로스-2½아세테이트, 셀룰로스 트라이아세테이트, 폴리아마이드 및 고분자량 폴리에스터 및 이들과 셀룰로스의 혼합물이다.
합성 소수성 텍스타일 물질은 주로 선형 방향족 폴리에스터, 예를 들어 테레프탈산 및 글리콜로 구성된 것, 특히 에틸렌 글리콜, 또는 테레프탈산과 1,4-비스(하이드록시메틸)사이클로헥세인의 축합물; 폴리카보네이트, 예를 들어 α,α-다이메틸-4,4'-다이하이드록시다이페닐메테인 및 포스겐으로 이루어진 것; 및 폴리바이닐 클로라이드 및 폴리아마이드계 섬유로 구성된다.
소수성 합성 물질은 시트형 또는 실형 구조의 형태일 수 있고, 예를 들어 얀 또는 직포, 편직 또는 루우핑된 텍스타일 직물로 가공될 수 있다. 또한, 상기 신규한 염료는 마이크로 섬유 형태의 소수성 합성 물질을 염색하는데 적합하다.
사용하기 전 화학식 I에 따른 신규한 염료를 염료 제형으로 전환시키는 것이 편리하다. 이는 염료를 0.1 내지 10㎛의 평균 입자크기로 분쇄함으로써 수행된다. 분쇄는 분산제의 존재하에 수행될 수 있다. 전형적으로, 습윤 염료를 분산제와 함께 분쇄시키고, 이후 진공하에서 건조시키거나 분무 건조시킨다. 수득된 제형에 물을 첨가함으로써 날염 페이스트 및 염욕을 제조할 수 있다.
화학식 I에 따른 신규한 염료를 공지된 염색 또는 날염 방법, 예를 들어 프랑스 특허원 제 1.445.371 호에 기술된 방법으로 텍스타일 물질에 적용한다.
전형적으로, 65 내지 140℃의 온도에서 통상적인 음이온성 또는 비이온성 분 산제가 존재하고 통상적인 팽윤제(담체)가 존재하거나 존재하지 않는 배출 공정을 통해 수성 분산제로부터 폴리에스터 섬유 물질을 염색한다.
셀룰로즈-2½-아세테이트는 65 내지 85℃의 온도에서 염색되고 셀룰로스 트리아세테이트는 115℃ 이하의 온도에서 염색되는 것이 바람직하다.
상기 신규한 염료는 더어머솔(thermosol) 공정, 배출 공정, 연속식 공정 및 현대 영상 공정, 예를 들어 열-전달 날염, 잉크젯 날염, 고온 용융 잉크젯 날염 또는 종래기술 날염 공정으로 염색하는데 적합하다.
상기 더어머솔 공정, 배출 공정 및 연속 공정은 익히 공지된 염색 공정으로서, 예를 들어 피터(M. Peter) 및 루에트(H.K. Rouette)의 문헌["Grundlage der Textilveredelung; Handbuch der Technologie, Verfahren und Maschinen", 13th revised Edition, 1989, Deutscher Fachverlag GmbH, Frankfurt am Main, Germany, ISBN 3-87150-277-4; pp 460-461, 482-495, 556-566 and 574-587]에 기술되어 있다.
잉크젯 날염 공정에서는, 잉크의 각각의 소적을 제어된 방식으로 노즐로부터 기판 상에 분무한다. 이에 연속식 잉크젯 방법 및 드롭-온-디맨드(drop-on-demand) 방법이 주로 사용된다. 연속식 잉크젯 방법의 경우, 소적이 연속적으로 생성되고 날염에 필요하지 않은 소적은 수거 용기로 모아져 재활용된다. 반면, 비연속식 드롭-온-디맨드 방법의 경우 날염에 필요한 경우에만 소적이 생성된다. 이 소적은, 예를 들어 피에조(piezo) 잉크젯 헤드 또는 열에너지(버블 제트)를 통해 생성될 수 있다.
고온 용융 잉크젯 날염기에서는, 잉크젯 날염기 헤드중의 잉크를 용융시키고, 기판에 충돌시 재빨리 재고형화되는 액체를 뿜어낼 수 있는 날염기에 고체 고온 용융 잉크를 넣는다. 통상적인 고온 용융 잉크젯 날염기는 날염 헤드 및 약 120 내지 약 150℃의 날염 헤드 및 잉크젯 온도에서 수행된다. 이 온도에서는, 고체 잉크가 저 점도 액체, 일반적으로 제트 온도에서 측정하는 경우 약 8 내지 25cP로 용융된다.
종래기술의 날염 공정은 익히 공지되어 있으며, 날염 잉크 또는 날염 페이스트가 기판으로 이동하는 방식이 다르다: 예를 들어, 잉크 또는 페이스트는 융기형(예를 들어, 활판 인쇄, 플렉소 인쇄), 평면(리쏘그래피), 오목한 표면(음각인쇄)으로부터 또는 스텐실(실크 스크린)을 통해 적용될 수 있다. 상이한 방법의 적용 및 상이한 기판은 잉크중의 상이한 특성을 요구한다.
이러한 염색은 배출 공정에 의해 수용액으로부터 수행되고, 상기 용액의 양은 광범위하게, 예를 들어 1:4 내지 1:100, 바람직하게는 1:6 내지 1:50에서 선택될 수 있다.
염색 시간은 20 내지 90분, 바람직하게는 30 내지 60분이다. 염색 용액은 다른 첨가제, 예를 들어 염색 보조제, 분산제, 습윤제 및 소포제를 추가로 포함할 수 있다.
또한, 상기 용액은 광산, 예를 들어 황산 또는 인산을 포함하거나, 용이하게는 유기산, 예를 들어 포름산 또는 아세트산 및/또는 염, 예를 들어 암모늄 아세테이트, 암모늄 설페이트 또는 나트륨 설페이트를 포함할 수 있다. 이러한 산은 주로 염색 용액의 pH를 조정하는 역할을 하고, pH는 바람직하게는 4 내지 5이다.
분산 염료는 일반적으로 미세 분산제의 형태로 염색 용액중에 존재한다. 이러한 분산제를 제조하는데 적합한 분산제는, 예를 들어 음이온성 분산제, 예를 들어 방향족 설폰산/포름알데하이드 축합물, 설폰화 크레솔 오일/포름알데하이드 축합물, 리그닌 설포네이트 또는 아크릴산 유도체의 공중합체, 바람직하게는 방향족 설폰산/포름알데하이드 축합물 또는 리그닌 설포네이트, 또는 예를 들어 에틸렌 옥사이드 또는 프로필렌 옥사이드로부터 중부가 반응에 의해 수득될 수 있는 폴리알킬렌 옥사이드계 비이온성 분산제이다. 추가의 적합한 분산제가 미국 특허 제 4,895,981 호 및 미국 특허 제 5,910,624 호에 개시되어 있다.
적당한 잉크 또는 페이스트는 (a) 화학식 I의 하나 이상의 염료 또는 화학식 I의 화합물의 혼합물, (b) 물, 또는 물 및 유기 용매, 무수 유기 용매 또는 저 용융점을 갖는 고체의 혼합물을 포함하는 매질, 및 (c) 임의적으로 추가의 첨가제를 포함한다.
상기 잉크 또는 페이스트는 바람직하게는 상기 화학식 I의 염료를, 잉크 또는 페이스트의 총 중량을 기준으로 1 내지 35중량%, 특히 2 내지 35중량%, 바람직하게는 2 내지 30중량%, 보다 바람직하게는 2.5 내지 20중량%의 총량으로 포함한다.
잉크는, 물, 또는 물과 유기 용매, 무수 유기 용매 또는 저 용융점을 갖는 고체의 혼합물을 포함하는 전술한 매질 (b)를 99 내지 65중량%, 특히 98 내지 65중량%, 바람직하게는 98 내지 70중량%, 보다 바람직하게는 97.5 내지 80중량% 함유한다.
상기 매질 (b)가 물 및 유기 용매 또는 무수 유기 용매의 혼합물인 경우 화학식 I의 염료 또는 이의 혼합물은 바람직하게는 상기 매질에 완전히 용해된다.
바람직하게는 화학식 I의 염료 또는 이의 혼합물은 20℃에서 상기 매질 (b) 중에 2.5중량% 이상의 용해도를 갖는다.
본 발명의 잉크 조성물이 종이 기판 또는 아세테이트-, 폴리에스터, 폴리아마이드-, 폴리아크릴나이트릴-, 폴리바이닐클로라이드- 또는 폴리우레탄- 중합체 및 이들의 배합물로 제조된 소수성 기판을 날염하는데 사용되는 경우, 잉크는 바람직하게는 하기 조성물과 함께 사용된다.
매질이 물 및 유기 용매의 혼합물인 경우, 물 대 유기 용매의 중량비는 바람직하게는 99:1 내지 1:99, 보다 바람직하게는 99:1 내지 50:50, 특히 바람직하게는 95:5 내지 80:20이다. 물과의 혼합물중에 포함된 유기 용매는 수용성 용매 또는 다양한 수용성 용매의 혼합물인 것이 바람직하다. 바람직한 수용성 또는 부분적으로 수용성인 유기 용매는 C1-6-알콜, 바람직하게는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 아이소프로판올, n-부탄올, 2급-부탄올, t-부탄올, n-펜탄올, 사이클로펜탄올 및 사이클로헥산올; 선형 아마이드, 바람직하게는 다이메틸포름아마이드 또는 다이메틸아세트아마이드; 케톤 및 케토 알콜, 바람직하게는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 사이클로헥산온 및 4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온; 수-혼화성 에터, 바람직하게는 테트라하이드로퓨란 및 다이옥세인; 다이올, 바람직하게는 탄소수 2 내지 12의 다이올, 예를 들어, 1,5-펜탄다이올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 펜틸렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 싸이오다이글리콜 및 올리고- 및 폴리-알킬렌 글리콜, 바람직하게는 다이에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜; 트라이올, 바람직하게는 글리세롤 및 1,2,6-헥산트라이올; 다이올의 모노-C1-4-알킬 에터, 바람직하게는 탄소수 2 내지 12의 다이올의 모노-C1-4-알킬 에터, 특히 바람직하게는 2-메톡시에탄올, 2-(2-메톡시에톡시)에탄올, 2-(2-에톡시에톡시)에탄올, 2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]에탄올, 2-[2-(2-에톡시에톡시)에톡시]에탄올 및 에틸렌 글리콜 모노알릴 에터; 사이클릭 아마이드, 바람직하게는 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, 카프로락탐 및 1,3-다이메틸이미다졸리돈; 사이클릭 에스터, 바람직하게는 카프로락톤; 설폭사이드, 바람직하게는 다이메틸 설폭사이드 및 설폴란이다.
바람직한 조성물에서, 매질 (b)는 물 및 2종 이상, 보다 바람직하게는 2 내지 8종의 수용성 유기 용매를 포함한다.
특히 바람직한 수용성 용매는 사이클릭 아마이드, 특히 2-피롤리돈, N-메틸피롤리돈 및 N-에틸피롤리돈; 다이올, 바람직하게는 1,5-펜탄다이올, 에틸렌 글리콜, 싸이오다이글리콜, 다이에틸렌 글리콜 및 트라이에틸렌 글리콜; 및 다이올의 모노-C1-4-알킬 및 다이-C1-4-알킬 에터, 보다 바람직하게는 탄소수 2 내지 12의 다이올의 모노-C1-4-알킬 에터, 특히 바람직하게는 2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]에탄올이다.
바람직한 매질 (b)는
(i) 75 내지 95중량부의 물, 및
(ii) 25 내지 5중량부의 다이에틸렌 글리콜, 2-피롤리돈, 싸이오다이글리콜, N-메 틸피롤리돈, 사이클로헥산올, 카프로락톤, 카프로락탐 및 1,5-펜탄다이올중 하나 이상을 포함하고,
여기서, (i) 및 (ii)는 합쳐서 100중량부이다.
물 및 하나 이상의 유기 용매를 포함하는 유용한 잉크 조성물의 추가의 예는 US 4963189호, US 4703113호, US 4626284호 및 EP 425150A호에 기술되어 있다.
매질 (b)이 무수(즉, 물 1중량% 미만을 함유) 유기 용매를 포함하는 경우, 상기 용매의 비등점은 30 내지 200℃, 보다 바람직하게는 40 내지 150℃, 특히 바람직하게는 50 내지 125℃이다.
유기 용매는 수-불용성, 수용성 또는 이들 용매의 혼합물일 수 있다.
바람직한 수용성 유기 용매는 전술한 모든 수용성 유기 용매 및 이들의 혼합물이다.
바람직한 수-불용성 용매는 지방족 탄화수소; 에스터, 바람직하게는 에틸 아세테이트; 염소화 탄화수소, 바람직하게는 CH2Cl2; 및 에터, 바람직하게는 다이에틸 에터; 및 이들의 혼합물이다.
액체 매질 (b)이 수-불용성 유기 용매를 포함하는 경우, 극성 용매를 첨가하여 액체 매질중의 염료의 용해도를 증가시키는 것이 바람직하다.
이러한 극성 용매의 예는 C1-4-알콜, 바람직하게는 에탄올 또는 프로판올; 케톤, 바람직하게는 메틸 에틸 케톤이다.
무수 유기 용매는 단일 용매로 이루어지거나 또는 2종 이상의 상이한 용매의 혼합물로 이루어질 수 있다.
상이한 용매의 혼합물인 경우, 2 내지 5종의 상이한 무수 용매를 포함하는 혼합물이 바람직하다. 이를 통해, 건조 특성의 조절이 양호해지고, 저장시 잉크 조성물의 안정성이 제공될 수 있다.
무수 유기 용매 또는 이의 혼합물을 포함하는 잉크 조성물은 신속한 건조 시간이 요구되는 경우, 특히 소수성 및 비-흡수성 기판, 예를 들어 플라스틱, 금속 및 유리의 날염에 사용되는 경우 특히 유리하다.
바람직한 저 용융 매질의 용융점은 60 내지 140℃이다. 유용한 저 용융 고체는 장쇄 지방산 또는 알콜, 바람직하게는 C18-24-탄소쇄를 갖는 장쇄 지방산 또는 알콜, 및 설폰아마이드를 포함한다. 통상적인 저 용융 잉크 비히클은 일반적으로 다양한 분율의 왁스, 수지, 가소화제, 점착부여제, 점도 개질제 및 산화방지제를 포함한다.
본 발명의 잉크 조성물 및 날염 페이스트는 보조제로서 잉크젯 잉크 또는 날염 페이스트에 통상적으로 사용되는 추가의 성분, 예를 들어 완충제, 점도 개선제, 표면장력 개선제, 고정 촉진제, 바이오자이드(biozide), 부식 억제제, 평활제, 건조제, 보습제, 잉크 침투 첨가제, 광 안정화제, UV 흡수제, 광학 증백제, 응고 감소제, 이온성 또는 비이온성 계면활성제 및 전도성 염을 추가로 포함할 수 있다.
이들 보조제는 바람직하게는 0 내지 5중량%의 양으로 잉크에 첨가된다. 날염 페이스트의 총 중량을 기준으로, 70중량% 이하, 특히 60중량% 이하, 바람직하게 는 55중량% 이하이다.
본 발명의 잉크 조성물중에 침전되지 않도록, 사용되는 염료는 깨끗하게 정제되어야 한다. 이는 통상적으로 공지된 정제 방법으로 수행될 수 있다.
본 발명의 조성물이 텍스타일 섬유 물질을 날염하는데 사용되는 경우, 하기 조성물을 사용하는 것이 바람직하다.
텍스타일 섬유 물질을 날염하는 경우, 물을 포함한 용매 이외에 유용한 첨가제는 합성 증점제, 천연 증점제 또는 개질된 천연 증점제이고, 이는 수용성 비이온성 셀룰로스 에터, 알긴산 염 및 빈 검 에터를 포함할 수 있다. 상기 수용성 비이온성 셀룰로스 에터, 알긴산 염 및 빈 검 에터는 모두 잉크를 특정 점도로 조정하기 위한 증점제로서 사용된다.
유용한 수용성 비이온성 셀룰로스 에터는, 예를 들어 메틸-, 에틸-, 하이드록시에틸-, 메틸하이드록시에틸-, 하이드록시프로필- 또는 하이드록시프로필메틸-셀룰로스를 포함한다. 메틸셀룰로스가 바람직하고, 하이드록시에틸셀룰로스가 특히 바람직하다. 통상적으로, 셀룰로스 에터는 잉크의 총 중량을 기준으로, 0.01 내지 2중량%, 특히 0.01 내지 1중량%, 바람직하게는 0.01 내지 5중량%의 양으로 잉크 중에 사용된다.
유용한 알긴산 염은 특히 알칼리 금속 알긴산 염, 바람직하게는 나트륨 알긴산 염을 포함한다. 이들은, 통상적으로 잉크중에 잉크의 총 중량을 기준으로 0.01 내지 2중량%, 특히 0.01 내지 1중량%, 바람직하게는 0.01 내지 0.5중량%의 양으로 사용된다.
날염 페이스트는 70중량% 이하, 바람직하게는 55중량% 이하의 증점제를 포함한다. 날염 페이스트 중에, 증점제는 날염 페이스트의 총 중량을 기준으로 3 내지 70중량%, 특히 5 내지 60중량%, 바람직하게는 7 내지 55중량%의 양으로 사용된다.
잉크젯 날염 공정에서는, 1 내지 40mPa.s, 특히 5 내지 40mPa.s, 바람직하게는 10 내지 40mPa.s의 점도를 갖는 잉크 조성물이 바람직하다. 10 내지 35mPa.s의 점도를 갖는 잉크 조성물이 특히 바람직하다.
15 내지 73mN/m, 특히 20 내지 65mN/m, 특히 바람직하게는 30 내지 50mN/m의 표면장력을 갖는 잉크 조성물이 바람직하다.
0.1 내지 100mS/cm, 특히 0.5 내지 70mS/cm, 특히 바람직하게는 1.0 내지 60mS/cm의 전도율을 갖는 잉크 조성물이 바람직하다.
잉크는 완충 물질, 예를 들어 아세테이트, 포스페이트, 붕사, 보레이트 또는 시트레이트를 추가로 포함할 수 있다. 예로는 나트륨 아세테이트, 다이-나트륨 하이드로젠 포스페이트, 나트륨 보레이트, 나트륨 테트라보레이트 및 나트륨 시트레이트를 들 수 있다.
이로써 수득된 염색물 또는 날염물은 전반적으로 양호한 견뢰성; 특히 뛰어난 열-이동 견뢰성, 열-고정화 견뢰성 및 주름가공 견뢰성 뿐만 아니라, 탁월한 습윤 견뢰성을 나타낸다.
본 발명의 염료는 천연 또는 합성 거대분자 유기 물질, 예를 들어 플라스틱, 수지, 바니시, 페인트, 전기진단 사진 토너 및 현상액, 엘렉트릿(electret) 물질, 색상 필터 및 잉크(날염 잉크를 포함) 및 시드(seed)를 착색하는데 유용하다.
본 발명의 염료를 사용하여 착색가능한 거대분자 유기 물질은, 예를 들어 단독 또는 혼합물로서의 셀룰로스 화합물, 예를 들어 셀룰로스 에터 및 에스터, 예를 들어 에틸셀룰로스, 나이트로셀룰로스, 셀룰로스 아세테이트 또는 셀룰로스 부티레이트, 천연 결합제, 예를 들어 지방산, 지방 오일, 수지 및 이들의 전환물, 또는 합성 수지, 예를 들어 중축합물, 중부가물, 부가 중합체 및 공중합체, 예를 들어 아미노 수지, 특히 유레아- 및 멜라민-포름알데하이드 수지, 알키드 수지, 아크릴산 수지, 페놀플라스트 및 페놀계 수지, 예를 들어 노볼락 또는 레솔, 유레아 수지, 폴리바이닐, 예를 들어 폴리바이닐 알콜, 폴리바이닐 아세탈, 폴리바이닐 아세테이트 또는 폴리바이닐 에터, 폴리카보네이트, 폴리올레핀, 예를 들어 폴리스타이렌, 폴리바이닐 클로라이드, 폴리에틸렌 또는 폴리프로피렌, 폴리(메트)아크릴레이트 및 이들의 공중합체, 예를 들어 폴리아크릴산 에스터 또는 폴리아크릴로나이트릴, 폴리아마이드, 폴리에스터, 폴리우레탄, 쿠마론-인덴 및 탄화수소 수지, 에폭시 수지, 상이한 경화 기작을 갖는 불포화 합성 수지(폴리에스터, 아크릴레이트), 왁스, 알데하이드 및 케톤계 수지, 검, 고무 및 이들의 유도체, 라텍스, 카세인, 실리콘 및 실리콘 수지를 들 수 있다.
전술한 거대분자 유기 화합물이 가소적으로 변형가능한 조성물, 용융물로서 존재하는지 또는 도프, 분산제, 바니시, 페인트 또는 날염 잉크의 형태로서 존재하는지의 여부는 중요하지 않다. 목적하는 용도에 따라, 본 발명의 염료가 배합물로서, 또는 제제 또는 분산제의 형태로서 사용되는 것이 유리하다. 본 발명의 염료는 착색될 거대분자 유기 물질을 기준으로 0.05 내지 30중량%, 바람직하게는 0.1 내지 15중량%의 양으로 사용된다.
일부 경우, 본 발명의 바탕 및/또는 마무리 안료 조성물 대신 2㎡/g 초과, 바람직하게는 5㎡/g 초과의 BET 표면적을 갖는 상응하는 조 물질을 사용할 수도 있다. 이러한 조 물질은 액체 또는 고체 형태의 착색 농축물을 제조하는데 단독으로 또는 다른 조 물질 또는 제조 직후의 안료와 임의적으로 혼합되어 5 내지 99중량%의 농도로 사용될 수 있다.
또한, 본 발명의 염료는 전자 사진 토너 및 현상액, 예를 들어 단일 성분 또는 2-성분 분말 토너(단일 성분 또는 2-성분 현상액으로도 공지되어 있음), 자기 토너, 액체 토너, 부가 중합 토너 및 전문 토너의 착색제로도 유용하다.
전형적인 토너 결합제는 부가 중합, 중부가 및 중축합 수지, 예를 들어 개별적인 또는 조합된 스타이렌, 스타이렌-아크릴레이트, 스타이렌-부타디엔, 아크릴레이트, 폴리에스터, 페놀-에폭시 수지, 폴리설폰, 폴리우레탄, 및 각각 전하 조절제, 왁스 또는 유동 보조제와 같은 추가의 성분을 포함하여 이들 보조제로 후속 개질될 수 있는 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌이다.
또한, 본 발명의 염료는, 예를 들어 금속, 나무, 플라스틱, 유리, 세라믹, 콘크리트, 텍스타일, 종이 또는 고무로 구성된 물질의 표면 피복에 사용되는 분말 및 분말 피복물, 특히 마찰전기적 또는 전기동력학적 분무가능한 분말 피복물중의 착색제로서도 유용하다.
분말 피복 수지는 전형적으로 통상적인 경화제(hardner)와 함께 에폭시 수지, 카복실- 및 하이드록실-함유 폴리에스터 수지, 폴리우레탄 및 아크릴 수지가 사용된다. 수지의 조합물 또한 사용된다. 예를 들어, 에폭시 수지는 흔히 카복실- 및 하이드록실-함유 폴리에스터 수지와 조합되어 사용된다. 전형적인 경화제 성분(수지 시스템에 따라 좌우됨)은, 예를 들어 산 무수물, 이미다졸 및 다이사이안다이아마이드 및 이들의 유도체, 블록 아이소사이아네이트, 비스아실우레탄, 페놀계 수지 및 멜라민 수지, 트라이글리시딜 아이소사이아누레이트, 옥사졸린 및 다이카복실산을 포함한다.
또한, 본 발명은 화학식 I의 하나 이상의 염료 화합물 또는 이들의 혼합물을 포함하는 광학 층에 관한 것이다. 추가로, 본 발명은,
(a) 기판을 제공하는 단계,
(b) 염료 혼합물 또는 화학식 I의 염료 화합물 또는 이들의 혼합물을 유기 용매에 용해시켜 용액을 형성하는 단계,
(c) 상기 용액(b)을 기판(a) 상에 피복하는 단계; 및
(d) 상기 용매를 증발시켜 염료 층을 형성하는 단계를 포함하는,
광학 층의 제조방법에 관한 것이다.
상기 기판(a)상에 용액(b)을 피복하는데에는 상이한 방법이 사용될 수 있다. 광학 층의 얇고 균일한 필름을 제공하기 위해서, 일반적으로 스핀 피복, 진공 증발, 제트 피복, 회전 피복 또는 침지에 의해 물질을 침착시킨다.
유기 용매는 C1-8-알콜, 할로겐 치환된 C1-8-알콜, C1-8-케톤, C1-8-에터, 할로겐 치환된 C1-4-알칸 또는 아마이드로부터 선택된다. 바람직한 C1-8-알콜 또는 할로 겐 치환된 C1-8-알콜은 메탄올, 에탄올, 아이소프로판올, 다이아세톤 알콜(DAA), 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올, 트라이클로로에탄올, 2-클로로에탄올, 옥타플루오로펜탄올 또는 헥사플루오로부탄올로부터 선택되고; 바람직한 C1-8-케톤은 아세톤, 메틸아이소부틸케톤, 메틸에틸케톤 또는 3-하이드록시-3-메틸-2-부탄온으로부터 선택되고; 바람직한 할로겐 치환된 C1-4-알칸은 클로로포름, 다이클로로메탄 또는 1-클로로부탄으로부터 선택되고; 바람직한 아마이드는 다이메틸포름아마이드 또는 다이메틸아세트아마이드로부터 선택된다.
광학 층의 바람직한 실시양태에서, 광학 층은 광학 데이터 기록 매체의 일부를 형성하는 광학 데이터 기록 층이다.
광학 데이터 기록 매체의 구성은 당분야에 공지되어 있다. 광학 데이터 기록 매체는 일반적으로 기판 및 기록 층, 즉 광학 층을 포함한다. 일반적으로, 유기 중합체성 물질의 디스크 또는 웨이브가 기판으로서 사용된다. 따라서, 본 발명에 따른 바람직한 기판은 폴리카보네이트(PC) 또는 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)이다. 기판은 고 광학 품질의 편평하고 균일한 표면을 제공해야 한다. 이러한 광학 층은 고 광학 품질의 한정된 두께를 갖는 얇고 균일한 필름 상에 침착된다. 최종적으로, 반사층, 예를 들어 알루미늄, 금 또는 구리가 상기 광학 층 위에 침착된다.
개선된 광학 데이터 기록 매체는 추가의 층, 예를 들어 보호층, 접착층 또는 추가의 광학 층을 포함할 수 있다.
광학 데이터 기록 층으로서의 적용에서, 기판(a) 상에 용액(b)을 피복시키는 바람직한 방법은 스핀 피복 공정이다.
본 발명은 광학 데이터 기록, 바람직하게는 500nm 이하의 파장을 갖는 레이저를 사용하는 광학 데이터 기록을 위한 광학 층에서의 화학식 I의 화합물의 용도에 관한 것이다.
추가로, 본 발명은 청색 레이저를 조사하여 정보를 기록 및 재현할 수 있는 것으로서, 광착 층에 화학식 I의 화합물의 화합물을 사용하는 WORM(write only read many)형 광학 데이터 기록 매체에 관한 것이다.
하기 실시예에서, 부 및 %는 중량 기준이다. 온도는 ℃이다.
실시예 1
다이아조화:
7-아미노-4-메틸쿠마린 17.5부를 물 100부 및 30% HCl 36.5부에 용해시키고 얼음 75부를 첨가한 후, 1시간 동안 0 내지 5℃에서 나트륨 나이트라이트 6.9부를 수용액(40%)으로서 첨가한다. 이 용액을 0 내지 5℃에서 2시간 동안 교반하고 아미노설폰산 0.1부를 첨가하여 과량의 나트륨 나이트라이트를 제거한다.
커플링:
전술한 바와 같이 제조된 다이아조늄 염 용액을 15 내지 25℃에서 물 400부 중의 1-N-부틸-3-사이아노-6-하이드록시-4-메틸-피리돈-2 20.6부의 용액에 연속적 으로 첨가한다. 이 현탁액을 25℃에서 1시간 동안 교반하고 30% 나트륨 하이드록사이드 용액 10부를 첨가하여 pH를 4로 조정한다. 이 현탁액을 1시간 동안 교반하고 침전된 염료를 여과하고 물로 세척한 후, 60℃의 진공에서 건조시킨다.
단리된 하기 화학식 IV의 염료는 DMF중의 λmax가 449nm이고, 양호한 견뢰성으로 폴리에스터를 황색으로 염색한다:
Figure 112005019692196-pct00006
실시예 2
다이아조화:
상기 실시예 1과 유사한 방법으로 다이아조화를 수행한다.
앞서 제조된 다이아조늄 염 용액을 15 내지 25℃에서 물 400부 중의 1-N-부틸-3-사이아노-6-하이드록시-4-메틸-피리돈-2 10.3부 및 N-프로필-3-사이아노-6-하이드록시-4-메틸-피리돈-2 9.6부의 용액에 연속적으로 첨가한다. 이 현탁액을 25℃에서 1시간 동안 교반하고 30% 나트륨 하이드록사이드 용액 10부를 첨가하여 pH를 4로 조정한다. 이 현탁액을 1시간 동안 재교반하고 침전된 염료를 여과하고 물로 세척한 후, 60℃의 진공에서 건조시킨다.
단리된 하기 화학식 VA 및 VB의 염료는 DMF중의 λmax가 449nm이고, 양호한 견뢰성으로 폴리에스터를 황색으로 염색한다:
Figure 112005019692196-pct00007
Figure 112005019692196-pct00008
하기 표 1a 및 1b, 2 및 3에 상기 실시예와 유사한 방법으로 제조된 화학식 IA, IB 및 IC의 추가의 염료를 제시한다.
모든 염료는 매우 양호한 모든 견뢰성, 특히 광 견뢰성, 승화 견뢰성 및 습윤 견뢰성으로 폴리에스터 섬유 물질을 염색한다.
Figure 112005019692196-pct00009
Figure 112005019692196-pct00010
Figure 112005019692196-pct00011
실시예 42
다이아조화:
7-아미노-4-메틸쿠마린 17.5부를 15℃에서 아세트산 100부에 용해시키고 40% 나이트로실 황산 17.4부를 15분 동안 첨가한다. 이 용액을 15℃에서 2시간 동안 교반한다.
커플링:
앞서 제조된 다이아조늄 염 용액을 15 내지 25℃에서 아미노설폰산 0.5부를 함유한 물 50부 및 N-메틸-피롤리돈 100부중의 3-메틸-1-페닐-5-피라졸론 17.4부의 용액에 연속적으로 첨가한다. 이 현탁액을 25℃에서 1시간 동안 교반한다. 이어서, 얼음 100부를 첨가한다. 이 이 현탁액을 30분 동안 교반하고 염료 현탁액을 침전시키고 물로 세척한 후, 60℃의 진공에서 건조시킨다.
단리된 하기 화학식 VI의 염료는 DMF중의 λmax가 411nm이고, 양호한 견뢰성으로 폴리에스터를 황색으로 염색한다:
Figure 112005019692196-pct00012
Figure 112005019692196-pct00013
적용예 A
수분 압착케이크 형태의 상기 실시예 1에 따른 염료 17.5부를 리그닌 설포네이트계 시판중인 분산제 32.5부와 함께 공지된 방법으로 습식-분쇄하고 분말로 분쇄한다. 이 염료 제제 1.2부를 암모늄 설페이트 40부를 함유하는 70℃의 탈염수 2000부에 첨가하고, 85% 포름산을 사용하여 염료욕의 pH를 5로 설정한다. 세척된 폴리에스터 섬유 직물 100부를 상기 염료욕에 배치하고, 용기를 닫고, 20분 동안 130℃로 가열하고, 이 온도에서 추가의 60분 동안 염색한다. 냉각시킨 후, 폴리에스터 섬유 직물을 염료욕으로부터 제거하고 헹구고 비누칠하고 나트륨 하이드로설파이트를 사용하여 일반적인 방법으로 환원시켜 세척한다. 열-고정화(180℃, 30초) 후, 매우 양호한 모든 견뢰성을 나타내는, 특히 광 견뢰성 및 승화 견뢰성, 특히 우수한 습윤 견뢰성을 나타내는 황색 염색물이 수득된다. 실시예 2 내지 65의 염료가 유사한 방식으로 사용될 수 있고 매우 양호한 모든 견뢰성을 나타내는 염색물이 수득된다.
폴리에스터 얀의 염색은 실시예 2 내지 65와 유사하게 수행될 수 있다.
적용예 B
상기 실시예 1에서 수득된 염료 2.5부를 25℃에서 다이에틸렌글리콜 20부 및 물 77.5부의 혼합물중에서 교반하면서 용해시켜 잉크젯 날염에 적합한 날염 잉크를 수득한다.
실시예 2 내지 65의 염료 또는 실시예 1 내지 65의 염료 혼합물 또한 적용예 B에 기술된 것과 유사한 방식으로 사용될 수 있다.
적용예 C
본 발명에 따른 날염 페이스트를 증점제(빈 검 에터, 예를 들어 인달카(Indalca)(등록상표)) 500g, 고정 촉진제(예를 들어, 프린토겐(Printogen) HDN(등록상표)) 10g, 평활제(예를 들어, 산도겐(Sandogen) CN(등록상표)) 10g, 염색용 완충 및 분산 시스템(예를 들어, 산다시드(Sandacid) PB(등록상표; 1:2)) 10g, 및 실시예 1의 염료 10g으로 구성하고, 1000g 이하로 물을 첨가한다(상기 인달카는 세살피니아 에스.피.에이.(Cesalpinia S.p.A)(이탈리아 소재)에서 구매하였고, 산도겐, 프린토겐 및 산다시드는 클라리안트 아게(Claiant AG)(스위스 뮤텐쯔 소재)의 등록상표이다).
이 날염 페이스트는 종이 기판, 텍스타일 섬유 물질, 플라스틱 필름 및 플라스틱 투명제품을 날염하는데 사용된다.
또한, 상기 실시예 2 내지 65의 염료 또는 상기 실시예 1 내지 65의 염료는 적용예 C에 기술된 것과 유사한 방식으로 사용될 수 있다.
적용예 D
폴리에스터 인터로크 직물을 상기 적용예 C의 날염 페이스트를 사용한 종래기술의 날염기로 날염하였다. 결과적으로 날염된 직물을 110℃에서 3분 동안 건조시키고 175℃에서 7분 동안 고온 스팀 처리하였다. 이 직물을 5분 동안 차가운 수돗물로 헹군 다음, 탈염수로 5분 동안 헹구었다. 처리된 직물을 Na2CO3 4g/ℓ, 하이드로설파이트 나트륨 염(85%) 2g/ℓ 및 라이오겐(Lyogen) DFT(등록상표)(클라리안트 아게(스위스 뮤텐쯔 소재)의 등록상표) 1g/ℓ를 포함하는 욕에서 헹구었다. 수돗물로 15분 동안 추가로 헹군 다음, 최종 건조 단계를 수행하였다. 이로써, 매우 양호한 모든 견뢰성, 특히 광 견뢰성, 승화 견뢰성 및 습윤 견뢰성으로 황색 날염된 폴리에스터 직물이 수득된다.
또한, 상기 실시예 2 내지 65의 염료 또는 상기 실시예 1 내지 65의 염료 혼합물이 적용예 D에 기술된 것과 유사한 방식으로 사용될 수 있다.
적용예 E
바람직하게는 매질을 40℃로 가열한 후, 상기 실시예 1의 염료를 첨가함으로써 잉크젯 날염 조성물을 제조한다. 이 혼합물을 염료가 용해될 때까지 교반한다. 이어서, 조성물을 실온으로 냉각시키고 추가의 성분을 첨가한다.
잉크 조성물의 개별 성분의 분율은 다음과 같다: 상기 실시예 1의 염료 6부, 글리세롤 20부 및 물 74부.
이 잉크 조성물을 종이 기판, 텍스타일 섬유 물질, 플라스틱 필름 및 플라스틱 투명 제품을 날염하는데 사용한다.
또한, 상기 실시예 2 내지 65의 염료 또는 상기 실시예 1 내지 65의 염료 혼합물이 적용예 E에 기술된 것과 유사한 방식으로 사용될 수 있다.
적용예 F
상기 적용예 E의 날염 잉크를 사용하여 폴리에스터 인터로크 직물을 잉크젯 날염하였다. 날염된 직물을 적용예 D의 후 날염 처리와 유사하게 처리하였다. 이로써, 매우 양호한 모든 견뢰성, 특히 광 견뢰성 및 승화 견뢰성, 특히 우수한 습윤 견뢰성으로 황색 날염된 폴리에스터 직물이 수득된다.
또한, 상기 실시예 2 내지 65의 염료 또는 상기 실시예 1 내지 65의 염료 혼합물이 상기 적용예 F에 기술된 것과 유사한 방식으로 사용될 수 있다.

Claims (11)

  1. 하기 화학식 I로 표시되는 염료:
    화학식 I
    Figure 112010075426920-pct00020
    상기 식에서,
    X는 수소, 할로겐, -CN, -SO2CH3, -OH, -OCH3 또는 -NO2이고;
    Y는 수소, 할로겐 또는 -CN이고;
    K는 6-하이드록시피리돈-2, 아닐린, α-나프틸아민, 5-아미노피라졸, 5-하이드록시피라졸, 인돌, 테트라하이드로키놀린, 2-아미노싸이아졸, 2-아미노싸이오펜, 3,5-다이메틸로 치환되지 않고 제 3 위치 및 제 5 위치의 치환기가 제 2 고리의 구성원이 아닌 페놀, 2-나프톨, 벤조모르폴린 또는 2,6-다이아미노피리딘 계열의 커플링 성분 라디칼이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    하기 화학식 IB로 표시되는 염료 또는 이의 혼합물:
    화학식 IB
    Figure 112010075426920-pct00021
    상기 식에서,
    X는 수소, 할로겐, -OH, -OCH3 또는 NO2이고;
    Y는 수소이고;
    R7은 수소; 벤질; 페닐; C1-6-알킬; 할로겐, -CN, -OH, -OC1-4-알킬, -OCOC1-2-알킬, -OC6H5 및 -C6H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 치환기로 치환된 C2-4-알킬; -C1-2-알킬렌-COOC1-2-알킬; -NHC6H5; 또는 -NH2이다.
  3. 제 1 항에 있어서,
    하기 화학식 IA로 표시되는 염료 또는 이의 혼합물:
    화학식 IA
    Figure 112010075426920-pct00022
    상기 식에서,
    X는 수소, 할로겐, -CN, -OH, -OCH3 또는 -NO2이고;
    Y는 수소, 할로겐 또는 -CN이고;
    R1은 C1-6-알킬; 할로겐, -CN, -SCN-OC1-4-알킬, -OCOC1-3-알킬, -OCHO, -OC6H5 및 -C6H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된 C2-4-알킬; C3-4-알켄일; -Cl 또는 -Br로 치환된 C3-4-알켄일; C3-4-알카이닐; C2-4-알킬렌-OCO-C1-3-알킬; C2-4-알킬렌-O(CO)O-C1-3-알킬; C1-3-알킬렌-COO-R5; -C1-3-알킬렌-COO-C2-3-알킬렌-N-프탈이미드; C1-3-알킬렌-COOCH2COOR5; 또는 C1-3-알킬렌-COOCH2COR6이고;
    R2는 수소; C1-6-알킬; 할로겐, -CN, -OH, -OC1-4-알킬, -OCOC1-3-알킬, -OC6H5 및 -C6H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된 C2-4-알킬; C3-4-알켄일; -Cl 또는 -Br로 치환된 C3-4-알켄일; C3-4-알카이닐; C2-4-알킬렌-OCO-C1-3-알킬; 또는 C1-3-알킬렌-COO-R5이고;
    R3은 수소, CH3, -NHCO-A1 또는 -NHCOO-A2이고;
    A1은 수소; C1-4-알킬; C2-3-알켄일; 페닐; -NH2; 또는 -OH, -Cl, -OCH3, -OC2H5 및 -C6H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된 C1-2-알킬이고;
    A2는 C1-4-알킬; 또는 -Cl, -OCH3 및 -OC2H5로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 치환기로 치환된 C2-4-알킬이고;
    R4는 수소, 할로겐 또는 C1-4-알콕시이고;
    R5는 C1-4-알킬; C1-2-알콕시에틸; C3-4-알켄일; C3-4-알카이닐; 신나밀; 페녹시에틸; 페닐-C1-3-알킬; 테트라하이드로퍼퓨릴-2; 페닐; 또는 -CH3, -OCH3, -COOCH3 또는 -COOC2H5로 치환된 페닐이고;
    R6은 C1-4-알킬; 페닐; 또는 -CH3, -OCH3, -OC2H5, 할로겐 및 -OH로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된 페닐이다.
  4. 제 1 항에 있어서,
    하기 화학식 IC로 표시되는 염료 또는 이의 혼합물:
    화학식 IC
    Figure 112010075426920-pct00023
    상기 식에서,
    X는 수소, 할로겐, -OH, -OCH3 또는 NO2이고;
    Y는 수소이고;
    R8은 수소; C1-6-알킬; 사이클로헥실; 페닐; 또는 할로겐, -CH3, -CN, -OH, -OC1-4-알킬, -OCOC1-2-알킬, -COC1-2-알킬, -COOH, -SO2C2H4OH 및 -NO2로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 치환기로 치환된 페닐이고;
    R9는 C1-4-알킬, 페닐 또는 -CF3이다.
  5. 하기 화학식 II로 표시되는 다이아조화 아민을 하기 화학식 III으로 표시되는 아민과 커플링시킴을 특징으로 하는, 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 따른 염료의 제조방법:
    화학식 II
    Figure 112010075426920-pct00024
    화학식 III
    H-K
    상기 식에서,
    X, Y 및 K는 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에서 정의한 바와 같다.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 따른 염료 또는 이의 혼합물을 포함하는 조성물.
  9. 제 8 항에 있어서,
    날염 페이스트, 날염 잉크, 잉크젯 날염 잉크 또는 고온 용융 잉크젯 날염 잉크인 조성물.
  10. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 따른 염료 또는 이의 혼합물로 염색되거나 날염된 전부-합성 또는 반-합성 소수성 유기 물질을 포함하는 섬유.
  11. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 따른 염료 또는 이의 혼합물로 염색되거나 날염된 전부-합성 또는 반-합성 소수성 유기 물질을 포함하는 실.
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