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KR100190339B1 - 2환-방향족화합물,이를 함유하는 제약 및 화장품 조성물 및 이의 용도 - Google Patents

2환-방향족화합물,이를 함유하는 제약 및 화장품 조성물 및 이의 용도 Download PDF

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KR100190339B1
KR100190339B1 KR1019950009988A KR19950009988A KR100190339B1 KR 100190339 B1 KR100190339 B1 KR 100190339B1 KR 1019950009988 A KR1019950009988 A KR 1019950009988A KR 19950009988 A KR19950009988 A KR 19950009988A KR 100190339 B1 KR100190339 B1 KR 100190339B1
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KR
South Korea
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tetrahydro
radical
tetramethyl
naphthylthio
benzoic acid
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KR1019950009988A
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쟝-미셸베르나르동
Original Assignee
빌로 쟝 빠스깔
쌍트르 엥떼르나씨오날 드 르세르슈 데르마똘로지끄 갈데르마
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Publication date
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Abstract

본 발명은 하기식 (Ⅰ)의 신규의 2환-방향족 화합물 :
및 인체 또는 수의용 약품용 제약학적 조성물로서의 상기 화합물의 용도(특히, 피부, 류마티스, 호흡기, 심혈관 및 안과 증상), 또는 화장품 조성물에 관한 것이다.

Description

2환-방향족 화합물, 이를 함유하는 제약 및 화장품 조성물 및 이의 용도
제1도는 2환-방향족 화합물의 제조방법에 관한 반응 도식이다.
본 발명은 신규 및 유용한 산업적 산물인 2환-방향족 화합물에 관한 것이다. 또한 인체 또는 수의 약품용의 제약학적의 조성물, 또는 화장품 조성물로써의 이 신규의 화합물의 용도에 관한 것이다. 본 발명의 화합물은 세포 분화 및 증식의 방면에서 현저한 활성을 갖으며, 좀더 구체적으로는 각화 질환과 관련된 피부 증상, 염증성 및/또는 면역 알레르기 성분에 의한 피부 증상(등) 및, 양성 또는 악성이든간에 피부 또는 표피의 증식의 국소 및 전신 치료에 응용성이 있다. 또한, 상기의 화합물은 광유발성 또는 연령에 따른 피부 노화치료 및 반혼화 장애 치료를 위해, 결합 조직의 퇴화 질병 치료에 사용할 수 있다. 또한, 안과 분야, 특히 코르네오퍼시(Corneopathies)의 치료에 응용성이 있다. 통상적으로, 스테로이드의 상과에 속한 수용체 및 티로이드 호르몬 수용체의 발현의 변형과 관련된 임의의 질병의 치료에 최종적으로 응용성이 있다.
또한 본 발명의 화합물을 인체 및 모발 보호용 화장품 조성물로 사용하는 것이 가능하다.
본 발명의 화합물은 하기의 식(Ⅰ)로 표시할 수 있다.
[식중,*R1은 수소원자, -CH3라디칼, -CH2-O-R3라디칼, -CH2-O-CO-R4라디칼, -O-R5라디칼, -O-(CH2)m-(CO)n-R6라디칼, -CO-R7라디칼, -CO-O-R8라디칼, 또는 -S(O)p-R9라디칼 (각종 라디칼 R3내지 R9뿐만 아니라 m, n 및 p는하기 정의하는 바와 같다)을 나타내고,
*R2는 수소 원자 또는 할로겐 원자, 저급 알킬 라디칼, -NO2라디칼, -O-COR4라디칼, -OR9라디칼 또는 라디칼
(라디칼 R4, R9및 R10은 하기 정의하는 바와 같다.)을 나타내고,
*Ar는 하기의 식 (a)-(e)의 라디칼로부터 선택된 라디칼을 나타내고,
(식중, R2는 상기한 바와 같고, R9는 하기하는 바와 같다.)
*X는 -O-, -S(O)t-또는 -NR9-라디칼(t 및 라디칼 R9는 하기하는 바와 같다)을 나타내고,
*Y 및 Z 는 -O-, -S(O)t- 또는 라디칼 -CR11R12(t 및 라디칼 R11및 R12는하기하는 바와 같다.)을 나타내고,
-m은 1, 2 또는 3의 정수이고, n은 0 또는 1의 정수이고, p는 0, 1, 2 또는 3의 정수이고, t는 0, 1 또는 2의 정수이며,
- R3은 수소 원자 또는 저급 알킬 라디칼을 나타내고,
-R4는 저급 알킬 라디칼을 나타내고,
-R5는 수소 원자 또는 저급 알킬 라디칼을 나타내고,
-R6은 저급 알킬 라디칼 또는 헤테로사이클을 나타내고,
-R7은 수소 원자 저급 알킬 라디칼 또는 라디칼
(식중, R' 및 R는 같거나 다르며, 수소 원자, 저급 알킬 라디칼, 모노- 또는 폴리히드록시알킬 라디칼, 치환될 수 있는 아릴 라디칼 또는 아미노산 또는 펩티드 또는 당의 잔기를 나타내거나, 또는 함께 헤테로 사이클을 형성한다)을 나타내고,
-R8은 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼, 알케닐 라디칼, 모노- 또는 폴리히드록시알킬 라디칼, 치환될 수 있는 아릴 또는 아르알킬 라디칼 또는 당의 잔기 또는 아미노산 또는 펩티드 잔기를 나타내고,
-R9는 수소 원자 또는 저급 알킬 라디칼을 나타내고,
-R10은 수소 원자 또는 저급 알킬 라디칼을 나타내고,
-R11는 수소 원자 또는 저급 알킬 라디칼을 나타내고,
-R12는 수소 원자 또는 저급 알킬 라디칼을 나타내고,
-Y 및 Z는 동시에 산소 원자 또는 -S(O)t- 라디칼을 나타낼 수 없다].
또한 본 발명은 라디칼 R1이 카르복실산 작용기 또는 술폰산 작용기를 나타내거나 또는 아민 작용기를 갖는 경우, 또는 라디칼 R2가 아민 작용기를 나타내는 경우에서,상기 화합물의 키랄 동족체 뿐만 아니라 상기식 (Ⅰ)의 화합물의 염에 관한 것이다. 본 발명의 화합물이 염의 형태인 경우, 화합물은 알칼리 또는 알칼리-토금속의 염, 또는 아연 또는 유기 아민의 염인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 저급 알킬 라디칼은 탄소수 1 내지 6의 라디칼, 바람직하게는 메틸, 에틸, 이소프로필, 부틸, t-부틸 및 헥실 라디칼을 의미한다.
1 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼은 특히 메틸, 에틸, 프로필, 2-에틸헥실, 옥틸, 도데실, 헥사데실 및 옥타데실 라디칼을 의미한다.
모노히드록시알킬 라디칼은 바람직하게는 2 또는 3개의 탄소 원자를 갖는 라디칼, 특히 2-히드록시에틸, 2-히드록시프로필, 3-히드록시 프로필 라디칼을 의미한다.
폴리히드록시알킬 라디칼은 2,3-디히드록시프로필, 2,3,4-트리히드록시부틸, 2,3,4,5-테트라히드록시펜틸 라디칼같은 바람직하게는 3 내지 6개의 탄소 원자 및 2 내지 5개의 히드록실기를 함유하는 라디칼 또는 펜타에리트리톨 잔기를 의미한다.
아릴 라디칼은 바람직하게는 1종이상의 할로겐 원자, 히드록실 또는 니트로 작용기로 치환될 수 있는 페닐 라디칼을 의미한다.
아르알킬 라디칼은 바람직하게는 1종이상의 할로겐 원자, 히드록실 또는 니트로 작용기로 치환될 수 있는 벤질 또는 펜에틸 라디칼을 의미한다.
알케닐 라디칼은 바람직하게는 2 내지 5개의 탄소 원자를 함유하며 하나 이상의 에틸렌계 불포화를 갖는 라디칼 예컨대, 좀더 구체적으로는 알릴 라디칼을 의미한다.
당의 잔기는 특히 글루코오즈, 갈락토오즈 또는 만노오즈 또는 글루쿠론산으로 부터 유도된 잔기를 의미한다.
아미노 잔기는 특히 리신, 글리신 또는 아스파르산으로부터 유도된 잔기를 의미하고, 펩티드 잔기는 좀더 구체적으로는 아미노산의 결합으로 생성된 디펩티드 또는 트리펩티드를 의미한다.
마지막으로, 헤테로사이클은 바람직하게는 앞서 정의한것과 같은 C1∼C6알킬 라디칼 또는 모노- 또는 폴리히드록시알킬 라디칼로 4 위치에서 치환될 수 있는 피페리디노, 모르폴리노, 피롤리디노 또는 피페라지노 라디칼을 의미한다.
라디칼 R2가 할로겐 원자를 나타내는 경우, 할로겐 원자는 불소, 염소 또는 브롬 원자인 것이 바람직하다.
본 발명의 범위내의 상기 식 (Ⅰ)의 화합물들 중, 하기의 화합물들을 특히 언급할 수 있다 :
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술피닐)벤조산
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술포닐)벤조산
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8- 테트라메틸-2-나프틸아미노)벤조산
5-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)-2-티오펜 카르복실산
4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
4-(3-에틸-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
4-(3-이소프로필-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)아세토페논
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤즈알데히드
4-(3-브로모-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시) 벤조산
3-메틸-4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
3-메틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오) 벤조산
3-메틸-4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
6-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)니코틴산
2-히드록시-4-(3,5,5,8,8- 펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
2-클로로-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오) 벤조산
4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
4-(3-이소프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
4-(3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤젠메탄 올
4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈알데히드
N-에틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오) 벤즈아미드
N-4-히드록시페닐-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2- 나프틸티오)벤즈아미드.
본 발명에서, 좀더 구체적으로 바람직한 식 (Ⅰ)의 화합물은 하기의 조건을 하나이상, 바람직하게는 전부 만족시키는 화합물이다 :
-R1은 -CO-R7라디칼이고,
-R2는 저급 알킬 라디칼 또는 -OR9라디칼이고,
-Ar은 식 (a)의 라디칼을 나타내고, X는 -O-, -S- 또는 -NR9-을 나타낸다.
또한 본 발명의 목적은 특히 제1도에 나타낸 반응 도식에 따른 식 (Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법이다.
따라서, 식 I (a)의 화합물은 피리딘 같은 용매중의 브롬화 구리 및 디메틸 술피드 착물의 존재하에서, 할로겐화 유도체(7), 바람직하게는 브롬-함유 또는 요오드-함유 유도체와 페놀계 유도체(3)의 나트륨 염을 결합시켜 수득할 수 있다(제1도). 페놀계 유도체(3)만은 루이스산, 예컨대 염화 알루미늄의 존재하에서, 페놀(2) 및 디할로겐화 유도체(1)로부터 프리에델-크래프트 유형의 반응으로 수득할 수 있다.
식 I (b)의 화합물은 에틸 또는 부틸 알코올 같은 알코올계 용매중의 특정한 전이 금속 착물 같은 촉매 존재하에서, 할로겐화 유도체(7), 바람직하게는 브롬-함유 또는 요오드-함유 유도체와 티올 유도체(3)의 나트륨염을 결합시겨 수득할 수 있다(제1도). 적합한 촉매로서, 특히 니켈 또는 팔라듐으로부터 유도된 촉매, 예컨대 각종의 포스핀 및 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(0)과의 NiII착물로부터 유도된 촉매를 언급할 수 있다. 티올 유도체는 (6)은 문헌(J. Org. Chem 1966 31 3980∼4)에 엠. 뉴만 (M. Newman) 및 에이치. 칸스 (H. Karnes)에 의해 기재된 통상적인 조건에 따라 디알킬티오카르바메이트 유도체(4) 및 (5)를 거쳐 페놀계 유도체(3)으로부터 수득할 수 있다.
식 Ⅰ(c) 및 Ⅰ(d)의 유도체는 유도체 I(b)를 산화시켜, 예컨대 m-클로로페르벤조산을 사용하여 수득할 수 있다.
식 (Ⅰ)에서, X가 -NR9라디칼을 나타내는 경우, 화합물은 이 경우에서는, 포타슘 디카르보네이트 또는 N-메틸모르폴린같은 염기 및 구리의 존재하에서, 아닐린 유도체(8)로 할로겐화, 바람직하게는 요오드-함유, 유도체(7)의 직접적 친핵성 치환에 의한 울만(Ullman) 형의 반응으로 제조할 수 있다.
상기의 식 및 반응에서, R1, R2는 상기의 식 (Ⅰ)에서의 의미와 같은 의미이거나 결합 조건에 적합할 수 있도록 적절히 보호된 이의 유도체이다. 특히, 히드록실 라디칼을 나타내는 경우, 히드록실 라디칼은 t-부틸디메틸실릴옥시 또는 메톡시에톡시메톡시의 형태로 보호되는 것이 바람직하다. 그런다음, 탈보호를 불소화 테트라부틸암모늄 또는 요오드화 트리메틸실란 또는 산성 매체(예로써, 염산)의 존재하에서 행한다.
또한 본 발명의 목적은 의학품으로서 정의한 것과 같은 식 (Ⅰ)의 화합물이다.
상기의 화합물은 시험관내의 인간의 각질 세포중의 특정한 분화마커(Marker)의 발현에 대해 활성(Anal. Biochem., 192, pp. 232∼236, 1991)을 나타내고/또는 리노 -마우스 시험(Skin Pharmacology, 4, pp. 65-73, 1991)에서 양호한 면포분해 활성을 나타낸다.
본 발명의 화합물은 특히 하기의 치료 분야에서 적합하다.
1) 분화 및 증식과 관련된 각화 질환 관련 피부 증상의 치료 특히 심상성 좌창 또는 면포-유형, 다형성 또는 주사비 여드름, 결절성 여드름 또는 집족성 여드름, 노인성 여드름, 2차 여드름 예컨대, 태양광성 여드름, 약물성 여드름 또는 직업성 여드름등의 치료,
2) 기타 다른 유형의 각화 질환, 특히 어린선, 어린선형태의 상태, 다리에르 질병, 장척 각피증, 루코플라키아(leucoplaskia) 및 루코플라키아-유사 상태, 피부 또는 점액성(협측) 태선 등의 치료,
3) 염증성 및/또는 면역알레르기성 성분에 의한 각화 질환과 관련된 피부 증상 및 특히 피부, 점액 또는 손톱이던간에 모든 형태의 건선 및 관절성 건선, 또는 피부 아토피, 예컨대 습진 또는 호흡기성 아토미 또는 잇몸 비대증의 치료, 또한 화합물은 어떤 각화 질환도 보이지 않는 특정의 염증 증상에 사용될 수 있으며,
4) 양성 또는 악성이든지, 바이러스원인에 의한 것인지 아니듣지, 심상성 사마귀, 연소성 편평 사마귀 및 사마귀상 표피이상증, 구강 또는 개화성 유두종성 및 특히 염기성- 및 유극세포의 상피종인 경우 자외선 조사로 유발될 수 있는 증식같은 모든 피부 또는 표피 증식 치료,
5) 수포성 피부병 및 콜라겐 질병같은 기타 다른 피부 질환 치료,
6) 특정 안과 질환, 특헤 코르네오퍼티 치료,
7) 광유발 또는 연령에 따른 색소 침착 및 광화학선 작용의 각화증, 또는 연령 또는 광화학선 작용의 노화와 관련된 모든 병리를 감소시키기 위한, 피부 노화의 회복 및 치료,
8) 국소 또는 전신 코르티코스테로이드에 의해 유발되는 표피 및/또는 피부위축증의 반점, 또는 기타 다른 형태의 피부 위축증의 예방 또는 치료,
9) 반흔 질환의 예방 또는 치료 또는 선상 피하 출혈 예방 또는 회복,
10) 여드름성 지루 또는 단순 지루 같은 피지기능의 장애 치료,
11) 종양 또는 예비 종양 상태의 치료 또는 예방,
12) 관절염 같은 염증 증상의 치료,
13) 피부 수준에서 또는 전체적으로 바이러스 원인의 임의의 증상 치료,
14) 탈모증 예방 또는 치료,
15) 면역 성분으로 인한 피부 또는 일반적 증상의 치료,
16) 동맥 경화증 같은 심혈관계의 증상 치료.
전술한 치료분야에서, 본 발명의 화합물은 레티노이드-유형 활성, D 비타민 또는 이의 유도체, 코르티코스테로이드, 항-유리 라디칼제, α-히드록시 또는 α-케토산 또는 이의 유도체, 또는 이온 채널 차단제를 갖는 기타 다른 화합물과 배합하여 유익하게 사용할 수 있다. D 비타민 또는 이의 유도체는 예컨대, 비타민 D2또는 D3의 유도체 및 특히 1,2,5-디히드록시비타민 D3를 의미한다. 항-유리 라디칼제는 예컨대, α-토코페롤, 슈퍼옥시드 디스뮤타제, 유비퀴놀 또는 특정의 금속-킬레이트제를 의미한다. α-히드록시 또는 α-케토산 또는 이의 유도체는 예컨대, 락트산, 말산, 시트르산, 글리콜산, 만델산, 타르타르산, 글리세르산 또는 아스코르브산 또는 이의 염, 아미드 또는 에스테르를 의미한다. 마지막으로, 이온 채널 차단제는 예컨대, 미노시딜(Minoxidil)(2,4-디아미노-6-피페리디노피리미딘-3-옥시드) 및 이의 유도체를 의미한다.
또한 본 발명의 목적은 앞서 정의한 식(Ⅰ)의 1종 이상의 화합물, 이의 키랄 동족체중의 하나 또는 이의 염중의 하나를 함유하는 의료 조성물이다.
따라서 본 발명의 목적은 제약학적으로 허용가능하고 상기의 조성물을 위해 선택한 투여 방법에 적합한 담체중에, 식(Ⅰ)의 화합물을 1종 이상, 이의 키랄 동족체중의 하나 또는 이의 염중의 하나를 함유함을 특징으로 하고, 특히 전술한 증상의 치료용의 신규 의료 조성물이다.
본 발명의 화합물의 투여는 소장, 비경구적, 국소로 또는 안구를 통해 행해질 수 있다.
소장을 통한 투여를 위한, 의료 제품은 정제, 젤라틴 캡슐, 당의정, 시럽, 현탁제, 액제, 산제, 과립제, 유탁제, 조절된 방출이 가능한 마이크로스피어(microsphere) 또는 나노스피어(nanosphere) 또는 지질성 또는 중합체성 소포체의 형태일 수 있다.
비경구적 투여를 위한, 조성물은 관류 또는 주입용 액제 또는 현탁제의 형태일 수 있다.
본 발명의 화합물은 통상적으로 약 0.01㎎/체중의 ㎏ 내지 100㎎/체중의 ㎏의 1일 투여량으로 1내지 3회분으로 투여한다.
국소 투여를 위한, 본 발명의 화합물에 기초한 제약학적 조성물은 좀더 구체적으로 피부 및 점막의 치료용이며, 따라서 연고, 크림, 유제, 포마드, 산제, 주입 패드, 액제, 겔, 분무제, 로숀 또는 현탁제의 형태로 제공될 수 있다. 또한 조절된 방출이 가능한 마이크로스피어 또는 나노스피어 또는 지질 또는 중합체성 소포체 또는 중합체성 패취(patch) 및 히드로겔의 형태로 제공될 수 있다. 더우기 국소 투여용의 상기 조성물은 임상적 치료에 따라 무수 형태 또는 수성 형태로 제공될 수 있다.
안구 투여용은 주로 세안제이다.
국소 또는 안구용의 상기 조성물은 앞서 정의한 식 (Ⅰ)의 화합물을 1종 이상, 또는 이의 광학적 또는 기하학적 이성체중의 하나 또는 이의 염들중의 하나를 조성물의 총량에 대해 바람직하게는 0.001중량% 내지 5중량%의 농도로 함유한다.
또한 본 발명의 식 (Ⅰ)의 화합물은 화장품 분야, 특히 인체 및 모발 보호 및 특히 여드름성 피부의 치료, 모발의 재성장, 모발의 손실 방지, 피부 또는 모발의 번들거림의 치료에 적용되고, 태양의 해로운 영향에 대한 보호 또는 생리학적 건성 피부의 치료에서, 광유발성 또는 연령에 의한 노화의 예방 및/또는 치료에 적용된다.
화장품 분야에서, 또한 본 발명의 화합물은 레티노이드-유형 활성, D 비타민 또는 이의 유도체, 코르티코스테로이드, 항-유리 라디칼제, α-히드록시 또는 α-케토산 또는 이의 유도체, 또는 이온 채널 차단제를 갖는 기타 다른 화합물과 배합하여 유익하게 사용할 수 있으며, 상기의 모든 각각의 성분들은 앞서 정의한 바와 같다.
그러므로 또한 본 발명은 화장품으로 허용 가능하고 국소적 적용에 적합한 담체중에, 앞서 정의한 식 (Ⅰ)의 화합물을 1종 이상 또는 이의 키랄 동족체중의 하나 또는 이의 염들중의 하나를 함유하고, 상기의 화장품 조성물이 특히, 크림, 유제, 로숀, 겔, 마이크로스피어 또는 나노스피어 또는 지질성 또는 중합체성 소포체, 비누 또는 샴푸 형태로 제공될 수 있는 것을 특징으로 하는 화장품 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 화장품 조성물 중의 색 (Ⅰ)의 화합물 농도는 전체 조성물에 대해 0.001중량% 내지 3중량%인 것이 유익하다.
본 발명의 의료 및 화장품 조성물은, 추가로, 불활성 또는 약물역학적 또는 화장품적 활성 첨가물 또는 이 첨가물의 배합물 및 특히 : 습윤제, 히드로퀴논, 아젤라산, 카페산 또는 코지산 같은 탈색소제, 연화제, 글리세롤, PEG 400, 티아모르폴리논 및 이의 유도체 또는 우레아 같은 모이춰라이징제, s-카르복시메틸시스테인, s-벤질시스테아민, 이의 염 또는 이의 유도체, 벤조일 과산화물 같은 항지루 또는 항여드름제, 에리드로마이신 및 이의 에스테르, 네오마이신, 클린다마이신 및 이의 에스테르, 테르라사이클린 같은 항생제, 케토코나졸 또는 4,5-폴리메틸렌-3-이소티아졸리돈 같은 항균제, 미노시딜(2,4-디아미노-6-피페리디노피리미딘 3-옥시드) 및 이의 유도체, 디아족시드(Diazoxide)(7-클로로-3-메틸-1,2,4-벤조티아디아진 1, 1-디옥시드) 및 페니토인 (Phenytoin)(5,4-디페닐-2,4-이미다졸리딘디온) 같은 모발 재성장 촉진제, 비-스테로이계 항-염증제, 카로테노이드 및 특히 β-카로텐, 안드라린 및 이의 유도체 같은 항-건선제, 마지막으로 5,8,11,14-에이코사테트라이노산 및 5,8,11-에이코사트리노산 및 이의 에스테르 및 이의 아미드를 함유할 수 있다.
또한 본 발명의 조성물은 미각-증강제, 파라히드록시벤조산 에스테르 같은 방부제, 안정제, 보습조절제, pH 조절제, 삼투압 개질제, 유화제, UV-A 및 UV-B 차단제, α-토코페롤, 부틸화 히드록시아니졸 또는 부틸화 히드록시톨루엔 같은 산화 방지제를 함유할 수 있다.
본 발명의 식 (Ⅰ)의 활성 화합물의 여러 제조예 및 상기의 화합물에 기초한 여러 구체적 배합을 하기에 예시할 것이며 이는 본 발명을 제한하지 않는다.
[실시예 1]
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
(a) 메틸 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조에이트
5.3g(15밀리몰)의 5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프톨 및 70㎖의 피리딘을 질소 기류하의 3-목 플라스크에 도입하고, 430㎎(15 밀리몰)의 수소화 나트륨(오일중 80%)을 소량으로 첨가한다. 혼합물은 30분간 교반하고, 3.9g(15 밀리몰)의 메틸 4-요오드벤조에이트 및 4.6g(22.5밀리몰)의 브롬화 구리 및 디메틸 술피드 착물을 연속적으로 첨가하여, 생성된 혼합물을 16시간 동안 환류에서 가열한다. 반응 매체를 증발시켜 건조시키고, 물 및 에틸 에테르에 흡수 시켜, 유기상을 기울여 제거하고, 마그네슘 술페이트로 건조시켜 증발시킨다. 수득한 잔유물을 디클로로메탄 및 헥산(50-50)으로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한다. 용매를 증발시킨후, 3.4g(67%)의 목적 메틸 에스테르를 회수한다.
(b) 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
앞서 (a)에서 수득한 3.4g(10밀리몰)의 에스테르, 40㎖의 THF 및 40㎖의 메탄올성 수산화 나트륨 용액(2N)을 원형-바닥 플라스크에 도입하고 전체를 실온에서 8시간 동안 교반한다. 반응 매체를 증발 건조시키고, 물에 흡수시켜, pH 1로 산성화 시키고, 에틸 에테르로 추출시켜, 유기상을 기울여 제거하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 중발시킨다. 수득한 잔유물을 디클로로메탄 및 에틸 에테르(97-3)의 혼합물로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한다. 용매를 증발시킨후, 융점 234∼5℃ 의 목적하는 산 2.3g(71%)를 회수한다.
[실시예 2]
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
(a) 에틸 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조에이트
30㎖의 에틸 알코올을 원형-바닥 플라스크에 도입한후, 500㎎(23밀리몰)의 나트륨을 소량 첨가하고 전체를 30분 동안 교반한다. 그 다음, 2g(9.1밀리몰)의 5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티올, 2.4g(9.1밀리몰)의 메틸 4-요오드벤조에이트 및 100㎎(0.09밀리몰)의 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(0)을 연속적으로 첨가한후, 전체를 4시간 동안 환류에서 가열한다. 반응 매체를 증발시키고, 물 및 에틸 아세테이트에 흡수시켜, 유기상을 기울여 제거하고, 물로 세척하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 수득한 잔유물을 디클로로메탄으로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한다. 용매를 증발시킨후, 2.1g(63%)의 에틸 에스테르를 회수한다.
(b) 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
상기의 실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서 (a)에서 수득한 에틸 에스테르 1.9 g(5.2밀리몰)로 출발하여, 융점 187∼8℃의 목적하는 산 1.6g(90%)을 수득한다.
[실시예 3]
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술피닐)벤조산
(a) 에틸 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술피닐) 벤조에이트
1.1g(3.1밀리몰)의 에틸 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조에이트 및 30㎖의 디클로로메탄을 원형-바닥 플라스크에 도입하고, 그런 다음 970㎎(3.1밀리몰)의 m-클로로페르벤조산을 첨가한다. 전체를 실온에서 2시간 동안 교반하고, 반응 매체를 물에 붓고, 디클로로메탄으로 추출하고, 유기상은 기울여 제거하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 잔유물을 디클로로메탄으로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한다.
용매를 증발시킨후, 1g(84%)의 목적하는 에스테르를 회수한다.
(b) 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술피닐)벤조산
상기의 실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서 (a)에서 수득한 에틸 에스테르 960㎎(2.5밀리몰)로 출발하여, 융점 214∼6℃의 목적하는 산 890㎎(99%)을 수득한다.
[실시예 4]
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술포닐)벤조산
(a) 에틸 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술포닐) 벤조에이트
1.05g(2.8밀리몰)의 에틸 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조에이트 및 30㎖의 디클로로메탄을 원형-바닥 플라스크에 도입한후, 2.45g(7.12밀리몰)의 m-클로로페르 벤조산을 첨가한다. 전체를 실온에서 2시간 동안 교반하고, 반응 매체를 물에 붓고, 디클로로메탄으로 추출하고, 유기상은 기울여 제거하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 잔유물을 디클로로메탄으로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한다. 용매를 증발시킨후, 1.09g(95%)의 목적하는 에스테르를 회수한다.
(b) 4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술포닐)벤조산
상기의 실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서 (a)에서 수득한 에틸 에스테르 1.09g(2.7밀리몰)로 출발하여, 융점 218∼20℃의 목적하는 산 1g(99%)을 수득한다.
[실시예 5]
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸아미노)벤조산
1.02g(5밀리몰)의 5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸아민, 1.24g(5밀리몰)의 4-요오드벤조산, 820㎕(7.5밀리몰)의 N-메틸모르폴린, 360㎎(2.5밀리몰)의 Cu2O 및 15㎖의 디옥산을 연속적으로 원형-바닥 플라스크에 도입한다. 전체를 24시간 동안 환류에서 가열하고, 반응 매체를 15㎖의 5N 염산에 붓고, 여과추출물 및 반응매체를 물로 세척한다. 고형물은 에틸 알코올 중에서 분쇄하고, 여과 건조시킨다. 그런후 융점 262∼4℃의 목적하는 산 200㎎(12%)을 회수한다.
[실시예 6]
5-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)-2-티오펜카르복실산
40㎖의 n-부틸 알코올을 원형-바닥 플라스크에 도입한후 300㎎(13밀리몰)의 나트륨을 소량 첨가하고, 전체를 30분 동안 교반한다. 그런 다음, 1.1g(5밀리몰)의 5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티올, 1.1g(5밀리몰)의 메틸 5- 브로모-2-티오펜카르복실레이트 및 230㎎(0.2밀리몰)의 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(0)을 연속적으로 첨가한후, 전체를 4시간 동안 환류에서 가열한다. 반응 매체를 증발시키고, 물 및 에틸 아세테이트에 흡수시켜, 유기상은 기울여 제거하고, 물로 세척하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 수득한 잔유물을 에틸 아세테이트 및 헥산(60∼40)으로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한다. 용매를 증발시킨후, 융점 141∼2℃의 5-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)-2-티오펜카르복실산 180㎎(10%)을 회수한다.
[실시예 7]
4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
(a) 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프톨
50.8g(0.27몰)의 2,5-디클로로-2,5-디메틸헥산, 30g(0.27몰)의 2-메틸페놀 및 500㎖의 디클로로메탄을 3-목 플라스크에 도입한다. 14.8g(0.11몰)의 염화 알루미늄을 0℃에서 소량 첨가하고 전체를 실온에서 12시간 동안 교반한다. 반응 매체를 얼음-냉각수에 붓고, 디클로로메탄으로 추출하여, 유기상은 기울여 제거하고, 중탄산 나트륨으로 세척하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 수득한 잔유물을 헥산중에서 분쇄하고, 여과 건조한후 융점 125∼6℃의 목적하는 페놀 54.4g(90%)을 회수한다.
(b) 메틸 4-(3,5,5,8,8-펜타 메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시) 벤조에이트
상기의 실시예 1(a)와 동일한 방법으로, 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프톨 1.1g(5밀리몰)과 메틸 4-브로모벤조에이트 0.89g(4.1밀리몰)을 반응시켜, 융점 133∼5℃의 목적하는 메틸 에스테르 670㎎(46%)을 수득한다.
(c) 4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
상기의 실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서 (b)에서 수득한 메틸 에스테르 670㎎(1.9밀리몰)로 출발해서, 융점 208∼10℃의 목적하는 산 620㎎(96%)을 수득한다.
[실시예 8]
4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라 히드로-2-나프틸티오)벤조산
(a) O-3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸디메틸티오카르바메이트
4.1g(0.138몰)의 수소화 나트륨(오일중 80%) 및 200㎖의 DMF을 질소기류하의 원형-바닥 플라스크에 도입한다. 혼합물을 0℃까지 냉각시키고 DMF 100㎖ 중의 25.2g(0.115몰)의 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프톨용액을 적가하고, 전체를 가스의 방출이 멈출때까지 교반한다. 그런 다음, DMF 200㎖ 중의 18.55g(0.15몰)의 디메틸티오카르바모일 클로라이드의 용액을 첨가하고, 전체를 다시실온에서 8시간 동안 교반한다. 그런후 반응 매체를 물에 붓고, 에틸 아세테이트로 추출하고, 유기상은 기울여 제거하고, 물로 세척하여, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 마지막으로 증발시킨다. 수득한 고형물을 에틸 아세테이트 및 헥산(30∼70)의 혼합액으로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한다. 용매를 증발시킨후, 융점 110∼1℃의 목적하는 생성물 20g(68%)을 회수한다.
(b) s-3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸디메틸티오카르바메이트
앞서 (a)에서 수득한 생성물 20.1g(65.8밀리몰)을 질소기류하의 원형-바닥 플라스크에 도입하고 혼합물을 240℃에서 6시간 동안 가열한다. 반응 매체를 디클로로메탄으로 추출하고, 물로 세척하고, 유기상은 기울여 제거하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 융점 138∼9℃의 목적하는 생성물 18.1g(90%)을 회수한다.
(c) 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티올
앞서 (b)에서 수득한 생성물 23g(75밀리몰) 및 300㎖의 메틸 알코올을 원형-바닥 플라스크에 도입한다. 30g(75밀리몰)의 수산화나트륨을 첨가하고 전체를 3시간 동안 환류에서 가열한다. 반응 매체를 증발시키고, 물에 흡수시켜, 농축 염산으로 산성화 시키고 마지막으로 여과한다. 수득한 고형물을 물로 세척하고, 건조시킨후, 융점 97∼8℃의 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티올 18g(99%)을 회수한다.
(d) 에틸 4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오) 벤조에이트
상기의 실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 2g(8.5밀리몰)의 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티올과 2.24g(8.5밀리몰)의 메틸 4-요오드벤조에이트를 반응시켜, 융점 109∼10℃의 에틸 에스테르 2g(63%)을 에틸 알코올로부터 재결정시킨후 수득한다.
(e) 4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
상기의 실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서 (d)에서 수득한 에틸 에스테르 2g (5.2밀리몰)으로 출발해서, 융점 253∼4℃의 목적하는 산 1.58g(85%)을 수득한다.
[실시예 9]
4-(3-에틸-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
(a) 3-에틸-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프톨
상기의 실시예 7(a)와 동일한 방법으로, 2-에틸페놀 15g(0.123몰)과 2,5-디클로로-2,5-디메틸헥산 22.5g(0.123몰)을 반응시켜, 융점 88∼9℃의 목적하는 페놀 25.4g(89%)을 디클로로메탄으로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피 시킨후 수득한다.
(b) 메틸 4-(3-에틸-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조에이트
상기의 실시예 1(a)와 동일한 방법으로, 3-에틸-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프톨 2g(8.6밀리몰)과 메틸 4-브로모벤조에이트1.52g(7밀리몰)을 반응시켜, 1.5g(56%)의 목적하는 메틸 에스테르를 노란색 오일 형태로 수득한다.
(c) 4-(3-에틸-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
상기의 실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서 (b)에서 수득한 메틸 에스테르 1.5 g(4밀리몰)으로 출발해서, 융점 195∼6℃의 목적하는 산 1.24g(86%)을 수득한다.
[실시예 10]
4-(3-이소프로필-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히로-2-나프틸옥시)벤조산
(a) 3-이소프로필-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프톨
상기의 실시예 7(a)와 동일한 방법으로, 2-이소프로필페놀 30g(0.22몰)과 2,5 -디클로로-2,5-디메틸헥산 40.3g(0.22몰)을 반응시켜, 융점 79∼80℃의 목적하는 페놀 48.9g(90%)을 디클로로메탄 및 헥산(40∼60)의 혼합물로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피한 후 수득한다.
(b) 메틸 4-(3-이소프로필-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조에이트
상기의 실시예 1(a)와 동일한 방법으로, 3-이소프로필-5,5,8,8-테트라메틸-5, 6,7,8-테트라히드로-2-나프톨 2g(8.1밀리몰)과 메틸 4-브로모벤조에이트 1.45g (6.7밀리몰)을 반응시켜, 융점 115∼6℃의 목적하는 메틸 에스테르 840㎎(33%)을 수득 한다.
(c) 4-(3-이소프로필-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
상기의 실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 (b)에서 수득한 메틸 에스테르 800㎎(2.1밀리몰)로 출발해서, 융점 205∼6℃의 목적하는 산 690㎎(90%)을 수득한다.
[실시예 11]
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)아세토페논
상기의 실시예 1(a)와 동일한 방법으로, 5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프톨 6.6g(32밀리몰)과 4-브로모아세토페논 5.4g(27밀리몰)을 반응시켜, 목적하는 케톤 6.3g(72%)을 연노란색 오일 형태로 수득한다.
[실시예 12]
4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤즈알데히드
상기의 실시예 1(a)와 동일한 방법으로, 5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프톨 5.3g(15밀리몰)과 4-브로모벤즈알데히드 3.1g(16.5밀리몰)을 반응시켜, 융점 75∼6℃의 목적하는 알데히드 2.4g을 디클로로메탄 및 헥산(50-50)의 혼합물로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한후 수득한다.
[실시예 13]
4-(3-브로모-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
(a) 메틸 4-(3-브로모-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조에이트
실시예 1(a)와 동일한 방법으로, 3-브로모-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프톨 1g(3.5밀리몰)과 메틸 4-요오드벤조에이트 770㎎(2.94밀리몰)을 반응시켜, 융점 135∼6℃의 목적하는 메틸 에스테르 700㎎(58%)을 수득한다.
(b) 4-(3-브로모-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 메틸 에스테르 700㎎(1.6밀리몰)로 출발해서, 융점 229∼30℃의 4-(3-브로모-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산 650㎎(95%)을 수득한다.
[실시예 14]
3-메틸-4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
(a) 3-메틸-4-요오드벤조산
20g(0.132몰)의 3-메틸-4-아미노벤조산 및 175㎖의 황산(20%)를 3-목 플라스크에 도입한다. 물 50㎖ 중의 아질산 나트륨 11.9g(0.172몰)의 용액을 -10℃에서 적가하고 혼합물을 2시간 동안 교반한다. 이 용액을 -5℃에서 냉각된 깔대기를 통해 35g(0.211몰)의 요오드화 칼륨, 35.2g(0.185몰)의 요오드화 구리 및 175㎖의 황산(20%)의 용액에 적가하여 도입한다. 혼합물을 8시간 동안 교반하고, 반응 매체를 여과하고, 수득한 고형물을 에틸 아세테이트에 용해시키고, 물로 세척한후 소듐 술피트의 용액으로 세척하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 융점 205∼10℃의 3-메틸 -4-요오드벤조산 24.4g(70%)를 회수한다.
(b) 메틸 3-메틸-4-요오드벤조에이트
24.4g(0.093몰)의 3-메틸-4-요오드벤조산 및 250㎖의 메탄올을 원형-바닥 플라스크에 도입하고 2.5㎖의 농축 황산을 적가한다. 혼합물을 12시간 동안 환류에서 가열하고, 반응 매체를 증발시키고, 에틸 아세테이트 및 물에 흡수시켜, 유기상은 기울여 제거하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 잔유물을 메탄올 중에서 분쇄시키고, 여과하여 융점 58∼9℃의 목적하는 메틸 에스테르 21.9g(85%)을 회수한다.
(c) 3-메틸-4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티올 2.4g(11밀리몰)과 메틸 3-메틸-4-요오드벤조에이트 3g(11밀리몰) 을 반응시켜, 융점 195∼6℃의 3-메틸-4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산 1.96g(51%)을 직접 수득한다.
[실시예 15]
3-메틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
(a) 에틸 3-메틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조에이트
실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티올 2.55g(11밀리몰)과 메틸 3-메틸-4-요오드벤조에이트 3g(11밀리몰)을 반응시켜, 에틸 에스테르 형태의 목적 생성물 1.86g(43%)을 오렌지색의 오일로 수득한다.
(b) 3-메틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 에틸 에스테르 1.86g(4.7밀리몰)으로 출발해서, 융점 217∼8℃의 3-메틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오) 벤조산 1.5g(97%)을 수득한다.
[실시예 16]
3-메틸-4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
(a) 메틸 3-메틸-4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시) 벤조에이트
실시예 1(a)와 동일한 방법으로, 3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프톨 2.1g(8.7밀리몰)과 메틸 3-메틸-4-요오드벤조에이트 2g(7.2 밀리몰)을 반응시켜, 목적하는 메틸 에스테르 2.18g(79%)을 연노란색 오일 형태로 수득한다.
(b) 3-메틸-4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시) 벤조산
실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 메틸 에스테르 2.18g(5.7밀리몰)로 출발하여, 융점 210∼1℃의 3-메틸-4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시) 벤조산 1.9g(90%)을 수득한다.
[실시예 17]
6-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)니코틴산
(a) 에틸 6-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오) 니코틴에이트
실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티올 800㎎(3.4밀리몰)과 메틸 6-요오드니코틴에이트 900㎎(3.4밀리몰) 을 반응시켜, 목적 생성물 620㎎(47%)을 에틸 에스테르 형태로 수득한다.
(b) 6-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)니코틴산
실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 에틸 에스테르 620㎎(1.6밀리몰)로 출발해서, 융점 257∼60℃의 6-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)니코틴산 520㎎(90%)을 수득한다.
[실시예 18]
2-히드록시-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
(a) 에틸 2-히드록시-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조에이트
실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티올 2g(8.53밀리몰)과 메틸 2-히드록시-4-요오드벤조에이트 2.37g(8.53밀리몰)을 반응시켜, 목적 생성물 2.42g(71%)을 융점 74∼5℃의 에틸 에스테르의 형태로 수득한다.
(b) 2-히드록시-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 에틸 에스테르 2.4g(6.1밀리몰)로 출발해서, 융점 197-200℃의 2-히드록시-4-(3,5,5,8,8-펜타 메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산 2.06g(92%)를 수득한다.
[실시예 19]
2-클로로-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
(a) 2-클로로-4-요오드벤조산
실시예 14(a)와 동일한 방법으로, 2-클로로-4-아미노벤조산 10g(58.3밀리몰)로 출발해서, 2-클로로-4-요오드벤조산 14.26g(86%)를 회수한다.
(b) 메틸 2-클로로-4-요오도벤조에이트
실시예 14(b)와 동일한 방법으로, 2-클로로-4-요오드벤조산 13.9g(49.2밀리몰)로 출발해서, 목적하는 메틸 에스테르 11.52g(79%)를 오일 형태로 수득한다.
(c) 에틸 2-클로로-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조에이트
실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티올 2g(8.5밀리몰)과 메틸 2-클로로-4-요오도벤조에이트 2.41g(8.5밀리몰)을 반응시켜, 목적 생성물 1.25g(35%)을 에틸 에스테르 형태로 수득한다.
(d) 2-클로로-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 에틸 에스테르 1.25g(3밀리몰)로 출발 해서, 융점 202∼5℃의 2-클로로-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로 -2-나프틸티오)벤조산 1g(96%)을 수득한다.
[실시예 20]
4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
(a) 0-3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메 틸티오카르바메이트
실시예 8(a)와 동일한 방법으로, 3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프톨 5g(21밀리몰)과 디메틸티오카르바모일클로라이드 3.5g(2.8밀리몰) 을 반응시켜, 융점 82∼3℃의 목적 생성물 4.9g(72%)을 수득한다.
(b) s-3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메틸티 오카르바메이트
실시예 8(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 생성물 4.5g(14밀리몰)로 출발해서, 4.5g(99%)의 s-3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메틸티오카르바메이트를 갈색의 오일 형태로 수득한다.
(c) 3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티올
실시예 8(c)와 동일한 방법으로, 앞서의 생성물 4.5g(14밀리몰)로 출발해서, 목적하는 티올 2.9g(84%)을 오렌지색의 오일형태로 수득한다.
(d) 에틸 4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조에이트
실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티올 2g(8.5밀리몰)과 메틸 4-요오도벤조에이트 2.1g(8밀리몰)을 반응시켜, 1.9g(64%)의 목적 생성물을 에틸 에스테르 형태로 수득한다.
(e) 4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
실시예 1(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 에틸 에스테르 1.9g(5.1밀리몰)로 출발해서, 융점 232∼5℃의 4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산 1.7g(89%)을 수득한다.
[실시예 21]
에틸 4-(3-이소프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조에이트
(a) 0-3-이소프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메틸티오카르바메이트
실시예 8(a)와 동일한 방법으로, 3-이소프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8 -테트라메틸-2-나프톨 5g(20.3밀리몰)과 디메틸티오카르바모일 클로라이드 3.26g (26.4밀리몰)을 반응시켜, 융점 99∼100℃의 목적 생성물 2.26g(33%)을 수득한다.
(b) s-3-이소프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메틸티오카르바메이트
실시예 8(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 생성물 2.9g(8.7밀리몰)로 출발해서, 융점 103∼4℃의 s-3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메틸티오카르바메이트 1.63g(56%)을 수득한다.
(c) 3-이소프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티올
실시예 8(c)와 동일한 방법으로, 앞서의 생성물 4.5g(14밀리몰)로 출발해서, 목적하는 티올 2.9g(84%)를 오렌지색의 오일 형태로 수득한다.
(d) 에틸 4-(3-이소프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조에이트
실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 3-이소프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8 -테트라메틸-2-나프틸티올 1.35g(5.1밀리몰)과 메틸 4-브로모벤조에이트 1.1g(5.1 밀리몰)을 반응시켜, 목적 생성물 1.3g(66%)을 에틸 에스테르 형태로 수득한다.
[실시예 22]
에틸 4-(3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조에이트
(a) 3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프톨
실시예 7(a)와 동일한 방법으로, 2-n-프로필페놀 13.6g(0.1몰)과 2,5-디클로로-2,5-디메틸헥산 18.3g(0.1몰)을 반응시켜, 융점 96∼7℃의 목적하는 페놀계 유도체 11.6g(65%)을 디클로로메탄으로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피한후 수득한다.
(b) 0-3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메틸티오카르바메이트
실시예 8(a)와 동일한 방법으로, 3-프로필 5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프톨 15g(61밀리몰)과 디메틸티오카르바모일 클로라이드 9.8g(79밀리몰)을 반응시켜, 15.9g(78%)의 O-3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메틸티오카르바메이트를 수득한다.
(c) s-3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메틸티오카르바메이트
실시예 8(b)와 동일한 방법으로, 앞서의 생성물 10g(30밀리몰)로 출발해서, 융점 102∼4℃의 s-3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸디메틸티오카르바메이트 6.8g(68%)을 수득한다.
(d) 3-n-프로필 5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티올
실시예 8(c)와 동일한 방법으로, 앞서의 생성물 6.8g(20.4밀리몰)로 출발해서,목적하는 티올 5g(93%)을 무색의 오일형태로 수득한다.
(e) 에틸 4-(3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조에이트
실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8- 테트라메틸-2-나프틸티올 2g(7.6 밀리몰)과 메틸 4-요오도벤조에이트 2g(7.6밀리몰) 을 반응시켜, 목적 생성물 2g(65%)을 에틸 에스테르 형태로 수득한다.
[실시예 23]
4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤젠메탄올
144㎎(3.8밀리몰)의 수소화 알루미늄 리튬 및 50㎖의 THF를 질소 기류하의 3-목 플라스크에 도입한다. 그런 다음, THF 25㎖중의 1.4g(3.6밀리몰)의 에틸 4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조에이트 용액을 적가하여 도입하고 혼합물을 8시간 동안 환류에서 가열한다. 초과량의 수소화물을 포타슘 소듐 타르타레이트 용액으로 분해하고 반응 매체를 에틸 아세테이트로 추출한다. 유기상을 기울여 제거하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다.
수득한 잔유물을 헵탄 및 에틸 아세테이트(90∼10)의 혼합물로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한다. 융점 81∼2℃의 목적하는 알코올 660㎎ (51%)을 회수한다.
[실시예 24]
4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈알데히드
60㎕(0.7밀리몰)의 옥살릴 클로라이드 및 5㎖의 디클로로메탄을 질소 기류하의 3-목 플라스크에 도입한다. 100㎕(1.4밀리몰)의 DMSO을 -60℃에서 첨가하고 혼합물을 10초 동안 교반한 후 5㎖의 디클로로메탄중의 200㎎(0.6밀리몰)의 4-(3,5,5,8,8- 펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤젠메탄올 용액 및 400㎕(3밀리몰)의 트리에틸아민을 첨가한다. 혼합물을 실온에서 1시간 동안 교반하고, 반응 매체를 물에 부어, 디클로로메탄으로 추출하고, 유기상은 기울여 제거하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 수득한 잔유물을 헵탄 및 에틸 아세테이트(80∼20)의 혼합물로 용리하는 실리카 컬럼상에 크로마토그래피로 정제한다. 융점 98∼9℃의 목적하는 알데히드 145㎎(73%)을 수득한다.
[실시예 25]
N-에틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈아미드
(a) 4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조일 클로라이드
무수 디클로로메탄 100㎖ 중의 1.4g(4밀리몰)의 4-(3,5,5,8,8-펜타메틸- 5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산의 용액을 원형-바닥 플라스크에 도입하고, 900㎕(4.4밀리몰)의 디시클로헥실아민을 첨가하고 혼합물을 1시간 동안 교반한다. 그런 다음, 320㎕(4.4밀리몰)의 티오닐 클로라이드를 첨가하고 혼합물을 1시간 동안 교반한다.
반응 매체를 증발 건조시켜, 무수 에틸 에테르에 흡수시키고, 디시클로헥실아민 염을 여과제거하고 여과물을 증발시킨다. 합성의 나머지 부분에서 사용될 1.5g(100%) 의 조 산 클로라이드를 수득한다.
(b) N-에틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈아미드
640㎕(8밀리몰)의 에틸아민 70% 용액 및 20㎖의 THF를 원형-바닥 플라스크에 도입한다. THF 30㎖ 중에 용해된 735㎎(2밀리몰)의 4-(3,5,5,8,8-펜타메틸- 5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조일 클로라이드를 적가하고, 혼합물을 실온에서 3시간 동안 교반한다. 반응 매체를 물에 붓고, 에틸 아세테이트로 추출하여, 유기상은 기울여 제거하고, 마그네슘 술페이트로 건조시키고 증발시킨다. 수득한 잔유물을 헵탄 및 에틸 아세테이트(90∼10)의 혼합물로 용리하는 실리카 컬럼상에서 크로마토그래피로 정제한다. 용매를 증발시킨 후, 융점 223∼4℃의 목적하는 에틸 아미드 307㎎(41 %)을 회수한다.
[실시예 26]
N-4-히드록시페닐-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈아미드
(a) N-4-아세톡시페닐-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈아미드
실시예 25(b)와 동일한 방법으로, 4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조일 클로라이드 735㎎(2밀리몰)과 4-아미노벤질 아세테이트 900㎎(6밀리몰)을 반응시켜, 융점 186∼7℃의 목적하는 아미드 250㎎(26%)을 수득한다.
(b) N-4-히드록시페닐-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈아미드
실시예 2(a)와 동일한 방법으로, 100㎎(0.2밀리몰)의 N-4-아세톡시페닐-4- (3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈아미드로 출발해서, 융점 236∼7℃의 목적 생성물 65㎎(71%)을 수득한다.
[실시예 27]
본 실시예에서는, 본 발명의 화합물에 대한 각종의 구체적 배합을 예시한다.
A-경구 방법
(a) 0.2g 정제
- 실시예 7에서 제조한 화합물 0.001g
- 전분 0.114g
- 인산 2 칼슘 0.020g
- 실리카 0.020g
- 락토오즈 0.030g
- 활석 0.010g
- 마그네슘 스테아레이트 0.005g
(b) 10㎖ 앰플중의 경구 현탁액
- 실시예 8의 화합물 0.05 몰
- 글리세린 1.000g
- 70% 소르비톨 1.000g
- 소듐 사카린에이트 0.010g
- 메틸 파라히드록시벤조에이트 0.080g
- 조미료(qs)
- 정제수(qs) 10㎖
B-국소 방법
(a) 연고
- 실시예 8의 화합물 0.020g
- 이소프로필 미리스테이트 81.700g
- 유동성 파라핀 오일 9.100g
- 실리카(데구사사의 에어로실 200) 9.180g
(b) 연고
- 실시예 9의 화합물 0.300g
- 페트롤륨 젤리(qs) 100g
(c) 비-이온성 유중수(water-in-oil) 크림
- 실시예 7의 화합물 0.100g
- 유화 라놀린 알코올, 왁스 및 오일의 39.900g
혼합물(BDF 사의 무수 유세린(Eucerin))
- 메틸 파라히드록시벤조에이트 0.075g
- 프로필 파라히드록시벤조에이트 0.075g
- 무균 탈무기질화수(qs) 100g
(d) 로숀
- 실시예 8의 화합물 0.100g
- 폴리 에틸렌 글리콜(PEG 400) 69.900g
- 95% 에탄올 30.000g
(e) 소수성 연고
- 실시예 7의 화합물 0.300g
- 이소프로필 미리스테이트 36.400g
- 실리콘 오일(롱쁠랑사의 로도르실 47 V300) 36.400g
- 밀랍 13.600g
- 실리콘 오일(골드쉬미트사의 100g
아빌 300.000 cst)(qs)
(f) 비-이온성 수중유 크림
- 실시예 7의 화합물 0.500g
- 세틸 알코올 4.000g
- 글리세롤 모노스테아레이트 2.500g
- PEG 50 스테아레이트 2.500g
- 쉬아 버터 9.200g
- 프로필렌 글리콜 2.000g
- 메틸 파라히드록시벤조에이트 0.075g
- 프로필 파라히드록시벤조에이트 0.075g
- 무균 탈무기질화수(qs) 100g

Claims (12)

  1. 하기 식 (Ⅰ)로 표시되는 2환-방향족 화합물, 그의 염 및 그의 키랄 동족체 :
    [식중, R1은 수소 원자, -CH3라디칼, -CH2-O-R3라디칼, -CH2-O-CO-R4라디칼, -O-R5라디칼, -O-(CH2)m-(CO)n-R6라디칼, -CO-R7라디칼, -CO-O-R8라디칼 또는 -S(O)p-R9라디칼(m, n 및 p와 라디칼 R3내지 R9는 하기 정의하는 바와 같다)을 나타내고, R2는 수소 원자 또는 할로겐 원자, 탄소수 1-6의 알킬 라디칼, -NO2라디칼, -O-COR4라디칼, -OR9라디칼 또는 라디칼
    (라디칼 R4, R9및 R10은 하기 정의하는 바와 같다)을 나타내고,*Ar은 하기의 식 (a)-(e)의 라디칼로부터 선택된 라디칼을 나타내고,
    (식중, R2는 상기한 바와 같고, R9는 하기하는 바와 같다)
    *X는 -O-, -S(O)t- 또는 -NR9- 라디칼 (t 및 라디칼 R9는 하기하는 바와 같다)을 나타내고,*Y 및 Z는 라디칼 -CR11R12(여기에서, 라디칼 R11및 R12는 하기한 바와 같다)를 나타내고, -m은 1, 2 또는 3의 정수이고, n은 0 또는 1의 정수이며, p는 0, 1, 2 또는 3의 정수이고, t는 0, 1 또는 2의 정수이며, -R3은 수소 원자 또는 탄소수 1-6의 알킬 라디칼을 나타내고, -R4는 탄소수 1-6의 알킬 라디칼을 나타내고, -R5는 수소 원자 또는 탄소수 1-6의 알킬 라디칼을 나타내고, -R6은 탄소수 1-6의 알킬 라디칼을 나타내고, -R7은 수소 원자, 탄소수 1-6의 알킬 라디칼 또는 라디칼 :
    [식중, R' 및 R는 같거나 다르며, 수소 원자, 탄소수 1-6의 알킬 라디칼, 모노- 또는 폴리히드록시알킬 라디칼, 치환될 수 있는 아릴 라디칼을 나타낸다)을 나타내고, -R8은 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼, 알케닐 라디칼, 모노- 또는 폴리히드록시알킬 라디칼, 치환될 수 있는 아릴 또는 아르알킬 라디칼을 나타내고, -R9는 수소 원자 또는 탄소수 1-6의 알킬 라디칼을 나타내고, -R10는 수소 원자 또는 탄소수 1-6의 알킬 라디칼을 나타내고, -R11는 수소 원자 또는 탄소수 1-6의 알킬 라디칼을 나타내고, -R12는 수소 원자 또는 탄소수 1-6의 알킬 라디칼을 나타낸다]
  2. 제1항에 있어서, 알칼리 또는 알칼리-토금속, 또는 아연 또는 유기 아민의 염 형태인 것을 특징으로 하는 화합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 탄소수 1-6의 알킬 라디칼이 메틸, 에틸, 이소프로필, 부틸, t-부틸 및 헥실 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼이 메틸, 에틸, 프로필, 2-에틸헥실, 옥틸, 도데실, 헥사데실 및 옥타데실 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 모노히드록시알킬 라디칼이 2-히드록시에틸, 2- 히드록시프로필 또는 3-히드록시프로필 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 폴리히드록시알킬 라디칼이 2,3-디히드록시프로필, 2,3,4-트리히드록시부틸 또는 2,3,4,5-테트라히드록시펜틸 라디칼 또는 펜타에리트리톨 잔기로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아릴 라디칼이 1종 이상의 할로겐 원자, 히드록실 또는 니트로 작용기로 치환될 수 있는 페닐 라디칼인 것을 특징으로 하는 화합물.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아르알킬 라디칼이 1종 이상의 할로겐 원자, 히드록실 또는 니트로 작용기로 치환될 수 있는 벤질 또는 펜에틸 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 알케닐 라디칼이 2 내지 5개의 탄소원자를 함유하며 하나 이상의 에틸렌계 불포화를 갖는 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 할로겐 원자가 불소, 염소 및 브롬으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  11. 제1항에 있어서, 화합물이 하기의 것들로 구성된 군으로부터 단독 또는 혼합물형태로 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물 :
    4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
    4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
    4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술피닐)벤조산
    4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸술포닐)벤조산
    4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸아미노)벤조산
    5-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)-2-티오펜 카르복실산
    4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
    4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
    4-(3-에틸-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
    4-(3-이소프로필-5,5,8,8-테트라메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸옥시)벤조산
    4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)아세토페논
    4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤즈알데히드
    4-(3-브로모-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
    3-메틸-4-(5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
    3-메틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
    3-메틸-4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸옥시)벤조산
    6-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)니코틴산
    2-히드록시-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
    2-클로로-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤조산
    4-(3-에틸-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
    4-(3-이소프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
    4-(3-n-프로필-5,6,7,8-테트라히드로-5,5,8,8-테트라메틸-2-나프틸티오)벤조산
    4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤젠메탄올
    4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈알데히드
    N-에틸-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈아미드
    N-4-히드록시페닐-4-(3,5,5,8,8-펜타메틸-5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸티오)벤즈아미드.
  12. 제1항에 있어서, 화합물이 하기의 특징들중의 하나 이상을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물 :
    R1은 -CO-R7라디칼이고, R2는 탄소수 1-6의 알킬 라디칼 또는-○R9라디칼이고, Ar은 식 (a)의 라디칼을 나타내고, X는 -O-, -S- 또는 -NR9-을 나타냄.
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