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JPWO2013061511A1 - 発光装置 - Google Patents

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JPWO2013061511A1
JPWO2013061511A1 JP2013540623A JP2013540623A JPWO2013061511A1 JP WO2013061511 A1 JPWO2013061511 A1 JP WO2013061511A1 JP 2013540623 A JP2013540623 A JP 2013540623A JP 2013540623 A JP2013540623 A JP 2013540623A JP WO2013061511 A1 JPWO2013061511 A1 JP WO2013061511A1
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JP
Japan
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light emitting
emitting device
wavelength conversion
conversion layer
light
Prior art date
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Application number
JP2013540623A
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English (en)
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福田 敏行
敏行 福田
原田 豊
豊 原田
裕人 大崎
裕人 大崎
藤井 俊夫
俊夫 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

発光装置は、発光素子1と波長変換層20とを備えた発光装置である。発光装置は、透光母材40と透光母材40上に配置された波長変換層20とからなる透光部材6を備えている。波長変換層20は発光素子1には接触しておらず、発光装置内に封入されている。

Description

本発明は、発光ダイオード(LED:Light emitting diode)等の発光素子から出射された光を波長変換して外部に取り出す発光装置に関するものであり、特に、電子ディスプレイ用のバックライト電源や、蛍光ランプに好適に用いられる発光装置に関する。
近年、上述のような発光装置に用いられる蛍光体として、従来用いられてきた希土類賦活蛍光体に代わり、半導体微粒子蛍光体が注目を集めている。半導体微粒子蛍光体には、従来蛍光体にはなかった、発光波長を任意に制御できるという特徴がある。そのため、このような半導体微粒子蛍光体を用いた発光装置は、様々な発光スペクトルを有することができる。この技術は、演色性が高く効率のよい発光装置の作製を可能にする技術として期待されている。
上述のような半導体発光素子と半導体微粒子蛍光体から構成される発光装置の作製は、現在検討が進められており、たとえば特開2007−103512号公報(特許文献1)に開示されている。特許文献1には、青色および緑色蛍光体に希土類賦活蛍光体を、黄色および赤色蛍光体に半導体微粒子蛍光体を用いて作製された発光装置が開示されている。
特開2007−103512号公報
しかしながら、例えば半導体微粒子蛍光体のような空気や水分に弱い蛍光体を含む波長変換層を有する場合、特許文献1に記載の従来の発光装置の構成では、波長変換層が外部に露出しているため、空気や水分によって半導体微粒子蛍光体の波長変換効率が低下してしまうという課題があった。
本発明における発光装置は、透光部材を有する発光装置であり、透光部材の一部は波長変換機能を有する波長変換層であり、前記波長変換層が、空気に触れることのないように、ラミネートや、保護層などで隔離されることで、耐酸化や耐湿性が低い波長変換層を用いた場合においても波長変換効率の低下が抑制される発光装置である。
具体的には、本発明における発光装置は、発光素子と波長変換層とを備えた発光装置であって、透光母材と透光母材上に配置された波長変換層とからなる透光部材を備え、波長変換層は発光素子には接触しておらず、発光装置内に封入されていることを特徴とする。
また、波長変換層は半導体微粒子蛍光体を含んでもよい。
また、凹部を有する枠体をさらに備え、発光素子は凹部上に搭載され、透光部材は凹部を覆うように、枠体上に搭載されていてもよい。
また、波長変換層は、枠体の上面と接していてもよい。
また、透光部材は、枠体と接着材により接着され、波長変換層の側面は、接着材により覆われていてもよい。
また、透光母材の端部には、切り欠き部が設けられていてもよい。
また、切り欠き部には接着材が充填されていてもよい。
また、凹部内には、酸素以外の気体が充填されていてもよい。
また、透光部材はバリア層を含み、バリア層は、波長変換層を挟んで透光母材と反対側に形成されていてもよい。
また、波長変換層は、透光母材及びバリア層によって密閉されていてもよい。
また、透光母材は透明な配線基板であって、透光母材上に配置された配線に発光素子が電気的に接続されていてもよい。
また、透光母材には貫通孔が設けられ、貫通孔には波長変換層が充填され、透光母材上に貫通孔を覆うように放熱パターンが配置されていてもよい。
また、発光素子は透光部材と接着され、発光素子の側面と透光部材の側面は面一であってもよい。
また、発光素子には放熱パターンが形成されていてもよい。
また、波長変換層の側面は、硬質化層となっていてもよい。
本発明に係る発光装置によると、耐酸化性、耐湿性が低い材料を含む波長変換層を用いた発光装置であっても、波長変換層の劣化を抑えることができる発光装置を提供することができる。また、透光部材を構成する透光母材が平板であることにより、量産性に優れた発光装置を提供することができる。
図1は、本発明の第一の実施形態の発光装置を示す断面図および一部拡大部を示す構造図である。 図2は、本発明の第一の実施形態の発光装置に用いられる、透光部材の製造方法を示す図である。 図3は、本発明の第一の実施形態の発光装置の製造方法を示す図である。 図4は、本発明の第二の実施形態の発光装置を示す断面図である。 図5は、本発明の第二の実施形態の発光装置に用いられる、透光部材の製造方法を示す図である。 図6は、本発明の第三の実施形態の発光装置を示す断面図である。 図7は、本発明の第三の実施形態の発光装置に用いられる、透光配線基板の製造方法を示す図である。 図8は、本発明の第四の実施形態の発光装置を示す断面図である。 図9は、本発明の第四の実施形態の発光装置の製造方法を示す図である。 図10は、本発明の第三の実施形態の発光装置および第四の実施形態の発光装置に用いられる、透光部材の製造方法を示す図である。
本発明の実施の形態を図面と対比しながら説明する。
(第一の実施形態)
図1(a)は、本発明の第一の実施形態の発光装置を示す断面図である。
枠体3は、底面とその底面を囲うような構造となっており、その中央部に凹部2を有する。枠体3の底面には第1の端子5が形成されている。枠体3の上面は凹部構造により開口され、前記凹部2の内底には発光素子1が搭載されている。発光素子1としては、例えば、GaN系の青色LEDを用いることができるが、これに限られず、他の材料からなる青色LEDや他の色の発光をするLEDや有機EL等のLED以外の発光素子を用いてもよい。前記凹部2の内底と発光素子1とはダイボンド材21で接着されている。また発光素子1と凹部2内に形成された第2の端子29とは接続部材34により電気的に接続されている。凹部2の開口を塞ぐように第1の透光部材6が枠体3上に置かれている。第1の透光部材6は枠体3と接着材36で固着されている。第1の透光部材6は、平板である透光母材40と、波長変換層20とから構成されている。透光母材40の凹部開口側(発光素子1側)の面に波長変換層20が形成されている。ここで、波長変換層20の一部と枠体3上面とは接していることが好ましい。また、波長変換層20の側面の全てと透光母材40の側面の一部は、接着材36で覆われて発光装置内に封止され、発光装置外(外気)に対して露出していない。このような波長変換層20を密閉する構成とすることで、耐酸化性、耐湿性に弱い波長変換層を用いた発光装置であっても、波長変換層に対し気密性を持たせることができるので、結果として、波長変換層の耐湿性、耐酸化性における劣化を抑えることができ、品質的に優れた発光装置を作ることができる。
ここで例えば波長変換層20としては、バンド端光吸収・発光を直接利用することで高い量子効率を実現する半導体微粒子蛍光体を含むものが好ましい。より具体的には、波長変換層20は量子ドット蛍光体を含むものが好ましい。量子ドット蛍光体とは直径が数nmから数十nmの微粒子であって、新しい蛍光体材料として期待されている。量子ドット蛍光体は、量子サイズ効果によって同一材料の微粒子でも粒子径を制御することで可視光線領域において所望の波長帯の蛍光スペクトルを得ることが出来る。また、バンド端による光吸収・蛍光であるため、90%程度の高い外部量子効率を示すことから、高効率・高演色性を有する発光装置を提供することができることが特徴である。量子ドット蛍光体の材料としては、例えば、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTeのようなII−VI族化合物半導体ナノ結晶、GaN、GaP、GaAs、AlN、AlP、AlAs、InN、InP、InAsのようなIII−V族化合物半導体ナノ結晶、およびこれらの混合物よりなる群から選択されることが好ましい。また、前記混合物は、例えばCdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTeおよびHgZnSTeよりなる群から選択されるか、またはGaNP、GaNAs、GaPAs、AlNP、AlNAs、AlPAs、InNP、InNAs、InPAs、GaAlNP、GaAlNAs、GaAlPAs、GaInNP、GaInNAs、GaInPAs、InAlNP、InAlNAsおよびInAlPAsよりなる群から選択されることが好ましい。
例として、発光素子1としてGaN系の青色LEDを、波長変換層20に含まれる半導体蛍光微粒子としてCdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTeのようなII−VI族化合物半導体ナノ結晶、GaN、GaP、AlN、AlP、AlAs、InN、InPのようなIII−V族化合物半導体ナノ結晶を用いた場合には、高輝度な白色光を得られる発光装置を実現できる。
本発明の第一の実施形態では波長変換層20は凹部2内側に向かっては露出したままなので、波長変換層20が耐酸化性に特に弱い場合は、凹部2内は不活性ガスや真空、また酸素濃度を管理した気体を充填するか、シリコーンやグリスなどの透明材料などで充填することが好ましい。
以下、各部の具体的な材料などについて述べる。
凹部2を有する枠体3は、Cu合金、Fe−Ni、ALなどからなる金属ベースで一対成型により作成することで、気密性のよい放熱性の良好なものを作ることができる。凹部形状となる凹部を金属で形成するため、プレス金型などで打ち抜く方法が必要となってくる。
凹部を有する枠体を作る別の方法として、第1の端子5のみを金属で形成し、枠体3は樹脂で形成するという構成も考えられる。この場合は、樹脂封止金型でリードフレームを用いて枠部を形成してもよい。第1の端子5はCu合金の上にNi−Auめっき、Agめっき、はんだめっきなどを適宜選択して用いる。
発光素子1と凹部2内に形成された第2の端子29を電気的に接続する接続部材34は、突起電極でも金属細線でもよい。突起電極であればAuバンプ(めっきバンプ、スタッドバンプ)、はんだめっき(Sn−Ag−Cu)バンプなどが適用される。金属細線であれば、Auワイヤー、ALワイヤー、Agワイヤー、Cuワイヤーなどから選択すればよい。ただしAgワイヤー、Cuワイヤーなどは酸化に強くないのでワイヤーに被覆加工する、あるいは不活性ガスなどを用いるなどして発光装置凹部2内の気体を調整する、または素子と凹部ワイヤー接続後、無機材料で覆うなど酸化しないような処理を行うこと等が必要になってくる。ワイヤー径は様々にあるが小型化が必要な発光装置はφ10〜20μmのワイヤー径を適用することが必要になる。
また、先に記述した枠体3の凹部2の凹部深さは発光素子1の厚みと、発光素子1と電気的に接続する接続部材34によって決まってくる。凹部2の凹部深さは、基本は発光素子1の厚み50〜200μmが確保されていればよい。接続部材34が突起電極の場合であればさらにプラス10〜20μmの深さが必要となる。一方、接続部材34が金属細線となると、発光素子1の厚みの50〜200μmにプラスして最小高さでも100μm程度必要になる。つまり凹部深さは100〜400μm以上は必要になってくる。
波長変換層20の一部と枠体3上面を接続させる理由は、熱を逃がすためである。波長変換層20が半導体微粒子蛍光体を含む場合、耐熱性の低い波長変換層20に熱が溜まるという課題が生じるが、接する面積を熱設計により調整することで熱放散の適正化が可能となる。
第1の透光部材6の透光母材40はガラス、透明樹脂、透明フィルム、透明シートなどからなる。例えば、ガラスは樹脂ガラス、モールドガラス、アクリルガラス、クリスタルガラスなど主に光学系に用いられるものを用いる。透明樹脂は、アクリル樹脂、ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン)樹脂、ポリアセタール樹脂などの透過性を有する樹脂などから透過性・特性などを考慮し、適宜選択する。透明フィルム、透明シートはPC(ポリカーボネイト)フィルムやポリオレフィン系フィルムなどが利用されている。フッ素樹脂の一種であるエチレンテトラフルオロエチレン(ETFE)フィルム、アイオノマーフィルム(IOフィルム)、ポリプロピレンフィルム(PPフィルム)、ポリエステルフィルム、ポリスチレンフィルム(PSフィルム)、ポリアクリロニトリルフィルム(PANフィルム)などから透過性・特性などを考慮し、適宜選択する。
第1の透光部材6としては、半導体微粒子蛍光体を含む有機樹脂等の波長変換層の他、アルファ線カット膜、波長カット膜、反射防止膜などを含んでもよい。反射防止膜としては、酸化チタン、フッ化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、二酸化珪素等の粉末を無機・有機樹脂に混ぜたものを用いる。アルファ線カット膜、波長カット膜の場合、ガラスやフィルムにアルファ線カット膜を蒸着する方法としては、スパッタリング、電子ビーム蒸着などがあり、ITO(インジウム−スズ酸化物)、ATO(アンチモン−スズ酸化物)を無機・有機樹脂に混ぜたものを用いる。
図1(b)〜図1(e)は、図1(a)破線部内における第1の透光部材6の端部周縁のバリエーションを示す拡大断面構造図である。
本実施形態に示すように、第1の透光部材6の端部周縁は、切り欠き部7を有している。切り欠き部7の形状としては、円弧またはステップ形状が好ましい。前記円弧またはステップ形状の部分には波長変換層20は形成されず、その内側に露出した波長変換層20の側面は接着材36で完全に覆われていること特徴とする。
ここで図1(b)は、凹部2と接する面に波長変換層20を形成した第1の透光部材6において、第1の透光部材6の周縁には円弧状の切り欠き部7が形成されている。円弧状の切り欠き部7は、枠体3側に向くように配置され、その切り欠き部7に接着材36が注入され、波長変換層20の端部が封止(シール)されている。円弧状の切り欠きが、充填された接着材との接合面積を増加し、アンカー効果をもたらす。
図1(c)は、図1(b)で円弧状とした切り欠き部7が階段(ステップ)状になっている。円弧状の切り欠き部7と階段(ステップ)状のこれらの形状差は加工するときのブレードの刃先形状を変更することにより変えることができる(図2参照)。第1の透光部材6の透光母材40がクラックなどに対して弱い場合は、階段(ステップ)状ではなく円弧状の切り欠きを用いるのが良い。
図1(d)および図1(e)は、第1の透光部材6の周縁の円弧状の切り欠きと階段(ステップ)状の切り欠き部7についてはそれぞれ図1(b)および図1(c)と同じであるが、発光装置をより小型化するため、第1の透光部材6と接着材36および、枠体3の側面は面一になっている。
このため図1(b)〜図1(e)は各々製造方法が異なってくる。図1(b)および図1(c)の形態は個片の第1の透光部材6を一つ一つ凹部枠体にマウントし封止(シール)することで形成されるのに対して、図1(d)および図1(e)の形態は複数の第1の透光部材6が一体化された集合体を枠体3上にマウントし封止(シール)し、その後、個々の発光装置に分離することで形成できる。
図1(f)および図1(g)は、図1(a)破線部内における第1の透光部材6の端部周縁の別のバリエーションを示す拡大断面構造図である。
第1の透光部材6の枠体3とは逆側の面における端部周縁に、円弧またはステップ形状の切り欠き部7が形成されている。前記円弧またはステップ形状の切り欠き部7と加工されていない側面の全面は、接着材36で覆われている。
図1(f)および図1(g)の実施形態のメリットは、以下の通りである。すなわち、第1の透光部材6が薄化した場合、図1(b)から図1(e)の実施形態では、枠体3との接着強度を確保するのが難しくなってくる。そのため円弧またはステップ形状の切り欠き部7を上方に向くように第1の透光部材6を枠体3上に設置し接着材36を同じく円弧またはステップ形状の切り欠き部7に充填することで、枠体3との接着強度を確保しつつ、容易に波長変換層20の端部を封止(シール)できる。
図1(h)、図1(i)は本発明の第一の実施形態における発光装置の斜視図を模式的に示したものである。
図1(h)は発光装置の外形が円形形状である。この場合、第1の透光部材6のパターンは、図1(b)、図1(c)、図1(f)、図1(g)が適用できる。つまり、第1の透光部材のサイズが発光装置の枠体よりも若干小さなサイズで貼り付けることが必要になる。発光装置の外形が円形形状であると発光特性が良くなる場合や、発光装置を実装するセット側の要求で発光装置の円形形状が必要になる場合がある。
図1(i)は発光装置の外形が矩形形状である。この場合、第1の透光部材6のパターンは図1(b)〜図1(g)が適用できる。つまり、第1の透光部材6のサイズが発光装置の枠体よりも若干小さなサイズでもよいし、同じサイズでもよい。第1の透光部材6のサイズが、発光装置より若干小さなサイズの場合は、発光装置の枠体分離の後に第1の透光部材6を個片で貼り付けてもよいし、発光装置の枠体分離の前に第1の透光部材6を個片で貼り付けてもよい。第1の透光部材6のサイズが発光装置と同じサイズの場合は、発光装置の枠体分離の際に第1の透光部材6も同時(または直前)に分離する製法となる。透光母材40の厚みは10μm〜200μmの厚みで適宜設計し、波長変換層20の厚みは0.01μm〜50μmで適宜設計する。特に第1の透光部材6は前述したとおり、半導体微粒子蛍光体を含む有機樹脂等の波長変換層の他、アルファ線カット膜、波長カット膜、反射防止膜などを含んでもよく、多岐に渡るため、その目的の材料によって厚みや材質がそれぞれ異なることになる。
また、本発明の第一の実施形態の発光装置は、透光母材40が平板であることにより、以下に説明するように、量産性に優れている。
以下、図2及び図3を用いて、本発明の第一の実施形態の発光装置を製造する方法を説明する。
図2は本発明の第一の実施形態における波長変換層を透光母材に形成する方法を示す断面図である。特に、図1(b)〜(e)に示す形状を実現する方法である。
図2(a)に示すように、透光母材40となる平板を準備し、透光母材40の一方の面に波長変換層20を形成する。次に図2(b)に示すように、発光装置の枠部に合わせた位置に、第1のブレード26により、波長変換層20側から円弧またはステップ形状加工の切り欠き部を形成する。この際、第1のブレード26による加工はいわゆるハーフカットであり、波長変換層20は完全に分離するが、透光母材40を完全に切断するわけではない。最後に図2(c)に示すように、前記切り欠き部に沿うようにして、第1のブレード26よりも幅の狭い第2のブレード27によって透光母材40を完全に切断する。このようにして、波長変換層を含む透光部材を形成することができる。
なお、図1(e)、(f)に示す形状については、第1のブレード26により、波長変換層20が形成された反対側から円弧またはステップ形状加工の切り欠き部を形成すればよい。
図3は本発明の第一の実施形態における発光装置を製造する方法を示す断面図である。
まず図3(a)に示すように、凹部を有する枠体3が複数連なった集合体を準備する。
次に図3(b)に示すように、凹部2底面に発光素子1をダイボンド材21により固着する。さらに発光素子1と凹部2底面の第2の端子29とを接続部材34により電気的に接続する。
次に図3(c)に示すように、発光装置の枠体3の連結部に、円弧またはステップ形状加工の切り欠き部が対応するように、波長変換層を含む第1の透光部材6を接着させる。この場合は、図2(b)の工程後のハーフカットされた第1の透光部材6を用いる。この際、前記第1の透光部材6の前記切り欠き部に接着材36を充填し接着させることで、波長変換層を含む第1の透光部材6と凹部を有する枠体が複数連なった集合体を封止する。
最後に図3(d)に示すように、波長変換層を含む第1の透光部材6が接着された凹部を有する枠体が複数連なった集合体を分離する。分離する方法はいわゆるパッケージダイシングなどで利用されるブレード27を用いる。回転ブレードの材質はダイヤモンドの粒をボンド材で固めたものが使用され、回転ブレードの幅は20μm〜100μmであり、切削水を切削部にかけながら、10000rpm〜50000rpmで高速回転させ5mm/s〜300mm/sのスピードで切断する。ブレード27で切断する位置は、第1の透光部材の切り欠き部上である。
ここで分離の方法は、前記ブレードにより、枠体3と第1の透光部材6を同時に分割しても良い。また先に枠体3のみを分離しておき、個片化された枠体3上に、図2(c)の工程後の別途個片化された第1の透光部材6を搭載する方法でもよい。
図2及び図3で説明したように、透光母材40が平板であることにより、波長変換層20を含む透光部材6を一括形成することができ、量産性に優れた発光装置を提供することができる。
(第二の実施形態)
図4は、本発明の第二の実施形態の発光装置を示す断面図である。
第一の実施形態との違いは、主に透光部材の構成であり、その他の構成は第一の実施形態と共通する。
枠体3は、周囲を枠で囲われた凹部を有する。枠体3の底面には第1の端子5が形成されている。凹部2は上面が開口され、凹部2の内底には発光素子1が搭載されている。発光素子1と凹部2の内底に配置された第2の端子29とは接続部材34によって電気的に接続されている。凹部2の開口を塞ぐように枠部上に第2の透光部材39が配置されている。第2の透光部材39と枠体3とは接着材36で固着されている。ここで、第2の透光部材39は、バリア層8と、バリア層8の上面に形成された波長変換層20と、波長変換層20の上面に形成された平板である透光母材40とから構成される。ここで波長変換層20はバリア層8の側面を覆うような形状となっている。また、波長変換層20は、透光母材40によってその上面を覆われ、その側面は接着材36で覆われている。さらに波長変換層20の一部と枠体3の上面とが接している。これにより、波長変換層20は、バリア層8、透光母材40、接着材36及び枠体3の上面により発光装置内に封止され、発光装置外(外気)に対して露出していない。このような波長変換層20を密閉する構成とすることで、耐酸化性、耐湿性に弱い波長変換層を用いた発光装置であっても、波長変換層に対し気密性を持たせることができるので、結果として、波長変換層の耐湿性、耐酸化性における劣化を抑えることができ、品質的に優れた発光装置を作ることができる。
特に、第二の実施形態では、凹部2内側においても波長変換層20がバリア層8でシールされているため、第一の実施形態で説明したように不活性ガスなどで充填する必要はない。また必要であれば第二の実施形態とは異なり、枠体の所定部に逃がし孔4を設置し湿気や熱を逃がすことが可能である。
図5は本発明の第二の実施形態における第2の透光部材39を形成する製造ステップを示す断面図である。
まず図5(a)に示すように、バリア層8となる平板を準備する。図5(b)は、図5(a)のAA’線における断面図である。図5(b)に示すように、上記平板は、バリア層8として分離する領域すなわち分離ライン38上にスリット37が形成されている。
次に図5(c)に示すように、バリア層8の上面全面およびスリット37にも入り込むように波長変換層20を形成する。
次に図5(d)に示すように、波長変換層20の上面に透光母材40を形成する。その後、分離ライン38に沿って個片に分離する。
このようにして、波長変換層20の上面全面が覆われ、側面及び底面の一部が露出した第2の透光部材39が形成される。
第2の透光部材39を枠体3に接着する方法としては、図3に示した方法と同様の方法を用いてもよいし、枠体3のみを分離しておき、個片化された枠体3上に、図5(d)の工程後の別途個片化された第2の透光部材39を搭載する方法でもよい。
本実施形態においても、透光母材40が平板であることにより、波長変換層20を含む透光部材39を一括形成することができ、量産性に優れた発光装置を提供することができる。
(第三の実施形態)
図6(a)は本発明の第三の実施形態における発光装置を示す断面図である。
本実施形態においては、発光素子1は平板である透光配線基板(透光母材)10に突起電極35で直接接続されている。
そのため、第三の実施形態は第一および第二の実施形態に比べ、発光装置の厚みを縮小化できる。
透光配線基板10は一方の面に配線32を有している。透光配線基板10の配線32を有する面には発光素子1が搭載されている。透光配線基板10の配線32上には、突起電極接続部13が設けられている。発光素子1上には突起電極35が設けられ、突起電極35と突起電極接続部13は電気的に接続されている。発光素子1と透光配線基板10の間には透明アンダーフィル15が充填されている。配線32の突起電極接続部13が配置された領域より外側の領域にはOut−IN接続部14が配置される。透光配線基板10の配線32を有する面と対向する面上には波長変換層20が形成されている。波長変換層20の上面全面は、バリア層8により覆われて、かつ、波長変換層20の側面周縁は、透光配線基板10とバリア層8の一部が重なるようにして波長変換層20が露出しないようにダレ面31によって覆われている。バリア層8は例えば樹脂・フィルムなどからなる。
透光配線基板10、波長変換層20及びバリア層8から透光部材9が構成されている。
発光素子1、透光母材(透光配線基板)10及び波長変換層20については、第一の実施形態及び第二の実施形態で説明した材料等を用いればよい。
波長変換層20の全ては、透光配線基板10とバリア層8で覆われて発光装置内に封止され、発光装置外(外気)に対して露出していない。このような波長変換層20を密閉する構成とすることで、耐酸化性、耐湿性に弱い波長変換層を用いた発光装置であっても、波長変換層に対し気密性を持たせることができるので、結果として、波長変換層の耐湿性、耐酸化性における劣化を抑えることができ、品質的に優れた発光装置を作ることができる。
図6(b)は本発明の第三の実施形態における発光装置を実装基板(セット基板)16に実装した状態を示す図である。実装基板16上には配線33が形成されている。配線33としては例えばCu配線でもよい。また、実装基板16において、発光装置の発光素子1が収納される部分はくり抜かれており、配線33の対向する面には放熱性の高い放熱板18(アルミ基板やCu基板)が貼り付けられている。さらに放熱板18が発光素子1からの発熱を直接逃がすため、実装基板16のくり抜かれた部分に放熱材料19(例えばグリスなど)が充填され、アルミ基板18と発光素子1の背面が放熱材料19を介して接続されている。
なお、実装基板16上の配線と発光装置の配線およびはんだ実装される部分にはNi−Auめっきを施してもよい。
図7(a)〜(g)は、本発明の第三の実施形態の発光装置を製造する方法を説明する図である。
図7(a)は、製造途中の状態を説明する図であり、一方の面に配線を有した複数の透光配線基板10が連結された集合体の裏面図である。各透光配線基板10の中央部には、素子搭載領域41が設けられている。素子搭載領域41内でかつ配線32上には、突起電極接続部13が設けられている。また配線32上には、突起電極接続部13と電気的に接続するように、Out−IN接続部14が設けられている。
透光配線基板10は、放熱配線パターン部11を有することが好ましい。
図7(b)は、図7(a)のCC’線での断面図である。放熱配線パターン部11に対応する位置において透光配線基板10には貫通孔12が形成され、波長変換層20と同じ材料が充填され、波長変換層20が貫通孔12を介して放熱配線パターン部11に接続されている。この設計により波長変換層20の熱蓄積を放散させることが必要な場合、必要な領域に適宜、放熱パターンを配置し、効率よく熱を逃がすことが可能となる。
図7(c)〜(g)は図7(a)のBB’線での断面図である。
まず、図7(c)に示すように、一方の面に配線32を有した透光配線基板10が複数連なった集合体基板を準備する。
次に、図7(d)に示すように、透光配線基板10の配線32と対向する面に波長変換層20を形成する。なお、図7(a)は、この状態に該当する。
次に、図7(e)に示すように、波長変換層20の上面をバリア層8で覆う。
次に、図7(f)に示すように、第3のブレード28を用いて、透光配線基板10とバリア層8の一部が重なるようにして、かつ波長変換層20が露出しないようにバリア層8をダレさせつつ、個片に分離する。
最後に、図7(g)に示すように、透光配線基板10の配線32と発光素子1の突起電極35とを電気的接続するように発光素子1を搭載する。
本実施形態においても、透光配線基板(透光母材)10が平板であることにより、波長変換層20を含む透光部材9を一括形成することができ、量産性に優れた発光装置を提供することができる。
(第四の実施形態)
図8は本発明の第四の実施形態における発光装置を示す断面図である。第四の実施形態は第三の実施形態の更に面積的に小型化できるものである。第3の透光部材9と発光素子1の平面的な大きさがほぼ同じであることが特徴である。このような発光装置の形態はCSP(チップ・サイズ・パッケージ)と呼ばれる。
より具体的には、発光素子1の発光面側に、発光素子1と同じ大きさかそれ以下の大きさでかつ、発光素子1の発光面領域よりも大きな第3の透光部材9が形成されている。第3の透光部材9は、平板である透光母材40、波長変換層20及びバリア層8が積層されて形成されている。透光母材40としては、例えば樹脂ガラス・アクリル・フィルム透光母材を用いてもよい。透光母材40の上面には、波長変換層20が形成されている。波長変換層20の上面にはバリア層8が形成されている。バリア層8としては、樹脂・フィルムを用いてもよい。発光素子1における第3の透光部材9が設置されている面には、電極22が形成されている。発光素子1における第3の透光部材9が設置されている面の対向する面には、端子部23が形成されている。電極22と端子部23は貫通ビア等の配線24により電気的に接続されている。ここで、透光母材40とバリア層8に挟まれるように位置する波長変換層20の側面周縁は、透光母材40とバリア層の一部が重なるようにして波長変換層20が露出しないように覆われた構造である。
また、発光素子1には電極端子23とは別に放熱パターン25を設けることが好ましい。熱放散性がより必要な場合、発光素子1の端子23側と同じ面に放熱パターン25を配置し、必要な放熱容量に応じて発光素子1に形成する貫通孔の本数や径を変更して必要な熱設計を行うことが可能である。放熱パターン25としては、例えばCu配線を用いてもよい。
発光素子1、透光母材40及び波長変換層20については、第一の実施形態及び第二の実施形態で説明した材料等を用いればよい。
波長変換層20の全ては、透光母材40とバリア層8で覆われて発光装置内に封止され、発光装置外(外気)に対して露出していない。このような波長変換層20を密閉する構成とすることで、耐酸化性、耐湿性に弱い波長変換層を用いた発光装置であっても、波長変換層に対し気密性を持たせることができるので、結果として、波長変換層の耐湿性、耐酸化性における劣化を抑えることができ、品質的に優れた発光装置を作ることができる。
図9(a)〜(e)は本発明の第四の実施形態における発光装置を形成する製造ステップを示す断面図である。
まず、図9(a)に示すように、未分離状態の透光母材40が複数連なった集合体板を準備する。透光母材40としては、例えばガラスやアクリル、フィルムなどを用いてよい。
次に、図9(b)に示すように、透光母材40の上面に波長変換層20を形成する。
次に、図9(c)に示すように、波長変換層20の上面をバリア層8で覆う。
次に、図9(d)に示すように、第3の透光部材9となる集合体板を、未分離状態の複数の発光素子1を含むウェハ上に接着させる。
最後に、図9(e)に示すように、ブレード28を用いて、透光母材40とバリア層8の一部が重なるようにしてかつ波長変換層20が露出しないようにして、発光素子1ごと個片に分離する。
本実施形態においても、透光母材40が平板であることにより、波長変換層20を含む透光部材9を一括形成することができ、量産性に優れた発光装置を提供することができる。
次に、図10(a)〜(c)は、波長変換層20が露出しないように個片化する方法を説明する断面図であり、図9(e)の破線部の拡大図に相当する。なお、この方法は、第三の実施形態の発光装置の製造にも適用可能である。
まず、図10(a)を用いて、透光母材40とバリア層8の一部が重なるようにしてかつ波長変換層20が露出しないようにバリア層8をダレさせつつ個片化する方法について、より詳細に説明する。
まず、第3のブレード28で切断面に沿ってバリア層8の側より切断する。このときバリア層8の端面には、第3のブレード28の回転・切断による透光母材40方向への圧力・摩擦によりダレが形成される。このバリア層8のダレ面が透光母材40と接触することにより、波長変換層20がバリア層8及び透光母材40によって密閉されることとなる。このような加工を施すことで、波長変換層20を空気に触れないようにすることができ、波長変換層を空気や湿気より守ることができる。
また、切断はブレードではなく、一般プレス加工などで利用される金属ポンチでもよい。この場合ポンチの刃先の形状を工夫して、切断面にダレ面を形成する条件が必要となる。ブレードによる切断とは異なり大きな磨耗熱が発生しないので、バリア層8と、透光母材40の重なり部を機械的にシールするか、困難な場合、更に熱加工を追加してバリア層8と透光母材40の重なり部を接合してもよい。
次に、図10(a)とは別の、波長変換層20が露出しないようにバリア層8をダレさせつつ個片化する方法について図10(b)を用いて説明する。図10(b)に示すとおり、透光母材40上に波長変換層20を形成し、さらにその波長変換層20の上層にバリア層8を形成する。本実施例では、切断面に沿ってレーザービーム30を用いて切断する。レーザービーム30には例えば、CO2レーザー、YAGレーザー、またはエキシマレーザーを用いる。レーザーは熱で材料を焼き切るので条件調整することでバリア層8を溶融しダレ面を形成する。このダレ面が透光母材40に重なりさらに引っ付く程度の条件で焼き切る。
次に、図10(a)及び(b)とは別の、波長変換層20が露出しないように個片化する方法について図10(c)を用いて説明する。図10(c)では図10(a)や(b)のようにダレ面を形成するのではなく、波長変換層20の側面周縁において、側面周縁表面のみが熱硬化され硬質化した層を形成する。すなわち波長変換層20のエッジがレーザービーム30の溶融熱により焼き固められた層を形成する。結果として内側の波長変換層20が露出しない構造となる。
また図示しないが本実施形態の応用として、レーザー熱や、瞬間的に高温プラズマで波長変換層20の表面に皮膜ができ、波長変換層内部まで完全硬化しないようにして、空気や湿度に触れないようにしてもよい。この場合、バリア層8を溶かし、波長変換層20をシールする必要はなく、波長変換層20の表面に皮膜が形成できればバリア層8そのものも不要となる。この場合は、高温プラズマで瞬間的に波長変換層の表面に皮膜ができるような硬化材料を波長変換層材料に含有させる必要がある。
なお、第三の実施形態及び第四の実施形態で示した第3の透光部材9は、第一の実施形態及び第二の実施形態で示した枠体3上に搭載しても良い。もちろん本発明の第三の実施形態および第四の実施形態にも共通に利用できる。
なお、本発明は発光装置に限定されるものではなく、センサー・光デバイス分野などにおいて気密を必要とする電子部品全般に応用できる。例えば、赤外センサー、イメージセンサー、フォトIC等である。この場合、波長変換層20の代わりに、赤外センサーであればアルファ線カット膜、波長カット膜、反射防止膜などを用いても良く、フォトICやイメージセンサーであればアルファ線カット膜、波長カット膜、反射防止膜などを用いても良い。この際、反射防止膜であれば、酸化チタン、フッ化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、二酸化珪素等の粉末を無機・有機樹脂に混ぜたものを用いればよい。アルファ線カット膜、波長カット膜の場合、ガラスやフィルムにアルファ線カット膜を蒸着する方法があり、スパッタリング、電子ビーム蒸着などがあり、ITO(インジウム-スズ酸化物)、ATO(アンチモン-スズ酸化物)を無機・有機樹脂に混ぜたものを用いればよい。
本発明によれば、電子ディスプレイ用のバックライト電源や、蛍光ランプに好適に用いられる、波長変換層の劣化が少ない発光装置が実現できる。
1 発光素子
2 凹部
3 枠体
4 逃がし孔
5 第1の端子
6 第1の透光部材
7 切り欠き部
8 バリア層
9 第3の透光部材
10 透光配線基板
11 放熱配線パターン部
12 貫通孔
13 突起電極接続部
14 Out−IN接続部
15 透明アンダーフィル
16 実装基板
18 放熱板
19 放熱材料
20 波長変換層
21 ダイボンド材
22 電極
23 端子
24 配線
25 放熱パターン
26 第1のブレード
27 第2のブレード
28 第3のブレード
29 第2の端子
30 レーザービーム
31 ダレ面
32 配線
33 実装基板の配線
34 接続部材
35 突起電極
36 接着材
37 スリット
38 分離ライン
39 第2の透光部材
40 透光母材
41 素子搭載領域

Claims (15)

  1. 発光素子と波長変換層とを備えた発光装置であって、
    透光母材と前記透光母材上に配置された前記波長変換層とからなる透光部材を備え、
    前記波長変換層は前記発光素子には接触しておらず、前記発光装置内に封入されていることを特徴とする発光装置。
  2. 前記波長変換層は半導体微粒子蛍光体を含むことを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
  3. 凹部を有する枠体をさらに備え、
    前記発光素子は前記凹部に搭載され、
    前記透光部材は前記凹部を覆うように、前記枠体上に搭載されていることを特徴とする請求項1または2に記載の発光装置。
  4. 前記波長変換層は、前記枠体の上面と接していることを特徴とする請求項3に記載の発光装置。
  5. 前記透光部材は、前記枠体と接着材により接着され、
    前記波長変換層の側面は、前記接着材により覆われていることを特徴とする請求項3または4に記載の発光装置。
  6. 前記透光母材の端部には、切り欠き部が設けられていることを特徴とする請求項5に記載の発光装置。
  7. 前記切り欠き部には前記接着材が充填されていることを特徴とする請求項6に記載の発光装置。
  8. 前記凹部内には、酸素以外の気体が充填されていることを特徴とする請求項3から7のいずれか1項に記載の発光装置。
  9. 前記透光部材はバリア層を含み、前記バリア層は、前記波長変換層を挟んで前記透光母材と反対側に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の発光装置。
  10. 前記波長変換層は、前記透光母材及びバリア層によって密閉されていることを特徴とする請求項9に記載の発光装置。
  11. 前記透光母材は透光な配線基板であって、
    前記透光母材上に配置された配線に前記発光素子が電気的に接続されたことを特徴とする請求項10に記載の発光装置。
  12. 前記透光母材には貫通孔が設けられ、
    前記貫通孔には前記波長変換層が充填され、
    前記透光母材上に前記貫通孔を覆うように放熱パターンが配置されていることを特徴とする請求項10に記載の発光装置。
  13. 前記発光素子は前記透光部材と接着され、
    前記発光素子の側面と前記透光部材の側面は面一であることを特徴とする請求項10の発光装置。
  14. 前記発光素子には放熱パターンが形成されていることを特徴とする請求項13に記載の発光装置。
  15. 前記波長変換層の側面は、硬質化層となっていることを特徴とする請求項9から14のいずれかに記載の発光装置。
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