JPS6371826A - 光半導体装置 - Google Patents
光半導体装置Info
- Publication number
- JPS6371826A JPS6371826A JP61215806A JP21580686A JPS6371826A JP S6371826 A JPS6371826 A JP S6371826A JP 61215806 A JP61215806 A JP 61215806A JP 21580686 A JP21580686 A JP 21580686A JP S6371826 A JPS6371826 A JP S6371826A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- semiconductor device
- carriers
- optical semiconductor
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 42
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 10
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 10
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/015—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction
- G02F1/017—Structures with periodic or quasi periodic potential variation, e.g. superlattices, quantum wells
- G02F1/01708—Structures with periodic or quasi periodic potential variation, e.g. superlattices, quantum wells in an optical wavequide structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/015—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction
- G02F1/0151—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction modulating the refractive index
- G02F1/0152—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction modulating the refractive index using free carrier effects, e.g. plasma effect
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/31—Digital deflection, i.e. optical switching
- G02F1/313—Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure
- G02F1/3137—Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure with intersecting or branching waveguides, e.g. X-switches and Y-junctions
- G02F1/3138—Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure with intersecting or branching waveguides, e.g. X-switches and Y-junctions the optical waveguides being made of semiconducting materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光変調器、光スイッチ等の光半導体装置に係
り、特に光集積化素子、光交換器等への応用に好適な光
半導体装置に関する。
り、特に光集積化素子、光交換器等への応用に好適な光
半導体装置に関する。
半導体材料へのキャリア注入に伴なう屈折率の変化は、
電気光学効果等による屈折率変化と比べ大きいため、光
スイッチ等への応用が回連である(特開昭60−134
219号公報参照)。
電気光学効果等による屈折率変化と比べ大きいため、光
スイッチ等への応用が回連である(特開昭60−134
219号公報参照)。
また、同方式の屈折率変化は、バルク結晶の場合よりも
量子井戸型(MQW)構造の場合の方が大きくなること
が予聞できるため、これらを組み合わせることにより原
理的には高効率で動作する光半導体装置、たとえば低し
きい値半ン?1体レーザ5高効率光変調器あるいは光ス
イッチなどが可能である。
量子井戸型(MQW)構造の場合の方が大きくなること
が予聞できるため、これらを組み合わせることにより原
理的には高効率で動作する光半導体装置、たとえば低し
きい値半ン?1体レーザ5高効率光変調器あるいは光ス
イッチなどが可能である。
上記従来技術においては、MQWを構成する半導体薄層
の面に垂直な方向からキャリアを注入している。MQW
は井戸層(ウェル層)と障壁層(バリア層)を交互に積
層して構成されるが、このようなMQWの而に垂直な方
向からキャリアを注入すると、注入されたキャリアはバ
リア層で妨害されながら移動して注入口より近いウェル
層から順次満たしていくことになる。そして、注入口よ
り0.1〜0.2μm以上のウェル層にはキャリアはほ
とんど達しなくなる。したがって、大出力レーザ、光変
調器、光スイッチなど厚さの大きい、例えば5μm以上
の導波路(MQW層全体を含む)が必要とされる場合に
は、キャリア注入側より0.1〜0.2μm離れた井戸
層ではキャリアの注入量が極めて少なくなり、屈折率の
変化などキャリア注入に伴なう効果が乏しくなる。した
がって、消光比などの光半導体装置としての特性の向上
が期待できない。
の面に垂直な方向からキャリアを注入している。MQW
は井戸層(ウェル層)と障壁層(バリア層)を交互に積
層して構成されるが、このようなMQWの而に垂直な方
向からキャリアを注入すると、注入されたキャリアはバ
リア層で妨害されながら移動して注入口より近いウェル
層から順次満たしていくことになる。そして、注入口よ
り0.1〜0.2μm以上のウェル層にはキャリアはほ
とんど達しなくなる。したがって、大出力レーザ、光変
調器、光スイッチなど厚さの大きい、例えば5μm以上
の導波路(MQW層全体を含む)が必要とされる場合に
は、キャリア注入側より0.1〜0.2μm離れた井戸
層ではキャリアの注入量が極めて少なくなり、屈折率の
変化などキャリア注入に伴なう効果が乏しくなる。した
がって、消光比などの光半導体装置としての特性の向上
が期待できない。
本発明の目的は、量子井戸構造でなる半導体層の全域に
キャリアが充分に注入されるような構造の光半導体装置
を提供することにある。
キャリアが充分に注入されるような構造の光半導体装置
を提供することにある。
上記目的は、量子井戸構造でなる半導体層の層面に平行
にキャリアを注入する構造により達成できる。この場合
、キャリア注入用の電極は量子井戸層の側面に形成され
る(第1図(b)参照)。
にキャリアを注入する構造により達成できる。この場合
、キャリア注入用の電極は量子井戸層の側面に形成され
る(第1図(b)参照)。
第1図(b)に示すように、量子井戸構造の多層膜の層
面に沿ってキャリアを注入すると、注入されたキャリア
は量子井戸構造内の2次元的ポテンシャルバリアに影響
されず、全ての井戸層に効率よく注入される。また、量
子井戸構造領域の厚さや量子井戸層の層数を増加しても
注入゛効率は低下しない。
面に沿ってキャリアを注入すると、注入されたキャリア
は量子井戸構造内の2次元的ポテンシャルバリアに影響
されず、全ての井戸層に効率よく注入される。また、量
子井戸構造領域の厚さや量子井戸層の層数を増加しても
注入゛効率は低下しない。
以下、本発明の詳細な説明する。
第1閤を用いて光スイッチの一例を説明する。
第】図(a)に示すように、本光スイッチは・、全反射
方式の2×2X型である。光導波路1は、InP/In
GaAsP多重量子井戸よりなり、X型のチャネルスト
ライプを持っ半絶繍性TnP基板1に埋め込まれている
。多重縫子井戸は、n −I nP (n=5X 10
18rn−8) 、 I囚J’250人のバリア層、お
よびn −TnGaAsP(n = 5 X L 01
11CI11−3)、バンドギャップ波長1.3 μm
、膜厚100人よりなり、全膜厚0.7μmである。第
1図(b)に第1図(a)のA−A’断面を示す。
方式の2×2X型である。光導波路1は、InP/In
GaAsP多重量子井戸よりなり、X型のチャネルスト
ライプを持っ半絶繍性TnP基板1に埋め込まれている
。多重縫子井戸は、n −I nP (n=5X 10
18rn−8) 、 I囚J’250人のバリア層、お
よびn −TnGaAsP(n = 5 X L 01
11CI11−3)、バンドギャップ波長1.3 μm
、膜厚100人よりなり、全膜厚0.7μmである。第
1図(b)に第1図(a)のA−A’断面を示す。
導波路交差部の屈折率変化領域(反射領域)7へ 1の
キャリア注入は、三角形状のp電+423.n電極4を
通して行なわれる。7へのキャリア注入を行なうため導
波路、基板を含む四角形の領域5,6にそれぞれBe、
Siを打ち込みp領域、 ri領領域形成した。導波路
や、導波路交差角は、それぞれ8μm、10°とし、キ
ャリア注入部7の巾は2μmとした。
キャリア注入は、三角形状のp電+423.n電極4を
通して行なわれる。7へのキャリア注入を行なうため導
波路、基板を含む四角形の領域5,6にそれぞれBe、
Siを打ち込みp領域、 ri領領域形成した。導波路
や、導波路交差角は、それぞれ8μm、10°とし、キ
ャリア注入部7の巾は2μmとした。
本実施例の作製プロセスは以下のとうりである。
■ 塩酸系の周知のウェットエツチング法によりX j
fJのチャネルを形成する。
fJのチャネルを形成する。
■ MOCVD法により多重量子井戸構造の半導体層を
形成する。
形成する。
■ 通常のホトリソグラフィ法および硫酸系エツチング
液により、導波路交差角の多重縫子井戸層を除去する。
液により、導波路交差角の多重縫子井戸層を除去する。
■ イオン注入法によりR8,31を領域5,6に選択
的に打ち込む。
的に打ち込む。
■ 赤外線ランプによりアニールを行なう。
■ pffi極(Cr/A r)3.nTfi極(Au
GsNj/Pd/Au)4を抵抗加熱蒸着により形成す
る。
GsNj/Pd/Au)4を抵抗加熱蒸着により形成す
る。
以上の工程により得られた光スイッチに波長1.3μm
の光を入力端8より入射して素子特性を測定した。電極
3,4に電流を流さない場合、出力端10.ilよりの
出射光の比PIO/Pi↓は約15ciBであった。電
流を流すにつれてP +o/pHは減少し電流値30m
Aでほぼ飽和した。その時の消光比P10/PL1は約
−20d Bであった。
の光を入力端8より入射して素子特性を測定した。電極
3,4に電流を流さない場合、出力端10.ilよりの
出射光の比PIO/Pi↓は約15ciBであった。電
流を流すにつれてP +o/pHは減少し電流値30m
Aでほぼ飽和した。その時の消光比P10/PL1は約
−20d Bであった。
本実施例は、導波路材料にI n)’ / T n(’
rIIAsPを用いたが、InP/InQaAs、Tn
AQA、s/InGaAs、Garb/GaA Q S
b、GaAq/GaAQAs等の材料を用いても実施で
きた。
rIIAsPを用いたが、InP/InQaAs、Tn
AQA、s/InGaAs、Garb/GaA Q S
b、GaAq/GaAQAs等の材料を用いても実施で
きた。
また本発明は、他の491造の光スイッチにおいても適
用可能である。以下、第1図に示した2×2全反射型光
スイッチをJ):J *構造とした実施例のa−a断面
図を示す、第2図はリッジ型、第3図は完全埋込型の例
である。また、第4図では多重量子井戸層よりなる先導
波路交差部の中央部にPN接合を設けたものである。こ
れらも、上述の方法に準じて、周知の技術を用いてva
造することができる。いずれの構造においても、そのス
イッチング速度が10−9sec以下の良好なスイッチ
ング特性で、かつ駆動電流100mAにおいて20dB
の消光比特性が得られた。因みに、従来技術においては
駆動電流を100mA以上にしても5dF3以上の消光
比特性は得られなかった。
用可能である。以下、第1図に示した2×2全反射型光
スイッチをJ):J *構造とした実施例のa−a断面
図を示す、第2図はリッジ型、第3図は完全埋込型の例
である。また、第4図では多重量子井戸層よりなる先導
波路交差部の中央部にPN接合を設けたものである。こ
れらも、上述の方法に準じて、周知の技術を用いてva
造することができる。いずれの構造においても、そのス
イッチング速度が10−9sec以下の良好なスイッチ
ング特性で、かつ駆動電流100mAにおいて20dB
の消光比特性が得られた。因みに、従来技術においては
駆動電流を100mA以上にしても5dF3以上の消光
比特性は得られなかった。
本発明によれば、多重量子井戸層の全膜厚に関係なく効
率よくキャリアを多重量子井戸内に注入することが可能
であるので同領域内の屈折率を膜厚方向にそって均一に
大きく変化させることができ、光スイッチ、光変調器の
大幅な性能向上をもたらし、その結果、素子の小型化、
低消通電力化。
率よくキャリアを多重量子井戸内に注入することが可能
であるので同領域内の屈折率を膜厚方向にそって均一に
大きく変化させることができ、光スイッチ、光変調器の
大幅な性能向上をもたらし、その結果、素子の小型化、
低消通電力化。
高い消光比の光半導体装置が実現できる。
第1図の(a)は本発明の光スイッチの平面図、(b)
は(a)のA−A’断面図、第2,3および4図は、各
実施例の光スイッチの第1図(a)のA−A’断面回で
ある。 1・・・多重量子井戸層、2・・・半絶縁性基板、3・
・・p−電極、4・・・n−電極、5・・・p型領域、
6・・・n型領域、7・・・屈折率変化領域、8,9,
10.11・・・光スイッチ入、出射ボート。
は(a)のA−A’断面図、第2,3および4図は、各
実施例の光スイッチの第1図(a)のA−A’断面回で
ある。 1・・・多重量子井戸層、2・・・半絶縁性基板、3・
・・p−電極、4・・・n−電極、5・・・p型領域、
6・・・n型領域、7・・・屈折率変化領域、8,9,
10.11・・・光スイッチ入、出射ボート。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、半導体基板上に、半導体薄層を積層した多重量子井
戸(以下、MQW)構造を有し、当該構造の領域のキャ
リア数の増減により生じる屈折率変化に伴なつて動作す
る半導体装置において、当該MQW構造領域に当該MQ
Wを構成する半導体薄層の面に平行な方向から当該キャ
リアを注入することを特徴とする光半導体装置。 2、前記光半導体装置が半導体レーザ装置である特許請
求の範囲第1項記載の光半導体装置。 3、前記光半導体装置が光変調器である特許請求の範囲
第1項記載の光半導体装置。 4、前記光半導体装置が光スイッチである特許請求の範
囲第1項記載の光半導体装置。 5、前記MQW構造が、前記基板上に設けられた複数の
光導波路が交差する領域の全部もしくは一部に設けられ
ていることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の光
半導体装置。 6、前記MQWを構成する半導体がIII−V族化合物半
導体であることを特徴とする特許請求の範囲第1項から
第5項のいずれかに記載の光半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61215806A JPS6371826A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 光半導体装置 |
US07/094,601 US4840446A (en) | 1986-09-16 | 1987-09-09 | Photo semiconductor device having a multi-quantum well structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61215806A JPS6371826A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 光半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6371826A true JPS6371826A (ja) | 1988-04-01 |
Family
ID=16678565
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61215806A Pending JPS6371826A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 光半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4840446A (ja) |
JP (1) | JPS6371826A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02116820A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光スイッチ |
JPH02132415A (ja) * | 1988-11-14 | 1990-05-21 | Fujitsu Ltd | 光変調器 |
EP0385671A2 (en) * | 1989-03-02 | 1990-09-05 | AT&T Corp. | Low loss waveguide intersection |
US5031989A (en) * | 1987-09-16 | 1991-07-16 | Osaka Electric And Communication University | Optical filter coupler |
JPH05259567A (ja) * | 1992-03-13 | 1993-10-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 導波形多重量子井戸光制御素子 |
Families Citing this family (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4878723A (en) * | 1986-02-06 | 1989-11-07 | Gte Laboratories Incorporated | Optically controlled semiconductor waveguide interferometer apparatus |
JP2928532B2 (ja) * | 1988-05-06 | 1999-08-03 | 株式会社日立製作所 | 量子干渉光素子 |
US5045894A (en) * | 1988-06-29 | 1991-09-03 | Hitachi, Ltd. | Compound semiconductor light emitting device |
US4943133A (en) * | 1988-08-08 | 1990-07-24 | Bell Communications Research, Inc. | Low loss semiconductor optical phase modulator |
JP2698394B2 (ja) * | 1988-09-30 | 1998-01-19 | キヤノン株式会社 | 非線形光学素子 |
US5033811A (en) * | 1988-11-04 | 1991-07-23 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Optical switch |
JP2746326B2 (ja) * | 1989-01-10 | 1998-05-06 | 株式会社日立製作所 | 半導体光素子 |
US4923264A (en) * | 1989-01-18 | 1990-05-08 | University Of Pittsburgh Of The Commonwealth System Of Higher Education | Resonance coupled optical coupler with semiconductor waveguide layer comprising a multi-quantum-well structure |
US4958898A (en) * | 1989-03-15 | 1990-09-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Silicon double-injection electro-optic modulator with insulated-gate and method of using same |
US4999485A (en) * | 1989-10-18 | 1991-03-12 | At&T Bell Laboratories | Nonlinerar optical device structure with compound semiconductor having graded chemical composition |
US5101294A (en) * | 1990-03-30 | 1992-03-31 | The University Of Connecticut | Surface acoustic wave optical modulator |
US5067828A (en) * | 1990-08-09 | 1991-11-26 | Rockwell International Corporation | Transferred electron effective mass modulator |
DE69115205T2 (de) * | 1990-09-24 | 1996-06-27 | Philips Electronics Nv | Optisch schaltbare Vorrichtung. |
JPH04291304A (ja) * | 1991-03-20 | 1992-10-15 | Fujitsu Ltd | 光導波路および光信号の制御方法 |
US5138416A (en) * | 1991-07-12 | 1992-08-11 | Xerox Corporation | Multi-color photosensitive element with heterojunctions |
US5270225A (en) * | 1992-02-21 | 1993-12-14 | Motorola, Inc. | Method of making a resonant tunneling semiconductor device |
US5276699A (en) * | 1992-11-05 | 1994-01-04 | Eastman Kodak Company | Depressed-index ridge waveguide laser diode containing a stabilizing region |
US5307361A (en) * | 1992-11-05 | 1994-04-26 | Eastman Kodak Company | Ridge waveguide laser diode with a depressed-index cladding layer |
JPH0720506A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-24 | Mitsubishi Electric Corp | 光スイッチ及びその製造方法 |
US5488679A (en) * | 1994-10-27 | 1996-01-30 | Northern Telecom Limited | Polarization independent wavelength tunable filter based on birefringence compensation |
US6022671A (en) * | 1997-03-11 | 2000-02-08 | Lightwave Microsystems Corporation | Method of making optical interconnects with hybrid construction |
US6144779A (en) * | 1997-03-11 | 2000-11-07 | Lightwave Microsystems Corporation | Optical interconnects with hybrid construction |
US5970186A (en) * | 1997-03-11 | 1999-10-19 | Lightwave Microsystems Corporation | Hybrid digital electro-optic switch |
GB2340616B (en) * | 1998-08-13 | 2000-12-27 | Bookham Technology Ltd | Electro optic modulator |
AU2843100A (en) | 1998-11-10 | 2000-05-29 | Lightwave Microsystems Corporation | Photonic devices comprising thermo-optic polymer |
JP3038383B1 (ja) * | 1999-06-08 | 2000-05-08 | 東京大学長 | 光デバイス |
US6526195B1 (en) * | 2001-01-22 | 2003-02-25 | Nortel Networks Limited | Protecting optical switches |
US6697552B2 (en) | 2001-02-23 | 2004-02-24 | Lightwave Microsystems Corporation | Dendritic taper for an integrated optical wavelength router |
JP4105403B2 (ja) | 2001-04-26 | 2008-06-25 | 日本オプネクスト株式会社 | 半導体光集積素子の製造方法 |
JP4678143B2 (ja) * | 2004-06-04 | 2011-04-27 | 横河電機株式会社 | 光スイッチ |
KR100815848B1 (ko) | 2007-06-04 | 2008-03-24 | 한국표준과학연구원 | 초고분해능 광 간섭계를 위한 양자얽힘상태 광자 생성장치 |
US9002146B2 (en) * | 2011-02-18 | 2015-04-07 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Optical gate switch |
US8852695B2 (en) * | 2012-09-10 | 2014-10-07 | The Research Foundation For The State University Of New York | Optical barriers, waveguides, and methods for fabricating barriers and waveguides for use in harsh environments |
US9500929B2 (en) * | 2015-04-15 | 2016-11-22 | Chen-Kuo Sun | Vertical electro-optically coupled switch |
US20160306256A1 (en) * | 2015-04-15 | 2016-10-20 | Chen-Kuo Sun | Method for configuring an optical modulator |
US20180081253A9 (en) * | 2015-04-15 | 2018-03-22 | Chen-Kuo Sun | Optical modulator |
US10036855B1 (en) * | 2017-07-13 | 2018-07-31 | Chen-Kuo Sun | Reverse bias modulating waveguide/diode |
US10126496B1 (en) | 2017-07-13 | 2018-11-13 | Chen-Kuo Sun | Reverse bias modulating multi-material waveguide/diode |
US10409137B2 (en) | 2017-08-22 | 2019-09-10 | Chen-Kuo Sun | System and method for controlling energy flux modulation |
US10895764B1 (en) | 2019-10-24 | 2021-01-19 | Veo, Inc. | Dielectric electro-optic phase shifter |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60500639A (ja) * | 1983-02-28 | 1985-05-02 | アメリカン テレフオン アンド テレグラフ カムパニ− | 多重量子井戸使用による光制御用半導体装置 |
JPS60252329A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | Hitachi Ltd | 光スイツチ |
JPS61212823A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Nec Corp | 光変調器 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3246159A (en) * | 1962-04-30 | 1966-04-12 | Rca Corp | Modulators for light radiation employing carrier injection |
US4594718A (en) * | 1983-02-01 | 1986-06-10 | Xerox Corporation | Combination index/gain guided semiconductor lasers |
JP2583480B2 (ja) * | 1983-12-23 | 1997-02-19 | 株式会社日立製作所 | 光スイッチ及び光スイッチアレイ |
US4716449A (en) * | 1984-03-14 | 1987-12-29 | American Telephone And Telegraph Company At&T Bell Laboratories | Nonlinear and bistable optical device |
JPH0750807B2 (ja) * | 1984-03-28 | 1995-05-31 | 東北大学長 | 接合型半導体発光素子 |
JPS6110293A (ja) * | 1984-06-25 | 1986-01-17 | Sharp Corp | 光半導体装置 |
US4705361A (en) * | 1985-11-27 | 1987-11-10 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator |
US4727557A (en) * | 1985-12-30 | 1988-02-23 | Xerox Corporation | Phased array semiconductor lasers fabricated from impurity induced disordering |
-
1986
- 1986-09-16 JP JP61215806A patent/JPS6371826A/ja active Pending
-
1987
- 1987-09-09 US US07/094,601 patent/US4840446A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60500639A (ja) * | 1983-02-28 | 1985-05-02 | アメリカン テレフオン アンド テレグラフ カムパニ− | 多重量子井戸使用による光制御用半導体装置 |
JPS60252329A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | Hitachi Ltd | 光スイツチ |
JPS61212823A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Nec Corp | 光変調器 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5031989A (en) * | 1987-09-16 | 1991-07-16 | Osaka Electric And Communication University | Optical filter coupler |
JPH02116820A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光スイッチ |
JPH02132415A (ja) * | 1988-11-14 | 1990-05-21 | Fujitsu Ltd | 光変調器 |
EP0385671A2 (en) * | 1989-03-02 | 1990-09-05 | AT&T Corp. | Low loss waveguide intersection |
JPH05259567A (ja) * | 1992-03-13 | 1993-10-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 導波形多重量子井戸光制御素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4840446A (en) | 1989-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6371826A (ja) | 光半導体装置 | |
US5276748A (en) | Vertically-coupled arrow modulators or switches on silicon | |
JPH0348476A (ja) | 半導体光素子 | |
JPS62174728A (ja) | 光スイツチ | |
JPH0721594B2 (ja) | 光スイツチ | |
JPS6332988A (ja) | 分布帰還形半導体レ−ザ | |
JPS60252329A (ja) | 光スイツチ | |
JP2503558B2 (ja) | 光スイッチ | |
US6891986B2 (en) | Optical switch | |
JP6622152B2 (ja) | 光素子 | |
JPH06130236A (ja) | 交差型光スイッチ | |
JPH023024A (ja) | 半導体光スイッチ | |
WO2021001918A1 (ja) | 光変調器 | |
JPH07325328A (ja) | 半導体光変調器 | |
JPH0548889B2 (ja) | ||
JPH03174793A (ja) | 半導体レーザ | |
JPS61148427A (ja) | 導波形光変調器 | |
JPH01270035A (ja) | 光変調装置 | |
JPS5967680A (ja) | 光双安定素子 | |
JPH01259329A (ja) | 光スイツチ | |
JPH023025A (ja) | 半導体光スイッチ | |
JPH05119359A (ja) | 基板型光スイツチ及びその製造方法 | |
JPS5967679A (ja) | 光双安定素子 | |
JPH0331824A (ja) | 電極装荷交差型光スイッチ | |
JPH02146530A (ja) | 半導体光スイッチとその製造方法 |