JPS63125099A - ボイスコイルの製造方法 - Google Patents
ボイスコイルの製造方法Info
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- JPS63125099A JPS63125099A JP27143686A JP27143686A JPS63125099A JP S63125099 A JPS63125099 A JP S63125099A JP 27143686 A JP27143686 A JP 27143686A JP 27143686 A JP27143686 A JP 27143686A JP S63125099 A JPS63125099 A JP S63125099A
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- JP
- Japan
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- coil
- aluminium
- coil substrate
- cylindrical
- ceramic layer
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はａ電型スピーカに用いるボイスコイルの製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
（従来技術及びその問題点）
従来のスピーカに用いるボイスコイルは紙あるいはアル
ミ箔などで形成された円筒状ボビンに絶縁被覆を施した
導線を巻回して作成される。導線には導体占有率を向上
させるためエツジワイズ導線が用いられているボイスコ
イルもある。またさらに、導体占有率を向上させるため
、蒸着によるコイル作成その他種々の製造方法が提案さ
れている。
ミ箔などで形成された円筒状ボビンに絶縁被覆を施した
導線を巻回して作成される。導線には導体占有率を向上
させるためエツジワイズ導線が用いられているボイスコ
イルもある。またさらに、導体占有率を向上させるため
、蒸着によるコイル作成その他種々の製造方法が提案さ
れている。
しがし、特性の安定性、歩留まり、その他において優れ
たものは得られていない現状であり、かつ複雑な製造方
法によるものが多い。
たものは得られていない現状であり、かつ複雑な製造方
法によるものが多い。
〈問題点を解決するための手段）
本発明は上記の問題点に鑑み提案されたもので、その目
的は、簡易でかつ量産性に適し、導体占有率を向上した
ボイスコイルの製造方法を提供することにある。
的は、簡易でかつ量産性に適し、導体占有率を向上した
ボイスコイルの製造方法を提供することにある。
すなわち、本発明は上記目的を達成するために、アルミ
ニウムより成る円筒状ボビン基体を形成し、該円筒状コ
イル基体の外側面にセラミックス冒を形成させないため
のマスクを施した後、該円筒状コイル基体の内側面にＴ
ｉ電解析出法より絶縁セラミックス層を形成し、次に該
円筒状コイル基体の外側面の軸方向に対しらせん状に前
記絶縁セラミックス層に到達するまで高エネルギーレー
ザービームを照射し、該ビームにて照射された部分の円
筒状コイル基体を形成するアルミニウムを溶融蒸発せし
め、該絶縁セラミックス層上にアルミニウムの連続した
らせん状コイルを形成することを特徴とするボイスコイ
ルの製造方法を要旨とするものである。
ニウムより成る円筒状ボビン基体を形成し、該円筒状コ
イル基体の外側面にセラミックス冒を形成させないため
のマスクを施した後、該円筒状コイル基体の内側面にＴ
ｉ電解析出法より絶縁セラミックス層を形成し、次に該
円筒状コイル基体の外側面の軸方向に対しらせん状に前
記絶縁セラミックス層に到達するまで高エネルギーレー
ザービームを照射し、該ビームにて照射された部分の円
筒状コイル基体を形成するアルミニウムを溶融蒸発せし
め、該絶縁セラミックス層上にアルミニウムの連続した
らせん状コイルを形成することを特徴とするボイスコイ
ルの製造方法を要旨とするものである。
（作用）
本発明ではアルミニウムよりなる円筒状コイル基体の内
側面に電解析出法（以下電析法という）により絶縁セラ
ミックス層を形成し、次に円筒状コイル基体の外側面を
軸方向に対してらせん状に高エネルギレーザビームを照
射して円筒状コイル基体を溶融蒸発させることにより、
絶縁セラミックス層上にコイルを形成することにより、
簡易でかつ量産性に適し、導体占有率の大きいボイスコ
イルの製造方法を達成したものである。
側面に電解析出法（以下電析法という）により絶縁セラ
ミックス層を形成し、次に円筒状コイル基体の外側面を
軸方向に対してらせん状に高エネルギレーザビームを照
射して円筒状コイル基体を溶融蒸発させることにより、
絶縁セラミックス層上にコイルを形成することにより、
簡易でかつ量産性に適し、導体占有率の大きいボイスコ
イルの製造方法を達成したものである。
（実施例）
本発明の一実施例を図面を用いて説明する。なお、実施
例は一つの例示であって、本発明の精神を逸脱しない範
囲で種々の改良あるいは変更を行いうることは言うまで
もない。
例は一つの例示であって、本発明の精神を逸脱しない範
囲で種々の改良あるいは変更を行いうることは言うまで
もない。
第１図ないし第５図は本発明の一実施例を示す図であっ
て、本発明の製造方法を図の順を追って説明する。
て、本発明の製造方法を図の順を追って説明する。
まず、第１図の１はアルミニウムからなる円筒状のコイ
ル基体で、ボイスコイル完成品の外径と同一外形を有す
る。次に、第２図において、コイル基体の外側面をレジ
スト材を塗布してマスク２を形成する。さらに、第３図
において、電解！ｆｉ３に電解浴４を満たしコイル基体
１と電極５との間に直流電圧を印加し電析法によりコイ
ル基体１の内側面に絶縁セラミックス６を形成する。電
析法については後で詳しく述べる。これらの処理工程を
経たのち、第４図において、コイル基体１の軸を中心に
して回転させながら軸方向に移動し、高エネルギレーザ
ビーム７を照射し、レーザビーム７が絶縁セラミックス
層６に達するまで、マスク２を含めてアルミニウムで形
成されるコイル基体層を溶融蒸発さける。この工程によ
り、絶縁セラミックス層６の外層にアルミ導体からなる
コイル８が形成される。この工程を経た後、第５図にお
いて、コイル８の両端末において引出導線（導体箔が好
ましい）９を導電的に接続してボイスコイルの製造工程
を完了する。
ル基体で、ボイスコイル完成品の外径と同一外形を有す
る。次に、第２図において、コイル基体の外側面をレジ
スト材を塗布してマスク２を形成する。さらに、第３図
において、電解！ｆｉ３に電解浴４を満たしコイル基体
１と電極５との間に直流電圧を印加し電析法によりコイ
ル基体１の内側面に絶縁セラミックス６を形成する。電
析法については後で詳しく述べる。これらの処理工程を
経たのち、第４図において、コイル基体１の軸を中心に
して回転させながら軸方向に移動し、高エネルギレーザ
ビーム７を照射し、レーザビーム７が絶縁セラミックス
層６に達するまで、マスク２を含めてアルミニウムで形
成されるコイル基体層を溶融蒸発さける。この工程によ
り、絶縁セラミックス層６の外層にアルミ導体からなる
コイル８が形成される。この工程を経た後、第５図にお
いて、コイル８の両端末において引出導線（導体箔が好
ましい）９を導電的に接続してボイスコイルの製造工程
を完了する。
次に、電析法について述べる。電析法の一例として、電
解浴組成として、アルミン酸ナトリウム３！１．’ｌ水
溶液を用い、コイル基体層を陽極とし、かつ鉄板を陰極
として浸漬し、陽極′Ｒ流密度ＩＡ／ｄｍ’ に保持し
ながら直流電圧を連続的に印加する。
解浴組成として、アルミン酸ナトリウム３！１．’ｌ水
溶液を用い、コイル基体層を陽極とし、かつ鉄板を陰極
として浸漬し、陽極′Ｒ流密度ＩＡ／ｄｍ’ に保持し
ながら直流電圧を連続的に印加する。
２０分間の通電でコイル基体１の内側面に酸化アルミニ
ウム皮膜の絶縁筒が厚さ４〜５μｍ形成される。この絶
縁曙の厚さはボイスコイルの設計例えば１市、強度に応
じて必要な厚さとすればよい。
ウム皮膜の絶縁筒が厚さ４〜５μｍ形成される。この絶
縁曙の厚さはボイスコイルの設計例えば１市、強度に応
じて必要な厚さとすればよい。
（発明の効果） ４
゜以上説明した如く、本発明によれば、アルミニウムよ
り成る円筒状コイル基体を形成し、該円筒状コイル基体
の外側面にセラミックス層を形成させないためのマスク
を施した後、該円筒状コイル基体の内側面に電解析出法
により絶縁セラミックス層を形成し、次に該円筒状コイ
ル基体の外側面の軸方向に対しらせん状に前記絶縁セラ
ミックス層に到達するまで高エネルギーレーザービーム
を照射し、該ビームにて照射された部分の円筒状コイル
基体を形成するアルミニウムを溶融蒸発せしめ、該絶縁
セラミックス層上にアルミニウムの連続したらせん状コ
イルを形成すること、すなわち電析法により絶縁セラミ
ックス層を形成するためコイル基体の内側面に均一な絶
縁性の絶縁セラミックスの皮膜からなるボビンを形成で
きる。また、アルミニウムの陽極酸化によりアルマイト
ｌｉ形成するものとは異なり、絶縁セラミックス皮膜の
厚さは自由に制御でき、十分、厚みのある絶縁セラミッ
クス皮膜を形成することができる。
゜以上説明した如く、本発明によれば、アルミニウムよ
り成る円筒状コイル基体を形成し、該円筒状コイル基体
の外側面にセラミックス層を形成させないためのマスク
を施した後、該円筒状コイル基体の内側面に電解析出法
により絶縁セラミックス層を形成し、次に該円筒状コイ
ル基体の外側面の軸方向に対しらせん状に前記絶縁セラ
ミックス層に到達するまで高エネルギーレーザービーム
を照射し、該ビームにて照射された部分の円筒状コイル
基体を形成するアルミニウムを溶融蒸発せしめ、該絶縁
セラミックス層上にアルミニウムの連続したらせん状コ
イルを形成すること、すなわち電析法により絶縁セラミ
ックス層を形成するためコイル基体の内側面に均一な絶
縁性の絶縁セラミックスの皮膜からなるボビンを形成で
きる。また、アルミニウムの陽極酸化によりアルマイト
ｌｉ形成するものとは異なり、絶縁セラミックス皮膜の
厚さは自由に制御でき、十分、厚みのある絶縁セラミッ
クス皮膜を形成することができる。
第１図ないし第５図は本発明の一実施例を説明するため
の図である。 １・・・・コイル基体、２・・・・マスク、３・・・・
電解槽、４・・・・電解浴、５・・・・電極、６・・・
・絶縁セラミックス園、７・・・・レーザビーム、８・
・・・コイル、９・・・・引出導線
の図である。 １・・・・コイル基体、２・・・・マスク、３・・・・
電解槽、４・・・・電解浴、５・・・・電極、６・・・
・絶縁セラミックス園、７・・・・レーザビーム、８・
・・・コイル、９・・・・引出導線
Claims (1)
- アルミニウムより成る円筒状コイル基体を形成し、該円
筒状ボビン基体の外側面にセラミックス層を形成させな
いためのマスクを施した後、該円筒状コイル基体の内側
面に電解析出法により絶縁セラミックス層を形成し、次
に該円筒状ボビン基体の外側面の軸方向に対しらせん状
に前記絶縁セラミックス層に到達するまで高エネルギー
レーザービームを照射し、該ビームにて照射された部分
の円筒状ボビン基体を形成するアルミニウムを溶融蒸発
せしめ、該絶縁セラミックス層上にアルミニウムの連続
したらせん状コイルを形成することを特徴とするボイス
コイルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27143686A JPS63125099A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | ボイスコイルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27143686A JPS63125099A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | ボイスコイルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63125099A true JPS63125099A (ja) | 1988-05-28 |
Family
ID=17499998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27143686A Pending JPS63125099A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | ボイスコイルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63125099A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006152566A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-15 | Tachikawa Blind Mfg Co Ltd | 横型ブラインドのスラット昇降装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5542485A (en) * | 1978-09-20 | 1980-03-25 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of voice coil |
| JPS5950195B2 (ja) * | 1977-06-24 | 1984-12-06 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | 発光スクリ−ン |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP27143686A patent/JPS63125099A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5950195B2 (ja) * | 1977-06-24 | 1984-12-06 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | 発光スクリ−ン |
| JPS5542485A (en) * | 1978-09-20 | 1980-03-25 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of voice coil |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006152566A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-15 | Tachikawa Blind Mfg Co Ltd | 横型ブラインドのスラット昇降装置 |
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