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JPS6249356A - Masking film and its production - Google Patents

Masking film and its production

Info

Publication number
JPS6249356A
JPS6249356A JP60188928A JP18892885A JPS6249356A JP S6249356 A JPS6249356 A JP S6249356A JP 60188928 A JP60188928 A JP 60188928A JP 18892885 A JP18892885 A JP 18892885A JP S6249356 A JPS6249356 A JP S6249356A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film layer
layer
light
film
protective film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60188928A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noriji Iwai
岩井 紀治
Tetsuya Maekawa
哲也 前川
Shinji Omura
大村 慎次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Shinko Corp
Shinko Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shinko Chemical Co Ltd
Shinko Chemical Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Chemical Co Ltd, Shinko Chemical Industries Co Ltd filed Critical Shinko Chemical Co Ltd
Priority to JP60188928A priority Critical patent/JPS6249356A/en
Publication of JPS6249356A publication Critical patent/JPS6249356A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the title film having both properties of an adhesion to a protective film and a suitable peeling from a base layer by using a plastic film having a specific critical surface tension to the base film layer and the protective film layer respectively. CONSTITUTION:The plastic film having <35dynes/cm the critical surface tension is used to the base film layer, and the plastic film having >=35dynes/cm the critical surface tension is used to the protective film in the masking film 1 laminated a colorless transparent base film layer 4, a sticking agent layer 3 having a shading property and the protective film layer 2 in order. The sticking agent layer having the shading property provided on the protective film layer comprises a sticking composition such as an acrylic resin or a gum and also, a thermoplastic resin having a compatibility and capable of mixing with said sticking composition and having the sticking property may be used. The acrylic sticking composition having the excellent weather ability and sticking property is more preferable.

Description

【発明の詳細な説明】 (a)産業上の利用分野 本発明は、ベースフィルム層、遮光性粘着剤層及び保護
フィルム層を積層させたマスキングフィルム及びその製
造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (a) Field of Industrial Application The present invention relates to a masking film in which a base film layer, a light-shielding adhesive layer and a protective film layer are laminated, and a method for manufacturing the same.

(b)従来の技術 従来、写真製版用の代表的なマスキングフィルムとして
は以下のものが知られている。
(b) Prior Art Conventionally, the following are known as typical masking films for photolithography.

第一 77) ? スキングフイルムとしてはグラシン
紙、ワックスペーパー、塩化ビニルや塩化ビニル系共重
合体をベースとする剥離性シート層上にゴム系の感圧接
着剤を塗布し、マスキング層であるニトロセルロース系
ラッカーを重ね塗りした積層物である(例えば米国特許
第3576491号公報)。
1st 77)? Skinning films are made by applying a rubber-based pressure-sensitive adhesive onto a peelable sheet layer based on glassine paper, wax paper, vinyl chloride or vinyl chloride-based copolymers, and applying a nitrocellulose-based lacquer as a masking layer. It is a multi-coated laminate (for example, US Pat. No. 3,576,491).

・ 第二のマスキングフィルムとしてはポリエチレンテ
レフタレートをベースフィルム層とし、その上に染料入
り塩化ビニルを塗布したものである。
- The second masking film has a base film layer of polyethylene terephthalate, on which dye-containing vinyl chloride is applied.

(c)発明が解決しようとする問題点 しかしながら、第一のマスキングフィルムは作業雰囲気
の温度や湿度の影響を受けて寸法の変化を生じ易く、又
写真原版作成時に使用される光源の熱により伸縮を起こ
し易いなど、耐熱寸法安定性、吸湿寸法安定性に難点が
あった。
(c) Problems to be solved by the invention However, the first masking film is susceptible to dimensional changes due to the influence of the temperature and humidity of the working atmosphere, and also expands and contracts due to the heat of the light source used when creating the photographic original plate. There were problems with heat resistance dimensional stability and moisture absorption dimensional stability.

又、ニトロセルロース系ラッカーの場合、層が比較的厚
いため剥離性シート層との間の厚み及び保護フィルムと
の間の厚みによって写実体との間でズレが生じ、この結
果精密な写実を要する際には不向きな製品であった。
In addition, in the case of nitrocellulose lacquer, since the layer is relatively thick, the thickness between the peelable sheet layer and the protective film causes misalignment between the actual image and the actual object, resulting in the need for precise realism. It was an unsuitable product.

又保護フィルム層より剥離、分離されたベースフィルム
は強度が不充分ケため破断、伸びを起こし易い等の欠点
を持っている。
Furthermore, the base film that has been peeled off and separated from the protective film layer has disadvantages such as insufficient strength and susceptibility to breakage and elongation.

一方、第二のマスキングフィルムは塩化ビニル層を一旦
剥離すると、それを再びベースフィルムに接着させたり
シルクスクリーンや写真版に貼りつけることは事実上不
可能であった。
On the other hand, once the vinyl chloride layer of the second masking film is peeled off, it is virtually impossible to reattach it to the base film or to attach it to a silk screen or photographic plate.

更に、最近では上記の改良タイプと見られるベースフィ
ルム層及び保護フィルム層にポリプロピレンフィルムを
mい、又粘着剤に染料を加えて遮光性粘着剤層としたも
のが市販されているが、ベースフィルム層と保護フィル
ム層が同じフィルムで形成されているから保護フィルム
層をベースフィルム層から剥離させるためにはベースフ
ィルム層に離型処理を施す必要があり、離型処理を施こ
すこ、とにより以下に述べる問題が生じていた。
Furthermore, recently, a light-shielding adhesive layer has been commercially available, which is considered to be an improved type of the above, in which a polypropylene film is used as the base film layer and the protective film layer, and a dye is added to the adhesive to form a light-shielding adhesive layer. Since the layer and the protective film layer are made of the same film, in order to separate the protective film layer from the base film layer, it is necessary to perform a mold release treatment on the base film layer. The following problems arose.

先ず、第一の問題点としては、マスキングフィルムとし
て使用する場合、CADグラフやカットナイフにより、
所定の図案作成のため保護フィルム層よりカットしてい
くがベースフィルム層に離型処理が施されているためカ
ット面に沿って浮きが発生し、写真製版等での端部が不
鮮明になるのであった。
First of all, the first problem is that when using it as a masking film, it is difficult to use a CAD graph or a cut knife.
In order to create a specified design, cutting is done from the protective film layer, but since the base film layer has been subjected to mold release treatment, lifting occurs along the cut surface, and the edges become unclear during photoengraving. there were.

第二の問題点としては、遮光性粘着剤を形成して成る保
護フィルム層をベースフィルム層より剥離したとき、該
遮光性粘着剤層に含まれる染料がベースフィルム屑に転
着し、この結果、ベースフィルムの光線透過性が悪(な
るといった問題があった。
The second problem is that when the protective film layer formed with the light-shielding adhesive is peeled off from the base film layer, the dye contained in the light-shielding adhesive layer is transferred to the base film scraps. However, there was a problem that the light transmittance of the base film was poor.

(d)開運7αを解決するための手段 本発明者らは上記問題点を解決すべく種々検討を重ねた
結果、ベースフィルムlli[フィルム層を明確に分離
°し、上記ベースフィルム屑に臨界表面張力の小さい一
無色透明のプラスチックフィルムを使用し、上記保!l
lフィルム層に臨界表面張力の大きなプラスチックフィ
ルムを用い、これによりて、上記のベースフィルム/l
と保護フィルム層との間において遮光性粘着剤層の接着
力に差異をもたせることを見い出し、本発明を完成する
に至ったものである。
(d) Means for Solving Problem 7α As a result of various studies to solve the above problems, the inventors have found that the base film lli [film layer is clearly separated] and the base film waste has a critical surface. We use a colorless and transparent plastic film with low tension to maintain the above-mentioned properties! l
A plastic film with a large critical surface tension is used for the l film layer, thereby making the above base film/l
The present invention was completed based on the discovery that the adhesive strength of the light-shielding adhesive layer can be differentiated between the light-shielding adhesive layer and the protective film layer.

つまり、遮光性粘着剤層の密着性は、保Fll 7 イ
ルム府とベースフィルム層の各々の臨界表面張力と相関
性があり、この臨界表面張力の差によって保:JLフィ
ルム層への密着性とベースフィルム層力らの適度な剥離
性を両立させることが可能となったものである。
In other words, the adhesion of the light-shielding adhesive layer is correlated with the critical surface tension of the protective film layer and the base film layer, and the difference in critical surface tension makes it possible to improve the adhesion to the protective film layer. This makes it possible to achieve both base film layer strength and appropriate peelability.

即ち、本発明の第一の変曲は無色透明のベースフィルム
層と、遮光性粘着剤層及び保護フィルム層を順次積層し
てなるマスキングフィルムであって、上記ベースフィル
ム層として臨界表面張力が35 dynes/ c11
1未満のプラスチックフィルムを用い且つ上記保、11
!フィルム層として臨界表面張力が35 dynes/
 am以上のプラスチックフィルムを用いることを特徴
とするものである。
That is, the first inflection of the present invention is a masking film formed by sequentially laminating a colorless and transparent base film layer, a light-shielding adhesive layer, and a protective film layer, and the base film layer has a critical surface tension of 35. dynes/ c11
Using a plastic film of less than 1 and the above-mentioned maintenance, 11
! The film layer has a critical surface tension of 35 dynes/
It is characterized by using a plastic film with a rating of am or higher.

以下、本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

上記ベースフィルム層に用いるプラスチックフィルムは
臨界表面張力が35 dynes/ cry未満、特に
臨界表面張力が15〜32 dynes/ ca+が望
ましく・臨界表面張力が15 dynes/ am以下
では遮光性粘着剤層の粘着力を大きくしても剥離性が大
となってマスキングフィルムの取扱い中或は加工中に自
然剥離する場合があり、一方、臨界表面張力が35dy
nes/ amを超えると粘着力を小さくしてもベース
フィルム層への接着性が強くなって遮光性粘着剤層の剥
離性が悪くなるからである。
The plastic film used for the base film layer has a critical surface tension of less than 35 dynes/cry, particularly desirably a critical surface tension of 15 to 32 dynes/ca+. If the critical surface tension is less than 15 dynes/am, the light-shielding adhesive layer may have poor adhesion. Even if the force is increased, the peelability becomes large and the masking film may peel off naturally during handling or processing.On the other hand, when the critical surface tension is 35dy
This is because if it exceeds nes/am, even if the adhesive force is reduced, the adhesiveness to the base film layer will be strong and the releasability of the light-shielding adhesive layer will be poor.

本発明において、臨界表面張力とは、開本面上で液体炭
化水素その他の有機液体化合物の同族列が示す接触角を
θ、その液体の表面張力をγとすると、cosθとγと
の関係は同族体の種類に関せず大体一本の直線となるこ
とが多い。
In the present invention, critical surface tension refers to the relationship between cos θ and γ, where θ is the contact angle exhibited by a homologue of a liquid hydrocarbon or other organic liquid compound on an open book surface, and γ is the surface tension of the liquid. Regardless of the type of congener, it often forms a straight line.

この時θ=0、即ちeO3θ=1に相当するγの値をそ
の固体の臨界表面張力という。
At this time, the value of γ corresponding to θ=0, that is, eO3θ=1, is called the critical surface tension of the solid.

上記ベースフィルム層としては、例えばポリスチレン、
ポリエチレン、ポリビニルブチラール、ポリ弗化ビニル
、ポリ弗化ビニリデン、ポリプロピレン、ポリ弗化エチ
レン等のプラスチックフイルムが挙げられ、これらのプ
ラスチックフィルムのうち要求される臨界表面張力、耐
熱性、耐湿性、寸法安定性等を考慮して適宜選択して使
用される。
As the base film layer, for example, polystyrene,
Examples include plastic films such as polyethylene, polyvinyl butyral, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polypropylene, and polyethylene fluoride. Among these plastic films, there are materials that have the required critical surface tension, heat resistance, moisture resistance, and dimensional stability. They are selected and used as appropriate, taking into account gender, etc.

そして、このベースフィルム層としては延伸、無延伸い
ずれのプラスチックフィルムも使用できるが、フィルム
強度と寸法安定性より2軸延伸したプラスチックフィル
ムが好ましく、又そのI!7さは6〜300μm程度が
好ましく、特に、取扱い性、加工性等の観点から12〜
150μmが望ましい。
Both stretched and unstretched plastic films can be used as this base film layer, but biaxially stretched plastic films are preferred from the viewpoint of film strength and dimensional stability. 7 is preferably about 6 to 300 μm, particularly 12 to 300 μm from the viewpoint of handling, processability, etc.
150 μm is desirable.

又、本発明に用いる保護フィルム層に用いるプラスチッ
クフィルムとしては臨界表面張力が35dynes/c
m以上、特に臨界表面張力が38〜60dy11eS/
Cl11が望ましい。臨界表面張力が35 dynes
/ c m未満では遮光性粘着剤層の粘着力がベースフ
ィルムとほぼ同等となり、この結果、ベースフィルムに
離型処理等が必要になるのであり、一方、臨界表面張力
が60 dynes/ am以上になると均質なプラス
チックフィルムの製造が困難で望ましくないからである
Furthermore, the plastic film used for the protective film layer used in the present invention has a critical surface tension of 35 dynes/c.
m or more, especially critical surface tension of 38 to 60dy11eS/
Cl11 is preferred. critical surface tension is 35 dynes
/ cm, the adhesive strength of the light-shielding adhesive layer becomes almost the same as that of the base film, and as a result, the base film requires release treatment, etc. On the other hand, when the critical surface tension is 60 dynes/am or more, This is because it is difficult and undesirable to produce a homogeneous plastic film.

上記保護フィルムとしては、透明或は半透明のいずれの
プラスチックフィルムも使用できるのであり、例えばポ
リエチレンテレフタレート酸エステル、ポリブチレンテ
レフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリオキ
シベンゾエート、ポリイソブチレンオキサイド等のポリ
エステルフィルムやポリエーテルフィルム、ナイロン6
、ナイロン6.6、ナイロン10、ナイロン11、ナイ
ロン12等のポリアミドフィルム、セルロースアセテー
ト、セルロースブチレート等のセルロース・誘導体フィ
ルム、塩化ビニリデン、塩化ビニル、ポリメタクリル酸
メチル、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリス
ルホン、ポリイミド等のプラスチックフィルムが挙げら
れ、これらのプラスチックフィルムのうち要求される臨
界表面張力、耐熱性、耐湿性、寸法安定性等を考慮して
適宜選択して使用される。
As the protective film, any transparent or translucent plastic film can be used, such as polyester films or polyether films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyoxybenzoate, and polyisobutylene oxide. , nylon 6
, polyamide films such as nylon 6.6, nylon 10, nylon 11, and nylon 12, cellulose derivative films such as cellulose acetate and cellulose butyrate, vinylidene chloride, vinyl chloride, polymethyl methacrylate, polyurethane, polyvinyl alcohol, polysulfone, Examples include plastic films such as polyimide, which are appropriately selected and used in consideration of required critical surface tension, heat resistance, moisture resistance, dimensional stability, etc.

そして、この保護プラスチックフィルムとしては、延伸
、無延伸いずれのプラスチックフィルムも使用できるが
、フィルム強度と寸法安定性より2紬延伸したプラスチ
ックフィルムが好ましく、又その厚さは3〜150μm
程度が好ましく、取扱い性、加工性等の観点から6〜8
0μmが最も望ましい。
As this protective plastic film, either stretched or unstretched plastic film can be used, but a 2-stretched plastic film is preferred from the viewpoint of film strength and dimensional stability, and its thickness is 3 to 150 μm.
The grade is preferably 6 to 8 from the viewpoint of handleability, processability, etc.
0 μm is most desirable.

上記保護フィルム層上に設けられる遮光性粘着剤層とし
ては、アクリル系或はゴム系等の粘着性組成物の池、こ
れと相溶性があり混合して使用できる熱可塑性a(Jl
ffなどで全体として粘着性を有するものが使用できる
が、耐候性と粘着性に優れているアクリル系粘着性組成
物が特に好ましい。
The light-shielding adhesive layer provided on the protective film layer may be an acrylic or rubber-based adhesive composition, or a thermoplastic a (Jl
ff or the like can be used, but an acrylic adhesive composition that has excellent weather resistance and adhesiveness is particularly preferred.

上記粘着性組成物に遮光性を付与するための着色剤とし
ては染料や顔料或は染料と顔料の混合物を使用すること
ができ、染料としては油性染料、育成溶媒可溶性染料、
金属錯塩染料等が例示され、粘着性組成物と良好な相溶
性があり、熱や紫外線に対し色調の変化の少ないものが
好ましいが、マスキングフィルムとして遮光性を満たす
ものであれば染料の色調や構造については、特に限定さ
れるものではない。
A dye, a pigment, or a mixture of a dye and a pigment can be used as a coloring agent for imparting light-shielding properties to the adhesive composition, and examples of the dye include oil dyes, growth solvent-soluble dyes,
Examples include metal complex dyes, which have good compatibility with the adhesive composition and whose color tone does not change much when exposed to heat or ultraviolet rays. The structure is not particularly limited.

上記の粘着剤組成物と着色剤の溶剤としては、アセトン
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ドルオール、
キジロール等が挙げられる・又、上記の保護フィルム層
及び/又は遮光性粘着剤層には、所望により光の反射を
防止する目的でつや消し加工を適宜施したり、或は酸化
防止剤、安定剤、紫外線吸収剤、ブロッキング防止剤及
び帯電防止剤等の配合剤を混合してもよいのである。
Solvents for the above adhesive composition and colorant include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, doluol,
In addition, the above-mentioned protective film layer and/or light-shielding adhesive layer may be appropriately matted to prevent light reflection, or may be treated with antioxidants, stabilizers, etc. Compounding agents such as ultraviolet absorbers, antiblocking agents, and antistatic agents may be mixed.

つや消しとしては粒径10μ論以下の無機系粉末(例え
ば含水シリカ)が挙げられる。つや消し剤の配合量は保
11フィルム又は遮光性粘着剤層の樹脂固形分100重
量部に対して0.5〜5重量部の範囲で添加、混合する
のが好ましい。
As the matting material, inorganic powder (eg, hydrated silica) having a particle size of 10 μm or less can be used. The matting agent is preferably added and mixed in an amount of 0.5 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid resin content of the 11 film or the light-shielding adhesive layer.

上記帯電防止剤としては粘着性組成物に溶解しうるもの
であれば限定されるものではなく、特にカチオン系帯電
防止剤が好ましい。この帯電防止剤としては、例えばア
ルミロイル(炭素数8〜24程度)アミノプロピルジメ
チルヒドロキシエチルアンモニウム、アルキルアミン塩
やfjS4級アンモニウム塩(例えばN 、N 、N 
、Nテトラアルキルでアルキル基はその少なくとも一つ
は炭素数8〜24程度以上のものであり、残りは炭素数
1〜5程度のものである。)などが例示される。
The antistatic agent is not limited as long as it can be dissolved in the adhesive composition, and cationic antistatic agents are particularly preferred. Examples of the antistatic agent include aluminumloyl (about 8 to 24 carbon atoms) aminopropyldimethylhydroxyethylammonium, alkylamine salts, and fjS quaternary ammonium salts (for example, N , N , N
, Ntetraalkyl, and at least one of the alkyl groups has about 8 to 24 carbon atoms, and the remaining ones have about 1 to 5 carbon atoms. ) etc. are exemplified.

帯電防止剤の配合量としては、静電気の発生を防止する
に十分な量であればよく、保護フィルム又は粘着性組成
物の樹脂固形分100重量部に対して1〜10重量部と
するのが好ましい。
The antistatic agent may be added in an amount sufficient to prevent the generation of static electricity, and is preferably 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin solid content of the protective film or adhesive composition. preferable.

又、池の配合剤の配合剤量は、保護フィルム又は粘着性
組成物の樹脂固形分100ff!量部に対して0.1〜
5重量部とするのが好ましい。
In addition, the amount of the compounding agent in the pond is 100ff of the resin solid content of the protective film or adhesive composition! 0.1 to part
Preferably, the amount is 5 parts by weight.

本発明の第二の要りは、本発明のマスキングフィルムの
製造方法に関するものである。
The second aspect of the present invention relates to the method of manufacturing the masking film of the present invention.

以下、これについて詳細に説明する。This will be explained in detail below.

本発明のマスキングフィルムを製造するにあたり、上述
の粘着性組成物を上述の溶剤に溶解して均一な溶液を形
成し、次いで、着色剤や、所望により上述の配合剤を添
加した後、均一になるまで混合する。
In producing the masking film of the present invention, the above-mentioned adhesive composition is dissolved in the above-mentioned solvent to form a uniform solution, and then, after adding the colorant and optionally the above-mentioned compounding agents, the above-mentioned adhesive composition is uniformly dissolved. Mix until combined.

この様にして得られた遮光性粘着組成物溶液を保護フィ
ルム層の片面にロールコータ−や転写法等により塗工、
乾燥し、これによって保護フィルム層の片面に遮光性粘
着剤層を積層する。次いで、この遮光性粘1ffiの露
出面に無色透明のベースフィルム層をその間に気泡が入
らない様に積層してゴム圧着ロールで貼り合わせる。
The light-shielding adhesive composition solution obtained in this way is coated on one side of the protective film layer using a roll coater or a transfer method.
After drying, a light-shielding adhesive layer is laminated on one side of the protective film layer. Next, a colorless and transparent base film layer is laminated on the exposed surface of this light-shielding adhesive 1ffi so that no air bubbles are introduced therebetween, and the film is bonded with a rubber pressure roll.

(e)作用 本発明のマスキングフィルムは無色透明のベースフィル
ム層と保護フィルム層の各々の臨界表面張力に差異を持
たせ、これによって、遮光性粘着M層の接着力がベース
フィルム層より保護フィルム層の方が大きくなるように
したものであり、遮光性粘着層は保護フィルム層に密着
しており、ベースフィルムの接着力は比較的小さいから
、ベースフィルムに剥離処理を施す必要性が全くないと
共に、保護フィルム層の剥離、換言すると遮光性粘着剤
層の剥離に際して、この遮光性粘着剤層の一部がベース
フィルムに残らないといった作用を有するのである。
(e) Effect The masking film of the present invention has a colorless and transparent base film layer and a protective film layer each having a difference in critical surface tension, whereby the adhesive force of the light-shielding adhesive M layer is stronger than that of the base film layer. The light-shielding adhesive layer is in close contact with the protective film layer, and the adhesive strength of the base film is relatively small, so there is no need to perform peeling treatment on the base film. In addition, when the protective film layer is peeled off, in other words, when the light-shielding adhesive layer is peeled off, a part of the light-shielding adhesive layer does not remain on the base film.

又、保v!1フィルム層に密着している遮光性粘着剤層
は柔軟でベースフィルム層に何回も繰り返して貼着でき
、したがって、当該ベースフィルム層を何回もマスキン
グしたり或はシルクスクリーンや写真版に何回も貼り付
ける作用を有するのである。
Also, save! The light-shielding adhesive layer that adheres to one film layer is flexible and can be repeatedly attached to the base film layer, so the base film layer can be masked many times or used for silk screen or photographic printing. It has the ability to be pasted many times.

又、本発明の製造方法によれば、先ず、保:11フィル
ム層に遮光性帖’Rll’fl Wiを形成し、これに
よって保護フィルム層に遮光性粘着剤層を密着させた後
、換言すると、先ず接着力の大きい保護フィルム層に遮
光性粘着剤層を接着した後、この遮光性粘着剤層の露出
面にベースフィルム層を積層するようにしたものである
から、マスキングフィルムの製造中に遮光性粘着剤層の
一部が剥がれる等の問題を生ずることなく品質の安定し
たマスキングフィルムを製造しうる作用を有するのであ
る。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, first, a light-shielding adhesive layer is formed on the protective film layer, and then the light-shielding adhesive layer is brought into close contact with the protective film layer. First, a light-shielding adhesive layer is adhered to a protective film layer with strong adhesive strength, and then a base film layer is laminated on the exposed surface of this light-shielding adhesive layer. This has the effect of producing a masking film of stable quality without causing problems such as part of the light-shielding adhesive layer peeling off.

(r)実施例 以下、本発明を実施例につき詳細に説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。
(r) Examples Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 粘着性組成物としてアクリル酸ブチル85重量部、アク
リロニトリル14重量部、2ヒドロキシ工チルメタクリ
レート1重量部から成る分子量約60万(数平均分子f
f1)のアクリルゴムを用い、こ。
Example 1 An adhesive composition consisting of 85 parts by weight of butyl acrylate, 14 parts by weight of acrylonitrile, and 1 part by weight of 2-hydroxyl methacrylate had a molecular weight of about 600,000 (number average molecular f
f1) using acrylic rubber.

れをメチルエチルケトンに固形分濃度が10重量%にな
るように溶解した。
This was dissolved in methyl ethyl ketone so that the solid content concentration was 10% by weight.

この粘着性組成物溶液に遮光性染料であるスビロンオレ
ンノ2 RH(保硲化学工業社製)8重量部と、カチオ
ン系帯電防止剤であるドデカロイルアミノプロビルノメ
チル−2′−ヒドロキシエチルアンモニウム41fLf
fi部を混合し、均一な溶液になるまで充分に攪拌を行
い、次いで、固形分濃度が6.0重量%なるようににメ
チルエチルヶトンテ希釈して遮光性塗工用溶液とした。
To this adhesive composition solution, 8 parts by weight of Subiron Orenno 2 RH (manufactured by Hosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.), which is a light-shielding dye, and 41 fLf of dodecaroylaminoprobylnomethyl-2'-hydroxyethylammonium, which is a cationic antistatic agent, are added.
fi part was mixed and sufficiently stirred until a homogeneous solution was obtained, and then diluted with methyl ethyl diluted so as to have a solid content concentration of 6.0% by weight to obtain a light-shielding coating solution.

該溶液は温度23℃で粘度が900センチボイズであっ
た。
The solution had a viscosity of 900 centivoids at a temperature of 23°C.

一方、保護フィルム層(2)としては透明で臨界表面張
力が43 dynes/ ce%厚さ25μωの2紬延
伸ポリエステルフイルムを使用し、上記塗工用溶液を片
面にロールコータ−で乾燥後の塗膜の厚さが10μmに
なるように塗工して温度100〜110℃で5分間乾燥
を行った。
On the other hand, as the protective film layer (2), a transparent stretched polyester film with a critical surface tension of 43 dynes/ce% and a thickness of 25 μω was used, and the above coating solution was coated on one side with a roll coater after drying. The film was coated to a thickness of 10 μm and dried at a temperature of 100 to 110° C. for 5 minutes.

このようにして、保護フィルム1vi(2)に予め遮光
性粘着剤WJ(3)を形成した。
In this way, the light-shielding adhesive WJ (3) was previously formed on the protective film 1vi (2).

次ぎに無色透明のベースフィルムA11(4)としては
臨界表面張力が23 dynes/ carで厚さ60
“mtf)ポリプロピレンフィルムを用い、これを上記
保護フィルム層(2)における遮光性粘着剤WJ(3)
の露出面側に貼り合わせて本発明のマスキングフィルム
(1)を得た。
Next, the colorless and transparent base film A11 (4) has a critical surface tension of 23 dynes/car and a thickness of 60 dynes/car.
"mtf" polypropylene film is used as the light-shielding adhesive WJ (3) in the protective film layer (2).
The masking film (1) of the present invention was obtained by laminating it on the exposed side of the film.

比較例 遮光性塗工用溶液として実施例1と同じものを使用し、
保護フィルム層として透明で臨界表面張力が23 dy
nes/ can、厚さ25μmのポリプロピレンフィ
ルムを用い、この保3aフィルム層の片面に、上記遮光
性塗工用溶液をロールコータ−で乾燥後の塗膜厚さが1
0μ鴎になるように塗工して温度100〜110°Cで
5分間乾燥を行った。
Comparative Example The same light-shielding coating solution as in Example 1 was used,
Transparent as a protective film layer with a critical surface tension of 23 dy
Using a polypropylene film with a thickness of 25 μm, apply the above-mentioned light-shielding coating solution to one side of the protective 3a film layer using a roll coater so that the film thickness after drying is 1.
The coating was applied to a coating thickness of 0 μm and dried at a temperature of 100 to 110° C. for 5 minutes.

このようにして、保護フィルム層に遮光性粘着剤層を形
成した。
In this way, a light-shielding adhesive layer was formed on the protective film layer.

次に、無色透明のベースフィルム層としては厚さ60μ
mのポリプロピレンフィルムを使用した。
Next, the colorless and transparent base film layer has a thickness of 60 μm.
m polypropylene film was used.

一方、公知の剥離剤である付加重合型のジメチルポリシ
ロキサンの301fi%トルエン溶液100重量部の固
形分に対し白金触媒(商品名PL−3;信越化学工業社
製)1重量部を添加し、これを均一になるまで攪拌、混
合した後、固形分濃度が3重量%になるまでトルエンで
1 釈−Fる。
On the other hand, 1 part by weight of a platinum catalyst (trade name PL-3; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to the solid content of 100 parts by weight of a 301% toluene solution of addition-polymerized dimethylpolysiloxane, which is a known stripping agent. After stirring and mixing the mixture until it becomes homogeneous, dilute with toluene until the solid content becomes 3% by weight.

上記ベースフィルム層の片面に、上記剥離剤の溶液をキ
スコーターで、乾燥後(固形分)の剥離剤の量が0 、
 1 g/ m2となるように均一に塗工して温度10
0〜110℃で5分間乾燥した。
A solution of the above release agent is applied to one side of the base film layer using a kiss coater, so that the amount of release agent after drying (solid content) is 0.
Apply it evenly so that it is 1 g/m2 and keep it at a temperature of 10
It was dried at 0 to 110°C for 5 minutes.

このベースフィルム層の剥離処理面側に、上記保護フィ
ルム層の遮光性粘着剤層側を貼り合わせて市販品と同柿
なマスキングフィルムを得た。
The light-shielding adhesive layer side of the protective film layer was bonded to the release-treated side of the base film layer to obtain a masking film similar to that of a commercially available product.

実施例2 粘着性組成物としてアクリル酸ブチル85重量部、アク
リロニトリル14重量部、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート1重量部から成る分子量約60万のアクリルゴ
ム90重量部と、塩化ビニル90重量部及び酢酸ビニル
10重量部から成るビニル共重合体(平均重合度750
)10重量部の混合物をメチルエチルケトンに完全に溶
解しく固形分濃度10重量%)、この粘着性組成物溶液
100重1部(固形分)に対して遮光性染料であるスビ
ロンオレンジ2RH(保繕化学工業社g1)8重量部を
配合し均一に混合した。
Example 2 Adhesive composition: 90 parts by weight of acrylic rubber with a molecular weight of approximately 600,000, consisting of 85 parts by weight of butyl acrylate, 14 parts by weight of acrylonitrile, and 1 part by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, 90 parts by weight of vinyl chloride, and vinyl acetate. 10 parts by weight of vinyl copolymer (average degree of polymerization 750
) 10 parts by weight of the mixture was completely dissolved in methyl ethyl ketone (solid content concentration 10% by weight), and the light-shielding dye Subiron Orange 2RH (maintenance dye) was added to 100 parts by weight (solid content) of this adhesive composition solution. 8 parts by weight of Kagaku Kogyo Co., Ltd. g1) were blended and mixed uniformly.

かくして得られた遮光性粘着組成物溶液の固形分100
ffl量部に灯してつや消し剤である平均粒度4μm以
下の含水無晶形二酸化ケイ素(酸化ケイ素含有fi 9
7fi量%以上)1重量部を混合して遮光性塗工用溶液
を得た。
Solid content of the thus obtained light-shielding adhesive composition solution: 100
ffl amount of hydrated amorphous silicon dioxide (silicon oxide containing fi 9
7fi amount% or more) was mixed to obtain a light-shielding coating solution.

次いで、市販のシリコーン処理して成る剥離紙の剥離面
に上記遮光性塗工用溶液を、乾燥後の膜厚が15μm1
となるように、ロールコータ−で塗工して温JR100
〜110 ’Cで5分間乾燥後し、これによって剥離紙
上に遮光性粘着剤RIJ(3)を形成した。
Next, the light-shielding coating solution was applied to the release surface of a commercially available silicone-treated release paper so that the film thickness after drying was 15 μm.
Coat it with a roll coater and apply it with a temperature of JR100.
After drying at ~110'C for 5 minutes, a light-shielding adhesive RIJ (3) was formed on the release paper.

又、保護フィルム層(2)として、透明で、厚さ50μ
mのポリ塩化ビニリデンフィルムを用い、該保護フィル
ム層(2)の片面に、上記遮光性粘着剤層(3)を圧着
して転写し、これによって保護フィルム層(2)の片面
に遮光性粘着耐層(3)を形成した。
In addition, the protective film layer (2) is transparent and has a thickness of 50 μm.
The light-shielding adhesive layer (3) is pressure-bonded and transferred onto one side of the protective film layer (2) using a polyvinylidene chloride film of 100 m, thereby applying the light-shielding adhesive layer (3) to one side of the protective film layer (2). A resistive layer (3) was formed.

一方、無色透明なベースフィルム1(4)として、J’
l’1M100μ鵡のポリフッ化ビニルフィルムを使用
し、このベースフィルム層(4)を上記遮光性粘着層(
3)付き保:11フイルム(2)における当該遮光性粘
着剤Ir3(3)と貼り合わせて本発明の7スキングフ
イルム(1)を得た。
On the other hand, as a colorless and transparent base film 1 (4), J'
A polyvinyl fluoride film of 1M 100 μm is used, and this base film layer (4) is coated with the light-shielding adhesive layer (
3) Bonding: The 7-skin film (1) of the present invention was obtained by laminating it with the light-shielding adhesive Ir3 (3) in the 11 film (2).

上記各実施例及び比較例の各特性結果を第1表に示す。Table 1 shows the characteristic results of each of the above examples and comparative examples.

(以下余白) Pt51表より、本発明のマスキングフィルムはカット
の際に浮きが発生せず、又保護フィルム層を剥離した後
、遮光性粘着剤層がベースフィルム層に残存せず、しか
も再粘着性を有するなど、比較例に比べて優れた特徴を
有することが認められる。
(Margins below) From the Pt51 table, it is clear that the masking film of the present invention does not cause lifting when cut, the light-shielding adhesive layer does not remain on the base film layer after the protective film layer is peeled off, and there is no re-adhesion. It is recognized that the sample has characteristics that are superior to the comparative examples, such as having high properties.

(g)発明の効果 本発明のマスキングフィルムは無色i 明のべ一入フィ
ルム層と保護フィルム層の臨界表面張力に差異を持たせ
、これによって遮光性粘着剤層の接着力がベースフィル
ム層より保護フィルム層の方が大きくなるようにしたも
のであり、この結果、ベースフィルム層に剥離処理を施
す必要がないのであり、又、カッターナイフ等で保護フ
ィルム層に切り目を入れた際、ベースフィルムの浮きの
発生がほとんどない他、保護フィルム層をベースフィル
ム層から剥離したとき、当該ベースフィルム層に遮光性
粘着剤層が残存しないなどの優れた効果を有するのであ
る。
(g) Effects of the Invention The masking film of the present invention has a colorless i-light adhesive film layer and a protective film layer with different critical surface tensions, thereby making the adhesive strength of the light-shielding adhesive layer stronger than that of the base film layer. The protective film layer is made larger, and as a result, there is no need to perform peeling treatment on the base film layer, and when a cut is made in the protective film layer with a cutter knife, etc., the base film In addition to almost no lifting, when the protective film layer is peeled off from the base film layer, it has excellent effects such as no light-shielding adhesive layer remaining on the base film layer.

又、本発明のマスキングフィルムは保1フィルム層を剥
離した後、この保護フィルム層を、再びベースフィルム
層に貼着したり、或はシルクスクリーンや写真版に何回
も貼り付けることができる結果、取り扱い易く、極めて
有用である。
Furthermore, after the masking film of the present invention has been peeled off, the protective film layer can be reattached to the base film layer, or it can be attached to a silk screen or photographic plate many times. , easy to handle and extremely useful.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のマスキングフィルムの要部拡大断面図
である。 (1)・・・マスキングフィルム、(2)・・・保:1
1フィルム層、(3)・・・遮光性粘着剤層、(4)・
・・ベースフィルム層。 第1図 1・−、マスキングフィルム 2−・q伊、省(フィルム屑 3−・−系光赳14A剤層 4−一・・ へ・−スフィIしム屑 手続補正帯(自発) 昭和60年10月16日 特願昭60−188928号 2、 発明の名称 マスキングフィルム及びその製造方法 3、 手続をする者 事件との関係   特許出願人 住 所  福井市二の宮2丁目7番1号名 称   新
興化学工業株式会社 明細書 (1)明細書、第10頁9行目「つや消し」を「つや消
し剤」と訂正する。 (2)同、第15頁3行目[23dynes/ cmJ
を[31dynes/c噛」と訂正する。 (3)同、115i11行目「23 dynes/ c
mJを「31 dynes/ cmJと訂正する。 (4)同、第15頁18行目「ベースフィルム層としで
は」の次に[臨界表面張力が31 dynes/ c+
aで」を加入する。 (5)同、第17頁16行目「透明で、」を[透明で臨
界表面張力が40 dynes/ cn、]と訂正する
。 (6)同、−第18頁2行目「とじて、」の次に「臨界
表面張力28 dynes/ cm、」を加入する。
FIG. 1 is an enlarged sectional view of the main part of the masking film of the present invention. (1)...Masking film, (2)...Holding: 1
1 film layer, (3)...light-shielding adhesive layer, (4)...
...Base film layer. Fig. 1 1・-, Masking film 2-・q Italy, Ministry (Film scrap 3-・- system optical fiber 14A agent layer 4-1... To・-Sfi I system waste procedure correction band (self-motivated) 1988 Patent Application No. 188928 (October 16, 1988) 2, Name of the invention: Masking film and its manufacturing method 3, Relationship with the case of the person conducting the procedure Patent applicant Address: 2-7-1 Ninomiya, Fukui City Name: Shinko Kagaku Kogyo Co., Ltd. Specification (1) In the specification, page 10, line 9, "matting" is corrected to "matting agent." (2) Same, page 15, line 3 [23 dynes/cmJ]
is corrected to [31dynes/c bite]. (3) Same, 115i line 11 “23 dynes/c
Correct mJ to "31 dynes/cmJ." (4) Same, page 15, line 18, "As a base film layer", [critical surface tension is 31 dynes/c+]
Add "a de". (5) Same, page 17, line 16, ``transparent'' is corrected to ``transparent, critical surface tension is 40 dynes/cn,''. (6) Add "critical surface tension 28 dynes/cm," next to "tojite," on the second line of page 18.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)無色透明のベースフィルム層と、遮光性粘着剤層
及び保護フィルム層を順次積層してなるマスキングフィ
ルムであって、上記ベースフィルム層として臨界表面張
力が35dynes/cm未満のプラスチックフィルム
を用い且つ上記保護フィルム層として臨界表面張力が3
5dynes/cm以上のプラスチックフィルムを用い
ることを特徴とするマスキングフィルム。
(1) A masking film formed by sequentially laminating a colorless and transparent base film layer, a light-shielding adhesive layer, and a protective film layer, in which a plastic film with a critical surface tension of less than 35 dynes/cm is used as the base film layer. In addition, the critical surface tension of the protective film layer is 3.
A masking film characterized by using a plastic film of 5 dynes/cm or more.
(2)保護フィルム層に予め遮光性粘着剤層を形成し、
次いで無色透明のベースフィルム層を貼り合わせたこと
を特徴とするマスキングフィルムの製造方法。
(2) Forming a light-shielding adhesive layer on the protective film layer in advance,
A method for producing a masking film, characterized in that a colorless and transparent base film layer is then laminated.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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