JPS6021171Y2 - ラツプ定盤 - Google Patents
ラツプ定盤Info
- Publication number
- JPS6021171Y2 JPS6021171Y2 JP1979040397U JP4039779U JPS6021171Y2 JP S6021171 Y2 JPS6021171 Y2 JP S6021171Y2 JP 1979040397 U JP1979040397 U JP 1979040397U JP 4039779 U JP4039779 U JP 4039779U JP S6021171 Y2 JPS6021171 Y2 JP S6021171Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface plate
- lapping
- metal foil
- lap
- workpiece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はラップ加工に使用するラップ定盤に関する。
精密仕上加工の一種にラップ加工法があるが、これは第
１図に示す如く金属またはアルミナ等の定盤の表面を鏡
のように平らに研摩してラップ定盤１とし、この表面上
に例えばダイヤモンドの砥粒４を塗布し、加工物をその
表面上で摺動させ加工物２を研摩して精密に仕上げるも
のである。
１図に示す如く金属またはアルミナ等の定盤の表面を鏡
のように平らに研摩してラップ定盤１とし、この表面上
に例えばダイヤモンドの砥粒４を塗布し、加工物をその
表面上で摺動させ加工物２を研摩して精密に仕上げるも
のである。
しかしながらこのラップ定盤１は使用してゆくに従って
次第に摩耗して定盤の表面の平面度、面粗度が劣化して
ゆく。
次第に摩耗して定盤の表面の平面度、面粗度が劣化して
ゆく。
定盤の平面度、面粗度が劣化すると、これは加工物の平
面度、面粗度に影響を与えるようになる。
面度、面粗度に影響を与えるようになる。
そこで一定期間毎に定盤の表面を研摩し直して元の良好
な平面度、面粗度の状態に保っておく必要があるが、こ
の作業は高度の熟練と時間を必要とする。
な平面度、面粗度の状態に保っておく必要があるが、こ
の作業は高度の熟練と時間を必要とする。
本考案の目的は以上の問題点を解消するラップ定盤を提
供するもので、平面度良好なる定盤の表面に低粘度の溶
液を塗布し、さらにその上に金属箔を密着させた事を特
徴とするラップ定盤を要旨としている。
供するもので、平面度良好なる定盤の表面に低粘度の溶
液を塗布し、さらにその上に金属箔を密着させた事を特
徴とするラップ定盤を要旨としている。
第２図は本考案の実施例によるラップ定盤斜視図、第３
図は同じく断面図を示す。
図は同じく断面図を示す。
第２図ａまたは第３図ａに示す如く、平面度良好なる定
盤３の中央に低粘度（１５ｍｐ／２０℃以下程度）の溶
液６または混合液（例えばエチルアルコール郭％溶液）
を数滴たらし、この上に数十μｍ以下に加工されたアル
ミ等の金属箔５を被せ圧力を加える等の方法により第１
図または第２図すに示す如く定盤に密着させラップ定盤
１とする。
盤３の中央に低粘度（１５ｍｐ／２０℃以下程度）の溶
液６または混合液（例えばエチルアルコール郭％溶液）
を数滴たらし、この上に数十μｍ以下に加工されたアル
ミ等の金属箔５を被せ圧力を加える等の方法により第１
図または第２図すに示す如く定盤に密着させラップ定盤
１とする。
ここで加工圧力は３ｋｇ／ｃｎ！以下、回転数は１０〜
２０ｒｐｍとする。
２０ｒｐｍとする。
本考案のラップ定盤は以上のような構成なのでラップ定
盤の平面度および面粗度が劣化した場合は表面の金属箔
５を取り換えれば良いのでラップ定盤の管理がきわめて
簡単になる。
盤の平面度および面粗度が劣化した場合は表面の金属箔
５を取り換えれば良いのでラップ定盤の管理がきわめて
簡単になる。
実施例にて説明すると、加工物２の材質が水晶（Ｓｉｎ
２）、使用金属箔５の材質がアルミラム（ＡＩ）、加工
物２の削りしろが０．１朋として、５個程度加工すると
ラップ定盤の平面度が０．５μｍ／φ１０−から１μｍ
／φ１００朋に悪化するが、その時点で金属箔５を交換
すればよい。
２）、使用金属箔５の材質がアルミラム（ＡＩ）、加工
物２の削りしろが０．１朋として、５個程度加工すると
ラップ定盤の平面度が０．５μｍ／φ１０−から１μｍ
／φ１００朋に悪化するが、その時点で金属箔５を交換
すればよい。
交換に要する時間はおよそ５分程度である。
また加工する材質に応じて適切な種類の金属箔を自由に
選択することができる。
選択することができる。
さらに金属箔と定盤の間に薄い液膜があるため適度の弾
性があり、このため加工物の加工途中におけるエツジ欠
等を生じる可能性も少なくなる利点がある。
性があり、このため加工物の加工途中におけるエツジ欠
等を生じる可能性も少なくなる利点がある。
第１図はラップ加工説明図、第２図は本考案の実施例に
よるラップ定盤斜視図、第３図は同じく断面図を示す。 図において１はラップ定盤、 ２は加工物、 ３は 定盤、４は砥粒、５は金属箔、６は低粘度溶液を示す。
よるラップ定盤斜視図、第３図は同じく断面図を示す。 図において１はラップ定盤、 ２は加工物、 ３は 定盤、４は砥粒、５は金属箔、６は低粘度溶液を示す。
Claims (1)
- 平面度良好なる定盤の表面に低粘度の溶液を塗布し、さ
らにその上に金属箔を密着させた事を特徴とするラップ
定盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979040397U JPS6021171Y2 (ja) | 1979-03-28 | 1979-03-28 | ラツプ定盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979040397U JPS6021171Y2 (ja) | 1979-03-28 | 1979-03-28 | ラツプ定盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55142252U JPS55142252U (ja) | 1980-10-11 |
| JPS6021171Y2 true JPS6021171Y2 (ja) | 1985-06-24 |
Family
ID=28909042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1979040397U Expired JPS6021171Y2 (ja) | 1979-03-28 | 1979-03-28 | ラツプ定盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6021171Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2648982B2 (ja) * | 1990-11-27 | 1997-09-03 | 有限会社桐山製作所 | 理化学実験用ガラス器具の摺合せ研磨方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4836352A (ja) * | 1971-09-13 | 1973-05-29 | ||
| JPS4986561A (ja) * | 1972-12-25 | 1974-08-19 | ||
| JPS5094154A (ja) * | 1973-12-14 | 1975-07-26 |
-
1979
- 1979-03-28 JP JP1979040397U patent/JPS6021171Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4836352A (ja) * | 1971-09-13 | 1973-05-29 | ||
| JPS4986561A (ja) * | 1972-12-25 | 1974-08-19 | ||
| JPS5094154A (ja) * | 1973-12-14 | 1975-07-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55142252U (ja) | 1980-10-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0426982B2 (ja) | ||
| JP2745725B2 (ja) | 電解研摩・研削方法及びその装置 | |
| JP3909619B2 (ja) | 磁気ディスク基板の鏡面加工装置及び方法 | |
| JPS63120064A (ja) | 高電力半導体構造要素の半導体基板の縁のくぼみの形成方法 | |
| JPS6021171Y2 (ja) | ラツプ定盤 | |
| JP2000153453A (ja) | ガラス基板の研磨方法 | |
| US2112636A (en) | Method of making piezoelectric units | |
| JPS591161A (ja) | ラツプ定盤及びラツピング加工方法 | |
| JPS58139153A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPS59166464A (ja) | 研磨用定盤およびその製造方法 | |
| JP2001150356A (ja) | 研削装置の鏡面研削用砥石及び鏡面研削方法 | |
| JPH04129660A (ja) | 磁気ディスクおよびその基板の表面加工方法 | |
| JPS59219153A (ja) | 磁気ヘツドの精密研磨加工法 | |
| JPH05208373A (ja) | 切断砥石及び切断方法 | |
| JPS632291Y2 (ja) | ||
| JPS62224565A (ja) | ダイヤモンドの研磨方法 | |
| US3287861A (en) | Abrasive articles and method of making abrasive articles | |
| JPS6035579Y2 (ja) | 渦巻型研磨板 | |
| JP2000153458A (ja) | 両面加工機における砥石定盤の面出し方法及び装置 | |
| JP2846056B2 (ja) | 研削装置および研削方法 | |
| JPH10249625A (ja) | ダイヤモンドコーティングエンドミル及びその製造方法 | |
| JP2000011327A (ja) | 薄膜ヘッドスライダの加工方法及び加工装置 | |
| JPS6040301Y2 (ja) | 印刷機ブランケツトの溝切り装置 | |
| JP2001088016A (ja) | 電気泳動用研磨剤及びこれを用いた成形体の製造方法及び光学装置 | |
| JPS63109975A (ja) | アルミニウム円板の鏡面仕上加工方法 |