JPS60143884A - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
- Publication number
- JPS60143884A JPS60143884A JP25006883A JP25006883A JPS60143884A JP S60143884 A JPS60143884 A JP S60143884A JP 25006883 A JP25006883 A JP 25006883A JP 25006883 A JP25006883 A JP 25006883A JP S60143884 A JPS60143884 A JP S60143884A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- sample
- active oxygen
- solution
- oxygen
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- Pending
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１） 発明の技術分野
本発明は、ガラス基板、ボトマスク、ウェハー等の試料
の洗浄に係り、特に試料を洗浄するＨ ２０２系洗浄液
に遠紫外線を照射するようにした洗浄方法に関する。
の洗浄に係り、特に試料を洗浄するＨ ２０２系洗浄液
に遠紫外線を照射するようにした洗浄方法に関する。
（２） 技術の背景
近年、半導体装置が高築積化となるに伴い、半導体装置
の各製造工程では更に高精度の製造が要求されている。
の各製造工程では更に高精度の製造が要求されている。
前記製造各工程の重要な１つに試料の洗浄工程が有り１
種々の方法がとられている。
種々の方法がとられている。
この種々の洗浄方法には活性酸素を発生させる溶液に試
料を浸漬し、この試料表面に付着している有機系ダスト
を分解、除去するものが有る。しかし前記方法は所定時
間径ると活性酸素が発生しなくなってしまう為に試料が
有効に洗浄されないのが現状となっている。
料を浸漬し、この試料表面に付着している有機系ダスト
を分解、除去するものが有る。しかし前記方法は所定時
間径ると活性酸素が発生しなくなってしまう為に試料が
有効に洗浄されないのが現状となっている。
（３）−従来技術と問題点
従来、試料表面を洗浄する方法の１つに第１図に示す様
な洗浄液１に試料２を浸漬して行なう装置がある。第１
図に於いて、容器３内の洗浄液１例えば過酸化水１（Ｈ
２Ｏ２）にアンモニア（ＮＨａＯＨ）を加えてＨ２Ｏ２
系溶液に洗浄する試料２が浸漬されている。前記過酸化
水素にアンモニアを加え、更に加熱し例えば５０℃なる
一定温度にすることで、活性酸素の原子状酸素（０）が
発生する。活性酸素は試料２表面に付着している有機系
ダストと酸化反応し、この有機系ダストを分解、除去す
る。尚、洗浄液としては過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）に硫酸
（８２８０４）、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）に塩酸（ＨＣ
Ｉ）を加えたＨ２Ｏ２系溶液でも良い。
な洗浄液１に試料２を浸漬して行なう装置がある。第１
図に於いて、容器３内の洗浄液１例えば過酸化水１（Ｈ
２Ｏ２）にアンモニア（ＮＨａＯＨ）を加えてＨ２Ｏ２
系溶液に洗浄する試料２が浸漬されている。前記過酸化
水素にアンモニアを加え、更に加熱し例えば５０℃なる
一定温度にすることで、活性酸素の原子状酸素（０）が
発生する。活性酸素は試料２表面に付着している有機系
ダストと酸化反応し、この有機系ダストを分解、除去す
る。尚、洗浄液としては過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）に硫酸
（８２８０４）、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）に塩酸（ＨＣ
Ｉ）を加えたＨ２Ｏ２系溶液でも良い。
−しかしながら、洗浄液は過酸化水素（Ｈ２０２）に硫
酸（Ｈ２ＳＯ４）、アンモニア（ＮＨａＯＨ）、塩酸（
Ｈｃｌ）を加えて化学反応により活性酸素である原子状
酸素（０）を発生しており。
酸（Ｈ２ＳＯ４）、アンモニア（ＮＨａＯＨ）、塩酸（
Ｈｃｌ）を加えて化学反応により活性酸素である原子状
酸素（０）を発生しており。
この原子状酸素（０）が酸化反応し酸素（０２）に戻っ
てしまい洗浄効果がなくなる問題を有していた。
てしまい洗浄効果がなくなる問題を有していた。
（４） 発明の目的
本発明は上記従来の問題点に鑑み、Ｈ２Ｏ２系溶液の洗
浄液に遠紫外線を照射すること、試料表面の有機系ダス
ト等と反応して出来た酸素（０２）を再分解により活性
酸素とすると共に、活性酸素のエネルギーが高められ、
試料表面の洗浄に寄与する洗浄方法を提供する事を目的
とする。
浄液に遠紫外線を照射すること、試料表面の有機系ダス
ト等と反応して出来た酸素（０２）を再分解により活性
酸素とすると共に、活性酸素のエネルギーが高められ、
試料表面の洗浄に寄与する洗浄方法を提供する事を目的
とする。
（５） 発明の構成
そして、この目的は本発明によれば試料を）Ｉ ２０２
系洗浄液に浸漬し、且つ該Ｈ２Ｏ２系洗浄液に遠紫外線
を照射しながら洗浄を行なうことを特徴とする洗浄方法
を提供する事によって達成される。
系洗浄液に浸漬し、且つ該Ｈ２Ｏ２系洗浄液に遠紫外線
を照射しながら洗浄を行なうことを特徴とする洗浄方法
を提供する事によって達成される。
（６） 発明の実施例
以下本発明の実施例を図面に基づいて詳述する。
第２図は本発明の一実施例の洗浄方法を説明する概略的
構成図である。尚、第１図と同一部分には同一符号を付
し重複説明を省略する。
構成図である。尚、第１図と同一部分には同一符号を付
し重複説明を省略する。
第２図に於いて＋ Ｈ２Ｏ２系溶液の洗浄液１が入る容
器３の周側部には遠紫外線光源４が設けられている。そ
してガラス基板、ホトマスク、ウェハー等の試料２は前
記洗浄液１に浸漬する事により洗浄される。尚１図示し
ないが前記洗浄液１を加熱し、一定に保温する装置が例
えば容器３の周側部に設けられている。
器３の周側部には遠紫外線光源４が設けられている。そ
してガラス基板、ホトマスク、ウェハー等の試料２は前
記洗浄液１に浸漬する事により洗浄される。尚１図示し
ないが前記洗浄液１を加熱し、一定に保温する装置が例
えば容器３の周側部に設けられている。
洗浄液１は過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）に硫酸（Ｈ２ＳＯａ
）あるいはアンモニア（ＮＨａＯＨ）、塩酸（ＨＣＩ）
が加えられ加熱され２例えば５０℃の一定に保温されて
いる。洗浄液１は化学反応し、活性酸素の原子状酸素（
０）を発生させる。そして洗浄液１に浸漬する試料２は
この表面に付着している有機系ダストが活性酸素と酸化
反応により分解、除去されて洗浄される。この時。
）あるいはアンモニア（ＮＨａＯＨ）、塩酸（ＨＣＩ）
が加えられ加熱され２例えば５０℃の一定に保温されて
いる。洗浄液１は化学反応し、活性酸素の原子状酸素（
０）を発生させる。そして洗浄液１に浸漬する試料２は
この表面に付着している有機系ダストが活性酸素と酸化
反応により分解、除去されて洗浄される。この時。
容器３の周側部に設けられている遠紫外線光源４から放
射される遠紫外線は試料２表面に付着している有機系ダ
ストが活性酸素により分解、除去されるのを促進させる
と共に酸化反応で活性酸素が０２ガスと成ったものを再
び活性酸素にする働きをする。従って遠紫外線を照射し
ない場合、洗浄液ｌは化学反応で酸化すると活性酸素を
発生せず。
射される遠紫外線は試料２表面に付着している有機系ダ
ストが活性酸素により分解、除去されるのを促進させる
と共に酸化反応で活性酸素が０２ガスと成ったものを再
び活性酸素にする働きをする。従って遠紫外線を照射し
ない場合、洗浄液ｌは化学反応で酸化すると活性酸素を
発生せず。
試料２の洗浄効果が無くなる。しかしながら、前述した
如く化学反応により活性酸素を得る外に遠紫外線の照射
でこの活性酸素が高エネルギーとなり、更に０２ガスが
再分解されオゾン化することにより活性酸素が得られる
ので、試料２に付着している有機系ダスト等９分解、除
去が速やかに行なわれる。すなわち、長時間洗浄液１を
利用でき。
如く化学反応により活性酸素を得る外に遠紫外線の照射
でこの活性酸素が高エネルギーとなり、更に０２ガスが
再分解されオゾン化することにより活性酸素が得られる
ので、試料２に付着している有機系ダスト等９分解、除
去が速やかに行なわれる。すなわち、長時間洗浄液１を
利用でき。
効果的な洗浄が行なえる。また遠紫外線光源４から放射
される短波長光１Ｂ、４．９ｎｍ、２５３゜７ｎｍ等は
直接試料２表面に付着している有機系高分子ポリマー等
のチェーンを切断し、低分子化とし分解、除去を促進し
ている。一方、洗浄液１に純水、或い゛は他の水溶液と
して有機溶剤（アルコール、ケトン類等）を用いた場合
も、遠紫外線を照射するならば、前述と同じ働きで、こ
の洗浄液１に浸漬した試料表面に付着している有機系高
分子は低分子化とする事ができる。
される短波長光１Ｂ、４．９ｎｍ、２５３゜７ｎｍ等は
直接試料２表面に付着している有機系高分子ポリマー等
のチェーンを切断し、低分子化とし分解、除去を促進し
ている。一方、洗浄液１に純水、或い゛は他の水溶液と
して有機溶剤（アルコール、ケトン類等）を用いた場合
も、遠紫外線を照射するならば、前述と同じ働きで、こ
の洗浄液１に浸漬した試料表面に付着している有機系高
分子は低分子化とする事ができる。
（７） 発明の効果
以上詳細に説明したように９本発明の洗浄方法によれば
、活性酸素のエネルギーを高める事ができ、そしてＨｔ
ＯＲ系溶液の化学反応で発生する活性酸素が酸化反応
等で元に戻った酸素（ｏ２）を再分解し、活性酸素とす
ることができるので。
、活性酸素のエネルギーを高める事ができ、そしてＨｔ
ＯＲ系溶液の化学反応で発生する活性酸素が酸化反応
等で元に戻った酸素（ｏ２）を再分解し、活性酸素とす
ることができるので。
ガラス基板、ホトマスク、ウェハー等の試料を有効に効
率良く洗浄できる効果大なるものがある。
率良く洗浄できる効果大なるものがある。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来の試料洗浄処理方法を説明する概略的構成
図、第２図は本発明の一実施例を説明する概略的構成図
である。 １・・・洗浄液、 ２・・・試料。
図、第２図は本発明の一実施例を説明する概略的構成図
である。 １・・・洗浄液、 ２・・・試料。
Claims (1)
- （１） 試料をＨ２０２系洗浄液に浸漬し、且つ該Ｈ２
Ｏ２系洗浄液に遠紫外線を照射しながら洗−浄を行なう
ことを特徴とする洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25006883A JPS60143884A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25006883A JPS60143884A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60143884A true JPS60143884A (ja) | 1985-07-30 |
Family
ID=17202325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25006883A Pending JPS60143884A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60143884A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60153982A (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-13 | 株式会社東芝 | 表面洗浄方法 |
| JPH04179225A (ja) * | 1990-11-14 | 1992-06-25 | Ebara Res Co Ltd | 洗浄方法 |
| JPH05271973A (ja) * | 1992-03-25 | 1993-10-19 | Orc Mfg Co Ltd | 紫外線洗浄方法 |
-
1983
- 1983-12-28 JP JP25006883A patent/JPS60143884A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60153982A (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-13 | 株式会社東芝 | 表面洗浄方法 |
| JPH04179225A (ja) * | 1990-11-14 | 1992-06-25 | Ebara Res Co Ltd | 洗浄方法 |
| JPH05271973A (ja) * | 1992-03-25 | 1993-10-19 | Orc Mfg Co Ltd | 紫外線洗浄方法 |
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