JPS5988440A - 3−フエノキシベンジル2−(4−アルコキシハロゲノフエニル)−2−メチルプロピルエ−テル類の製造方法 - Google Patents
3−フエノキシベンジル2−(4−アルコキシハロゲノフエニル)−2−メチルプロピルエ−テル類の製造方法Info
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- JPS5988440A JPS5988440A JP19763882A JP19763882A JPS5988440A JP S5988440 A JPS5988440 A JP S5988440A JP 19763882 A JP19763882 A JP 19763882A JP 19763882 A JP19763882 A JP 19763882A JP S5988440 A JPS5988440 A JP S5988440A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式(L )で示す化合物
〔式(1)中、¥1、Y2は水素原子、塩素原子、また
は臭素原子であシ、Yl、Y2の少くとも一つは塩素原
子、または臭素原子である。
は臭素原子であシ、Yl、Y2の少くとも一つは塩素原
子、または臭素原子である。
几は低級アルキル基であり、Xはハロゲン原子である。
〕
と、式(II)で示す化合物、
1
〔式(U)中、X、 、X2は水素原子または弗素原子
である。〕 から、式(■)で示される、3−フェノキシベンジル2
−(4−アルコキシハロゲノフェニル)−2−メチルプ
ロピルエーテル類の製造方法に関する。
である。〕 から、式(■)で示される、3−フェノキシベンジル2
−(4−アルコキシハロゲノフェニル)−2−メチルプ
ロピルエーテル類の製造方法に関する。
〔式(III)中、Y、 、Y2は水素原子、塩素原子
、または臭素原子であシ、Y、 、Y2の少くとも一つ
は塩素原子、または臭素原子である。
、または臭素原子であシ、Y、 、Y2の少くとも一つ
は塩素原子、または臭素原子である。
またRは低級アルキル基であシ、Xs 、X2は水素原
子または弗素原子である。〕 〕最近3−フェノキシベンジルエーテル系誘導の或種の
化合物が極めて高い殺虫、殺ダニ活性を有し、速効性お
よび残効性においても優れた特徴を有し、また人畜に対
しては勿論、魚類等に対しても毒性が低い事が見出され
て、すぐれた害虫防除組成物が提供されている。
子または弗素原子である。〕 〕最近3−フェノキシベンジルエーテル系誘導の或種の
化合物が極めて高い殺虫、殺ダニ活性を有し、速効性お
よび残効性においても優れた特徴を有し、また人畜に対
しては勿論、魚類等に対しても毒性が低い事が見出され
て、すぐれた害虫防除組成物が提供されている。
特開昭56−15.4427公報には、式(N)で示さ
れる3−フェノキシベンジルエーテル系誘導体が開示さ
れておシ、 〔式(W)中、Rはメチル基またはエチル基、R′は水
素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基、R〃はハ
ロゲン原子、または低級アルキル基〕 また、特開昭57−72928公報や特開昭57764
632公報には、上記式(ff)化合物のR′またはR
〃がハロゲン原子や低級アルキル基の外に、低級アルコ
キシ基である化合物や、さらには3−フェノキシベンジ
ル基の夫々のベンゼン核に、ハロゲン原子、などで置換
されていてもよい化合物が開示されている。
れる3−フェノキシベンジルエーテル系誘導体が開示さ
れておシ、 〔式(W)中、Rはメチル基またはエチル基、R′は水
素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基、R〃はハ
ロゲン原子、または低級アルキル基〕 また、特開昭57−72928公報や特開昭57764
632公報には、上記式(ff)化合物のR′またはR
〃がハロゲン原子や低級アルキル基の外に、低級アルコ
キシ基である化合物や、さらには3−フェノキシベンジ
ル基の夫々のベンゼン核に、ハロゲン原子、などで置換
されていてもよい化合物が開示されている。
木発明者らは、上記公報に開示された化合物の中で、式
ff’)中のR′、R“のいずれかが4位に低級アルコ
キノ基を有し、Rがメチル基で示される化合物、即ち4
位を低級アルコキシ基で置換されたネオフィル基を有す
る3−フェノキシベンジルエーテル系化合物が、これら
の化合物の中で1は特に殺虫効果が大きいことを見出し
た。
ff’)中のR′、R“のいずれかが4位に低級アルコ
キノ基を有し、Rがメチル基で示される化合物、即ち4
位を低級アルコキシ基で置換されたネオフィル基を有す
る3−フェノキシベンジルエーテル系化合物が、これら
の化合物の中で1は特に殺虫効果が大きいことを見出し
た。
またその際、3−フェノキンベンジル基の夫々のベンゼ
ン核に弗素原子はあってもよいが、ネオフィル基のベン
ゼン核にハロゲン原子やアルキル基などが置換されてい
れば、そのすぐれた効果が低下することもわかった。即
ち、ネオフィル基のベンゼン核にハロゲン原子やアルキ
ル基ヲ有せずベンゼン核の4位にアルコキシ基のみを有
する式(V)で示す化合物は、特にすぐれた殺虫作用を
有し、 〔式(V)中、R、XI 、X2は式(I)と同じ〕本
発明は、この式(V)化合物の中間体と々る前記式(I
)化合物の製造方法を提供するものである。
ン核に弗素原子はあってもよいが、ネオフィル基のベン
ゼン核にハロゲン原子やアルキル基などが置換されてい
れば、そのすぐれた効果が低下することもわかった。即
ち、ネオフィル基のベンゼン核にハロゲン原子やアルキ
ル基ヲ有せずベンゼン核の4位にアルコキシ基のみを有
する式(V)で示す化合物は、特にすぐれた殺虫作用を
有し、 〔式(V)中、R、XI 、X2は式(I)と同じ〕本
発明は、この式(V)化合物の中間体と々る前記式(I
)化合物の製造方法を提供するものである。
前記特開昭56−154427ほか上記公報には、式(
■)の化合物や、式(V)の化合物も含まれる製造法も
記載されていて、式(■)で示される化合物、またはそ
の塩 〔式(Vl)中、R,R’、R″は前記式(■)と同じ
で、さらにR1またはR2にはアルコキシ基も含まれる
。〕 と、3−フエノキシベンジルノ\ライド類またはアルコ
ール類とを縮合させるか、式(■)で示される化合物、 〔式(■)中、Xは・・ロゲン原子、R,R’、R″は
前記式(■)と同じ〕 と、3−フェノキシベンジルアルコールジメチルスルホ
キシドと苛性ソーダなどの塩基の存在下縮合させること
により得られている。
■)の化合物や、式(V)の化合物も含まれる製造法も
記載されていて、式(■)で示される化合物、またはそ
の塩 〔式(Vl)中、R,R’、R″は前記式(■)と同じ
で、さらにR1またはR2にはアルコキシ基も含まれる
。〕 と、3−フエノキシベンジルノ\ライド類またはアルコ
ール類とを縮合させるか、式(■)で示される化合物、 〔式(■)中、Xは・・ロゲン原子、R,R’、R″は
前記式(■)と同じ〕 と、3−フェノキシベンジルアルコールジメチルスルホ
キシドと苛性ソーダなどの塩基の存在下縮合させること
により得られている。
また、前記公報には式(VI)及び式(■)化合物の製
造方法も記載されているが、式(Vl)の化合物の合成
は反応経路が長く、従って式(VI)化合物を式(V)
化合物の原料とする場合は工業的に不利である。
造方法も記載されているが、式(Vl)の化合物の合成
は反応経路が長く、従って式(VI)化合物を式(V)
化合物の原料とする場合は工業的に不利である。
一方、式(■)の化合物は、例えば以下のような方法
の開示がされているが、式(V)の原料となるR′、J
(、″のいずれかが低級アルコキシ基及び水素原子でち
る化合物の場合、上記(1)の方法では核塩素化反応が
曖先して進行するため目的とする4−アルコキシネオフ
ィルクロライド類は殆んど得られない。壕だ上記(2)
の方法では、多量のオルソ異性体が副生じ且つ効率的に
異性体を分離する事が困難なため高純度の4−アルコキ
シネオフィルクロライド類は極めて低い収率でしか得る
ことが出来ないし、また、得られた、4−アルコキシネ
オフィルクロライド類が不安定な化合物であるため、こ
れの工業的規模での保存、取扱いには多くの困難を伴な
う。
(、″のいずれかが低級アルコキシ基及び水素原子でち
る化合物の場合、上記(1)の方法では核塩素化反応が
曖先して進行するため目的とする4−アルコキシネオフ
ィルクロライド類は殆んど得られない。壕だ上記(2)
の方法では、多量のオルソ異性体が副生じ且つ効率的に
異性体を分離する事が困難なため高純度の4−アルコキ
シネオフィルクロライド類は極めて低い収率でしか得る
ことが出来ないし、また、得られた、4−アルコキシネ
オフィルクロライド類が不安定な化合物であるため、こ
れの工業的規模での保存、取扱いには多くの困難を伴な
う。
以上のことから、前記式(V)化合物を工業的に製造す
るに当り、4−アルコキシネオフィルクロライド類と3
−フェノキシベンジルアルコール類とを直接縮合反応さ
せる方法を採ることは得策ではない。
るに当り、4−アルコキシネオフィルクロライド類と3
−フェノキシベンジルアルコール類とを直接縮合反応さ
せる方法を採ることは得策ではない。
本発明者らは、これらの知見に基づき、式(至)で示さ
れる3−フェノキシベンジル2−(4−アルコキシフェ
ニル)−2−メチルプロビルエーテル類の工業的に安価
な製造方法を鋭意検討した結果、容易に得ることができ
る式(I)で示される化合物から式(V)化合物を得る
方法を完成させ、先に出願した。
れる3−フェノキシベンジル2−(4−アルコキシフェ
ニル)−2−メチルプロビルエーテル類の工業的に安価
な製造方法を鋭意検討した結果、容易に得ることができ
る式(I)で示される化合物から式(V)化合物を得る
方法を完成させ、先に出願した。
該方法は、式(、V )化合物のアルコキシ基に対して
オルソ位の少くとも一つを塩素または臭素原子で置換し
た式(II[)で示される化合物から水素化触媒の存在
下で水素と反応させることにより弗素原子の脱離や、エ
ーテル結合の解裂等の側反応をほとんど伴うことなく、
塩素、臭素原子のみの脱離反応を選択的に行って、式(
V)化合物を高収率で取得する方法である。
オルソ位の少くとも一つを塩素または臭素原子で置換し
た式(II[)で示される化合物から水素化触媒の存在
下で水素と反応させることにより弗素原子の脱離や、エ
ーテル結合の解裂等の側反応をほとんど伴うことなく、
塩素、臭素原子のみの脱離反応を選択的に行って、式(
V)化合物を高収率で取得する方法である。
本発明はその原料となる式(II[)化合物の製造法で
ちる。
ちる。
前記公知の特許公開公報には、式(■)化合物を、上記
したごとく、式(■)化合物と3−フエツキ7ベンジル
アルコール類とを、ジメチルスルホキシドを反応媒体に
使用して苛性ソーダ水溶液の存在下縮合反応させて得る
方法が記載されている、。
したごとく、式(■)化合物と3−フエツキ7ベンジル
アルコール類とを、ジメチルスルホキシドを反応媒体に
使用して苛性ソーダ水溶液の存在下縮合反応させて得る
方法が記載されている、。
しかしながら本発明方法において、式(I)で示される
ようにネオフィル基にアルコキシ基と塩素または臭素原
子で核置換された4−アルコキシネオフィルハロゲニト
誘導体と、式(n)で示される3−フェノキシベンジル
アルコール類とをジメチルスルホキシドを反応媒体に用
いて縮合反応を実施した場合、反応収率が比較的低い。
ようにネオフィル基にアルコキシ基と塩素または臭素原
子で核置換された4−アルコキシネオフィルハロゲニト
誘導体と、式(n)で示される3−フェノキシベンジル
アルコール類とをジメチルスルホキシドを反応媒体に用
いて縮合反応を実施した場合、反応収率が比較的低い。
またさらに重要なことは、縮合反応にジメチルスルホキ
シドなどのような硫黄原子を含む極性溶媒を使用した場
合、縮合反応中に生成した硫黄原子を含む副生成物が、
再結晶精製を行っても式(I)化合物中に微量含有され
ていて、これは水添触媒の存在下、水素化脱ハロゲン工
程で式(V)化合物の目的物を得る際、触媒毒となシ式
(V)化合物の収率が著しく低下する結果となる。
シドなどのような硫黄原子を含む極性溶媒を使用した場
合、縮合反応中に生成した硫黄原子を含む副生成物が、
再結晶精製を行っても式(I)化合物中に微量含有され
ていて、これは水添触媒の存在下、水素化脱ハロゲン工
程で式(V)化合物の目的物を得る際、触媒毒となシ式
(V)化合物の収率が著しく低下する結果となる。
本発明方法はこの知見に基づき、本発明に到達したもの
であシ、式(I)化合物と式(II)化合物の縮合反応
によシ式(I)化合物を製造する際、硫黄原子を含ま々
い非プロトン性極性溶媒の存在下で反応を行う方法であ
る。
であシ、式(I)化合物と式(II)化合物の縮合反応
によシ式(I)化合物を製造する際、硫黄原子を含ま々
い非プロトン性極性溶媒の存在下で反応を行う方法であ
る。
本発明方法において製造される式(IN)化合物の代表
例を示すと以下のとおシである。
例を示すと以下のとおシである。
3−フェノキシベンジル2−(3−クロル−4−メトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−フェ
ノキシベンジル2−(3,5−ジクロル−4−メトキシ
、フェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−フェ
ノキシベンシル2−(3−)oモー 4−メトキシフェ
ニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−7二ノキシ
ー4−フルオロベンジル2−(3−クロル−4−メトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−7エ
ノキシー4−フルオロベンジル2−(3,s−ジクロル
−4−メトキンフェニル)−2−メチルプロピルエーテ
ル、3−7二ノキシー4−フルオロベンジル2−(3−
ブロモー4−メトキンフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)ベンジル2
−(3−クロル−4−メトキシフェニル)−2−メチル
プロピルエーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)ベ
ンジル2−(3,5シクロルー4−メトキシフェニル)
−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フルオロフ
ェノキシ)ベンジル2−(3−ブロモー4−メトキンフ
ェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フ
ルオロフェノキシ)−4−フルオロベンジル2−(3−
クロル−4−メトキシフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)−4−フル
オロベンジル2−(3,5−’:’クロルー4−yt
トキ/フェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−
(4−フルオロフェノキシ)−4−フルオロベンジル2
−(3−ブロモ−4−メトキシフェニル)−2−メチル
プロピルエーテル、3−フエツキシベンジル2−(3−
クロル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピル
ニーチル、3−フェノキシベンジル2 (3,、s−
ジクロル−4−エトキシフェニル)−2−、、+チルプ
ロピルエーテル、3−フェノキシベンジル2−(3−7
’ロモー4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−フェノキシ−4−フルオロベンジル2−
(,3−クロル−4−エトキシフェニル)−2−メチル
プロピルエーテル、3−フェノキシ−4−フルオロベン
ジル2(3,s −シクロルー4−エトキシフェニル)
−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フルオロフ
ェノキシ)ベンジル2−(3−クロル−4−エトキシフ
ェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フ
ルオロフェノキシ)ベンジル2−(3,5−シクロルー
4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテル
、3−(4−フルオロフェノキシ)ベンジル2−(3−
ブロモ−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)−4−フル
オロベンジル2=(3−クロル−4−エトキシフェニル
)−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フルオロ
フェノキシ)−4−フルオロベンジル2−(3,5−ジ
クロル−4−エトキシフェニル−2−メチルプロピルエ
ーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)−4−フルオ
ロベンジル2−(3−ブロモ−4−エトキシフェニル−
2−メチルプロピルエーテル、3−フェノキシ−6−フ
ルオロベンジル2−(3−クロル−4−エトキシフェニ
ル)−2−メチルプロピルエーテル、3−フェノキン−
6−フルオロベンジル2−(3,5−ジクロル−4−エ
トキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−
フェノキシ−6−フルオロベンジル2−(3−フロモー
4−エトキシフェニル)−2−#チルプロピルエーテル
、3−(2−フルオロフェノキシ)ベンジル2−(3−
クロル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−(2−フルオロフェノキシ)ベンジル2
−(3,5−ジクロル−4−エトキシフェニル)−2−
メチルプロピルエーテル、3−(2−フルオロフェノキ
シ)ベンジル2−(3−フロモー4−エトキシフェニル
)−2−メチルプロピルエーテル、3−フェノキシベン
ジル2−1:3−1’ロル−4−(i−プロポキシ)フ
ェニルシー2−メチルプロピルエーテル、3−フェノキ
シベンジル2−(3,5−ジクロル−4−(i −7’
ロポキシ)フェニルクー2−メチルプロピルエーテル、
3−フェノキシベンジル2−〔3−ブロモー4−(1−
プロポキシ)フェニルシー2−メチルプロピルエーテル
、3−フェノキシ−4−フルオロベンジル−2−〔3−
10ルー4−(l−7’ロポキシ)フェニルシー2−メ
チルプロピルエーテル、3−フェノキシ−4−フルオロ
ベンジル2−[3,5−ジクロル−4−(r−7’ロポ
キシ)フェニルシー2−メチルプロピルエーテル、3−
フェノキシ−4−フルオロベンジル2−[3−フロモー
4− (i −7’ロポキシ)フェニルシー2−メチル
グロビルエーテル、3−フェノキシベンジル2−〔3−
クロル−4−(■−メチルプロポキシ)フェニルシー2
−メチルグロビルエーテル、3−フェノキシベンジル2
−(3,5−ジクロル−4−(1−メチルプロポキシ)
フェニルシー2−メチルプロピルエーテル、3−フェノ
キシベンジル2−〔3−ブロモー4−(1−メチルプロ
ポキシ)フェニル〕2−メチルプロピルエーテル、3−
フェノキシベンジル2−[3−クロル−4−(n−ブト
キシ)フェニルシー2−メチルプロピルエーテル、3−
フェノキシベンジル2−〔3,5−ジクロル−4−(n
−ブトキシ)フェニルシー2−メチルグロビルエーテル
、3−フェノキシベンジル2−(3−ブロモ−4−(n
−フトキ/)フェニルヨー2−メチノLプロピルエー
テル、3−フェノキシベンジル2−〔3−クロル−4−
(t−ブトキシ)フェニルシー2−メチルプロピルエー
テル、3−フェノキシベンジル2−(3,5−ジクロル
−4−(t−〕−トキシ)フェニルシー2−メチルプロ
ピルエーテル、3−フェノキシベンジル−2−〔3−ブ
ロモー4−(t−ブトキシ)フェニルクー2−メチルプ
ロピルエーテル、3−フェノキシベンジル2−〔3−ク
ロル−4−’(n−ペンチルオキシ)フェニル)−2−
メチルプロピルエ−テル クロル−4−(n−ペンチルオキシ)フェニル〕−2−
メチルグロビルエーテル、3−フェノキシベンジル2−
〔3−ブロモ−4−(n−ペンチルオキシ)フェニルク
ー2−メチルプロヒ0ルエーテル々どが挙げられる。
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−フェ
ノキシベンジル2−(3,5−ジクロル−4−メトキシ
、フェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−フェ
ノキシベンシル2−(3−)oモー 4−メトキシフェ
ニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−7二ノキシ
ー4−フルオロベンジル2−(3−クロル−4−メトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−7エ
ノキシー4−フルオロベンジル2−(3,s−ジクロル
−4−メトキンフェニル)−2−メチルプロピルエーテ
ル、3−7二ノキシー4−フルオロベンジル2−(3−
ブロモー4−メトキンフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)ベンジル2
−(3−クロル−4−メトキシフェニル)−2−メチル
プロピルエーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)ベ
ンジル2−(3,5シクロルー4−メトキシフェニル)
−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フルオロフ
ェノキシ)ベンジル2−(3−ブロモー4−メトキンフ
ェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フ
ルオロフェノキシ)−4−フルオロベンジル2−(3−
クロル−4−メトキシフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)−4−フル
オロベンジル2−(3,5−’:’クロルー4−yt
トキ/フェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−
(4−フルオロフェノキシ)−4−フルオロベンジル2
−(3−ブロモ−4−メトキシフェニル)−2−メチル
プロピルエーテル、3−フエツキシベンジル2−(3−
クロル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピル
ニーチル、3−フェノキシベンジル2 (3,、s−
ジクロル−4−エトキシフェニル)−2−、、+チルプ
ロピルエーテル、3−フェノキシベンジル2−(3−7
’ロモー4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−フェノキシ−4−フルオロベンジル2−
(,3−クロル−4−エトキシフェニル)−2−メチル
プロピルエーテル、3−フェノキシ−4−フルオロベン
ジル2(3,s −シクロルー4−エトキシフェニル)
−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フルオロフ
ェノキシ)ベンジル2−(3−クロル−4−エトキシフ
ェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フ
ルオロフェノキシ)ベンジル2−(3,5−シクロルー
4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテル
、3−(4−フルオロフェノキシ)ベンジル2−(3−
ブロモ−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)−4−フル
オロベンジル2=(3−クロル−4−エトキシフェニル
)−2−メチルプロピルエーテル、3−(4−フルオロ
フェノキシ)−4−フルオロベンジル2−(3,5−ジ
クロル−4−エトキシフェニル−2−メチルプロピルエ
ーテル、3−(4−フルオロフェノキシ)−4−フルオ
ロベンジル2−(3−ブロモ−4−エトキシフェニル−
2−メチルプロピルエーテル、3−フェノキシ−6−フ
ルオロベンジル2−(3−クロル−4−エトキシフェニ
ル)−2−メチルプロピルエーテル、3−フェノキン−
6−フルオロベンジル2−(3,5−ジクロル−4−エ
トキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテル、3−
フェノキシ−6−フルオロベンジル2−(3−フロモー
4−エトキシフェニル)−2−#チルプロピルエーテル
、3−(2−フルオロフェノキシ)ベンジル2−(3−
クロル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル、3−(2−フルオロフェノキシ)ベンジル2
−(3,5−ジクロル−4−エトキシフェニル)−2−
メチルプロピルエーテル、3−(2−フルオロフェノキ
シ)ベンジル2−(3−フロモー4−エトキシフェニル
)−2−メチルプロピルエーテル、3−フェノキシベン
ジル2−1:3−1’ロル−4−(i−プロポキシ)フ
ェニルシー2−メチルプロピルエーテル、3−フェノキ
シベンジル2−(3,5−ジクロル−4−(i −7’
ロポキシ)フェニルクー2−メチルプロピルエーテル、
3−フェノキシベンジル2−〔3−ブロモー4−(1−
プロポキシ)フェニルシー2−メチルプロピルエーテル
、3−フェノキシ−4−フルオロベンジル−2−〔3−
10ルー4−(l−7’ロポキシ)フェニルシー2−メ
チルプロピルエーテル、3−フェノキシ−4−フルオロ
ベンジル2−[3,5−ジクロル−4−(r−7’ロポ
キシ)フェニルシー2−メチルプロピルエーテル、3−
フェノキシ−4−フルオロベンジル2−[3−フロモー
4− (i −7’ロポキシ)フェニルシー2−メチル
グロビルエーテル、3−フェノキシベンジル2−〔3−
クロル−4−(■−メチルプロポキシ)フェニルシー2
−メチルグロビルエーテル、3−フェノキシベンジル2
−(3,5−ジクロル−4−(1−メチルプロポキシ)
フェニルシー2−メチルプロピルエーテル、3−フェノ
キシベンジル2−〔3−ブロモー4−(1−メチルプロ
ポキシ)フェニル〕2−メチルプロピルエーテル、3−
フェノキシベンジル2−[3−クロル−4−(n−ブト
キシ)フェニルシー2−メチルプロピルエーテル、3−
フェノキシベンジル2−〔3,5−ジクロル−4−(n
−ブトキシ)フェニルシー2−メチルグロビルエーテル
、3−フェノキシベンジル2−(3−ブロモ−4−(n
−フトキ/)フェニルヨー2−メチノLプロピルエー
テル、3−フェノキシベンジル2−〔3−クロル−4−
(t−ブトキシ)フェニルシー2−メチルプロピルエー
テル、3−フェノキシベンジル2−(3,5−ジクロル
−4−(t−〕−トキシ)フェニルシー2−メチルプロ
ピルエーテル、3−フェノキシベンジル−2−〔3−ブ
ロモー4−(t−ブトキシ)フェニルクー2−メチルプ
ロピルエーテル、3−フェノキシベンジル2−〔3−ク
ロル−4−’(n−ペンチルオキシ)フェニル)−2−
メチルプロピルエ−テル クロル−4−(n−ペンチルオキシ)フェニル〕−2−
メチルグロビルエーテル、3−フェノキシベンジル2−
〔3−ブロモ−4−(n−ペンチルオキシ)フェニルク
ー2−メチルプロヒ0ルエーテル々どが挙げられる。
また、本発明方法において原料として用いられる式(1
)で示されるネオフィル基にアルコキシ基と塩素または
臭素原子で核置換された4−アルコキシネオフィルレノ
・ロゲニド誘導体は、ellえは で示される方法に.より、アルコキシ基に対して云う位
にのみ優先的に反応させて、高収率で得ることができる
。また得られた化合物は、4−アルコキシネオフィルク
ロライドのように不安定な化合物でないので3−フェノ
キンベンジルアルコール類との縮合反応、及びその後の
縮合物の精製が有利である。また式(II)で示される
3−フェノキシベンジルアルコール類は、合成ピレスロ
イドのアルコール成分として公知であるか、または文献
記載の公知の方法で製造できる。
)で示されるネオフィル基にアルコキシ基と塩素または
臭素原子で核置換された4−アルコキシネオフィルレノ
・ロゲニド誘導体は、ellえは で示される方法に.より、アルコキシ基に対して云う位
にのみ優先的に反応させて、高収率で得ることができる
。また得られた化合物は、4−アルコキシネオフィルク
ロライドのように不安定な化合物でないので3−フェノ
キンベンジルアルコール類との縮合反応、及びその後の
縮合物の精製が有利である。また式(II)で示される
3−フェノキシベンジルアルコール類は、合成ピレスロ
イドのアルコール成分として公知であるか、または文献
記載の公知の方法で製造できる。
本発明方法において、式(1)化合物と式(4)化合物
との使用割合は、式(4)化合物の3−フェノキシベン
ジルアルコール類1モルに対して式(■)化合物の4−
アルコキシネオンィルハロゲニド誘導体を0.2〜5モ
ル比、好tしくは。、r〜2−・・比が適当であシ、使
用割合がこの範囲をはずれた場合、反応が遅くなシまた
副生物の生成も多くな多収率が低下する。
との使用割合は、式(4)化合物の3−フェノキシベン
ジルアルコール類1モルに対して式(■)化合物の4−
アルコキシネオンィルハロゲニド誘導体を0.2〜5モ
ル比、好tしくは。、r〜2−・・比が適当であシ、使
用割合がこの範囲をはずれた場合、反応が遅くなシまた
副生物の生成も多くな多収率が低下する。
本発明方法において使用される硫黄原子を含まない非プ
ロトン性極性溶媒としては、l、3−ジメチル−2−イ
ミダゾリジノン、N−メチル−2−ピロリドン、テトラ
メチル尿素、ジグライム、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ドなどが挙げられるが、このうち、1,3−ジメチル−
2−イミダゾリジノンを用いた場合は収率も高く、好ま
しい溶媒である。
ロトン性極性溶媒としては、l、3−ジメチル−2−イ
ミダゾリジノン、N−メチル−2−ピロリドン、テトラ
メチル尿素、ジグライム、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ドなどが挙げられるが、このうち、1,3−ジメチル−
2−イミダゾリジノンを用いた場合は収率も高く、好ま
しい溶媒である。
溶媒の使用量としては3−フェノキシベンジルアルコー
ル類1部に対して0.5〜50部、好ましくは2〜20
部が適当である。使用量がこれより少ない場合には反応
が非常に遅くなシ、また、これよシ多い場合にも反応も
遅く生産性が低くなる。
ル類1部に対して0.5〜50部、好ましくは2〜20
部が適当である。使用量がこれより少ない場合には反応
が非常に遅くなシ、また、これよシ多い場合にも反応も
遅く生産性が低くなる。
また、本発明方法において使用される塩基としては具体
的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウムなどの水酸化アルカリ金属、水酸化カルシウム、水
酸化マグネシウムなどの水酸化アルカリ土類金属、水素
化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属、ナトリウムメ
チラート、カリウムエチラート、カリウム1−ブトキシ
ドなどのアルカリ金属アルコラード、酸化ナトリウムな
どのアルカリ金属酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ムなどのアルカリ金属炭酸塩、ナトリウムアミド、ドー
リエテルアミン、ピリジンがあげられ、使用量は3−フ
ェノキシベンフルアルコール誘導体1モルに対して0.
5〜3モル、好ましくは1〜2モルが適当である。使用
量がこれ↓ジ少ない場合には反応率が低く、また多い場
合には副生物の生成が多くな多収率が低下する。
的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウムなどの水酸化アルカリ金属、水酸化カルシウム、水
酸化マグネシウムなどの水酸化アルカリ土類金属、水素
化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属、ナトリウムメ
チラート、カリウムエチラート、カリウム1−ブトキシ
ドなどのアルカリ金属アルコラード、酸化ナトリウムな
どのアルカリ金属酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ムなどのアルカリ金属炭酸塩、ナトリウムアミド、ドー
リエテルアミン、ピリジンがあげられ、使用量は3−フ
ェノキシベンフルアルコール誘導体1モルに対して0.
5〜3モル、好ましくは1〜2モルが適当である。使用
量がこれ↓ジ少ない場合には反応率が低く、また多い場
合には副生物の生成が多くな多収率が低下する。
塩基として水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウムが
望ましく、これらを使用する場合、通常の粒状もしくは
フレーク状の製品、場合によっては微粉状にしたものを
使用すると反応が速くな多収率が向上するので、固体状
アルカリの使用が好ましい。反応系中の水分は反応開始
時で溶媒に対して10%以下、好ましくは3条以下で実
施するのが適当であυ、場合によっては反応の途中でト
ルエンもしくはキシレンで共沸脱水することが有効でお
る。
望ましく、これらを使用する場合、通常の粒状もしくは
フレーク状の製品、場合によっては微粉状にしたものを
使用すると反応が速くな多収率が向上するので、固体状
アルカリの使用が好ましい。反応系中の水分は反応開始
時で溶媒に対して10%以下、好ましくは3条以下で実
施するのが適当であυ、場合によっては反応の途中でト
ルエンもしくはキシレンで共沸脱水することが有効でお
る。
本発明の一般的な実施態様は次の通シである。
4−アルコキシネオフイルノ・ロゲニド誘導体、3−フ
ェノキシベンジルアルコール類、塩基および硫黄原子を
含まない非プロトン性極性溶媒を反応容器に入れ、5a
Cないし沸点、好ましくは80Cないし沸点(ただし、
沸点が200Cをこえる場合は80〜200tZ’)に
加熱、同温度で0.5〜50時間、好ましくは3〜30
時間かきまぜる。室温まで冷却した後、不溶の無機塩を
炉別。P液から減圧蒸留によって溶媒を追い出し、残渣
を水洗、脱水して目的の3−フェノギン2−(4−アル
コキシ−3−ハロケノフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル類マたU3−(4−アルコキシ−3,5−ジハ
ロゲノフェニル)−2−メチルプロピルエーテル類カ得
られる。これを減圧蒸留もしくはカラムクロマトグラフ
ィーによって精製を行い必要ならさらに再結晶に付す。
ェノキシベンジルアルコール類、塩基および硫黄原子を
含まない非プロトン性極性溶媒を反応容器に入れ、5a
Cないし沸点、好ましくは80Cないし沸点(ただし、
沸点が200Cをこえる場合は80〜200tZ’)に
加熱、同温度で0.5〜50時間、好ましくは3〜30
時間かきまぜる。室温まで冷却した後、不溶の無機塩を
炉別。P液から減圧蒸留によって溶媒を追い出し、残渣
を水洗、脱水して目的の3−フェノギン2−(4−アル
コキシ−3−ハロケノフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル類マたU3−(4−アルコキシ−3,5−ジハ
ロゲノフェニル)−2−メチルプロピルエーテル類カ得
られる。これを減圧蒸留もしくはカラムクロマトグラフ
ィーによって精製を行い必要ならさらに再結晶に付す。
このようにして得られた式CM)化合物は、脱ハロゲン
化させるため、接触水素化工程に付され、式(V)の化
合物が得られる。
化させるため、接触水素化工程に付され、式(V)の化
合物が得られる。
接触水素化法は、ラネーニッケル等のニッケル系、パラ
ジウム炭素等のパラジウム系や白金系などの通常接触水
素化反応に用いられている触媒の存在下、水素を常圧ま
たは加圧下゛に所定温度で添加して式(III)化合物
を水素と反応せしめたのち、反応混合物から適当な分離
方法によって式(八〇で示される化合物を得る。
ジウム炭素等のパラジウム系や白金系などの通常接触水
素化反応に用いられている触媒の存在下、水素を常圧ま
たは加圧下゛に所定温度で添加して式(III)化合物
を水素と反応せしめたのち、反応混合物から適当な分離
方法によって式(八〇で示される化合物を得る。
本発明方法で得られた式(1)化合物は硫黄原子を含有
する化合物は全く含有されていないので、接触水素化反
応工程でも触媒が失活することなく高収率で式(V)化
合物を得ることができる。
する化合物は全く含有されていないので、接触水素化反
応工程でも触媒が失活することなく高収率で式(V)化
合物を得ることができる。
以上のように、本発明方法は、式(N)で示される化合
物よr、式(V)で示す化合物を製造することを目的と
して、式(I)で示す化合物と式(II)で示される化
合物よシ式(Iff)化合物を得る製造方法であるが、
例えば式(W)で示される化合物などにも適用できるこ
とは勿論である。
物よr、式(V)で示す化合物を製造することを目的と
して、式(I)で示す化合物と式(II)で示される化
合物よシ式(Iff)化合物を得る製造方法であるが、
例えば式(W)で示される化合物などにも適用できるこ
とは勿論である。
以下実施例を示す。
実施例1
3−フェノキシベンジル2’ −(3−クロル−4−エ
トキシフェニル)−z−メチルグロビルエーテルの合成 5A12qツロ7ラスコに1,3−ジノ−1F−ルー2
−イミダゾリジノン(以後DMIと略称)3z (3,
156y )、2−(3−クロル−4−エトキシフェニ
ル)−2−メチルプロピルクロライド618.02(2
,50モル)、m−フェノキシベンジルアルコールL2
51.0f(6,25モル)およびフレーク状苛性カリ
280.0 ? (5,00−Eル)を装入し、窒素気
流下に1200で15時間保温攪拌し反応をボ冬了した
。
トキシフェニル)−z−メチルグロビルエーテルの合成 5A12qツロ7ラスコに1,3−ジノ−1F−ルー2
−イミダゾリジノン(以後DMIと略称)3z (3,
156y )、2−(3−クロル−4−エトキシフェニ
ル)−2−メチルプロピルクロライド618.02(2
,50モル)、m−フェノキシベンジルアルコールL2
51.0f(6,25モル)およびフレーク状苛性カリ
280.0 ? (5,00−Eル)を装入し、窒素気
流下に1200で15時間保温攪拌し反応をボ冬了した
。
反応マスを室温まで冷却した後、不溶物を減圧濾過、泥
液をDMI 300m(320F−)で洗浄し母洗液
5,2L5rを得た。次に、得られた母洗液から、減圧
蒸留にてDMI3、274 f?回収し、無機物を含ん
だ残留物1、845 fを得た。次いで、反応中に副生
ずる、3−フェノキシベンジル2(3−り。
液をDMI 300m(320F−)で洗浄し母洗液
5,2L5rを得た。次に、得られた母洗液から、減圧
蒸留にてDMI3、274 f?回収し、無機物を含ん
だ残留物1、845 fを得た。次いで、反応中に副生
ずる、3−フェノキシベンジル2(3−り。
ルー4−ヒドロキシフェニル−)−2−メチルグロビル
エーテル(脱エチル体)ヲエチル化して回収するため、
この残留物を5tの四ツロフラスコに水3,000mJ
と共に装入し、50Cでジエチル硫酸38.5 f (
0,25mole)を1時間で滴下装入し、同温で1時
間保温攪拌した後、過剰のジエチル硫酸を分解する目的
で90C!f、で昇温し、同温で2時間保温攪拌した。
エーテル(脱エチル体)ヲエチル化して回収するため、
この残留物を5tの四ツロフラスコに水3,000mJ
と共に装入し、50Cでジエチル硫酸38.5 f (
0,25mole)を1時間で滴下装入し、同温で1時
間保温攪拌した後、過剰のジエチル硫酸を分解する目的
で90C!f、で昇温し、同温で2時間保温攪拌した。
反応マスを50C″!、で冷却の後、濃塩酸307を加
え、PH3〜4とした後静置分液し、下層のオイル層を
水3tを用い50cで洗浄し、この洗浄の操作をさらに
2回繰返し得られる水を含んだ油状物をエバポレーター
で減圧下に脱水し、1.774. ?の残留物を得た。
え、PH3〜4とした後静置分液し、下層のオイル層を
水3tを用い50cで洗浄し、この洗浄の操作をさらに
2回繰返し得られる水を含んだ油状物をエバポレーター
で減圧下に脱水し、1.774. ?の残留物を得た。
上記残留物はスミス式薄膜蒸留装置を用い、低沸部の未
反応原料を除く目的で減圧蒸留しく 210 tZ’
/ 0.1 mmHg )低沸部990@と高沸部77
0?に分離した。
反応原料を除く目的で減圧蒸留しく 210 tZ’
/ 0.1 mmHg )低沸部990@と高沸部77
0?に分離した。
上記高沸部770iPとメタノール1.540 +nt
の混合溶液を一1ociで冷却し、同温で2時間攪拌し
、晶析濾過乾燥し結晶を得た。
の混合溶液を一1ociで冷却し、同温で2時間攪拌し
、晶析濾過乾燥し結晶を得た。
この結晶は、内部標準法ガスクロマトグラフィーによる
分析の結果、3−フェノキシベンジル2−(3−クロル
−4−エトキシフェニル)−2−メチルグロビルエーテ
ル96.3%。
分析の結果、3−フェノキシベンジル2−(3−クロル
−4−エトキシフェニル)−2−メチルグロビルエーテ
ル96.3%。
異性体の3−フェノキシベンジル2−(3−り0 /L
、 −4−エトキシフェニル)−1,1−)メチルエチ
ルエーテル0.6%を含んでいた。
、 −4−エトキシフェニル)−1,1−)メチルエチ
ルエーテル0.6%を含んでいた。
結晶の収量869.5F、収率81.5%この結晶の凝
固点、元素分析値、NMRスペクトルを示すと次の通シ
であった。
固点、元素分析値、NMRスペクトルを示すと次の通シ
であった。
凝 固 点 42.2p
元素分析値 C2i I(4q CL O30HC1
理論値 73,62 6,62 8.63実測値 73
.75 6.55 8.33HMRスペクトル δ C
DC,’−31,25(6H,s)、1.2(3H,t
)、3.36 (2H,s )、3,92(8H,q)
、4.2 (2H,s)、6.6〜7.4 (12H,
m) ppm実施例2 3−フェノキシベンジル2−(3−クロル二4−エトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテルの合成 2tのフラスコに、N−メチル−2−ピロリドン300
づ、2−(3−クロル−4−エトキシフェニル)−2−
メチルプロピルクロライド6t、7y(o、zsモル)
フレーク状苛性カリ28.07(0,50モル)および
m−フェノキシベンジルアルコール125.14(0,
625−1=−ル)を装入し窒素気流下1,400で1
0時間保温攪拌し反応を終了した。
.75 6.55 8.33HMRスペクトル δ C
DC,’−31,25(6H,s)、1.2(3H,t
)、3.36 (2H,s )、3,92(8H,q)
、4.2 (2H,s)、6.6〜7.4 (12H,
m) ppm実施例2 3−フェノキシベンジル2−(3−クロル二4−エトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテルの合成 2tのフラスコに、N−メチル−2−ピロリドン300
づ、2−(3−クロル−4−エトキシフェニル)−2−
メチルプロピルクロライド6t、7y(o、zsモル)
フレーク状苛性カリ28.07(0,50モル)および
m−フェノキシベンジルアルコール125.14(0,
625−1=−ル)を装入し窒素気流下1,400で1
0時間保温攪拌し反応を終了した。
反応マスを室温まで冷却後、5%−塩酸水1tに排出し
、油状物をベンゼン500−で抽出した。ベンゼン層を
600艷の水で3回洗浄した後、無水芒硝で脱水し、ベ
ンゼンを減圧下に留去して油状物187.92を得た。
、油状物をベンゼン500−で抽出した。ベンゼン層を
600艷の水で3回洗浄した後、無水芒硝で脱水し、ベ
ンゼンを減圧下に留去して油状物187.92を得た。
このものの、内部標準法ガスクロマトグラフィーによる
分析の結果では、3−フェノキシベンジル2−(3−ク
ロル′″−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテルが32.8チ、含まれていた。(収率60.
0%)上記油状物10.Ofをシリカゲルによるカラム
クロマトグラフィーで分離・精製し2.97の精製品(
結晶)を得た。
分析の結果では、3−フェノキシベンジル2−(3−ク
ロル′″−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテルが32.8チ、含まれていた。(収率60.
0%)上記油状物10.Ofをシリカゲルによるカラム
クロマトグラフィーで分離・精製し2.97の精製品(
結晶)を得た。
この結晶の凝固点、元素分析値、NMRスペクトルを示
すと次の通シであった。
すと次の通シであった。
凝 固 点 41.5r
元素分析値 02. H27CL 030 H
,C1 理論値 73.62 6.62 8.63実測値 73
.53 6.75 8.71N M Rスペクトル 実
施例−1の値と同様。
,C1 理論値 73.62 6.62 8.63実測値 73
.53 6.75 8.71N M Rスペクトル 実
施例−1の値と同様。
実施例3
3−フェノキシ−4−フルオロベンジル2−(3−クロ
ル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピルエー
テルの合成 100m/!のフラスコに1.3−ジメチル−2−1゛
ミダゾリジノン30!、2−(3−クロル−4−エトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルクロライド6.2i
i’(0,025モル)3−フェノキシ−4−フルオロ
ベンジルアルコ−ル 状苛性力+)2.2’y(。、昔−e yv )を装入
し、窒素気流下120Cで15時間保温攪拌し反応を終
了した。
ル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピルエー
テルの合成 100m/!のフラスコに1.3−ジメチル−2−1゛
ミダゾリジノン30!、2−(3−クロル−4−エトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルクロライド6.2i
i’(0,025モル)3−フェノキシ−4−フルオロ
ベンジルアルコ−ル 状苛性力+)2.2’y(。、昔−e yv )を装入
し、窒素気流下120Cで15時間保温攪拌し反応を終
了した。
反応マスを室温まで冷却した後、5%−塩酸水200T
nIVに排出し、油状物をベンゼン100iで抽出した
。ベンゼン層を100−の水で3回洗浄した後、無水芒
硝で脱水し、べ/ゼンを減圧下に留出して油状物13.
82を得た。
nIVに排出し、油状物をベンゼン100iで抽出した
。ベンゼン層を100−の水で3回洗浄した後、無水芒
硝で脱水し、べ/ゼンを減圧下に留出して油状物13.
82を得た。
このものの内部標準法ガスクロマトグラフィーによる分
析の結果では、3−フェノキシ−4−フルオロベンジル
2−(3−クロル−4−411ジフエニル)−2−メf
ルプロピルエーテル62.4%含まれていた。(収率8
0.5%)上記油状物をシリカゲルによるカラムクロト
グラフィーで分離精製し、7.31の精製品(油状物)
を得た。
析の結果では、3−フェノキシ−4−フルオロベンジル
2−(3−クロル−4−411ジフエニル)−2−メf
ルプロピルエーテル62.4%含まれていた。(収率8
0.5%)上記油状物をシリカゲルによるカラムクロト
グラフィーで分離精製し、7.31の精製品(油状物)
を得た。
この油状物の屈折率、元素分析値、NMRスペクトルを
示すと次の通ってあった。
示すと次の通ってあった。
n腎0 1.1576
元素分析値 C 25 H 26 CtF ’0 3
0 H Ot F 理論値 70,01 6.11 8.26’ 4.43
計算値 70.12 6.00 8.58 4.21H
MRスペクトル δODOt3 1、2 7 ( 6H. s )、1.4 2 (3H
. t)、3.3 0 (2H. s )、4.05(
2H.q)、4.3 4 ( 2H. s )、6.6
〜7.4 (11H.m) ppm実施例4 3−フェノキシベンジル2−(3−ブロモ−4−エトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテルの合成 100mlのフラスコに、1.3−ジメチル−2−イミ
ダゾリジノン30fn1.、2−(3−ブロモ−4−工
)・キシフェニル) − 2−メチルプロピルクロライ
ド7、3r(0.025モル)、m−フェノキシベンジ
ルアルコール8.52(0.039モル)およびフレー
ク状苛性カリ2’.2 P (o.o 3 9モル)を
装入し、窒素気流下120Cで15時間保温攪拌し反応
を終了した。
0 H Ot F 理論値 70,01 6.11 8.26’ 4.43
計算値 70.12 6.00 8.58 4.21H
MRスペクトル δODOt3 1、2 7 ( 6H. s )、1.4 2 (3H
. t)、3.3 0 (2H. s )、4.05(
2H.q)、4.3 4 ( 2H. s )、6.6
〜7.4 (11H.m) ppm実施例4 3−フェノキシベンジル2−(3−ブロモ−4−エトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテルの合成 100mlのフラスコに、1.3−ジメチル−2−イミ
ダゾリジノン30fn1.、2−(3−ブロモ−4−工
)・キシフェニル) − 2−メチルプロピルクロライ
ド7、3r(0.025モル)、m−フェノキシベンジ
ルアルコール8.52(0.039モル)およびフレー
ク状苛性カリ2’.2 P (o.o 3 9モル)を
装入し、窒素気流下120Cで15時間保温攪拌し反応
を終了した。
反応マスを室温まで冷却した後、5%−塩酸水200m
1に排出し、油状物をベンゼン10014.2fを得た
。
1に排出し、油状物をベンゼン10014.2fを得た
。
このものの内部標準法ガスクロマトグラフィーによる分
析の結果では、3−フェノキシベンジル2−(3−ブロ
モ−4−エトキンフェニル) −2−、’ fルプロピ
ルエーテル7): s 8.3係含まれていた。(収率
72.7%)。上記油状物をシリカゲルにょるカラムク
ロマトグラフィーで分離精製し、8.81の精製品(油
状物)を得た。
析の結果では、3−フェノキシベンジル2−(3−ブロ
モ−4−エトキンフェニル) −2−、’ fルプロピ
ルエーテル7): s 8.3係含まれていた。(収率
72.7%)。上記油状物をシリカゲルにょるカラムク
ロマトグラフィーで分離精製し、8.81の精製品(油
状物)を得た。
この油状物の元素分析値、NMRスペクトルを示すと次
の通シであった。
の通シであった。
元素分析値 02iH27Br 03HBrct
理論値 65.935.9917.5510.54計算
値 65.655.8217.6510.62HMRス
ペクトル δCD0t3 1.26 (6H,s)、1.2 (3H,t)、3.
35 (2H,s )、3.92(8H,q)、4.4
(2H,s )、6’;〜7.4(12H,m) p
pm考例1 1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI’)
溶媒を用゛いて合成した工3−フェノキシベンジル2−
(3−クロル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプ
ロピルエーテルの水素化脱クロル反応例。
値 65.655.8217.6510.62HMRス
ペクトル δCD0t3 1.26 (6H,s)、1.2 (3H,t)、3.
35 (2H,s )、3.92(8H,q)、4.4
(2H,s )、6’;〜7.4(12H,m) p
pm考例1 1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI’)
溶媒を用゛いて合成した工3−フェノキシベンジル2−
(3−クロル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプ
ロピルエーテルの水素化脱クロル反応例。
500rn!、オートクレーブに、実施例1で得られた
3−フェノキシベンジル2−(3−クロル−4−エトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテル60.0?
(0,14,6モル)、フレーク状苛性ソーダ−7,5
f(0,188モル)、5乃−パラジウム炭素(50襲
wet)2.4グ、メタノール108−および水36ゴ
を装入し、密封後内部を窒素置換して次いで水素を3
Kg (cA Gまア充填し、内お□□。0で水素を8
〜10 Kg / crl Gで補充しつつ12時間加
熱攪拌して反応を終了した。
3−フェノキシベンジル2−(3−クロル−4−エトキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテル60.0?
(0,14,6モル)、フレーク状苛性ソーダ−7,5
f(0,188モル)、5乃−パラジウム炭素(50襲
wet)2.4グ、メタノール108−および水36ゴ
を装入し、密封後内部を窒素置換して次いで水素を3
Kg (cA Gまア充填し、内お□□。0で水素を8
〜10 Kg / crl Gで補充しつつ12時間加
熱攪拌して反応を終了した。
反応液を室温まで冷却した後、残圧を開放しオートクレ
ーブ内にベンゼン120mを加を油層を溶解した。次に
不溶物を流去し、ベンゼン30m1で洗浄して得られる
母洗液をよく振とう後、静置分液してベンセン層を得た
。
ーブ内にベンゼン120mを加を油層を溶解した。次に
不溶物を流去し、ベンゼン30m1で洗浄して得られる
母洗液をよく振とう後、静置分液してベンセン層を得た
。
引き続きベンゼン層を水120m1で3回洗浄分液の後
、ベンゼンを減圧下に留去して、油状物を得た。
、ベンゼンを減圧下に留去して、油状物を得た。
この油状物は、内部標準法ガスクロマトグラフィー分析
の結果、3−フェノキ/ベンジル2−(4−エトキシフ
ェニル)−2−メチルプロピルエーテル97.3%、お
よび未反応原料の3−フェノキシベンジル2−(3−ク
ロル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピルエ
ーテル0.4%を含んでおシ、エーテル結合開裂による
、3−フェノキシトルエンおよび、4−エトキシネオフ
ィルアルコールは夫々0.2%以下であった。
の結果、3−フェノキ/ベンジル2−(4−エトキシフ
ェニル)−2−メチルプロピルエーテル97.3%、お
よび未反応原料の3−フェノキシベンジル2−(3−ク
ロル−4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピルエ
ーテル0.4%を含んでおシ、エーテル結合開裂による
、3−フェノキシトルエンおよび、4−エトキシネオフ
ィルアルコールは夫々0.2%以下であった。
油状物の収量 54.3グ、収率96.1%この油状物
の凝固点、元素分析値、NMRスペクトルを示すと次の
通シであった。
の凝固点、元素分析値、NMRスペクトルを示すと次の
通シであった。
凝固点 31.4c
元素分析値 025H2803
0H
理論値 79.75 7.50
実測値 79.83 7.7O
N M Rスペクトル δCDCt3
1.25 (6H,s )、1.3 (3H,t)、3
.35(2H,s)、3.92(81−T、q)、4.
2 (2H,s )、6.6〜7.4 (13H,m)
ppm参考例2 ジメチルスルホキサイド(DMso)!媒を用いて合成
した3−フェノキシベンジル2−(3−10ルー4−エ
トキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテルの水素
化脱クロル反応例。
.35(2H,s)、3.92(81−T、q)、4.
2 (2H,s )、6.6〜7.4 (13H,m)
ppm参考例2 ジメチルスルホキサイド(DMso)!媒を用いて合成
した3−フェノキシベンジル2−(3−10ルー4−エ
トキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテルの水素
化脱クロル反応例。
500−オートクレーブに、DMIに替えてジメチルス
ルホキサイド溶媒を用いたほかは、実施例と全く同様な
方法で合成した、3−フェノキシベンジル2− (3−
1’ロルー4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテル60.Or (o、 146モル)、フレー
ク状苛性ソーダ7.52(o、tssモル)、5%−パ
ラジウム炭素(50%wet ) 18.Of、メタノ
ール108彪および水36qlを装入し、密封後内部を
窒素置換して次いで水素を8Kg/ eta Gまで充
填し、内温110Cで水素を8〜10 Kg / cr
lGで補充しつつ12時間加熱攪拌して反応を終了した
。
ルホキサイド溶媒を用いたほかは、実施例と全く同様な
方法で合成した、3−フェノキシベンジル2− (3−
1’ロルー4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテル60.Or (o、 146モル)、フレー
ク状苛性ソーダ7.52(o、tssモル)、5%−パ
ラジウム炭素(50%wet ) 18.Of、メタノ
ール108彪および水36qlを装入し、密封後内部を
窒素置換して次いで水素を8Kg/ eta Gまで充
填し、内温110Cで水素を8〜10 Kg / cr
lGで補充しつつ12時間加熱攪拌して反応を終了した
。
反応液を室温まで冷却した後、残圧を開放し、オートク
レーブ内にベンゼン120艷を加え油層を溶解した。次
に不溶物を戸去し、ベンゼン30mAで洗浄して得られ
る母洗液をよく振とう後、静置分液してベンゼン層を得
た。
レーブ内にベンゼン120艷を加え油層を溶解した。次
に不溶物を戸去し、ベンゼン30mAで洗浄して得られ
る母洗液をよく振とう後、静置分液してベンゼン層を得
た。
この油状物は、内部標準法ガスクロマトグラフィー分析
の結果、3−フェノキシベンジル2−(4−エトキシフ
ェニル)−2−/チルプロピルエーテル42.5%、未
反応原料の3−フェノキシベンジル2−(3−クロル−
4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテル
56.8%を含んでいた。
の結果、3−フェノキシベンジル2−(4−エトキシフ
ェニル)−2−/チルプロピルエーテル42.5%、未
反応原料の3−フェノキシベンジル2−(3−クロル−
4−エトキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテル
56.8%を含んでいた。
油状物の収量58.2%、収率45.θ%特許出願人
三井東圧化学株式会社 手続補正書(自発〕 昭和92年 3月22−日 特許庁長官 殿 ■ 事件の表示 昭和57年特許M第197638号 2 発明の名称 璽゛・ ≦ニ′・ノ °−“′1′”>’))Iy2−C′−
″”朴し′ 7、ロゲ、フェニ/Lz ) −
2−メチ2.プ。ピッ2エーテル類の製造方法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 6、補正の内容 (1)明細書24頁、下から2行、〜25頁、3行、「
次いで、・・・・・回収するため、」迄を以下のように
訂正する。
三井東圧化学株式会社 手続補正書(自発〕 昭和92年 3月22−日 特許庁長官 殿 ■ 事件の表示 昭和57年特許M第197638号 2 発明の名称 璽゛・ ≦ニ′・ノ °−“′1′”>’))Iy2−C′−
″”朴し′ 7、ロゲ、フェニ/Lz ) −
2−メチ2.プ。ピッ2エーテル類の製造方法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 6、補正の内容 (1)明細書24頁、下から2行、〜25頁、3行、「
次いで、・・・・・回収するため、」迄を以下のように
訂正する。
[この残留物中には反応中に副生ずる、3−フェノキシ
ベンジル2−(3−クロル−4−ヒドロキシフェニル)
−2−メチルプロピルエーテル(脱エチル体)が含ま2
1ていることが確認され、二のものの物性値は以下のと
おりであった。
ベンジル2−(3−クロル−4−ヒドロキシフェニル)
−2−メチルプロピルエーテル(脱エチル体)が含ま2
1ていることが確認され、二のものの物性値は以下のと
おりであった。
MP ’68〜69°C
NMRスペクトル JCDCA。
6.7〜7.4(12R,m、aromatic’pr
otons )次いで、上記脱エチル体をエチル化し
て回収するため、」 手続補正書く自発) 昭和58年10月31日 特許庁長官 殿 1 事件の表示 昭和57年特許願第197638号 2 発明の名称 3−フェノキシベンジル2−(4−アルコキシハロゲノ
フェニル)−2−メチルプロピルエーテル類の製造方法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区霞が関3丁目2番5号名称f:3
12) 三井東圧化学株式会社なし 5 補正の対象 (−)明細書の「特許請求の範囲」の欄(ニ)明細書の
「発明の詳細な説明」の欄6 補正の内容 (−)「特許請求の範囲」 別紙のとおり訂正する。
otons )次いで、上記脱エチル体をエチル化し
て回収するため、」 手続補正書く自発) 昭和58年10月31日 特許庁長官 殿 1 事件の表示 昭和57年特許願第197638号 2 発明の名称 3−フェノキシベンジル2−(4−アルコキシハロゲノ
フェニル)−2−メチルプロピルエーテル類の製造方法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区霞が関3丁目2番5号名称f:3
12) 三井東圧化学株式会社なし 5 補正の対象 (−)明細書の「特許請求の範囲」の欄(ニ)明細書の
「発明の詳細な説明」の欄6 補正の内容 (−)「特許請求の範囲」 別紙のとおり訂正する。
(ニ) 「発明の詳細な説明」
(1) 明細書の第6頁、5行、「式(]V)中のR
/。
/。
R″ のいずれかが4位に」を、[式(■)中する。
(2)明細書の第9頁、2〜4行、[式(V)の原料と
なるR/ 、 Ru の・・・・・・・化合物の場合、
」までを、rR’、R’がアルコキシ基及び水素アルコ
キシ基で置換されている場合、」に訂正する。
なるR/ 、 Ru の・・・・・・・化合物の場合、
」までを、rR’、R’がアルコキシ基及び水素アルコ
キシ基で置換されている場合、」に訂正する。
(3)明細書の第9頁、7行、「また上記(2)の方法
では、多量の・・」を、[また上記(2)の方する。
では、多量の・・」を、[また上記(2)の方する。
(4) 明細書の第11頁、7〜8行、「4−アルコ
キシネオフィルハロケニド誘導体」を、「4−アルコキ
シネオフィルハライド類」に訂正する。
キシネオフィルハロケニド誘導体」を、「4−アルコキ
シネオフィルハライド類」に訂正する。
(5)明細書の第11頁、下から4行、「これは水添触
媒」を、「これは次の、水添触媒」に訂正する。
媒」を、「これは次の、水添触媒」に訂正する。
(6) 明細書の第18頁、11〜12行、「4−ア
ルコキシネオフイルハロゲニド誘導体」を、「4−アル
コキシネオフィルハライド類」に訂正する。
ルコキシネオフイルハロゲニド誘導体」を、「4−アル
コキシネオフィルハライド類」に訂正する。
(7) 明細書の第19頁、下から7〜6行、「4−
アルコキシネオフイルハロゲニド誘導体」を、[4−ア
ルコキシネオフィルハライド類」に訂正する。
アルコキシネオフイルハロゲニド誘導体」を、[4−ア
ルコキシネオフィルハライド類」に訂正する。
(8)゛明細書の第22頁、1行、「4−アルコキシネ
オフイルハロゲニド誘導体」を、「4−アルコキシネオ
フィルハライド類」に訂正する。
オフイルハロゲニド誘導体」を、「4−アルコキシネオ
フィルハライド類」に訂正する。
(9)明細書の第22頁、10〜12行、「3−フニノ
キシ2−(4−アルコキシ−3−ハロゲノフェニル)−
2−メチルプロピルエーテル類」を、「3−フェノキシ
ペンシル2−(4−アルコキシ−3−ハロゲノフェニル
)−2−メチルプロピルエーテル類」に訂正する。
キシ2−(4−アルコキシ−3−ハロゲノフェニル)−
2−メチルプロピルエーテル類」を、「3−フェノキシ
ペンシル2−(4−アルコキシ−3−ハロゲノフェニル
)−2−メチルプロピルエーテル類」に訂正する。
00) 明細書の第22頁、下から8〜7行、「3−
(4−アルコキシ−3,5−ジハロゲノフェニル)−2
−メチルプロピルエーテル類」を、キシ−3,5−ジハ
ロゲノフェニル)−2−メチルプロピルエーテル類」に
訂正する。
(4−アルコキシ−3,5−ジハロゲノフェニル)−2
−メチルプロピルエーテル類」を、キシ−3,5−ジハ
ロゲノフェニル)−2−メチルプロピルエーテル類」に
訂正する。
(11)明細書の第23頁、下がら4・−3行、[製造
゛方法であるが・・・・・・・勿論である。」までを、
ば式(IV)で示される化合物などにも適用できること
は勿論である。」に訂正する。
゛方法であるが・・・・・・・勿論である。」までを、
ば式(IV)で示される化合物などにも適用できること
は勿論である。」に訂正する。
02)明細書の第25頁最下行〜第26頁1行の、「メ
タノール1540 mAの混合溶液」を、mtの混合溶
液」に訂正する。
タノール1540 mAの混合溶液」を、mtの混合溶
液」に訂正する。
03)明細書の第26頁、下から5行、r73.62J
を、r73.07Jに訂正する。
を、r73.07Jに訂正する。
θ・0 同 、下から4行、「7375」
を、r73.254に訂正する。
を、r73.254に訂正する。
05) 同 、最下行、r (8H,Q
、)Jを、r (2H,q)jに訂正する。
、)Jを、r (2H,q)jに訂正する。
(10明細書の第28頁、11行、r73.62Jを、
r73.07Jに訂正する。
r73.07Jに訂正する。
0η 同 、 12行、 r7
3.53J を、r73.31jに訂正する。
3.53J を、r73.31jに訂正する。
(川 明細書の第31頁、下から2行目と最下行目の、
「Ct を削除す。
「Ct を削除す。
10.544
09)明細書の第32頁、1行、rlo、62jを削除
する。
する。
QO) 同 、 4゛行、
r (8H,q)Jを、r (2H,q) Jに訂正
する。
r (8H,q)Jを、r (2H,q) Jに訂正
する。
Ql)明細書の第34頁、10行、r8H,q)」を、
r (2H,Q) J に訂正する。
r (2H,Q) J に訂正する。
特許出願人
三井東圧化学株式会社
別紙
特許請求の範囲
〔式(I)中、Y】、Y2は水素原子、塩素原子、また
は臭素原子てあり、Yl、Y2の少くとも一つは塩素原
子、または臭素原子である。Rは低級アルキル基てあり
、Xはハロゲン原子である。〕で示される4−アルコキ
シネオフィルハライド類と、式(II) 〔式(II)中、Xi、x2は水素原子または弗素原子
である。〕 で示される3−フェノキシベンジルアルコール類とを、
硫黄原子を含まない非プロトン性極性溶媒中、塩基の存
在下て反応させることを特徴とする、式(III)〔式
(III)中、Yl、Y2は水素原子、塩素原子、また
は臭素原子であり、Yl、Y2の少くとも一つは塩素原
子である。またRは低級アルキル基であり、Xl、X2
は水素原子または弗緊原子である。〕で示される3−フ
エ/キシベンジル2−(4−アルコキシハロゲンフェニ
ル)−2−メチルプロピルエーテル類の製造方法。
は臭素原子てあり、Yl、Y2の少くとも一つは塩素原
子、または臭素原子である。Rは低級アルキル基てあり
、Xはハロゲン原子である。〕で示される4−アルコキ
シネオフィルハライド類と、式(II) 〔式(II)中、Xi、x2は水素原子または弗素原子
である。〕 で示される3−フェノキシベンジルアルコール類とを、
硫黄原子を含まない非プロトン性極性溶媒中、塩基の存
在下て反応させることを特徴とする、式(III)〔式
(III)中、Yl、Y2は水素原子、塩素原子、また
は臭素原子であり、Yl、Y2の少くとも一つは塩素原
子である。またRは低級アルキル基であり、Xl、X2
は水素原子または弗緊原子である。〕で示される3−フ
エ/キシベンジル2−(4−アルコキシハロゲンフェニ
ル)−2−メチルプロピルエーテル類の製造方法。
2 硫黄原子を含まない非プロl〜ン性極性溶媒が1,
3−ジメチル−2−イミダゾリジノンである 特許請求
の範囲第1項記載の方法。
3−ジメチル−2−イミダゾリジノンである 特許請求
の範囲第1項記載の方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式(r) 〔式(I)中、¥1、Y2は水素原子、塩素原子、また
は臭素原子であり、¥1、Y2の少くとも一つは塩素原
子、または臭素原子である。Rは低級アルキル基であシ
、Xは・・ロゲン原子である。〕 で示される4−アルコキシネオフイルノ・ロゲニド誘導
体と、 式(n) 入1 〔式〔■〕中、Xl、X2は水素原子または弗素原子で
ある。〕 で示される3−フェノキシベンジルアルコール類とを、
硫黄原子を含まない非プロトン性極性溶媒中、塩基の存
在下で反応させることを特徴とする、式(■) 〔式(In)中、Y、 、 Y2は水素原子、塩素原子
、または臭素原子であシ、Y、 、Y2の少くとも一つ
は塩素原子、または臭素原子である。またRは低級アル
キル基であシ、X、、X2は水素原子または弗素原子で
ある。〕 で示される3−フェノキシベンジル2−(4−アルコキ
シ−3−ハロゲノフェニル)−2−メチルプロピルエー
テル類または3−フェノキシベンジル2−(4−アルコ
キシ−3,5−ジハロゲノフェニル)−2−メチルプロ
ピルエーテル類の製造方法。 2 硫黄原子を含まない非プロトン性極性溶媒が1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノンである、特許請求の
範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (18)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19763882A JPS5988440A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 3−フエノキシベンジル2−(4−アルコキシハロゲノフエニル)−2−メチルプロピルエ−テル類の製造方法 |
SE8305468A SE461790B (sv) | 1982-10-19 | 1983-10-05 | Foerfarande foer framstaellning av 3-fenoxibensyl-2-(4-alkoxifenyl)-2-metylpropyletrar |
US06/540,017 US4542243A (en) | 1982-10-19 | 1983-10-07 | Process for producing 3-phenoxybenzyl 2-(4-alkoxyphenyl)-2-methylpropyl ethers |
NZ21554383A NZ215543A (en) | 1982-10-19 | 1983-10-07 | Process for producing 2-(3-halogeno-4-alkoxyphenyl-2-methyl halide derivatives |
NL8303445A NL193373C (nl) | 1982-10-19 | 1983-10-07 | Werkwijze voor het bereiden van 3-fenoxybenzyl-2-(4-alkoxyfenyl)-2-methylpropylethers. |
NZ205897A NZ205897A (en) | 1982-10-19 | 1983-10-07 | Production of 3-phenoxybenzyl 2-(4-alkoxyphenyl)-2-methylpropyl ethers |
CA000438584A CA1241026A (en) | 1982-10-19 | 1983-10-07 | Process for producing 3-phenoxybenzyl 2-(4- alkoxyphenyl)-2-methylpropyl ethers |
GB08327046A GB2131424B (en) | 1982-10-19 | 1983-10-10 | Production of 3-phenoxybenzyl 2-(4-alkoxyphenyl)-2-methylpropyl ethers |
IT49169/83A IT1172346B (it) | 1982-10-19 | 1983-10-17 | Procedimento per produrre eteri 3-fenossibenzil-2-(4-alcossifenil)-2-metilpropilici |
DE19833337673 DE3337673A1 (de) | 1982-10-19 | 1983-10-17 | Verfahren zur herstellung von 3-phenoxybenzyl-2-(4-alkoxyphenyl)-2-methylpropyl-ethern |
KR1019830004907A KR860001445B1 (ko) | 1982-10-19 | 1983-10-17 | 3-페녹시벤질 2-(4-알콕시페닐)-2-메틸프로필에테르의 제조방법 |
SU833655355A SU1447275A3 (ru) | 1982-10-19 | 1983-10-18 | Способ получени производных феноксибензил-2-(4-алкоксифенил)-2-метилпропилового эфира |
CH5652/83A CH658047A5 (fr) | 1982-10-19 | 1983-10-18 | Procede de preparation de 3-phenoxybenzyl-2-(4-alkoxyphenyl)-2-methylpropyl ethers. |
AU20258/83A AU543155B2 (en) | 1982-10-19 | 1983-10-18 | Producing 3-phenoxybenzyl 2-(4-alkoxyphenyl)- 2 methylpropyl ethers |
HU457283A HU201290B (en) | 1982-11-12 | 1983-10-18 | Process for producing 3-phenoxybenzyl-brackets open-2-(4-alkoxyphenyl)-2-methyl brackets closed-propyl ethers |
IN1286/CAL/83A IN159099B (ja) | 1982-10-19 | 1983-10-19 | |
PH29716A PH19478A (en) | 1982-10-19 | 1983-10-19 | Process of producing 3-phenoxybenzyl 2-(4-alkoxyphenyl)-2-methylpropyl ethers |
GB08600673A GB2170803B (en) | 1982-10-19 | 1986-01-13 | Process for producing 2-(4-alkoxy-3-halo-phenyl)-2-methylpropyl halides |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19763882A JPS5988440A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 3−フエノキシベンジル2−(4−アルコキシハロゲノフエニル)−2−メチルプロピルエ−テル類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5988440A true JPS5988440A (ja) | 1984-05-22 |
JPS6210493B2 JPS6210493B2 (ja) | 1987-03-06 |
Family
ID=16377810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19763882A Granted JPS5988440A (ja) | 1982-10-19 | 1982-11-12 | 3−フエノキシベンジル2−(4−アルコキシハロゲノフエニル)−2−メチルプロピルエ−テル類の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5988440A (ja) |
HU (1) | HU201290B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61243038A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-29 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 3−フエノキシベンジル2−(4−アルコキシフエニル)−2−メチルプロピルエ−テル類の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5764632A (en) * | 1980-10-09 | 1982-04-19 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Novel 2-arylethyl ether derivative and thioether derivative, their production and insecticide and acaricide |
JPS58198430A (ja) * | 1982-05-12 | 1983-11-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | ベンジルフェネチルエーテル類およびそれを有効成分とする殺虫、殺ダニ剤 |
-
1982
- 1982-11-12 JP JP19763882A patent/JPS5988440A/ja active Granted
-
1983
- 1983-10-18 HU HU457283A patent/HU201290B/hu unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5764632A (en) * | 1980-10-09 | 1982-04-19 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Novel 2-arylethyl ether derivative and thioether derivative, their production and insecticide and acaricide |
JPS58198430A (ja) * | 1982-05-12 | 1983-11-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | ベンジルフェネチルエーテル類およびそれを有効成分とする殺虫、殺ダニ剤 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61243038A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-29 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 3−フエノキシベンジル2−(4−アルコキシフエニル)−2−メチルプロピルエ−テル類の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HU201290B (en) | 1990-10-28 |
JPS6210493B2 (ja) | 1987-03-06 |
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