JPS5931943A - 画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、画像形成材料の改良に関する。訂し７く１１
１１４層中に特定の物質を含有せしめることによ１ハマ
スク層の耐有機溶剤性を向上せしめた、画像形成用の新
規な感光拐料に閂する。

従来、網点画像や腺画に適した画像形成材料・（として
は、主にハロゲン化銀乳剤を用いたリスフィルム（リス
現［゛ン計によって現ｒ象されるリス型）・ρゲン化銀
写、ｌへ材料−が用いられてきたが、近年、印刷用感′
）Ｙ：利１Ｆへの業界のｉ９Ｊとしては、作！猶の安全
のためにも、所ｆｌｌｌ　Ｐ　８版を塩１ノ扱う程度の
明室作業への移行が望まれており、また非銀塩感光材料
を用いて上記の問題点を解決することは、限りある資σ
？を有効に活用する漉からも非常に望まれている。

非釧塩感光利料の画像形成方法には、例えば、支持体上
に可視光あるいは原稿として使用される時の露光光源に
対して吸収をもつマスク層を有し、該１イイの上に、露
光された時に未露光部と露光部の間に現像液に対する溶
解性の変化が生じ、どちらか一方が現住後残存するフメ
トレジストＭを有した拐料に像露光し、その後膣フォト
レジスト層を現像すると共にあるいは現像したのちに、
該フォトレジスト層の残存硬化（レンスト）部分を溶解
せづ゛且つ該マスクＪ書を溶解しうる溶りｉＬで処理す
ることによりフォトレジスト層が溶出した部分の該マス
ク層を溶解除去させ、画像を形成させる方法がある。

一方、印刷用感光材料の分野では、印刷板を得るための
１９、稿作成過程において、ある文字や絵柄の画像をも
つフィルムの上に別の文字や絵柄の画像をもつフィルム
、例えばストリッピングフィルムを貼り込む作業、すな
わち「貼り込み」と称するものがあり、かかるストリッ
ピングフィルムは貼り込んだ後、動かないように、スト
リッピングセメンＩ・と称するもので固盾される。スト
リッピングセメントに（：１、例えばメタノール、−ｒ
−タノールといった溶剤が使われており、スト！Ｊ　ソ
ピングフィルムが貼り込まれるフィルムは、上記溶剤等
にｔシされないこと、すなＪ）も耐溶剤性が要求される
。

ストリソピンクセメントは、銀塩感光材料に合わせて作
られているため、銀塩感光材料がス）ＩＪッピングセメ
ントの溶剤に浸される心配はないが、前述の画像形成方
法による非銀塩感光材料の場合は、例えば特開昭５２−
８９９１６公報に示されるように、支持体上のマスクｌ
、Ｉの現ｆ↑液可溶［１成分がバ・ｒンダーボリマーか
ら成るものは、このバインダーポリマーがメタノール、
エタノール等の溶剤にＩＱされＪ・５いものが少なくな
い。このように、マスク層のバインダーポリマーが上記
溶剤等で浸され易いということは、ストリッピングフィ
ルムを・ス）・リッピングセメントで非ｆｎ　４１　ｒ
光材料の上に「貼り込み」を行なった時、非ＧＪ［感光
材料の画像が損なわれるといった不都合を生じる。

本発明者らは、支持体上にマスク層を有し、該Ｊ−の上
にフォトレジスト層を有する画像形成材料において、マ
スク層に面１有機溶剤性を付力する両イ７ヤ形成オ（第
１の開発に研究を重」また結果、該マスク層に着色剤、
現像液可７１１ポリマ・−及び無機結着剤を含有させる
ことで所期の目的が達成されろことを見出シフ、本発明
を完成するに至った。

本発明の目的は、耐有機溶剤性の向上し７たマスク層を
有する画像形成材料を提供することにある。

本発明の他の目的は、ｖ（１像液溶解性を有し、かつ耐
有機溶剤性を有する、物理的特性の改良された画像形成
材料を提供することにある。

かかる目的は、支持体上にマスク層４の上にフォトレジ
スト層を有する画像形成４．ｔ　１・′１において、＾
１１記マスク層が着色剤、現像液用済ポリマー及び無嵌
結漬剤を含有することを’ｌ”ｉ　Ｒとする画イ’、？
］Ｗ成材料によって達成さえする。

本発明の好ましい実施態（２）に従えば、　ｎｉｌ記無
機結束剤がノ“ルミナであること、又はソリ力であるこ
とである。また、他の好ましい実施態様に従えば、水系
溶液又は水で現像さノすることてある。

以斗、本発明につい”〔詳細に説明する。

本発明の画１１！形成旧Ｔ１における支持体１ｒ１．　
、　自己支上、７性のある材料であり、自己支持性を備
えることにより核皮」、〕体上に設けられるマスク層等
のｒｌｉ１〜３層を伸１１１１さ毬ることなく支持し得
ることへ７意味づる。たとえばガラス仮やプラスチック
フィルム、紙などがあるが、作業上の取り扱いの面から
プラスチックフィルム、紙など自己支持性かつ柔イ（（
性を持ったものが良い。例えば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチ
レン、ポリプロピレン、三酢酸セルロース、バライタ紙
、レジンコート紙などを挙げることができる。また支持
体として用いられる拐料は、成る目的のため着色された
ものでも良い。

本発明では、支持体上にマスク層が設けられるが、支持
体上へのマスク層の塗布性、接層性等を改良Ｊるため支
持体を火炎処理又はコロナ放ｉ１ｉ等の処理をした１ハ
あるいは両者の間に下引１ｉ＋５を設けても良い。下引
層は、適当なポリマー溶ｅ組成物の溶液を支持体上に塗
布することによって形成させる。下引層に用いられる水
利の例としては、塩化ヒニリデンーアクリｐニトリル−
イタコン酸コポリマー、グリシジルアクリレートまたＶ
、Ｆ、グリシジルメタクリレートのポリマーまたはコポ
リマー、７クリル酸アミドまたはメタクリル酸アミドハ
・１・を体とアクリル酸またはメタクリル酸のエステル
ポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン配フ
ボリマー、脂肪酸ビニルエステル、フタル酸またはイソ
フタル酸とグリフール類とのエステルコポリマー、スチ
ト・ンコボリマー、アクリロニトリルコポリ−ｚ　−１
ｚとを楢げ、で）ことができ、ビラチンイ、丁引素材と
して有効である。下引層を設けるための方法については
、写真製造Ｊ’！４では周知の技術が力）１ハそれらを
応用することができる。

一般には上５１ド１−７たｔ５なポリマーを水又は有機
沼１１＾によってＲ＋腋に（２〔、これを「「−ル、ホ
布、工７一ノイノゆ布、スプレー塗布などσ）伶布方１
′ノ；によって支持体上硫塗布第２）。

Ｊ−、、ｌＩｓ　Ｌ、た支持体−ヒには、着色剤、現１
オ、τ）・−可溶ポリマー及びブ、モ（戊結沼剤を含有
するマスク層が設けられる。ａ色剤は、画像が形成さね
４ていイ）ことが判定できるために、あて）いは印刷版
への焼付ができるように＋＋１ｉｉ　ｆＴ部に祝１度を
、Ｌ５える目的でマスクＲｔＩ中に含有せしめられ、マ
スク層の濃度が紫外光あるいは可視う“０領域で１０以
上になるよう入れもれのが好まし２い。

本発明に用いられる１１色剤は、染料又は顔料のことで
あり　％４　Ｇ剤の色に’肩は特に限定されないが、画
酸ハニ成１料が画イｉ：１　％成された後、ｎ光の原稿
とし℃使用される時の５驚光光源に対して吸収をもつ必
要カ人あるため、少なくとも３　（１（１〜４　（１０
ｎ　ｒｎあるいＶｊ、べ（１（１〜６　（ｌ　Ｏｎ　ｍ
の師、囲に吸収を持つのが好ましい。

本発明に用いらＪＩろ箔色剤の例としては、カーボンブ
ラック（プレ月１白またはグラフト化カーボンフラック
を含むに’　％　ｊ８ｊ鉛、鉄黒、アニリンブラック、
シアニンブラック、コバルト紫、マンガン紫、ファスト
バイオＬ／ット１３、メヂルバイオレソト１．−　キ、
ジオ・■−リンパイーうレット、群青、相青、コバルト
グルー、セルリアンブルー、７．１１カリブ／１−１−
’−八へ、フタロシアニンブルー、インジゴアルミニウ
ノ、粉、銅粉などを挙げろことができる。

その他層、知の顔料、染ギ・１の中から適宜選択づるこ
２ができろ。これら頒色剤ｄ坪独で用いてル、良いが、
２稍以−）こ用いても構わない。

本発明のマスク層中には、親１国時にフ、１．　ｌ−１
，、／シスト層ｉ’（＋　Ｉｔ旨ｔｉ（ｉ＋’除去さｔ
するよう現像液可溶ポリマーカ（含まれる。未露光部を
除去するための現１象液は、作某安全件、公害の間か［
）有％　（＋’ｚ　Ｑ’ｌを用いることｅよ好ｆＬ、＜
ブｘ＜、アルカリなどの水系溶液を用い＜’Ｊ　（〕）
　ｉＪ’火川上Ｏｒ用１．１．＜、水な用いることはＩ
紅（、ζ好ましい、１本開明に用い１）れる現区汀（、
可溶ポリマーｉｑｉ、具体的（（け水」、た（、１水系
酎１１（１７ｎＪ’　＋’ｌ（な２Ｊニリン−を、１５
口上ず２）。ここζス水系ｆｄ液とは、水を主成分占ｊ
−イ）Ｌ・ｉ　？’；’ｉで、ｄｌｃ肖段は、具体的に
は水ち５０　ｊ＋ｊｊ、ｆｉ！５′５以上７Ｆｈ、残り
カー、１９１１えば炭ｒｉ２水；：七ナトリウム、水酸
化り−１・リウム、メタケイ酸ナトリウノベＣとの浴質
、あるいＣ１４、例えばメクノーノ１ハベンジ・Ｉ２゛
ル」・−ルなと゛の水混和性有機ｒ＋７媒、更に必戟に
より昇面活性剤等本會イｊする？′０．液である。

ここで、水または水系溶液に可溶なポリマーの例として
、メチルセルロース、ヒトｒ＋　＝ｆジエチルー１３７
＋１１−ス、カルボＡ゛ンメゾ゛ルーにル「Ｊ−ス、ヒ
ト［７，ヤシブ（Ｊビルメチノｔ、、−ｃノドロースフ
タ１／−ト、ヒドロギソブロビルメチルセルローズヘキ
リヒド（＋ツタレート笠のセル（Ｊ−ス誘尋体や、ポリ
アクリル岐エステル、ポリメタクリル酸エステノ［、ポ
リビニルブチラール、ポリメチルヒニルケトン、ナイロ
ン６６、ポリアミ１゛、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルメトキシアセクール、ポリ
酢酸ビニル、エボキシリ１脂、ポリウレタンや、側錠ｈ
（（カルボギシルノんを有する付加重合体、例えばメタ
クリル酸共用合体、アクリル酸共重合体、イクコン酸共
重合体、マレイン酸共重合体、り１１・ン酸共重合体４
４．７ｉ’Ｌげろことかでき、また　Ｉｆｌｌ鎖に水酸
］・（、カルバモイル基、ジメチル７ミノシ（、を有す
る（−Ｊ加１（合イ４−１例えばビニルアルコール共ｓ
Ｌ　合体、ヒニルアリルフルコール共車合体、メチレン
ジエチルマロネート共重合体（還元物）、無水マレイン
酸共重合体（還元物）、アクリルアミ）・共重合体、メ
タクリル７ミド共重合体、Ｎ、Ｎ−巳ンメブールアクリ
ルアミド共重合体、Ｎ、Ｎ−ジメゾ”ルアミノメブルア
クリレート共爪合体、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチルメ
タクリレート共重合体、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル
アクリレート共重合体、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル
アクリレート共重合体、ビニルピロリドン共重合体など
を挙げることができる１、その仙、重合体の高分子バイ
ンダーとして（（１、例えばポリステ１／ンク、ルホン
酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリグルタミ
ン酸、スチレンーマ１／イン酸共爪合体１．１すに、−
ルリン酸、アルギンＩ’ｌ”ｌ　’、９の下りアニオン
とポリ７ン七ニウム＋：Ａ＋＋Ｉ’リスルポニ・クム塩
、ポリホスホニウノ・±に等のポリカチオンの′Ｍ’ｆ
’Ｆ体等を挙げることができる。これも、現像液可溶ポ
リマーけ、　、ｑｔ独でマスクＲ・う中に用いてもｒシ
フ、あ２）いは２欅以上イ（同時に用い゛〔も構わない
。

本発明のマスク層中にｄ、耐有機溶剤性！、：　（１−
リする目的で無機結着剤が含有される。二こ（（イ壓機
結着剤とは、粒子径が１．　＋ｎ　／Ｌ〜１μの範囲に
あり、マス１５′層中で結翳性、１１（目す、該粒子同
志が互い圧接着し１１す、他のりロク質に固着する性質
なイ１する無機物質のことである。この無機結着剤にマ
スク層中に含有させ：？＋　＋ことにより、マスク層θ
、）ｌｉ４．’＋　’；ｌｉ度を向上させることかでと
、その結果マスク層に耐有（サセ溶剤性を付与できるも
のと考えられる。無機結着剤の例として、アルミナ、シ
リカ、クレー、金属酸化物等をり→りけることができる
。特にアルミナ、シリカの似粒子が水に分散しているコ
ロイダルアルミナやコロイタルシリ力は一般に良く知ら
れており、本発明にも好ましく用いられる。本発明にお
いて、この焦艶結着剤はｌｌ！＋　、Ｉｊｌ（で用いＣ
も良いが、２挿μｍヒのｆ〕［用でも楢わない、また、
本発明のマスク層には、その他、（希酸バリウム、炭酸
カルシウム、白土などの体質顔料や、酸化亜鉛、酸化チ
タ：／、酸化７ンヂモンなどの白色顔料を無（幾結ｆ剤
と併用して含有しても良い。

本発明のマスク層１は、チ、１１．−機結メ１削と現像
ｈｔ可溶ポリマーの水浴液または水系ｒｄ液あるいは有
機浴媒沼液、もしくはこれらの混合浴液を混合し、さら
に着色剤を均一（・こ？′ｌ）解または分散させたもの
を塗布液とし“Ｃ１通７：’ｒの（真布技術、？ｆｌｌ
えばロー）口〜布、エアーナイフ塗布、スライドホッパ
ー塗布、℃クストルーダー塗布、ドクターゾ１／−ド塗
布などによって前述の支持体上へ塗布し乾燥ｒることに
よって形成される。

前述したように本発明のマスク層には、着色剤、現像液
可溶ポリマー及び無機結着剤が含有されるが、マスク層
に紫外光及び’ｉｉＪ視光領域で濃度１０以上を持たせ
るためには、マスク層中圧着色剤が５〜６０重謙％、好
ましくは１（）〜５０重版免含有されるのが良い。また
現像液用済ポリマーはマスク層中にＩＯ〜６０爪墓％、
好ましく１ｉ１５〜５（）電照０％含有されるのが良＜
、］（ｌ亀倣％に満たない場合はフォトレジスト層溶出
部の除去が困難になり、６０止ｔ、１％より多い場合は
、耐有機浴剤性を向上できなくなり本発＋３１の所期の
目的に反する。さら（にまた、無（４１結着剤はマスク
１１４中に１０〜７０重間％、好まＬ　＜は２０〜６０
重−ト１％含有されるのが良＜、７（１重電１％、［り
多い場合目、）炙ルジスト溶出部の除去が困難になり、
１０重反％に満たない場合は、内ｊ有機溶剤性を向上で
きなくなり本発明の所期の目的に反する。

本発明のマスクＪ！’ＨＪ：、　ｅ：＞度１０以上を得
るためには０５μ以上の１ψさが必要であり、０５〜８
μ程度σ入１ツさがあれば充分である。余りマスクＩｎ
が厚くなると、税、像による除去の際にマスク；皆のザ
イドエッチングが７起こり、忠実な画像幅の再現が　−
１１られなくなる。。

本発明のマスク層はｆＪｌ、ｆ’ｆｆ　液Ｍ解性を持た
せたまま、有を幾溶剤への耐性を高めることができ、こ
れによって「貼り込み」時のストリッピングセメントに
よるマスク画１？の損傷を防ぐことができる。

つまり、マスクＪｊに耐有機溶剤性を付与することがで
きる。

このようにして設（）られた本発明のマスク層の上Ｋ　
ｒ、ｉ　、　フメトレジス１層デ（４，作けらｔする。

゛°フォト！７・ジス１１ζメ°“とは　：ｒ；、　７
じ°ｊ１告業界でＶｉ既に知もｆ＋でいる■飴であるが
、こ＃ｌ　ＩＪ：　Ｉ＋’に光件の皮＋１Ｌ＋＼形成性
物質から成り、露光によって感光部と未露光部の性質が
り１なり、例えば１尚な溶ｉ！Ｉｔ／［よりどちらか一
方を層から除去することができ、残る一方はモの溶媒に
対してレジスト（不酵）性を示すものである。このよう
なフォ）　ｌ／　；スト層の一例とし壱 て・ヘロゲン化銀写真乳剤層やフメトポリマ一層などが
あ１ハフオドポリマ一層を利用する場合は、未露光部分
が除去される“′ネガ型′°や（“ｌ先部分が除去され
るパンドジ型パがあり、例えば水粉、乾著「感光性高分
子Ｊ（ＲＪ９ｆ：’ζ社）、角田、山岡等著しオトポリ
マ−Ｊ　（ＣＮＩ　Ｃ）に詳細に記されており、これら
は本発明に使用され得る１、 市販品の例として、米国ノソゾ１／・ｒ社製フォトポリ
マー“’　Ａ　Ｚ　　　＋　３５　（１”、米［ｉ！１
イー　ストマンコタツク社クリフォトポリマ・−”　Ｋ
　Ｐ　］ｔ″、東京応化（！１）製フォトポリマー　°
“ｉ’　Ｐ　Ｒ，”、富士薬品物製”　Ｆ　Ｐ　Ｐ　Ｉ
ｔ　”、旭化成ｎ　剋”　ニー’　ｒ　（：／　コ−）
　Ｉｌ＋、？光液°゛などが力）す、本発明のノ第１レ
ンストハイとしてこれらの素（１をオ＋ｊ　１０　する
ことかできるが、作業安全性、公害の面から）Ａトン１
．゛スト層の除去液は、水またｔま、−１（系で、ｆ−
）るのが好ましい。これらハロゲン化鏑チクＡ乳剤層や
フォトポリマーＪ・膚へのレジスト自作形成の技術につ
いては従来か１：）知らｉｔ゛Ｃおり、本発明にもそれ
らを利用することができる。

このようにし〔調製された本発明に係る画像形成材料は
、そのフォトレジスト層側から像露光し、その後フォト
レジスト層を現像し、さらにフォトレジスト層か＃ｌ像
除去された部分のマスク層を現博除去することでネガま
たはポジ画１ネ゛が形成される。

１′へ４九の光源には、高圧水銀す］、メタルハライド
ランプ、タングステンランプ、ジアゾ感材用螢光ランプ
、ヨードランプ、ギセノンランプ、レーザー光源など各
種の）γ、州が用いられる。露光方法ｔＪ５、原（？、
域と重ねて密着露光しても、引伸し話光し−（、もよく
、また反射１客光しても良い。この霧光さハた４・発明
に係る画像ノヒ成材￥１は、ドυえはフォトポリマ一層
の場合は、レジスト部分区１溶’？＋’ｌせず、Ｊトレ
ジ・ス）・ｔｊｌｉ分を溶ｈ′〆する処理液で、非レジ
スト部分を机ｒ？除去し、さらに非レジスト部分のマス
ク＋Ｇ、６を溶確し一目つフォ）ポリマ一層のレジスト
部分ヤ溶解しない処理？良で％ｉλ像除去ゴることによ
り、所望の画像を形成する。非レジスト部分の現像除去
とマスク層の現像除去が同一の処理液でなされることは
実用上さらに好ましい。

以１″、Ａ−発明の実施例を述べるが・、本発明の実施
態様はこれらに限定されない。面、実施ｆ１１にス・３
いて特別の表示のない限り、成分の割合の「部」は、「
′ｒｉ（知４部」を表わす。

実施例１ −Ｆ引り’ｌを設げた三酢酸七ル１フー７、フィルム上
に下ＷｔｒのＲ１成から成る１塗布液−■〕を内布、乾
燥してＩｇさ約３　／ｌのマスク層を設けた。

〔塗布液−Ｉ〕

この−１１２層の土に、光重合ネガ型のシャインコート
感光液〔無化成■製〕を塗布乾燥して厚さ約３μのフォ
トレジスト層を設けた。このようにし【作成した本発明
に係る画像形成材料−１を原稿と重ね合わせて、明室プ
リンター〔上野化学■製、［Ｉ　Ｐ　−６、＜ｉ　ＫＷ
、メタルハライドランプ〕で４５秒間Ｗ　毘したのち２
０′Ｃのアルカリ現（′ｌｌ液５ＤＰ−１（小西六写真
工栗（イ））製、ＰＳ版用ｆ１１ｆ（ｐ液〕の２０倍希
釈液で現イ＊Ｌ、その後２５°Ｃの水道水で未ｊ（４光
部を水洗除去しネガ画イ９；を得た。この自作の上に、
ストリッピングセメント〔小西六写真工業６菊製〕を使
ってストリッピングフィルム（ザクラＣＵＳ　）を貼り
込んだが、自作は何ら損（ｊ％を受けなかった。

比較ｆす］ 実施例１のマスク層に用いた〔塗布液−Ｉ〕の代わりに
、下記の組成の塗布液でマスク層を設け、その他は実施
例１と同様の方法で比較の１ｉｔｉｉ像Ｗ成拐料を作成
し、実施例１と同じ＜ｔｌで光、現（Ｊ水洗除去を行な
い、「貼り込み」を行なったところ、７、ドリッピング
七メン）による損傷が両ｆψに認められた。

実施例２ 下記の組成から成る〔塗布液−■〕を１８１！ｊ整し、
下引１；・７タ設けたポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上に塗布乾燥して厚さ約２μのマスクバくを設けた
。

〔塗布液−■〕

このマスクＩＮの上に、下１１１３の組成から成る塗布
液を調整し、塗布乾Ｐ１０ノ（厚さ約２μのネガ型）］
トレジスト層を設けた。

このようにして作成した本発明に係る画像形成材料を明
室プリンター（実施例１と同じ）で４０秒間像様Ｉｔ’
＜　）Ｙ、　したのち、２５°Ｃの水道水に浸１１（シ
ｉｅからスポンジで軒くこ１り未ｒ（元部を除去して、
イガ画像を得た。この１１１仰の十に実施例１と同様に
［貼り込み］を行なったが、画像ｌ、何ら損傷を受けな
かった。

比較例２ 実施例２のマスク層に用いた〔塗布液−ｎ）の代わりに
、下記の組成の塗布液でマスク層を設け、その他は実施
例２と同（５の方法で比較σ）画像形成材料を作成し、
実施例２と同じく露光、現像除去を行ない「貼り込み」
を行なったところ、ストリッピングセメントによる損傷
が画像に認められた。

実施例３ 下記ノｆｔｌ　成力’）　成力（塗布ｒｉｂ、　−ＩＩ
Ｉ　、ｌ　ｖｉ＋’Ｉｙｑ　ｔ、、下引層を設けたポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に塗布、乾燥り、　
−（ｌ　Ｉすさ約４μのマスクＪｃ’ｊを設けた。

〔塗布液−ｍ　） このマスク層の上に下記の組成から成る塗布液をｉ１４
’ｌりｖしてｊすさ約３７１のネガ型フォＩ・レジスト
１１１を設けた。

このようにして作成した本発明に係る１ｉｆｉｉ　（’
９彩成利Ｙ′＋を実施例Ｊと同じ方法で、露光、現Ｖｆ
Ｊ、水洗除去を行ないネガ画イ９を得た。この画像の上
に５１３施例１と同様に１−貼り込み」を行なったが、
画イＣＱは何らｉ：Ｑ　傷を受けなかった。

特Ｍ’Ｆ　出願人　　小西六写真工梨株式会社、代理人
　弁理士　　坂　　ロ　　　イｎ　　昭（ほか１名）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）支持体上にマスク層を有し、該マス？ｆ層の上に
   フメトレジストｊ！４を、１イするｕＴｉ＋　Ｉ紮形成
   す（料において、前Ｎ＋Ｅ　−ｖ　スフＪ？４が着色剤
   、現＋”＃　７＋ｋ　ａＪ’　＊：ポリマー及び無機結
   着剤を含・ｆ］することをパ１″ｒ徴とする画像形成イ
   Ｉｆ’ｌ。 （２Ｊ　　ｊａｉｌ記無侠結滑剤がアルミプである特許
   Ｆ、Ｊｌ求の範囲第１項記載の画像形成材料１゜ （３）　　ｓ＋＋記無機結イ１剤がシリカである特許請
   求の範囲第１項記載の画像形成材料。 （４）水系ｌｒｌ液でｆＪｌ像される（Ｆ＞　ｌＴ’ｒ
   　ＮＮ求の範囲第１項〜第３項いずれかに記載の画像形
   成材料。 （５）水で現像される特許１ｆｌＹ求の範囲第１項〜第
   ３項いずれかに記載の画像形成材料。