JPS58222439A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はペーパーデポジション法による磁性金属薄膜を
磁気記録層として備えてなる磁気記録媒体に関するもの
で、特に耐久性、走行特性、耐候性にすぐれた磁気記録
媒体及びその製造法に関する。

従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にｒ−
Ｆｅ２０ａ、ＧＯをドープしたｒ−Ｆｅ２０８、Ｆｅ５
０．、ＧｏをドープしたＦｅ３Ｏ４、ｒ−Ｆｅ２０３と
Ｆｅ３Ｏ４のはルトライド化合物、Ｏｒｏ　２等の磁性
粉末あるいは強磁性合金粉末等の粉末磁性拐料を塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジェン共重
合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機ノミイ
ングー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型
のものが広く使用されてきている。近年高密度記録への
要求の高まりと共に真空蒸着、スパッタリング、イオン
ブレーティング等のは−パーデポジション法あるいは電
気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法により形成される
強磁性金属薄膜を砲気記録層とする、ノζイングーを使
用しない、いわゆる非バインダー型磁気記録媒体が注目
を浴びており実用化への努力が種々性なわれている。

従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきており、かつその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防＋）−のための太きｔ
【附帯設備を要するという欠点を有している。非バイン
ダー型の磁気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁
化を有する強磁性金属を・バインダーの如き非磁性物質
を含有しない状態で薄膜として形成せしめるため、高密
度記録化のために超薄形にできるという利点を有し、し
かもその製造工程は簡単である。

１１１： 高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
１〜て、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提
唱されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい
薄型化が容易で、飽和磁束密度も大きい非、２インダ一
型磁気記録媒体への期待は太きい。

特にベーノξ−デポジシコン法による方法はメッキの場
合のよう１よ排液処理を心安とせず製造工程も簡単で膜
の付着速度も大きくできるため非常にメリットが太きい
。

さらに強磁性金属薄膜から成る磁気記録媒体にかかわる
大きな問題として腐蝕及び摩耗に対する強度、走行安定
性がある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生及び消
去の過程において磁気ヘッドと高速相対運動のもとにお
かれるが、その際走行がスムーズにしかも安定に行なわ
れねばならぬし、同時にヘッドとの接触による摩耗もし
くは破壊が起つ【は１．ｃらない。又磁気記録媒体の保
存中に錆等による　経時変化によって記録された信号の
減少あるいは消失があってはならないことも要′：１．
．。

求される。耐久性、耐候性を向上させる方法として保護
層を設けることが検削されてはいるが、へ′ラドと磁性
層間のスは−シング損失のために保護層の厚みを大きく
できないという制約もあるため磁性膜そのものにも耐久
性、耐候性を備えさせることが必要である。

前記保護層は、例えば、ロジウム、り四ムのような硬質
金属、あるいはＮｏ、　ＴｉＯ□、ＣａＦ２　　のよう
な硬質無機物、あるいは潤滑剤、高分子剤から成ってい
た。

しかしながら、これらの保護層を設けただけでは走行特
性、耐久性ともに充分満足のいく磁気記録媒体が得られ
なかった。その主な原因は前記硬質金属または硬質無機
物の剥離した小片が記録媒体へのスリキズ発生をもたら
すことにあり、また、高分子または潤滑剤の保護層であ
っても、金属磁性薄膜と保護層との界面の結合が弱く、
経時により走行特性、耐摩耗特性の著しい劣化がみられ
たためであった。また、特開昭５０−１３８０６号公報
において、窒素中直流グロー放電によって磁性層表面付
近を窒化せしめる方法が開示されているが、磁性層表面
を窒化しただけでは走行特性は改善されないとともに、
表面窒化層によって保護効果を生じせしめる為には、１
０分〜２時間もの長時間のグロー放電処理を施して、窒
化金属層を充分形成する必要があった。

また、磁性層の酸化処理により保護酸化層を形成する方
法としては強磁性金属薄膜を適当な温度、湿度のもとに
置いて、その表面を酸化させる方法（特公昭４２−２０
０２５号公報参照）、合金磁性薄膜を硝酸と接触せしめ
た後熱処理して表面に酸化層を形成させ、しかる後潤滑
剤をしみこませる方法（英国特許第１２６５１７５号明
細宵参照）、合金磁性薄膜表面を無機酸化剤及び有機キ
レート剤の水溶液で処理した後酸素雰囲気中熱処理にて
形成する方法が知られていた。これらの処理方法は薄層
均一な酸化層の作製が困難であるとともに水溶液等を用
いる為に金属薄膜形成後真空を破る必要があり、連続工
程が不可能であり、また、処理時間も長く、かつ複雑で
あった。

本発明者等は、前述した従来技術の欠点を解消し、耐久
性、走行性、耐候性にすぐれた非バインダー型磁気記録
媒体を開発すべく、鋭意努力を重ねた結果、本発明に至
った。

即ち、本発明者等は、磁性金属薄膜層上に有機保護潤滑
層を形成し、保護潤滑効果を付与する方式において、有
機保護潤滑層を形成する前に、磁性金属薄膜層の表面を
酸素ガスを含む真空雰囲気下で生じせしめたグロー放電
プラズマに曝して。

酸化物層を形成し、次いで珪酸エステルガスを含む真空
雰囲気下で生じせしめたグロー放電プラズマに曝して珪
素化合物層を形成することにより耐久性、走行性、耐候
性が著しく向上することを見出し、本発明に至った。

本発明は、前述した従来技術の欠点を解消し耐久性、走
行性、耐候性にすぐれた非ノζイングー型磁気記碌媒体
及びその製造方法を提供することを目的とするものであ
る。

本発明のかかる目的は、非磁性基体上に、表面に金属酸
化物層を有する磁性金属薄膜層と、珪素化合物層と、有
機高分子化合）、物、高級脂肪酸、脂・１：′・１ 肪酸エステル又はこれらを組合せた係蹄潤滑層を夫々積
層して成ることを特徴とする磁気記録媒体及び非磁性基
体上にベーノξ−デポジション法により磁性金属薄膜層
を形成した後、前記磁性金属薄膜層の表面を酸素ガスを
含む真空雰囲気下で発生せしめたグロー放電プラズマに
曝すことにより該表面に金属酸化物層を形成し次いで前
記金属酸化物層の表面を珪酸エステルガスを含む真空雰
囲気下で発生せしめたグロー放電プラズマに曝すことに
より核表面に珪素化合物層を形成し１次いで真空雰囲気
下で前記珪素化合物層上に何機高分子化合物、高級脂肪
酸、脂肪酸エステル又はこれらを組合せた保−潤滑層を
形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法によ
って達成される。

以下、本発明を図面に例示した実施態様について説明す
る。

第１図においズ、本発明方法を実施するための磁気記特
媒体製造装置１は、基体送出室兼巻取室２、！ロー放電
前処理室３、磁性金属薄膜層蒸着に制限された基体通過
用のスリット１０を介して、順次連通して成っている。

なお、前記各室２〜７は、夫り独立した排気系８ａ〜８
ｆに導管９−〜９ｆを介し【連通し、夫々独自の真空度
（通常、１０−’６ 〜１０　　Ｔｏｒｒ）が維持可能になっている。

前記送出兼巻取室２内において、回転自在に軸支された
非磁性及び可撓性帯状基体Ｗから成るロール６２近傍に
配設した引出しローラー１１を駆動して、前記ロール６
２から前記基体Ｗを連続的に前記グロー放電前処理室６
内に繰り出すと、Ａｒガス導入管１２を通して供給され
たＡｒガスが、交流高電圧（例えば、約１ｋＶ程度）を
印加された電極１３によって、約１０　　Ｔｏｒｒ程度
の真空雰囲気下でグロー放電を生じ、前記基体Ｗの表面
をクリーニングし、活性化し、次工程における磁性金属
薄膜層との付着力の向上が図られる。

前記グロー放電前処理室互を通過した前記基体Ｗは、前
記磁性金属薄膜蒸着室４内で複数個のガイドローラー１
４を介して、回転自在に軸支されたクーリングキャン１
５の下方外周面によりその走行方向が反転された後、前
記酸化処理室旦及び珪酸エステルグロー放電処理室４内
に送り込まれる。

なお、前記磁性金属薄膜蒸着室迭は、可成り高真空度（
例えば、　１０　　Ｔｏｒｒ　）に保たれた写囲気下で
、電子銃と電源から成る電子ビーム式加熱手段１６によ
りハース１７内の磁性体蒸発源１８（例えば、Ｃｏ材、
Ｎ１拐、Ｆ、材、等）を加熱、蒸発させ、前記クーリン
ダキャン１５上の基体に対しその蒸気流Ｖを通常、約４
０°〜９０°の入射角をもって蒸着を行い、磁性金属薄
膜（第２図のＡ）を形成するところである。

前記入射角は前記ハース１７とマスク１９の配設位置に
よって適宜設定される。なお、本実施態様は磁性金属薄
膜層の形成方法として、蒸着方式を示したが勿論スパッ
ター等の方式を用いてもよい。

前記酸化処理室互は、酸素導入管２ｏを通して酸素が約
７ｘ１０　　Ｔｏｒｒの真空度で２０　ｅｅ／分程度供
給させる。なお酸素プラズマの発生は、直流電源２２に
より、電極２１に高電圧を印加することによりなされる
。

磁性金属薄膜層で被覆された基体は、前記酸化処理室旦
を通過する間に、前記酸素プラズマに曝されることによ
り、磁性金属薄膜の表面が酸化され、金属酸化物層（第
６図Ｂ）が形成される。

前記酸化処理室を通過した磁性金属薄膜層及び金属酸化
物層で被覆された基体は、珪酸エステルグロー放電処理
室Ａに送り込まれる。

前記珪酸エステルダロー放電処理室４は珪酸エステルガ
スを含む真空雰囲気下でグロー放電プラズマを発生させ
、前記磁性金属薄膜の表面に珪素化合物層を形成するた
めに設けられており、珪酸エステルガスな所望のガス分
圧又は流量となるようにガス導入管２６を通じて導入す
る。なお、珪酸エステルガスの分圧が所望の蒸気圧より
低い場合には、該ガス導入管２６及び珪酸エステルガス
溜め容器を適宜加熱する等の工夫をすればよい。

又、珪酸エステルガスの他＜ｙ応性ガスを混合す雫・ るために反応性ガス導入管２７・が設けられている。

なお、珪酸エステルガスな含む真空雰囲気下でのグロー
放電プラズマの発生は、高周波電源２３からマツチング
ボックス２４を通してコイル２５に高周波電力（例えば
、１３．５６ＭＨｚ、　１５０Ｗａｔｔ）が印加される
ことにより行われる。コイル２５は前記磁性金属薄膜層
及び金属酸化物層で被覆された基体の近傍に設置されて
いる。

前記珪酸エステルグロー放電処理室乙に送り込まれた前
記磁性金属薄膜層及び金属酸化物層で被覆された基体は
、前記の珪酸エステルガスを含む真空雰囲気下で発生せ
しめたグロー放電プラズマにさらされて移動すると、前
記金属酸化物層の表面に珪素化合物層（第４図のＣ）が
形成される。

次に、前記保護潤滑層蒸着室ｌにおいて７ｘｌＯ””Ｔ
ｏｒｒ　程度の真空度で有機高分子化合物、高級脂肪峻
、脂肪酸エステル又はこれらを紹介せた蒸発源２８を抵
抗加熱手段２９により加熱、蒸発せしめて得られた蒸気
流Ｖ′を、移動する前記磁性金属薄膜層、金属酸化物層
及び珪素化合物層で被覆された基体に対し蒸着Ｃ“て、
所望する厚さの保護潤滑層（第５図のＤ）を前記珪素化
合物層Ｂ上に積層する。

しかる後、磁性金属薄膜層、金属酸化物層、珪素化合物
層及び保護潤滑層で被覆された前記基体は、再度、前記
送出兼巻取室Ｚに戻されて、エキスノξンダーローラー
３０により適正にシワの矯正がなされた後、ロール状６
１に巻き取られて一連の薄膜形成工程が完了する。

なお、前記保護潤滑層蒸着室１内を走行する前記基体は
、前記磁性金属薄膜層蒸着室４と同じようにクーリング
キャンのような手段を用いても良いし、又その表面に前
記蒸気流Ｖ′を斜方入射せしめても良い。

なお本実施態様は１例であって、本発明は本実施態様に
とられれるものではない。

本発明に用いられる磁性金属材料としては、Ｆｅ、０Ｏ
１Ｎ１等の金属、あるいはＦｅ−Ｇｏ、　Ｆｅ−Ｎｉ、
Ｇｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｇｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｇ
ｕ、、　Ｇｏ−Ｃｕ、Ｇｏ−Ａ１１．Ｇｏ−Ｙ％Ｇｏ−
Ｌａ、、　Ｇｏ−Ｐｒ、　Ｇｏ−Ｇａ、Ｇｏ−８ｍ、　
Ｇｏ−Ｐｔ−Ｎｉ−Ｃｕ、　Ｍｎ−Ｂ１、Ｍｎ　−ｓｂ
、　Ｍｎ　−ｋｌ、Ｆｅ−０ｒ、　Ｇｏ−Ｏｒ、　Ｎｉ
−０ｒ、　Ｆｅ−Ｇｏ−Ｃｒ、　Ｎ１−Ｇ。

−Ｏｒ、　Ｆｅ−Ｇｏ−Ｎ１−Ｃ５ｒ　　等を主成分と
する強磁性合金であるつｌ持に好ましいのはＧｏあるい
はＧｏを７５重敏チ含有するような合金である。

更に添加物として、Ｗ　、　Ｍｏ　、　Ｔｉ　、　Ｍｇ
　、　Ｓｉ　、　ＡＩ等を少歇含んでもよい。又、Ｇ、
Ｂ、Ｏ，Ｎ、Ｐ等の非金属成分を少廣含んでもよい。こ
れらは、薄膜形成用の母１［含めてもよい、また薄膜形
成時のガス雰囲気の成分とし【加え【もよい。

例えば、前記磁性金属薄膜層を前記磁性金属薄膜層蒸着
室４で形成する際に若干の酸素ガスを導入した酸素雰囲
気下で行なってもよい。

磁性金属薄膜層の膜厚は、磁気記録媒体として充分な出
力を力え得る厚さおよび高密度記録の充分行える薄さを
必要とすることから一般には約０．０２μｍから２００
００又、好ましくは０．０５μｍから１０００ＯＡであ
る。

また、磁性金属薄膜層は膜層でも良いし、２層以上の多
層膜からＨｑ成されていてもよい。また多層構成の場合
、層間に非磁性の中間層を設けてもよい。非磁性基体と
磁性金属薄膜層の面に非磁性の下地層を設けてもよい。

非磁性基体の両面に磁性金属薄膜層を設けてもよい。

本発明におけるペーパーデポジション法とは、上記米国
ｆｉ￥許第３４２６３２号の明細書等に述べられている
通常の真空蒸着の他、電界、磁界あるいは電子ビーム照
射等により蒸気流のイオン化、加速化等を行って蒸発分
子の平均自由行程の大きい雰囲気にて支持基体上に薄膜
を形成させる方法をも含むものであって、例えば当用願
人による特開昭５１−１４９００８号明細書に示されて
いるような電界蒸着法、特公昭４３−１１５２５号、特
公昭４６−２０４８４号、特公昭４７−２６５７９号、
特公昭４９−４５４３９号、特開昭４９−３３８９０号
。

特開昭４９−３４４８３号、特開昭４９−５４２３５号
公報に示されているようなイオン化蒸着法も本発明に用
いられ、その他スパッター法、プラズマ重合法も適用で
きる。

又、本発明に用いられる基体とし【はポリエチ：：：：
づ。

レンテレフタレート、ボ゛リイミド、ポリアミド、ポリ
塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポ
リエチレンナフタレートのようなプラスチックベースが
好ましい。更にＡ／　、　Ｃｕ　、　ＳＵＳ等の非磁性
金属、又は、ガラス、セラミックス等無機質の基体も使
用できる。特に本発明においては表面粗さくｒａ）が０
．０１２μ講以下であるような上記可撓性プラスチック
ベースが好ましい。

又、本発明の保時潤滑層に用いられる前記有機高分子化
合物としては、ポリオレフィン、ビニル系樹脂、ビニリ
デン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリア
ミド９、ポリアクリロニトリル、ポリウレタン、ポリエ
ーテル、セルロース系樹脂が好ましい。

高級脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、（ヘン酸、オレイン酸、リノ
ール酸、リルン酸、アラキドン酸等である。

脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸メチル、）でル
ミチン酸エチル、ステアリン酸モノグリセリ１等がある
。　　　″：′；１ 前述した保護潤滑層は、複数個のクーリングギャンを並
設して各種素材を）１決然着することも可能である。何
れの蒸着方法においても、前記保護潤滑層の全）Ｖさは
２０〜５００Ａ、更には２０〜６００Ａの範囲が好まし
い。

本発明における金属酸化物層とは磁性金属薄膜層の表面
を酸素ガスを含む真空雰囲気で発生せしめたグロー放電
プラズマに曝すことにより、前記磁性金属薄膜層の表面
を酸化せしめたものである。

本発明における金属酸化層の膜厚は６００Ａ以下が望ま
しい。特に好ましくは１００Ａ以下である。

本発明における酸素中グロー放電処理とは、酸素ガスを
酸化処理室に導入（２，５×１０〜５ｘ１０７”’ｒｏ
ｒｒの真空度に保ち、グロー放電形成用電力をグロー放
電用電極に印加すれば良い。電力としては、ＲＦ、　Ｄ
Ｃ１等広範囲の方式が用いられる。又、グロー放電用電
極も各種の形状のものを用いることが出来る。

本発明における珪素化合物層とは、前記磁性全域薄膜層
上に形成された金属酸化物層の表面を珪酸エステルガス
を含む真空雰囲気下で発生せしめたグロー放電プラズマ
に曝すことにより前記金属酸化物層の表面に堆積された
珪素化合物層であり、８１０２等の珪素酸化物から成る
。

本発明における珪素化合物層の膜厚は１００八以下が望
ましい。特に好ましくは１０Ａ以下である。

本発明における珪素化合物層は必ずしも一様な連続膜を
形成してなく【も良い。このため厳密な意味で膜厚を規
定することが困難であるため、本明細書における膜厚は
、付着物を膜厚に換算した平均膜厚を意味する。

本発明における珪素化合物層は極く薄いため被覆状態に
ついて明確に定義することは困難であるが、例えば通常
の市販されているオージェ電子分析装置で、表面分析を
行なった場合、少くとも金属酸化物を構成している主成
分である磁性元素及び酸素と珪素元素が同時に検出され
る程度の被覆状態が好ましい。即ち、オージェ電子分析
的に見て、金属酸化物を構成している主成分である磁性
元素及び酸素と珪素元素が混在した表面状態が形成され
ていることが望ましい。

本発明における珪酸エステルガスを含む真空雰囲気下で
のグロー放電処理とは珪酸エステルガスと反応ガスとを
適当量混合し、５×１０〜５ｘ１０“１Ｔｏｒｒの真空
度に保ち、グロー放電形成用電力を放電用電極に印加す
ることにより生ぜせしめたグロー放電プラズマに磁性金
属酸化物層を曝し、表面に珪素化合物を形成するもので
ある。

珪酸エステルガスとしては、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフ
ェノキシシラン、テトラベンジルオキシシラン等が好ま
しい。特に好ましくはテトラエトキシシランが好ましい
。

反応ガスとしては、グロー放電を安定にするとともに、
珪酸エステルの分解を助ける働きをするものが望ましく
、例えば、酸素、水蒸気等が好ましい。

グ・−放電を発生させる。１１詰ＩＣは、高周波電力、
直流電力、交流電力、マイクロ波電力等が必要であるが
、取扱い易さを考えると１３．５６　ＭＨｚの高周波電
力又は直流電力が特に好ましい。高周波電力を用いた場
合、５×１０〜６　Ｘ　１０　　Ｔｏｒｒの真空度でグ
ロー放電を起させることが可能である。又直流電力を用
いた場合に０．０２〜０．５Ｔｏｒｒ程度の真空度でグ
ロー放電が生ずる。

放電用電極としては、コイル状、棒状、網状等の形状を
した電極を真空槽内に設ければ良い。また、真空槽外に
電極を設けるいわゆる無電極放電でも良い。

本発明における金属酸化物層と珪素化合物層の役割は必
ずしも解明されてはいないが、金属酸化物層の形成によ
り、磁性金属薄膜層の経時劣化が抑制されるものと考え
られる。また珪素化合物層については、珪素化合物層の
形成に続いて形成される有機保護か１滑層を磁性金属酸
化物層上に保持しておく機能を増進させるものである。

特に本発明における方法で表面処ＢＪｉ　して得られた
金属酸化物層を有量・・る磁性金属薄膜層は表面の凹凸
；柱状組織の間の間隙等にも一様に珪素化合物が析出す
るため、前述の保護潤滑層の保持機能が一段と向上出来
る。

また本発明における金属酸化物層及び珪素化合物層は極
めて微量でも、耐久性、走行特性、耐候性等の磁気記録
媒体としての実用上の諸物件を大巾に向上させるため、
スは−シングロスカ少すく、電磁変換特性の優れた磁気
記録媒体が得られ、その実用的価値は犬なるものである
。

以下、実施例に基づいて本発明の新規な効果について明
確圧する。

実施例　１ 第１図に示したような磁気記録媒体製造装置１を用い、
２５μ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム基板を
蒸発源に対して６０′の傾き訪るよ５に真空蒸着装置内
に配置して、Ｉ　Ｘ　１Ｏ−Ｔｏｒｒの真空度で、９９
９９−のコバルト金属を電子ビー着した。

続いて蒸着されたコバルト蒸着層の表面を７ｘ１０　　
Ｔｏｒｒ　　の酸素ガス雰囲気で、電極に一１ｋＶの電
圧を印加して得たＤＧグクロ放電ゾラズマに約１分間曝
もし約７ＯＡの酸化物層を形成した。

続いて、テトラエトキシシランガスと酸素ガスを導入し
、はぼ１対１の分圧比に保ち６Ｘ１０””’Ｔｏｒｒ　
の雰囲気下で２００　Ｗｏｔｔの高周波電力で発生せし
めたグロー放電プラズマに表面酸化したコバルト蒸着層
の表面を約１分間さらし、約８人相当の８１０２膜を形
成した。その後、はヘン酸をｌＸ１０　　Ｔｎｒｒの真
空度で抵抗加熱法により２０Ａ／ｓｅｃの速度で１５Ｏ
Ａ蒸着した。しかる後１インチ巾のテープ状にスリット
し、ＶＨ８方式小型ＶＴＲのカセットに組み込み磁気テ
ープとしての評価を行った。

すなわち、このように、シて作製した記録媒体について
次のように、耐久性、走行性、及び耐候性の評価を行な
った。耐久性の評価はＶＨ８方式小型、ＶＴＲ装置にお
いてテープ走行を止めその時の再生出力信号が半減する
までの時間、即ちスチル耐久時間を測定１−た。走行特
性の評価はＶ　ＨＳ方式小型ＶＴＲ装置において１００
回繰り返し走行させたのちテープ中方向に肉眼で観察可
能なキズの数を数えろことにより行なった。なおメチル
耐久時間、スリキズの評価とも松下電産（株）製（７）
ＮＶ−８２００型ＶＴＲ装置を用いた。

耐得性の評価は、６０ｔ；９０チＲＨのサーモ装置内に
２週間保持した後の磁化量の減少（減磁）割合を比較し
た。表−１にスチル耐久時間、スリキズの数、及び減磁
を示した。

表−１には比較の為に、未処理で保護潤滑層の１よい場
合（ａｔ、未処理で保護潤滑層を有する場合（ｂｌを合
せて示した。（ｂｌの場合の保護潤滑層の構成はイヘン
酸を同−膜厚設けたものである。ここで未処理とは、前
記金属酸化物層及び珪素化合物層を設けてないことを意
味する。本発明による（ｃｌでは他のものと比較して著
しいメチル耐久特性、耐スリギズ特性及び耐候性の向上
がみられた。

１１１ このように、本発明によれば、耐久性、走行性及び耐候
性に優れた磁気記録媒体が得られ、その実用化の効果は
極めて犬である。

なお、実施例１においてはメロー放電プラズマを高周波
電力の印加により行なわせたが、直流電圧の印加による
グロー放電によっても同様の効果が確かめられた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に用いる磁気記録媒体製造装置の１実施
態様の要部を切断して示した側面図、第２ｒ９．］〜第
５図は本発明による磁気記録媒体の断面略図である。 ２は基体送出兼巻取室、６はグロー放電前処理室、４は
磁性金属薄膜層蒸着室、５は酸化処理室、６は珪酸エス
テルグロー放電処理室、７は保護潤滑層蒸着室、Ｗは基
体でｋ）る。 第　　１　　図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基体上に、表面に金属酸化物層を有する磁
   性金属薄膜層と、珪素化合物層と、有機高分子化合物、
   高級脂肪酸、脂肪酸エステル又はこれらを組み合せた保
   護潤滑層を夫々積層してなることを特徴とする磁気記録
   媒体。
2. （２）非磁性基体上にイーノミ−デポジション法により
   磁性金属薄膜層を形成した後、前記磁性金属薄膜層の表
   面を酸素ガスを含む真空雰囲気下で発生させたグロー放
   電プラズマに曝すことにより該表面に金属酸化物層を形
   成し、次いで前記金属酸化物層の表面を珪酸エステルガ
   スを含む真空雰囲気で発生させたグロー放電プラズマに
   曝すことにより該表面に珪素化合物層を形成し、次いで
   真空雰囲気下で、前記珪素化合物層上に、有機高分子化
   合物、高級脂肪酸、脂肪酸エステル又はこれらを組合せ
   た保護潤滑層を形成することを特徴とする磁気記録媒体
   の製造方法。